JPH06298713A - N−(α−ヒドロキシエチル)ホルムアミド及びN−(α−アルコキシエチル)ホルムアミドの製造方法 - Google Patents

N−(α−ヒドロキシエチル)ホルムアミド及びN−(α−アルコキシエチル)ホルムアミドの製造方法

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JPH06298713A
JPH06298713A JP8639893A JP8639893A JPH06298713A JP H06298713 A JPH06298713 A JP H06298713A JP 8639893 A JP8639893 A JP 8639893A JP 8639893 A JP8639893 A JP 8639893A JP H06298713 A JPH06298713 A JP H06298713A
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Abstract

(57)【要約】 【構成】 ホルムアミドとアセトアルデヒドを、水に不
溶性の溶媒中、塩基性触媒の存在下で反応させてN−
(α−ヒドロキシエチル)ホルムアミドを製造する方法
において、反応混合物よりN−(α−ヒドロキシエチ
ル)ホルムアミドを分離した後の溶媒を、水で洗浄し、
前記反応に再使用することを特徴とするN−(α−ヒド
ロキシエチル)ホルムアミドの製造方法。また、ホルム
アミドとアセトアルデヒドを、水に不溶性の溶媒中、塩
基性触媒の存在下で反応させ、次いで、酸性触媒の存在
下でアルコールと反応させてN−(α−アルコキシエチ
ル)ホルムアミドを製造する方法において、N−(α−
アルコキシエチル)ホルムアミドを分離した後の溶媒
を、酸性の水で洗浄し、前記反応に再使用することを特
徴とするN−(α−アルコキシエチル)ホルムアミドの
製造方法。 【効果】 N−(α−ヒドロキシエチル)ホルムアミド
及びN−(α−アルコキシエチル)ホルムアミドの製造
に用いる溶媒を再使用しても製品の品質を高く維持する
ことができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はN−(α−ヒドロキシエ
チル)ホルムアミド及びN−(α−アルコキシエチル)
ホルムアミドの製造方法に関する。これらのN−(α−
ヒドロキシエチル)ホルムアミドなどはN−ビニルホル
ムアミドを合成するための中間原料として有用な物質で
ある。
【0002】
【従来の技術】特公平4−56823号公報には、N−
(α−アルコキシエチル)ホルムアミドの製造方法とし
て、ホルムアミドとアセトアルデヒドを塩基性触媒の存
在下に反応させてN−(α−ヒドロキシエチル)ホルム
アミドとし、これを酸触媒の存在下、アルコールと反応
させてアルコキシ化する方法が開示されている。
【0003】該公報には、第1段目のN−(α−ヒドロ
キシエチル)ホルムアミドを得る反応では、溶媒の不存
在下に実施することも可能であるが、無溶媒では生成物
が析出固化して塊状となりその取り出しが困難であるの
で、溶媒の存在下に反応を行うことがよい旨記載されて
いる。そして、溶媒としては、脂肪族炭化水素、芳香族
炭化水素等が例示されている。
【0004】また、第1段目の反応後、生成物の回収率
を高く維持するため、生成物の結晶を溶媒を含む反応混
合物から単離することなく、第2段目のアルコキシ化の
反応に供する方法が好ましい旨の説明もなされている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】反応に使用した溶媒
は、工業的には回収して再使用できることが望ましい
が、上記の反応系においては反応後の溶媒中には種々の
不純物、特にアセトアルデヒド及びその誘導体が多く含
まれている。このような不純物を完全に除去するために
は、精密蒸留する方法が考えられるが、該方法では必ず
しも経済的ではなく、工業的には採用しがたい。
【0006】一方、不純物を含んだままの回収溶媒をく
り返し反応に使用すれば、反応系中に不純物が蓄積し、
結果として製品の純度低下を招くことになる。特に、本
発明者等の検討によれば、上述のN−(α−アルコキシ
エチル)ホルムアミドを加熱分解して得られるN−ビニ
ルホルムアミドで重合反応を行う場合に、N−ビニルホ
ルムアミド中に不純物として取り込まれたアセトアルデ
ヒド誘導体が重合阻害要因として作用することを確認し
ている。
【0007】以上のようなことから、ホルムアミドとア
セトアルデヒドよりN−(α−ヒドロキシエチル)ホル
ムアミドとし、更に、これをアルコキシ化する反応工程
で用いられる溶媒は、従来、使用した後はもっぱら廃棄
していた。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明者等は上記実状に
鑑み、N−(α−アルコキシエチル)ホルムアミドの製
造方法等につき種々検討した結果、反応混合物より分離
した溶媒を水で洗浄することにより不純物の大半は容易
に除去され、かつ、洗浄後の溶媒を反応に再使用しても
実質的に問題はないことを見い出し本発明に到達した。
【0009】即ち、本発明の第1の態様は、ホルムアミ
ドとアセトアルデヒドを、水に不溶性の溶媒中、塩基性
触媒の存在下で反応させてN−(α−ヒドロキシエチ
ル)ホルムアミドを製造する方法において、反応混合物
よりN−(α−ヒドロキシエチル)ホルムアミドを分離
した後の溶媒を、水で洗浄し、前記反応に再使用するこ
とを特徴とするN−(α−ヒドロキシエチル)ホルムア
ミドの製造方法に関する。
【0010】また、本発明の第2の態様は、ホルムアミ
ドとアセトアルデヒドを、水に不溶性の溶媒中、塩基性
触媒の存在下で反応させ、次いで、酸性触媒の存在下で
アルコールと反応させてN−(α−アルコキシエチル)
ホルムアミドを製造する方法において、N−(α−アル
コキシエチル)ホルムアミドを分離した後の溶媒を、酸
性の水で洗浄し、前記反応に再使用することを特徴とす
るN−(α−アルコキシエチル)ホルムアミドの製造方
法に関する。
【0011】以下、本発明につき詳細に説明する。N−
(α−ヒドロキシエチル)ホルムアミドは、アセトアル
デヒドとホルムアミドを塩基性触媒の存在下、反応させ
て得る。この塩基性触媒としては、一般的な塩基性化合
物であれば特に制限はないが、好ましくは強塩基とpK
a値が4〜15の弱酸からなる弱塩基性塩であり、具体
的には、炭酸ナトリウム、重炭酸ナトリウム、リン酸カ
リウム、リン酸一水素カリウム、ピロリン酸ナトリウム
等が例示される。
【0012】ホルムアミドとアセトアルデヒドとの反応
の触媒となる弱塩基性塩の使用割合は、ホルムアミドに
対し、通常0.01〜10モル%、好ましくは0.1〜
2モル%の範囲から適宜選択される。ホルムアミドとア
セトアルデヒドとの反応温度は、通常、−10〜100
℃の広い範囲から選択し得るが、アセトアルデヒドの選
択率の観点から0〜40℃の範囲とするのが好ましい。
また、反応原料であるホルムアミドとアセトアルデヒド
との使用割合は、通常、1:1.0〜5.0(モル比)
の範囲から選択される。
【0013】反応溶媒としては、水に不溶性の溶媒を使
用する。水に不溶性の溶媒とは、水に対して実質的に溶
解しないものであって、水と混合後、静置した場合に2
相に分離するような溶媒である。このような溶媒として
は、具体的にはヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン等
の脂肪族炭化水素、ベンゼン、トルエン、キシレン等の
芳香族炭化水素、塩化メチレン、クロロホルム等のハロ
ゲン化炭化水素などが挙げられる。溶媒の使用量は、通
常、ホルムアミドに対して0.2〜10重量倍の範囲か
ら適宜選択される。
【0014】反応の具体的な態様については特に制限は
ないが、アセトアルデヒドと溶媒の混合液を敷液し、そ
こに触媒を溶解したホルムアミドを滴下して反応を行う
のが好ましい。そして、反応後あるいは、反応の途中の
段階で生成物のN−(α−ヒドロキシエチル)ホルムア
ミドの結晶を析出させる方法が一般的である。また、こ
の結晶化を円滑に進めるため、滴下の途中でN−(α−
ヒドロキシエチル)ホルムアミドの結晶を種晶として少
量添加する操作を行ってもよい。
【0015】上記の反応を終了させる場合、反応混合物
をろ過するなどの方法で大部分の反応溶媒を分離、回収
することができる。また、後述のように、反応混合物よ
りこの段階で溶媒を分離、回収せず、そのまま、次のア
ルコキシ化反応に供する方法も採用することができる。
アルコキシ化の反応は、上記の反応混合物にアルコール
と、前段の反応に用いた塩基性触媒を中和するための必
要量より過剰の酸性触媒を添加することにより行なわれ
る。この場合、アルコールとしては、通常、炭素原子数
1〜8、好ましくは1〜4の第1級または第2級のアル
コールが用いられる。具体的には、メタノール、エタノ
ール、n−プロパノール、n−ブタノール、イソブチル
アルコールなどが例示され、特にメタノールが好まし
い。アルコールは、生成物の収率を高めるために過剰量
使用されることが好ましくN−(α−アルコキシエチ
ル)ホルムアミドに対して、通常1.1〜50倍モル
量、好ましくは2.0〜30倍モル量である。
【0016】アルコキシ化反応に用いられる触媒として
は、一般的の酸触媒のいずれもが使用することができ
る。鉱酸、有機酸、弱酸及び強酸性を示すイオン交換樹
脂、固体酸触媒などであるが、好ましくは強酸性の物質
が用いられる。好ましい酸触媒の例としては硫酸、塩
酸、硝酸、スルファミン酸、メタンスルホン酸、架橋ポ
リスチレンスルホン酸などが挙げられる。酸触媒の使用
量はN−(α−ヒドロキシエチル)ホルムアミドに対
し、通常0.001〜10モル%、好ましくは0.1〜
5モル%の範囲である。
【0017】N−(α−ヒドロキシエチル)ホルムアミ
ドとアルコールとの反応(アルコキシ化反応)は、両者
の混合物に酸触媒を添加するか、接触させることにより
容易に達成される。また、酸触媒のアルコール溶液と、
N−(α−ヒドロキシエチル)ホルムアミドを添加混合
する方法でもよい。反応温度は反応性とN−(α−ヒド
ロキシエチル)ホルムアミドの安定性の面から、通常、
−10〜60℃、好ましくは0〜40℃である。
【0018】反応終了後は、通常、酸触媒をアルカリ化
合物で中和するか、あるいは酸触媒がイオン交換樹脂な
どのような固体状である場合にはろ過分離する。なお、
中和処理そのものは必須の操作ではないが、生成物は中
性条件の方が安定であるので、精製回収工程における分
解を最小限にするという観点から実施することが好まし
い。
【0019】次に、酸触媒を中和あるいはろ過分離した
後の反応混合物は、特に水に不溶性の非極性溶媒と水溶
性のアルコールを使用した反応系においては、静置する
と残存するアルコールの大部分と、反応で生成した水な
どを含む生成物であるN−(α−アルコキシエチル)ホ
ルムアミド相と溶媒相の2相に分離してくるので、溶媒
相のみを分離、回収することが可能である。また、2相
系にならず均一相系になる場合でも、蒸留により溶媒を
含む留分を留去して回収すればよい。
【0020】本発明の方法においては、以上説明したN
−(α−ヒドロキシエチル)ホルムアミド及びN−(α
−アルコキシエチル)ホルムアミドの製造方法において
使用し、回収した溶媒を水洗浄し、再使用する点に特徴
を有する。水洗浄の具体的方法は、回収した溶媒に水を
接触させ、通常、混合し、水相中に不純物を抽出させ、
分液して溶媒を回収する方法である。
【0021】N−(α−ヒドロキシエチル)ホルムアミ
ドを含む反応混合物より回収した溶媒中には、通常、不
純物として未反応過剰分のアセトアルデヒド及びそのア
ルドール縮合物が多く含まれる。また、N−(α−アル
コキシエチル)ホルムアミドを含む反応混合物より回収
した溶媒中には、N−(α−ヒドロキシエチル)ホルム
アミド中に含まれる不純物に加えて、アセトアルデヒド
及びその誘導体がアルコールと反応することにより生成
するアセタール化合物が、通常、多く含まれている。
【0022】そこで、これらの不純物を水により洗浄除
去する。不純物中、アセトアルデヒド及びアルドール縮
合物の多くは、通常の純水を用いるだけで充分に抽出す
ることが可能であるが、酸性の水で洗浄すると更に効果
的である。また、アセタール化合物については、比較
的、疎水性が高く、中性あるいはアルカリ性の水には抽
出されにくく、通常、pHが5以下の酸性の水で洗浄す
る必要がある。酸性の水での洗浄が効果的である理由と
しては、溶媒中のアルドールあるいはアセタール化合物
が酸により加水分解されることにより、より水相に抽出
されやすくなっているものと推定される。なお、酸性の
水は、純水に、硫酸、硝酸、塩酸、スルファミン酸、パ
ラトルエンスルホン酸等の酸性化合物を、通常0.01
〜10重量%添加したものを使用すればよい。また、酸
性の水で洗浄後、中性の純水で洗浄する方法も、溶媒中
の微量酸成分を完全に除く点より好ましい。
【0023】洗浄に用いられる水の量は、溶媒に対し
て、通常0.1〜5重量倍量であり、洗浄は1回のみで
もよいし、複数回、くり返して行ってもよい。また、回
分法による洗浄抽出に限らず、連続法も採用できる。洗
浄方法としては、例えば、0.1〜3kW/m3 の動力
量で、0.01〜1時間程度、混合し、その後、静置
し、分液後、溶媒を回収するなどの方法が例示される。
【0024】上述のように水で洗浄した回収溶媒は、ア
セトアルデヒド及びその誘導体などの不純物が充分に除
去されるので、そのまま、反応溶媒として再使用するこ
とができる。反応溶媒としては、通常、N−(α−ヒド
ロキシエチル)ホルムアミドの生成反応系に用いられる
が、N−(α−アルコキシエチル)ホルムアミドの生成
反応系に溶媒として追加する場合も考えられる。また、
場合によっては、水洗浄した回収溶媒を、更に蒸留、イ
オン交換樹脂あるいは活性炭による処理などの簡易な精
製工程を付加してもよい。
【0025】
【実施例】以下に実施例を通じて本発明をさらに詳細に
述べるが、本発明はその要旨を超えない限り、本実施例
に制約されるものではない。なお、反応混合物などにつ
いてはガスクロマトグラフィーにより分析を行った。ま
た、実施例において、「%」とは「重量%」を意味す
る。
【0026】実施例1 (N−(α−ヒドロキシエチル)ホルムアミドの製造) 撹拌機及び温度調節器を有する2Lガラス製反応器に工
業用トルエン800gを仕込み、窒素ガスで脱気した
後、アセトアルデヒド235gを加え、20℃に温度を
調整した。次に、ホルムアミド200gに重炭酸カリウ
ム1.33g(対ホルムアミド0.3モル%)を溶解さ
せたホルムアミド溶液を調製し、その20%を30分か
けて加えた。その後30分熟成した後、N−(α−ヒド
ロキシエチル)ホルムアミドの結晶0.5gを種晶とし
て加え、N−(α−ヒドロキシエチル)ホルムアミドの
結晶を析出させた。この操作を実施した後、更に30分
熟成した。次に、残りのホルムアミド溶液を2.5時間
かけて加えた後、1時間熟成を行った。この反応スラリ
ーをろ過し、溶媒のトルエンを分離した。分離したトル
エン中にはアセトアルデヒド3.5%、アセトアルデヒ
ドのアルドール縮合物0.5%が含まれていた。
【0027】また、この際、ろ別された固体成分につい
て、分析したところ、N−(α−ヒドロキシエチル)ホ
ルムアミド64.3%、ホルムアミド0.7%、トルエ
ン33.4%、アセトアルデヒド1.4%、アセトアル
デヒドのアルドール縮合物0.2%の組成であった。上
記の不純物を含有したトルエンに、1%硫酸水800g
を添加し、30分間、混合、撹拌した。その後、30分
静置した後、分液した。更に、水800gをトルエン相
に加え、同様の洗浄操作を2回行った。以上の洗浄後、
トルエン相について分析を行ったが、アセトアルデヒド
及びその誘導体は検出されなかった。
【0028】洗浄回収したトルエンを用いてN−(α−
ヒドロキシエチル)ホルムアミドの製造反応を前記方法
と同様に行ったところ、ろ別後の固体成分中には、N−
(α−ヒドロキシエチル)ホルムアミド64.2重量
%、アセトアルデヒド1.4重量%、アセトアルデヒド
のアルドール縮合物0.2重量%、が含まれ、初めの工
業用トルエンを用いた場合とほとんど差がなかった。
【0029】比較例1 実施例1と同様の反応を行い、反応混合物をろ過し、分
離回収したトルエンを水洗浄することなく、再度、同じ
反応を行った。反応後にろ別された固体成分について分
析したところ、N−(α−ヒドロキシエチル)ホルムア
ミド64.0%、アセトアルデヒド3.0%、アセトア
ルデヒドのアルドール縮合物0.4%が含まれていた。
【0030】実施例2 (N−(α−アルコキシエチル)ホルムアミドの製造) 撹拌機及び温度調節器を有する2Lガラス製反応器に工
業用ヘキサン600gを仕込み、窒素ガスで脱気した
後、アセトアルデヒド235gを加え5〜10℃に温度
を調整した。次にホルムアミド200gに炭酸カリウム
1.1g(対ホルムアミド0.18モル%)を溶解した
ホルムアミド溶液を調整し、その20%を30分かけて
加えた。その後30分熟成した後N−(α−ヒドロキシ
エチル)ホルムアミドの結晶0.5gを種晶として加え
N−(α−ヒドロキシエチル)ホルムアミドの結果を析
出させた。この操作を実施した後、更に30分熟成し
た。次に、残りのホルムアミド溶液を2.5時間かけて
加えた後、1時間熟成を行った。このスラリーのまま、
つぎのアルコキシ化反応を行った。
【0031】上記スラリーにメタノール427g、98
%硫酸3gを添加し、15℃で1時間反応させた。次い
で、pH7になるまで25%カセイソーダ水溶液を添加
して触媒を中和した。その後、液を静置すると2液相に
分離した。下相がN−(α−メトキシエチル)ホルムア
ミドを含む相で、上相がヘキサン相であった。これらに
ついて分析したところ、上相には、アセトアルデヒド
0.03%、アセトアルデヒドジメチルアセタール3.
7%、N−(α−メトキシエチル)ホルムアミド0.2
%が含まれていた。また、下相には、N−(α−メトキ
シエチル)ホルムアミド50%、ホルムアミド1%、N
−(α−ヒドロキシエチル)ホルムアミド1%、メタノ
ール31%、水10%、ノルマルヘキサン1%およびア
セトアルデヒド2.9%、アセトアルデヒドジメチルア
セタール3.0%が含まれていた。
【0032】上記のヘキサンを含有する上相を分液回収
し、これに、1%硫酸水600gを添加し、30分間、
混合、撹拌した。その後30分静置した後、分液した。
さらに水600gをヘキサン相に加え、同様の洗浄操作
を2回行った。以上の洗浄後、ヘキサン相について分析
を行ったが、アセトアルデヒド、アセトアルデヒドジメ
チルアセタール、N−(α−メトキシエチル)ホルムア
ミドは検出されなかった。
【0033】洗浄回収したヘキサンを用いて、前記方法
と同様にN−(α−アルコキシエチル)ホルムアミドの
製造反応を行ったところ、反応後、分離した2液相の下
相中には、N−(α−アルコキシエチル)ホルムアミド
51重量%、アセトアルデヒド2.5%、アセトアルデ
ヒドジメチルアセタール3.0%が含まれ、初めの工業
用ヘキサンを用いた場合とほとんど差がなかった。
【0034】比較例2 実施例2と同様の反応を行い、ヘキサン溶媒の水洗浄す
ることなく、再度、同じ反応を行った。その結果、反応
混合物の下相には、N−(α−ヒドロキシエチル)ホル
ムアミド47%、アセトアルデヒドジメチルアセタール
5.5%、アセトアルデヒド6%が含まれていた。
【0035】
【発明の効果】本発明によれば、N−(α−ヒドロキシ
エチル)ホルムアミド及びN−(α−アルコキシエチ
ル)ホルムアミドの製造において使用する溶媒を簡便に
回収して再使用することができる。該方法では、反応系
での不純物の蓄積がなく、製品の純度が維持される。ま
た、上記の物質より誘導されるN−ビニルホルムアミド
の重合活性の低下の問題も回避することができる。

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ホルムアミドとアセトアルデヒドを、水
    に不溶性の溶媒中、塩基性触媒の存在下で反応させてN
    −(α−ヒドロキシエチル)ホルムアミドを製造する方
    法において、反応混合物よりN−(α−ヒドロキシエチ
    ル)ホルムアミドを分離した後の溶媒を、水で洗浄し、
    前記反応に再使用することを特徴とするN−(α−ヒド
    ロキシエチル)ホルムアミドの製造方法。
  2. 【請求項2】 溶媒が脂肪族炭化水素、芳香族炭化水素
    及びハロゲン化炭化水素のいずれかであることを特徴と
    する請求項1の製造方法。
  3. 【請求項3】 酸性の水で洗浄することを特徴とする請
    求項1の製造方法。
  4. 【請求項4】 ホルムアミドとアセトアルデヒドを、水
    に不溶性の溶媒中、塩基性触媒の存在下で反応させ、次
    いで、酸性触媒の存在下でアルコールと反応させてN−
    (α−アルコキシエチル)ホルムアミドを製造する方法
    において、N−(α−アルコキシエチル)ホルムアミド
    を分離した後の溶媒を、酸性の水で洗浄し、前記反応に
    再使用することを特徴とするN−(α−アルコキシエチ
    ル)ホルムアミドの製造方法。
  5. 【請求項5】 溶媒が脂肪族炭化水素、芳香族炭化水素
    及びハロゲン化炭化水素のいずれかであることを特徴と
    する請求項4の製造方法。
JP08639893A 1993-04-13 1993-04-13 N−(α−ヒドロキシエチル)ホルムアミド及びN−(α−アルコキシエチル)ホルムアミドの製造方法 Expired - Lifetime JP3319020B2 (ja)

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Cited By (4)

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