JPH10153766A - 液晶表示モジュールのシールド構造 - Google Patents

液晶表示モジュールのシールド構造

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JPH10153766A
JPH10153766A JP31243096A JP31243096A JPH10153766A JP H10153766 A JPH10153766 A JP H10153766A JP 31243096 A JP31243096 A JP 31243096A JP 31243096 A JP31243096 A JP 31243096A JP H10153766 A JPH10153766 A JP H10153766A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 簡単な構造で組立て作業を容易にし、小型軽
量化、コスト低減および妨害電波の抑制を図る。 【解決手段】 STN液晶パネル3の背面に設けた導光
板19と、回路搭載基板4,6,11と、金属ケース2
1とを有するMLAモジュールにおいて、導光板背面の
シールド板20と金属ケース21との間に基板を配設し
た。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、複数走査線同時駆
動方式の単純マトリクス型液晶表示モジュールに関し、
特にその電磁妨害を軽減するためのシールド構造に関す
るものである。
【0002】
【従来の技術】ノートブック型パソコン等は、キーボー
ド等の入力装置を有するパソコン本体と、このパソコン
本体に対し開閉可能に装着され、液晶表示パネルを有す
る液晶表示モジュールとにより構成される。この液晶表
示モジュールは、一対のガラス基板内に液晶を封入した
液晶セルを備える液晶パネルと、この液晶パネルの背面
に設けた導光板からなるバックライトユニットと、液晶
駆動用のドライバおよび電源回路等を搭載した基板等を
フレーム内に装着した構成である。
【0003】このような液晶表示モジュールとして、S
TN液晶を用いた単純マトリクス方式のSTNモジュー
ルおよびTN液晶を用いたアクティブマトリクス駆動方
式のTFTモジュールが実用化されている。
【0004】従来一般のSTNモジュールにおいては、
画像表示のための液晶駆動用入力データ信号の周波数が
低いため(通常2〜4MHz程度)、周辺機器等の外部
に対する電磁妨害電波は小さく、したがって、周囲に対
する電磁妨害対策の必要はほとんどなかった。
【0005】一方、カラーSTN液晶パネルの駆動方法
として、同時に複数の走査線を選択しながら液晶の各画
素に電圧を印加するアクティブ駆動法が、本出願人等に
より開発が進められている(日経エレクトロニクス 1
994年9月26日第618号)。この複数走査線同時
選択方式のアクティブ駆動法(以下MLA:Multi
Line Addressingという)を用いれ
ば、STN液晶パネルのコントラスト比を高めるととも
に応答速度を高めることができる。コントラスト比が上
がれば、画質が向上しカラー表示の色純度が高められ
る。また、応答速度が速まれば、従来のSTNモジュー
ルではできなかった動画像の表示が可能になる。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うなMLA方式を実現するためには、一般にTFTモジ
ュールの画像表示制御信号として用いられているディジ
タルRGB信号をMLA方式に適合した画像制御信号に
変換する専用のインターフェイス制御回路(IC)が必
要になる。このようなMLAインターフェイス制御回路
を用いた場合、その入力データ信号の周波数は、TFT
インターフェイス信号と同等の高い周波数(ほぼ40M
Hz)であるため、周辺機器への電磁妨害電波の漏洩が
問題となる。
【0007】前述のように、従来のSTN液晶モジュー
ルにおいては、入力データ信号周波数が低く電磁妨害電
波がほとんど問題とならなかったため、同じSTN液晶
を用いるMLA方式の液晶モジュールにおいても、この
ような電磁妨害電波については有効な対策手段が開発さ
れていない。
【0008】一方、液晶モジュール以外の各種電子機器
においては、このような電磁妨害電波に対し種々の対策
が講じられている。第1の対策手段として、電子機器全
体あるいは妨害電波発生部などを金属製のケースに収納
して妨害電波をシールドする方法が取られている。第2
の対策手段として、電子機器内の各回路基板からリード
線等を用いてシャーシなどに接続させて接地ラインを形
成し妨害電波を低減させる方法が取られている。さら
に、基板上の接地パターン面積を大きくする方法が考え
られる。
【0009】しかしながら、このような他の電子機器に
対し従来行なわれていた妨害電波シールド対策手段を単
にそのままMLA液晶表示モジュールに適用しようとし
た場合、前記第1の金属ケースを追加して用いる方法で
は、モジュール全体の重量および寸法が大きくなって、
小型軽量化の要請を満足させることができず、また組立
て工程数の増加により作業が繁雑になり設計負担の増大
および材料コストの上昇等の問題が起こる。また、前記
第2のリード線を用いて接地ラインを形成する方法で
は、配線構造や部品配置が複雑になり、組立て作業が繁
雑あるいは非常に面倒でやりにくくなり、製造コストの
上昇を来す。また、接地パターン面積を大きくしようと
しても、MLA液晶モジュールの基板や部品実装状態に
対応した接地パターンの有効なデータはなく、最適なパ
ターン形状を得るためには多くの試行錯誤を経て膨大な
人力と時間を必要とし、有効なシールド構造の実現には
困難を伴っていた。
【0010】本発明は上記の点を考慮し、簡単な構造で
組立て作業が容易にでき、小型軽量化およびコスト低減
が図られるとともに妨害電波を効果的に抑制できるML
A液晶表示モジュールの提供を目的とする。
【0011】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に、本発明では、STN液晶パネルの背面に設けた導光
板と、液晶駆動に必要な回路を搭載した基板と、金属ケ
ースとを有する複数走査線同時駆動方式のSTN液晶表
示モジュールにおいて、前記導光板の背面にシールド板
を設け、このシールド板と前記金属ケースとの間に前記
基板を配設したことを特徴とする液晶表示モジュールの
シールド構造を提供する。
【0012】この構成によれば、電磁妨害電波を発生す
る制御回路等の基板は、シールド板と金属ケースの間に
挟まれてその両面がシールドされるため、簡単な構造で
効果的に周囲に対する妨害電波の発散を抑制できる。
【0013】
【発明の実施の形態】好ましい実施の形態においては、
前記基板の接地パターン上に複数のバネ性を有する金属
端子を設け、この金属端子を前記金属ケースに弾発的に
接触させるとともに、前記シールド板を切り起こして複
数のカシメ片を形成し、このカシメ片を前記基板側にか
しめることにより、このカシメ片を介して前記基板の接
地パターンとシールド板とを接続させたことを特徴とし
ている。
【0014】この構成によれば、複数のバネ性金属端子
を介して基板と金属ケースとが弾発的に接触するために
簡単な構成で確実な接地ラインが形成され、また、シー
ルド板に設けたカシメ片により基板が確実に位置決めか
つ固定されるとともに接地パターンと導通してシールド
作用が得られる。
【0015】さらに好ましい実施の形態においては、前
記基板は多層配線構造の基板であり、この基板上に、T
FTインターフェイス信号を複数走査線同時駆動式のS
TNインターフェイス信号に変換するための制御ICを
搭載し、この制御ICの少なくともデータ入力ラインの
配線パターンは、この制御ICの内側の基板上に形成さ
れ、この制御ICの内側から基板の内部配線層に接続さ
れたことを特徴としている。
【0016】この構成によれば、電磁妨害電波を発生す
る制御ICの入力配線パターンがこの制御ICの内側の
基板上に形成されるため、制御IC自体にシールドされ
て外部への妨害電波発散が防止される。
【0017】さらに好ましい実施の形態においては、前
記基板の前記制御IC搭載面におけるこの制御IC下側
の接地パターンの面積を制御ICのモールド樹脂(上
面)の面積の30%以上、好ましくは35%以上とす
る。さらに、この基板の前記制御IC搭載面の反対側の
面の面積の95%以上を接地パターンとすることが好ま
しい。
【0018】この構成によれば、制御IC下側領域のう
ちほぼ70%が配線パターン形成領域となり、残りの面
積が全て接地パターンとして導体で覆われ、またこの部
品搭載面の反対側は約5%がスルーホールのランドパタ
ーン等で使用され、残りの約95%が接地パターンとし
て導体で覆われる。したがって、配線ライン等のバター
ン形成部以外は全て接地パターンで覆われてシールドさ
れるため、電磁妨害電波の外部への発散が効果的に抑制
される。
【0019】別の好ましい実施の形態においては、前記
制御ICからの出力信号は、TFTインターフェイス信
号の周波数の1/n(n:整数)の周波数であることを
特徴としている。
【0020】この構成によれば、制御ICからの出力信
号の周波数が、入力信号(TFTインターフェイス信
号)の周波数の例えば1/2になるため、周波数の低下
により妨害電波の発生が低減される。
【0021】
【実施例】図1は、本発明の実施例に係るMLAモジュ
ールの組立て状態のパネル背面図である。このモジュー
ル1は、矩形のフレーム2に組込まれたSTN液晶セル
からなる液晶パネル3の背面側に、バス基板4と、ロウ
基板6と、インターフェイス基板8と、メイン基板11
とを設けた構成である。実際には、後述のように、液晶
パネル3の背面にシールド板(図2の参照番号20で示
す)を設けその背面に各基板が配設される。
【0022】バス基板4は、フレーム2の上下の横辺に
沿って上側および下側にそれぞれ設けられる。これは、
液晶パネル3を上下2分割して各々独立駆動するデュア
ルスキャン方式を用いるためである。
【0023】各バス基板4上には、TCPからなる複数
のカラムドライバ5およびコンデンサ(図示を省略す
る)が搭載される。上側のバス基板4のほぼ中央部に
は、フレキシブルケーブルからなるインターフェイスコ
ネクタ(以下I/Fコネクタという)の端部が半田接合
される。また下側のバス基板4のほぼ中央部には、同じ
くフレキシブルケーブルからなるI/Fコネクタ14の
端部が半田接合される。これらのI/Fコネクタ14、
15の他端部はそれぞれメイン基板11にコネクタ接続
される。
【0024】ロウ基板6はフレーム2の一方の縦辺に沿
って設けられ、TCPからなる複数のロウドライバ7お
よびコンデンサ(図示を省略する)が搭載される。この
ロウ基板6の下端部よりの位置にはフレキシブルケーブ
ルからなるI/Fコネクタ18の端部が半田接合され
る。このI/Fコネクタ18の他端部はメイン基板11
にコネクタ接続される。
【0025】これらのバス基板4およびロウ基板6は、
TCPのフレキシブルテープをフレームの内側に折返す
ことにより、矩形の形状を有する液晶パネル3の背面側
の各辺の縁部に配設される。これらのTCPと液晶パネ
ル3の配線パターンとの接続は異方性導電膜を介して行
なわれ、TCPと各ロウ基板およびバス基板との配線接
続は半田付けにより行なわれる。
【0026】インターフェイス基板8は、ロウ基板6の
外側に縦方向に設けられる。このインターフェイス基板
8上には、入力コネクタ9および電源回路を構成するD
C−DCコンバータ10が搭載される。
【0027】このDC−DCコンバータ10は、実際に
は、このインターフェイス基板8上のほぼ全体に実装さ
れた、トランス、トランジスタ、IC、抵抗およびコン
デンサ等からなり、本体側から入力された例えば3.3
Vの電源電圧をモジュール駆動に必要な例えば±30V
の電源電圧に変圧し、この電源電圧をI/Fコネクタ1
6を介してメイン基板11に供給するものである。
【0028】このI/Fコネクタ16は、フレキシブル
ケーブルからなり、その一端がインターフェイス基板8
に半田接合され、他端がメイン基板11にコネクタ接続
される。
【0029】インターフェイス基板8の入力コネクタ9
を介して、本体側からTFTインターフェイス信号(R
GBディジタル信号)および3.3Vのロジック電圧が
入力される。このRGB信号は、I/Fコネクタ17を
介してメイン基板11に送られる。このI/Fコネクタ
17は、前述のI/Fコネクタ16と同様に、フレキシ
ブルケーブルからなり、その一端がインターフェイス基
板8に半田接合され、他端がメイン基板11にコネクタ
接続される。
【0030】下側のバス基板4に隣接して液晶パネル3
の背面にメイン基板11が配設される。このメイン基板
11上には、3線接続の表示画面輝度調整ボリューム用
コネクタ12およびMLAコントローラ13が搭載され
る。このMLAコントローラ13は、MLA用のインタ
ーフェイス制御回路であり、好ましくは半導体技術によ
り製造されたワンチップのモノリシックICにより構成
される。
【0031】このMLAコントローラ13は、TFTモ
ジュール入力信号と等しいディジタルRGB信号を受取
って、適当なデータ処理を施し、一旦制御回路内部のメ
モリに書込み、これを書込んだときとは別の順序で読み
出して、所定の直交変換を行なってMLA駆動に適合し
たフォーマットに変換してそれぞれ、ロウドライバおよ
びカラムドライバへMLAデータ出力として転送するた
めの、チップ上にメモリを内蔵した高機能なデータ演算
制御回路である。
【0032】このようなMLAコントローラに入力され
るTFTインターフェイスのディジタルRGB信号は、
18ビット、40MHzであり、出力信号は36ビッ
ト、20MHzに変調される。このようにMLAコント
ローラの出力信号のビット数を増やし周波数を低下させ
ることにより、内部配線等に対するノイズの低減や外部
機器に対する電磁輻射妨害(EMI)の軽減が図られ
る。
【0033】図2は、上記実施例に係るMLAモジュー
ルの分解斜視図である。液晶パネル3の背面に導光板1
9が装着され、その裏面にシールド板20を介して裏カ
バー21が装着される。図は構成を明瞭にするために、
前記バス基板4、ロウ基板6がパネル背面側に折返さ
れ、メイン基板11およびインターフェイス基板8がフ
レーム内側に配設され、導光板19およびシールド板2
0がその上側に描かれているが、実際に組立てる場合に
は、バス基板4およびロウ基板6をパネル外側に開いた
状態で、パネル3の背面に導光板19およびシールド板
20を装着し、このシールド板20の上に(背面側に)
バス基板4およびロウ基板6を折返して重ねるとともに
メイン基板11およびインターフェイス基板8を装着す
る。
【0034】したがって、導光板19の背面のシールド
板20と裏カバー21の間に、バス基板4、ロウ基板
6、メイン基板11およびインターフェイス基板8のI
/Fコネクタ16、17が配設された構造になる。
【0035】図3は、このような構造のMLAモジュー
ルの組立て状態の断面図である。外枠を構成するモジュ
ール本体ケース25内に液晶パネル3が装着され、その
背面に導光板19が設けられる。導光板19は、図示し
たように、液晶パネル3側の表面を平面とし裏面側を斜
面とするくさび形状であって、裏側の斜面に沿ってシー
ルド板20が設けられる。
【0036】このくさび形状の導光板19の厚肉側の端
部に冷陰極蛍光管26が設けられる。シールド板20の
背面にTCPのフレキシブルテープ5aを折返して各バ
ス基板4が装着される。各カラムドライバ5はLSIか
らなり、TCPのフレキシブルテープ5aを介して液晶
パネル3の各画素の電極に接続される。図示していない
が、ロウ基板6(図1)についても同様にTCPのフレ
キシブルテープを折返した構成である。
【0037】メイン基板11は、下側(図では左側)の
バス基板4に隣接して、くさび形状の導光板19の肉厚
の薄い部分の背面に装着される。このように、くさび形
状の導光板19の薄い部分にメイン基板11を装着する
ことにより、導光板背面のスペースを有効に利用してモ
ジュールの厚さ(l3)を増加させることなく、メイン
基板11をコンパクトにモジュール内に装着できる。
【0038】このようなメイン基板11、バス基板4お
よびロウ基板6の背面側を覆ってSUS等の金属製裏カ
バー21が装着される。これらの基板4、6、11に形
成した接地パターンは、後述のように、シールド板20
に形成した複数のカシメ片および各基板上に接合した複
数のシールド端子を介して、シールド板20および裏カ
バー21と導通して本発明のシールド構造を形成する。
【0039】図4〜図6に上記実施例に係るシールド板
の詳細を示す。図4はシールド板の平面図、図5は図4
のA部およびB部の矢視図、図6はカシメ片の形状説明
図である。
【0040】このシールド板20は、例えば厚さ0.3
mmのアルミ合金からなり、表面を絶縁樹脂フィルムの
ラミネートによりコーティングしたものである。シール
ド板20の上縁左端部および下縁の両端部には、このシ
ールド板20を導光板19や裏カバー21とともにネジ
により共締めして組立て固定するための取付け片61、
62、63が設けられる。これらの取付け片61、6
2、63には絶縁樹脂フィルムはコーティングされな
い。
【0041】このシールド板20の上縁部の左右2箇所
および右側縁の2箇所には、図6(A)に示す形状のカ
シメ片60a〜60dが切り起こして形成される。これ
らのうちカシメ片60aおよび60bは、上側のバス基
板4(図1)に係合し、組立て時にラジオペンチ等によ
りこのバス基板上に折り曲げてかしめられ、基板の接地
パターンに接続されるとともに、このバス基板を位置決
め固定する。また、カシメ片60cおよび60dは、ロ
ウ基板6(図1)に係合し、組立て時にこのロウ基板上
に折り曲げてかしめられ、基板の接地パターンに接続さ
れるとともにこのロウ基板を位置決め固定する。
【0042】シールド板20の右側縁にはさらに、図6
(C)に示す形状のカシメ片60e,60fが形成され
る。これらのカシメ片60e,60fは、内側に折返し
て上記カシメ片60c、60dとともにロウ基板を保持
するためのものである。
【0043】シールド板20の下部には、図6(B)あ
るいは(D)に示すように、係合片71を片側または両
側に有する形状のカシメ片60g〜60kが、図5に示
すような配置形状で、メイン基板のほぼ周囲に沿って形
成される。カシメ片60g、60h、60i(図5
(B)参照)は、その係合片71をメイン基板の上辺部
上に折曲げられてメイン基板を位置決めするとともにそ
の接地パターンに接続される。
【0044】また、カシメ片60j、60k(図5
(A)参照)は、メイン基板とバス基板との間に位置
し、係合片71を各基板上それぞれの方向に折り曲げら
れて各基板の接地パターンに接続される。このようなカ
シメ片60a〜60kは、各基板に対し複数箇所、それ
ぞれの基板に対し偏らない位置に各基板上の接地パター
ンからの抵抗がほぼ均一となるように分散して設けられ
る。なお、シールド板20にはさらにメイン基板の左端
部の位置に、輝度調整ボリュームコネクタ12(図1)
のケーブル固定用のカシメ片60’が形成される。
【0045】図7は、このようなシールド板20の背面
に配設されたバス基板4、ロウ基板6およびメイン基板
11のそれぞれに設けたバネ性を有する金属性のシール
ド端子64の配置を示す。図8は、シールド端子64の
形状および作用の説明図であり、(A)は正面図、
(B)は上面図、(C)は側面図、(D)は使用状態の
正面図、(E)は別の形状のシールド端子の正面図であ
る。
【0046】このようなシールド端子64は、各基板の
接地パターン上に半田接合され、裏カバー21を装着す
ることにより、図8(D)または(E)に示すように、
裏カバー21に押圧されて弾発的に変形し、基板の接地
パターンと裏カバーとを導通させる。このようなシール
ド端子64は、各基板それぞれに対し複数個各基板面全
体にわたって適度に分散して設けられる。図の例では、
各バス基板4にそれぞれ4個づつ、ロウ基板6に3個、
メイン基板11に4個のシールド端子64が、各基板上
にほぼ均一に分散して配置されている。
【0047】このように、各基板上に設けるシールド端
子64および前述のシールド板20のカシメ片60a〜
60kを、各基板に対し複数個偏らない位置にほぼ均一
に分散させて設けることにより、シールド板20および
裏カバー21の間に挟まれて装着されたバス基板4、ロ
ウ基板6およびメイン基板11は、各基板上における位
置によらず基板全体に対し、ほぼ均一な状態でアース接
続され、均一で信頼性の高いシールド構造が得られる。
【0048】一方、インターフェイス基板8に対して
は、その入力コネクタ9(図1)の両端部外側近傍に設
けた取付けビス孔(図示しない)の周辺に接地パターン
を形成し、かつビス孔はスルーホールとして裏カバー2
1にビス止めを行なうことにより、インターフェイス基
板8の接地パターンを裏カバー21に接続させている。
これにより、インターフェイス基板のシールド効果が得
られる。
【0049】図9は、MLAコントローラ13を搭載し
たメイン基板11の部品搭載面の配線パターン形状を示
す。図9(A)は、MLAコントローラ搭載部分のパタ
ーンを示し、同図(B)は同じ部分の部品搭載レイアウ
トを示す。また、図10は、メイン基板11の裏面の導
体パターンを示す。
【0050】メイン基板11は、例えば6層の多層配線
構造であり、その部品搭載面のパターンが図9(A)の
黒塗り部分で示される。このメイン基板11には(B)
図に示すようにMLAコントローラ13とともに各種電
子部品67が配設される。図中16c、17cおよび1
8cは、それぞれI/Fコネクタ16、17、18(図
1)を受けるコネクタ端子の位置を示す。(A)図に示
すように、各電子部品67に対応して、その入出力信号
配線パターンとして、部品リード端子(図示しない)を
接合するためのランドパターン68と、これに連続する
ラインパターン69およびその端部の内層パターンに接
続するためのスルーホールパターン70が形成される。
【0051】このような信号配線パターンの形成部分以
外の領域はほぼ接地パターン65で占められる。この接
地パターン65の面積は、この例では基板の部品実装面
全体の面積に対し約30%である。このように、信号配
線パターン以外の部分を全て接地パターン65で覆うこ
とにより、内層配線のシールド効果が高められるととも
に接地抵抗が小さくなりアース接続の信頼性が高まる。
【0052】本実施例では、MLAコントローラ13の
入出力ラインは、ほとんどがこのMLAコントローラ1
3の内側(部品の下側)に形成される。すなわち、この
MLAコントローラ13の入出力ライン、少なくともそ
の入力側(図では部品の上辺側)ラインは、部品端子か
ら基板のランドパターンを介して部品内側に引き出され
たラインパターンに接続され、さらに部品下側の位置に
形成したスルーホールを介して内層パターンに接続され
る。
【0053】このように、MLAコントローラの入出力
ラインをMLAコントローラ自体の内側に設けることに
より、このMLAコントローラ自体がシールド材となっ
て、入出力ラインからの電磁妨害電波の外部への発散が
抑制される。この場合、MLAコントローラ13へのT
FTインターフェイスによるディジタルRGB信号の入
力ラインは、前述のように、電磁妨害電波の発生が問題
となる40MHzの高い周波数の信号であるため、この
RGB信号の入力ラインをMLAコントローラ13の下
側に形成することにより、電磁妨害電波の発生が有効に
抑制される。
【0054】図10は、メイン基板11の裏面(部品搭
載面の反対側の面)の導体パターンを示す図である。図
示したように、メイン基板の裏面は大部分(ほぼ95%
以上)が接地パターン65で覆われる。この接地パター
ン65内には、信号配線のスルーホール等を形成するた
めのパターン非形成部66が散在して設けられ、このパ
ターン非形成部66内に内層パターンと導通するスルー
ホール端部(図示しない)が接地パターン65と分離し
て露出する。このようなスルーホール等を形成するため
に必要な僅かな部分を除く基板裏面の大部分を接地パタ
ーン65で覆うことにより、内層パターンのシールド効
果が高められ、外部への電磁妨害電波の発散が抑制され
る。
【0055】図11から図18は、上記実施例に係るM
LAモジュールの漏洩電波の電界強度と従来構造のモジ
ュールの漏洩電波の電界強度を比較したグラフである。
これらのグラフは、日本におけるEMI(電磁妨害)規
制であるVCCIの規制の第2種装置に対する漏洩電波
の電界強度の規定に基づいて、この規定に基づく3mの
測定距離で水平方向および垂直方向の漏洩電波の強度を
実測した結果を示すものである。
【0056】測定条件は、RB 100kHz、VB
100kHz、SWT 0.5sec、ATT 10dB
で行ない、各グラフの縦軸は漏洩電波の電界強度(dB
μV/m)を示し、横軸は周波数を示す。このVCCI
の規定によれば、測定距離が3mの場合、30〜230
MHzの周波数では40dBμV/m以下、230〜1
000MHzの周波数では47dBμV/m以下である
ことが要求される。この規制値を各グラフ中に太線で示
す。
【0057】図11から図14は、20〜320MHz
の周波数領域の測定結果であり、図11および図12は
それぞれ従来構造の水平方向および垂直方向の測定結果
であり、図13および図14はそれぞれ本発明構造の水
平方向および垂直方向の測定結果を示す。グラフから分
かるように、従来構造(図11、図12)では水平、垂
直方向とも漏洩電波が大きく、規制値のラインを越えて
いるが、本発明構造(図13、図14)では、漏洩電波
はいずれも規制値のラインより低く抑えられている。
【0058】図15から図18は、300〜1000M
Hzの周波数領域の測定結果であり、図15および図1
6はそれぞれ従来構造の水平方向および垂直方向の測定
結果であり、図17および図18はそれぞれ本発明構造
の水平方向および垂直方向の測定結果を示す。グラフか
ら分かるように、従来構造(図15、図16)では水
平、垂直方向とも漏洩電波が大きく、局部的に規制値の
ラインを越えているが、本発明構造(図17、図18)
では、漏洩電波はいずれも規制値のラインより低く抑え
られ、この例では特に300〜500MHzの周波数で
効果的に漏洩電波が低下している。
【0059】
【発明の効果】以上説明したように、本発明において
は、電磁妨害電波を発生する制御回路等の基板は、シー
ルド板と金属ケースの間に挟まれてその両面がシールド
されるため、簡単な構造で組立ても容易にでき、効果的
に周囲に対する妨害電波の発散を抑制してEMIの低減
が図られる小型軽量の液晶モジュールが低コストで実現
できる。
【0060】また、前記基板の接地パターン上に複数の
バネ性を有する金属端子を適度に分散させて設け、この
金属端子を前記金属ケースに弾発的に接触させるととも
に、前記シールド板を切り起こして複数のカシメ片をこ
れも適度に分散させて形成し、このカシメ片を前記基板
側にかしめることにより、このカシメ片を介して前記基
板の接地パターンとシールド板とを接続させた構成を用
いれば、複数のバネ性金属端子を介して基板と金属ケー
スとが弾発的に接触するために簡単な構成で確実な接地
ラインが形成され、また、シールド板に設けたカシメ片
により基板が確実に位置決めかつ固定されるとともに接
地パターンと導通してシールド作用が得られ、さらに効
果的にEMIの低減が図られる。
【0061】また、電磁妨害電波を発生するTFTイン
ターフェイス信号が入力される制御IC部品の入力配線
パターンをこのIC部品の内側の基板上に形成すること
により、入力信号ラインがIC部品自体にシールドされ
て外部への妨害電波発散が有効に防止される。
【0062】また、基板の両面を配線ラインやスルーホ
ール等のバターン形成に必要な部分以外は全て接地パタ
ーンで覆うことにより、基板全体の大部分が接地パター
ンで覆われてシールドされるため、電磁妨害電波の外部
への発散が効果的に抑制される。
【0063】さらに、前記制御IC部品からの出力信号
を、TFTインターフェイス信号の周波数の1/n
(n:整数)の周波数とすることにより、制御IC部品
からの出力信号の周波数が、入力信号(TFTインター
フェイス信号)の周波数の例えば1/2になるため、周
波数の低下により妨害電波の発生が低減される。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の実施例に係るMLAモジュールの内
部基板の配置状態を示す平面図。
【図2】 図1のモジュールの分解斜視図。
【図3】 図1のモジュールの断面図。
【図4】 図1のモジュールのシールド板の平面図。
【図5】 図4のA方向およびB方向の矢視図。
【図6】 図4のシールド板のカシメ片の形状説明図。
【図7】 本発明に係る基板に設置するシールド端子の
配置説明図。
【図8】 図7のシールド端子の形状および作用説明
図。
【図9】 図1のモジュールのメイン基板の部品実装面
のパターン説明図。
【図10】 図9のメイン基板の裏面側のパターン説明
図。
【図11】 従来構造のモジュールの低周波数側(20
〜320MHz)の水平方向漏洩電波のグラフ。
【図12】 従来構造のモジュールの低周波数側(20
〜320MHz)の垂直方向漏洩電波のグラフ。
【図13】 本発明構造のモジュールの低周波数側(2
0〜320MHz)の水平方向漏洩電波のグラフ。
【図14】 本発明構造のモジュールの低周波数側(2
0〜320MHz)の垂直方向漏洩電波のグラフ。
【図15】 従来構造のモジュールの高周波数側(30
0〜1000MHz)の水平方向漏洩電波のグラフ。
【図16】 従来構造のモジュールの高周波数側(30
0〜1000MHz)の垂直方向漏洩電波のグラフ。
【図17】 本発明構造のモジュールの高周波数側(3
00〜1000MHz)の水平方向漏洩電波のグラフ。
【図18】 本発明構造のモジュールの高周波数側(3
00〜1000MHz)の垂直方向漏洩電波のグラフ。
【符号の説明】
1:MLAモジュール、3:液晶パネル、4:バス基
板、6:ロウ基板、8:インターフェイス基板、11:
メイン基板、13:MLAコントローラ、14,15,
16,17,18:I/Fコネクタ、19:導光板、2
0:シールド板、21:裏カバー。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 中沢 聡 神奈川県横浜市神奈川区羽沢町1150番地 旭硝子株式会社中央研究所内 (72)発明者 山口 泰生 東京都文京区湯島3丁目14番9号 オプト レックス株式会社内

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】STN液晶パネルの背面に設けた導光板
    と、液晶駆動回路を搭載した基板と、金属ケースとを有
    する複数走査線同時駆動方式のSTN液晶表示モジュー
    ルのシールド構造であって、 前記導光板の背面にシールド板を設け、このシールド板
    と前記金属ケースとの間に前記基板を配設した液晶表示
    モジュールのシールド構造。
  2. 【請求項2】前記基板の接地パターンと前記金属ケース
    を電気的に接続させるとともに、 前記基板の接地パターンとシールド板とを電気的に接続
    させた請求項1に記載の液晶表示モジュールのシールド
    構造。
  3. 【請求項3】前記基板は多層配線構造の基板であり、 この基板上に、TFTインターフェイス信号を複数走査
    線同時駆動方式のSTNインターフェイス信号に変換す
    るための制御ICを搭載し、 この制御ICの少なくともデータ入力ラインの配線パタ
    ーンは、この制御ICの内側(部品の下側)の基板上に
    形成され、この制御ICの内側から基板の内部配線層に
    接続された請求項1または2に記載の液晶表示モジュー
    ルのシールド構造。
  4. 【請求項4】前記制御ICからの出力信号は、TFTイ
    ンターフェイス信号の周波数の1/n(n:整数)の周
    波数である請求項3に記載の液晶表示モジュールのシー
    ルド構造。
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