JPH02212479A - 4―ヒドロキシ―1,2,2,6,6―ペンタメチルピペリジンの製造方法 - Google Patents

4―ヒドロキシ―1,2,2,6,6―ペンタメチルピペリジンの製造方法

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JPH02212479A
JPH02212479A JP1330973A JP33097389A JPH02212479A JP H02212479 A JPH02212479 A JP H02212479A JP 1330973 A JP1330973 A JP 1330973A JP 33097389 A JP33097389 A JP 33097389A JP H02212479 A JPH02212479 A JP H02212479A
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tetramethylpiperidine
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ワルター ウオルフ
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    • C07D211/04Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
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    • C07D211/40Oxygen atoms
    • C07D211/44Oxygen atoms attached in position 4
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  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は4−オキソ−2,2,6,6−テトラメチルピ
ペリジン(トリアセトンアミンとして知られている。以
下TAAと略記する。)を接触還元し1次いで得られる
2、2,6.6−テトラメチル−4−ヒドロキシピペリ
ジン(以下HTMPと略記する。)をホルムアルデヒド
またはパラホルムアルデヒドと反応させ、続いて蒸留に
より粗生成物を仕上げることにより4−ヒドロ キシ−
1,2,2,8,6−ベンタメチルゼベリジン(以下H
PMPと略記する。)を製造する方法に関する。
(従来の技術及び発明が解決しようとする課題)HPM
Pはプラスチックに対する光および熱安定剤として有用
であるが、しかし特に立体障害ピペリジン化合物の種類
から数多くの光安定化添加剤を合成するための価値ある
中間体である。
HPMPは好適にはHTMPのメチル化により製造され
る。この目的に役立つ数多くのメチル反応は文献から知
られる0例えばホルムアルデヒド/蟻酸との反応はエッ
シュウェイラー・クラーク反応(Escbwefler
 −C1arkereaction)として知られてい
る。これに関しては、Helマ。
Chin、  Acta   49(1)  、880
 〜895  (19H)Farmatgiva  1
3 (3) 、 11−1? (1983)  、 U
 、 SP 4,001,189  (6櫃)及びU 
、 S 、 P3.1174゜127  (5欄)を参
照。
各側に於て使用される出発物質は純粋であるかまたは商
業的に入手しうるHTMPである。
後者は、TAAから通常の還元方法、特に接触水素添加
及び最終生成物の単離により製造される(例えばスイス
特許明細書802,844参照)。
かくして、従来技術によるとTAAからHPMPの製造
に於ては中間体H’rMPを単離及び精製することが必
要である。HPMPの合成に関するこれら公知の方法の
基本的に不利な点は、HPMPを容認できる収率で得よ
うとするならば、今まで常に中間体HTMPは、更に反
応させる前に、例えば塩析または再結晶により、単離お
よび/または精製しなければならなかった。しかしなが
らHTMPの単離は収率に於て損失を伴い、時間の浪費
であり、そして環境汚染をもたらす。
更にU 、 S 、 P 4,731,448号明細書
はピペリジン光安定剤の製造のための他の中間体、特に
1−(2−ヒドロキシエチル)−2,2,6゜6−チト
ラメチルビベリジンを、TAAから2段階で、中間体を
単離することなく、製造する方法を開示しているが、こ
の方法の第2工程は完全に異った型の反応、即ちエチレ
ンキサイドとの反応である。
(8題を解決するための手段) 今や、HPMPがTAAから、上記した欠点を伴うこと
なく、特にHTMPを単離することなく、純粋な水性媒
体中で接触水素添加を実施し、得られる粗HTMP溶液
を、好ましくは前もうてにより蒸留により濃縮し、ホル
ムアルデヒドおよび蟻酸と反応させることにより得られ
ることが見出された。
従って、本発明は、4−オキソ−2,2゜6.6−テト
ラメチルピペリジン(TAA)を、溶媒として水中に於
て接触水素添加して4−ヒドロキシ−2,2,6,6−
チトラメチルビペリジン(HTMP)に還元し、生成す
る粗HTMP溶液を、得られたままでまたは蒸留により
濃縮した後に、ホルムアルデヒドまたはパラホルムアル
デヒド及び蟻酸と70〜夏50℃にて、HTMPを精製
および/または単離することなく、各場合に於てHTM
Pにもとづいて少くとも20モル%過剰のホルムアルデ
ヒドまたはパラホルムアルデヒドと、はぼ化学量論量の
蟻酸を使用して反応させ、反応混合物の水性相を粗生成
物の相から分離し、そして該生成物の相を蒸留により仕
上げることからなる4−オキソ−2,2,6,6−チト
ラメチルビベリジン(T A A)から4−ヒドロキシ
−1,2,2゜6.6−ペンタメチルピペリジン(HP
MP)を製造する方法である。
第1工程(接触水素添加)は溶媒として水中で通常の水
声添加触媒、特に金属及び貴金属触媒を使用して、既知
の方法で実施される。特に適当な触媒はう木イニッケル
であり、そして特別には木炭に担持したルテニウムであ
る。水素添加は好ましくは、スイス特許明細書1302
.844に開示された方法で実施される。
水素添加後に得られるHTMP溶液は、更に直接に使用
することができる0例えば、それはホルムアルデヒドま
たはパラホルムアルデヒドと蟻酸と反応させる。しかし
ながら、この反応の前に、粗溶液の容量を減少させるこ
とが好ましい、これは、減圧下または好ましくは常圧下
の蒸留によりなされる。
本発明の好ましい態様に於ては、粗HTMP溶腋の少く
とも10%、特に少くとも20%例えば少くとも30%
を留出させる。かくして約10〜90%、例えば10〜
80%、好ましくは10〜60%または10〜50%、
例えば10〜40%、または20〜50%、最も好まし
くは20〜40%の溶液を留出することが可能である。
しかしながら、また、粗溶液を粗HTMP溶融体のみが
残るまで濃縮することも可能であり、該溶融体は次いで
ホルムアルデヒドまたはパラホルムアルデヒrおよび’
l!i酸と直接反応される。
未発明の工程の他の可能の態様に於ては、粗HTMP溶
液は少くとも20%、好ましくは少くとも30%そして
より好ましくは40%のHTMPI度まで濃縮される。
かくして、蒸留後、粗溶液は例えば20〜90%、好ま
しくは30〜90%、最も好ましくは40〜90%、例
えば50〜90%のHTMP1I度を有することができ
る。
粗HTMP溶液の蒸留は常圧下に実施しても良い、もし
、蒸留が減圧下に実施されるならば、この圧力は便利に
は、100〜900 、特に100〜300 mbar
であるであろう0選ばれる圧力により、二層混合物は例
えば30〜100 ”0の範囲の温度に於て留出し、捨
てられる。
濃縮されても、または濃縮されなくても良い粗HTMP
溶液の更なる反応は70〜tso”cで生じる。この反
応は好ましくは70− 120℃、特に70〜100℃
で実施される。後者の場合には常圧を採用することがで
きる。ioo℃以上の温度に於ては1反応は圧力容器(
例えばオートクレーブ)中で実施される。もしも反応温
度が1例えば120℃であるならば、圧力は約2.5〜
3バールに調節される0反応温度は最も好しくは85〜
100℃である。
ホルムアルデヒドまたはパラホルムアルデヒドはHTM
Pにもとづいて少くとも20モル%過剰に於て使用され
る。
少くとも40%過剰に使用することが都合が良い、技術
的理由に衿てば、この過剰には上限がない、上限は実際
上は経済的理由のためのみ存在する。
都合の良いモル過剰は通常20〜100%、好ましくは
40〜100%そして最も好ましくは40〜70%例え
ば約60%である。
ホルムアルデヒドは便利には、水性溶液の形態例えば2
7〜50%、または好ましくは37%ホルマリンとして
使用される。
@酸はHTMPにもとづいてほぼ化学量論的量に於て、
使用される。若干過剰は反応を妨げるものでないことは
自明である。
反応が完了した時1反応温合物は二相である。それは上
方の生成物相(粗生成物”粗溶融体″)と下方の水性相
とからなる。更に仕上げるために、水性相は粗HTMP
溶融体から分離される。
これは、適当に、例えば反応容器の底部から水性相を放
出することによりなされる。粗溶融体は蒸留により仕上
げる。
これは、まず通常の蒸留容器中で、好ましくは減圧下1
例えば1000〜30mbarの真空下で低沸点副産物
を留出することによりなされる。特に沸点が150℃以
下の容易に揮発する留分がこの工程で除かれる。この工
程が完了した時、木質的ではないが、約30〜10■b
ar及び約80−110℃例えば90〜100℃にて高
沸点副産物をストリップすることが便利である。HPM
Pそれ自身の蒸留は、好ましくは、10〜2 mbar
及び112℃の頂点温度で実施される。
本発明の別の態様に於ては、水と殆んど混和しない、そ
してHPMPを溶解する有機溶媒が相分離の前に反応混
合物に添加される。その場合、HPMPは有機相に移行
し、該有機相は水性相から分離することができる0次い
で、有機溶媒は蒸留により除去され、残存する粗HPM
P溶融体は前述したように蒸留により仕上げられる。適
当な有機溶媒は種々の石油エーテル留分、ベンゼン、ト
ルエン及びキシレンのような脂肪族、指環族、または芳
香族、炭化水素である。
着し望むならば、HPMP留分は、次いで適当な方法に
より、より好ましい貯蔵安定性を持ちそしてより取扱い
やすい形態を与えるために粒状化される。
反応混合物を仕上げる前に1例えば粗生成物を分離する
前または有機溶媒の添加前または添加後に、塩基、例え
ば有機アミンまたは好ましくはアルカリ金属またはアル
カリ土類全水酸化物、特にKOHまたはN a OI(
を添加することにより過剰のホルムアルデヒドを破壊す
る。
この目的のために使用される量は過剰のホルムアルデヒ
ドを除くために十分な量であるべきである。化学量論量
より過剰のホルムアルデヒドを破壊するため必要である
理論量よりも少くとも30%多い塩基を添加することが
好ましい。
未発明の工程は回分式または連続的に実施することがで
きる。
特に第2工程は、好ましくはプロセス技術に於て使用さ
れる装置1例えば回転ディスク反応器またはカスケード
反応器により連続的に実施することができる。
未発明の工程を連続的に実施するために可能な装置の例
は第1図に見出されるであろう。
好ましくはガスクロマトグラフィーにより粗粗溶液中の
HTMP濃度及び最終生成物溶液中のHPMP濃度を決
定するために通常の分析方法が使用される。
(発明の効果) 大発明の方法は、HTMPを遊離することなく、TAA
からHPMPI高収率で得ることを可能とする。
工程は簡単に実施でき、時間が節約でき、また、今まで
使用された塩析や再結晶操作からもたらされる塩や溶媒
残渣がさけられるので環境的にも安全である。未発明の
工程の他の有利な結果は、より高い空間−時間、収率及
びより低い製造コストである。
HTMPのメチル化が、HTMPを単離しないことから
もたらされる高いレベルの副産物を有するにも拘らず、
実際に100%の転化率で行なわれること1反応が短時
間で完結することおよび最終生成物のより良い品質が達
成されることは、特に驚くべきこととして注目されるべ
きである。同様に高温(例えば100℃)に於ける選択
が低温(例えば70℃)に於けると全く同様に良好であ
るということは驚くべき事実である。
更にホルムアルデヒドの過剰が1本発明の工程では通常
の方法に於けるよりも、より少く保つことができる。ま
た形成されるC02は完全に除去される。
(実施例) 次の実施例は本発明をより詳細に説明するものである。
特に述べない限りは1部及び百分率は、実施例に於ても
、詳細な説明の残りの全部及びクレームを通して、同様
に重量である。
)(TMP及びHPMPの濃度は実施例ではガスクロマ
トグラフにより決定される。
実jL医」2 蒸留したTAA (純度92〜98%) 1800kg
を水22001で稀釈し、70〜80℃で木炭上のルテ
ニウムの存在下で水素添加する0次いで触媒を濾過し、
粗HTMP溶液を1次の工程の前のタンクに貯蔵する。
溶液中のHTMPW度は40%、収率は91〜97%。
1五亘」 実施例1により得られた粗HTMP溶液415gの37
%を、60〜100℃で共沸的に留出させる。留出物は
二相として得られる。
残りの蒸留残渣(216g : HTMP含量約60%
)を50gのパラホルムアルデヒドと共に反応容器中に
入れる。混合物を86℃に加熱し、次いで57gの蝿#
(85%の水溶液として)を攪拌しながら20分にわた
って添加する0次いで反応混合物を還流温度に加熱し、
全反応時間が3時間になるまで攪拌する0次いで50%
水性NaOH85gを反応混合物に添加し、放置冷却す
る。上方の油状生成物相を分離し1通常の蒸留装置で蒸
留する。150℃以下の沸点を持つ容易に揮発する留分
は40℃の頂点温度及び1000〜30 mbarの真
空下で留出する。
次いで最初の留分を30〜11)sbar及び100℃
の頂点温度で取り去る0次いで主HPMP留分を10〜
2■bar及び112℃の頂点温度で留出させる。冷却
後、生成物を76℃で溶融する白色結晶の形で得る。蒸
留後の収率は使用されたHTMPにもとづいて理論値の
89%であす、蒸留前の粗生成物の収率は、99〜10
0%である。
溶融生成物を粒状化により貯蔵のためのより1利な形態
に変換する。これは、冷却コンベア、6または冷却ドラ
ム上で行なわれる。
支蓋撫」 実施例1により得られる粗HTMP#液422.8gの
47%を60−100℃で共沸的に留出させる。留出物
は二相として得られる。
残留する蒸留残渣(224g;HTMP濃度約70%)
を37%のホルマリン135gと共に反応容器中に入れ
る。混合物を86℃まで加熱し、次いで蝿#(85%水
性溶液として)57gを攪拌しながら20分にわたって
添加する0反応混合物を次いで還流温度まで加熱し、次
いで全反応時間が3時間になるまで攪拌する0次いで5
0%水性NaOH85gを反応混合物に添加し、放置冷
却する。更に仕上げは実施例2に述べられたものと全く
同様に実施される。HPMPの収率及び融点は実施例2
と同じである。
実JLILA 135gのホルマリンの代りに50gのパラホルムアル
デヒドを用いる以外は実施例3を繰返す、HPMPは実
施例3または2と同じ純度及び収率で得られる。
支ム1」 実施例1により製造された粗HTMP溶液417gの5
8%を60〜100℃で共沸的に留出させる。留出物は
二相で得られる。残りの蒸留残留物(175,4g S
 HTMP含量約89%)を42gのパラホルムアルデ
ヒドと共に反応容器に入れる0反応混合物を86℃まで
加熱し、次いで蟻酸(85%水溶液として)57gを攪
拌しながら20分間にわたって添加する0次いで反応混
合物を還流温度まで加熱し、全反応時間が3時間になる
まで攪拌する。
次いで50%水性NaOH85gを反応混合物に添加し
、放置冷却する。更に、実施例2と全く同様に仕上げを
実施する。HPMPの収率及び融点は実施例2と同じで
ある。
支嵐皇」 混合容器中に於て実施例1で得られた粗HTMP溶液1
00部を37%ホルマリン85部中に溶解する。この混
合物を80℃まで加熱し、計量ポンプにより反応器中に
供給する。該反応器中には36部の蟻酸(85%水性溶
液として)が、温度が86℃を越えないような割合で計
量されている。2時間の滞留時間の後、溶液は、該溶液
が石油エーテル留分(沸点範囲100〜140℃)と混
合されるスタテックミキサーを通して、他の容器にポン
プで送られ、該容器中で反応溶液は、NaOH30部で
抽出される。
水性相の分離は下降流液/液分離器(downstre
am  1iquid/ 1iquid  5epar
ator )中で生じる。更にN aOHによる抽出は
第2抽出装置中で実施する。最後に石油エーテルを蒸留
塔中で留出させ、粗溶融体を連続的に底部から排出する
。a溶融体を、次いで実施例2で記載した方法により蒸
留装置中で精製する。このようにして純粋のHPMPを
実施例2に示した収率及び純度で得る。更に、実施例2
と同様に好ましくは続いて造粒工程が行なわれる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の反応に使用される連続プラントの略図
である。

Claims (15)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)4−オキソ−2,2,6,6−テトラメチルピペ
    リジンを、溶媒として、水中に於て接触水素添加して、
    4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリ
    ジンに還元し、生成する粗4−ヒドロキシ−2,2,6
    ,6−テトラメチルピペリジン溶液を得られたままで、
    あるいは蒸留により濃縮した後に、ホルムアルデヒドま
    たはパラホルムアルデヒド及び蟻酸と70〜150℃に
    て、4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピ
    ペリジンを精製および/または単離することなく、4−
    ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン
    にもとづいて、各々、少くとも20モル%過剰のホルム
    アルデヒドまたはパラホルムアルデヒドとほぼ化学量論
    量の蟻酸を使用して、反応させ、反応混合物の水性相を
    粗生成物の相から分離し、そして該生成物の相を蒸留に
    より仕上げることを特徴とする4−オキソ−2,2,6
    ,6−テトラメチルピペリジンから4−ヒドロキシ−1
    ,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジンを製造する
    方法。
  2. (2)粗4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチ
    ルピペリジン溶液を蒸留により濃縮する請求項(1)記
    載の方法。
  3. (3)粗4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチ
    ルピペリジンの溶液の少くとも10%を留去させる請求
    項(2)記載の方法。
  4. (4)粗4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチ
    ルピペリジンの溶液を少くとも20%の4−ヒドロキシ
    −2,2,6,6−テトラメチルピペリジン含量まで濃
    縮する請求項(2)記載の方法。
  5. (5)溶液を、粗4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テ
    トラメチルピペリジンの溶融体まで濃縮する請求項(2
    )記載の方法。
  6. (6)4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチル
    ピペリジンの溶液が蒸留することなしで更に処理される
    請求項(1)記載の方法。
  7. (7)粗4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチ
    ルピペリジンの溶液を連続的に反応させる請求項(1)
    記載の方法。
  8. (8)粗4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチ
    ルピペリジン溶液を回分式で反応させる請求項(1)記
    載の方法。
  9. (9)粗4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチ
    ルピペリジン溶液を70〜100℃で反応させる請求項
    (1)記載の方法。
  10. (10)粗4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメ
    チルピペリジン溶液をパラホルムアルデヒドまたは27
    〜50%ホルマリンと反応させる請求項(1)記載の方
    法。
  11. (11)ホルムアルデヒドまたはパラホルムアルデヒド
    の過剰モル量が少くとも40%である請求項(1)記載
    の方法。
  12. (12)蒸留した4−ヒドロキシ−1,2,2,6,6
    −ペンタメチルピペリジンの最終生成物が、蒸留により
    仕上げた後に造粒される請求項(1)記載の方法。
  13. (13)水と殆んど混和しない、そして4−ヒドロキシ
    −1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジンを溶解
    する有機溶媒が、粗生成物相の分離前に反応混合物に添
    加され、そして、この有機相が水性層から分離される請
    求項(1)記載の方法。
  14. (14)反応混合物の過剰のホルムアルデヒドが、粗生
    成物相の分離前または有機溶媒の添加前または添加後に
    、塩基の添加により破壊される請求項(1)または(1
    3)記載の方法。
  15. (15)脂肪族または芳香族炭化水素が有機溶媒として
    使用される請求項(13)記載の方法。
JP1330973A 1988-12-20 1989-12-20 4―ヒドロキシ―1,2,2,6,6―ペンタメチルピペリジンの製造方法 Expired - Fee Related JP2844482B2 (ja)

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