JPH10133238A - 方向性結合型電気光学素子 - Google Patents
方向性結合型電気光学素子Info
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- JPH10133238A JPH10133238A JP29228596A JP29228596A JPH10133238A JP H10133238 A JPH10133238 A JP H10133238A JP 29228596 A JP29228596 A JP 29228596A JP 29228596 A JP29228596 A JP 29228596A JP H10133238 A JPH10133238 A JP H10133238A
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Abstract
合型の電気光学素子を得る。 【解決手段】 電気光学効果を有する基板10と、互いに
ほぼ平行で近接した結合部および、この結合部よりも互
いに大きく離間した部分(分離部および中間部)を有す
るように基板10に形成された2本のチャンネル光導波路
11、12と、上記結合部において基板10に電圧を印加する
電極13、14、15等の手段とを備えてなる方向性結合型電
気光学素子において、チャンネル光導波路11、12の結合
部における幅を、上記の大きく離間した部分における幅
よりも小さくする。
Description
方向性結合型電気光学素子、すなわち、電気光学効果を
有する基板に互いに近接した部分を有する2本のチャン
ネル光導波路を形成し、両光導波路間の導波光の乗り移
りを、光導波路に電圧を印加して制御するようにした方
向性結合型電気光学素子に関するものである。
調する光変調素子や、光の進路を切り換える光スイッチ
等を構成するために、光導波路を利用した方向性結合型
電気光学素子が広く適用されている(例えば特開平4−
3338351号参照)。
して図12に示すように、電気光学効果を有するLiN
bx Ta1-x O3 (0≦x≦1)結晶等からなる基板1
に、例えば数μm程度の間隔を置いて互いに近接する部
分を有する2本のチャンネル光導波路2、3を形成し、
両光導波路間の導波光の乗り移りを、光導波路2、3へ
の印加電圧を変えて制御するようにしたものである。
接した部分(結合部)の側方には電極4、5、6が形成
され、光導波路2のポートAから入力されてそこを導波
する光は、電極4、5、6による印加電圧が0の場合
は、上記結合部において他方の光導波路3に完全に乗り
移る状態(完全結合状態)となってクロスポートつまり
ポートB’から出力され、電極4、5、6によって光導
波路2、3に所定電圧が印加されると乗り移りが抑制さ
れて、ポートA’から出力されるようになる。
大きく離間して平行に延びる部分(分離部)は、間隔が
数10μm程度とされるので、この部分では光波分布の重
なりが全くなく、2本のチャンネル光導波路2、3は互
いに独立したものとなる。またこのようなチャンネル光
導波路2、3は、一般にプロトン交換後にアニールして
形成され、従来それらの幅は全長に亘って一定とされて
いた。
部のみとしても、方向性結合型電気光学素子としての基
本機能は得られるが、実際上は以下の理由により、分離
部も形成する必要がある。すなわち、チャンネル光導波
路の両端面は光学研磨されて光入出力部とされるが、研
磨ロットに応じて結合部の長さが異なる素子が形成され
ることになる。そうであると特性バラツキが顕著にな
り、完全結合を果たし得ない素子も作製されてしまう。
出力される光は空間的に十分に分離せず、特定のポート
から出力される光のみを利用光として使うことが極めて
困難となる。
の基板1を用いたものであるが、図13に示すようにZ
カットの基板1’を用いた上で、各チャンネル光導波路
2、3の直上部分に電極7および8を配設してもよい。
要するに電極は、基板のZ軸方向に電界が加わるように
配置される。
性結合型電気光学素子においては、特性バラツキが大き
くて、上記印加電圧が0のときに完全結合状態が得られ
ないような特性の不良品も多く形成され、作製の歩留ま
りがかなり低いという問題が認められていた。このよう
な不良品は、作製時にプロセス条件が僅かに変動しただ
けで発生する。
状態が得られる、特性バラツキの少ない方向性結合型電
気光学素子を提供することを目的とするものである。
型電気光学素子は、電気光学効果を有する基板と、前述
したような結合部およびこの結合部よりも互いに大きく
離間した部分を有するように上記基板に形成された2本
のチャンネル光導波路と、上記結合部において光導波路
に電圧を印加する手段とを備えてなる方向性結合型電気
光学素子において、チャンネル光導波路の結合部におけ
る幅を、上記大きく離間した部分における幅よりも小さ
くしたことを特徴とするものである。
の方向性結合型電気光学素子における特性バラツキは、
2本のチャンネル光導波路の結合部における間隔(以
下、これをギャップGという)のバラツキに起因してい
ることが判明した。そこで、図12に示したタイプの方
向性結合型電気光学素子を、チャンネル光導波路2、3
の幅Wを7、8、9および10μmに変え、そして各光導
波路幅W毎にギャップGを1、2、3、4、5、6およ
び7μmに変えたもの28通りを作製し、各素子において
印加電圧が0のときの導波光の乗り移りを調べた。
MgOドープLiNbO3 結晶基板を用い、プロトン交
換条件は150 ℃で64分、アニール条件は350 ℃で60分と
し、両光導波路2、3の結合長(結合部の長さ)は8m
mとした。そして、半導体レーザから発せられた波長85
0 nmの光をポートAから入力させ、クロスポートつま
りポートB’から出力される光パワーを測定した。
中でクロスポートの光パワーは、入力光のパワーに対す
る比で示してある。ここに示されるように、光導波路幅
W=7μmの場合はギャップG=4、5、6μmとする
と完全結合状態が得られる。一方光導波路幅W=8μm
の場合はギャップG=1、2μmのときのみ、また光導
波路幅W=9μmの場合はギャップG=2μmのときの
み完全結合状態が得られ、そして光導波路幅W=10μm
の場合はギャップGの値に拘らず完全結合状態が得られ
ない。
う際に基板表面に形成されるマスクパターンの線幅(2
本のチャンネル光導波路に対応する2つの開口間の線
幅)、光導波路幅Wはマスクパターンの上記開口の幅で
定義する設計値であるが、通常の紫外線露光によるフォ
トリソグラフィ技術では、2μm以下の線幅のパターン
を正確に安定して作製するのは困難である。
して、つまり上記例の範囲ではW=7μmとして方向性
結合型電気光学素子を形成すれば、ギャップGの許容幅
すなわちプロセス条件の許容幅が大きくなり、また線幅
の点からも素子作製が容易になると考えられる。
波路の分散曲線は大略図15に示すようになっており、
光導波路をシングルモード化するためには光導波路幅W
をある一定範囲内に設定する必要がある。光導波路幅W
がこの範囲よりも小さいと導波不能のカットオフ導波路
となり、反対にこの範囲よりも大きいとマルチモード導
波路となってしまう。なお通常、光変調等に方向性結合
型電気光学素子を適用する場合は、光導波路がシングル
モード導波路であることが必須となる。
合型電気光学素子におけるシングルモード領域は、図1
6に示すように結合部と分離部とで相異なり、シングル
導波路となる光導波路幅Wの下限値は、結合部より分離
部の方が大である。また光導波路幅Wがシングルモード
領域にあっても、それが上記の下限値に近付くほど、導
波光のビームプロファイルはガウスビームのプロファイ
ルから大きくかけ離れたものとなってしまう。
ファイルの乱れは特に問題にならないが、光導波路外の
光学系と結合する分離部においては、このビームプロフ
ァイルの乱れが大きいと、各種収差が大きくなる等の問
題を招く。
において、チャンネル光導波路の結合部の幅を分離部の
幅よりも小さくすれば、結合部においては光導波路幅を
できるだけ小さくして前述のようにプロセス条件の許容
幅を大きくし、また線幅の点からも素子作製を容易にし
て歩留まりを高めることができ、その一方分離部におい
ては光導波路幅をできるだけ大きくして、ビームプロフ
ァイルの乱れを抑えることができる。
が異なるのは、以下の理由によるものと推察される。プ
ロトン交換アニール導波路は、まず基板を構成するLi
NbO3 等の結晶の表面のLi+ とH+ (プロトン)と
をイオン交換するプロトン交換処理と、その後、結晶中
に取り込まれたH+ を基板内部に拡散するアニール処理
とによって形成される。図17の(1)と(2)はそれ
ぞれ、結合部と分離部におけるH+ 拡散の様子を模式的
に示すものであるが、ここに示される通り、結合部では
2本のチャンネル光導波路2、3が近接しているため、
各光導波路のH+ 拡散領域が重なるのに対し、分離部で
はチャンネル光導波路が比較的大きく離れているため、
各光導波路のH+ 拡散領域が重なっていないものと考え
られる。
ロトン交換アニール導波路のH+ 濃度分布を、SIMS
(2次イオン質量分析法)により分析した。プロトン交
換処理のみでは、交換厚つまりH+ の厚さは概ね0.1 〜
0.3 μmであった。その後アニール処理を行なうと、H
+ がLiNbO3 結晶基板内に拡散し、拡散深さは数μ
m〜10μmとなった。
プGを置いて近接している結合部の各光導波路では、ア
ニールしたときのH+ の拡散領域が相互に交わることが
分かった。それに対して分離部では、2本のチャンネル
光導波路が数10μm程度離れているので、このようなこ
とが起こらず、1本のチャンネル光導波路を形成した場
合と同様に各光導波路が形成されるものと推定される。
施の形態を詳細に説明する。図1は、本発明の一つの実
施形態による方向性結合型電気光学素子の平面形状を示
すものである。図示されるようにこの方向性結合型電気
光学素子は、MgOが5 mol%ドープされたLiNbO
3 (以下、MgO−LNと称する)の結晶基板10上に形
成された2本のチャンネル光導波路11、12と、結合部に
おいてこれらの光導波路11、12の各々の側方に形成され
た平板状電極13、14、15とを有している。
晶基板が用いられ、その縦横寸法は16mm×4mmであ
る。チャンネル光導波路11、12は、基板10の表面にフォ
トリソグラフィにより該光導波路11、12の形状に対応し
た開口を有するマスクを形成し、このマスクの開口から
露出している基板部分をプロトン交換、アニール処理し
て形成される。本例では、プロトン交換条件は150 ℃で
64分、アニール条件は350 ℃で60分とした。
いに平行で近接した結合部の長さは8mm、分離部の長
さは2mm、中間部(結合部と分離部との間の部分)の
長さは2mmである。一方各光導波路11、12の幅は、分
離部においては9μm、結合部においてはそれよりも小
さい7μmとされ、上記中間部においては7μmから9
μmにテーパ状に変化するように設定されている。
合部においては5μm、分離部においては数10μmとさ
れ、上記中間部においては5μmから数10μmに連続的
に変化するように設定されている。
11は出力ポートA’側の中間部において折れ曲がった形
状とされ、他方の光導波路12はそれと反対側の中間部に
おいて折れ曲がった形状とされている。この折れ曲がり
部で光導波路11、12の中心線が互いになす角度(分離
角)は、一例として0.5 °とされている。
いて、入力ポートAから光導波路11に光を入力させたと
き、平板状電極13、14、15を介して光導波路11、12に電
圧を印加しなければ、光導波路11を導波する光は結合部
において光導波路12に完全に乗り移り、出力ポートB’
から出射する。また平板状電極13、14、15を介して光導
波路11、12に所定の電圧を印加すると、光導波路11を導
波する光は結合部において光導波路12に乗り移ることな
く、出力ポートA’から出射する。
させた光を、出力ポートB’とA’のいずれかから選択
的に出射するようにスイッチングすることができる。ま
た、出力ポートB’あるいはA’のいずれか一方のみか
ら出射する光を利用光とする場合、上記電圧の印加を画
像信号等に基づいて制御することにより、その利用光を
変調することができる。
いては、各光導波路11、12の幅を結合部においては十分
に小さい7μmとしているので、光導波路11、12を形成
する際のフォトリソグラフィのプロセス条件が変動する
等して両光導波路11、12間のギャップGが設計値の5μ
mからある程度外れても、電圧非印加時に光導波路11を
導波する光が結合部において完全に光導波路12に乗り移
る完全結合状態が得られるようになる。その詳しい理由
は、先に図14を参照して説明した通りである。それに
よりこの方向性結合型電気光学素子は、高い歩留まりで
作製され得るものとなる。
いては上記7μmよりも大きい9μmとしているので、
出力ポートB’あるいはA’から出射する光のビームプ
ロファイルの乱れを防止できる。その理由も、先に説明
した通りである。
いて採用され得る光導波路11、12の形状例を説明する。
なおこれらの図においては、電圧印加用の電極は省略し
て、光導波路11、12の形状のみを示してある。
る光導波路11、12の形状を示すものである。また同図の
(2)の例では、(1)におけるように光導波路11、12
の各一部を比較的大きな角度で折り曲げる代わりに、光
導波路11、12を結合部の前と後の双方において折り曲
げ、折り曲げの角度は比較的小さく抑えるようにしてい
る。同図の(3)の例では、一方の光導波路12のみを結
合部の前と後の双方において折り曲げ、他方の光導波路
11は折り曲げないようにしている。
それぞれ、図2の(1)、(2)および(3)に示した
ものから、光導波路11、12の光入力側の分離部を取り除
いた形に構成されたものである。そこでこれら光導波路
11、12は、結合部よりも光入力側では前述の中間部のみ
を有する形状となっているが、この中間部においても光
導波路11、12は、結合部から離れるのにつれて該結合部
よりも拡幅しているので、上記実施形態におけるのと同
様の効果が得られる。
例はそれぞれ、図2の(1)、(2)および(3)に示
したものから、光導波路11、12の光入力側および光出力
側の分離部を取り除いた形に構成されたものである。こ
の図4あるいは図3に示したものは、素子長を短くする
上で効果的である。この光導波路形状を採用する場合
も、光導波路11、12の中心線が互いになす角度(分離
角)を数°以内と小さくすれば、特に問題も無く上記実
施形態におけるのと同様の効果が得られる。
ポートがともに2つのものであるが、図5〜図10に
は、光入力ポートが1つで光出力ポートが2つとされた
ものを示す。
例はそれぞれ、図2の(1)、(2)および(3)に示
したものから、一方の光導波路12の光入力側の分離部の
一部を取り除いた形に構成されたものである。
それぞれ、図2の(1)、(2)および(3)に示した
ものから、一方の光導波路12の光入力側の分離部を全て
取り除いた形に構成されたものである。
それぞれ、図2の(1)、(2)および(3)に示した
ものから、一方の光導波路12の光入力側の分離部並びに
中間部を取り除いた形に構成されたものである。
例はそれぞれ、図5の(1)、(2)および(3)に示
したものから、光導波路11、12の光出力側の分離部を取
り除いた形に構成されたものである。
それぞれ、図6の(1)、(2)および(3)に示した
ものから、光導波路11、12の光出力側の分離部を取り除
いた形に構成されたものである。
はそれぞれ、図7の(1)、(2)および(3)に示し
たものから、光導波路11、12の光出力側の分離部を取り
除いた形に構成されたものである。
る場合は、図11に示すように、弧を描いて滑らかに曲
がる導波路形状を採用することもできる。
gOがドープされたLiNbO3 基板に限らず、その他
ZnOがドープされたLiNbO3 基板、LiNbO3
基板、LiTaO3 基板、MgOがドープされたLiT
aO3 基板、ZnOがドープされたLiTaO3 基板等
を利用することもできる。
気光学素子の平面図
導波路の別の形状例を示す平面図
導波路のさらに別の形状例を示す平面図
導波路のさらに別の形状例を示す平面図
導波路のさらに別の形状例を示す平面図
導波路のさらに別の形状例を示す平面図
導波路のさらに別の形状例を示す平面図
導波路のさらに別の形状例を示す平面図
導波路のさらに別の形状例を示す平面図
光導波路のさらに別の形状例を示す平面図
光導波路のさらに別の形状例を示す平面図
平面図
示す平面図
路の結合部のギャップと光結合の程度との関係を説明す
るグラフ
路幅とシングルモード領域との関係を示す概略図
路の結合部と分離部でのプロトン拡散の様子を説明する
概略図
Claims (6)
- 【請求項1】 電気光学効果を有する基板と、 互いにほぼ平行で近接した結合部および、この結合部よ
りも互いに大きく離間した部分を有するように前記基板
に形成された2本のチャンネル光導波路と、 前記結合部において前記光導波路に電圧を印加する手段
とを備えてなる方向性結合型電気光学素子において、 前記チャンネル光導波路の結合部における幅が、前記大
きく離間した部分における幅よりも小さいことを特徴と
する方向性結合型電気光学素子。 - 【請求項2】 前記2本のチャンネル光導波路の少なく
とも一方が、前記互いに大きく離間した部分として、前
記結合部から離れるのに従って次第に大きく離間する中
間部と、この中間部に接続して互いにほぼ平行に延びる
分離部とを有することを特徴とする請求項1記載の方向
性結合型電気光学素子。 - 【請求項3】 前記2本のチャンネル光導波路の少なく
とも一方が、前記互いに大きく離間した部分として、前
記結合部から離れるのに従って次第に大きく離間する部
分のみを有することを特徴とする請求項1記載の方向性
結合型電気光学素子。 - 【請求項4】 前記チャンネル光導波路の中間部が、前
記結合部から離れるのに従って次第に拡幅するテーパ形
状とされていることを特徴とする請求項2または3記載
の方向性結合型電気光学素子。 - 【請求項5】 前記チャンネル光導波路が、プロトン交
換後にアニールして形成されたものであることを特徴と
する請求項1から4いずれか1項記載の方向性結合型電
気光学素子。 - 【請求項6】 前記基板が、LiNbx Ta1-x O
3 (0≦x≦1)基板またはそれにMgOあるいはZn
Oがドープされた基板であることを特徴とする請求項1
から5いずれか1項記載の方向性結合型電気光学素子。
Priority Applications (1)
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---|---|---|---|
JP29228596A JP4104027B2 (ja) | 1996-11-05 | 1996-11-05 | 方向性結合型電気光学素子 |
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Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH10133238A true JPH10133238A (ja) | 1998-05-22 |
JP4104027B2 JP4104027B2 (ja) | 2008-06-18 |
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---|---|---|---|
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JP (1) | JP4104027B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005156825A (ja) * | 2003-11-25 | 2005-06-16 | Matsushita Electric Works Ltd | 光減衰器 |
JP2007179065A (ja) * | 2007-02-09 | 2007-07-12 | Hitachi Ltd | 光導波路装置 |
-
1996
- 1996-11-05 JP JP29228596A patent/JP4104027B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2007179065A (ja) * | 2007-02-09 | 2007-07-12 | Hitachi Ltd | 光導波路装置 |
JP4648342B2 (ja) * | 2007-02-09 | 2011-03-09 | 株式会社日立製作所 | 光導波路装置 |
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---|---|
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