JPH10152371A - Ni−Zn系フェライト - Google Patents

Ni−Zn系フェライト

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JPH10152371A
JPH10152371A JP8309285A JP30928596A JPH10152371A JP H10152371 A JPH10152371 A JP H10152371A JP 8309285 A JP8309285 A JP 8309285A JP 30928596 A JP30928596 A JP 30928596A JP H10152371 A JPH10152371 A JP H10152371A
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康弘 佐々木
Atsushi Ochi
篤 越智
Osamu Myoga
修 冥加
Yoshitsugu Okada
芳嗣 岡田
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 ミリ波帯用アイソレーターとして、飽和磁化
(4πMs)の比較的高いフェライトであって、しかも
誘電体損失(tanδ(ε))は10-4のオーダーのレ
ベルで比較的小さなNi−Zn系フェライトを提供す
る。 【解決手段】 NiX Zn1-X Fe2-Y-Z MnY Zr2
4 で表される組成式のNi−Zn系フェライトを、
0.55≦X≦0.80、0.001≦Y≦0.20、
0.001≦Z0.04の組成範囲に焼成することによ
り、誘電体損失の小さい(10-4オーダー)Ni−Zn
系フェライトが得られる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はNi−Zn系フェラ
イトに関し、特に高周波の分野に磁性材料として用いら
れるミリ波帯用アイソレーターとしての、誘電体損失が
小さく飽和磁化の高いNi−Zn系フェライトに関す
る。
【0002】
【従来の技術】Ni−Zn系フェライトは、マイクロ波
通信用サーキュレータ等のデバイス素子に使用される代
表的なフェライト材料の一つである。最近では、数十G
Hzあるいは数百GHz程度のサーキュレータ等のデバ
イス素子開発が主流であり、飽和磁化(4πMs)が大
きく、強磁性共鳴吸収半値幅(△H)が小さく、キュリ
ー点が高いことは勿論のことであるが、デバイスの信頼
性の確保の点から誘電体損失(tanδ(ε))の小さ
い材料を使用することが不可欠であり、この誘電体損失
tanδ(ε)の小さい材料開発に対して強い要請があ
る。
【0003】しかしながら、従来は比較的高い飽和磁化
4πMsのフェライト材料であっても、誘電体損失ta
nδ(ε)は10-3のオーダーのレベルであった。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】近年、情報の高密度化
等により高GHz帯のサーキュレータ等のデバイス用フ
ェライトの要請が益々強くなってきており、そのため、
高い飽和磁化4πMsであることは勿論であるが、10
-4オーダーの小さい誘電体損失tanδ(ε)のフェラ
イト材料が必要とされている。
【0005】本発明は、上記の点に鑑みなされたもので
あって、誘電体損失tanδ(ε)が小さく(10-4
ーダーの)、かつ飽和磁化(4πMs)の高いNi−Z
n系フェライトの提供をその目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明は上記の目的を達
成するため、NiX Zn1-X Fe2-Y-Z MnY ZrZ4
で表される組成式のNi−Zn系フェライトであっ
て、0.55≦X≦0.80、0.001≦Y≦0.2
0、0.001≦Z≦0.04の範囲で焼成してなる組
成をもつ構成としたものである。
【0007】上記の組成式のX、YおよびZについて上
記のように限定するのは、以下に示す理由によるもので
ある。
【0008】すなわち、ニッケル(Ni)の組成を示す
Xは、0.55を下回っても、あるいは0.80を上回
っても飽和磁化4πMsが小さくなると共に、誘電体損
失tanδ(ε)が大きくなる。
【0009】また、マンガン(Mn)の組成を示すYは
0.001を下回ると誘電体損失tanδ(ε)が大き
くなり、0.20を上回ると高飽和磁化4πMsが減少
し、いずれの場合も適切でない。
【0010】さらに、Zrの組成を示すZはYと同様
に、0.001を下回ると誘電体損失tanδ(ε)が
大きくなり、0.04を上回ると飽和磁化4πMsが減
少していずれの場合も適切でなく、本発明のフェライト
を実現することはできない。またMnとZrを同時に加
えることが必要である。
【0011】したがって、以上の理由から、組成X、Y
およびZは、0.55≦X≦0.80、0.001≦Y
≦0.20、0.001≦Z≦0.04の範囲に限定さ
れるものである。
【0012】なお、Ni0.6 Zn0.4 Fe1.96Mn0.03
Zr0.014 で表される組成式の組成をもつようにする
と、より一層小さな誘電体損失tanδ(ε)が得られ
る(3×10-4)。
【0013】
【発明の実施の形態】次に、本発明の実施の形態につい
て以下に説明する。表1は、本発明の各実施例の形態に
おける組成式と飽和磁化4πMsおよび誘電体損失ta
nδ(ε)の関係を他の例と対比して示す表である。
【0014】本発明は、前記したように、NiX Zn
1-X Fe2-Y-Z MnY ZrZ4 の組成式で表され、し
かも、X、YおよびZが下記の所定の範囲内にある組成
式で表される。
【0015】
【表1】 すなわち、0.55≦X≦0.80、0.001≦Y≦
0.20、0.001≦Z≦0.04の範囲である。し
たがって、表1において、1〜6番に示した組成を有す
るフェライトが本発明の実施例であり、7〜12番が比
較例である。また、13番は従来例であり、Li系フェ
ライト材料の組成と特性を示す。
【0016】これらの飽和磁化4πMsはすべて300
0(G)以上であり、最大で6番に示した組成式Ni
0.6 Zn0.4 Fe1.95Mn0.03Zr0.024 のフェライ
トが5250(G)である。
【0017】また、上記の本発明の実施例(1〜6番)
のNi−Zn系フェライトにおいて誘電体損失tanδ
(ε)はすべて10-4オーダーと小さな値が得られてお
り、その中でも最小なものは、3番に示した組成式Ni
0.6 Zn0.4 Fe1.96Mn0. 03Zr0.014 のNi−Z
n系フェライト(3×10-4)である。
【0018】また、表1の7〜13番に示した組成式の
Ni−Zn系フェライト材料は、本発明の範囲外の組成
式のものである。すなわち、7番と8番は、Niが範囲
外(13番はNiを含まない)であり、これらはいずれ
も飽和磁化4πMsは4700(G)以上であるが、誘
電体損失tanδ(ε)はいずれも10-3オーダーと大
きな値である。
【0019】また、10番はMnが範囲外(9番はMn
を含まない)であり、飽和磁化4πMsが3900
(G)であり、誘電体損失tanδ(ε)も10-3オー
ダーと大きな値である。
【0020】さらに、表1に示す13番のLi0.31Fe
2.31Zn0.28Mn0.104 は、従来技術で作られたLi
系フェライト材料(の組成式)である。この従来のLi
系フェライト材料は、飽和磁化4πMsが5045
(G)と他のフェライトに比べて大きいが、誘電体損失
tanδ(ε)も10-3オーダーと大きな値であり、実
施例(1〜6番)よりも劣っている。
【0021】以上の各種組成のフェライトは、64時間
の粉末混合後850℃−2時間、酸素雰囲気での予備焼
成後再粉砕混合した。その後バインダ−を添加して単位
面積(cm2 )あたり2.5トンの圧力でプレス成形
し、その成形体を1350℃−5時間、酸素雰囲気中で
焼結した。
【0022】飽和磁化4πMsは、VSM磁気測定器を
使用して最大磁場10kGの履歴曲線から磁場=0のと
きの磁化を外挿して求めた。誘電体損失tanδ(ε)
は、外径16mm、厚さ0.2mmの測定用サンプルを
作製し、9GHzの電磁場中、TE112モード空洞共
振法で測定した。
【0023】
【発明の効果】上記のように本発明によって、Ni−Z
n系フェライトにおいて、NiおよびZnの組成範囲を
限定し、かつ、Fe、MnおよびZrの量を限定するこ
とにより、飽和磁化4πMsとして高い値を確保しつ
つ、10-4オーダーの小さな誘電体損失tanδ(ε)
のフェライトを実現することができる。
フロントページの続き (72)発明者 冥加 修 東京都港区芝五丁目7番1号 日本電気株 式会社内 (72)発明者 岡田 芳嗣 東京都港区芝五丁目7番1号 日本電気株 式会社内

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 NiX Zn1-X Fe2-Y-Z MnY ZrZ
    4 で表される組成式のフェライトであって、0.55
    ≦X≦0.80、0.001≦Y≦0.20、0.00
    1≦Z≦0.04の範囲で焼成してなる組成をもつこと
    を特徴とするNi−Zn系フェライト。
  2. 【請求項2】 前記フェライトが、Ni0.6 Zn0.4
    1.96Mn0.03Zr 0.014 で表される組成式の組成を
    もつことを特徴とする請求項1記載のNi−Zn系フェ
    ライト。
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