JPH02212479A - 4―ヒドロキシ―1,2,2,6,6―ペンタメチルピペリジンの製造方法 - Google Patents
4―ヒドロキシ―1,2,2,6,6―ペンタメチルピペリジンの製造方法Info
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- JPH02212479A JPH02212479A JP1330973A JP33097389A JPH02212479A JP H02212479 A JPH02212479 A JP H02212479A JP 1330973 A JP1330973 A JP 1330973A JP 33097389 A JP33097389 A JP 33097389A JP H02212479 A JPH02212479 A JP H02212479A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D211/00—Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings
- C07D211/04—Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
- C07D211/06—Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D211/36—Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
- C07D211/40—Oxygen atoms
- C07D211/44—Oxygen atoms attached in position 4
- C07D211/46—Oxygen atoms attached in position 4 having a hydrogen atom as the second substituent in position 4
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Hydrogenated Pyridines (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は4−オキソ−2,2,6,6−テトラメチルピ
ペリジン(トリアセトンアミンとして知られている。以
下TAAと略記する。)を接触還元し1次いで得られる
2、2,6.6−テトラメチル−4−ヒドロキシピペリ
ジン(以下HTMPと略記する。)をホルムアルデヒド
またはパラホルムアルデヒドと反応させ、続いて蒸留に
より粗生成物を仕上げることにより4−ヒドロ キシ−
1,2,2,8,6−ベンタメチルゼベリジン(以下H
PMPと略記する。)を製造する方法に関する。
ペリジン(トリアセトンアミンとして知られている。以
下TAAと略記する。)を接触還元し1次いで得られる
2、2,6.6−テトラメチル−4−ヒドロキシピペリ
ジン(以下HTMPと略記する。)をホルムアルデヒド
またはパラホルムアルデヒドと反応させ、続いて蒸留に
より粗生成物を仕上げることにより4−ヒドロ キシ−
1,2,2,8,6−ベンタメチルゼベリジン(以下H
PMPと略記する。)を製造する方法に関する。
(従来の技術及び発明が解決しようとする課題)HPM
Pはプラスチックに対する光および熱安定剤として有用
であるが、しかし特に立体障害ピペリジン化合物の種類
から数多くの光安定化添加剤を合成するための価値ある
中間体である。
Pはプラスチックに対する光および熱安定剤として有用
であるが、しかし特に立体障害ピペリジン化合物の種類
から数多くの光安定化添加剤を合成するための価値ある
中間体である。
HPMPは好適にはHTMPのメチル化により製造され
る。この目的に役立つ数多くのメチル反応は文献から知
られる0例えばホルムアルデヒド/蟻酸との反応はエッ
シュウェイラー・クラーク反応(Escbwefler
−C1arkereaction)として知られてい
る。これに関しては、Helマ。
る。この目的に役立つ数多くのメチル反応は文献から知
られる0例えばホルムアルデヒド/蟻酸との反応はエッ
シュウェイラー・クラーク反応(Escbwefler
−C1arkereaction)として知られてい
る。これに関しては、Helマ。
Chin、 Acta 49(1) 、880
〜895 (19H)Farmatgiva 1
3 (3) 、 11−1? (1983) 、 U
、 SP 4,001,189 (6櫃)及びU
、 S 、 P3.1174゜127 (5欄)を参
照。
〜895 (19H)Farmatgiva 1
3 (3) 、 11−1? (1983) 、 U
、 SP 4,001,189 (6櫃)及びU
、 S 、 P3.1174゜127 (5欄)を参
照。
各側に於て使用される出発物質は純粋であるかまたは商
業的に入手しうるHTMPである。
業的に入手しうるHTMPである。
後者は、TAAから通常の還元方法、特に接触水素添加
及び最終生成物の単離により製造される(例えばスイス
特許明細書802,844参照)。
及び最終生成物の単離により製造される(例えばスイス
特許明細書802,844参照)。
かくして、従来技術によるとTAAからHPMPの製造
に於ては中間体H’rMPを単離及び精製することが必
要である。HPMPの合成に関するこれら公知の方法の
基本的に不利な点は、HPMPを容認できる収率で得よ
うとするならば、今まで常に中間体HTMPは、更に反
応させる前に、例えば塩析または再結晶により、単離お
よび/または精製しなければならなかった。しかしなが
らHTMPの単離は収率に於て損失を伴い、時間の浪費
であり、そして環境汚染をもたらす。
に於ては中間体H’rMPを単離及び精製することが必
要である。HPMPの合成に関するこれら公知の方法の
基本的に不利な点は、HPMPを容認できる収率で得よ
うとするならば、今まで常に中間体HTMPは、更に反
応させる前に、例えば塩析または再結晶により、単離お
よび/または精製しなければならなかった。しかしなが
らHTMPの単離は収率に於て損失を伴い、時間の浪費
であり、そして環境汚染をもたらす。
更にU 、 S 、 P 4,731,448号明細書
はピペリジン光安定剤の製造のための他の中間体、特に
1−(2−ヒドロキシエチル)−2,2,6゜6−チト
ラメチルビベリジンを、TAAから2段階で、中間体を
単離することなく、製造する方法を開示しているが、こ
の方法の第2工程は完全に異った型の反応、即ちエチレ
ンキサイドとの反応である。
はピペリジン光安定剤の製造のための他の中間体、特に
1−(2−ヒドロキシエチル)−2,2,6゜6−チト
ラメチルビベリジンを、TAAから2段階で、中間体を
単離することなく、製造する方法を開示しているが、こ
の方法の第2工程は完全に異った型の反応、即ちエチレ
ンキサイドとの反応である。
(8題を解決するための手段)
今や、HPMPがTAAから、上記した欠点を伴うこと
なく、特にHTMPを単離することなく、純粋な水性媒
体中で接触水素添加を実施し、得られる粗HTMP溶液
を、好ましくは前もうてにより蒸留により濃縮し、ホル
ムアルデヒドおよび蟻酸と反応させることにより得られ
ることが見出された。
なく、特にHTMPを単離することなく、純粋な水性媒
体中で接触水素添加を実施し、得られる粗HTMP溶液
を、好ましくは前もうてにより蒸留により濃縮し、ホル
ムアルデヒドおよび蟻酸と反応させることにより得られ
ることが見出された。
従って、本発明は、4−オキソ−2,2゜6.6−テト
ラメチルピペリジン(TAA)を、溶媒として水中に於
て接触水素添加して4−ヒドロキシ−2,2,6,6−
チトラメチルビペリジン(HTMP)に還元し、生成す
る粗HTMP溶液を、得られたままでまたは蒸留により
濃縮した後に、ホルムアルデヒドまたはパラホルムアル
デヒド及び蟻酸と70〜夏50℃にて、HTMPを精製
および/または単離することなく、各場合に於てHTM
Pにもとづいて少くとも20モル%過剰のホルムアルデ
ヒドまたはパラホルムアルデヒドと、はぼ化学量論量の
蟻酸を使用して反応させ、反応混合物の水性相を粗生成
物の相から分離し、そして該生成物の相を蒸留により仕
上げることからなる4−オキソ−2,2,6,6−チト
ラメチルビベリジン(T A A)から4−ヒドロキシ
−1,2,2゜6.6−ペンタメチルピペリジン(HP
MP)を製造する方法である。
ラメチルピペリジン(TAA)を、溶媒として水中に於
て接触水素添加して4−ヒドロキシ−2,2,6,6−
チトラメチルビペリジン(HTMP)に還元し、生成す
る粗HTMP溶液を、得られたままでまたは蒸留により
濃縮した後に、ホルムアルデヒドまたはパラホルムアル
デヒド及び蟻酸と70〜夏50℃にて、HTMPを精製
および/または単離することなく、各場合に於てHTM
Pにもとづいて少くとも20モル%過剰のホルムアルデ
ヒドまたはパラホルムアルデヒドと、はぼ化学量論量の
蟻酸を使用して反応させ、反応混合物の水性相を粗生成
物の相から分離し、そして該生成物の相を蒸留により仕
上げることからなる4−オキソ−2,2,6,6−チト
ラメチルビベリジン(T A A)から4−ヒドロキシ
−1,2,2゜6.6−ペンタメチルピペリジン(HP
MP)を製造する方法である。
第1工程(接触水素添加)は溶媒として水中で通常の水
声添加触媒、特に金属及び貴金属触媒を使用して、既知
の方法で実施される。特に適当な触媒はう木イニッケル
であり、そして特別には木炭に担持したルテニウムであ
る。水素添加は好ましくは、スイス特許明細書1302
.844に開示された方法で実施される。
声添加触媒、特に金属及び貴金属触媒を使用して、既知
の方法で実施される。特に適当な触媒はう木イニッケル
であり、そして特別には木炭に担持したルテニウムであ
る。水素添加は好ましくは、スイス特許明細書1302
.844に開示された方法で実施される。
水素添加後に得られるHTMP溶液は、更に直接に使用
することができる0例えば、それはホルムアルデヒドま
たはパラホルムアルデヒドと蟻酸と反応させる。しかし
ながら、この反応の前に、粗溶液の容量を減少させるこ
とが好ましい、これは、減圧下または好ましくは常圧下
の蒸留によりなされる。
することができる0例えば、それはホルムアルデヒドま
たはパラホルムアルデヒドと蟻酸と反応させる。しかし
ながら、この反応の前に、粗溶液の容量を減少させるこ
とが好ましい、これは、減圧下または好ましくは常圧下
の蒸留によりなされる。
本発明の好ましい態様に於ては、粗HTMP溶腋の少く
とも10%、特に少くとも20%例えば少くとも30%
を留出させる。かくして約10〜90%、例えば10〜
80%、好ましくは10〜60%または10〜50%、
例えば10〜40%、または20〜50%、最も好まし
くは20〜40%の溶液を留出することが可能である。
とも10%、特に少くとも20%例えば少くとも30%
を留出させる。かくして約10〜90%、例えば10〜
80%、好ましくは10〜60%または10〜50%、
例えば10〜40%、または20〜50%、最も好まし
くは20〜40%の溶液を留出することが可能である。
しかしながら、また、粗溶液を粗HTMP溶融体のみが
残るまで濃縮することも可能であり、該溶融体は次いで
ホルムアルデヒドまたはパラホルムアルデヒrおよび’
l!i酸と直接反応される。
残るまで濃縮することも可能であり、該溶融体は次いで
ホルムアルデヒドまたはパラホルムアルデヒrおよび’
l!i酸と直接反応される。
未発明の工程の他の可能の態様に於ては、粗HTMP溶
液は少くとも20%、好ましくは少くとも30%そして
より好ましくは40%のHTMPI度まで濃縮される。
液は少くとも20%、好ましくは少くとも30%そして
より好ましくは40%のHTMPI度まで濃縮される。
かくして、蒸留後、粗溶液は例えば20〜90%、好ま
しくは30〜90%、最も好ましくは40〜90%、例
えば50〜90%のHTMP1I度を有することができ
る。
しくは30〜90%、最も好ましくは40〜90%、例
えば50〜90%のHTMP1I度を有することができ
る。
粗HTMP溶液の蒸留は常圧下に実施しても良い、もし
、蒸留が減圧下に実施されるならば、この圧力は便利に
は、100〜900 、特に100〜300 mbar
であるであろう0選ばれる圧力により、二層混合物は例
えば30〜100 ”0の範囲の温度に於て留出し、捨
てられる。
、蒸留が減圧下に実施されるならば、この圧力は便利に
は、100〜900 、特に100〜300 mbar
であるであろう0選ばれる圧力により、二層混合物は例
えば30〜100 ”0の範囲の温度に於て留出し、捨
てられる。
濃縮されても、または濃縮されなくても良い粗HTMP
溶液の更なる反応は70〜tso”cで生じる。この反
応は好ましくは70− 120℃、特に70〜100℃
で実施される。後者の場合には常圧を採用することがで
きる。ioo℃以上の温度に於ては1反応は圧力容器(
例えばオートクレーブ)中で実施される。もしも反応温
度が1例えば120℃であるならば、圧力は約2.5〜
3バールに調節される0反応温度は最も好しくは85〜
100℃である。
溶液の更なる反応は70〜tso”cで生じる。この反
応は好ましくは70− 120℃、特に70〜100℃
で実施される。後者の場合には常圧を採用することがで
きる。ioo℃以上の温度に於ては1反応は圧力容器(
例えばオートクレーブ)中で実施される。もしも反応温
度が1例えば120℃であるならば、圧力は約2.5〜
3バールに調節される0反応温度は最も好しくは85〜
100℃である。
ホルムアルデヒドまたはパラホルムアルデヒドはHTM
Pにもとづいて少くとも20モル%過剰に於て使用され
る。
Pにもとづいて少くとも20モル%過剰に於て使用され
る。
少くとも40%過剰に使用することが都合が良い、技術
的理由に衿てば、この過剰には上限がない、上限は実際
上は経済的理由のためのみ存在する。
的理由に衿てば、この過剰には上限がない、上限は実際
上は経済的理由のためのみ存在する。
都合の良いモル過剰は通常20〜100%、好ましくは
40〜100%そして最も好ましくは40〜70%例え
ば約60%である。
40〜100%そして最も好ましくは40〜70%例え
ば約60%である。
ホルムアルデヒドは便利には、水性溶液の形態例えば2
7〜50%、または好ましくは37%ホルマリンとして
使用される。
7〜50%、または好ましくは37%ホルマリンとして
使用される。
@酸はHTMPにもとづいてほぼ化学量論的量に於て、
使用される。若干過剰は反応を妨げるものでないことは
自明である。
使用される。若干過剰は反応を妨げるものでないことは
自明である。
反応が完了した時1反応温合物は二相である。それは上
方の生成物相(粗生成物”粗溶融体″)と下方の水性相
とからなる。更に仕上げるために、水性相は粗HTMP
溶融体から分離される。
方の生成物相(粗生成物”粗溶融体″)と下方の水性相
とからなる。更に仕上げるために、水性相は粗HTMP
溶融体から分離される。
これは、適当に、例えば反応容器の底部から水性相を放
出することによりなされる。粗溶融体は蒸留により仕上
げる。
出することによりなされる。粗溶融体は蒸留により仕上
げる。
これは、まず通常の蒸留容器中で、好ましくは減圧下1
例えば1000〜30mbarの真空下で低沸点副産物
を留出することによりなされる。特に沸点が150℃以
下の容易に揮発する留分がこの工程で除かれる。この工
程が完了した時、木質的ではないが、約30〜10■b
ar及び約80−110℃例えば90〜100℃にて高
沸点副産物をストリップすることが便利である。HPM
Pそれ自身の蒸留は、好ましくは、10〜2 mbar
及び112℃の頂点温度で実施される。
例えば1000〜30mbarの真空下で低沸点副産物
を留出することによりなされる。特に沸点が150℃以
下の容易に揮発する留分がこの工程で除かれる。この工
程が完了した時、木質的ではないが、約30〜10■b
ar及び約80−110℃例えば90〜100℃にて高
沸点副産物をストリップすることが便利である。HPM
Pそれ自身の蒸留は、好ましくは、10〜2 mbar
及び112℃の頂点温度で実施される。
本発明の別の態様に於ては、水と殆んど混和しない、そ
してHPMPを溶解する有機溶媒が相分離の前に反応混
合物に添加される。その場合、HPMPは有機相に移行
し、該有機相は水性相から分離することができる0次い
で、有機溶媒は蒸留により除去され、残存する粗HPM
P溶融体は前述したように蒸留により仕上げられる。適
当な有機溶媒は種々の石油エーテル留分、ベンゼン、ト
ルエン及びキシレンのような脂肪族、指環族、または芳
香族、炭化水素である。
してHPMPを溶解する有機溶媒が相分離の前に反応混
合物に添加される。その場合、HPMPは有機相に移行
し、該有機相は水性相から分離することができる0次い
で、有機溶媒は蒸留により除去され、残存する粗HPM
P溶融体は前述したように蒸留により仕上げられる。適
当な有機溶媒は種々の石油エーテル留分、ベンゼン、ト
ルエン及びキシレンのような脂肪族、指環族、または芳
香族、炭化水素である。
着し望むならば、HPMP留分は、次いで適当な方法に
より、より好ましい貯蔵安定性を持ちそしてより取扱い
やすい形態を与えるために粒状化される。
より、より好ましい貯蔵安定性を持ちそしてより取扱い
やすい形態を与えるために粒状化される。
反応混合物を仕上げる前に1例えば粗生成物を分離する
前または有機溶媒の添加前または添加後に、塩基、例え
ば有機アミンまたは好ましくはアルカリ金属またはアル
カリ土類全水酸化物、特にKOHまたはN a OI(
を添加することにより過剰のホルムアルデヒドを破壊す
る。
前または有機溶媒の添加前または添加後に、塩基、例え
ば有機アミンまたは好ましくはアルカリ金属またはアル
カリ土類全水酸化物、特にKOHまたはN a OI(
を添加することにより過剰のホルムアルデヒドを破壊す
る。
この目的のために使用される量は過剰のホルムアルデヒ
ドを除くために十分な量であるべきである。化学量論量
より過剰のホルムアルデヒドを破壊するため必要である
理論量よりも少くとも30%多い塩基を添加することが
好ましい。
ドを除くために十分な量であるべきである。化学量論量
より過剰のホルムアルデヒドを破壊するため必要である
理論量よりも少くとも30%多い塩基を添加することが
好ましい。
未発明の工程は回分式または連続的に実施することがで
きる。
きる。
特に第2工程は、好ましくはプロセス技術に於て使用さ
れる装置1例えば回転ディスク反応器またはカスケード
反応器により連続的に実施することができる。
れる装置1例えば回転ディスク反応器またはカスケード
反応器により連続的に実施することができる。
未発明の工程を連続的に実施するために可能な装置の例
は第1図に見出されるであろう。
は第1図に見出されるであろう。
好ましくはガスクロマトグラフィーにより粗粗溶液中の
HTMP濃度及び最終生成物溶液中のHPMP濃度を決
定するために通常の分析方法が使用される。
HTMP濃度及び最終生成物溶液中のHPMP濃度を決
定するために通常の分析方法が使用される。
(発明の効果)
大発明の方法は、HTMPを遊離することなく、TAA
からHPMPI高収率で得ることを可能とする。
からHPMPI高収率で得ることを可能とする。
工程は簡単に実施でき、時間が節約でき、また、今まで
使用された塩析や再結晶操作からもたらされる塩や溶媒
残渣がさけられるので環境的にも安全である。未発明の
工程の他の有利な結果は、より高い空間−時間、収率及
びより低い製造コストである。
使用された塩析や再結晶操作からもたらされる塩や溶媒
残渣がさけられるので環境的にも安全である。未発明の
工程の他の有利な結果は、より高い空間−時間、収率及
びより低い製造コストである。
HTMPのメチル化が、HTMPを単離しないことから
もたらされる高いレベルの副産物を有するにも拘らず、
実際に100%の転化率で行なわれること1反応が短時
間で完結することおよび最終生成物のより良い品質が達
成されることは、特に驚くべきこととして注目されるべ
きである。同様に高温(例えば100℃)に於ける選択
が低温(例えば70℃)に於けると全く同様に良好であ
るということは驚くべき事実である。
もたらされる高いレベルの副産物を有するにも拘らず、
実際に100%の転化率で行なわれること1反応が短時
間で完結することおよび最終生成物のより良い品質が達
成されることは、特に驚くべきこととして注目されるべ
きである。同様に高温(例えば100℃)に於ける選択
が低温(例えば70℃)に於けると全く同様に良好であ
るということは驚くべき事実である。
更にホルムアルデヒドの過剰が1本発明の工程では通常
の方法に於けるよりも、より少く保つことができる。ま
た形成されるC02は完全に除去される。
の方法に於けるよりも、より少く保つことができる。ま
た形成されるC02は完全に除去される。
(実施例)
次の実施例は本発明をより詳細に説明するものである。
特に述べない限りは1部及び百分率は、実施例に於ても
、詳細な説明の残りの全部及びクレームを通して、同様
に重量である。
、詳細な説明の残りの全部及びクレームを通して、同様
に重量である。
)(TMP及びHPMPの濃度は実施例ではガスクロマ
トグラフにより決定される。
トグラフにより決定される。
実jL医」2
蒸留したTAA (純度92〜98%) 1800kg
を水22001で稀釈し、70〜80℃で木炭上のルテ
ニウムの存在下で水素添加する0次いで触媒を濾過し、
粗HTMP溶液を1次の工程の前のタンクに貯蔵する。
を水22001で稀釈し、70〜80℃で木炭上のルテ
ニウムの存在下で水素添加する0次いで触媒を濾過し、
粗HTMP溶液を1次の工程の前のタンクに貯蔵する。
溶液中のHTMPW度は40%、収率は91〜97%。
1五亘」
実施例1により得られた粗HTMP溶液415gの37
%を、60〜100℃で共沸的に留出させる。留出物は
二相として得られる。
%を、60〜100℃で共沸的に留出させる。留出物は
二相として得られる。
残りの蒸留残渣(216g : HTMP含量約60%
)を50gのパラホルムアルデヒドと共に反応容器中に
入れる。混合物を86℃に加熱し、次いで57gの蝿#
(85%の水溶液として)を攪拌しながら20分にわた
って添加する0次いで反応混合物を還流温度に加熱し、
全反応時間が3時間になるまで攪拌する0次いで50%
水性NaOH85gを反応混合物に添加し、放置冷却す
る。上方の油状生成物相を分離し1通常の蒸留装置で蒸
留する。150℃以下の沸点を持つ容易に揮発する留分
は40℃の頂点温度及び1000〜30 mbarの真
空下で留出する。
)を50gのパラホルムアルデヒドと共に反応容器中に
入れる。混合物を86℃に加熱し、次いで57gの蝿#
(85%の水溶液として)を攪拌しながら20分にわた
って添加する0次いで反応混合物を還流温度に加熱し、
全反応時間が3時間になるまで攪拌する0次いで50%
水性NaOH85gを反応混合物に添加し、放置冷却す
る。上方の油状生成物相を分離し1通常の蒸留装置で蒸
留する。150℃以下の沸点を持つ容易に揮発する留分
は40℃の頂点温度及び1000〜30 mbarの真
空下で留出する。
次いで最初の留分を30〜11)sbar及び100℃
の頂点温度で取り去る0次いで主HPMP留分を10〜
2■bar及び112℃の頂点温度で留出させる。冷却
後、生成物を76℃で溶融する白色結晶の形で得る。蒸
留後の収率は使用されたHTMPにもとづいて理論値の
89%であす、蒸留前の粗生成物の収率は、99〜10
0%である。
の頂点温度で取り去る0次いで主HPMP留分を10〜
2■bar及び112℃の頂点温度で留出させる。冷却
後、生成物を76℃で溶融する白色結晶の形で得る。蒸
留後の収率は使用されたHTMPにもとづいて理論値の
89%であす、蒸留前の粗生成物の収率は、99〜10
0%である。
溶融生成物を粒状化により貯蔵のためのより1利な形態
に変換する。これは、冷却コンベア、6または冷却ドラ
ム上で行なわれる。
に変換する。これは、冷却コンベア、6または冷却ドラ
ム上で行なわれる。
支蓋撫」
実施例1により得られる粗HTMP#液422.8gの
47%を60−100℃で共沸的に留出させる。留出物
は二相として得られる。
47%を60−100℃で共沸的に留出させる。留出物
は二相として得られる。
残留する蒸留残渣(224g;HTMP濃度約70%)
を37%のホルマリン135gと共に反応容器中に入れ
る。混合物を86℃まで加熱し、次いで蝿#(85%水
性溶液として)57gを攪拌しながら20分にわたって
添加する0反応混合物を次いで還流温度まで加熱し、次
いで全反応時間が3時間になるまで攪拌する0次いで5
0%水性NaOH85gを反応混合物に添加し、放置冷
却する。更に仕上げは実施例2に述べられたものと全く
同様に実施される。HPMPの収率及び融点は実施例2
と同じである。
を37%のホルマリン135gと共に反応容器中に入れ
る。混合物を86℃まで加熱し、次いで蝿#(85%水
性溶液として)57gを攪拌しながら20分にわたって
添加する0反応混合物を次いで還流温度まで加熱し、次
いで全反応時間が3時間になるまで攪拌する0次いで5
0%水性NaOH85gを反応混合物に添加し、放置冷
却する。更に仕上げは実施例2に述べられたものと全く
同様に実施される。HPMPの収率及び融点は実施例2
と同じである。
実JLILA
135gのホルマリンの代りに50gのパラホルムアル
デヒドを用いる以外は実施例3を繰返す、HPMPは実
施例3または2と同じ純度及び収率で得られる。
デヒドを用いる以外は実施例3を繰返す、HPMPは実
施例3または2と同じ純度及び収率で得られる。
支ム1」
実施例1により製造された粗HTMP溶液417gの5
8%を60〜100℃で共沸的に留出させる。留出物は
二相で得られる。残りの蒸留残留物(175,4g S
HTMP含量約89%)を42gのパラホルムアルデ
ヒドと共に反応容器に入れる0反応混合物を86℃まで
加熱し、次いで蟻酸(85%水溶液として)57gを攪
拌しながら20分間にわたって添加する0次いで反応混
合物を還流温度まで加熱し、全反応時間が3時間になる
まで攪拌する。
8%を60〜100℃で共沸的に留出させる。留出物は
二相で得られる。残りの蒸留残留物(175,4g S
HTMP含量約89%)を42gのパラホルムアルデ
ヒドと共に反応容器に入れる0反応混合物を86℃まで
加熱し、次いで蟻酸(85%水溶液として)57gを攪
拌しながら20分間にわたって添加する0次いで反応混
合物を還流温度まで加熱し、全反応時間が3時間になる
まで攪拌する。
次いで50%水性NaOH85gを反応混合物に添加し
、放置冷却する。更に、実施例2と全く同様に仕上げを
実施する。HPMPの収率及び融点は実施例2と同じで
ある。
、放置冷却する。更に、実施例2と全く同様に仕上げを
実施する。HPMPの収率及び融点は実施例2と同じで
ある。
支嵐皇」
混合容器中に於て実施例1で得られた粗HTMP溶液1
00部を37%ホルマリン85部中に溶解する。この混
合物を80℃まで加熱し、計量ポンプにより反応器中に
供給する。該反応器中には36部の蟻酸(85%水性溶
液として)が、温度が86℃を越えないような割合で計
量されている。2時間の滞留時間の後、溶液は、該溶液
が石油エーテル留分(沸点範囲100〜140℃)と混
合されるスタテックミキサーを通して、他の容器にポン
プで送られ、該容器中で反応溶液は、NaOH30部で
抽出される。
00部を37%ホルマリン85部中に溶解する。この混
合物を80℃まで加熱し、計量ポンプにより反応器中に
供給する。該反応器中には36部の蟻酸(85%水性溶
液として)が、温度が86℃を越えないような割合で計
量されている。2時間の滞留時間の後、溶液は、該溶液
が石油エーテル留分(沸点範囲100〜140℃)と混
合されるスタテックミキサーを通して、他の容器にポン
プで送られ、該容器中で反応溶液は、NaOH30部で
抽出される。
水性相の分離は下降流液/液分離器(downstre
am 1iquid/ 1iquid 5epar
ator )中で生じる。更にN aOHによる抽出は
第2抽出装置中で実施する。最後に石油エーテルを蒸留
塔中で留出させ、粗溶融体を連続的に底部から排出する
。a溶融体を、次いで実施例2で記載した方法により蒸
留装置中で精製する。このようにして純粋のHPMPを
実施例2に示した収率及び純度で得る。更に、実施例2
と同様に好ましくは続いて造粒工程が行なわれる。
am 1iquid/ 1iquid 5epar
ator )中で生じる。更にN aOHによる抽出は
第2抽出装置中で実施する。最後に石油エーテルを蒸留
塔中で留出させ、粗溶融体を連続的に底部から排出する
。a溶融体を、次いで実施例2で記載した方法により蒸
留装置中で精製する。このようにして純粋のHPMPを
実施例2に示した収率及び純度で得る。更に、実施例2
と同様に好ましくは続いて造粒工程が行なわれる。
第1図は本発明の反応に使用される連続プラントの略図
である。
である。
Claims (15)
- (1)4−オキソ−2,2,6,6−テトラメチルピペ
リジンを、溶媒として、水中に於て接触水素添加して、
4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリ
ジンに還元し、生成する粗4−ヒドロキシ−2,2,6
,6−テトラメチルピペリジン溶液を得られたままで、
あるいは蒸留により濃縮した後に、ホルムアルデヒドま
たはパラホルムアルデヒド及び蟻酸と70〜150℃に
て、4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピ
ペリジンを精製および/または単離することなく、4−
ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン
にもとづいて、各々、少くとも20モル%過剰のホルム
アルデヒドまたはパラホルムアルデヒドとほぼ化学量論
量の蟻酸を使用して、反応させ、反応混合物の水性相を
粗生成物の相から分離し、そして該生成物の相を蒸留に
より仕上げることを特徴とする4−オキソ−2,2,6
,6−テトラメチルピペリジンから4−ヒドロキシ−1
,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジンを製造する
方法。 - (2)粗4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチ
ルピペリジン溶液を蒸留により濃縮する請求項(1)記
載の方法。 - (3)粗4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチ
ルピペリジンの溶液の少くとも10%を留去させる請求
項(2)記載の方法。 - (4)粗4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチ
ルピペリジンの溶液を少くとも20%の4−ヒドロキシ
−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン含量まで濃
縮する請求項(2)記載の方法。 - (5)溶液を、粗4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テ
トラメチルピペリジンの溶融体まで濃縮する請求項(2
)記載の方法。 - (6)4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチル
ピペリジンの溶液が蒸留することなしで更に処理される
請求項(1)記載の方法。 - (7)粗4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチ
ルピペリジンの溶液を連続的に反応させる請求項(1)
記載の方法。 - (8)粗4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチ
ルピペリジン溶液を回分式で反応させる請求項(1)記
載の方法。 - (9)粗4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチ
ルピペリジン溶液を70〜100℃で反応させる請求項
(1)記載の方法。 - (10)粗4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメ
チルピペリジン溶液をパラホルムアルデヒドまたは27
〜50%ホルマリンと反応させる請求項(1)記載の方
法。 - (11)ホルムアルデヒドまたはパラホルムアルデヒド
の過剰モル量が少くとも40%である請求項(1)記載
の方法。 - (12)蒸留した4−ヒドロキシ−1,2,2,6,6
−ペンタメチルピペリジンの最終生成物が、蒸留により
仕上げた後に造粒される請求項(1)記載の方法。 - (13)水と殆んど混和しない、そして4−ヒドロキシ
−1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジンを溶解
する有機溶媒が、粗生成物相の分離前に反応混合物に添
加され、そして、この有機相が水性層から分離される請
求項(1)記載の方法。 - (14)反応混合物の過剰のホルムアルデヒドが、粗生
成物相の分離前または有機溶媒の添加前または添加後に
、塩基の添加により破壊される請求項(1)または(1
3)記載の方法。 - (15)脂肪族または芳香族炭化水素が有機溶媒として
使用される請求項(13)記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CH04763/88-1 | 1988-12-20 | ||
CH476388 | 1988-12-20 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02212479A true JPH02212479A (ja) | 1990-08-23 |
JP2844482B2 JP2844482B2 (ja) | 1999-01-06 |
Family
ID=4282099
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1330973A Expired - Fee Related JP2844482B2 (ja) | 1988-12-20 | 1989-12-20 | 4―ヒドロキシ―1,2,2,6,6―ペンタメチルピペリジンの製造方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5840905A (ja) |
EP (1) | EP0375612B1 (ja) |
JP (1) | JP2844482B2 (ja) |
DE (1) | DE58909397D1 (ja) |
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CN103657732B (zh) * | 2013-10-16 | 2015-05-06 | 上海东升新材料有限公司 | SO42-∕TiO2-ZnO混晶固体酸载体配位催化剂的制备方法 |
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