KR100244572B1 - 4-히드록시-1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딘의 제조방법 - Google Patents

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KR100244572B1
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나까니시 히로유끼
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Abstract

[해결수단] (1) 4-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘와, 포름알데하이드, 파라프롬알데하이드 및 트리옥산으로 되는 군에서 선택되는 적어도 하나의 화합물을, 소망에 의해서 개미산을 첨가하여 반응시키는 공정, (2) 염기를 첨가하여 상기 반응생성물을 중화하는 공정, (3) 중화 후, 수층과 조제생성물을 분리하여, 이 조제생성물을 정석, 여과하고 수분농도3중량% 이하인 4-하이드록시-1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딘의 결정을 취득하는 공정을 포함한 것을 특징으로 하는 4-하이드록시-1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딘의 제조방법.
[효과] 본 발명에 의하면, 목적으로 하는 N-메틸-TAAM 중의 수분을 저하시킬 수 있다. 또 중화 후의 수층을 반복사용하는 것이 가능하여, 폐수를 줄일 수 있다.

Description

[발명의 명칭]
4-히드록시-1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딘의 제조방법
[발명의 상세한 설명]
[발명의 목적]
[발명이 속하는 기술분야 및 그 분야의 종래기술]
본 발명은 4-히드록시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘(트리아세톤알카민으로 알려진 것; 이하 "TAAM"이라 약칭하기도 한다)을 메틸화함으로써 4-히드록시-1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딘(이하 "N-메틸-TAAM"이라 약칭하기도 한다)을 제조하는 방법에 관한 것이다.
N-메틸-TAAM은 플라스틱의 광안정제로 사용되는 입체장해 피페리딘 화합물을 합성하기 위한 원료로서 유용하다.
N-메틸-TAAM은 예컨대 에시바일러-클라크반응(Eschweiler-Clarke reaction)으로 알려진 포름알데히드/의산을 사용한 TAAM의 N-메틸화와 같은 TAAM의 메틸화에 의해 제조한다. 이 반응은 하기와 같은 기구로 진행되는 것으로 추정되며, 그 중에서 의산은 에나민 중간체를 환원하는 역할을 하는 것으로 생각된다.
이 반응에 관해서는 미국 특허 3,364,220 및 일본국 특개평 2-212479호 공보에 기재되어 있다.
미국 특허 3,364,220에는 37%의 포르말린 18g과 1%의 물을 함유한 의산 4ml를 TAAM 18g에 첨가하여 N-메틸화하고; 그 후에 그 반응 혼합물에 수산화 나트륨을 첨가하고; 에테르로 반응생성물을 추출함이 기재되어 있다.
일본국 특개평 2-212479호 공보에는 TAAM보다 적어도 20몰%가 많은 포름알데히드나 파라포름알데히드와 대략 화학양논적양의 의산을 반응시키고, 반응생성물의 증류 전에 그 반응 혼합물에 염기를 첨가함이 기재되어 있다.
[발명이 이루고자 하는 기술적 과제]
본 발명인 등이 수행한 연구에 의하면, TAAM과, 포름알데히드 또는 파라포름알데히드와, 필요에 따라 의산을 반응시켜서 N-메틸-TAAM을 제조할 경우에는 그 반응 생성물은 목적물인 N-메틸-TAAM 뿐 아니라 포름알데히드, 의산 등의 불순물과 물도 함유함을 발견하였다.
의산의 일부는 N-메틸-TAAM의 의산염의 형태로 존재한다. 이 의산염은 유기용매와의 상용성이 강해서 정석에 의한 단리/정제가 곤란하다.
따라서 그 순도와 수율을 향상시키기 위해서는 목적물의 단리/정제에 앞서 이들 불순물을 중화하여 제거할 필요가 있다.
중화는 상술한 방응생성물에 염기를 첨가함으로써 실시한다.
본 발명자들의 관찰한 바에 의하면, 중화 후에 수층으로부터 분리한 조제물에는 N-메틸-TAAM의 1 수염이 함유되어 있었다. 이 N-메틸-TAAM의 1 수염의 융점은 N-메틸-TAAM의 융점보다 무려 20℃나 낮은 50℃이었다. 따라서 정제 후에 저온으로 장시간에 걸쳐서 건조할 필요가 있다.
공업적인 관점에서 볼 때, 중화공정으로부터의 배출액 처리비용은 N-메틸-TAAM의 생산비를 제고하는 요인이 되고 있다.
상기 미국 특허 3,364,220에는 중화공정상의 반응계의 염기의 농도, 중화공정으로부터의 배출액 삭감 및 결정중 물 함량 저하등에 대한 아무런 기재도 없다.
일본국 특개평 2-212479에는 반응 혼합물을 생성하기 전에 NaOH 50%를 수용액을 첨가함이 기재되어 있다. 그러나 NaOH는 이미 계내에 존재하고 있는 물에 희석되고, 중화후의 수층내의 NaOH 농도에 대해서는 언급이 없다. 이 공보에는 배출액의 감소나 결정중 물 함량의 저하에 대한 기재도 없다.
[발명의 구성 및 작용]
이와 같은 사정을 감안하여 본 발명인 등은 N-메틸-TAAM에 대한 건조시간의 단축 및 중화공정으로부터의 배출액의 감소를 목표로 예의 검토하였다. 그 결과 놀랍게도 중화공정 후에 생기는 수층의 염기의 농도를 높이면 상기의 목적이 이루어짐을 발견하게 되었다.
본 발명은 하기의 공정으로 구성되는 4-히드록시-1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딘의 제조방법을 제공한다:
(i) 4-히드록시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘과 포름알데히드, 파라포름알데히드, 트리옥산으로 된 군중에서 선택한 적어도 하나의 화합물을, 필요에 따라 의산의 존재하에서, 반응시키고;
(ii) 공정(i)의 반응생성물에 염기를 첨가하여 중화하고;
(iii) 중화 후에 수층으로부터 조제품을 분리하고, 이 조제품을 정석, 여과하여 물의 함유량이 3 중량% 이하인 4-히드록시-1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딘의 결정을 얻는다.
본 발명에 의하면 최종 생성물인 N-메틸-TAAM의 수분함량을 감소시킬 수가 있다. 또한 중화 후에 생기는 수층을 반복해서 이용함으로써 배출액을 감소시킬 수가 있다.
한편 의산은 안전면에서 취급하기가 어려운 높은 부식성 물질이므로, 의산의 공급장치는 내부식성의 것이 요구되며, 그것이 N-메틸-TAAM의 생산비 제고의 1요인이 된다.
이와 같은 사정을 감안해서 본 발명인 등은 의산의 사용량을 감소하였더니, 놀랍게도 목적물인 N-메틸-TAAM이 고 수율로 얻어지는 것을 발견하여 본 발명을 완성하기에 이르렀다.
상술한 반응기구에 의하면 의산을 적어도 N-메틸-TAAM보다 적어도 동등 이상의 몰 사용할 필요가 있는 것으로 추정된다. 그러나 예상외로 의산의 양을 종래 필요하다고 생각했던 것보다 적게 사용하거나 심지어는 전혀 사용하지 않아도, 종래의 방법에 비해 높은 수율로 N-메틸-TAAM을 얻을 수가 있었다.
본 발명은 4-히드록시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘과 포름알데히드, 파라포름알데히드, 트리옥산으로 된 군중에서 선택한 적어도 하나의 화합물을, 필요에 따라 4-히드록시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘의 몰수보다 적은 양을 첨가한 의산의 존재하에서 반응시키는 공정으로 된 4-히드록시-1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딘의 제조방법을 제공한다.
TAAM을 포름알데히드로 N-메틸화함으로써 N-메틸-TAAM을 합성하는 반응에 있어서는 적어도 당량 이상의 의산을 사용하는 것이 불가피한 것으로 생각되어 왔다. 그러나 본 발명에 의하면, 설사 의산을 사용하지 않드라도 종래의 방법에 상당한 선택률과 높은 수율로 N-메틸-TAAM을 얻을 수가 있다.
본 발명에 의한 4-히드록시-1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딘의 제조방법상의 각 공정을 하기에 설명한다.
(i) 메틸화공정
원료인 TAAM은, 예를 들어 라니 니켈 또는 루테늄 등의 촉매의 존재하에서 물을 용매로 하여 4-옥소-2,2,6,6-테트라메틸피레리딘을 수소화함으로써 제조한다. 본 발명에서는 수소화 후의 생성액을 그대로 사용하거나, 농축 또는 단리/정제 후에 사용한다.
다음에 TAAM의 메틸화에 대해 설명한다.
포름알데히드, 파라포름알데히드 및 트리옥산은 단독으로 또는 조합해서 사용할 수가 있다. 포름알데히드, 파라포름알데히드 및 트리옥산으로 된 군중에서 선택한 적어도 하나의 화합물의 첨가량(포름알데이드로 환산)은 TAAM의 양의 통상 1∼4몰배, 바람직하기는 1.5∼3.0몰배이다. 상술한 화합물을 바람직한 범위내에서 사용하면 목적물이 고 수율로 얻어지며, 이어지는 중화공정에 사용되는 염기의 양을 적게할 수가 있다. 반응을 개시할 때는 TAAM에 포름알데히드, 파라포름알데히드 및 트리옥산으로 된 군중에서 선택한 적어도 하나의 화합물을 전부 한꺼번에 첨가하거나, 또는 먼저 화합물의 일부를 첨가하여 TAAM과 혼합하고 가열하겨 용융한 후에, 나머지를 반응 혼합물에 첨가할 수도 있다.
포름알데히드는 35∼37%의 수용액으로 하여 사용하는 것이 바람직하다.
의산의 첨가량은 TAAM의 양의 통상 0∼3몰배, 바람직하기는 0∼1몰배, 더욱 바람직하기는 1몰배 이하, 특히 바람직하기는 0∼0.5몰배이다. 첨가량 0(제로)은 의산을 첨가하지 않는 실시예를 의미한다. 본 발명에서는 그와 같은 실시예가 가장 이상적이다.
의산을 첨가할 때는 반응을 개시할 때 그 전부를 TAAM에 첨가하거나, 또는 먼저 그 일부를 포름알데히드, 파라포름알데히드 및 트리옥산으로 된 군중에서 선택한 적어도 하나의 화합물과 혼합하고 가열하여 용융하거나 용해한 후에, 나머지를 반응 혼합물에 공급할 수도 있다.
반응온도는 통상 60∼160℃, 바람직하기는 90∼160℃이다.
반응시간은 통상 1∼10시간, 바람직하기는 1∼2시간이다.
이 반응에는 용매를 사용할 수 있으며, 용매의 구체적인 예로서는 물, 메타놀을 들 수가 있다. 이 중에서도 물이 바람직하다.
반응 완료 전에 반응 혼합물의 온도를 120∼160℃, 바람직하기는 130∼160℃로 승온시키면 반응 혼합물로부터 물, 미반응 포름알데히드 및 의산, 2산화 탄소등의 부산물이 제거되어 농축된 형상의 N-메틸-TAAM을 제조할 수 있으므로 바람직하다. 반응은 통상 대기압하에서 실시한다.
특히 바람직한 반응조건을 하기에 예시한다. 우선 TAAM을 TAAM의 0.5∼1.0몰배(포름알데히드로 환산)의 포름알데히드, 파라포름알데히드 및 트리옥산으로 된 군중에서 선택한 적어도 하나의 화합물과 혼합하고, 이 혼합물을 가열하여 용융하거나 용해한다. 다음에 혼합물을 교반하면서 TAAM의 1.0∼2.0몰배(포름알데히드로환산)의 포름알데히드, 파라포름알데히드 및 트리옥산로 된 군중에서 선택한 적어도 하나의 화합물을 추가 공급하고, 반응 혼합물을 95∼100℃로 가열하여 0.5∼2시간 반응시킨다. 그 후에 생성 반응 혼합물을 약 140∼160℃로 승온하여 반응 혼합물중의 N-메틸-TAAM을 농축한다.
농축된 반응 혼합물중의 수분함량은 5중량% 이하가 바람직하다.
(i-1) 추출공정
농축된 반응 생성물을 중화 전에 물-불혼화성 유기용매로 추출하여 N-메틸-TAAM을 유기용매층내로 이행시킨다. 이렇게 함으로써 목적물의 수율을 향상시킨다.
그와 같은 유기용매의 구체례로서는 벤젠, 톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소 용매; n-헥산, n-헵탄, 시클로헥산, 시클로헵탄 등의 지방족 또는 지환족 탄화수소; 에테르를 들 수가 있다.
이들 대신에 후술하는 공정(iii)에서 수행되는 정석에서 생성하는 모액을 유기용매로서 사용할 수도 있다.
유기용매의 사용량은 반응 생성물의 통상 1∼3중량배, 바람직하기는 1∼1.5중량배이다.
(ii)중화공정
중화는 필요에 따라 농축 및/또는 추출한 반응 생성물에 염기를 첨가함으로써 실시한다. 이 경우에 중화 후에 생긴 수층의 염기의 농도는 4-히드록시-1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딘 결정중의 수분 함량이 3중량% 이하가 되도록 조정한다. 중화 후에 생긴 수층의 염기의 농도가 통상 25중량% 이상, 바람직하기는 25∼50중량%, 더욱 바람직하기는 27∼50중량%가 되도록 염기를 첨가한다.
중화 후의 수층의 염기의 농도를 이와 같이 높이면, 목적물인 N-메틸-TAAM의 1 수염의 비율이 적게 되어 결정의 건조시간을 단축시킬 수 있다.
염기는 농도를 통상 30∼50중량%, 바람직하기는 35∼50중량%의 수용액으로 하여 첨가한다. 이렇게 가해진 염기는 반응 생성물에 함유된 물에 의해 희석된다. 그러나 미리 상술한 농축조작을 하여 수분함량을 감소시키면 염기의 농도를 높게 유지할 수가 있다.
그 결과 중화 후에 조제 생성물을 분리한 수층을 중화공정으로 재순환시킬수가 있어 배출액이 저감된다.
염기로서는 수산화 나트륨, 수산화 칼륨 등을 열거할 수 있다.
염기의 사용량은 통상 N-메틸-TAAM의 0.1∼1.5몰배, 바람직하기는 0.2∼1.0몰배이다.
(iii)분리/정석공정
중화 후에 수층으로부터 조제 생성물을 분리하고, 이 조제 생성물로부터 N-메틸-TAAM을 정석하여 단리, 정제한다. 조제 생성물로부터 분리된 수층은 중화공정으로 재순환할 수가 있다.
정석 용매로서는 벤젠, 톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소 용매; n-헥산, n-헵탄, 시클로헥산, 시클로헵탄 등의 지방족 또는 지환족 탄화수소; 에테르를 들수가 있다. 이 중에서 지방족 또는 지환족 탄화수소가 특히 바람직하다.
정석 후에 여과하여 N-메틸-TAAM결정(이하 "웨트 케이크"라 하기도 한다)을 얻는다.
웨트 케이크의 물 함유량은 통상 3중량% 이하, 바람직하기는 2중량% 이하이다.
웨트 케이크는 종래의 방법에 의해 건조한다. 본 발명의 방법에 의해 얻은 웨트 케이크는 수분함량이 적으므로, 건조를 용이하게 할 수 있다.
필요할 경우에는 정석시에 생성한 모액을 추출용매로서 상기한 공정(i-1)으로 재순환할 수가 있다.
또한 본 발명은 4-히드록시-1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딘의 다른 제조방법도 제공한다. 이 다른 제조방법에 의하면, 4-히드록시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘과 포름알데히드, 파라포름알데히드, 트리옥산으로 된 군중에서 선택한 적어도 하나의 화합물을, 필요에 따라 4-히드록시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘의 몰수보다 적은 양을 첨가한 의산의 존재하에서 메틸화하고; 그 후에 반응 생성물 또는 농축된 반응 생성물(이하 "조제 생성물"이라 한다)을 증류 또는 정석하여 목적으로 하는 N-메틸-TAAM을 단리/정제한다. 이 방법에 의한 각 공정은 상술한 것과 동일하다.
증류, 정석 등의 조작 전에 물과 거의 혼화하지 않는 유기용매를 조제 생성물에 첨가함으로써, N-메틸-TAAM을 유기용매상으로 이행시킨다. 이와 같은 유기용매로서는 벤젠, 톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소 용매; n-헥산, n-헵탄, 시클로헥산, 시클로헵탄 등의 지방족 또는 지환족 탄화수소; 에테르를 열거할 수가 있다.
염기를 조제 생성물(유기용매상으로 이행한 후가 바람직 함)에 첨가하여, 여분의 포름알데히드 및 의산(반응에 의해 생성된 N-메틸-TAAM의 의산염 포함)을 중화한다. 다음에 수층을 분리하여 제거한다. 그 후에 증류나 정석을 하는 것이 바람직하다. 중화 후에 수층을 중화공정으로 다시 재순환하여도 좋다. 염기로서는 수산화 나트륨, 수산화 칼륨, 암모니아 등을 열거할 수 있다.
증류는, 예를 들어 온도 100∼150℃, 압력 1기압∼2.7kPa 범위하에서 실시한다.
정석용매로서는 벤젠, 톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소 용매; n-헥산, n-헵탄, 시클로헥산, 시클로헵탄 등의 지방족 또는 지환족 탄화수소; 에테르를 사용할 수가 있다.
정석 후에 여과, 건조하여 목적으로 하는 N-메틸-TAAM의 결정을 얻는다. 정석시에 생성하는 모액을 재순환하여 조제 생성물에 첨가할 수 있다.
[실시예]
다음에 본 발명을 하기의 실시예에 의해 더욱 구체적으로 설명하거니와, 본발명의 범위는 이들 실시예 한정되는 것은 아니다.
[실시예 1]
(1) 수분함량이 10%인 TAAM(TAAM: 1.0몰)과 37%의 포르말린(HCHO: 1.0몰)을 충전탑(10x 1cm
Figure kpo00002
) 부착 반응용기에 주입하고, 혼합물을 70℃로 가열, 용융하였다. 온도를 98℃(환류온도)로 승온 후에, 37%의 포르말린(HCHO: 1.0몰)을 1시간에 걸쳐 공급하고, 대기압에서 다시 1시간 반응시켰다. 이어서 반응 혼합물을 2시간에 걸쳐 140℃로 승온하여 농축하였다.
반응 수율을 99몰%이상이었다. 농축액 및 증류수의 각 성분 농도를 표 1에 나타낸다.
Figure kpo00003
(2) 상기 (1)에서 얻은 농축액을 60℃까지 방치하여 냉각하였다. 다음에 농축액의 1.5중량배의 헥산(Mitsui Petrochemical Industries, Ltd. 제; 비점: 68℃)을 첨가하여 N-메틸-TAAM을 유층으로 추출하였다. 이어서 NaOH/N-메틸-TAAM의 몰비가 0.2, 0.5, 1.0이 되도록 48중량%의 수산화 나트륨 수용액을 첨가하였다.
잠시동안 방치한 후에 유층과 수층을 분리하였다. 유층을 서서히 5℃까지 냉각하면, 21℃ 부근에서 결정이 정출하기 시작하였다. 결정을 헥산으로 수회 헹구어서 여과하였다.
웨트 케이크의 몰 함유량 및, 중화 후에 얻어진 수층의 NaOH 농도를 표 2에 나타낸다.
[웨트 케이크의 물 함유량 측정방법]
여과 후에 얻어진 결정 0.3g을 JIS-K-0068에 준해 카르 피셔 수분측정장치(Kyoto Electronics Industries 제, Model MKC-210)에 의해 측정하였다.
Figure kpo00004
[실시예 2]
NaOH/N-메틸-TAAM의 몰비를 0.5로 하고, 첨가하는 NaOH를 변화시킨 이외는 실시예 1과 마찬가지로 조작하였다.
얻어진 웨트 케이크를 60℃, 1.4kPa의 압력하에서 2시간 건조하였다.
그 결과를 표 3에 나타낸다.
Figure kpo00005
[실시예 3]
NaOH/N-메틸-TAAM의 몰비를 0.5로 하고; 첨가하는 NaOH의 농도를 48중량%로 하고; 중화 후에 얻어진 수층을 중화공정으로 재순환하는 이외는 실시예 1과 마찬가지로 조작하였다.
그 결과를 표 4에 나타낸다.
Figure kpo00006
[실시예 4]
NaOH/N-메틸-TAAM의 몰비를 0.5로 하고; 첨가하는 NaOH의 농도를 48중량%로 하고; 정석시에 생성한 모액을 추출공정으로 2회 재순환한 이외는 실시예 1과 마찬가지로 조작하였다.
얻어진 웨트 케이크를 60℃, 1.4kPa의 압력하에서 2시간 건조하였다. 건조후의 N-메틸-TAAM의 수율을 98%, 수분함량은 0.5중량% 이하이었다.
[실시예 5]
80%의 TAAM 수용액과 37%의 포르말린을 반응용기에 주입하였다. 혼합물을 100℃까지 가열하여 하기 표 5에 기재한 조건으로 반응시켰다. 그 결과를 표 5에 나타낸다.
Figure kpo00007
[실시예 6]
80%의 TAAM 수용액과 37%의 포르말린을 충전탑(10x 1cm
Figure kpo00008
) 부착 반응용기에 주입하고, 혼합물을 90℃로 가열, 용해하였다. 다음에 혼합물을 98℃(환류온도)로 승온 후에, 대기압에서 1시간 반응시켰다. 이어서 반응 혼합물을 2시간에 걸쳐 140℃로 승온하여 농축하였다. 그 결과를 표 6에 나타낸다.
Figure kpo00009
[실시예 7]
80%의 TAAM 수용액(TAAM: 1.0몰)과 37%의 포르말린(HCHO: 1.0몰)을 충전탑(10x 1cm
Figure kpo00010
) 부착 반응용기에 주입하고, 혼합물을 70℃로 가열, 용해하였다. 다음에 혼합물을 98℃(환류온도)로 승온 후에, 37%의 포르말린(HCHO: 1.3몰)을 1시간에 걸쳐 공급하였다. 이어서 반응 혼합물을 대기압에서 2시간에 걸쳐 반응시켰다. 이어서 반응 혼합물을 1시간에 걸쳐 140℃로 승온하여 농축하였다. N-메틸-TAAM의 수율은 99몰%이었다.
[참조예 1]
80%의 TAAM 수용액과 37%의 포르말린(HCHO: 1.0몰)과 의산을 TAAM : HCHO : HCOOH =1 : 2 : 1이 되도록 반응용기에 주입하였다. 혼합물을 100℃, 대기압에서 8시간에 걸쳐 반응시켰다.
그 결과 TAAM 전화율은 99몰%, N-메틸-TAAM의 선택률은 99몰%, N-메틸-TAAM의 수율은 98몰%이었다.
[발명의 효과]
본 발명에 의하면 최종 생성물인 N-메틸-TAAM의 수분함량을 감소시킬 수가 있으며, 또한 중화 후에 생기는 수층을 반복해서 이용함으로써 배출액을 감소시킬 수가 있다.

Claims (3)

  1. (i) 4-히드록시-2,2,6,6,-테트라메틸피페리딘과 포름알데히드, 파라포름알데히드, 트리옥산으로 된 군중에서 선택한 적어도 하나의 화합물을 반응시키고; (ii) 공정(i)의 반응생성물에 염기를 첨가하고 중화하고; (iii) 중화 후에 수층으로부터 조제생성물을 분리하고, 이 조제생성물을 정석, 여과하는 공정으로 되고 공정(iii)에서 얻어지는 4-히드록시-1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딘의 결정의 물 함유량이 3중량%이하로 되도록 중화후에 얻어진 수층의 염기농도를 25중량%이상으로 조절하는 4-히드록시-1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딘의 제조방법.
  2. 제1항에 있어서, 중화에 사용하는 염기가 수산화 나트륨인 것이 특징인 4-히드록시-1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딘의 제조방법.
  3. 제1항에 있어서, 중화 후에 조제 생성물로부터 분리된 수층을 중화공정(ii)으로 재순환함을 특징으로 하는 4-히드록시-1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딘의 제조방법.
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Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20050182828A1 (en) * 1999-04-21 2005-08-18 Interactual Technologies, Inc. Platform specific execution
KR100583255B1 (ko) * 1999-06-05 2006-05-24 주식회사 케이티피 트리옥산 조성물 및 트리옥산 조성물을 중합하여 얻어지는 폴리아세탈수지 및 수지의 제조방법
CN106008321B (zh) * 2016-05-23 2018-08-21 杭州欣阳三友精细化工有限公司 一种uv292的制备方法
CN110655487A (zh) * 2018-06-29 2020-01-07 江苏紫奇化工科技有限公司 一种1,2,2,6,6-五甲基哌啶醇的合成方法
CN111675677B (zh) * 2020-07-13 2022-07-19 江苏富比亚化学品有限公司 一种n-甲基吗啉的合成工艺

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0375612A2 (de) * 1988-12-20 1990-06-27 Ciba-Geigy Ag Verfahren zur Herstellung von 4-Hydroxy-1,2,2,6,6-pentamethylpiperidin

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3364220A (en) * 1963-11-13 1968-01-16 Colgate Palmolive Co Heterocyclicaminoalkylguanidines
US3974127A (en) * 1973-09-17 1976-08-10 E. I. Du Pont De Nemours And Company Alkylene oxide condensates of tetramethylpiperidine alcohols or glycols
DE3669154D1 (de) * 1985-12-06 1990-04-05 Ciba Geigy Ag Verfahren zur herstellung von 1-(2-hydroxyethyl)-2,2,6,6-tetramethyl-4-hydroxy-piperidin.

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0375612A2 (de) * 1988-12-20 1990-06-27 Ciba-Geigy Ag Verfahren zur Herstellung von 4-Hydroxy-1,2,2,6,6-pentamethylpiperidin

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