JPH10153549A - 屈折計 - Google Patents
屈折計Info
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- JPH10153549A JPH10153549A JP31189496A JP31189496A JPH10153549A JP H10153549 A JPH10153549 A JP H10153549A JP 31189496 A JP31189496 A JP 31189496A JP 31189496 A JP31189496 A JP 31189496A JP H10153549 A JPH10153549 A JP H10153549A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 測定流体の屈折率測定の効率化が図れ、安価
で、小型化が図れ、精度が向上された屈折計を提供する
にある。 【解決手段】 平行な単一波長の光が出射される光源
と、光源の単一波長の４分の１の光学薄膜を有する第１
のλ／４型多層膜干渉層と、第１のλ／４型多層膜干渉
層の一面に一面が接して設けられ第１のλ／４型多層膜
干渉層の面方向に異なる厚さを有する測定室と、測定室
の他面に一面が接して設けられた第２のλ／４型多層膜
干渉層と、第２のλ／４型多層膜干渉層の他面側に設け
られ光源から第１，第２のλ／４型多層膜干渉層と測定
室を透過した光の該測定室での透過厚さに対応して検知
するアレイ光検出素子と、アレイ光検出素子からの測定
信号により測定室の測定物の屈折率を演算する演算回路
とを具備したことを特徴とする屈折計である。
で、小型化が図れ、精度が向上された屈折計を提供する
にある。 【解決手段】 平行な単一波長の光が出射される光源
と、光源の単一波長の４分の１の光学薄膜を有する第１
のλ／４型多層膜干渉層と、第１のλ／４型多層膜干渉
層の一面に一面が接して設けられ第１のλ／４型多層膜
干渉層の面方向に異なる厚さを有する測定室と、測定室
の他面に一面が接して設けられた第２のλ／４型多層膜
干渉層と、第２のλ／４型多層膜干渉層の他面側に設け
られ光源から第１，第２のλ／４型多層膜干渉層と測定
室を透過した光の該測定室での透過厚さに対応して検知
するアレイ光検出素子と、アレイ光検出素子からの測定
信号により測定室の測定物の屈折率を演算する演算回路
とを具備したことを特徴とする屈折計である。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、測定流体の屈折率
測定の効率化が図れ、安価で、小型化が図れ、測定時に
測定流体中の散乱物質による影響が受け難くて精度が向
上された屈折計に関するものである。
測定の効率化が図れ、安価で、小型化が図れ、測定時に
測定流体中の散乱物質による影響が受け難くて精度が向
上された屈折計に関するものである。
【０００２】更に、詳述すれば、狭帯域干渉フィルタの
スペーサ層を屈折率測定室とし、アレイ検出素子と、単
一波長光源とを組み合わせた屈折計に関するものであ
る。
スペーサ層を屈折率測定室とし、アレイ検出素子と、単
一波長光源とを組み合わせた屈折計に関するものであ
る。
【０００３】
【従来の技術】図３は従来より一般に使用されているア
ッベ屈折計の従来例の構成説明図で、例えば、書名；岩
波理化学辞典 第３版、発行日；１９７１年５月２０
日、編集者；玉虫文一等、発行所；岩波書店に示されて
いる。
ッベ屈折計の従来例の構成説明図で、例えば、書名；岩
波理化学辞典 第３版、発行日；１９７１年５月２０
日、編集者；玉虫文一等、発行所；岩波書店に示されて
いる。
【０００４】図３において、同じ屈折率を持つ２つのプ
リズム１の間に、測定流体２を入れる。プリズム１の屈
折率をｎ0、頂角をα、臨界角に相当する出射角をβと
すると、求める測定流体の屈折率ｎは次式で与えられ
る。 ｎ＝sinα（ｎ0 2−sin2β±cosαsinβ）1/2
リズム１の間に、測定流体２を入れる。プリズム１の屈
折率をｎ0、頂角をα、臨界角に相当する出射角をβと
すると、求める測定流体の屈折率ｎは次式で与えられ
る。 ｎ＝sinα（ｎ0 2−sin2β±cosαsinβ）1/2
【０００５】式中において、＋は出射面における放線か
ら頂角αよりに光が出射する場合であり、−はその反対
の場合である。出射角βを測定して、既知のパラメータ
である頂角αとプリズムの屈折率ｎ0で演算を行えば、
測定流体の屈折率ｎが求められる。このような方法によ
る屈折率の精度は１０-4程度である。
ら頂角αよりに光が出射する場合であり、−はその反対
の場合である。出射角βを測定して、既知のパラメータ
である頂角αとプリズムの屈折率ｎ0で演算を行えば、
測定流体の屈折率ｎが求められる。このような方法によ
る屈折率の精度は１０-4程度である。
【０００６】問題点としては、 （１）高い屈折率を持つプリズムなどを用いるために光
学部品が高価である。 （２）プリズムの面に精密な研磨仕上げが要求される。 （４）臨界角などの角度測定の分解能を高めるために光
路長（出射点から観察点までの距離）を確保する必要が
あるために、測定器のサイズが大きくなる。
学部品が高価である。 （２）プリズムの面に精密な研磨仕上げが要求される。 （４）臨界角などの角度測定の分解能を高めるために光
路長（出射点から観察点までの距離）を確保する必要が
あるために、測定器のサイズが大きくなる。
【０００７】（５）屈折率が変化する測定流体の、連続
した屈折率測定に不適当である。 （６）液体中に微小なゴミなどの散乱物質が介在する場
合に、出射する光が散乱して臨界角測定の誤差要因とな
る。本発明は、この問題点を解決するものである。
した屈折率測定に不適当である。 （６）液体中に微小なゴミなどの散乱物質が介在する場
合に、出射する光が散乱して臨界角測定の誤差要因とな
る。本発明は、この問題点を解決するものである。
【０００８】本発明の目的は、干渉フィルタのスペーサ
層にあたる部分を測定室とし、複数の干渉条件の光を同
時に検出するアレイ素子と、単一波長光源とを組み合わ
せて、測定流体の屈折率測定の効率化が図れ、安価で、
小型化が図れ、測定時に測定流体中の散乱物質による影
響が受け難くて精度が向上された屈折計を提供するにあ
る。
層にあたる部分を測定室とし、複数の干渉条件の光を同
時に検出するアレイ素子と、単一波長光源とを組み合わ
せて、測定流体の屈折率測定の効率化が図れ、安価で、
小型化が図れ、測定時に測定流体中の散乱物質による影
響が受け難くて精度が向上された屈折計を提供するにあ
る。
【０００９】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に、本発明は、物質の屈折率を測定する屈折計におい
て、平行な単一波長の光が出射される光源と、該光源の
単一波長の４分の１の光学薄膜を有する第１のλ／４型
多層膜干渉層と、該第１のλ／４型多層膜干渉層の一面
に一面が接して設けられ該第１のλ／４型多層膜干渉層
の面方向に異なる厚さを有し測定流体が流入される測定
室と、該測定室の他面に一面が接して設けられた第２の
λ／４型多層膜干渉層と、該第２のλ／４型多層膜干渉
層の他面側に設けられ前記光源から前記第１，第２のλ
／４型多層膜干渉層と前記測定室を透過した光の該測定
室での透過厚さに対応して検知するアレイ光検出素子
と、該アレイ光検出素子からの測定信号により測定室の
測定物の屈折率を演算する演算回路とを具備したことを
特徴とする屈折計を構成したものである。
に、本発明は、物質の屈折率を測定する屈折計におい
て、平行な単一波長の光が出射される光源と、該光源の
単一波長の４分の１の光学薄膜を有する第１のλ／４型
多層膜干渉層と、該第１のλ／４型多層膜干渉層の一面
に一面が接して設けられ該第１のλ／４型多層膜干渉層
の面方向に異なる厚さを有し測定流体が流入される測定
室と、該測定室の他面に一面が接して設けられた第２の
λ／４型多層膜干渉層と、該第２のλ／４型多層膜干渉
層の他面側に設けられ前記光源から前記第１，第２のλ
／４型多層膜干渉層と前記測定室を透過した光の該測定
室での透過厚さに対応して検知するアレイ光検出素子
と、該アレイ光検出素子からの測定信号により測定室の
測定物の屈折率を演算する演算回路とを具備したことを
特徴とする屈折計を構成したものである。
【００１０】
【作用】以上の構成において、光源から出射された単一
波長の光λは、ガラス基板とλ／４多層膜干渉層を通過
して測定室に達する。
波長の光λは、ガラス基板とλ／４多層膜干渉層を通過
して測定室に達する。
【００１１】測定流体の屈折率をｎとすると、下式で与
えられる条件を満たす光のみがλ／４多層膜干渉層とガ
ラス基板を通過してアレイ光検出素子に到達する。 ｎｄ＝λ／２
えられる条件を満たす光のみがλ／４多層膜干渉層とガ
ラス基板を通過してアレイ光検出素子に到達する。 ｎｄ＝λ／２
【００１２】従って、理想的な状態では、測定室の間隔
ｄ以外の場所では透過する光がないので、間隔ｄの位置
の光検出素子のみの出力信号が得られる。間隔ｄはアレ
イ光検出素子の検出位置によって求まる値であり、波長
λも光源によって決まる値であるため、測定物質の屈折
率ｎを求めることが可能になる。
ｄ以外の場所では透過する光がないので、間隔ｄの位置
の光検出素子のみの出力信号が得られる。間隔ｄはアレ
イ光検出素子の検出位置によって求まる値であり、波長
λも光源によって決まる値であるため、測定物質の屈折
率ｎを求めることが可能になる。
【００１３】アレイ光検出素子の信号出力のピーク位置
を求めて、間隔ｄから屈折率ｎを演算する動作を演算回
路にさせることによって、屈折率ｎが短時間で求められ
る。以下、実施例に基づき詳細に説明する。
を求めて、間隔ｄから屈折率ｎを演算する動作を演算回
路にさせることによって、屈折率ｎが短時間で求められ
る。以下、実施例に基づき詳細に説明する。
【００１４】
【発明の実施の形態】図１は、本発明の一実施例の要部
構成説明図である。図において、１１は、単一波長λの
光を平行に出射する光源である。１２は、光源１１を透
過するガラス基板である。
構成説明図である。図において、１１は、単一波長λの
光を平行に出射する光源である。１２は、光源１１を透
過するガラス基板である。
【００１５】１３は、ガラス基板１２の一面に一面が接
し高屈折率物質層と低屈折率物質層とが交互に積層して
構成された光源波長λに対してλ／４の光学膜厚を持っ
た第１のλ／４型多層膜干渉層である。
し高屈折率物質層と低屈折率物質層とが交互に積層して
構成された光源波長λに対してλ／４の光学膜厚を持っ
た第１のλ／４型多層膜干渉層である。
【００１６】１４は、第１のλ／４型多層膜干渉層１３
の一面に一面が接して設けられ、第１のλ／４型多層膜
干渉層１３の面方向に異なる厚さを有し、測定流体が流
入される測定室である。この場合は、間隔ｄ0からｄmま
で連続的に変化している。１５は、測定室１４の他面に
一面が接して設けられた第２のλ／４型多層膜干渉層で
ある。
の一面に一面が接して設けられ、第１のλ／４型多層膜
干渉層１３の面方向に異なる厚さを有し、測定流体が流
入される測定室である。この場合は、間隔ｄ0からｄmま
で連続的に変化している。１５は、測定室１４の他面に
一面が接して設けられた第２のλ／４型多層膜干渉層で
ある。
【００１７】１６は、第２のλ／４型多層膜干渉層の他
面に一面が接して設けられたガラス基板である。しかし
て、測定流体を入れる測定室１４は、狭帯域干渉フィル
タのスペーサ層に相当する。
面に一面が接して設けられたガラス基板である。しかし
て、測定流体を入れる測定室１４は、狭帯域干渉フィル
タのスペーサ層に相当する。
【００１８】１７は、ガラス基板１６の他面側に設けら
れ、光源１から第１，第２のλ／４型多層膜干渉層１
３，１５と測定室１４を透過した光の、測定室１４での
透過厚さに対応して検知するアレイ光検出素子で、分割
数ｍに分割されている。１８は、アレイ光検出素子１７
からの測定信号により、測定室１４の測定流体の屈折率
を演算する演算回路である。
れ、光源１から第１，第２のλ／４型多層膜干渉層１
３，１５と測定室１４を透過した光の、測定室１４での
透過厚さに対応して検知するアレイ光検出素子で、分割
数ｍに分割されている。１８は、アレイ光検出素子１７
からの測定信号により、測定室１４の測定流体の屈折率
を演算する演算回路である。
【００１９】ここで、光源１の波長λに対して、λ／４
の光学膜厚を持った多層膜１３，１５に挟まれた測定室
１４の組み合わせでＳＨＷ（Ｓｉｎｇｌｅ Ｈａｌｆ
Ｗａｖｅ Ｓｙｓｔｅｍ）型狭帯域干渉フィルタを形成
している。λ／４多層膜干渉層１３，１５の層数は、透
過域から不透過域への傾斜の程度などの光学設計条件に
より決定される。
の光学膜厚を持った多層膜１３，１５に挟まれた測定室
１４の組み合わせでＳＨＷ（Ｓｉｎｇｌｅ Ｈａｌｆ
Ｗａｖｅ Ｓｙｓｔｅｍ）型狭帯域干渉フィルタを形成
している。λ／４多層膜干渉層１３，１５の層数は、透
過域から不透過域への傾斜の程度などの光学設計条件に
より決定される。
【００２０】また、測定室１４に接する層は、測定対象
の屈折率によって高屈折率物質または低屈折率物質で構
成するかを決定するが、ガスや液体と接する層になるた
め、屈折率などの光学特性が安定した物質を選択する。
ガラス基板１２，１６は、使用する波長帯域で吸収の少
ないものを選択する。
の屈折率によって高屈折率物質または低屈折率物質で構
成するかを決定するが、ガスや液体と接する層になるた
め、屈折率などの光学特性が安定した物質を選択する。
ガラス基板１２，１６は、使用する波長帯域で吸収の少
ないものを選択する。
【００２１】上記構成例の作製方法の一例としては、ま
ず、ガラス基板（１２，１６）上に、λ／４多層膜干渉
層（１３、１５）を形成する。このガラス基板（１２，
１６）をダイシング（切断）して２つの基板１２，１６
を向かい合わせて、測定室１４が所定の間隔ｄ0からｄm
を保つ位置で固定する。
ず、ガラス基板（１２，１６）上に、λ／４多層膜干渉
層（１３、１５）を形成する。このガラス基板（１２，
１６）をダイシング（切断）して２つの基板１２，１６
を向かい合わせて、測定室１４が所定の間隔ｄ0からｄm
を保つ位置で固定する。
【００２２】以上の構成において、光源（ＬＥＤやＬＤ
など）１１から出射された単一波長λの光は、ガラス基
板１２とλ／４多層膜干渉層１３を通過して測定室１４
に達する。
など）１１から出射された単一波長λの光は、ガラス基
板１２とλ／４多層膜干渉層１３を通過して測定室１４
に達する。
【００２３】測定流体の屈折率をｎとすると、下式で与
えられる条件を満たす光のみがλ／４多層膜干渉層１５
とガラス基板１６を通過してアレイ光検出素子１７に到
達する。 ｎｄ＝λ／２
えられる条件を満たす光のみがλ／４多層膜干渉層１５
とガラス基板１６を通過してアレイ光検出素子１７に到
達する。 ｎｄ＝λ／２
【００２４】従って、理想的な状態では、測定室１４の
間隔ｄ以外の場所では透過する光がないので、間隔ｄの
位置の光検出素子１７のみの出力信号が得られる。間隔
ｄはアレイ光検出素子１７の検出位置によって求まる値
であり、波長λも光源によって決まる値であるため、測
定物質の屈折率ｎを求めることが可能になる。
間隔ｄ以外の場所では透過する光がないので、間隔ｄの
位置の光検出素子１７のみの出力信号が得られる。間隔
ｄはアレイ光検出素子１７の検出位置によって求まる値
であり、波長λも光源によって決まる値であるため、測
定物質の屈折率ｎを求めることが可能になる。
【００２５】アレイ光検出素子１７の信号出力のピーク
位置を求めて、間隔ｄから屈折率ｎを演算する動作を演
算回路１８にさせることによって、屈折率ｎが短時間で
求められる。屈折率ｎの精度は、アレイ検出素子の１ピ
クセルの大きさと分割数によって決定される。
位置を求めて、間隔ｄから屈折率ｎを演算する動作を演
算回路１８にさせることによって、屈折率ｎが短時間で
求められる。屈折率ｎの精度は、アレイ検出素子の１ピ
クセルの大きさと分割数によって決定される。
【００２６】図２に、屈折計の具体的一例を示すと共
に、屈折率の求め方と測定誤差を求める。いま、光源１
の波長λ＝５４０ｎｍ、測定対象の屈折率の中心値（平
均値）ｎ＝２.３、屈折率の変化率Δｎが±２０％とす
ると、測定室１４の間隔はｄ0＝９７.８２６１ｎｍから
ｄm＝１４６.７３９１ｎｍであるが、計算を簡単にする
ため間隔を１００ｎｍから１５０ｎｍと仮定する。
に、屈折率の求め方と測定誤差を求める。いま、光源１
の波長λ＝５４０ｎｍ、測定対象の屈折率の中心値（平
均値）ｎ＝２.３、屈折率の変化率Δｎが±２０％とす
ると、測定室１４の間隔はｄ0＝９７.８２６１ｎｍから
ｄm＝１４６.７３９１ｎｍであるが、計算を簡単にする
ため間隔を１００ｎｍから１５０ｎｍと仮定する。
【００２７】測定室１４の長さを１０ｍｍ、アレイ光検
出素子１７の分割数ｍ＝２５６と仮定する。アレイ光検
出素子１７の１ピクセルの大きさは３９ｎｍとなる。
出素子１７の分割数ｍ＝２５６と仮定する。アレイ光検
出素子１７の１ピクセルの大きさは３９ｎｍとなる。
【００２８】アレイ光検出素子１７からの信号出力にお
いて、１００ピクセルのところにピークが出たとする
と、１００ピクセルの中心位置は測定室１４の左端から
の距離は３.８８６９ｍｍが得られる。
いて、１００ピクセルのところにピークが出たとする
と、１００ピクセルの中心位置は測定室１４の左端から
の距離は３.８８６９ｍｍが得られる。
【００２９】これを間隔ｄに換算すると１１９.５３１
２５ｎｍとなる。従って測定対象の屈折率ｎは、ｎｄ＝
λ／２からｎ＝２.２５８８が求められる。１ピクセル
は有限の大きさを持つので、測定誤差はΔｎ＝±０.０
０１９（±０.８％）。
２５ｎｍとなる。従って測定対象の屈折率ｎは、ｎｄ＝
λ／２からｎ＝２.２５８８が求められる。１ピクセル
は有限の大きさを持つので、測定誤差はΔｎ＝±０.０
０１９（±０.８％）。
【００３０】なお、分析する測定対象の屈折率や屈折率
変動に対応した測定室の間隔を設定することによって、
測定の分解能を向上することが可能であり、屈折率の測
定誤差を小さくできる。
変動に対応した測定室の間隔を設定することによって、
測定の分解能を向上することが可能であり、屈折率の測
定誤差を小さくできる。
【００３１】また、測定室内に、測定流体を連続的に流
すことによって、屈折率変化を連続的に測定することが
できる。また、本発明では、３図従来例に比して、設計
の自由度が高く、また、測定時間の短縮が可能である。
すことによって、屈折率変化を連続的に測定することが
できる。また、本発明では、３図従来例に比して、設計
の自由度が高く、また、測定時間の短縮が可能である。
【００３２】この結果、本発明によれば、 （１）狭帯域干渉フィルタの特徴を利用した、ガラス基
板１２，１６、λ／４型多層膜干渉層１３，１５、測定
室１４は、薄膜技術などの応用で作製することにより大
量生産が可能で安価なために、たとえば使い捨てのよう
な使い方ができるため、プリズムに比べて取り扱いが簡
単で、小型化が図れ、安価な屈折計が得られる。
板１２，１６、λ／４型多層膜干渉層１３，１５、測定
室１４は、薄膜技術などの応用で作製することにより大
量生産が可能で安価なために、たとえば使い捨てのよう
な使い方ができるため、プリズムに比べて取り扱いが簡
単で、小型化が図れ、安価な屈折計が得られる。
【００３３】（２）プリズムは、光学材料の屈折率選定
が必要であるが、本発明では臨界角のような入射角や反
射角や出射角によって屈折率を測定しているわけではな
いので、狭帯域干渉フィルタを形成する薄膜の材料選択
の自由度が高い屈折計が得られる。
が必要であるが、本発明では臨界角のような入射角や反
射角や出射角によって屈折率を測定しているわけではな
いので、狭帯域干渉フィルタを形成する薄膜の材料選択
の自由度が高い屈折計が得られる。
【００３４】（３）アレイ光検出素子１７によって、同
時に複数の干渉条件における光出力が得られるため、従
来方式のような設定の不便さ（たとえば光軸調整や臨界
角の測定など）の改善が期待できる屈折計が得られる。
時に複数の干渉条件における光出力が得られるため、従
来方式のような設定の不便さ（たとえば光軸調整や臨界
角の測定など）の改善が期待できる屈折計が得られる。
【００３５】（４）このため、測定時間が短縮できるた
め、測定室１４内の測定流体を連続的に交換して、屈折
率の経時変化が測定できる屈折計が得られる。 （５）測定流体中に散乱物質が混入した場合も、測定光
の散乱現象が原理的に影響を受けにくいため、測定精度
の向上が期待できる屈折計が得られる。
め、測定室１４内の測定流体を連続的に交換して、屈折
率の経時変化が測定できる屈折計が得られる。 （５）測定流体中に散乱物質が混入した場合も、測定光
の散乱現象が原理的に影響を受けにくいため、測定精度
の向上が期待できる屈折計が得られる。
【００３６】
【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明は、
出射角が小さく単一波長の光が得られる光源と、干渉フ
ィルタと、狭帯域干渉フィルタのスペーサ層に相当する
部分の厚みを変化させた測定室と、干渉フィルタと測定
室とを透過した光を検出するためのアレイ光検出素子
と、測定室中の液体の屈折率をアレイ光検出素子の出力
信号パターンから求める演算回路から構成される様にし
た。
出射角が小さく単一波長の光が得られる光源と、干渉フ
ィルタと、狭帯域干渉フィルタのスペーサ層に相当する
部分の厚みを変化させた測定室と、干渉フィルタと測定
室とを透過した光を検出するためのアレイ光検出素子
と、測定室中の液体の屈折率をアレイ光検出素子の出力
信号パターンから求める演算回路から構成される様にし
た。
【００３７】この結果、 （１）狭帯域干渉フィルタの特徴を利用した、ガラス基
板、λ／４型多層膜干渉層、測定室は、薄膜技術などの
応用で作製することにより大量生産が可能で安価なため
に、たとえば使い捨てのような使い方ができるため、プ
リズムに比べて取り扱いが簡単で、小型化が図れ、安価
な屈折計が得られる。
板、λ／４型多層膜干渉層、測定室は、薄膜技術などの
応用で作製することにより大量生産が可能で安価なため
に、たとえば使い捨てのような使い方ができるため、プ
リズムに比べて取り扱いが簡単で、小型化が図れ、安価
な屈折計が得られる。
【００３８】（２）プリズムは、光学材料の屈折率選定
が必要であるが、本発明では臨界角のような入射角や反
射角や出射角によって屈折率を測定しているわけではな
いので、狭帯域干渉フィルタを形成する薄膜の材料選択
の自由度が高い屈折計が得られる。
が必要であるが、本発明では臨界角のような入射角や反
射角や出射角によって屈折率を測定しているわけではな
いので、狭帯域干渉フィルタを形成する薄膜の材料選択
の自由度が高い屈折計が得られる。
【００３９】（３）アレイ光検出素子によって、同時に
複数の干渉条件における光出力が得られるため、従来方
式のような設定の不便さ（たとえば光軸調整や臨界角の
測定など）の改善が期待できる屈折計が得られる。
複数の干渉条件における光出力が得られるため、従来方
式のような設定の不便さ（たとえば光軸調整や臨界角の
測定など）の改善が期待できる屈折計が得られる。
【００４０】（４）このため、測定時間が短縮できるた
め、測定室内の測定流体を連続的に交換して、屈折率の
経時変化が測定できる屈折計が得られる。 （５）測定流体中に散乱物質が混入した場合も、測定光
の散乱現象が原理的に影響を受けにくいため、測定精度
の向上が期待できる屈折計が得られる。
め、測定室内の測定流体を連続的に交換して、屈折率の
経時変化が測定できる屈折計が得られる。 （５）測定流体中に散乱物質が混入した場合も、測定光
の散乱現象が原理的に影響を受けにくいため、測定精度
の向上が期待できる屈折計が得られる。
【００４１】従って、本発明によれば、測定流体の屈折
率測定の効率化が図れ、安価で、小型化が図れ、精度が
向上された屈折計を実現することが出来る。
率測定の効率化が図れ、安価で、小型化が図れ、精度が
向上された屈折計を実現することが出来る。
【図１】本発明の一実施例の要部構成説明図である。
【図２】図１の具体的構成説明図である。
【図３】従来より一般に使用されている従来例の様部構
成説明図である。
成説明図である。
１１ 光源 １２ ガラス基板 １３ 第１のλ／４型多層膜干渉層 １４ 測定室 １５ 第２のλ／４型多層膜干渉層 １６ ガラス基板 １７ アレイ光検出素子 １８ 演算回路
Claims (1)
- 【請求項１】物質の屈折率を測定する屈折計において、 平行な単一波長の光が出射される光源と、 該光源の単一波長の４分の１の光学薄膜を有する第１の
λ／４型多層膜干渉層と、 該第１のλ／４型多層膜干渉層の一面に一面が接して設
けられ該第１のλ／４型多層膜干渉層の面方向に異なる
厚さを有し測定流体が流入される測定室と、 該測定室の他面に一面が接して設けられた第２のλ／４
型多層膜干渉層と、 該第２のλ／４型多層膜干渉層の他面側に設けられ前記
光源から前記第１，第２のλ／４型多層膜干渉層と前記
測定室を透過した光の該測定室での透過厚さに対応して
検知するアレイ光検出素子と、 該アレイ光検出素子からの測定信号により測定室の測定
物の屈折率を演算する演算回路とを具備したことを特徴
とする屈折計。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31189496A JP3317389B2 (ja) | 1996-11-22 | 1996-11-22 | 屈折計 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31189496A JP3317389B2 (ja) | 1996-11-22 | 1996-11-22 | 屈折計 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10153549A true JPH10153549A (ja) | 1998-06-09 |
| JP3317389B2 JP3317389B2 (ja) | 2002-08-26 |
Family
ID=18022701
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31189496A Expired - Fee Related JP3317389B2 (ja) | 1996-11-22 | 1996-11-22 | 屈折計 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3317389B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004036194A1 (ja) * | 2002-08-02 | 2004-04-29 | Nec Corporation | 分析チップおよび分析装置 |
| CN112161952A (zh) * | 2020-09-15 | 2021-01-01 | 南京信息职业技术学院 | 一种基于干涉滤光片的液体折射率测量方法及装置 |
| CN112198140A (zh) * | 2020-08-26 | 2021-01-08 | 南京信息职业技术学院 | 基于多层介质膜干涉滤光片的液体折射率测量方法及其装置 |
| CN113093322A (zh) * | 2021-03-30 | 2021-07-09 | 联合微电子中心有限责任公司 | Cmos图像传感器、干涉型滤光片及其制备方法 |
-
1996
- 1996-11-22 JP JP31189496A patent/JP3317389B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004036194A1 (ja) * | 2002-08-02 | 2004-04-29 | Nec Corporation | 分析チップおよび分析装置 |
| CN112198140A (zh) * | 2020-08-26 | 2021-01-08 | 南京信息职业技术学院 | 基于多层介质膜干涉滤光片的液体折射率测量方法及其装置 |
| CN112198140B (zh) * | 2020-08-26 | 2023-10-10 | 南京信息职业技术学院 | 基于多层介质膜干涉滤光片的液体折射率测量方法及其装置 |
| CN112161952A (zh) * | 2020-09-15 | 2021-01-01 | 南京信息职业技术学院 | 一种基于干涉滤光片的液体折射率测量方法及装置 |
| CN113093322A (zh) * | 2021-03-30 | 2021-07-09 | 联合微电子中心有限责任公司 | Cmos图像传感器、干涉型滤光片及其制备方法 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3317389B2 (ja) | 2002-08-26 |
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| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |