JPH10152472A - ４−ヒドロキシ−１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジンの製造方法 - Google Patents
４−ヒドロキシ−１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジンの製造方法Info
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- JPH10152472A JPH10152472A JP8310386A JP31038696A JPH10152472A JP H10152472 A JPH10152472 A JP H10152472A JP 8310386 A JP8310386 A JP 8310386A JP 31038696 A JP31038696 A JP 31038696A JP H10152472 A JPH10152472 A JP H10152472A
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Abstract
(57)【要約】
【解決手段】 （１）４−ヒドロキシ−２，２，６，６
−テトラメチルピペリジンと、ホルムアルデヒド、パラ
ホルムアルデヒドおよびトリオキサンから成る群より選
ばれる少なくとも１つの化合物とを、所望により蟻酸を
添加して反応させる工程、（２）塩基を添加して前記反
応生成物を中和する工程、（３）中和後、水層と粗生成
物とを分離し、該粗生成物を晶析、ろ過して水分濃度３
重量％以下の４−ヒドロキシ−１，２，２，６，６−ペ
ンタメチルピペリジンの結晶を取得する工程を含むこと
を特徴とする４−ヒドロキシ−１，２，２，６，６−ペ
ンタメチルピペリジンの製造方法。 【効果】 本発明によれば、目的とするＮ−メチル−Ｔ
ＡＡＭ中の水分を低下させることができる。また中和後
の水層を繰り返し使用することが可能であり、廃水を減
らすことができる。
−テトラメチルピペリジンと、ホルムアルデヒド、パラ
ホルムアルデヒドおよびトリオキサンから成る群より選
ばれる少なくとも１つの化合物とを、所望により蟻酸を
添加して反応させる工程、（２）塩基を添加して前記反
応生成物を中和する工程、（３）中和後、水層と粗生成
物とを分離し、該粗生成物を晶析、ろ過して水分濃度３
重量％以下の４−ヒドロキシ−１，２，２，６，６−ペ
ンタメチルピペリジンの結晶を取得する工程を含むこと
を特徴とする４−ヒドロキシ−１，２，２，６，６−ペ
ンタメチルピペリジンの製造方法。 【効果】 本発明によれば、目的とするＮ−メチル−Ｔ
ＡＡＭ中の水分を低下させることができる。また中和後
の水層を繰り返し使用することが可能であり、廃水を減
らすことができる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、４−ヒドロキシ−
２，２，６，６−テトラメチルピペリジン（トリアセト
ンアルカミンとして知られている。以下ＴＡＡＭと略す
ことがある。）をメチル化して４−ヒドロキシ−１，
２，２，６，６−ペンタメチルピペリジン（以下Ｎ−メ
チル−ＴＡＡＭと略すことがある。）を製造する方法に
関する。
２，２，６，６−テトラメチルピペリジン（トリアセト
ンアルカミンとして知られている。以下ＴＡＡＭと略す
ことがある。）をメチル化して４−ヒドロキシ−１，
２，２，６，６−ペンタメチルピペリジン（以下Ｎ−メ
チル−ＴＡＡＭと略すことがある。）を製造する方法に
関する。
【０００２】
【従来の技術】Ｎ−メチル−ＴＡＡＭは、プラスチック
の光安定剤として使用される立体障害ピペリジン化合物
の合成原料として有用である。Ｎ−メチル−ＴＡＡＭは
ＴＡＡＭのメチル化により製造される。例えばホルムア
ルデヒド／蟻酸を用いてＮ−メチル化する反応はエッシ
ュウェイラー・クラーク反応として知られている。
の光安定剤として使用される立体障害ピペリジン化合物
の合成原料として有用である。Ｎ−メチル−ＴＡＡＭは
ＴＡＡＭのメチル化により製造される。例えばホルムア
ルデヒド／蟻酸を用いてＮ−メチル化する反応はエッシ
ュウェイラー・クラーク反応として知られている。
【０００３】この反応に関する文献としては、ＵＳＰ
３，３６４，２２０、特開平２−２１２４７９が挙げら
れる。ＵＳＰ３，３６４，２２０には、１８ｇのＴＡＡ
Ｍに対して３７％ホルマリン１８ｇと水１％を含有する
蟻酸４ｍｌを添加してＮ−メチル化反応を行ない、その
後水酸化ナトリウム添加、エーテル抽出することが記載
されている。特開平２−２１２４７９には、ＴＡＡＭ
と、ホルムアルデヒドまたはパラホルムアルデヒドと、
蟻酸とを反応させること、該反応生成物を蒸留するに先
立ち、塩基を添加することが記載されている。
３，３６４，２２０、特開平２−２１２４７９が挙げら
れる。ＵＳＰ３，３６４，２２０には、１８ｇのＴＡＡ
Ｍに対して３７％ホルマリン１８ｇと水１％を含有する
蟻酸４ｍｌを添加してＮ−メチル化反応を行ない、その
後水酸化ナトリウム添加、エーテル抽出することが記載
されている。特開平２−２１２４７９には、ＴＡＡＭ
と、ホルムアルデヒドまたはパラホルムアルデヒドと、
蟻酸とを反応させること、該反応生成物を蒸留するに先
立ち、塩基を添加することが記載されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明者らの検討によ
れば、ＴＡＡＭと、ホルムアルデヒドまたはパラホルム
アルデヒドと、所望により蟻酸とを反応させてＮ−メチ
ル−ＴＡＡＭを製造する場合、該反応生成物は、目的物
であるＮ−メチル−ＴＡＡＭの他に、ホルムアルデヒ
ド、蟻酸等の不純物、水を含んでいることがわかった。
れば、ＴＡＡＭと、ホルムアルデヒドまたはパラホルム
アルデヒドと、所望により蟻酸とを反応させてＮ−メチ
ル−ＴＡＡＭを製造する場合、該反応生成物は、目的物
であるＮ−メチル−ＴＡＡＭの他に、ホルムアルデヒ
ド、蟻酸等の不純物、水を含んでいることがわかった。
【０００５】蟻酸は一部Ｎ−メチル−ＴＡＡＭの蟻酸塩
として存在しているが、この蟻酸塩は有機溶媒との相溶
性がよく、晶析により単離・精製することが困難であ
る。目的物を単離・精製するに先だってこれらの不純物
を中和除去しておくことが純度、収率を向上させる上で
望ましい。
として存在しているが、この蟻酸塩は有機溶媒との相溶
性がよく、晶析により単離・精製することが困難であ
る。目的物を単離・精製するに先だってこれらの不純物
を中和除去しておくことが純度、収率を向上させる上で
望ましい。
【０００６】中和は前記反応生成物に塩基を添加するこ
とにより行われる。本発明者らの知見によれば、中和
後、油水分離、晶析して得られた結晶は、Ｎ−メチル−
ＴＡＡＭの１水塩を含有している。Ｎ−メチル−ＴＡＡ
Ｍの１水塩の融点は約５０℃であり、Ｎ−メチル−ＴＡ
ＡＭよりも２０℃も低いため、精製後の乾燥を低温で長
時間かけて行なわなければならない。また、工業的には
中和に使用した水の廃水処理費が製造コストを挙げる一
要因となる。
とにより行われる。本発明者らの知見によれば、中和
後、油水分離、晶析して得られた結晶は、Ｎ−メチル−
ＴＡＡＭの１水塩を含有している。Ｎ−メチル−ＴＡＡ
Ｍの１水塩の融点は約５０℃であり、Ｎ−メチル−ＴＡ
ＡＭよりも２０℃も低いため、精製後の乾燥を低温で長
時間かけて行なわなければならない。また、工業的には
中和に使用した水の廃水処理費が製造コストを挙げる一
要因となる。
【０００７】前記の文献ＵＳＰ３，３６４，２２０に
は、中和工程の系内の塩基濃度、中和廃水の削減、結晶
中の水分低下について記載がない。また、特開平２−２
１２４７９では、反応混合物を仕上げる前に５０％水性
ＮａＯＨを添加している。しかし、あらかじめ系内に存
在する水によってＮａＯＨは希釈されており、また、中
和後の水層の濃度も記載されていない。また、廃水の削
減や、結晶中の水分低下について記載がない。
は、中和工程の系内の塩基濃度、中和廃水の削減、結晶
中の水分低下について記載がない。また、特開平２−２
１２４７９では、反応混合物を仕上げる前に５０％水性
ＮａＯＨを添加している。しかし、あらかじめ系内に存
在する水によってＮａＯＨは希釈されており、また、中
和後の水層の濃度も記載されていない。また、廃水の削
減や、結晶中の水分低下について記載がない。
【０００８】
【課題を解決するための手段】そこで、本発明者らは、
Ｎ−メチル−ＴＡＡＭの乾燥時間の短縮、中和廃水の削
減を目標にさらに検討を行った。その結果、中和後の水
層の塩基の濃度を高めると、意外にも前記の課題を解決
できることが判明した。
Ｎ−メチル−ＴＡＡＭの乾燥時間の短縮、中和廃水の削
減を目標にさらに検討を行った。その結果、中和後の水
層の塩基の濃度を高めると、意外にも前記の課題を解決
できることが判明した。
【０００９】すなわち、本発明は、（１）４−ヒドロキ
シ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンと、ホル
ムアルデヒド、パラホルムアルデヒドおよびトリオキサ
ンから成る群より選ばれる少なくとも１つの化合物と
を、所望により蟻酸を添加して反応させる工程、（２）
塩基を添加して前記反応生成物を中和する工程、（３）
中和後、水層から粗生成物を分離、該粗生成物を晶析、
ろ過して水分濃度３重量％以下の４−ヒドロキシ−１，
２，２，６，６−ペンタメチルピペリジンの結晶を取得
する工程を含むことを特徴とする４−ヒドロキシ−１，
２，２，６，６−ペンタメチルピペリジンの製造方法を
提供する。以下本発明の各工程について詳述する。
シ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンと、ホル
ムアルデヒド、パラホルムアルデヒドおよびトリオキサ
ンから成る群より選ばれる少なくとも１つの化合物と
を、所望により蟻酸を添加して反応させる工程、（２）
塩基を添加して前記反応生成物を中和する工程、（３）
中和後、水層から粗生成物を分離、該粗生成物を晶析、
ろ過して水分濃度３重量％以下の４−ヒドロキシ−１，
２，２，６，６−ペンタメチルピペリジンの結晶を取得
する工程を含むことを特徴とする４−ヒドロキシ−１，
２，２，６，６−ペンタメチルピペリジンの製造方法を
提供する。以下本発明の各工程について詳述する。
【００１０】（１）メチル化工程 原料として使用されるＴＡＡＭは、例えば、４−オキソ
−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンを水溶媒中
でラネーニッケルやルテニウム等の触媒の存在下で水素
添加することにより製造される。本発明では水素添加後
に得られる溶液をそのまま使用してもよいし、濃縮ない
し単離精製して使用してもよい。
−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンを水溶媒中
でラネーニッケルやルテニウム等の触媒の存在下で水素
添加することにより製造される。本発明では水素添加後
に得られる溶液をそのまま使用してもよいし、濃縮ない
し単離精製して使用してもよい。
【００１１】次にＴＡＡＭのメチル化反応について説明
する。ホルムアルデヒド、パラホルムアルデヒドおよび
トリオキサンは各々単独で使用しても併用してもよい。
ホルムアルデヒド、パラホルムアルデヒドおよびトリオ
キサンから成る群より選ばれる少なくとも１つの化合物
の添加量は、ＴＡＡＭに対してホルムアルデヒド換算で
通常１〜４モル倍、好ましくは１．５〜３．０モル倍を
使用すると、目的物の収率も高く、後の中和工程で使用
する塩基の使用量が少なくなるので好ましい。
する。ホルムアルデヒド、パラホルムアルデヒドおよび
トリオキサンは各々単独で使用しても併用してもよい。
ホルムアルデヒド、パラホルムアルデヒドおよびトリオ
キサンから成る群より選ばれる少なくとも１つの化合物
の添加量は、ＴＡＡＭに対してホルムアルデヒド換算で
通常１〜４モル倍、好ましくは１．５〜３．０モル倍を
使用すると、目的物の収率も高く、後の中和工程で使用
する塩基の使用量が少なくなるので好ましい。
【００１２】ホルムアルデヒド、パラホルムアルデヒド
およびトリオキサンから成る群より選ばれる少なくとも
１つの化合物は反応を開始する際に全量をＴＡＡＭに添
加しておいてもよいし、あるいは一部をＴＡＡＭと混合
して加熱溶融ないし溶解したのち、残りをフィードさせ
て反応をおこなってもよい。ホルムアルデヒドは好まし
くは３５〜３７％のホルマリンとして使用される。
およびトリオキサンから成る群より選ばれる少なくとも
１つの化合物は反応を開始する際に全量をＴＡＡＭに添
加しておいてもよいし、あるいは一部をＴＡＡＭと混合
して加熱溶融ないし溶解したのち、残りをフィードさせ
て反応をおこなってもよい。ホルムアルデヒドは好まし
くは３５〜３７％のホルマリンとして使用される。
【００１３】蟻酸の添加量はＴＡＡＭに対し、通常０以
上３モル倍以下、好ましくは０以上１モル倍以下であ
り、さらに好ましくは０以上０．５モル倍以下である。
添加量０は即ち蟻酸を添加しない態様を意味し、最も好
ましくはこの態様である。蟻酸を添加する場合、反応を
開始する際に全量の蟻酸をＴＡＡＭに添加しておいても
よいし、あるいは一部をＴＡＡＭ、ホルムアルデヒド、
パラホルムアルデヒドおよびトリオキサンから成る群よ
り選ばれる少なくとも１つの化合物と混合して加熱溶融
ないし溶解したのち、残りをフィードさせて反応をおこ
なってもよい。
上３モル倍以下、好ましくは０以上１モル倍以下であ
り、さらに好ましくは０以上０．５モル倍以下である。
添加量０は即ち蟻酸を添加しない態様を意味し、最も好
ましくはこの態様である。蟻酸を添加する場合、反応を
開始する際に全量の蟻酸をＴＡＡＭに添加しておいても
よいし、あるいは一部をＴＡＡＭ、ホルムアルデヒド、
パラホルムアルデヒドおよびトリオキサンから成る群よ
り選ばれる少なくとも１つの化合物と混合して加熱溶融
ないし溶解したのち、残りをフィードさせて反応をおこ
なってもよい。
【００１４】反応温度は、通常６０〜１６０℃、好まし
くは９０〜１６０℃である。反応時間は、通常１〜１０
時間、好ましく１〜２時間である。この反応は溶媒を使
用してもよく、溶媒としては、水、メタノールなど、好
ましくは水を使用するとよい。
くは９０〜１６０℃である。反応時間は、通常１〜１０
時間、好ましく１〜２時間である。この反応は溶媒を使
用してもよく、溶媒としては、水、メタノールなど、好
ましくは水を使用するとよい。
【００１５】反応終了前には反応混合物を１２０〜１６
０℃、好ましくは１３０〜１６０℃に昇温しておくと、
水分の他、未反応のホルムアルデヒド、ギ酸、反応で副
生する二酸化炭素等が反応混合物から除去され、Ｎ−メ
チル−ＴＡＡＭが濃縮されるので好ましい。反応圧力は
通常大気圧で行われる。
０℃、好ましくは１３０〜１６０℃に昇温しておくと、
水分の他、未反応のホルムアルデヒド、ギ酸、反応で副
生する二酸化炭素等が反応混合物から除去され、Ｎ−メ
チル−ＴＡＡＭが濃縮されるので好ましい。反応圧力は
通常大気圧で行われる。
【００１６】特に好ましい反応条件は例えば次の通りで
ある。まずＴＡＡＭと、ＴＡＡＭに対してホルムアルデ
ヒド換算で０．５〜１．０モル倍のホルムアルデヒド、
パラホルムアルデヒドおよびトリオキサンから成る群よ
り選ばれる少なくとも１つの化合物を混合、加熱溶融な
いし溶解する。次いで、混合物を撹拌しながら、ＴＡＡ
Ｍに対してホルムアルデヒド換算で１．０〜２．０モル
倍のホルムアルデヒド、パラホルムアルデヒドおよびト
リオキサンから成る群より選ばれる少なくとも１つの化
合物を追加フィードし、反応混合物９５〜１００℃に加
熱して、０．５〜２時間反応を行う。その後反応混合物
を約１４０℃〜１６０℃にまで昇温させて、混合物中の
Ｎ−メチル−ＴＡＡＭを濃縮する。濃縮された反応混合
物中の水分は好ましくは５重量％以下である。
ある。まずＴＡＡＭと、ＴＡＡＭに対してホルムアルデ
ヒド換算で０．５〜１．０モル倍のホルムアルデヒド、
パラホルムアルデヒドおよびトリオキサンから成る群よ
り選ばれる少なくとも１つの化合物を混合、加熱溶融な
いし溶解する。次いで、混合物を撹拌しながら、ＴＡＡ
Ｍに対してホルムアルデヒド換算で１．０〜２．０モル
倍のホルムアルデヒド、パラホルムアルデヒドおよびト
リオキサンから成る群より選ばれる少なくとも１つの化
合物を追加フィードし、反応混合物９５〜１００℃に加
熱して、０．５〜２時間反応を行う。その後反応混合物
を約１４０℃〜１６０℃にまで昇温させて、混合物中の
Ｎ−メチル−ＴＡＡＭを濃縮する。濃縮された反応混合
物中の水分は好ましくは５重量％以下である。
【００１７】（１．１）抽出工程 濃縮されていてもよい反応生成物は、中和に先だって水
と混和しない有機溶媒で抽出して、Ｎ−メチル−ＴＡＡ
Ｍを有機溶媒相に移行させることにより、目的物の収率
を向上させることができる。
と混和しない有機溶媒で抽出して、Ｎ−メチル−ＴＡＡ
Ｍを有機溶媒相に移行させることにより、目的物の収率
を向上させることができる。
【００１８】有機溶媒としてはベンゼン、トルエン、キ
シレン等の芳香族炭化水素溶媒、ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘ
プタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン等の脂肪族な
いし脂環族の炭化水素、エーテル等が挙げられる。ま
た、後述する工程（３）の晶析母液を使用してもよい。
有機溶媒の使用量は反応生成物に対して通常１〜３重量
倍、好ましくは１〜１．５重量倍である。
シレン等の芳香族炭化水素溶媒、ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘ
プタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン等の脂肪族な
いし脂環族の炭化水素、エーテル等が挙げられる。ま
た、後述する工程（３）の晶析母液を使用してもよい。
有機溶媒の使用量は反応生成物に対して通常１〜３重量
倍、好ましくは１〜１．５重量倍である。
【００１９】（２）中和工程 中和は、所望により濃縮、抽出工程を経た反応生成物に
塩基を添加することにより行われる。その際、４−ヒド
ロキシ−１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジン
の結晶の水分濃度が３重量％以下になるように、中和後
の水層の塩基の濃度をコントロールする。中和後の水層
の塩基の濃度が通常２５重量％以上に、好ましくは２５
〜５０重量％、さらに好ましくは２７〜５０重量％にな
るように塩基を添加するとよい。
塩基を添加することにより行われる。その際、４−ヒド
ロキシ−１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジン
の結晶の水分濃度が３重量％以下になるように、中和後
の水層の塩基の濃度をコントロールする。中和後の水層
の塩基の濃度が通常２５重量％以上に、好ましくは２５
〜５０重量％、さらに好ましくは２７〜５０重量％にな
るように塩基を添加するとよい。
【００２０】このように中和後の水層の塩基の濃度を高
めると、目的物中のＮ−メチル−ＴＡＡＭの１水塩の割
合が少なくなり、結晶の乾燥時間が短縮できる。塩基は
通常濃度３０〜５０重量％、好ましくは３５〜５０重量
％の水溶液として添加される。供給された塩基は、反応
生成物に含まれる水分により希釈されるが、予め前記の
濃縮操作を行って水分等を低減させておくと、塩基の濃
度を高く保つことができるので好ましい。
めると、目的物中のＮ−メチル−ＴＡＡＭの１水塩の割
合が少なくなり、結晶の乾燥時間が短縮できる。塩基は
通常濃度３０〜５０重量％、好ましくは３５〜５０重量
％の水溶液として添加される。供給された塩基は、反応
生成物に含まれる水分により希釈されるが、予め前記の
濃縮操作を行って水分等を低減させておくと、塩基の濃
度を高く保つことができるので好ましい。
【００２１】その結果、中和後の水層を再度中和工程に
リサイクルすることが可能になり、廃水が削減される。
塩基としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等を例
示できる。また、塩基の使用量は、通常Ｎ−メチル−Ｔ
ＡＡＭに対して０．１〜１．５モル倍、好ましくは０．
２〜１．０モル倍である。
リサイクルすることが可能になり、廃水が削減される。
塩基としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等を例
示できる。また、塩基の使用量は、通常Ｎ−メチル−Ｔ
ＡＡＭに対して０．１〜１．５モル倍、好ましくは０．
２〜１．０モル倍である。
【００２２】（３）分離・晶析工程 中和後、水層と粗生成物とを分離して、該粗生成物から
Ｎ−メチル−ＴＡＡＭを晶析により単離・精製する。分
離した水層を中和工程（２）にリサイクルしてもよい。
Ｎ−メチル−ＴＡＡＭを晶析により単離・精製する。分
離した水層を中和工程（２）にリサイクルしてもよい。
【００２３】晶析溶媒としては、ベンゼン、トルエン、
キシレン等の芳香族炭化水素溶媒、ｎ−ヘキサン、ｎ−
ヘプタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン等の脂肪族
ないし脂環族の炭化水素、エーテル等が挙げられる。特
に脂肪族ないし脂環族炭化水素が好ましい。晶析後は濾
過してＮ−メチル−ＴＡＡＭの結晶（以下ウェットケー
キと略すことがある）を取得する。
キシレン等の芳香族炭化水素溶媒、ｎ−ヘキサン、ｎ−
ヘプタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン等の脂肪族
ないし脂環族の炭化水素、エーテル等が挙げられる。特
に脂肪族ないし脂環族炭化水素が好ましい。晶析後は濾
過してＮ−メチル−ＴＡＡＭの結晶（以下ウェットケー
キと略すことがある）を取得する。
【００２４】ウェットケーキ中の水分濃度は通常３重量
％以下、好ましくは２．５重量％以下、さらに好ましく
は２重量％以下である。ウェットケーキは常法により乾
燥されるが、本発明の方法で得られたウェットケーキは
水分濃度が低いため、乾燥を容易に行うことができる。
なお晶析母液をリサイクルして前記（１．１）の抽出溶
媒として使用することも可能である。
％以下、好ましくは２．５重量％以下、さらに好ましく
は２重量％以下である。ウェットケーキは常法により乾
燥されるが、本発明の方法で得られたウェットケーキは
水分濃度が低いため、乾燥を容易に行うことができる。
なお晶析母液をリサイクルして前記（１．１）の抽出溶
媒として使用することも可能である。
【００２５】
【００２６】
〔実施例１〕 （１）１０％含水のＴＡＡＭ（ＴＡＡＭ １．０モル）
と３７％ホルマリン（ＨＣＨＯ １．０モル）とを蒸留
塔（１０×１ｃｍφ）付き反応容器に仕込み、混合物を
７０℃で加熱溶解した。９８℃（還流温度）に昇温後、
３７％ホルマリン（ＨＣＨＯ １．０モル）を１時間か
けてフィードして、大気圧でさらに１時間反応を行なっ
た。次いで、２時間かけて該混合物を１４０℃に昇温し
て濃縮した。反応収率は９９モル％以上であった。濃縮
液、留出水の各成分濃度（重量％）を表１に示す。
と３７％ホルマリン（ＨＣＨＯ １．０モル）とを蒸留
塔（１０×１ｃｍφ）付き反応容器に仕込み、混合物を
７０℃で加熱溶解した。９８℃（還流温度）に昇温後、
３７％ホルマリン（ＨＣＨＯ １．０モル）を１時間か
けてフィードして、大気圧でさらに１時間反応を行なっ
た。次いで、２時間かけて該混合物を１４０℃に昇温し
て濃縮した。反応収率は９９モル％以上であった。濃縮
液、留出水の各成分濃度（重量％）を表１に示す。
【００２７】
【表１】
【００２８】（２）（１）で得られた濃縮液を６０℃に
まで放置冷却し、濃縮液の１．５重量倍の三井ヘキサン
（三井石油化学工業（株）製、沸点６８℃）を添加して
Ｎ−メチル−ＴＡＡＭを油層に抽出した。次いで、Ｎａ
ＯＨ／Ｎ−メチル−ＴＡＡＭのモル比が０．２、０．
５、１．０になるように、４８重量％の水酸化ナトリウ
ム水溶液を添加し、攪拌した。しばらく放置した後、油
水分離した。油層を徐々に５℃まで冷却してゆくと、２
１℃付近から結晶が晶出し始めた。結晶を三井ヘキサン
で数回リンス、濾過した。得られたウェットケーキ中の
水分濃度、中和後の水層のＮａＯＨ濃度は表２の通りで
あった。
まで放置冷却し、濃縮液の１．５重量倍の三井ヘキサン
（三井石油化学工業（株）製、沸点６８℃）を添加して
Ｎ−メチル−ＴＡＡＭを油層に抽出した。次いで、Ｎａ
ＯＨ／Ｎ−メチル−ＴＡＡＭのモル比が０．２、０．
５、１．０になるように、４８重量％の水酸化ナトリウ
ム水溶液を添加し、攪拌した。しばらく放置した後、油
水分離した。油層を徐々に５℃まで冷却してゆくと、２
１℃付近から結晶が晶出し始めた。結晶を三井ヘキサン
で数回リンス、濾過した。得られたウェットケーキ中の
水分濃度、中和後の水層のＮａＯＨ濃度は表２の通りで
あった。
【００２９】〔ウェットケーキの水分濃度測定方法〕ろ
過後の結晶約０．３ｇをＪＩＳ−Ｋ−００６８に準じて
カール・フィッシャー水分測定装置（京都電子工業
（株）製 ＭＫＣ−２１０）を用いて測定した。
過後の結晶約０．３ｇをＪＩＳ−Ｋ−００６８に準じて
カール・フィッシャー水分測定装置（京都電子工業
（株）製 ＭＫＣ−２１０）を用いて測定した。
【００３０】
【表２】
【００３１】〔実施例２〕ＮａＯＨ／Ｎ−メチル−ＴＡ
ＡＭ（モル比）を０．５とし、添加する水酸化ナトリウ
ム濃度を変化させた他は実施例１と同様に操作を行なっ
た。得られたウェットケーキを６０℃、１．４ｋＰａで
２時間乾燥した。結果を表３に示す。
ＡＭ（モル比）を０．５とし、添加する水酸化ナトリウ
ム濃度を変化させた他は実施例１と同様に操作を行なっ
た。得られたウェットケーキを６０℃、１．４ｋＰａで
２時間乾燥した。結果を表３に示す。
【００３２】
【表３】
【００３３】〔実施例３〕ＮａＯＨ／Ｎ−メチル−ＴＡ
ＡＭ（モル比）を０．５とし、添加する水酸化ナトリウ
ム濃度を４８重量％とし、中和後の水層を中和工程にリ
サイクルする以外は実施例１と同様に操作を行なった。
結果を表４に示す。
ＡＭ（モル比）を０．５とし、添加する水酸化ナトリウ
ム濃度を４８重量％とし、中和後の水層を中和工程にリ
サイクルする以外は実施例１と同様に操作を行なった。
結果を表４に示す。
【００３４】
【表４】
【００３５】〔実施例４〕ＮａＯＨ／Ｎ−メチル−ＴＡ
ＡＭ（モル比）を０．５とし、添加する水酸化ナトリウ
ム濃度を４８重量％とし、晶析後の母液を抽出工程に２
回リサイクルする以外は実施例１と同様に操作を行なっ
た。得られたウェットケーキを１．４ｋＰａ、６０℃で
２時間乾燥した。乾燥後のＮ−メチル−ＴＡＡＭの収率
は９８％、水分量は０．５重量％以下であった。
ＡＭ（モル比）を０．５とし、添加する水酸化ナトリウ
ム濃度を４８重量％とし、晶析後の母液を抽出工程に２
回リサイクルする以外は実施例１と同様に操作を行なっ
た。得られたウェットケーキを１．４ｋＰａ、６０℃で
２時間乾燥した。乾燥後のＮ−メチル−ＴＡＡＭの収率
は９８％、水分量は０．５重量％以下であった。
【００３６】
【発明の効果】本発明によれば、目的とするＮ−メチル
−ＴＡＡＭ中の水分を低下させることができる。また中
和後の水層を繰り返し使用することが可能であり、廃水
を減らすことができる。
−ＴＡＡＭ中の水分を低下させることができる。また中
和後の水層を繰り返し使用することが可能であり、廃水
を減らすことができる。
Claims (10)
- 【請求項１】 （１）４−ヒドロキシ−２，２，６，６
−テトラメチルピペリジンと、ホルムアルデヒド、パラ
ホルムアルデヒドおよびトリオキサンから成る群より選
ばれる少なくとも１つの化合物とを、所望により蟻酸を
添加して反応させる工程、（２）塩基を添加して前記反
応生成物を中和する工程、（３）中和後、水層と粗生成
物とを分離し、該粗生成物を晶析、ろ過して水分濃度３
重量％以下の４−ヒドロキシ−１，２，２，６，６−ペ
ンタメチルピペリジンの結晶を取得する工程を含むこと
を特徴とする４−ヒドロキシ−１，２，２，６，６−ペ
ンタメチルピペリジンの製造方法。 - 【請求項２】 工程（３）で得られる４−ヒドロキシ−
１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジンの結晶の
水分濃度が３重量％以下になるように、中和後の水層の
塩基の濃度をコントロールすることを特徴とする請求項
１記載の方法。 - 【請求項３】 工程（３）で得られる水分濃度３重量％
以下の１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジンの
結晶を乾燥することを特徴とする請求項１または２記載
の方法。 - 【請求項４】 中和工程（２）に先立ち、反応生成物を
濃縮することを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記
載の方法。 - 【請求項５】 中和工程（２）に先立ち、反応生成物ま
たは濃縮された反応生成物を水と混和しない有機溶媒で
抽出することを特徴とする請求項１４のいずれかに記載
の方法。 - 【請求項６】 濃度３０重量％以上の塩基を中和工程に
添加することを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記
載の方法。 - 【請求項７】 中和後の水層の塩基の濃度が、２５重量
％以上であることを特徴とする請求項１〜５のいずれか
に記載の方法。 - 【請求項８】 中和に用いる塩基が水酸化ナトリウムで
あることを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載の
方法。 - 【請求項９】 中和後、粗生成物を分離した水層を中和
工程（２）にリサイクルすることを特徴とする請求項１
〜８のいずれかに記載の方法。 - 【請求項１０】 有機溶媒が工程（３）の晶析後の母液
であることを特徴とする請求項５記載の方法。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8310386A JPH10152472A (ja) | 1996-11-21 | 1996-11-21 | ４−ヒドロキシ−１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジンの製造方法 |
| DE1997604749 DE69704749T2 (de) | 1996-10-17 | 1997-10-15 | Verfahren zur Herstellung von 4-Hydroxy-1,2,2,6,6,-Pentamethylpiperidin |
| EP97308184A EP0837057B1 (en) | 1996-10-17 | 1997-10-15 | Method of preparation of 4-hydroxy-1,2,2,6,6-pentamethylpiperidine |
| TW086115220A TW505632B (en) | 1996-10-17 | 1997-10-16 | Method of preparation of 4-hydroxy-1,2,2,6,6-pentamethylpiperidine |
| US08/953,517 US5910591A (en) | 1996-10-17 | 1997-10-17 | Method of preparation of 4-hydroxy-1,2,2,6,6-pentamethylpiperidine |
| KR1019970053306A KR100244572B1 (ko) | 1996-10-17 | 1997-10-17 | 4-히드록시-1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딘의 제조방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8310386A JPH10152472A (ja) | 1996-11-21 | 1996-11-21 | ４−ヒドロキシ−１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジンの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10152472A true JPH10152472A (ja) | 1998-06-09 |
Family
ID=18004640
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8310386A Pending JPH10152472A (ja) | 1996-10-17 | 1996-11-21 | ４−ヒドロキシ−１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジンの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10152472A (ja) |
-
1996
- 1996-11-21 JP JP8310386A patent/JPH10152472A/ja active Pending
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Legal Events
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|---|---|---|---|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050712 |
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| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20051122 |