JPH10133224A - 表示装置 - Google Patents

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JPH10133224A
JPH10133224A JP8330075A JP33007596A JPH10133224A JP H10133224 A JPH10133224 A JP H10133224A JP 8330075 A JP8330075 A JP 8330075A JP 33007596 A JP33007596 A JP 33007596A JP H10133224 A JPH10133224 A JP H10133224A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】反射光強度が高い均一で明るい表示装置を得
る。 【解決手段】フィルム5〜7と液晶層8〜11とを交互
に積層し、波長(λn )の光に対する、液晶の長軸方向
の屈折率nLC1(λn) 及び短軸方向の屈折率nLC2 (λn)
と、フィルムの面内におけるX軸及びY軸方向の屈折率
F1(λn)、nF2(λn)と、液晶層の厚みdLCと、フィル
ムの厚みdF とを、〔1〕nF1(λn)≒、nLC2(λn)
〔2〕nF2(λn)≒nLC2(λn) であって、nLC1(λn)
>nLC2(λn) 、nF1(λn)>nF2(λn)、〔3〕nF1(λ
n)・dF ≒(1/4+k/2)・λn 、〔4〕nLC1(λ
n) ・dLC≒(1/4+m/2)・λn (ここで、k、
mは0または整数である。)の条件を満足するようにす
る。電圧印加時には、〔1〕、〔2〕を満足し、光透過
状態となり、電圧無印加時には〔3〕、〔4〕を満足
し、光反射状態となる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は表示装置に関し、特
に、液晶とフィルムの複合多層膜を用いた液晶装置およ
び、この液晶装置により反射/透過を制御する表示装置
に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、反射型液晶表示装置は、微少電力
で動作する表示装置として、ウォッチ、電卓、セルラ
ー、小型携帯機器、各種家庭電器製品等の情報伝達媒体
として大きな発展、普及を遂げてきた。表示モードもT
N(ツイスティド・ネマチック)型、STN(スーパー
ツイスティド・ネマチック)型、強誘電型等、多種発明
されてきた。しかし、これらは全て偏光板を使用するも
のであり、現実的には、液晶素子への入射光の約60%
は該偏光板により、吸収されてしまうため暗い画面とな
り、理想的な反射型表示、例えば白色背景に黒表示とい
った見易さからは遠いものであった。
【0003】特に反射型カラー液晶表示装置では、偏光
板とカラーフィルター双方による光吸収のため、最大で
も表示装置に入射する入射外光の10%以下の光を反射
して表示することになり、非常に暗く、印刷物表示のよ
うな、明るい鮮やかなカラー表示には、遠く及ばないも
のであった。
【0004】最近、上述した欠点を解決し、偏光板を使
わず明るいカラーディスプレイを実現する方法として、
従来例1(特開平6−294952号公報)が提案さ
れ、注目されている。この提案では、液晶材料と光硬化
性樹脂からなる高分子材料とを混合したものを、一対の
基板間に挿入し、上、下2方向よりレーザー光を照射
し、該2本のレーザー光の干渉パターンにより、液晶と
高分子材料の混合層中に光の強弱縞を得る。そして、こ
の強弱縞パターンに応じ、層状に高分子光硬化樹脂を光
硬化させ、高分子光硬化性樹脂層/液晶層/高分子光硬
化性樹脂層/液晶層/・・・の多層膜を実現し、複合多
層膜干渉反射の原理に従い、特定波長域の光を干渉反射
させる。そして上記一対の基板内面の電極により多層膜
に電圧を印加すると液晶層に於いては、液晶分子の分子
軸方向が変わり、それに伴い、液晶層の屈折率も変化す
る。従って、上記干渉反射の条件から外れ、反射光強度
も変わる。このようにして電圧による光変調が可能とな
り、表示装置として機能する。上述した表示装置では、
偏光板を全く用いないため、明るい色を出す事ができる
とともに、照射レーザー光の波長、又は照射角度を変え
る事により、干渉ピッチを自由に選択でき、光の干渉ピ
ッチを自由に選択できるため、任意の色の表示色を実現
でき、特に反射型カラー表示装置としては、従来のTN
型、STN型の反射型カラー表示装置に比べ優れたもの
であった。
【0005】しかし、上述した表示装置の欠点として、
例えば従来例2(ASIA DISPLAY ’95
P603〜606)に示されるように、2本のレーザー
光の干渉により、光硬化性樹脂の層を作るため、その干
渉ピッチは極めて精度の高いものとなり、干渉反射光の
波長幅が非常に狭く、従って色は鮮やかであるが、反射
型表示としては明るさに欠けるものであった。通常、反
射型表示の背景色としては、白色が最も望ましく、この
ためには可視光の広い波長域にわたって、干渉反射の条
件を充たすようにする必要があるが、上記従来例1、2
では、その構造から、層の上下で干渉ピッチを連続的に
変える事は、極めて困難で、明るい白色表示を得る事に
問題があった。第2の問題としては、光硬化樹脂と液晶
層との境界面は、干渉反射の強度を上げるためにフラッ
ト(平面的)が望ましいが、従来例2に示されるように
細かい凹凸を持った形で接している。従って、全ての入
射光が干渉反射をおこすという事ではなく、一部の光が
透過してしまい、より明るい反射型表示装置を実現する
上で問題となっていた。
【0006】次にもう一つの従来例として従来例3(特
開平4−178623号公報)が、やはり偏光板を使わ
ず、干渉反射を利用した明るい反射型カラー表示装置の
例として挙げられる。本従来例に於いては、液晶層とS
iO2 層を重ね合わせ、各層の厚みと屈折率とを、干渉
反射の条件に適合するように設定し、特定波長の選択反
射を生じさせる。ここに上下電極間に電圧を印加する
と、前述と同様に液晶層の屈折率が変わり、上記干渉反
射条件から離脱して、反射光強度が変わるため、表示機
能が具現化できるものである。本従来例の問題点は、ま
ず、干渉反射をおこさせる層がSiO2 膜/液晶層/S
iO2 膜のわずか3層からなり、これでは充分な干渉反
射光強度が得られず、ほとんどの入射光が透過して、下
部の光吸収層に吸収されてしまうため、充分な明るさを
もった反射型表示装置は実現できない。反射光強度を上
げるには、SiO2 膜/液晶層/SiO2 膜膜/液晶層
/SiO2 膜・・・と少なくとも10層以上の複合多層
膜が好ましいが、本従来例では、その複合多層膜の形成
は極めて困難である。つまり液晶層の上に、直接SiO
2 膜を形成する事ができず、本従来例にも図示されてい
る通り、一旦スペーサー層を全面に形成し、その上にS
i2膜を形成した後、該スペーサーを周辺部のみを残し
て、それ以外の部分をエッチング除去し、その除去され
た空泡部に液晶を注入し、液晶層を形成している。これ
らは液晶層の上に、直接Si2膜を形成する事ができな
い理由から生ずる困難さで、この構造で10層以上の複
合多層膜を製造する事は現実的でない事は明らかであ
る。更に本従来例では、オーバーエッチング除去された
空泡部に液晶を注入しているため、液晶分子軸方向を揃
えるための配向処理ができず、注入された液晶の分子軸
方向は、バラバラのドメイン状になっていると考えられ
る。通常、干渉反射光の強度を上げるためには、液晶層
の厚みと屈折率を精度よくコントロールする事が重要で
あり、本従来例では上述した様に、屈折率の精密なコン
トロールが困難で、充分な干渉反射光の強度が得られ
ず、均一で明るい反射型の表示装置の実現には問題があ
った。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】以上のように、従来の
技術においては、反射型液晶表示装置として、可視光波
長域の広い波長帯で干渉反射の条件を充たすことが困難
な事、そして、全ての入射光が干渉反射をおこすという
事ではなく、一部の光が透過してしまい、より明るい反
射型表示装置を実現する上で問題があり、また、屈折率
の精密なコントロールが困難で、充分な干渉反射光の強
度が得られず、均一で明るい反射型の表示装置の実現に
は問題があった。
【0008】本発明は上述の課題を解決するためになさ
れたもので、反射光強度の高い均一で明るい表示装置、
更には背景が白色で黒色表示となるモノクロ表示、また
はコントラストの高いカラー表示が可能なより見易い表
示装置を実現可能な表示装置を提供する事を目的とす
る。
【0009】
【課題を解決するための手段】請求項1によれば、フィ
ルムと液晶層とが交互に積層された複合多層膜を備え、
前記複合多層膜に電圧を印加して前記複合多層膜におけ
る光反射率を制御する表示装置であって、前記液晶層に
使用される液晶の所定の波長(λn )の光に対する長軸
方向の屈折率nLC1(λn) および短軸方向の屈折率n
LC2(λn) と、前記フィルムの前記所定の波長(λn
の光に対する前記フィルム面内の互いに直交するX軸方
向とY軸方向のそれぞれの屈折率nF1(λn)およびnF2(
λn)とを、前記複合多層膜の前記フィルムと液晶層のう
ちの少なくとも隣り合う一組のフィルムと液晶層との間
において、下記〔1〕および〔2〕の条件
【0010】
【数25】
【0011】を満たすようにしたことを特徴とする表示
装置が提供される。
【0012】この請求項1の表示装置においては、
〔1〕および〔2〕の条件を満たす場合に、所定の波長
(λn )の光のX軸方向成分の光およびY軸方向成分の
光に対して共に透過状態となる。なお、反射はフィルム
と液晶層との間で屈折率が異なれば生じ、また、液晶は
一般に印加電圧を変えると屈折率が変わるから、反射状
態は電圧の印加状態を変えることによって生じさせるこ
とができ、電圧による光変調が可能である。
【0013】また、請求項2によれば、前記nF1(λn)
と、nLC2(λn) と、前記液晶層の厚みdLCと、前記フ
ィルムの厚みdF とを、前記少なくとも隣り合う一組の
フィルムと液晶層との間において、下記〔3〕および
〔4〕の条件
【0014】
【数26】
【0015】の少なくとも一方の条件を満たすようにし
たことを特徴とする請求項1記載の表示装置が提供され
る。
【0016】この請求項2の表示装置においては、
〔3〕の条件を満たす場合に所定の波長(λn )の光の
X軸方向成分の光に対してフィルムによる反射が強くな
り、〔4〕の条件を満たす場合に所定の波長(λn )の
光のX軸方向成分の光に対して液晶層による反射が強く
なる。なお、前記所定の波長(λn )の光のY軸方向成
分の光に対しては条件〔2〕より透過状態となる。
【0017】また、請求項3によれば、前記液晶層に使
用される液晶分子の長軸が、電圧無印加時に、少なくと
も前記フィルム近傍において前記フィルムに対しほぼ水
平方向に配向(ホモジニヤス配向)しかつ前記X軸方向
に配向するようにし、前記複合多層膜が電圧無印加時に
光透過状態となり電圧印加時に光反射状態となるように
したことを特徴とする請求項1または2記載の表示装置
が提供される。
【0018】この請求項3の表示装置においては、電圧
無印加時に所定の波長(λn )の光のX軸方向成分の光
およびY軸方向成分の光に対して共に光透過状態とな
り、電圧印加時に所定の波長(λn )の光のX軸方向成
分の光に対して反射が強くなり、Y軸方向成分の光に対
しては透過状態となる。また、液晶層には誘電率異方性
(Δε)が正(Δε>0)のものが好ましく使用され
る。
【0019】また、請求項4によれば、前記nLC1(λn)
、nLC2(λn) 、nF1(λn)およびnF2(λn)を、前記少
なくとも隣り合う一組のフィルムと液晶層との間におい
て、下記〔5〕および〔6〕の条件
【0020】
【数27】
【0021】を満たすようにしたことを特徴とする請求
項1乃至3のいずれかに記載の表示装置が提供される。
【0022】この請求項4の表示装置は、液晶が電圧無
印加時にフィルムに対してプレチルト角をほとんど有さ
ないで配向している場合に、電圧無印加時に所定の波長
(λn )の光のX軸方向成分の光およびY軸方向成分の
光に対して共に高い透過率を与える。
【0023】また、請求項5によれば、前記液晶が電圧
無印加時に前記フィルムに対してプレチルト角をほとん
ど有さないで配向していることを特徴とする請求項3ま
たは4記載の表示装置が提供される。
【0024】また、請求項6によれば、前記nLC1(λn)
およびnF1(λn)を、前記少なくとも隣り合う一組のフ
ィルムと液晶層との間において、下記〔7〕の条件
【0025】
【数28】
【0026】を満たすようにしたことを特徴とする請求
項1乃至3のいずれかに記載の表示装置が提供される。
【0027】液晶が電圧無印加時にフィルムに対して所
定のプレチルト角をもって配向している場合には、液晶
層のX軸方向の屈折率は液晶の長軸方向の屈折率nLC1(
λn)よりも小さくなる。そこで、条件〔7〕の範囲内に
おいて、プレチルト角に応じてnLC1(λn) とnF1(λn)
とを適切に設定することにより、好ましくはnF1(λn )
を電圧無印加時における液晶層の所定の波長(λn )の
光に対するX軸方向の平均的な屈折率とほぼ等しくする
ことにより、所定の波長(λn )の光のうちX軸方向成
分の光を前記少なくとも隣り合う一組のフィルムと液晶
層とを十分に透過するようにすることができる。従っ
て、この請求項6の表示装置は、液晶がプレチルト角を
もって配向している場合に電圧無印加時に所定の波長
(λn )の光のX軸方向成分の光に対して高い透過率を
与える。なお、Y軸方向成分の光に対しては条件〔2〕
より高い透過率が得られる。
【0028】また、請求項7によれば、前記液晶が電圧
無印加時に前記フィルムに対して所定のプレチルト角、
好ましくは1度から40度、をもって配向していること
を特徴とする請求項3または6記載の表示装置が提供さ
れる。
【0029】また、請求項8によれば、前記nF1(λn)
を、電圧無印加時における前記液晶層の前記所定の波長
(λn)の光に対する前記X軸方向の平均的な屈折率と
ほぼ等しくし、且つ前記nF2(λn )を、電圧無印加時に
おける前記液晶層の前記所定の波長(λn )の光に対す
る前記Y軸方向の平均的な屈折率とほぼ等しくしたこと
を特徴とする請求項3乃至7のいずれかに記載の表示装
置が提供される。
【0030】このようにすれば、電圧無印加時におい
て、所定の波長(λn )の光のX軸方向成分の光および
Y軸方向成分の光に対して共に高い透過率が得られる。
【0031】また、請求項9によれば、前記nF1(λn)
と、nLC1(λn)と、nLC2(λn)と、前記液晶層の厚みd
LCと、前記フィルムの厚みdF とを、前記少なくとも隣
り合う一組のフィルムと液晶層との間において、下記
〔8〕および
〔9〕の条件
【0032】
【数29】
【0033】の少なくとも一方の条件を満たすようにし
たことを特徴とする請求項3乃至8のいずれかに記載の
表示装置が提供される。
【0034】この請求項9の表示装置においては、
〔8〕の条件を満たす場合に所定の波長(λn )の光の
X軸方向成分の光に対してフィルムによる反射が強くな
る。また、電圧印加時には、液晶分子が完全にフィルム
に対して垂直にならない場合が多いが、条件
〔9〕の範
囲内において、印加電圧に応じてnLC2(λn) とdLC
を適切に設定することにより、所定の波長(λn )の光
のX軸方向成分の光に対する液晶層による反射を強くす
ることができる。なお、前記所定の波長(λn )の光の
Y軸方向成分の光に対しては条件〔2〕より透過状態と
なる。
【0035】また、請求項10によれば、前記液晶層に
使用される液晶分子の長軸が、電圧無印加時に、少なく
とも前記液晶層の前記積層方向での中央部付近におい
て、前記フィルムに対しほぼ垂直方向に配向(ホメオト
ロピック配向)するようにし、前記複合多層膜が電圧印
加時に光透過状態となり電圧無印加時に光反射状態とな
るようにしたことを特徴とする請求項1または2記載の
表示装置が提供される。
【0036】この請求項10の表示装置においては、電
圧印加時に所定の波長(λn )の光のX軸方向成分の光
およびY方向成分の光に対して共に光透過状態となり、
電圧無印加時に所定の波長(λn )の光のX軸方向成分
の光に対して反射が強くなり、Y軸方向成分の光に対し
ては透過状態となる。また、液晶層には誘電率異方性
(Δε)が負(Δε<0)のものが好ましく使用され
る。
【0037】また、請求項11によれば、前記nLC1(λ
n) 、nLC2(λn) およびnF1(λn)を、前記少なくとも
隣り合う一組のフィルムと液晶層との間において、下記
〔10〕の条件
【0038】
【数30】
【0039】を満たすようにしたことを特徴とする請求
項10記載の表示装置が提供される。
【0040】請求項10の表示装置においては、電圧印
加時に所定の波長(λn )の光のX軸方向成分の光に対
して光透過状態となるが、電圧印加時には液晶分子が完
全にフィルムに対して水平にならない場合が多い。そこ
で、請求項11のように、条件〔10〕の範囲内におい
て、印加電圧に応じてnLC1(λn) とnF1(λn)とを適切
に設定することにより、好ましくはnF1(λn)を電圧印
加時における液晶層の所定の波長(λn )の光に対する
X軸方向の平均的な屈折率とほぼ等しくすることによ
り、所定の波長(λn )の光のうちX軸方向成分の光を
電圧印加時に前記少なくとも隣り合う一組のフィルムと
液晶層とを十分に透過するようにすることができる。な
お、前記所定の波長(λn )の光のY軸方向成分の光に
対しては条件〔2〕より透過状態となる。
【0041】また、請求項12によれば、前記nF1(λ
n)を、電圧印加時における前記液晶層の前記所定の波長
(λn )の光に対する前記X軸方向の平均的な屈折率と
ほぼ等しくしたことを特徴とする請求項10または11
記載の表示装置が提供される。
【0042】また、請求項13によれば、前記nF1(λ
n)と、nLC2(λn)と、前記液晶層の厚みdLCと、前記フ
ィルムの厚みdF とを、前記少なくとも隣り合う一組の
フィルムと液晶層との間において、下記〔11〕および
〔12〕の条件
【0043】
【数31】
【0044】の少なくとも一方の条件を満たすようにし
たことを特徴とする請求項10乃至12のいずれかに記
載の表示装置が提供される。
【0045】この請求項13の表示装置においては、
〔11〕の条件を満たす場合に所定の波長(λn )の光
のX軸方向成分の光に対してフィルムによる反射が強く
なり、〔12〕の条件を満たす場合に所定の波長(λ
n )の光のX軸方向成分の光に対して液晶層による反射
が強くなる。なお、前記所定の波長(λn )の光のY軸
方向成分の光に対しては条件〔2〕より透過状態とな
る。この表示装置は、液晶層に使用される液晶分子の長
軸が、電圧無印加時に、フィルム近傍において、フィル
ムに対してほぼ垂直方向に配向している場合に、所定の
波長(λn )の光のX軸方向成分の光に対してフィルム
および液晶層の少なくとも一方による反射が強くなる。
【0046】また、請求項14によれば、前記液晶層に
使用される液晶分子の長軸が、電圧無印加時に、前記フ
ィルム近傍において、前記フィルムに対してほぼ垂直方
向に配向していることを特徴とする請求項10乃至13
のいずれかに記載の表示装置が提供される。
【0047】また、請求項15によれば、前記nLC2(λ
n) およびdLCを、前記少なくとも隣り合う一組のフィ
ルムと液晶層との間において、下記〔13〕および〔1
4〕の条件
【0048】
【数32】
【0049】を満たすようにしたことを特徴とする請求
項10乃至12のいずれかに記載の表示装置が提供され
る。
【0050】この請求項15の表示装置においては、
〔13〕の条件を満たす場合に所定の波長(λn )の光
のX軸方向成分の光に対してフィルムによる反射が強く
なる。また、液晶層に使用される液晶分子の長軸が、電
圧無印加時に、フィルム近傍において、フィルムに対し
て垂直方向から所定の角度傾いて配向している場合に
は、液晶層のX軸方向の屈折率は液晶の短軸方向の屈折
率nLC2(λn) よりも大きくなる。そこで、条件〔1
4〕の範囲内において、電圧無印加時における液晶分子
の垂直方向からの傾きに応じてnLC2(λn) とdLCとを
適切に設定することにより、所定の波長(λn )の光の
うちX軸方向成分の光に対する液晶層による電圧無印加
時の反射を強くすることができる。なお、前記所定の波
長(λn )の光のY軸方向成分の光に対しては条件
〔2〕より透過状態となる。
【0051】また、請求項16によれば、前記液晶層に
使用される液晶分子の長軸が、電圧無印加時に、前記フ
ィルム近傍において、前記フィルムに対して垂直方向か
ら所定の角度、好ましくは1度から40度、傾いて配向
していることを特徴とする請求項10、11、12また
は15記載の表示装置が提供される。
【0052】また、請求項17によれば、フィルムと液
晶層とが交互に積層された複合多層膜を備え、前記複合
多層膜に電圧を印加して前記複合多層膜における光反射
率を制御する表示装置であって、前記液晶層に使用され
る液晶の所定の波長(λn )の光に対する長軸方向の屈
折率nLC1(λn) および短軸方向の屈折率nLC2(λn)
と、前記フィルムの前記所定の波長(λn )の光に対す
る前記フィルム面内の互いに直交するX軸方向とY軸方
向のそれぞれの屈折率nF1(λn)およびnF2(λn)とを、
前記複合多層膜の前記フィルムと液晶層のうちの少なく
とも隣り合う一組のフィルムと液晶層との間において、
下記〔15〕および〔16〕の条件
【0053】
【数33】
【0054】を満たすようにしたことを特徴とする表示
装置が提供される。
【0055】この請求項17の表示装置においては、
〔15〕および〔16〕の条件を満たす場合に、所定の
波長(λn )の光のX軸方向成分の光およびY軸方向成
分の光に対して共に透過状態となる。なお、反射はフィ
ルムと液晶層との間で屈折率が異なれば生じ、また、液
晶は一般に印加電圧を変えると屈折率が変わるから、反
射状態は電圧の印加状態を変えることによって生じさせ
ることができ、電圧による光変調が可能である。
【0056】また、請求項18によれば、前記nF1(λ
n)と、nLC1(λn) と、前記液晶層の厚みdLCと、前記
フィルムの厚みdF とを、前記少なくとも隣り合う一組
のフィルムと液晶層との間において、下記〔17〕およ
び〔18〕の条件
【0057】
【数34】
【0058】の少なくとも一方の条件を満たすようにし
たことを特徴とする請求項17記載の表示装置が提供さ
れる。
【0059】この請求項18の表示装置においては、
〔17〕の条件を満たす場合に所定の波長(λn )の光
のX軸方向成分の光に対してフィルムによる反射が強く
なり、〔18〕の条件を満たす場合に所定の波長(λ
n )の光のX軸方向成分の光に対して液晶層による反射
が強くなる。なお、前記所定の波長(λn )の光のY軸
方向成分の光に対しては条件〔16〕より透過状態とな
る。
【0060】また、請求項19によれば、前記液晶層に
使用される液晶分子の長軸が、電圧無印加時に、少なく
とも前記フィルム近傍において前記フィルムに対しほぼ
水平方向に配向(ホモジニヤス配向)しかつ前記X軸方
向に配向するようにし、前記複合多層膜が電圧印加時に
光透過状態となり電圧無印加時に光反射状態となるよう
にしたことを特徴とする請求項17または18記載の表
示装置が提供される。
【0061】この請求項19の表示装置においては、電
圧印加時に所定の波長(λn )の光のX軸方向成分の光
およびY方向成分の光に対して共に光透過状態となり、
電圧無印加時に所定の波長(λn )の光のX軸方向成分
の光に対して反射が強くなり、Y軸方向成分の光に対し
ては透過状態となる。また、液晶層には誘電率異方性
(Δε)が正(Δε>0)のものが好ましく使用され
る。
【0062】また、請求項20によれば、前記nLC1(λ
n) 、nLC2(λn) およびnF1(λn)を、前記少なくとも
隣り合う一組のフィルムと液晶層との間において、下記
〔19〕の条件
【0063】
【数35】
【0064】を満たすようにしたことを特徴とする請求
項19記載の表示装置が提供される。
【0065】請求項19の表示装置においては、電圧印
加時に所定の波長(λn )の光のX軸方向成分の光に対
して光透過状態となるが、電圧印加時には、液晶分子が
完全にフィルムに対して垂直にならない場合が多く、そ
の場合には、液晶層のX軸方向の屈折率は液晶の短軸方
向の屈折率nLC2(λn) よりも大きくなる。そこで、請
求項20のように、条件〔19〕の範囲内において、印
加電圧に応じてnLC2(λn) とnF1(λn)とを適切に設定
することにより、好ましくは、nF1(λn)を、電圧印加
時における液晶層の所定の波長(λn )の光に対するX
軸方向の平均的な屈折率とほぼ等しくすることにより、
所定の波長(λn )の光のうちX軸方向成分の光を前記
少なくとも隣り合う一組のフィルムと液晶層とを十分に
透過するようにすることができる。なお、Y軸方向成分
の光に対しては条件〔16〕より高い透過率が得られ
る。
【0066】また、請求項21によれば、前記nF1(λ
n)を、電圧印加時における前記液晶層の前記所定の波長
の光に対する前記X軸方向の平均的な屈折率とほぼ等し
くしたことを特徴とする請求項19または20記載の表
示装置が提供される。
【0067】また、請求項22によれば、前記nF1(λ
n)と、nLC1(λn)と、前記液晶層の厚みdLCと、前記フ
ィルムの厚みdF とを、前記少なくとも隣り合う一組の
フィルムと液晶層との間において、下記〔20〕および
〔21〕の条件
【0068】
【数36】
【0069】の少なくとも一方の条件を満たすようにし
たことを特徴とする請求項19乃至21のいずれかに記
載の表示装置が提供される。
【0070】この請求項22の表示装置においては、
〔20〕の条件を満たす場合に所定の波長(λn )の光
のX軸方向成分の光に対してフィルムによる反射が強く
なり、〔21〕の条件を満たす場合に所定の波長(λ
n )の光のX軸方向成分の光に対して液晶層による反射
が強くなる。なお、前記所定の波長(λn )の光のY軸
方向成分の光に対しては条件〔16〕より透過状態とな
る。この表示装置は、前記液晶が電圧無印加時に前記フ
ィルムに対してプレチルト角をほとんど有さないで配向
している場合に、所定の波長(λn )の光のX軸方向成
分の光に対して電圧無印加時にフィルムおよび液晶層の
少なくとも一方による反射が強くなる。
【0071】また、請求項23によれば、前記液晶が電
圧無印加時に前記フィルムに対してプレチルト角をほと
んど有さないで配向していることを特徴とする請求項1
9乃至22のいずれかに記載の表示装置が提供される。
【0072】また、請求項24によれば、前記nLC1(λ
n) およびdLCを、前記少なくとも隣り合う一組のフィ
ルムと液晶層との間において、下記〔22〕および〔2
3〕の条件
【0073】
【数37】
【0074】を満たすようにしたことを特徴とする請求
項19乃至21のいずれかに記載の表示装置が提供され
る。
【0075】この請求項24の表示装置においては、
〔22〕の条件を満たす場合に所定の波長(λn )の光
のX軸方向成分の光に対してフィルムによる反射が強く
なる。また、液晶が電圧無印加時にフィルムに対して所
定のプレチルト角をもって配向している場合には、液晶
層のX軸方向の屈折率は液晶の長軸方向の屈折率nLC1(
λn) よりも小さくなる。そこで、条件〔23〕の範囲
内において、プレチルト角に応じてnLC1(λn) とdLC
とを適切に設定することにより、所定の波長(λn)の
光のうちX軸方向成分の光に対する液晶層による反射を
強くすることができる。なお、前記所定の波長(λn
の光のY軸方向成分の光に対しては条件〔16〕より透
過状態となる。
【0076】また、請求項25によれば、前記液晶が電
圧無印加時に前記フィルムに対して所定のプレチルト
角、好ましくは1度から40度、をもって配向している
ことを特徴とする請求項19、20、21または24記
載の表示装置が提供される。
【0077】また、請求項26によれば、前記液晶層に
使用される液晶分子の長軸が、電圧無印加時に、少なく
とも前記液晶層の前記積層方向での中央部付近におい
て、前記フィルムに対しほぼ垂直方向に配向(ホメオト
ロピック配向)するようにし、前記複合多層膜が電圧無
印加時に光透過状態となり電圧印加時に光反射状態とな
るようにしたことを特徴とする請求項17または18記
載の表示装置が提供される。
【0078】この請求項26の表示装置においては、電
圧無印加時に所定の波長(λn )の光のX軸方向成分の
光およびY軸方向成分の光に対して共に光透過状態とな
り、電圧印加時に所定の波長(λn )の光のX軸方向成
分の光に対して反射が強くなり、Y軸方向成分の光に対
しては透過状態となる。また、液晶層には誘電率異方性
(Δε)が負(Δε<0)のものが好ましく使用され
る。
【0079】また、請求項27によれば、前記nLC1(λ
n) 、nLC2(λn) 、nF1(λn)およびnF2(λn)を、前記
少なくとも隣り合う一組のフィルムと液晶層との間にお
いて、下記〔24〕の条件
【0080】
【数38】
【0081】を満たすようにしたことを特徴とする請求
項17、18または26記載の表示装置が提供される。
【0082】この請求項27の表示装置は、液晶層に使
用される液晶分子の長軸が、電圧無印加時に、フィルム
近傍において、フィルムに対してほぼ垂直方向に配向し
ている場合に、電圧無印加時に所定の波長(λn )の光
のX軸方向成分の光およびY軸方向成分の光に対して共
に高い光透過率を与える。
【0083】また、請求項28によれば、前記液晶層に
使用される液晶分子の長軸が、電圧無印加時に、前記フ
ィルム近傍において、前記フィルムに対してほぼ垂直方
向に配向していることを特徴とする請求項26または2
7記載の表示装置が提供される。
【0084】また、請求項29によれば、前記nLC2(λ
n) およびnF1(λn)を、前記少なくとも隣り合う一組の
フィルムと液晶層との間において、下記〔25〕の条件
【0085】
【数39】
【0086】を満たすようにしたことを特徴とする請求
項17、18または26記載の表示装置が提供される。
【0087】液晶層に使用される液晶分子の長軸が、電
圧無印加時に、フィルム近傍において、フィルムに対し
て垂直方向から所定の角度傾いて配向している場合に
は、液晶層のX軸方向の屈折率は液晶の短軸方向の屈折
率nLC2(λn) よりも大きくなる。そこで、条件〔2
5〕の範囲内において、電圧無印加時における液晶分子
の垂直方向からの傾きに応じてnLC2(λn) とnF1(λn)
とを適切に設定することにより、好ましくは、nF1(λ
n)を、電圧無印加時における液晶層の所定の波長(λ
n )の光に対するX軸方向の平均的な屈折率とほぼ等し
くすることにより、所定の波長(λn )の光のうちX軸
方向成分の光を電圧無印加時に前記少なくとも隣り合う
一組のフィルムと液晶層とを十分に透過するようにする
ことができる。従って、この請求項29の表示装置は、
液晶層に使用される液晶分子の長軸が、電圧無印加時
に、フィルム近傍において、フィルムに対して垂直方向
から所定の角度傾いて配向している場合に所定の波長
(λn )の光のX軸方向成分の光に対して電圧無印加時
に高い透過率を与える。なお、Y軸方向成分の光に対し
ては条件〔16〕より高い透過率が得られる。
【0088】また、請求項30によれば、前記液晶層に
使用される液晶分子の長軸が、電圧無印加時に、前記フ
ィルム近傍において、前記フィルムに対して垂直方向か
ら所定の角度、好ましくは1度から40度、傾いて配向
していることを特徴とする請求項26または27記載の
表示装置が提供される。
【0089】また、請求項31によれば、前記nF1(λ
n)を、電圧無印加時における前記液晶層の前記所定の波
長(λn)の光に対する前記X軸方向の平均的な屈折率
とほぼ等しくし、且つ前記nF2(λn )を、電圧無印加時
における前記液晶層の前記所定の波長(λn )の光に対
する前記Y軸方向の平均的な屈折率とほぼ等しくしたこ
とを特徴とする請求項26乃至30のいずれかに記載の
表示装置が提供される。
【0090】このようにすれば、電圧無印加時におい
て、所定の波長(λn )の光のX軸方向成分の光および
Y軸方向成分の光に対して共に高い透過率が得られる。
【0091】また、請求項32によれば、前記nF1(λ
n)と、nLC1(λn)と、nLC2(λn)と、前記液晶層の厚み
LCと、前記フィルムの厚みdF とを、前記少なくとも
隣り合う一組のフィルムと液晶層との間において、下記
〔26〕および〔27〕の条件
【0092】
【数40】
【0093】の少なくとも一方の条件を満たすようにし
たことを特徴とする請求項26乃至31のいずれかに記
載の表示装置が提供される。
【0094】この請求項32の表示装置においては、
〔26〕の条件を満たす場合に所定の波長(λn )の光
のX軸方向成分の光に対してフィルムによる反射が強く
なる。また、電圧印加時には、液晶分子が完全にフィル
ムに対して水平にならない場合が多いが、条件〔27〕
の範囲内において、印加電圧に応じてnLC1(λn) とdL
Cとを適切に設定することにより、所定の波長(λn
の光のX軸方向成分の光に対する電圧印加時の液晶層に
よる反射を強くすることができる。なお、前記所定の波
長(λn )の光のY軸方向成分の光に対しては条件〔1
6〕より透過状態となる。
【0095】また、請求項33によれば、前記nF1(λ
n) 、dF およびλn を、下記〔28〕の条件
【0096】
【数41】
【0097】を満たすようにしたことを特徴とする請求
項1乃至32のいずれかに記載の表示装置が提供され
る。
【0098】また、請求項34によれば、前記nF2(λ
n) 、dF およびλn を、下記〔29〕の条件
【0099】
【数42】
【0100】を満たすようにしたことを特徴とする請求
項1乃至32のいずれかに記載の表示装置が提供され
る。
【0101】また、請求項35によれば、前記λn 、n
LC2(λn) およびdLCを、下記〔30〕の条件
【0102】
【数43】
【0103】を満たすようにしたことを特徴とする請求
項1乃至34のいずれかに記載の表示装置が提供され
る。
【0104】また、請求項36によれば、前記λn 、n
LC1(λn) 、およびdLCを、下記〔31〕の条件
【0105】
【数44】
【0106】を満たすようにしたことを特徴とする請求
項1乃至35のいずれかに記載の表示装置が提供され
る。
【0107】これら、請求項33乃至36の表示装置の
ように、反射する波長が所定の波長λn に対して(1/
8)λn 程度ずれても、反射の中心波長がずれるだけで
反射そのものは行われる。
【0108】また、請求項37によれば、前記複合多層
膜の複数のフィルムと複数の液晶層との間で請求項1乃
至36のいずれかの要件を満たすようにしたことを特徴
とする請求項1乃至36のいずれかに記載の表示装置が
提供される。
【0109】このように、前記複合多層膜の複数のフィ
ルムと複数の液晶層との間で請求項1乃至36のいずれ
かの要件を満たすようするには、前記液晶層に使用され
る液晶の所定の波長(λn )の光に対する長軸方向の屈
折率nLC1(λn) および短軸方向の屈折率nLC2(λn)
前記液晶層の厚みdLCとを複数の液晶層間でほぼ同一と
し、前記フィルムの前記所定の波長(λn )の光に対す
る前記X軸方向の屈折率nF1(λn)と前記Y軸方向の屈
折率nF2(λn)と前記フィルムの厚みdF とを複数のフ
ィルム間でほぼ同一とすることが好ましい。
【0110】また、請求項38によれば、前記所定の波
長(λn )の光のP波およびS波に対して、請求項1乃
至37のいずれかの要件をそれぞれ満たす少なくとも2
つの前記複合多層膜を積層して設け、前記積層された複
合多層膜に電圧を印加して前記積層された複合多層膜の
光反射率を制御することを特徴とする表示装置が提供さ
れる。
【0111】この請求項38の表示装置においては、前
記所定の波長(λn )の光のP波およびS波の両方に対
して透過および反射を制御できるので、よりコントラス
トの高い表示装置が実現できる。
【0112】また、請求項39によれば、複数の異なる
所定の波長(λn =λ1 、λ2 ・・・λL )に対して、
請求項1乃至37のいずれかに記載の条件をそれぞれ満
たす複数の前記複合多層膜を積層して設け、前記積層さ
れた複数の複合多層膜に電圧を印加して前記積層された
複数の複合多層膜の光反射率を制御することを特徴とす
る表示装置が提供される。
【0113】また、請求項40によれば、複数の異なる
所定の波長(λn =λ1 、λ2 ・・・λL )の光のそれ
ぞれのP波とS波に対して請求項1乃至37のいずれか
に記載の条件をそれぞれ満たす前記複数の複合多層膜を
積層して設け、前記積層された複数の複合多層膜に電圧
を印加して前記積層された複数の複合多層膜の光反射率
を制御することを特徴とする表示装置が提供される。
【0114】これら、請求項39、40の表示装置にお
いては、前記複数の複合多層膜が複数のフィルムと複数
の液晶層とをそれぞれ備え、前記液晶層に使用される液
晶の所定の波長(λn )の光に対する長軸方向の屈折率
LC1(λn) および短軸方向の屈折率nLC2(λn) と前記
液晶層の厚みdLCとを、同一の複合多層膜内の複数の液
晶層間でほぼ同一とし、異なる複合多層膜間では異なら
せ、前記フィルムの前記所定の波長(λn )の光に対す
る前記X軸方向の屈折率nF1(λn)と前記Y軸方向の屈
折率nF2(λn)と前記フィルムの厚みdF とを、同一の
複合多層膜内の複数の液晶層間でほぼ同一とし、異なる
複合多層膜間では異ならせることが好ましい。
【0115】また、請求項41によれば、前記所定の波
長(λn )に対して、前記nLC1(λn) およびnLC2(λ
n) が、下記〔32〕の条件
【0116】
【数45】
【0117】を満たすようにしたことを特徴とする請求
項1乃至38のいずれかに記載の表示装置が提供され
る。
【0118】また、請求項42によれば、前記複数の異
なる所定の波長(λn =λ1 、λ2 ・・・λL )に対し
て、前記nLC1(λn) およびnLC2(λn) が、下記〔3
3〕の条件
【0119】
【数46】
【0120】をそれぞれ満たすようにしたことを特徴と
する請求項39または40記載の表示装置が提供され
る。
【0121】このように、液晶の複屈折率性を、nLC1(
λn) /nLC2(λn) ≧1.10とすると、フィルムと液
晶層の層数を少なくしても、高い反射率が得られる。
【0122】また、請求項43によれば、前記複合多層
膜における前記フィルムの層数と前記液晶層の層数との
合計層数または前記積層された複数の複合多層膜におけ
る前記フィルムの層数と前記液晶層の層数との合計層数
を100以上としたことを特徴とする請求項1乃至42
のいずれかに記載の表示装置が提供される。
【0123】このように、前記フィルムの層数と前記液
晶層の層数との合計層数を100以上とすると、反射率
の高い表示装置が得られる。
【0124】また、請求項44によれば、前記複数の異
なる所定の波長(λn =λ1 、λ2 ・・・λL )の光
が、3乃至12の異なる所定の波長(λn =λ1 、λ2
・・・λL 、3≦L≦12)の光であり、前記3乃至1
2の異なる所定の波長(λn =λ1 、λ2 ・・・λL
3≦L≦12)の光に対して、前記nLC1(λn) および
LC2(λn) が、下記〔34〕の条件
【0125】
【数47】
【0126】をそれぞれ満たすようにし、前記積層され
た複数の複合多層膜における前記フィルムの層数と前記
液晶層の層数との合計層数を約100乃至400とした
ことを特徴とする請求項39または40記載の表示装置
が提供される。
【0127】また、請求項45によれば、前記3乃至1
2の異なる所定の波長(λn =λ1 、λ2 ・・・λL
の光が、3の倍数の異なる所定の波長(λn =λ1 、λ
2 ・・・λL 、3≦L≦12、Lは3の倍数)の光であ
ることを特徴とする請求項44記載の表示装置が提供さ
れる。
【0128】これら、請求項44、45の表示装置にお
いては、例えば、赤色光、緑色光および青色光の光に対
してそれぞれ反射条件を満足させるようして、白色表示
を容易に実現することができる。
【0129】また、請求項46によれば、前記複数の異
なる所定の波長(λn =λ1 、λ2 ・・・λL )の光
が、4乃至8の異なる所定の波長(λn =λ1 、λ2
・・λL 、4≦L≦8)の光であり、前記4乃至8の異
なる所定の波長(λn =λ1 、λ2 ・・・λL 、4≦L
≦8)の光に対して、前記nLC1(λn) およびnLC2(λ
n) が、下記〔35〕の条件
【0130】
【数48】
【0131】をそれぞれ満たすようにし、前記積層され
た複数の複合多層膜における前記フィルムの層数と前記
液晶層の層数との合計層数を約100乃至300とした
ことを特徴とする請求項44記載の表示装置が提供され
る。
【0132】また、請求項47によれば、前記複数の異
なる所定の波長(λn =λ1 、λ2 ・・・λL )の光
が、可視光であることを特徴とする請求項39、40、
42乃至46記載の表示装置が提供される。
【0133】また、請求項48によれば、前記複数の異
なる所定の波長の光(λn =λ1 、λ2 ・・・λL )の
うち、少なくとも1つの波長の光を赤外線領域の波長の
光としたことを特徴とする請求項39、40、42乃至
46のいずれかに記載の表示装置が提供される。
【0134】表示装置を斜めから見ると、反射波長は短
波長側にシフトする。従って、正面明視からの反射波長
域を赤外領域まで広げておけば、正面および斜め方向の
いずれの方向から表示を見ても白色の反射が実現でき
る。なお、好ましくは、約1200nmまでシフトさせ
ておくことが好ましい。
【0135】また、本発明において、上記各請求項記載
の発明は、好ましくは、前記複合多層膜または前記積層
された複数の複合多層膜が一対の基板間に挟持される。
【0136】そして、好ましくは、前記一対の基板の一
方の外側に光散乱手段を配置し、前記一対の基板の他方
の外側に光吸収手段を具備する。
【0137】前記液晶層は、好ましくは、ネマチック液
晶、もしくはスメクチック液晶、もしくはネマチック液
晶、もしくはネマチック型高分子液晶、もしくはスメク
チック型高分子液晶、もしくはそれらの混合物からな
る。
【0138】また、前記液晶層はディスコティック液
晶、もしくはディスコティック液晶とネマチック液晶と
の混合物からなることも好ましい。
【0139】また、前記液晶層はネマチック液晶分子か
らなり、且つ該液晶分子の長軸は、電圧無印加時に前記
基板又は前記フィルムに対しほぼ水平方向に配列させて
なるようにすることができる。
【0140】また、前記液晶層はネマチック液晶分子か
らなり、且つ該液晶分子の長軸は、電圧無印加時に前記
基板又は前記フィルムに対しほぼ垂直方向に配列させて
なるようにしてもよい。
【0141】また、前記光吸収手段は、前記複合多層膜
を透過する任意の波長帯域もしくは可視光領域の波長帯
域の光を吸収するようにすることが好ましい。
【0142】また、前記積層された複数の複合多層膜を
一対の基板間に挟持する場合には、好ましくは、前記1
対の基板の内面または外面に電極をそれぞれ設け、前記
積層された複数の複合多層膜間の所定の部分に、少なく
とも片面、好ましくは両面に電極を有する中間層を一層
もしくは複数層介在させ、前記一対の基板の一方の外側
に光散乱手段、前記一対の基板の他方の外側に光吸収手
段を配置する。
【0143】また、好ましくは、前記各複合多層膜毎に
独立に電圧印加する電極を配置する。
【0144】また、好ましくは、前記液晶層はネマチッ
ク液晶分子からなり、前記表示装置は、該ネマチック液
晶分子の略長軸方向もしくは該長軸方向と略直交する方
向の偏光成分の光を反射するように設定された複合多層
膜を少なくとも含む。
【0145】また、好ましくは、前記フィルムは光学的
に略一軸性を持ったフィルム、又は延伸させたフィルム
である。
【0146】また、好ましくは、前記積層された複合多
層膜を2つのブロックに分割し、第1のブロックの液晶
層の液晶分子長軸方向と第2のブロックの液晶層の液晶
分子長軸方向とをほぼ直交させる。
【0147】この場合に、好ましくは、前記第1及び第
2のブロックに独立に電圧印加する電極を配置する。
【0148】また、好ましくは、前記フィルム面の少な
くとも一面に前記液晶層の材料を塗布し、前記液晶材料
が塗布されたフィルムを、複数層ローラーで重ね合わ
せ、一体化させて前記複合多層膜を形成する。
【0149】そして、好ましくは、前記ローラーで重ね
合わせる際に、定められた温度に加熱して、前記液晶層
の粘度を下げた状態で、一体化させる。
【0150】また、前記フィルムに予め一軸延伸処理を
施し、液晶分子を配向させる配向機能を持たせておくこ
とも好ましい。
【0151】また、前記フィルム面上に前記液晶層の材
料を塗布し、前記液晶材料が塗布されたフィルムを、複
数層ローラーで重ね合わせ、一体化させた後、更に圧延
ローラーで延伸処理を施し、フィルムの厚みと液晶層の
厚みとを、所定の値に合わせ込むことにより前記複合多
層膜を形成することも好ましい。
【0152】また、前記フィルムに導電性を付与させて
もよい。
【0153】また、前記複合多層膜は、前記液晶層と前
記フィルムを少なくとも10層以上積層して構成するこ
とが好ましい。
【0154】さらに好ましくは、前記複合多層膜は、前
記液晶層と前記フィルムを少なくとも21層以上積層し
て構成する。
【0155】
【発明の実施の形態】次に本発明の実施の形態を添付の
図面を参照して説明する。
【0156】(第1の実施の形態)図1は、本発明に係
わる表示装置の基本構造及びその表示原理を示す図、す
なわち、反射/透過を制御する光変調素子の基本構造を
示す図である。1及び2は、透明プラスチック板、もし
くは透明プラスチックフィルム、もしくは透明ガラス板
からなる上、下基板、3および4は、該上、下基板上
1、2にそれぞれ形成された透明電極層で、酸化インジ
ウム、酸化スズ、又はそれらの混合物からなる。8、
9、10、11は液晶層、5、6、7はプラスチックフ
ィルム(以下、単にフィルムと呼ぶ)で、該液晶層8、
9、10、11と該フィルム5、6、7は交互に重なり
合って複合多層膜18を構成している。12は上下の基
板1、2を接着固定する周辺シール部で、以上より本発
明の表示装置は基本的に構成されている。本実施の形態
に於いては、液晶層8、9、10、11は誘電異方性が
正のネマチック液晶を用い、その液晶分子長軸はフィル
ム5、6、7の面にほぼ水平に配向させてある。
【0157】図2(a)、図2(b)は、本発明の表示
原理を示す図で、フィルム5、6、7、液晶層8、9、
10、11を抜き出して図示している。従って、図1の
各フィルム、各液晶層に図番を対応させてある。図2
(a)は図1の13の領域すなわち上下の電極3、4間
に電圧が印加されていない領域(詳しくは液晶のしきい
値電圧以下の電圧印加状態の領域を示すと考えてもよ
い。以下、各実施の形態および各実施例における電圧無
印加の状態とは同様の状態であると考えてもよい。)の
状態を示す図である。ここでは、液晶分子はフィルム面
に対し、ほぼ水平に配向した状態であり、液晶層の液晶
分子長軸方向の屈折率はnLC1 である。図2(b)は、
図1の14の領域、すなわち上下の電極3、4間に電圧
の印加されている領域(詳しくは液晶の飽和電圧の印加
状態の領域を示すと考えてよい。以下、各実施の形態お
よび各実施例における電圧印加の状態とは同様の状態で
あると考えてもよい。)の状態を示す図である。ここで
は液晶分子はフィルム面に対し略垂直に配向した状態
で、液晶層の屈折率は液晶分子短軸方向の屈折率nLC2
である。ネマチック液晶の一般的性質より、電圧印加の
有無により液晶層の屈折率は変化し、
【0158】
【数49】
【0159】である。そこで、
【0160】
【数50】
【0161】(2)式を充たすような液晶材料及びフィ
ルム材を選定し、上記液晶層8、9、10、11および
フィルム5、6、7に使用すると図1、図2(b)に示
すように電圧印加領域14では、上記液晶層とフィルム
との境界では屈折率差がなく、入射光16はそのまま透
過する。
【0162】実際には、上述した様に、液晶分子は上記
液晶層の層内全てで、フィルム面に対して垂直に配列す
る事はなく、フィルム面に近接した液晶分子はフィルム
面に水平な方向成分を持つ配列を取る。従って、この時
の各液晶層の平均的な屈折率はnLC2 とはならず、それ
よりも大きな屈折率《nLC2 》(《nLC2 》>nLC2
となる。この場合にはフィルムの屈折率nF
《nLC2 》とした場合、すなわち
【0163】
【数51】
【0164】の場合に入射光16を最も強く透過する。
【0165】更に好ましくは、フィルムには若干の複屈
折性(X軸方向の屈折率をnF1、Y軸方向の屈折率をn
F2とする。なおここでX軸方向とはフィルムに隣接する
上記液晶分子の長軸方向であり、Y軸方向とは同短軸方
向である。)を持たせ
【0166】
【数52】
【0167】とすれば、入射光16は、表面、裏面によ
る反射損失を除き殆ど全て透過する。
【0168】次に電圧無印加領域13に於いては、文献
1(応用光学II、鶴田匡夫著、4−3−3(II)参照)
に示すように、次式(3)、(4)
【0169】
【数53】
【0170】を充たすように、液晶層8、9、10、1
1の厚みと、フィルム5、6、7の厚みを設定すれば、
図1、図2(a)に示すように、波長λ0 の入射光15
を最も強く干渉反射する。
【0171】又、反射光17の強度は、上記液晶層及び
フィルムの枚数の多い程、言い換えれば上記複合多層膜
の層数の多い程、反射光17の強度は増す。本実施の形
態の図面ではフィルムと液晶層との合計で7層しか描か
れていないが、好ましくは10層以上が良い。
【0172】以上の様に、正の誘電異方性を持つネマチ
ック液晶材料とフィルム材料とを(2)式、(2)’式
または(2)’’式および(2)’’’式を充たす様に
それぞれ選定し、(3)式、(4)式を充たす様に液晶
層の厚みとフィルムの厚みとを合わせ込み、上記液晶層
とフィルムを交互に好ましくは10層以上積み重ねれ
ば、電圧印加時には入射光が透過し、電圧無印加時には
入射光が反射する光変調素子が出来、表示装置として機
能する事が判る。そして、上記表示装置では、光を吸収
する偏光板を使用せず、光を有効に利用した明るい表示
装置となる事も明らかである。更にフィルムと液晶層と
の境界面がフラットであるため、従来例1に比べ、その
干渉反射強度も明るさで優れている事も判る。
【0173】上述した第1の実施の形態では、液晶層と
してネマチック液晶材料を用いたが、複屈折性を有し、
電界で液晶分子方向が変わり、それにより屈折率が変化
する条件を備えた材料ならば何でも良く、ネマチック液
晶の他、スメクチック液晶、カイラルスメクチック液
晶、ネマチック液晶分子又はスメクチック液晶分子をポ
リマー鎖に結合させた高分子液晶、更には上記液晶と高
分子液晶の混合物などの材料も液晶層として使用でき
る。
【0174】特に文献2(液晶、基礎編、岡野光治・小
林駿介共著、培風館、1.3参照)に示されるディスコ
ティック液晶を用いれば、光学的に負の一軸性を持った
複屈折性を有している事から、フィルム層に略水平に配
向させた時、入射光に対する屈折率が全ての偏光方向で
一様となり、より強い多層膜干渉反射が得られる。この
場合、上記ディスコティック液晶そのものだけを電界で
分子方向制御してもよいが、特にネマチック液晶とディ
スコティック液晶とを混合した液晶を用いれば、粘度も
下がり、より容易に電界に従って分子軸の向きを変える
事ができる。
【0175】尚、本実施の形態を反射型表示装置として
用いる場合、下基板2の外側に光吸収層を配置してもよ
く、電圧無印加領域で波長λ0 光の表示、電圧印加領域
で透過光が吸収されて黒色表示となる、偏光板が不要で
コントラストの高い表示装置が実現できる。
【0176】(第2の実施の形態)次に本発明に係わる
表示装置の第2の実施の形態を図3により説明する。3
1、32は各々上、下基板であり互に対向する面上に透
明電極膜33、34をそれぞれ有する。23、24、2
5、26は各々液晶層で、27、28、29は各々フィ
ルムで、各液晶層と各フィルムは図示する様に、交互に
重なり合った構造をとり、全体として複合多層膜30を
形成している。35はエポキシ樹脂等からなり上下基板
を固着する周辺シール部である。本実施の形態では、誘
電異方性が正のネマチック液晶材料を上記液晶層23、
24、25、26に使用し、各フィルム面に対しほぼ水
平配向をさせている。
【0177】上記ネマチック液晶材料の複屈折率をn
LC1’ (液晶分子の長軸方向)、nLC 2 (液晶分子の
短軸方向)とし、nLC1 >nLC2 となるように設定
する。一方、フィルム27、28、29は一軸性の複屈
折性を有するフィルムであり、その屈折率はX軸方向の
屈折率をnF1’、Y軸方向の屈折率をnF2’とし、
F1’>nF2’となるように設定する。一般的にフィル
ムを延伸処理した場合、多くのフィルム材は延伸方向の
光軸屈折率が大きく、延伸方向と直交する方向の光軸屈
折率が小さくなる一軸性の複屈折性を示す事が知られて
いる。この場合、延伸方向が上記X軸であり、該X軸と
直交する方向がY軸となる。そして、上記ネマチック液
晶分子は各フィルム27、28、29の各面に対し水平
にかつその分子長軸方向を上記フィルムのX軸方位に配
列させてある。
【0178】さらに本実施の形態では、電圧無印加領域
40で波長λ0 の入射光36が透過するように条件を設
定してある。すなわち、波長λ0 に対して、
【0179】
【数54】
【0180】を充たす様に、まず液晶材料、及びフィル
ム材料を選定する。次に電圧印加部で波長λ0 の入射光
37が最も強く干渉反射をおこすように、文献1に従い
【0181】
【数55】
【0182】の条件を充たす様に、各液晶層の厚み(d
LC’)と各フィルムの厚み(dF )を設定すれば、電
圧無印加領域40では波長λ0 の入射光36は透過し、
電圧印加領域39では波長λ0 の入射光37は反射し、
反射光38となる。
【0183】前述した様に、本実施の形態に於いても反
射光強度を上げて、明るい表示装置を得るためには、複
合多層膜30の液晶層及びフィルムの層数を少なくとも
10層以上にする事が好ましい。以上の様に、本実施の
形態では電圧印加時に入射光を反射し、電圧無印加時に
入射光を透過する表示装置で、第1の実施の形態とは、
逆転したパターン表示が可能となる。
【0184】尚、本実施の形態を反射型表示装置として
も用いる場合、下基板32の外側に光吸収層を配置して
もよく、電圧無印加領域は透過光が吸収されて黒色表示
となり、電圧印加領域では波長λ0 光の表示となり、偏
光板が不要でコントラストの高い表示装置が実現でき
る。
【0185】(第3の実施の形態)図4は本発明の第3
の実施の形態で、41、42はそれぞれ上、下基板、4
3、44はそれぞれ該上、下基板41、42の互いに対
向する面上にそれぞれ形成された透明電極、45はエポ
キシ樹脂等からなり上下基板を固着する周辺シール部で
ある。46、47、48、49は液晶層で、フィルム5
0、51、52とそれぞれ交互に積層され、複合多層膜
57を形成している。本実施の形態に於いては、液晶層
46、47、48、49にはネマチック液晶材料を用
い、該ネマチック液晶材の分子配列は、電圧無印加時に
於いて、上、下基板41、42、及びフィルム50、5
1、52の各面に対して液晶分子の長軸を略垂直(ホメ
オトロピック配列)に配向させておく。そして、上記ネ
マチック液晶として誘電異方性が負の液晶材を選択すれ
ば、上記上下電極43、44間にほぼ飽和電圧が印加さ
れた電圧印加領域54では、上記液晶分子は上、下基板
41、42及びフィルム50、51、52の各面にほぼ
水平に配向する。上記ネマチック液晶材のその分子長軸
方向の屈折率をnLC1’’ 、その分子短軸方向の屈折率
をnLC2’’ (nLC1’’ >nLC2’’ )となるように
設定し、入射光55、56の波長λ0 に対して
【0186】
【数56】
【0187】(7)式を充たすように上記液晶層46、
47、48、49と上記フィルム50、51、52の材
料を選択すれば、電圧無印加領域(詳しくは液晶のしき
い値電圧以下の電圧印加状態の領域)53に於いては、
上記フィルムと液晶層の境界面に於いては屈折率の差が
殆どなく、波長λ0 の入射光55はほぼ透過する。
【0188】ここでも前述したように入射光55に対す
る液晶層46、47、48、49の各層の層内にわたる
平均屈折率《nLC2’’ 》とフィルムの屈折率とを一致
させる事が、最も強い透過光を得るために有効である。
【0189】更に入射光波長λ0 に対して、下記
(8)、(8)’式を充たす様、液晶層厚、フィルム厚
を設定すれば、
【0190】
【数57】
【0191】電圧印加領域54にて波長λ0 の入射光5
6は、複合多層膜57により強く干渉反射される。以上
の様に、電圧印加の有無により、入射光の反射/透過の
スイッチングが可能となり、表示装置として機能する事
が判る。
【0192】尚、本実施の形態を反射型表示装置として
用いる場合、下基板42の外側に光吸収層を設けてもよ
い。そうすると、電圧無印加領域では透過光が吸収され
て黒色表示となり、電圧印加領域では波長λ0 の光の表
示となり、偏光板が不要でコントラストの高い表示装置
を実現できる。
【0193】以上、3つの実施の形態を示したが、表示
装置としては干渉反射波長(λ0 )の波長帯域を広げた
明るい表示装置が望ましい。
【0194】最も望ましい白色反射光を得るためには、
赤、緑、青色等各色の波長域で、前記干渉反射条件を充
たす各複合多層膜を用意し、それらを重ね合わせた多重
複合多層膜を使用すれば良い。又、前記液晶層、フィル
ムの各々厚みを連続的に変え、好ましくは100層以上
とした複合多層膜を使用しても、明るい表示装置の実現
は可能となる。更に、上記実施の形態に用いたネマチッ
ク液晶の代わりに、特にディスコティック液晶を用いれ
ば、フィルムにほぼ水平に配向した状態で、ほぼ均一な
光の屈折率(入射光の各偏光に対して屈折率がほぼ均
一)をもつため、より光反射率が高く明るい表示装置と
なる。又、前述した(2)、(2)’、(5)、
(5)’、(7)式では波長λ0 に対して、液晶層の一
方の屈折率とフィルムの屈折率とを一致させ、入射光が
透過するようにさせたが、可視光波長域で全て上述した
各式を充たす様な屈折率を実現する事が好ましいが、そ
のためには、フィルム材料の屈折率の波長分散と液晶材
料の屈折率の波長分散とをできるだけ合わせる事も、各
材料の選定にあたっては重要である。しかし、一般的に
は液晶とフィルムの波長分散を一致させる事は困難で、
その場合、フィルム材を固定し、干渉反射波長毎に
(2)、(2)’、(5)、(5)’、(7)式を充た
す様に液晶材の屈折率を成分調合比により調整する方法
が現実的である。
【0195】(第4の実施の形態)次に、本発明に係わ
る明るい反射型表示装置の第4の実施の形態を図5を用
いて説明する。148、149、150、151は液晶
層、145、146、147はフィルム層で、それらは
交互に重なり合って複合多層膜159を形成している。
上記液晶層148、149、150、151とフィルム
145、146、147の各層の屈折率と厚みは前述し
た第1の実施の形態に示した様に、式(1)、(2)、
(2)’、(3)、(4)をほぼ充たす様に設定された
複合多層膜159である。152は上基板142の上部
に形成された光散乱層又は光散乱板からなる光散乱部で
ある。153は下基板141の下部に形成された光吸収
層又は光吸収板からなる光吸収部である。本実施の形態
の動作は、まず電圧無印加領域154に入射した光15
6は第1の実施の形態に示した様に干渉反射され、該反
射光は光散乱部152で散乱光158となり、外部に放
出される。従って鏡面のような反射光ではなく、紙面に
よる反射光のような見易い散乱反射光となる。一方、電
圧印加領域155では、入射した光157は前述の第1
の実施の形態に示した様に、そのまま透過し、光吸収部
153迄到達して吸収される。従って、電圧印加領域1
55では光吸収部153の色が観察される。
【0196】本実施の形態では、各液晶層148、14
9、150、151の厚みは全て等しく、更に各フィル
ム145、146、147の厚みも全て等しく設定して
あるため、限られた波長λ0 の光でしか透過/反射の電
圧制御ができなかったが、可視光波長域全ての波長域
で、上記干渉反射条件を充たすためには、上記広い可視
光波長域を構成する個々の狭い波長域(λ0 、λ1 、λ
2 、・・・、λn )毎に、各々干渉反射条件を充たすよ
う上記した実施の形態の複合多層膜を設け、干渉反射す
る波長の異なるn個の複合多層膜を積層して、各液晶層
とフィルムの厚みの組み合わせを光の進行方向に沿って
変え、トータルの層数を増やせばよい。つまり、前述し
た様に、赤、緑、青色等の各色の波長域で、前記干渉反
射条件を充たす各複合多層膜を用意して、それらを重ね
合わせた多重複合多層膜を複合多層膜159として使用
すれば、白色背景に黒表示を表示する(又は黒色背景に
白色表示すること)事も可能である。この場合、勿論、
光吸収部153は黒色にしておく事が必要である。
【0197】以上第4の実施の形態によれば、可視光の
各波長域に対応した干渉反射の条件を充たす複数の複合
多層膜により、従来例のように偏光板による光吸収がな
く、又、従来例1、2と違い液晶層とフィルム層の境界
面はフラットのため、干渉反射強度の高い、明るい白/
黒表示外観をもった反射型表示装置が提供できる。更に
上述した干渉ピッチの異なる複数の複合多層膜を重ねた
多重複合多層膜も、前述した方法により、容易に得られ
る。
【0198】(第5の実施の形態)図6は、第5の実施
の形態で、白色の背景地上に黒、赤、青等、多数の色の
文字、図形等を表示させる例である。
【0199】61、62は内面に透明電極を有する上、
下基板、63は前述した様に液晶層とフィルム層とを交
互に積み重ねた複合多層膜であり、第4の実施の形態に
て説明したように、液晶層及びフィルムの厚みの組み合
わせは複合多層膜63の上下方向で異ならせ、可視光領
域全体の波長光に対して干渉反射条件を充たす様に設定
されている。また、複合多層膜63は第1の実施の形態
で述べた式(1)、(2)、(2)’、(3)、(4)
をほぼ満たす。図6に於いては、紙面の制約から液晶層
とフィルム層とを合わせて7層しか描かれていないが、
可視光波長域全てで充分な干渉反射を行うためには、可
視光領域内の複数の波長を干渉反射する複合多層膜を反
射すべき波長毎に設け、これを積層することになるの
で、液晶層とフィルム層とを合わせた全層数を少なくと
も100層以上とすることが好ましい。64、65、6
6は光吸収部でそれぞれ黒、赤、緑色の色違いの光吸収
層又は光吸収板からなる。64、65、66を黒、赤、
緑色のフィルタとし、その下に光反射層68を形成して
もよい。67は光散乱部である。本実施の形態では、電
圧無印加領域に於いては、上記複合多層膜63は可視光
波長域の光を干渉反射し、ほぼ白色Wを呈する。一方、
電圧印加領域に於いては、入射光はそのまま透過し、下
部に配された異なった色調をもつ光吸収部(フィルタ
部)64、65、66で吸収され、このフィルタ部を透
過し、反射層68により反射された波長帯域が、異なっ
た色の表示として現れる(図中では赤色光と緑色光が反
射されている)。なお、黒の光吸収部64は多層膜層を
透過した光を吸収するため、この部分においては電圧印
加時には黒表示となる。従って同一表示面上で白色地の
背景に、黒色、赤色、緑色等を表示し図形/文字表現す
る事が可能である。更に前記光吸収部64、65、66
を画素毎に赤、青、緑の光吸収部に置き換えれば、フル
カラーの反射型表示装置にもなる事は明白である。
【0200】尚、光吸収部を赤、青、緑のカラーフィル
タとして下基板の内面に配置しても構わない。この場
合、反射層は下基板62の電極を反射電極としてもよ
く、また反射層を下基板の外側に配置しても構わない。
【0201】(第6の実施の形態)図7は、本発明の第
6の実施の形態で、71、72は内面に透明電極を有す
る上、下基板、74は光吸収部、73は光散乱部であ
る。80、81は、それぞれ液晶層とフィルム層とが交
互に積層してなる複合多層膜で、前述した様に、電圧無
印加時に於いて所望の波長域で干渉反射条件を充たす様
に、各層の屈折率及び膜厚が設定されている。77はフ
ィルム層で、上記複合多層膜80、81を構成するフィ
ルムと同じ材質、厚みでも、違う材質、厚みでも構わな
い。上記フィルム層77の上、下面にはそれぞれ透明電
極層78、79が形成されている。これにより、上下2
つの複合多層膜80と81とを別々に電圧印加できるた
め、駆動電圧が約半分に低減できる。上述した例では、
透明電極層を有するフィルム層77を中間部に1層挟ん
だが、複数層挟めば、更に駆動電圧が低減でき、耐圧の
低い半導体ICドライバーによる表示駆動も可能となる
事は明らかである。図中、電極75と78に接続された
構成、電極76と79に接続された構成は駆動回路を示
す(後述の実施の形態でも同様)。この2つの駆動回路
は2つの複合多層膜を別々に駆動してもよい。別々に駆
動すれば、反射強度が2段階に制御できる。また、別々
に駆動される複合多層膜をより多く設けてもよく、この
場合には反射強度がより多レベルとなり階調表示が可能
となる。本実施の形態のように、複合多層膜の間に電極
を有する中間フィルムを介在する構成は、前述の全ての
実施の形態と組み合わせることができる。
【0202】このように、本発明では、フィルム層を表
示機能材の一つとして用いるため、容易に中間部に電極
層が挿入でき、低電圧駆動が可能になるとともに、以下
の実施の形態に示すように、反射型カラー表示装置も容
易に実現できる。
【0203】(第7の実施の形態)図8は、本発明によ
る第7の実施の形態で、明るい反射型カラー表示装置の
具体例である。91、92は上、下基板で互に対向する
面上に透明電極膜108、109をそれぞれ有してい
る。93は黒色の光吸収部、94は光散乱部である。9
5は複合多層膜で、前述した様に液晶層とフィルム層と
の複合多層膜からなる。又、該液晶層及び該フィルム層
の各々の屈折率と層厚は、前述した方法に従い、電圧無
印加時に赤色光を選択的に干渉反射し、電圧印加時には
透過するように設定されている。図8に於いては、該複
合多層膜95は3層構造のものとして図示されている
が、実際は、10層以上の複合多層膜95が良好な干渉
反射を得るために好ましい。同様に、複合多層膜96、
97は各々緑色、青色を電圧無印加時に選択的に干渉反
射するように、そして電圧印加時には透過するように、
各々の液晶層とフィルム層の屈折率及び層厚が設定され
ている。98、99は各々上下面に透明電極100と1
01及び102と103を有する中間フィルム基板であ
る。本実施の形態に於いては、上述した通り、赤色光選
択反射層95、緑色光選択反射層96、青色光選択反射
層97の3つの複合多層膜からなる多重複合多層膜を有
し、中間フィルム基板98、99を各色の複合多層膜間
に挿入する事により、各々の複合多層膜95、96、9
7を独立して電圧を印加する事が可能になり、赤色、緑
色、青色を自由に表示制御できる。図8に示す様に、表
示領域110では、赤色光選択反射層95、緑色光選択
反射層96、は電圧が印加されていないため、それぞれ
色光を干渉反射し、青色光選択反射層97には電圧が印
加されていることにより、青色光はそのまま透過し、下
部の黒色光吸収部93で吸収される。よって、赤色、緑
色光が反射し、反射光106は黄色となる事を示してい
る。一方、表示領域111では、赤色光選択反射層9
5、緑色光選択反射層96は共に電圧印加され、それぞ
れ、赤及び緑色光が透過し、黒色光吸収部93で光吸収
され、青色光選択反射層97では電圧無印加で青色光が
干渉反射される。よって表示領域111では青色を呈す
る。
【0204】上述した様に、本実施の形態に於いては、
赤色光を選択反射する赤色複合多層膜95、緑色光を選
択反射する緑色複合多層膜96、青色を選択反射する青
色複合多層膜97を各々積層し、各々の複合多層膜を挟
んで、透明電極層98、99を配するため、各色毎独立
に光透過率/反射率を制御できる。本実施の形態にて白
色表示する場合は、3つの複合多層膜95、96、97
を共に電圧印加しない場合であり、赤、青、緑色光が共
に反射して白色表示となる。また、黒色表示の場合は、
3つの複合反射膜95、96、97に電圧印加した状態
であり、この場合入射光は透過して光吸収部93に吸収
されて黒色表示となる。従って、白色地に黒は勿論、白
色地に赤、青、緑色又はそれらの混合色が自由に表現で
きる明るいフルカラー反射型表示装置が可能となる。上
述した例では、赤、緑、青色に対応した複合多層膜を用
いたが、勿論、色の組み合わせは、シアン、マゼンダ、
イエロー等自由に選択できる。
【0205】(第8の実施の形態)図9は本発明の第8
の実施の形態で、112、126は内面に透明電極を有
する上、下基板、113は黒色の光吸収部、114は光
散乱部、115は複合多層膜でネマチック液晶層123
とフィルム層124とが交互に積層された構造から構成
される。ここでは液晶層123は、電圧無印加時に於い
て、液晶分子の長軸方向を揃え、しかもフィルム層12
4の面にほぼ水平に分子軸が揃った(ホモジニヤス配
向)液晶層を使用している。上述した、液晶分子の長軸
を揃え、基板面に水平に配向させる方法としては、既存
の液晶表示装置の製造方法として一般的なポリイミド樹
脂とラビング工程の組み合わせでも、簡単に達成できる
が、本実施の形態では後述する様にフィルム層124を
延伸した膜にすれば、その面上の液晶分子は長軸を延伸
方向に揃えて並ぶ性質があり、特別な配向処理をしなく
とも、上記配向をもった液晶層を実現できる。上記ネマ
チック液晶層では、液晶分子の長軸方向と短軸方向とで
は屈折率が異なる。今、電圧無印加領域117に於い
て、液晶分子の長軸が紙面に平行に向くように配向させ
た場合、紙面に平行の入射偏光成分と、紙面に垂直の入
射偏光成分とでは、液晶層の屈折率が異なってくる。本
実施の形態では、液晶分子長軸方向の屈折率(nLC1
とフィルムの屈折率(nF )とが一致する様に液晶材料
とフィルム材料を選定する。そのため、電圧無印加時に
おいては、入射光118のうち、紙面に平行な偏光成分
119は複合多層膜115を透過し下部の黒色光吸収部
113にて吸収される。一方、紙面に垂直な偏光成分1
20に対しては、液晶層123の屈折率はnLC2 (n
LC1>nLC2 )となり、フィルム層の屈折率(nF )と
は異なる。ここで、フィルム層の厚み(dF )と液晶層
の厚み(dLC)とを
【0206】
【数58】
【0207】(9)、(9)’式を充たす様に設定すれ
ば、波長λの光に対する干渉反射の条件を充たし、反射
光127として反射する。一方、電圧印加領域116に
於いては、液晶層123の液晶分子はフィルム層124
の面に対して略垂直に配向し、入射光125から見た液
晶層124の屈折率は、全ての入射偏光面に対して(n
LC3 )となる。ネマチック液晶の一般的な性質から、
【0208】
【数59】
【0209】が成り立ち、上記(9)式に従い、波長λ
の入射光125は全て反射し、反射光121、122と
なる。
【0210】上述した干渉反射の条件は、波長λの光に
対して作用するが、前述した様に、液晶層厚とフィルム
層厚の組み合わせを変えた複数の複合多層膜を重ねた多
重複合多層膜を複合多層膜115の代わりに用いれば、
可視光波長域全てをカバーする干渉反射波長巾の広い白
色背景の明るい表示装置が実現できる。
【0211】(第9の実施の形態)図10は、本発明の
第9の実施の形態で、130、131はそれぞれ内面に
透明電極を有する上、下基板、132は黒色の光吸収
部、135は光散乱部である。133は複合多層膜で、
正の誘電異方性を持つネマチック液晶層(以下、本実施
の形態においては、単にネマチック液晶層と呼ぶ)14
3とフィルム142を交互に積み重ねた構造を有する。
134も複合多層膜で、やはりネマチック液晶層144
とフィルム145の積層構造から成る。
【0212】本実施の形態に於いては、電圧無印加時に
は、液晶層143の液晶分子の長軸方向は各フィルム1
42の面にほぼ水平、且つ紙面にほぼ平行になるように
ホモジニヤス配向させてある。一方、液晶層144で
は、やはり電圧無印加時に於いては、液晶分子の長軸方
向は各フィルム145の面に対しては、ほぼ水平方向で
あるが、紙面に対してはほぼ垂直の方向、つまり上記1
43の液晶層の液晶分子長軸とは略直交する方向にホモ
ジニヤス配向させてある。
【0213】上記ネマチック液晶層は複屈折性を有する
が、今、液晶分子の長軸に平行な偏光に対する屈折率を
LC1 、そして該長軸に垂直な偏光に対する屈折率をn
LC2とする。
【0214】更にフィルム142、145の屈折率は、
X軸方向の屈折率をnF1、Y軸方向の屈折率をnF2(n
F1≧nF2)とおく。ここで、X軸方向は隣接する上記ホ
モジニヤス配向を取る液晶分子の長軸方向と略一致させ
てある。そこで
【0215】
【数60】
【0216】となるようにフィルムの屈折率nF1、nF2
を設定すれば入射光141は複合多層膜133、134
を透過する。
【0217】なお、前述した様に、電圧印加時に液晶分
子は上記液晶層の層内全てでフィルム面に対して垂直に
配列する事はなく、フィルム面に近接した液晶分子は、
フィルム面に水平な方向成分を持つ配列を取る。従っ
て、この時の各液晶層の平均的な屈折率はnLC2 とはな
らず、nLC2 よりも大きく、nLC1 よりも小さな値とな
る。従ってフィルムのX軸方向の屈折率nF1は、入射光
141に対する液晶層の電圧印加時に於けるX軸方向の
平均的な屈折率《nLC2 》と等しくした時に入射光14
1は最も強く透過する。
【0218】次に電圧無印加時の反射条件として、
【0219】
【数61】
【0220】(11)、(11)’、(12)、(1
2)’式を充たす様に液晶層143、144の屈折率と
厚み、及びフィルム層142、145の屈折率と厚みを
設定すれば、前述した説明に従い、図10に示す通り、
電圧無印加領域136に於いては、波長λの入射光13
8は、紙面に平行な偏光成分は複合多層膜133で反射
(反射光139)される。そして、入射光138の紙面
に垂直な偏光成分は、複合多層膜133では(11)式
を充たす為透過し、複合多層膜134に到達し、そこで
(12)、(12)’式より、干渉反射を受け反射さ
れ、反射光140となる。従って、波長λの入射光13
8は電圧無印加領域136では全て反射される。ここで
も前述した通り、複合多層膜133、134の層数を増
やし、尚且つ各層厚の組み合わせの異なる複数の複合多
層膜を重ね合わせた多重複合多層膜とすれば、反射光波
長域を拡大し、白色反射光を得る事が可能である。
【0221】一方、電圧印加領域137に於いては、液
晶層143、144を構成する液晶分子が正の誘電異方
性を持つネマチック液晶材であるため、フィルム14
2、145の各面に対し、略垂直に該液晶分子の長軸を
揃える。従って全ての偏光に対し、(11)、(1
1)’式を充たし、入射光141は複合多層膜133及
び134を透過し、下部の黒色光吸収部132にて光吸
収される。勿論、この透過率を上げるためには、全ての
可視光波長域に対しても(11)、(11)’式を充た
すよう、液晶層とフィルム層の屈折率を合わせ込む配慮
が重要である。
【0222】以上の様に、本実施の形態に於いては、入
射する光の全ての偏光に対して、ほとんどを散乱反射す
る白色地に、ほぼ完璧な黒色表示(黒色地に白色表示も
可能)を表現でき、まさに紙に黒色表示を描いたような
明るい反射型表示装置が可能になる。
【0223】又、第9の実施の形態で示した紙面に垂直
と並行の2つの偏光軸に対してそれぞれ干渉反射条件を
充たす2つの複合多層膜をペアにした二重複合多層膜
を、前述した第1乃至第7の実施の形態に示した各複合
多層膜の代わりに用いれば、よりコントラストの高い表
示装置が実現できることは容易に理解できる。
【0224】図10に於いては、第6の実施の形態と同
様に複合多層膜133と134の中間に、上、下電極層
137、138を有するフィルム136を中間電極層と
して挿入してあるが、これにより、より低い電圧で表示
動作をさせる事が可能になる。
【0225】以上、9つの実施の形態により本発明を説
明してきたが、本発明に用いたフィルム材料は、略透明
で薄膜化できるフィルム材料ならば、何でも良い。例え
ば、ポリエチレンナフサレート樹脂、ポリエステル樹
脂、ポリカーボネート樹脂、セルロース系樹脂、ポリエ
ーテルサルホン系樹脂等、種々の屈折率を持った樹脂か
ら選択できる。液晶材料は、前述した様に、ネマチック
液晶、スメクチック液晶、さらにはこれらの液晶分子を
含む高分子液晶、さらにはこれらの液晶の混合物等、電
界印加により液晶分子軸の方向が変えられ、それにより
液晶層の屈折率が変化すれば、何でも良いが、前述した
通り、特にディスコティック液晶は層面に平行に配向し
た状態で干渉反射能力が高く、より好ましい(ディスコ
ティック液晶と前述の液晶と混合してもよい)。
【0226】更に、前述した9つの実施の形態に於いて
は、そこで用いた液晶層を構成する液晶分子は上、下基
板間の電圧印加の有無により、該分子長軸は水平/垂直
とほぼ90°の軸方向の変位で説明した。液晶層の電圧
印加の有無による屈折率差の絶対値が大きい程、干渉反
射の能力は高く、複合多層膜の層数が少なくとも、その
表示性能は高い。しかし、実際には、液晶分子全体の電
圧印加有無による90°の分子軸変位は理想的で、印加
電圧にもよるが、平均的に80°あるいはそれ以下の変
位のケースの方が多いと推測される。しかし、本発明の
主旨は、前記複合多層膜を構成する液晶層の屈折率が電
圧印加によって変化すれば、分子軸変位が80°あるい
はそれ以下であっても、複合多層膜の層数を増やす事に
より干渉反射光強度を補えるため、各実施の形態に示し
た表示性能が得られる事は明らかである。
【0227】また、表示駆動の電圧については、前述し
た様に、複合多層膜の中間部に電極を有する複数の基板
を挿入し、結果的に分割された複合多層膜にそれぞれ電
圧を印加すれば、より低い電圧で表示駆動させる事は可
能であるが、もう一つの方法として、フィルム層に多少
なりとも導電性を付与させる事が、より低い電圧での表
示駆動という目的を達成する上で有効な手段となる。
【0228】つまり、通常の導電性のないフィルムを用
いた場合、液晶層全体に印加される電圧(V)は、ほぼ
下記(13)式の通りとなる。
【0229】
【数62】
【0230】通常、液晶層の誘電率(εLC)は10〜1
5、フィルム層の誘電率は3〜4である。従って液晶層
全体に印加される電圧(V)は、0.2V0 前後とな
り、V0 の1/5前後に低減してしまう。よって、上述
した様に、フィルム層に多少の導電性を付与させる事に
より、V≒V0 とする事ができ、上下電極間に印加する
電圧が殆どそのまま液晶層に印加される。上記フィルム
に導電性を付与する方法としては、ポリアセチレン系、
ポリパラフェニレン系といった導電性を持つプラスチッ
クを前記フィルムに混入させる事により、上記効果を実
現できる。
【0231】以上、本発明の構成について、種々の実施
の形態を挙げてきたが、各実施の形態において説明され
た内容は、他の実施の形態において適宜組み合わせて実
施できることは言うまでもない。次に、以上の実施の形
態による表示装置の具体的な製造方法、特に前記複合多
層膜の製造方法について説明する。
【0232】(第10の実施の形態)図11は、上記複
合多層膜の製造方法の実施の形態で、1101は液晶材
料で壺1108内に保持されている。1102は第1の
ローラーで、矢印1109の方向に回転し、液晶材11
01を第1のローラー面上に一様にコートしながら回転
方向に巻き上げる。1103は、コートされた液晶層の
厚みを一定に保つ為に設けられた第2のローラーで、必
要に応じ取り付ける。1105は前記複合多層膜を構成
する材料となるプラスチックフィルム(以下、単にフィ
ルムと呼ぶ)材で、第1のローラー1102と第3のロ
ーラー1104の接点部で液晶材1101が上記フィル
ム1105の面上に均一に塗布される。液晶層の膜厚の
制御は、第1のローラー1102と第3のローラー11
04の間隙調整で可能である。その他やはり上記膜厚の
制御法として、液晶材の精密な粘度コントロールによっ
ても可能で、その為に、液晶層の温度管理、又は液晶材
料と溶媒の混合系による粘度管理によっても液晶層の精
密な厚みの管理は可能となる。勿論、溶媒系との組み合
わせでは、液晶層をコーティングした後、溶媒除去の工
程が必要である。
【0233】次に同様な方法で、やはり液晶層が面上に
コートされたフィルム1110と前述のフィルム110
5とが、第4のローラー1106と第五のローラー11
07の間で重なり合わされ、複合4層膜が形成される。
同様の事を繰り返す事により、10層以上の複合多層膜
が容易に製造できる事は明らかである。
【0234】以上は、基本的な製造方法の例であるが、
勿論、液晶層厚の均一化、更にはフィルム同志の貼り合
わせの際に気泡を抱き込まないように、更にローラー数
を増やしたり、均一熱源により加熱し液晶の粘度を下げ
て塗布しローラーで張り合わせるといった工夫をすれ
ば、更に目的に合った複合多層膜が得られるが、既存の
精度の高い多層膜製造工程が参考になる事は容易に理解
できる。
【0235】又、前述した実施の形態に於ける複合多層
膜を構成する各フィルム及び液晶層に要求される各膜厚
は、可視光波長の4分の1、つまり0.1μmから0.
2μm程度の極薄の厚みが必要になる。このためには図
11に示した様な0.2μm以下の厚みのフィルムを使
用し、液晶層をコートする際、高い温度で粘度を下げた
り、溶媒に溶かして低粘性にした状態で塗布し、極薄膜
液晶層を得る事も可能であるが、図12に示す方法を用
いれば、更に容易に上記複合多層膜が得られる。
【0236】(第11の実施の形態)図12は、上記複
合多層膜の製造方法の他の実施の形態で、1201は図
11の方法で作成された比較的厚い(例えばフィルム、
液晶層単層の厚みが1μm以上)複合多層膜、上記複合
多層膜は1段目の圧延ローラー1202、及び1203
で延伸される。更に延伸された複合多層膜1206は2
段目の圧延ローラー1204と1205とにより延伸さ
れる。このように延伸処理を多数回行う事により、当初
の複合多層膜1201は徐々に液晶層、フィルムの厚み
を減じ、所望の薄層を得る事が容易に可能となる。この
ようにして作成した複合多層膜を所定のサイズに切断
し、図1に示す様に上、下基板1、2間に液晶材料とと
もに挟み込み、周辺部をエポキシ系接着剤等でシールす
れば、図1に示す様な複合多層膜を有する表示装置が比
較的容易に完成する。
【0237】以上本発明の各実施の形態に於いては、プ
ラスチックフィルム(以下、単にフィルムと呼ぶ)上に
液晶層をコーティング塗布したものを複合多層膜の単位
複合膜とし、それを10層以上ローラー等で重ねあわせ
る事により、極めて容易に上記複合多層膜を実現し、そ
してフィルムと液晶層の界面がフラットで、干渉反射光
強度の高い反射型表示装置が提供できる。
【0238】又、フィルムの厚みは自由に選択でき、更
に液晶層の厚みもロールコート法ならびに、その際の温
度又は溶剤等による液晶粘度のコントロールにより、比
較的容易に精度よく管理できるため、干渉反射の波長域
も簡単に設定できる。更に上記、フィルム層、液晶層の
厚みの管理された複合多層膜は、層単位で厚みを変化さ
せる事も容易で、広い波長帯域に於いて干渉反射条件を
充たす事が可能になり、任意の色、そして白色の背景色
を持った明るい反射型表示装置が容易に実現できる。
【0239】又、上記複合多層膜が可視光波長域で干渉
反射条件を充たすためには、フィルム、液晶層の各膜厚
とも0.2μm以下の極めて薄い膜厚が要求されるが、
製造方法として、比較的厚い(1μm以上)フィルムを
用い、その上にロールコート法等により液晶材料をコー
ティング塗布した後、該液晶材料がコーティング塗布さ
れたフィルムを多層、ローラー等で重ね合わせ、比較的
厚い複合多層膜を形成した後に、該複合多層膜を圧延ロ
ーラーで多段回、延伸処理を施せば、極めて容易に所望
の厚みを有する複合多層膜が実現できるとともに、精密
な膜厚コントロールが可能になる。更にこの延伸処理
は、フィルム高分子ポリマーの分子軸方向を揃え、それ
がこのフィルムの上にコーティングされた液晶層の液晶
分子の配向方向を揃える効果もあり、液晶分子長軸の揃
った屈折率の均一な液晶層が得られるため、干渉反射光
の波長を、精密にそして容易に制御でき、均一で明るい
反射型表示装置が得られる。勿論、あらかじめ、フィル
ム上にポリイミド等の配向材を塗布そして乾燥し、従来
の液晶表示体製造で、一般的な回転ブラシラビング法に
よっても、液晶分子を所望の方向に均一に配向させる事
は可能である。
【0240】更に、上記複合多層膜の一方のベース材料
としてフィルムを用いているため、透明電極も容易にフ
ィルム上に形成でき、該複合多層膜の中間部に電極層を
持つフィルムを挿入すれば、より低電圧の駆動が可能に
なる。又、赤、緑、青色等の選択干渉反射を示す各複合
多層膜のブロックの上下に、それぞれ該電極層を持つフ
ィルムを挟み、上記各ブロックを重ねて一体化すれば、
各々独立に表示駆動ができ、反射型のフルカラー表示装
置が実現できる。
【0241】
【実施例】次に、複合多層膜としてにおける液晶層とフ
ィルムの積層数と反射率との関係等を、以下の実施例に
より説明する。
【0242】(第1の実施例)図13は450nmの入
射光の波長を干渉反射する複合多層膜の例である。図1
3(a)は複合多層膜の積層を模式化した図であり、図
13(b)は積層数を変えて450nm付近での干渉反
射率を測定した結果の図である。液晶(液晶分子の長軸
方向の屈折率n1 =1.7、短軸方向の屈折率n2
1.5)を用い、フィルムとしてポリエチレン樹脂(屈
折率nF =1.5)を、図13(a)に示されるように
基板間に積層した。電圧無印加時の液晶分子の配向は基
板にほぼ水平方向とし、配向方向を紙面に垂直方向に設
定した液晶層と平行方向に設定した液晶層とをほぼ同数
になるように設けた。また、液晶層とフィルム層の厚み
は、450nmの波長に対して(3)(4)式を満たす
ように設定した。図13(b)は横軸が波長、縦軸が反
射率であり、Aは液晶層とフィルム層を合計した複合多
層膜が21層(奇数になるのは、複合多層膜の両側に液
晶層が配置されるため、液晶層とフィルムの組み合わせ
に対して液晶層が1層多くなることによる。又上記層数
は前記紙面に垂直方向に配向した液晶層を有する複合多
層膜及び水平方向に配向した液晶層を有する複合多層膜
の各々の層数であり、全層数はその2倍となる。)、B
は同じく41層、Cは61層、Dは81層、Eは101
層の場合の反射率を示す。電圧無印加の時、液晶層の液
晶分子はフィルム面に対して平行方向に配向し、屈折率
がn1=1.7となりフィルムの屈折率1.5と異なる
ので、450nmの波長を選択的に干渉反射する。図か
ら明かなように、複合多層膜は21層以上あれば好まし
く、さらに41層以上、さらには61層以上あればより
好ましい事が判る。
【0243】(第2の実施例)図14は450nm、5
50nm、650nm、750nmの入射光の波長をそ
れぞれ干渉反射する複合多層膜を更に積層した例であ
る。図14(a)は4つの波長に対応する複合多層膜の
積層を模式化した図であり、図14(b)は積層数を変
えて各波長付近での干渉反射率を測定した結果の図であ
る。液晶(液晶分子の長軸方向の屈折率n1 =1.7、
短軸方向の屈折率n2 =1.5)を用い、フィルムとし
てポリエチレン樹脂(屈折率nF =1.5)を、図14
(a)に示されるように基板間に積層した。電圧無印加
時の液晶分子の配向は基板にほぼ水平方向とし、配向方
向を紙面に垂直方向に設定した液晶層と平行方向に設定
した液晶層とをほぼ同数になるように設けた。また、4
つの波長に対応する複合多層膜は、液晶層とフィルム層
の厚みを450nmの波長、550nmの波長、650
nmの波長、750nmの波長に対してそれぞれ(3)
(4)式を満たすように設定した。図14(b)は横軸
が波長、縦軸が反射率である。各波長に対応する4つの
複合多層膜は、上記紙面に垂直方向に配向を設定した液
晶層を含む複合多層膜と同じく水平方向に配向を設定し
た液晶層を含む複合多層膜とをそれぞれ有し、図のA〜
Eは、各波長を干渉反射する各複合多層膜において、上
記紙面に垂直方向に配向を設定した液晶層を含む複合多
層膜及び同じく水平方向に配向を設定した液晶層を含む
複合多層膜の各々の層数を示す。従って、総層数はA〜
Eの層数のほぼ8倍となる。Aは各波長を干渉反射する
液晶層とフィルム層を合計した複合多層膜が21層(奇
数になるのは、複合多層膜の両側に液晶層が配置される
ため、液晶層とフィルムの組み合わせに対して液晶層が
1層多くなることによる。)、Bは同じく41層、Cは
61層、Dは81層、Eは101層の場合の反射率を示
す。電圧無印加の時、液晶層の液晶分子はほぼ水平方向
に配向し、屈折率がn1 =1.7となりフィルムの屈折
率1.5と異なるので、各波長を選択的に干渉反射す
る。図から明かなように、各波長を干渉反射する各複合
多層膜において、上記紙面に垂直方向に配向を設定した
液晶層を含む複合多層膜及び同じく水平方向に配向を設
定した液晶層を含む複合多層膜の各々の層数は21層以
上あることが好ましく、さらに41層以上、さらには6
1層以上あればより好ましい事が判る。
【0244】(第3の実施例)次に、第3乃至第10の
実施例として、複合多層膜のフィルムと液晶層の屈折率
及びこれらの層数と反射率との関係を種々の構造の表示
装置について調べた。
【0245】図15A乃至図15Cおよび図16A、B
は、第3の実施例乃至第10の実施例の表示装置におけ
る印加電圧と液晶分子の配向状態との一般的な関係を説
明するための図であって、図15A、B、C、図16
A、Bは、それぞれ液晶層に0.5V、1.0V、1.
5V、2.0V、2.5Vを印加したときの液晶の配向
状態を模式的に示している。第3の実施例乃至第10の
実施例においては、液晶層に使用する液晶を誘電率異方
性が正のネマチック液晶とし、電圧無印加時に液晶がフ
ィルムまたは基板に対し水平に配向(ホモジニヤス配
向)するような構造であるとして、表示素子の反射率の
シミュレーションを行った。このような構造の表示素子
においては、図15A〜C、図16A、Bに示すよう
に、印加電圧を高くしていくと、液晶は次第に傾いてく
るが、この傾きはセルの厚さ方向で一様ではなく、フィ
ルムまたは基板に近い部分では傾きは小さく、セルの中
央部においては傾きは大きくなる。従って、図17に示
すように、液晶はセル内において、その厚さ方向に、印
加電圧に応じた屈折率分布を持つようになる。第3乃至
第10の実施例においては、液晶層はこのような屈折率
分布を持っているとして反射率をシミュレーションし
た。なお、図17の屈折率分布は、セル厚0.1μmの
ものについてのものである。
【0246】図18は、本発明の第3の実施例の表示装
置の構造を説明するための図である。
【0247】この第3の実施例の表示装置においては、
図18Aに示すように、波長450nm、550nm、
650nm、750nmの入射光をそれぞれ干渉反射す
る4つの複合多層膜を積層している。
【0248】各波長の光を干渉反射する複合多層膜は、
図18Bに示すように、それぞれP波用の複合多層膜2
00とS波用の複合多層膜300とを備えている。P波
用の複合多層膜200においては、フィルム201と液
晶層211とを交互に積層し、各液晶層211において
は、電圧無印加時の液晶分子の長軸の配向方向は、フィ
ルム201にほぼ水平であってしかも紙面に並行である
とした。S波用の複合多層膜300においては、フィル
ム301と液晶層311とを交互に積層し、各液晶層3
11においては、電圧無印加時の液晶分子の長軸の配向
方向は、フィルム301にほぼ水平であってしかも紙面
に垂直であるとした。各波長の光を干渉反射する複合多
層膜内においては、P波用の複合多層膜200のフィル
ム201と液晶層211の層数とS波用の複合多層膜3
00のフィルム301と液晶層311の層数とは同じと
した。また、各波長の光を干渉反射する複合多層膜間に
おいても、P波用の複合多層膜200のフィルム201
と液晶層211の層数とS波用の複合多層膜200のフ
ィルム301と液晶層311の層数とは同じとした。な
お、この各波長の光を干渉反射する複合多層膜の構造
は、第4乃至第9の実施例おいても、同様である。
【0249】第3の実施例においては、液晶分子の長軸
方向の屈折率をnLC1 =1.7、同じく短軸方向の屈折
率をnLC2 =1.5とし、フィルムのX軸方向の屈折率
をnF1=1.7、Y軸方向の屈折率をnF2=1.5とし
た。(ここでX軸方向は該フィルムに隣接する上記液晶
分子の長軸方向であり、Y軸方向は同じく短軸方向であ
る。)4つの波長の光をそれぞれ干渉反射する複合多層
膜は、液晶層とフィルムの厚みを450nmの波長、5
50nmの波長、650nmの波長、750nmの波長
に対してそれぞれ(3)、(4)式を満たすように設定
した。
【0250】電圧を印加した場合のセル内の厚さ方向の
屈折率分布は、図19Aのようになり、液晶層はこのよ
うな屈折率分布を持つとして表示装置の反射率を求め、
印加電圧0.5V、1.0V、1.5V、2.0Vおよ
び2.5Vの場合について、それぞれ図19B、図20
A、図20B、図21A、図21Bに示した。
【0251】これらの図においては、横軸が波長、縦軸
が反射率である。これらの各図においては、各波長の光
を干渉反射する各複合多層膜の層数がそれぞれ21×2
(A)、41×2(B)、61×2(C)、81×2
(D)および101×2(E)の場合について反射率を
それぞれ求めている。ここで、例えばAの場合について
は、21×2とは、各波長の光を干渉反射する各複合多
層膜内において、P波用の複合多層膜の層数が21であ
り、S波用の複合多層膜の層数が21であることを示し
ている。従って、本実施例のAの場合では、全層数は2
1×2×4=168となる。B、C、D、Eの場合も同
様である。
【0252】なお、例えばAの場合については、P波用
またはS波用の複合多層膜の層数が21であるとは、P
波用、S波用それぞれについて、液晶層が11層、フィ
ルムが10層であることを示す。このように、液晶層と
フィルムを合計した複合多層膜が21層(奇数)になる
のは、複合多層膜の両端には液晶層が配置されるため、
液晶層とフィルムの組み合わせに対して液晶層が1層多
くなることによる。B、C、D、Eの場合も同様であ
る。
【0253】電圧無印加の時、液晶層の液晶分子はほぼ
水平方向に配向し、X軸方向では液晶層の屈折率(n
1 )及びフィルムの屈折率(nF1)ともn1 =nF1
1.7となり透過状態となる。同様にY軸方向でも液晶
層の屈折率(n2 )及びフィルムの屈折率(nF2)とも
2 =nF2=1.5となり透過状態となり、全ての入射
光(P波、S波)は複合多層膜を透過する。電圧を印加
していくと、図19Aに示したように、屈折率が1.7
よりも小さくなっていくので、各波長の光を選択的に干
渉反射するようになる。
【0254】層数を増加させると、反射率が増加する
が、反射率は普通の紙で約70%、上質紙で約80%程
度であることを考慮すれば、各波長の光を干渉反射する
各複合多層膜内において、P波用またはS波用の複合多
層膜の層数が21あれば、実用上十分な反射率が得られ
ることがわかる。
【0255】(第4の実施例)図22は、本発明の第4
の実施例の表示装置の構造を説明するための図である。
この第4の実施例の表示装置においては、波長450n
m、500nm、550nm、600nm、650n
m、700nm、750nmの入射光をそれぞれ干渉反
射する7つの複合多層膜を積層している。この7つの複
合多層膜のそれぞれの構造は、図18Bを参照して説明
した第3の実施例の場合と同様である。
【0256】本実施例においては、液晶分子の長軸方向
の屈折率n1 =1.8、短軸方向の屈折率n2 =1.5
2とし、フィルムの屈折率をnF1=1.8、nF2=1.
52とした。この場合、液晶分子の配向方向とフィルム
の配置との関係は第3の実施例の場合と同様である。7
つの波長の光をそれぞれ干渉反射する複合多層膜は、液
晶層とフィルムの厚みを450nmの波長、500nm
の波長、550nmの波長、600nm、650nmの
波長、700nmの波長、750nmの波長に対してそ
れぞれ(6)、(6)’式を満たすように設定した。
【0257】電圧を印加した場合のセル内の厚さ方向の
屈折率分布は、図23Aのようになり、液晶層はこのよ
うな屈折率分布を持つとして表示装置の反射率を求め、
印加電圧0.5V、1.0V、1.5V、2.0Vおよ
び2.5Vの場合について、それぞれ図23B、図24
A、図24B、図25A、図25Bに示した。
【0258】これらの図においては、横軸が波長、縦軸
が反射率である。これらの各図においては、各波長の光
を干渉反射する各複合多層膜の層数がそれぞれ11×2
(F)、21×2(A)、31×2(G)および41×
2(B)の場合について反射率をそれぞれ求めている。
ここで、各場合の層数の内容については、第3の実施例
の場合と同様である。
【0259】電圧無印加の時、液晶層の液晶分子はほぼ
水平方向に配向し、液晶層の屈折率(n1 、n2 )とフ
ィルムの屈折率(nF1、nF2)との関係は、n1 =nF1
=1.8、n2 =nF2=1.52となりP波、S波とも
屈折率の差がなく透過状態となる。電圧を印加していく
と、図23Aに示したように、屈折率が1.8よりも小
さくなっていくので、各波長を選択的に干渉反射するよ
うになる。
【0260】本実施例では、液晶の屈折率が長軸方向で
1.8、短軸方向で1.52であり、第3の実施例より
も複屈折率性が高いので、少ない層数で高い反射率が得
られている。各波長の光を干渉反射する各複合多層膜内
において、P波用またはS波用の複合多層膜の層数が1
1の場合でも、実用上十分な反射率が得られており、2
1層の場合には、80%以上と上質紙以上の反射率が得
られていることがわかる。
【0261】(第5の実施例)図26は、本発明の第5
の実施例の表示装置の構造を説明するための図である。
この第5の実施例の表示装置においては、波長400n
m、450nm、500nm、550nm、600n
m、650nm、700nm、750nm、800nm
の入射光をそれぞれ干渉反射する9つの複合多層膜を積
層している。この9つの複合多層膜のそれぞれの構造
は、図18Bを参照して説明した第3の実施例の場合と
同様である。
【0262】本実施例においては、液晶分子の長軸方向
の屈折率n1 =1.8、短軸方向の屈折率n2 =1.5
2とし、フィルムの屈折率をnF1=1.8、nF2=1.
52とした。ここで液晶分子の配列方向とフィルムの配
置との関係は第3の実施例の場合と同様である。9つの
波長の光をそれぞれ干渉反射する複合多層膜は、液晶層
とフィルムの厚みを400nm、450nmの波長、5
00nmの波長、550nmの波長、600nm、65
0nmの波長、700nmの波長、750nmの波長、
800nmの波長に対してそれぞれ(3)、(4)式を
満たすように設定した。
【0263】電圧を印加した場合のセル内の厚さ方向の
屈折率分布は、図27Aのようになり、液晶層はこのよ
うな屈折率分布を持つとして表示装置の反射率を求め、
印加電圧0.5V、1.0V、1.5V、2.0Vおよ
び2.5Vの場合について、それぞれ図27B、図28
A、図28B、図29A、図29Bに示した。
【0264】これらの図においては、横軸が波長、縦軸
が反射率である。これらの各図においては、各波長の光
を干渉反射する各複合多層膜の層数がそれぞれ5×2
(H)、11×2(F)、15×2(I)および21×
2(A)の場合について反射率をそれぞれ求めている。
ここで、各場合の層数の内容については、第3の実施例
の場合と同様である。
【0265】電圧無印加の時、液晶層の屈折率(n1
2 )とフィルムの屈折率(nF1、nF2)との関係はn
1 =nF1=1.8、n2 =nF2=1.52となりP波、
S波とも屈折率の差がなく透過状態となる。電圧を印加
していくと、図27Aに示したように、屈折率が1.8
よりも小さくなっていくので、各波長を選択的に干渉反
射するようになる。
【0266】(第6の実施例)図30は、本発明の第6
の実施例の表示装置の構造を説明するための図である。
この第6の実施例の表示装置においては、波長450n
m、550nm、650nm、750nmの入射光をそ
れぞれ干渉反射する4つの複合多層膜を積層している。
この4つの複合多層膜のそれぞれの構造は、図18Bを
参照して説明した第3の実施例の場合と同様である。
【0267】本実施例においては、液晶分子の長軸方向
の屈折率n1 =1.8、短軸方向の屈折率n2 =1.5
2とし、フィルムの屈折率をnF1=1.8、nF2=1.
52とした。この場合、液晶分子の配向方向とフィルム
の配置との関係は第3の実施例の場合と同様である。4
つの波長の光をそれぞれ干渉反射する複合多層膜は、液
晶層とフィルムの厚みを450nmの波長、550nm
の波長、650nmの波長、750nmの波長に対して
それぞれ(3)、(4)式を満たすように設定した。
【0268】電圧を印加した場合のセル内の厚さ方向の
屈折率分布は、図31Aのようになり、液晶層はこのよ
うな屈折率分布を持つとして表示装置の反射率を求め、
印加電圧0.5V、1.0V、1.5V、2.0Vおよ
び2.5Vの場合について、それぞれ図31B、図32
A、図32B、図33A、図33Bに示した。
【0269】これらの図においては、横軸が波長、縦軸
が反射率である。これらの各図においては、各波長の光
を干渉反射する各複合多層膜の層数がそれぞれ5×2
(H)、11×2(F)、15×2(I)および21×
2(A)の場合について反射率をそれぞれ求めている。
ここで、各場合の層数の内容については、第3の実施例
の場合と同様である。
【0270】電圧無印加の時、液晶層の屈折率(n1
2 )とフィルムの屈折率(nF1、nF2)との関係は、
1 =nF1=1.8、n2 =nF2=1.52となりP
波、S波とも屈折率の差がなく透過状態となる。電圧を
印加していくと、図31Aに示したように、屈折率が
1.8よりも小さくなっていくので、各波長を選択的に
干渉反射するようになる。
【0271】(第7の実施例)図34は、本発明の第7
の実施例の表示装置の構造を説明するための図である。
この第7の実施例の表示装置においては、波長450n
m、500nm、550nm、600nm、650n
m、700nm、750nmの入射光をそれぞれ干渉反
射する7つの複合多層膜を積層している。この7つの複
合多層膜のそれぞれの構造は、図18Bを参照して説明
した第3の実施例の場合と同様である。
【0272】本実施例においては、液晶分子の長軸方向
の屈折率n1 =1.8、短軸方向の屈折率n2 =1.5
2とし、フィルムの屈折率をnF1=nF2=1.52とし
た。7つの波長の光をそれぞれ干渉反射する複合多層膜
は、液晶層とフィルムの厚みを450nmの波長、50
0nmの波長、550nmの波長、600nm、650
nmの波長、700nmの波長、750nmの波長に対
してそれぞれ(3)、(4)式を満たすように設定し
た。本実施例のように屈折率が1.5程度のフィルムは
種類が多く、例えば、ポリエチレン、ポリエステル、ポ
リカーボネート等が好ましく用いれられる。
【0273】電圧を印加した場合のセル内の厚さ方向の
屈折率分布は、図35Aのようになり、液晶層はこのよ
うな屈折率分布を持つとして表示装置の反射率を求め、
印加電圧0.5V、1.0V、1.5V、2.0Vおよ
び2.5Vの場合について、それぞれ図35B、図36
A、図36B、図37A、図37Bに示した。
【0274】これらの図においては、横軸が波長、縦軸
が反射率である。これらの各図においては、各波長の光
を干渉反射する各複合多層膜の層数がそれぞれ11×2
(F)、21×2(A)、31×2(G)、41×2
(B)および51×2(J)の場合について反射率をそ
れぞれ求めている。ここで、各場合の層数の内容につい
ては、第3の実施例の場合と同様である。
【0275】電圧無印加の時、液晶層の液晶分子はほぼ
水平方向に配向し、屈折率がn1 =1.8となるが、フ
ィルムの屈折率は1.52であるので、各波長で干渉反
射される。電圧を印加していくと、図35Aに示したよ
うに、屈折率が1.8よりも小さくなっていくので、各
波長の干渉反射の程度が次第減少し、透過率が上昇して
くるが、電圧を2.0V、2.5Vとかけていっても、
反射率は0にはならない。これは、図35Aに示すよう
に、電圧を印加した場合の液晶の屈折率は、液晶の短軸
方向の屈折率に等しくはならないからである。
【0276】(第8の実施例)図38は、本発明の第8
の実施例の表示装置の構造を説明するための図である。
この第8の実施例の表示装置においては、波長450n
m、500nm、550nm、600nm、650n
m、700nm、750nmの入射光をそれぞれ干渉反
射する7つの複合多層膜を積層している。この7つの複
合多層膜のそれぞれの構造は、図18Bを参照して説明
した第3の実施例の場合と同様である。
【0277】本実施例においては、液晶分子の長軸方向
の屈折率n1 =1.8、短軸方向の屈折率n2 =1.5
2とし、フィルムの屈折率をnF1=nF2=1.58とし
た。7つの波長の光をそれぞれ干渉反射する複合多層膜
は、液晶層とフィルムの厚みを450nmの波長、50
0nmの波長、550nmの波長、600nm、650
nmの波長、700nmの波長、750nmの波長に対
してそれぞれ(3)、(4)式を満たすように設定し
た。
【0278】電圧を印加した場合のセル内の厚さ方向の
屈折率分布は、図39Aのようになり、液晶層はこのよ
うな屈折率分布を持つとして表示装置の反射率を求め、
印加電圧0.5V、1.0V、1.5V、2.0Vおよ
び2.5Vの場合について、それぞれ図39B、図40
A、図40B、図41A、図42Bに示した。
【0279】これらの図においては、横軸が波長、縦軸
が反射率である。これらの各図においては、各波長を干
渉する各複合多層膜の層数がそれぞれ11×2(F)、
21×2(A)、31×2(G)、41×2(B)およ
び51×2(J)の場合について反射率をそれぞれ求め
ている。ここで、各場合の層数の内容については、第3
の実施例の場合と同様である。
【0280】電圧無印加の時、液晶層の液晶分子はほぼ
水平方向に配向し、屈折率がn1 =1.8となるが、フ
ィルムの屈折率は1.58であるので、各波長で干渉反
射される。電圧を印加していくと、図39Aに示したよ
うに、屈折率が1.8よりも小さくなっていくので、各
波長の干渉反射の程度が次第減少し、透過率が上昇す
る。そして、電圧を2.5Vと印加した場合に、反射率
はほぼ0となる。図39Aに示すように、電圧を2.5
V印加した場合には、液晶層の平均的な屈折率はフィル
ムの屈折率の1.58にほぼ等しくなるからである。
【0281】(第9の実施例)図42は、本発明の第9
の実施例の表示装置の構造を説明するための図である。
この第9の実施例の表示装置においては、波長450n
m、500nm、550nm、600nm、650n
m、700nm、750nmの入射光をそれぞれ干渉反
射する7つの複合多層膜を積層している。この7つの複
合多層膜のそれぞれの構造は、図18Bを参照して説明
した第3の実施例の場合と同様である。
【0282】本実施例においては、液晶分子の長軸方向
の屈折率n1 =1.8、短軸方向の屈折率n2 =1.5
2とし、フィルムの屈折率をnF1=nF2=1.6とし
た。7つの波長の光をそれぞれ干渉反射する複合多層膜
は、液晶層とフィルムの厚みを450nmの波長、50
0nmの波長、550nmの波長、600nm、650
nmの波長、700nmの波長、750nmの波長に対
してそれぞれ(3)、(4)式を満たすように設定し
た。
【0283】電圧を印加した場合のセル内の厚さ方向の
屈折率分布は、図43Aのようになり、液晶層はこのよ
うな屈折率分布を持つとして表示装置の反射率を求め、
印加電圧0.5V、1.0V、1.5V、2.0Vおよ
び2.5Vの場合について、それぞれ図43B、図44
A、図44B、図45A、図45Bに示した。
【0284】これらの図においては、横軸が波長、縦軸
が反射率である。これらの各図においては、各波長を干
渉反射する各複合多層膜の層数がそれぞれ11×2
(F)、21×2(A)、31×2(G)、41×2
(B)および51×2(J)の場合について反射率をそ
れぞれ求めている。ここで、各場合の層数の内容につい
ては、第3の実施例の場合と同様である。
【0285】電圧無印加の時、液晶層の液晶分子はほぼ
水平方向に配向し、屈折率がn1 =1.8となるが、フ
ィルムの屈折率は1.6であるので、各波長で干渉反射
される。電圧を印加していくと、図43Aに示したよう
に、屈折率が1.8よりも小さくなっていくので、各波
長の干渉反射の程度が次第減少し、透過率が上昇する。
そして、印加電圧を2.0Vとした場合に、反射率はほ
ぼ0となり、印加電圧をさらに増加させて、2.5Vと
すると、反射率は逆に増加する。図43Aに示すよう
に、電圧を2.0V印加した場合には、液晶層の平均的
な屈折率はフィルムの屈折率の1.6にほぼ等しくなる
から反射率がほぼ0となり、電圧を2.5V印加した場
合には、液晶層の平均的な屈折率はフィルムの屈折率
1.6よりも小さくなるからまた反射率が増加してい
る。なお、本実施例では、第8の実施例の場合よりもフ
ィルムの屈折率を液晶の長軸方向の屈折率に近づけてい
るので、駆動電圧を下げることができる。
【0286】このように、フィルムの屈折率を印加電圧
によってきまる液晶の平均的な屈折率にほぼ等しくすれ
ば、その印加電圧での反射率を小さくすることができ
る。
【0287】(第10の実施例)図46は、本発明の第
10の実施例の表示装置の構造を説明するための図であ
る。この第10の実施例の表示装置においては、液晶層
およびフィルムからなる複合多層膜を、隣接する液晶層
およびフィルムの間では、(3)、(4)式をほぼ成立
させながら、干渉反射する波長を450nmから750
nmまで連続的変化させて表示装置を構成した。なお、
各波長の光を干渉反射する複合多層膜は、それぞれP波
用の複合多層膜とS波用の複合多層膜を備えており、P
波用の複合多層膜の液晶層においては、電圧無印加時の
液晶分子の長軸の配向方向は、フィルムにほぼ水平であ
ってしかも紙面に並行であるとし、S波用の複合多層膜
の液晶層においては、電圧無印加時の液晶分子の長軸の
配向方向は、フィルムにほぼ水平であってしかも紙面に
垂直であるとした。各波長の光を干渉反射する複合多層
膜内においては、P波用の複合多層膜のフィルムと液晶
層の層数とS波用の複合多層膜のフィルムと液晶層の層
数とは同じとした。
【0288】本実施例においては、液晶分子の長軸方向
の屈折率n1 、短軸方向の屈折率n 2 をそれぞれ、n1
/n2 =1.6/1.5、1.55/1.4、1.7/
1.5、1.15/1.3、とし、それぞれの表示装置
の電圧印加時の反射率分布を図47A、47B、48
A、48Bにそれぞれ示した。なお、フィルムはいづれ
も複屈折性を有するフィルムを用い、X軸方向の屈折率
は隣接する液晶分子の長軸方向の屈折率と等しくし、Y
軸方向の屈折率はやはり隣接する液晶分子の短軸方向の
屈折率と等しくなるように設定している。これらの図に
おいては、横軸が波長、縦軸が反射率である。これらの
各図においては、450nmから750nmまでの光を
干渉反射する複合多層膜における液晶層とフィルムの全
層数がそれぞれ51×2(a)、101×2(b)、1
51×2(c)、201×2(d)、251×2
(e)、301×2(f)、351×2(g)、401
×2(h)、451×2(i)および501×2(j)
の各場合について反射率をそれぞれ求めている。ここ
で、例えばaの場合、51×2とは、P波用の複合多層
膜の層数が51であり、S波用の複合多層膜の層数が5
1であることを示している。従って、本実施例の場合で
は、全層数は51×2=102となる。b乃至jの場合
も同様である。
【0289】液晶の複屈折率性(=長軸方向の屈折率
(n1 、nCL1 )/短軸方向の屈折率(n2 、n
CL2 ))が大きい程、また、層数が多い程、反射率が高
くなっている。
【0290】図49には、この複屈折率性をパラメータ
として、全層数と反射率との関係を示している。これに
よれば、複屈折性が1.1以上で、全層数が100以上
あれば、従来のTN液晶の反射率よりも高い反射率が得
られることがわかる。
【0291】なお、上記第3乃至第10の実施例におい
ては、電圧無印加時に液晶がフィルムまたは基板に対し
水平に配向(ホモジニヤス配向)するような構造である
としてシミュレーションを行ったが、電圧無印加時に液
晶がフィルムまたは基板に対しほぼ垂直に配向(ホメオ
トロピック配向)するような構造であっても、その原理
は同じである。ただ、この場合には、フィルムの屈折率
が液晶の長軸方向の屈折率に近い場合には、電圧無印加
で光反射、電圧印加で光透過となり、フィルムの屈折率
が液晶の短軸方向の屈折率に近い場合には、電圧無印加
で光透過、電圧印加で光反射となる。
【0292】
【発明の効果】以上、説明した様に、本発明にかかわる
表示装置に於いては、偏光板を使わず、明るい表示装置
が可能となり、特に反射型表示装置として従来の液晶表
示装置では得られなかった明るい白/黒表示、更には、
明るい反射型カラー表示装置が可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る表示装置の第1の実施の形態を説
明するための図である。
【図2】本発明に係る表示原理を説明するための図であ
る。
【図3】本発明に係る表示装置の第2の実施の形態を説
明するための図である。
【図4】本発明に係る表示装置の第3の実施の形態を説
明するための図である。
【図5】本発明に係る表示装置の第4の実施の形態を説
明するための図である。
【図6】本発明に係る表示装置の第5の実施の形態を説
明するための図である。
【図7】本発明に係る表示装置の第6の実施の形態を説
明するための図である。
【図8】本発明に係る表示装置の第7の実施の形態を説
明するための図である。
【図9】本発明に係る表示装置の第8の実施の形態を説
明するための図である。
【図10】本発明に係る表示装置の第9の実施の形態を
説明するための図である。
【図11】本発明に係る表示装置に使用する複合多層膜
の製造方法を説明するための図である。
【図12】本発明に係る表示装置に使用する複合多層膜
の他の製造方法を説明するための図である。
【図13】本発明に係る表示装置の第1の実施例におけ
る複合多層膜の層数と干渉反射率の関係を説明するため
の図である。
【図14】本発明に係る表示装置の第2の実施例におけ
る複合多層膜の層数と干渉反射率の関係を説明するため
の図である。
【図15】本発明に係る表示装置の第3の実施例乃至第
10の実施例における印加電圧と液晶分子の配向状態と
の関係を説明するための図である。
【図16】本発明に係る表示装置の第3の実施例乃至第
10の実施例における印加電圧と液晶分子の配向状態と
の関係を説明するための図である。
【図17】本発明に係る表示装置の第3の実施例乃至第
10の実施例におけるセル厚方向と液晶の屈折率との関
係を印加電圧をパラメータとして説明するための図であ
る。
【図18】本発明の第3の実施例の表示装置の構造を説
明するための図である。
【図19】本発明の第3の実施例の表示装置を説明する
ための図であり、図19Aは、第3の実施例の表示装置
におけるセル厚方向と液晶の屈折率との関係を印加電圧
をパラメータとして説明するための図であり、図19B
は、第3の実施例の表示装置における複合多層膜の層数
と干渉反射率の関係を説明するための図である。
【図20】本発明の第3の実施例の表示装置における複
合多層膜の層数と干渉反射率の関係を説明するための図
である。
【図21】本発明の第3の実施例の表示装置における複
合多層膜の層数と干渉反射率の関係を説明するための図
である。
【図22】本発明の第4の実施例の表示装置の構造を説
明するための図である。
【図23】本発明の第4の実施例の表示装置を説明する
ための図であり、図23Aは、第4の実施例の表示装置
におけるセル厚方向と液晶の屈折率との関係を印加電圧
をパラメータとして説明するための図であり、図23B
は、第4の実施例の表示装置における複合多層膜の層数
と干渉反射率の関係を説明するための図である。
【図24】本発明の第4の実施例の表示装置における複
合多層膜の層数と干渉反射率の関係を説明するための図
である。
【図25】本発明の第4の実施例の表示装置における複
合多層膜の層数と干渉反射率の関係を説明するための図
である。
【図26】本発明の第5の実施例の表示装置の構造を説
明するための図である。
【図27】本発明の第5の実施例の表示装置を説明する
ための図であり、図27Aは、第5の実施例の表示装置
におけるセル厚方向と液晶の屈折率との関係を印加電圧
をパラメータとして説明するための図であり、図27B
は、第5の実施例の表示装置における複合多層膜の層数
と干渉反射率の関係を説明するための図である。
【図28】本発明の第5の実施例の表示装置における複
合多層膜の層数と干渉反射率の関係を説明するための図
である。
【図29】本発明の第5の実施例の表示装置における複
合多層膜の層数と干渉反射率の関係を説明するための図
である。
【図30】本発明の第6の実施例の表示装置の構造を説
明するための図である。
【図31】本発明の第6の実施例の表示装置を説明する
ための図であり、図31Aは、第6の実施例の表示装置
におけるセル厚方向と液晶の屈折率との関係を印加電圧
をパラメータとして説明するための図であり、図31B
は、第6の実施例の表示装置における複合多層膜の層数
と干渉反射率の関係を説明するための図である。
【図32】本発明の第6の実施例の表示装置における複
合多層膜の層数と干渉反射率の関係を説明するための図
である。
【図33】本発明の第6の実施例の表示装置における複
合多層膜の層数と干渉反射率の関係を説明するための図
である。
【図34】本発明の第7の実施例の表示装置の構造を説
明するための図である。
【図35】本発明の第7の実施例の表示装置を説明する
ための図であり、図35Aは、第7の実施例の表示装置
におけるセル厚方向と液晶の屈折率との関係を印加電圧
をパラメータとして説明するための図であり、図35B
は、第7の実施例の表示装置における複合多層膜の層数
と干渉反射率の関係を説明するための図である。
【図36】本発明の第7の実施例の表示装置における複
合多層膜の層数と干渉反射率の関係を説明するための図
である。
【図37】本発明の第7の実施例の表示装置における複
合多層膜の層数と干渉反射率の関係を説明するための図
である。
【図38】本発明の第8の実施例の表示装置の構造を説
明するための図である。
【図39】本発明の第8の実施例の表示装置を説明する
ための図であり、図39Aは、第8の実施例の表示装置
におけるセル厚方向と液晶の屈折率との関係を印加電圧
をパラメータとして説明するための図であり、図39B
は、第8の実施例の表示装置における複合多層膜の層数
と干渉反射率の関係を説明するための図である。
【図40】本発明の第8の実施例の表示装置における複
合多層膜の層数と干渉反射率の関係を説明するための図
である。
【図41】本発明の第8の実施例の表示装置における複
合多層膜の層数と干渉反射率の関係を説明するための図
である。
【図42】本発明の第9の実施例の表示装置の構造を説
明するための図である。
【図43】本発明の第9の実施例の表示装置を説明する
ための図であり、図43Aは、第9の実施例の表示装置
におけるセル厚方向と液晶の屈折率との関係を印加電圧
をパラメータとして説明するための図であり、図43B
は、第9の実施例の表示装置における複合多層膜の層数
と干渉反射率の関係を説明するための図である。
【図44】本発明の第9の実施例の表示装置における複
合多層膜の層数と干渉反射率の関係を説明するための図
である。
【図45】本発明の第9の実施例の表示装置における複
合多層膜の層数と干渉反射率の関係を説明するための図
である。
【図46】本発明の第10の実施例の表示装置の構造を
説明するための図である。
【図47】本発明の第10の実施例の表示装置における
複合多層膜の層数と干渉反射率の関係を説明するための
図である。
【図48】本発明の第10の実施例の表示装置における
複合多層膜の層数と干渉反射率の関係を説明するための
図である。
【図49】本発明の第10の実施例の表示装置における
複合多層膜の全層数と干渉反射率の関係を説明するため
の図である。
【符号の説明】
1 上基板 2 下基板 5、6、7 プラスチックフィルム 8、9、10、11 液晶層 13 電圧無印加領域 14 電圧印加領域 15、16 入射光 17 干渉反射光

Claims (48)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】フィルムと液晶層とが交互に積層された複
    合多層膜を備え、前記複合多層膜に電圧を印加して前記
    複合多層膜における光反射率を制御する表示装置であっ
    て、 前記液晶層に使用される液晶の所定の波長(λn )の光
    に対する長軸方向の屈折率nLC1(λn) および短軸方向
    の屈折率nLC2(λn) と、前記フィルムの前記所定の波
    長(λn )の光に対する前記フィルム面内の互いに直交
    するX軸方向とY軸方向のそれぞれの屈折率nF1(λn)
    およびnF2(λn)とを、 前記複合多層膜の前記フィルムと液晶層のうちの少なく
    とも隣り合う一組のフィルムと液晶層との間において、 下記〔1〕および〔2〕の条件 【数1】 を満たすようにしたことを特徴とする表示装置。
  2. 【請求項2】前記nF1(λn)と、nLC2(λn) と、前記液
    晶層の厚みdLCと、前記フィルムの厚みdF とを、前記
    少なくとも隣り合う一組のフィルムと液晶層との間にお
    いて、下記〔3〕および〔4〕の条件 【数2】 の少なくとも一方の条件を満たすようにしたことを特徴
    とする請求項1記載の表示装置。
  3. 【請求項3】前記液晶層に使用される液晶分子の長軸
    が、電圧無印加時に、少なくとも前記フィルム近傍にお
    いて前記フィルムに対しほぼ水平方向かつ前記X軸方向
    に配向するようにし、 前記複合多層膜が電圧無印加時に光透過状態となり電圧
    印加時に光反射状態となるようにしたことを特徴とする
    請求項1または2記載の表示装置。
  4. 【請求項4】前記nLC1(λn) 、nLC2(λn) 、nF1(λ
    n)およびnF2(λn)を、前記少なくとも隣り合う一組の
    フィルムと液晶層との間において、下記〔5〕および
    〔6〕の条件 【数3】 を満たすようにしたことを特徴とする請求項1乃至3の
    いずれかに記載の表示装置。
  5. 【請求項5】前記液晶が電圧無印加時に前記フィルムに
    対してプレチルト角をほとんど有さないで配向している
    ことを特徴とする請求項3または4記載の表示装置。
  6. 【請求項6】前記nLC1(λn) およびnF1(λn)を、前記
    少なくとも隣り合う一組のフィルムと液晶層との間にお
    いて、下記〔7〕の条件 【数4】 を満たすようにしたことを特徴とする請求項1乃至3の
    いずれかに記載の表示装置。
  7. 【請求項7】前記液晶が電圧無印加時に前記フィルムに
    対して所定のプレチルト角をもって配向していることを
    特徴とする請求項3または6記載の表示装置。
  8. 【請求項8】前記nF1(λn)を、電圧無印加時における
    前記液晶層の前記所定の波長(λn)の光に対する前記
    X軸方向の平均的な屈折率とほぼ等しくし、且つ前記n
    F2(λn )を、電圧無印加時における前記液晶層の前記所
    定の波長(λn )の光に対する前記Y軸方向の平均的な
    屈折率とほぼ等しくしたことを特徴とする請求項3乃至
    7のいずれかに記載の表示装置。
  9. 【請求項9】前記nF1(λn)と、nLC1(λn)と、nLC2(
    λn)と、前記液晶層の厚みdLCと、前記フィルムの厚み
    F とを、前記少なくとも隣り合う一組のフィルムと液
    晶層との間において、下記〔8〕および〔9〕の条件 【数5】 の少なくとも一方の条件を満たすようにしたことを特徴
    とする請求項3乃至8のいずれかに記載の表示装置。
  10. 【請求項10】前記液晶層に使用される液晶分子の長軸
    が、電圧無印加時に、少なくとも前記液晶層の前記積層
    方向での中央部付近において、前記フィルムに対しほぼ
    垂直方向に配向するようにし、 前記複合多層膜が電圧印加時に光透過状態となり電圧無
    印加時に光反射状態となるようにしたことを特徴とする
    請求項1または2記載の表示装置。
  11. 【請求項11】前記nLC1(λn) 、nLC2(λn) およびn
    F1(λn)を、前記少なくとも隣り合う一組のフィルムと
    液晶層との間において、下記〔10〕の条件 【数6】 を満たすようにしたことを特徴とする請求項10記載の
    表示装置。
  12. 【請求項12】前記nF1(λn)を、電圧印加時における
    前記液晶層の前記所定の波長の光に対する前記X軸方向
    の平均的な屈折率とほぼ等しくしたことを特徴とする請
    求項10または11記載の表示装置。
  13. 【請求項13】前記nF1(λn)と、nLC2(λn)と、前記
    液晶層の厚みdLCと、前記フィルムの厚みdF とを、前
    記少なくとも隣り合う一組のフィルムと液晶層との間に
    おいて、下記〔11〕および〔12〕の条件 【数7】 の少なくとも一方の条件を満たすようにしたことを特徴
    とする請求項10乃至12のいずれかに記載の表示装
    置。
  14. 【請求項14】前記液晶層に使用される液晶分子の長軸
    が、電圧無印加時に、前記フィルム近傍において、前記
    フィルムに対してほぼ垂直方向に配向していることを特
    徴とする請求項10乃至13のいずれかに記載の表示装
    置。
  15. 【請求項15】前記nLC2(λn) およびdLCを、前記少
    なくとも隣り合う一組のフィルムと液晶層との間におい
    て、下記〔13〕および〔14〕の条件 【数8】 を満たすようにしたことを特徴とする請求項10乃至1
    2のいずれかに記載の表示装置。
  16. 【請求項16】前記液晶層に使用される液晶分子の長軸
    が、電圧無印加時に、前記フィルム近傍において、前記
    フィルムに対して垂直方向から所定の角度傾いて配向し
    ていることを特徴とする請求項10、11、12または
    15記載の表示装置。
  17. 【請求項17】フィルムと液晶層とが交互に積層された
    複合多層膜を備え、前記複合多層膜に電圧を印加して前
    記複合多層膜における光反射率を制御する表示装置であ
    って、 前記液晶層に使用される液晶の所定の波長(λn )の光
    に対する長軸方向の屈折率nLC1(λn) および短軸方向
    の屈折率nLC2(λn) と、前記フィルムの前記所定の波
    長(λn )の光に対する前記フィルム面内の互いに直交
    するX軸方向とY軸方向のそれぞれの屈折率nF1(λn)
    およびnF2(λn)とを、 前記複合多層膜の前記フィルムと液晶層のうちの少なく
    とも隣り合う一組のフィルムと液晶層との間において、 下記〔15〕および〔16〕の条件 【数9】 を満たすようにしたことを特徴とする表示装置。
  18. 【請求項18】前記nF1(λn)と、nLC1(λn) と、前記
    液晶層の厚みdLCと、前記フィルムの厚みdF とを、前
    記少なくとも隣り合う一組のフィルムと液晶層との間に
    おいて、下記〔17〕および〔18〕の条件 【数10】 の少なくとも一方の条件を満たすようにしたことを特徴
    とする請求項17記載の表示装置。
  19. 【請求項19】前記液晶層に使用される液晶分子の長軸
    が、電圧無印加時に、少なくとも前記フィルム近傍にお
    いて前記フィルムに対しほぼ水平方向かつ前記X軸方向
    に配向するようにし、 前記複合多層膜が電圧印加時に光透過状態となり電圧無
    印加時に光反射状態となるようにしたことを特徴とする
    請求項17または18記載の表示装置。
  20. 【請求項20】前記nLC1(λn) 、nLC2(λn) およびn
    F1(λn)を、前記少なくとも隣り合う一組のフィルムと
    液晶層との間において、下記〔19〕の条件 【数11】 を満たすようにしたことを特徴とする請求項19記載の
    表示装置。
  21. 【請求項21】前記nF1(λn)を、電圧印加時における
    前記液晶層の前記所定の波長の光に対する前記X軸方向
    の平均的な屈折率とほぼ等しくしたことを特徴とする請
    求項19または20記載の表示装置。
  22. 【請求項22】前記nF1(λn)と、nLC1(λn)と、前記
    液晶層の厚みdLCと、前記フィルムの厚みdF とを、前
    記少なくとも隣り合う一組のフィルムと液晶層との間に
    おいて、下記〔20〕および〔21〕の条件 【数12】 の少なくとも一方の条件を満たすようにしたことを特徴
    とする請求項19乃至21のいずれかに記載の表示装
    置。
  23. 【請求項23】前記液晶が電圧無印加時に前記フィルム
    に対してプレチルト角をほとんど有さないで配向してい
    ることを特徴とする請求項19乃至22のいずれかに記
    載の表示装置。
  24. 【請求項24】前記nLC1(λn) およびdLCを、前記少
    なくとも隣り合う一組のフィルムと液晶層との間におい
    て、下記〔22〕および〔23〕の条件 【数13】 を満たすようにしたことを特徴とする請求項19乃至2
    1のいずれかに記載の表示装置。
  25. 【請求項25】前記液晶が電圧無印加時に前記フィルム
    に対して所定のプレチルト角をもって配向していること
    を特徴とする請求項19、20、21または24記載の
    表示装置。
  26. 【請求項26】前記液晶層に使用される液晶分子の長軸
    が、電圧無印加時に、少なくとも前記液晶層の前記積層
    方向での中央部付近において、前記フィルムに対しほぼ
    垂直方向に配向するようにし、 前記複合多層膜が電圧無印加時に光透過状態となり電圧
    印加時に光反射状態となるようにしたことを特徴とする
    請求項17または18記載の表示装置。
  27. 【請求項27】前記nLC1(λn) 、nLC2(λn) 、nF1(
    λn)およびnF2(λn)を、前記少なくとも隣り合う一組
    のフィルムと液晶層との間において、下記〔24〕の条
    件 【数14】 を満たすようにしたことを特徴とする請求項17、18
    または26記載の表示装置。
  28. 【請求項28】前記液晶層に使用される液晶分子の長軸
    が、電圧無印加時に、前記フィルム近傍において、前記
    フィルムに対してほぼ垂直方向に配向していることを特
    徴とする請求項26または27記載の表示装置。
  29. 【請求項29】前記nLC2(λn) およびnF1(λn)を、前
    記少なくとも隣り合う一組のフィルムと液晶層との間に
    おいて、下記〔25〕の条件 【数15】 を満たすようにしたことを特徴とする請求項17、18
    または26記載の表示装置。
  30. 【請求項30】前記液晶層に使用される液晶分子の長軸
    が、電圧無印加時に、前記フィルム近傍において、前記
    フィルムに対して垂直方向から所定の角度傾いて配向し
    ていることを特徴とする請求項26、27または29記
    載の表示装置。
  31. 【請求項31】前記nF1(λn)を、電圧無印加時におけ
    る前記液晶層の前記所定の波長(λn)の光に対する前
    記X軸方向の平均的な屈折率とほぼ等しくし、且つ前記
    F2(λ を、電圧無印加時における前記液晶層の
    前記所定の波長(λn )の光に対する前記Y軸方向の平
    均的な屈折率とほぼ等しくしたことを特徴とする請求項
    26乃至30のいずれかに記載の表示装置。
  32. 【請求項32】前記nF1(λn)と、nLC1(λn)と、n
    LC2(λn)と、前記液晶層の厚みdLCと、前記フィルムの
    厚みdF とを、前記少なくとも隣り合う一組のフィルム
    と液晶層との間において、下記〔26〕および〔27〕
    の条件 【数16】 の少なくとも一方の条件を満たすようにしたことを特徴
    とする請求項26乃至31のいずれかに記載の表示装
    置。
  33. 【請求項33】前記nF1(λn) 、dF およびλn を、下
    記〔28〕の条件 【数17】 を満たすようにしたことを特徴とする請求項1乃至32
    のいずれかに記載の表示装置。
  34. 【請求項34】前記nF2(λn) 、dF およびλn を、下
    記〔29〕の条件 【数18】 を満たすようにしたことを特徴とする請求項1乃至32
    のいずれかに記載の表示装置。
  35. 【請求項35】前記λn 、nLC2(λn) およびdLCを、
    下記〔30〕の条件 【数19】 を満たすようにしたことを特徴とする請求項1乃至34
    のいずれかに記載の表示装置。
  36. 【請求項36】前記λn 、nLC1(λn) 、およびd
    LCを、下記〔31〕の条件 【数20】 を満たすようにしたことを特徴とする請求項1乃至35
    のいずれかに記載の表示装置。
  37. 【請求項37】前記複合多層膜の複数のフィルムと複数
    の液晶層との間で請求項1乃至36のいずれかの要件を
    満たすようにしたことを特徴とする請求項1乃至36の
    いずれかに記載の表示装置。
  38. 【請求項38】前記所定の波長(λn )の光のP波およ
    びS波に対して、請求項1乃至37のいずれかの要件を
    それぞれ満たす少なくとも2つの前記複合多層膜を積層
    して設け、前記積層された複合多層膜に電圧を印加して
    前記積層された複合多層膜の光反射率を制御することを
    特徴とする表示装置。
  39. 【請求項39】複数の異なる所定の波長(λn =λ1
    λ2 ・・・λL )に対して、請求項1乃至37のいずれ
    かに記載の条件をそれぞれ満たす複数の前記複合多層膜
    を積層して設け、前記積層された複数の複合多層膜に電
    圧を印加して前記積層された複数の複合多層膜の光反射
    率を制御することを特徴とする表示装置。
  40. 【請求項40】複数の異なる所定の波長(λn =λ1
    λ2 ・・・λL )の光のそれぞれのP波とS波に対して
    請求項1乃至37のいずれかに記載の条件をそれぞれ満
    たす前記複数の複合多層膜を積層して設け、前記積層さ
    れた複数の複合多層膜に電圧を印加して前記積層された
    複数の複合多層膜の光反射率を制御することを特徴とす
    る表示装置。
  41. 【請求項41】前記所定の波長(λn )に対して、前記
    LC1(λn) およびnLC2(λn) が、下記〔32〕の条件 【数21】 を満たすようにしたことを特徴とする請求項1乃至38
    のいずれかに記載の表示装置。
  42. 【請求項42】前記複数の異なる所定の波長(λn =λ
    1 、λ2 ・・・λL )に対して、前記nLC1(λn) およ
    びnLC2(λn) が、下記〔33〕の条件 【数22】 をそれぞれ満たすようにしたことを特徴とする請求項3
    9または40記載の表示装置。
  43. 【請求項43】前記複合多層膜における前記フィルムの
    層数と前記液晶層の層数との合計層数または前記積層さ
    れた複数の複合多層膜における前記フィルムの層数と前
    記液晶層の層数との合計層数を100以上としたことを
    特徴とする請求項1乃至42のいずれかに記載の表示装
    置。
  44. 【請求項44】前記複数の異なる所定の波長(λn =λ
    1 、λ2 ・・・λL )の光が、3乃至12の異なる所定
    の波長(λn =λ1 、λ2 ・・・λL 、3≦L≦12)
    の光であり、前記3乃至12の異なる所定の波長(λn
    =λ1 、λ2 ・・・λL 、3≦L≦12)の光に対し
    て、前記nLC1(λn) およびnLC2(λn) が、下記〔3
    4〕の条件 【数23】 をそれぞれ満たすようにし、 前記積層された複数の複合多層膜における前記フィルム
    の層数と前記液晶層の層数との合計層数を約100乃至
    400としたことを特徴とする請求項39または40記
    載の表示装置。
  45. 【請求項45】前記3乃至12の異なる所定の波長(λ
    n =λ1 、λ2 ・・・λL )の光が、3の倍数の異なる
    所定の波長(λn =λ1 、λ2 ・・・λL 、3≦L≦1
    2、Lは3の倍数)の光であることを特徴とする請求項
    44記載の表示装置。
  46. 【請求項46】前記複数の異なる所定の波長(λn =λ
    1 、λ2 ・・・λL )の光が、4乃至8の異なる所定の
    波長(λn =λ1 、λ2 ・・・λL 、4≦L≦8)の光
    であり、前記4乃至8の異なる所定の波長(λn =λ
    1 、λ2 ・・・λL 、4≦L≦8)の光に対して、前記
    LC1(λn) およびnLC2(λn) が、下記〔35〕の条件 【数24】 をそれぞれ満たすようにし、 前記積層された複数の複合多層膜における前記フィルム
    の層数と前記液晶層の層数との合計層数を約100乃至
    300としたことを特徴とする請求項44記載の表示装
    置。
  47. 【請求項47】前記複数の異なる所定の波長(λn =λ
    1 、λ2 ・・・λL )の光が、可視光であることを特徴
    とする請求項39、40、42乃至46記載の表示装
    置。
  48. 【請求項48】前記複数の異なる所定の波長の光(λn
    =λ1 、λ2 ・・・λL )のうち、少なくとも1つの波
    長の光を赤外線領域の波長の光としたことを特徴とする
    請求項39、40、42乃至46のいずれかに記載の表
    示装置。
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