JPH10130250A - 含硫エポキシ化合物及び含硫エポキシ樹脂 - Google Patents
含硫エポキシ化合物及び含硫エポキシ樹脂Info
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- JPH10130250A JPH10130250A JP28389196A JP28389196A JPH10130250A JP H10130250 A JPH10130250 A JP H10130250A JP 28389196 A JP28389196 A JP 28389196A JP 28389196 A JP28389196 A JP 28389196A JP H10130250 A JPH10130250 A JP H10130250A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 高屈折率、低分散かつ耐衝撃性に優れた樹脂
を与える新規なエポキシ化合物ならびにエポキシ化合物
を重合または他の硬化剤と共重合させることにより得ら
れる樹脂を提供する。 【解決手段】 式（Ｉ） で表される含硫エポキシ化合物およびビスメルカプトエ
チルスルヒドと式（ＩＩ）で表される化合物 （式中、ＸはＢｒまたはＣｌを示す。）を無機塩基の存
在下、反応させることを特徴とする式（Ｉ）で表される
含硫エポキシ化合物の製造法並びに該化合物を重合して
なる樹脂。
を与える新規なエポキシ化合物ならびにエポキシ化合物
を重合または他の硬化剤と共重合させることにより得ら
れる樹脂を提供する。 【解決手段】 式（Ｉ） で表される含硫エポキシ化合物およびビスメルカプトエ
チルスルヒドと式（ＩＩ）で表される化合物 （式中、ＸはＢｒまたはＣｌを示す。）を無機塩基の存
在下、反応させることを特徴とする式（Ｉ）で表される
含硫エポキシ化合物の製造法並びに該化合物を重合して
なる樹脂。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は新規な含硫エポキシ
化合物とその製造方法ならびに当該含硫エポキシ化合物
を用いて得られる樹脂とその製造方法に関する。
化合物とその製造方法ならびに当該含硫エポキシ化合物
を用いて得られる樹脂とその製造方法に関する。
【０００２】本発明のエポキシ化合物は合成樹脂原料、
プラスチックレンズ用樹脂原料、医農薬原料及び中間
体、エポキシ樹脂塗料原料、接着剤原料、半導体封止剤
原料など広範な用途を有する。
プラスチックレンズ用樹脂原料、医農薬原料及び中間
体、エポキシ樹脂塗料原料、接着剤原料、半導体封止剤
原料など広範な用途を有する。
【０００３】
【従来の技術】光学用途用樹脂は従来からポリメチルメ
タクリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、ジエチレン
グリコールビスアリルカーボネート樹脂等が用いられて
きた。
タクリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、ジエチレン
グリコールビスアリルカーボネート樹脂等が用いられて
きた。
【０００４】これらの中でプラスチックレンズ用途に最
も広く用いられているのはジエチレングリコールビスア
リルカーボネート樹脂であるが、この樹脂は屈折率が
１．５０と低く、レンズに用いた場合に、コバ厚、中心
厚が増し外観の悪化及び重量の増大を招いていた。
も広く用いられているのはジエチレングリコールビスア
リルカーボネート樹脂であるが、この樹脂は屈折率が
１．５０と低く、レンズに用いた場合に、コバ厚、中心
厚が増し外観の悪化及び重量の増大を招いていた。
【０００５】そのために、より高い屈折率を有し、ジエ
チレングリコールビスアリルカーボネート樹脂の持つ欠
点を改良した素材が求められ、特公平５−４４０４号公
報には芳香環にハロゲンを導入した樹脂が開示されてい
る。ところがこの樹脂では屈折率は１．６０と高くなる
ものの、比重が１．３７と高くなる欠点を有している。
しかも、これらの樹脂は耐熱性や耐衝撃性の物性面で必
ずしも満足のいくものではなかった。
チレングリコールビスアリルカーボネート樹脂の持つ欠
点を改良した素材が求められ、特公平５−４４０４号公
報には芳香環にハロゲンを導入した樹脂が開示されてい
る。ところがこの樹脂では屈折率は１．６０と高くなる
ものの、比重が１．３７と高くなる欠点を有している。
しかも、これらの樹脂は耐熱性や耐衝撃性の物性面で必
ずしも満足のいくものではなかった。
【０００６】またイソシアナート化合物とチオール化合
物の重合により構成されるチオウレタン樹脂は高屈折率
であるがアッベ数とのバランス面でさらなる改良が求め
られている。
物の重合により構成されるチオウレタン樹脂は高屈折率
であるがアッベ数とのバランス面でさらなる改良が求め
られている。
【０００７】ところで、一般にエポキシ樹脂は耐衝撃性
の面で優れた特性を有している。光学用途での応用につ
いては一分子中に二個以上のエポキシ基を有するエポキ
シ化合物と一分子中に二個以上のチオール基を有するチ
オール化合物を注型重合することによりレンズを製造す
る方法が国際公開番号ＷＯ８９／１０５７５に開示され
ている。このレンズは高屈折率かつ低分散であるが耐衝
撃性の面で満足のいくものではなかった。すなわちエポ
キシ樹脂において屈折率、耐衝撃性の両面で優れた特性
を応用、実用化することは遅れていた。
の面で優れた特性を有している。光学用途での応用につ
いては一分子中に二個以上のエポキシ基を有するエポキ
シ化合物と一分子中に二個以上のチオール基を有するチ
オール化合物を注型重合することによりレンズを製造す
る方法が国際公開番号ＷＯ８９／１０５７５に開示され
ている。このレンズは高屈折率かつ低分散であるが耐衝
撃性の面で満足のいくものではなかった。すなわちエポ
キシ樹脂において屈折率、耐衝撃性の両面で優れた特性
を応用、実用化することは遅れていた。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記の問題点
を解決するため高屈折率、低分散かつ耐衝撃性に優れた
樹脂を与える新規なエポキシ化合物ならびにエポキシ化
合物を重合または他の硬化剤と共重合させることにより
得られる樹脂を提供することを目的とするものである。
を解決するため高屈折率、低分散かつ耐衝撃性に優れた
樹脂を与える新規なエポキシ化合物ならびにエポキシ化
合物を重合または他の硬化剤と共重合させることにより
得られる樹脂を提供することを目的とするものである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明者らは前記課題を
解決すべく鋭意検討を行ってきた。その結果、新規な含
硫エポキシ化合物を見いだし、本発明に至った。
解決すべく鋭意検討を行ってきた。その結果、新規な含
硫エポキシ化合物を見いだし、本発明に至った。
【００１０】即ち、本発明は式（Ｉ）
【化４】 で表される含硫エポキシ化合物及びその製造法及び式
（Ｉ）で表される化合物または式（Ｉ）で表される化合
物と１種以上の硬化剤を重合触媒の存在下、重合させる
ことを特徴とする樹脂の製造法及び樹脂に関するもので
ある。
（Ｉ）で表される化合物または式（Ｉ）で表される化合
物と１種以上の硬化剤を重合触媒の存在下、重合させる
ことを特徴とする樹脂の製造法及び樹脂に関するもので
ある。
【００１１】
【発明の実施の形態】式（Ｉ）で表される化合物は、
１，２−ビス［（２−メルカプトエチル）チオ］−３−
メルカプトプロパンと式（ＩＩ）で表される化合物を、
１，２−ビス［（２−メルカプトエチル）チオ］−３−
メルカプトプロパンと式（ＩＩ）で表される化合物を、
【化５】 （式中、ＸはＢｒまたはＣｌを示す。） １，２−ビス［（２−メルカプトエチル）チオ］−３−
メルカプトプロパンと式（ＩＩ）化合物に不活性な有機
溶媒または水中または有機溶媒と水の混合溶媒中、無機
塩基の存在下、反応させることにより得られる。
メルカプトプロパンと式（ＩＩ）化合物に不活性な有機
溶媒または水中または有機溶媒と水の混合溶媒中、無機
塩基の存在下、反応させることにより得られる。
【００１２】ここで用いられる有機溶媒としては、ベン
ゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素化合物
またはメタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉ
−プロパノール、ｎ−ブタノール、ｉ−ブタノール、ｓ
ｅｃ−ブタノール等の低級アルコールまたはテトラヒド
ロフラン、ジエチルエーテルなどのエーテル類、ジクロ
ロメタン、クロロホルム、四塩化炭素等の脂肪族塩化物
などであり、これら１種類または２種類以上を混合して
用いることもできる。好ましくはベンゼン、トルエン、
キシレン、メタノール、エタノールなどである。
ゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素化合物
またはメタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉ
−プロパノール、ｎ−ブタノール、ｉ−ブタノール、ｓ
ｅｃ−ブタノール等の低級アルコールまたはテトラヒド
ロフラン、ジエチルエーテルなどのエーテル類、ジクロ
ロメタン、クロロホルム、四塩化炭素等の脂肪族塩化物
などであり、これら１種類または２種類以上を混合して
用いることもできる。好ましくはベンゼン、トルエン、
キシレン、メタノール、エタノールなどである。
【００１３】次に用いられる無機塩基の例としては、水
酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、
水酸化バリウムなどの水酸化アルカリ金属及び水酸化ア
ルカリ土類金属、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸
カルシウム、炭酸バリウムなどの炭酸化アルカリ金属及
び炭酸化アルカリ土類金属、炭酸水素ナトリウム、炭酸
水素カリウムまたナトリウムメトキシド、ナトリウムエ
トキシドなどの金属アルコキシドであり、好ましくは水
酸化ナトリウム、水酸化カリウムである。
酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、
水酸化バリウムなどの水酸化アルカリ金属及び水酸化ア
ルカリ土類金属、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸
カルシウム、炭酸バリウムなどの炭酸化アルカリ金属及
び炭酸化アルカリ土類金属、炭酸水素ナトリウム、炭酸
水素カリウムまたナトリウムメトキシド、ナトリウムエ
トキシドなどの金属アルコキシドであり、好ましくは水
酸化ナトリウム、水酸化カリウムである。
【００１４】反応温度は−２０℃〜反応溶媒の還流温度
であり、好ましくは０℃〜２５℃である。
であり、好ましくは０℃〜２５℃である。
【００１５】反応時間は温度により異なるが、通常１０
分〜１００時間である。反応時の圧力は常圧〜１０ａｔ
ｍで、好ましくは常圧近傍である。また、反応を促進さ
せるため４級アンモニウム塩を加えることもできる。用
いる４級アンモニウム塩としては、塩化テトラメチルア
ンモニウム、臭化テトラメチルアンモニウム、ヨウ化テ
トラメチルアンモニウム、水酸化テトラメチルアンモニ
ウム、臭化テトラエチルアンモニウム、臭化テトラ−ｎ
−ブチルアンモニウム、テトラブチルアンモニウムハイ
ドロゲンサルフェート、ヨウ化テトラ−ｎ−ブチルアン
モニウム、塩化トリエチルベンジルアンモニウム、臭化
トリメチルフェニルアンモニウム等である。
分〜１００時間である。反応時の圧力は常圧〜１０ａｔ
ｍで、好ましくは常圧近傍である。また、反応を促進さ
せるため４級アンモニウム塩を加えることもできる。用
いる４級アンモニウム塩としては、塩化テトラメチルア
ンモニウム、臭化テトラメチルアンモニウム、ヨウ化テ
トラメチルアンモニウム、水酸化テトラメチルアンモニ
ウム、臭化テトラエチルアンモニウム、臭化テトラ−ｎ
−ブチルアンモニウム、テトラブチルアンモニウムハイ
ドロゲンサルフェート、ヨウ化テトラ−ｎ−ブチルアン
モニウム、塩化トリエチルベンジルアンモニウム、臭化
トリメチルフェニルアンモニウム等である。
【００１６】次に各々の原料、無機塩基、４級アンモニ
ウム塩の使用量については、１，２−ビス［（２−メル
カプトエチル）チオ］−３−メルカプトプロパン１．０
モルに対して、式（ＩＩ）の化合物を１．０モル〜１
５．０モル用いる。好ましくは２．７０モル〜３．９０
モルである。１，２−ビス［（２−メルカプトエチル）
チオ］−３−メルカプトプロパン１．０モルに対して、
無機塩基を１．０モル〜１５．０モル用いる。好ましく
は２．７０モル〜７．５０モルである。また４級アンモ
ニウム塩の量は１，２−ビス［（２−メルカプトエチ
ル）チオ］−３−メルカプトプロパン１．０モルに対し
て、０．００１モル〜１．５モル用いる。好ましくは
０．０１モル〜０．１５モルである。
ウム塩の使用量については、１，２−ビス［（２−メル
カプトエチル）チオ］−３−メルカプトプロパン１．０
モルに対して、式（ＩＩ）の化合物を１．０モル〜１
５．０モル用いる。好ましくは２．７０モル〜３．９０
モルである。１，２−ビス［（２−メルカプトエチル）
チオ］−３−メルカプトプロパン１．０モルに対して、
無機塩基を１．０モル〜１５．０モル用いる。好ましく
は２．７０モル〜７．５０モルである。また４級アンモ
ニウム塩の量は１，２−ビス［（２−メルカプトエチ
ル）チオ］−３−メルカプトプロパン１．０モルに対し
て、０．００１モル〜１．５モル用いる。好ましくは
０．０１モル〜０．１５モルである。
【００１７】上記の方法で得られた反応液から、反応物
を得る方法としては抽出法、脱溶媒法等がある。ここで
抽出法に用いる溶媒としては、酢酸エチル、酢酸−ｎ−
ブチル、酢酸イソブチル、メチルエチルケトン、ジエチ
ルエーテル、ジイソプロピルエーテル、四塩化炭素、塩
化メチレン、クロロホルム、ベンゼン、トルエン、キシ
レン、ｎ−ブチルアルコール、ｔ−ブチルアルコール、
ｎ−アミルアルコール等および反応に用いた有機溶媒で
ある。
を得る方法としては抽出法、脱溶媒法等がある。ここで
抽出法に用いる溶媒としては、酢酸エチル、酢酸−ｎ−
ブチル、酢酸イソブチル、メチルエチルケトン、ジエチ
ルエーテル、ジイソプロピルエーテル、四塩化炭素、塩
化メチレン、クロロホルム、ベンゼン、トルエン、キシ
レン、ｎ−ブチルアルコール、ｔ−ブチルアルコール、
ｎ−アミルアルコール等および反応に用いた有機溶媒で
ある。
【００１８】上記方法にて得られた式（Ｉ）で表される
化合物の精製法については、蒸留法、カラム精製法、水
洗法、酸洗法等を用いることが出来る。
化合物の精製法については、蒸留法、カラム精製法、水
洗法、酸洗法等を用いることが出来る。
【００１９】さらに本発明においては、また１，２−ビ
ス［（２−メルカプトエチル）チオ］−３−メルカプト
プロパンと式（ＩＩ）で表される化合物から式（ＩＩ
Ｉ）
ス［（２−メルカプトエチル）チオ］−３−メルカプト
プロパンと式（ＩＩ）で表される化合物から式（ＩＩ
Ｉ）
【化６】 （式中、ＸはＢｒまたはＣｌを示す。）で表される化合
物を製造後、単離あるいは単離することなく、無機塩基
と反応させ式（Ｉ）で表される化合物を製造することも
できる。
物を製造後、単離あるいは単離することなく、無機塩基
と反応させ式（Ｉ）で表される化合物を製造することも
できる。
【００２０】式（ＩＩＩ）で表される化合物は１，２−
ビス［（２−メルカプトエチル）チオ］−３−メルカプ
トプロパンと式（ＩＩ）で表される化合物を１，２−ビ
ス［（２−メルカプトエチル）チオ］−３−メルカプト
プロパンと式（ＩＩ）化合物に不活性な有機溶媒または
水中または有機溶媒と水の混合溶媒中、無機塩基の存在
下、反応させることにより得られる。
ビス［（２−メルカプトエチル）チオ］−３−メルカプ
トプロパンと式（ＩＩ）で表される化合物を１，２−ビ
ス［（２−メルカプトエチル）チオ］−３−メルカプト
プロパンと式（ＩＩ）化合物に不活性な有機溶媒または
水中または有機溶媒と水の混合溶媒中、無機塩基の存在
下、反応させることにより得られる。
【００２１】ここで用いられる有機溶媒としては、ベン
ゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素化合物
またはメタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉ
−プロパノール、ｎ−ブタノール、ｉ−ブタノール、ｓ
ｅｃ−ブタノール等の低級アルコールまたはテトラヒド
ロフラン、ジエチルエーテルなどのエーテル類、ジクロ
ロメタン、クロロホルム、四塩化炭素等の脂肪族塩化物
などであり、これら１種類または２種類以上を混合して
用いることもできる。好ましくはベンゼン、トルエン、
キシレン、メタノール、エタノールなどである。
ゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素化合物
またはメタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉ
−プロパノール、ｎ−ブタノール、ｉ−ブタノール、ｓ
ｅｃ−ブタノール等の低級アルコールまたはテトラヒド
ロフラン、ジエチルエーテルなどのエーテル類、ジクロ
ロメタン、クロロホルム、四塩化炭素等の脂肪族塩化物
などであり、これら１種類または２種類以上を混合して
用いることもできる。好ましくはベンゼン、トルエン、
キシレン、メタノール、エタノールなどである。
【００２２】次に用いられる無機塩基の例としては、水
酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、
水酸化バリウムなどの水酸化アルカリ金属及び水酸化ア
ルカリ土類金属、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸
カルシウム、炭酸バリウムなどの炭酸化アルカリ金属及
び炭酸化アルカリ土類金属、炭酸水素ナトリウム、炭酸
水素カリウムまたはナトリウムメトキシド、ナトリウム
エトキシドなどの金属アルコキシドであり、好ましくは
水酸化ナトリウム、水酸化カリウムである。
酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、
水酸化バリウムなどの水酸化アルカリ金属及び水酸化ア
ルカリ土類金属、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸
カルシウム、炭酸バリウムなどの炭酸化アルカリ金属及
び炭酸化アルカリ土類金属、炭酸水素ナトリウム、炭酸
水素カリウムまたはナトリウムメトキシド、ナトリウム
エトキシドなどの金属アルコキシドであり、好ましくは
水酸化ナトリウム、水酸化カリウムである。
【００２３】反応温度は−２０℃〜反応溶媒の環流温度
であり、好ましくは０℃〜２５℃である。
であり、好ましくは０℃〜２５℃である。
【００２４】反応時間は温度により異なるが、通常１０
分〜１００時間である。反応時の圧力は常圧〜１０ａｔ
ｍで、好ましくは常圧近傍である。また、反応を促進さ
せるため４級アンモニウム塩を加えることもできる。用
いる４級アンモニウム塩としては、塩化テトラメチルア
ンモニウム、臭化テトラメチルアンモニウム、ヨウ化テ
トラメチルアンモニウム、水酸化テトラメチルアンモニ
ウム、臭化テトラエチルアンモニウム、臭化テトラ−ｎ
−ブチルアンモニウム、テトラブチルアンモニウムハイ
ドロゲンサルフェート、ヨウ化テトラ−ｎ−ブチルアン
モニウム、塩化トリエチルベンジルアンモニウム、臭化
トリメチルフェニルアンモニウム等である。
分〜１００時間である。反応時の圧力は常圧〜１０ａｔ
ｍで、好ましくは常圧近傍である。また、反応を促進さ
せるため４級アンモニウム塩を加えることもできる。用
いる４級アンモニウム塩としては、塩化テトラメチルア
ンモニウム、臭化テトラメチルアンモニウム、ヨウ化テ
トラメチルアンモニウム、水酸化テトラメチルアンモニ
ウム、臭化テトラエチルアンモニウム、臭化テトラ−ｎ
−ブチルアンモニウム、テトラブチルアンモニウムハイ
ドロゲンサルフェート、ヨウ化テトラ−ｎ−ブチルアン
モニウム、塩化トリエチルベンジルアンモニウム、臭化
トリメチルフェニルアンモニウム等である。
【００２５】次に各々の原料、無機塩基、４級アンモニ
ウム塩の使用量については、１，２−ビス［（２−メル
カプトエチル）チオ］−３−メルカプトプロパン１．０
モルに対して、式（ＩＩ）の化合物を１．０モル〜１
５．０モル用いる。好ましくは２．７０モル〜３．９０
モルである。また無機塩基の量は１，２−ビス［（２−
メルカプトエチル）チオ］−３−メルカプトプロパン
１．０モルに対して、０．００１モル〜３．０モル用い
る。好ましくは０．０１モル〜０．１５モルである。ま
た４級アンモニウム塩の量は１，２−ビス［（２−メル
カプトエチル）チオ］−３−メルカプトプロパン１．０
モルに対して、０．００１モル〜１．５モル用いる。好
ましくは０．０１モル〜０．１５モルである。
ウム塩の使用量については、１，２−ビス［（２−メル
カプトエチル）チオ］−３−メルカプトプロパン１．０
モルに対して、式（ＩＩ）の化合物を１．０モル〜１
５．０モル用いる。好ましくは２．７０モル〜３．９０
モルである。また無機塩基の量は１，２−ビス［（２−
メルカプトエチル）チオ］−３−メルカプトプロパン
１．０モルに対して、０．００１モル〜３．０モル用い
る。好ましくは０．０１モル〜０．１５モルである。ま
た４級アンモニウム塩の量は１，２−ビス［（２−メル
カプトエチル）チオ］−３−メルカプトプロパン１．０
モルに対して、０．００１モル〜１．５モル用いる。好
ましくは０．０１モル〜０．１５モルである。
【００２６】上記の方法で得られた反応液から、反応物
を得る方法としては抽出法、脱溶媒法等がある。ここで
抽出法に用いる溶媒としては、酢酸エチル、酢酸−ｎ−
ブチル、酢酸イソブチル、メチルエチルケトン、ジエチ
ルエーテル、ジイソプロピルエーテル、四塩化炭素、塩
化メチレン、クロロホルム、ベンゼン、トルエン、キシ
レン、ｎ−ブチルアルコール、ｔ−ブチルアルコール、
ｎ−アミルアルコール等および反応に用いた有機溶媒で
ある。
を得る方法としては抽出法、脱溶媒法等がある。ここで
抽出法に用いる溶媒としては、酢酸エチル、酢酸−ｎ−
ブチル、酢酸イソブチル、メチルエチルケトン、ジエチ
ルエーテル、ジイソプロピルエーテル、四塩化炭素、塩
化メチレン、クロロホルム、ベンゼン、トルエン、キシ
レン、ｎ−ブチルアルコール、ｔ−ブチルアルコール、
ｎ−アミルアルコール等および反応に用いた有機溶媒で
ある。
【００２７】上記方法にて得られた式（ＩＩＩ）で表さ
れる化合物の精製法については、蒸留法、カラム精製
法、水洗法、酸洗法等を用いることが出来る。
れる化合物の精製法については、蒸留法、カラム精製
法、水洗法、酸洗法等を用いることが出来る。
【００２８】次に式（Ｉ）で表される化合物は式（ＩＩ
Ｉ）で表される化合物を式（ＩＩＩ）と不活性な有機溶
媒または水中または有機溶媒と水の混合溶媒中、無機塩
基と反応させる方法によっても得ることができる。その
際、用いる式（ＩＩＩ）の化合物は単離したものあるい
は単離しないものいずれも用いることができる。
Ｉ）で表される化合物を式（ＩＩＩ）と不活性な有機溶
媒または水中または有機溶媒と水の混合溶媒中、無機塩
基と反応させる方法によっても得ることができる。その
際、用いる式（ＩＩＩ）の化合物は単離したものあるい
は単離しないものいずれも用いることができる。
【００２９】ここで用いられる有機溶媒としては、ベン
ゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素化合物
またはメタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉ
−プロパノール、ｎ−ブタノール、ｉ−ブタノール、ｓ
ｅｃ−ブタノール等の低級アルコールまたはテトラヒド
ロフラン、ジエチルエーテルなどのエーテル類、ジクロ
ロメタン、クロロホルム、四塩化炭素等の脂肪族塩化物
などであり、これら１種類または２種類以上を混合して
用いることもできる。好ましくはベンゼン、トルエン、
キシレン、メタノール、エタノールなどである。
ゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素化合物
またはメタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉ
−プロパノール、ｎ−ブタノール、ｉ−ブタノール、ｓ
ｅｃ−ブタノール等の低級アルコールまたはテトラヒド
ロフラン、ジエチルエーテルなどのエーテル類、ジクロ
ロメタン、クロロホルム、四塩化炭素等の脂肪族塩化物
などであり、これら１種類または２種類以上を混合して
用いることもできる。好ましくはベンゼン、トルエン、
キシレン、メタノール、エタノールなどである。
【００３０】次に用いられる無機塩基の例としては、水
酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、
水酸化バリウムなどの水酸化アルカリ金属及び水酸化ア
ルカリ土類金属、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸
カルシウム、炭酸バリウムなどの炭酸化アルカリ金属及
び炭酸化アルカリ土類金属、炭酸水素ナトリウム、炭酸
水素カリウムまたナトリウムメトキシド、ナトリウムエ
トキシドなどの金属アルコキシドであり、好ましくは水
酸化ナトリウム、水酸化カリウムである。
酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、
水酸化バリウムなどの水酸化アルカリ金属及び水酸化ア
ルカリ土類金属、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸
カルシウム、炭酸バリウムなどの炭酸化アルカリ金属及
び炭酸化アルカリ土類金属、炭酸水素ナトリウム、炭酸
水素カリウムまたナトリウムメトキシド、ナトリウムエ
トキシドなどの金属アルコキシドであり、好ましくは水
酸化ナトリウム、水酸化カリウムである。
【００３１】反応温度は−２０℃〜反応溶媒の還流温度
であり、好ましくは０℃〜２５℃である。
であり、好ましくは０℃〜２５℃である。
【００３２】反応時間は温度により異なるが、通常１０
分〜１００時間である。反応時の圧力は常圧〜１０ａｔ
ｍで、好ましくは常圧近傍である。また、反応を促進さ
せるため４級アンモニウム塩を加えることもできる。用
いる４級アンモニウム塩としては、塩化テトラメチルア
ンモニウム、臭化テトラメチルアンモニウム、ヨウ化テ
トラメチルアンモニウム、水酸化テトラメチルアンモニ
ウム、臭化テトラエチルアンモニウム、臭化テトラ−ｎ
−ブチルアンモニウム、テトラブチルアンモニウムハイ
ドロゲンサルフェート、ヨウ化テトラ−ｎ−ブチルアン
モニウム、塩化トリエチルベンジルアンモニウム、臭化
トリメチルフェニルアンモニウム等である。
分〜１００時間である。反応時の圧力は常圧〜１０ａｔ
ｍで、好ましくは常圧近傍である。また、反応を促進さ
せるため４級アンモニウム塩を加えることもできる。用
いる４級アンモニウム塩としては、塩化テトラメチルア
ンモニウム、臭化テトラメチルアンモニウム、ヨウ化テ
トラメチルアンモニウム、水酸化テトラメチルアンモニ
ウム、臭化テトラエチルアンモニウム、臭化テトラ−ｎ
−ブチルアンモニウム、テトラブチルアンモニウムハイ
ドロゲンサルフェート、ヨウ化テトラ−ｎ−ブチルアン
モニウム、塩化トリエチルベンジルアンモニウム、臭化
トリメチルフェニルアンモニウム等である。
【００３３】次に各々の無機塩基、４級アンモニウム塩
の使用量については、式（ＩＩＩ）の化合物１．０モル
に対して、無機塩基を１．０モル〜１５．０モル用い
る。好ましくは２．７０モル〜７．５０モルである。ま
た４級アンモニウム塩の量は式（ＩＩＩ）の化合物１．
０モルに対して、０．００１モル〜１．５モル用いる。
好ましくは０．０１モル〜０．１５モルである。
の使用量については、式（ＩＩＩ）の化合物１．０モル
に対して、無機塩基を１．０モル〜１５．０モル用い
る。好ましくは２．７０モル〜７．５０モルである。ま
た４級アンモニウム塩の量は式（ＩＩＩ）の化合物１．
０モルに対して、０．００１モル〜１．５モル用いる。
好ましくは０．０１モル〜０．１５モルである。
【００３４】上記の方法で得られた反応液から、反応物
を得る方法としては抽出法、脱溶媒法等がある。ここで
抽出法に用いる溶媒としては、酢酸エチル、酢酸−ｎ−
ブチル、酢酸イソブチル、メチルエチルケトン、ジエチ
ルエーテル、ジイソプロピルエーテル、四塩化炭素、塩
化メチレン、クロロホルム、ベンゼン、トルエン、キシ
レン、ｎ−ブチルアルコール、ｔ−ブチルアルコール、
ｎ−アミルアルコール等および反応に用いた有機溶媒で
ある。
を得る方法としては抽出法、脱溶媒法等がある。ここで
抽出法に用いる溶媒としては、酢酸エチル、酢酸−ｎ−
ブチル、酢酸イソブチル、メチルエチルケトン、ジエチ
ルエーテル、ジイソプロピルエーテル、四塩化炭素、塩
化メチレン、クロロホルム、ベンゼン、トルエン、キシ
レン、ｎ−ブチルアルコール、ｔ−ブチルアルコール、
ｎ−アミルアルコール等および反応に用いた有機溶媒で
ある。
【００３５】さらに得られた式（Ｉ）で表される化合物
の精製法については、蒸留法、カラム精製法、水洗法、
酸洗法等を用いることが出来る。
の精製法については、蒸留法、カラム精製法、水洗法、
酸洗法等を用いることが出来る。
【００３６】次に本発明の含硫エポキシ樹脂は、式
（Ｉ）で表される化合物を重合触媒の存在下、必要に応
じて加熱処理を行うことにより得ることが出来る。
（Ｉ）で表される化合物を重合触媒の存在下、必要に応
じて加熱処理を行うことにより得ることが出来る。
【００３７】また式（Ｉ）で表される化合物と他種のエ
ポキシ化合物を重合触媒の存在下、必要に応じて加熱処
理を行い、樹脂を得ることが出来る。
ポキシ化合物を重合触媒の存在下、必要に応じて加熱処
理を行い、樹脂を得ることが出来る。
【００３８】他種のエポキシ化合物としてはビスフェノ
ール型エポキシ化合物、エチレングリコール変性ビスフ
ェノール型エポキシ化合物、アリシックジエポキシアセ
タール、アリシックジエポキシアジペート、アリシック
ジエポキシカルボキシレート、ビニルシクロヘキセンジ
エポキシドなどの脂肪族エポキシ化合物、ジグリシジル
フタレート、ジグリシジルテトラヒドロフタレート、ジ
グリシジルヘキサヒドロフタレート、ジメチルグリシジ
ルフタレート、ジメチルグリシジルヘキサヒドロフタレ
ート、などのグリシジルエステル系エポキシ化合物。
ール型エポキシ化合物、エチレングリコール変性ビスフ
ェノール型エポキシ化合物、アリシックジエポキシアセ
タール、アリシックジエポキシアジペート、アリシック
ジエポキシカルボキシレート、ビニルシクロヘキセンジ
エポキシドなどの脂肪族エポキシ化合物、ジグリシジル
フタレート、ジグリシジルテトラヒドロフタレート、ジ
グリシジルヘキサヒドロフタレート、ジメチルグリシジ
ルフタレート、ジメチルグリシジルヘキサヒドロフタレ
ート、などのグリシジルエステル系エポキシ化合物。
【００３９】テトラグリシジルジアミノジフェニルメタ
ン、トリグリシジル−パラアミノフェノール、トリグリ
シジル−メタアミノフェノール、ジグリシジルアニリ
ン、ジグリシジルトルイジン、テトラグリシジルメタキ
シレンジアミン、ジグリシジルトリブロムアニリン、テ
トラグリシジルンビスアミノメチルシクロヘキサンなど
のグリシジルアミン化合物、トリグリシジルイソシアネ
ートなどの複素環式エポキシ化合物などである。
ン、トリグリシジル−パラアミノフェノール、トリグリ
シジル−メタアミノフェノール、ジグリシジルアニリ
ン、ジグリシジルトルイジン、テトラグリシジルメタキ
シレンジアミン、ジグリシジルトリブロムアニリン、テ
トラグリシジルンビスアミノメチルシクロヘキサンなど
のグリシジルアミン化合物、トリグリシジルイソシアネ
ートなどの複素環式エポキシ化合物などである。
【００４０】また用いる重合触媒としては、１，８−ジ
アザビシクロ〔５，４，０〕−７−ウンデセン、トリエ
チレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジメチルピペラジン、ピリ
ジン、ピコリン、トリエチルアミンなどの三級アミン、
三フッ化ホウ素、トリフルオロメタンスルホン酸などの
ルイス酸、酸およびそれらの塩などである。
アザビシクロ〔５，４，０〕−７−ウンデセン、トリエ
チレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジメチルピペラジン、ピリ
ジン、ピコリン、トリエチルアミンなどの三級アミン、
三フッ化ホウ素、トリフルオロメタンスルホン酸などの
ルイス酸、酸およびそれらの塩などである。
【００４１】重合時には必要に応じて、加熱を行うこと
もできる。加熱温度は２５℃〜１７０℃であり好ましく
は２５℃〜１３０℃である。加熱時間は１０分〜１００
時間であり好ましくは１０分〜５時間である。
もできる。加熱温度は２５℃〜１７０℃であり好ましく
は２５℃〜１３０℃である。加熱時間は１０分〜１００
時間であり好ましくは１０分〜５時間である。
【００４２】また他の硬化剤との共重合化も可能であ
る。硬化剤としてはエチレンジアミン、ジエチレントリ
アミン、トリエチレンテトラミンイソフォロンジアミ
ン、キシリレンジアミンなどの脂肪族アミン、メタフェ
ニレンジアミン、ジアミノジフェニルメタン、ジアミノ
ジフェニルスルフォンなどの芳香族アミン、ドデセニル
無水コハク酸、ポリアジピン酸無水物、ポリアゼライン
酸無水物などの脂肪族酸無水物、メチルテトラヒドロ無
水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、ヘキサ
ヒドロ無水フタル酸などの脂環式酸無水物、無水フタル
酸、無水トリメリット酸、無水ピロメッリト酸などの芳
香族酸無水物、無水ヘット酸、テトラブロモ無水フタル
酸などのハロゲン系酸無水物、ジシアンジアミドなどの
塩基性活性水素化合物、イミダゾール化合物、１，２−
ビス［（２−メルカプトエチル）チオ］−３−メルカプ
トプロパン、ビスメルカプトエチルスルヒドなどのポリ
メルカプタン系硬化剤、トリレンジイソシアネートなど
のイソシアネート化合物などである。
る。硬化剤としてはエチレンジアミン、ジエチレントリ
アミン、トリエチレンテトラミンイソフォロンジアミ
ン、キシリレンジアミンなどの脂肪族アミン、メタフェ
ニレンジアミン、ジアミノジフェニルメタン、ジアミノ
ジフェニルスルフォンなどの芳香族アミン、ドデセニル
無水コハク酸、ポリアジピン酸無水物、ポリアゼライン
酸無水物などの脂肪族酸無水物、メチルテトラヒドロ無
水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、ヘキサ
ヒドロ無水フタル酸などの脂環式酸無水物、無水フタル
酸、無水トリメリット酸、無水ピロメッリト酸などの芳
香族酸無水物、無水ヘット酸、テトラブロモ無水フタル
酸などのハロゲン系酸無水物、ジシアンジアミドなどの
塩基性活性水素化合物、イミダゾール化合物、１，２−
ビス［（２−メルカプトエチル）チオ］−３−メルカプ
トプロパン、ビスメルカプトエチルスルヒドなどのポリ
メルカプタン系硬化剤、トリレンジイソシアネートなど
のイソシアネート化合物などである。
【００４３】さらに必要に応じて内部離型剤、光安定
剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、染色剤、充填剤などを
加えることができる。
剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、染色剤、充填剤などを
加えることができる。
【００４４】また本発明によってレンズを製造する場合
は、通常、注型重合法が好適である。具体的には式
（Ｉ）で表される含硫エポキシ化合物または式（Ｉ）で
表される化合物と１種以上の硬化剤に重合触媒を加えて
混合し、この混合液を必要に応じて適当な方法で脱泡を
行った後、モールド中に注入し、２５℃〜１７０℃の温
度にて重合させる。この際、重合後の離型性を容易にす
るため、モールドに公知の離型処理を施して、あるいは
内部離型剤を添加してもかまわない。このようにして得
られる本発明にかかる含硫エポキシ系樹脂は無色透明
で、高屈折率、低分散、耐衝撃性に優れた特徴を有して
おり眼鏡レンズ、カメラレンズ等の光学素材材料やグレ
ージング材料として好適である。また本発明にかかるレ
ンズは必要に応じて反射防止、高硬度付与、耐磨耗性向
上、防曇性付与、あるいはファッション性付与等の改良
を行うため、表面研磨、帯電防止処理、ハードコート処
理、無反射コート処理、染色処理、調光処理等の物理的
あるいは化学的処理を施すことが出来る。
は、通常、注型重合法が好適である。具体的には式
（Ｉ）で表される含硫エポキシ化合物または式（Ｉ）で
表される化合物と１種以上の硬化剤に重合触媒を加えて
混合し、この混合液を必要に応じて適当な方法で脱泡を
行った後、モールド中に注入し、２５℃〜１７０℃の温
度にて重合させる。この際、重合後の離型性を容易にす
るため、モールドに公知の離型処理を施して、あるいは
内部離型剤を添加してもかまわない。このようにして得
られる本発明にかかる含硫エポキシ系樹脂は無色透明
で、高屈折率、低分散、耐衝撃性に優れた特徴を有して
おり眼鏡レンズ、カメラレンズ等の光学素材材料やグレ
ージング材料として好適である。また本発明にかかるレ
ンズは必要に応じて反射防止、高硬度付与、耐磨耗性向
上、防曇性付与、あるいはファッション性付与等の改良
を行うため、表面研磨、帯電防止処理、ハードコート処
理、無反射コート処理、染色処理、調光処理等の物理的
あるいは化学的処理を施すことが出来る。
【００４５】
【実施例】次に実施例を挙げて本発明化合物の製造法を
具体的に説明する。尚、樹脂の耐衝撃性試験は直径３ｃ
ｍ、厚さ１．５ｍｍの試料を作成し、１２７ｃｍの高さ
より所定の重量の鉄球を落下し、割れなかったものを
○、割れたものを×とした。
具体的に説明する。尚、樹脂の耐衝撃性試験は直径３ｃ
ｍ、厚さ１．５ｍｍの試料を作成し、１２７ｃｍの高さ
より所定の重量の鉄球を落下し、割れなかったものを
○、割れたものを×とした。
【００４６】実施例１ １，２−ビス［（２−メルカプトエチル）チオ］−３−
メルカプトプロパン３３．８ｇ（０．１３モル）とメタ
ノール１０００ｍｌ、水酸化ナトリウム１５．６ｇ
（０．３９モル）を、３ｌの反応フラスコに仕込み、完
全に溶解するまで撹拌した。次にエピクロルヒドリン３
７．８ｇ（０．４０９モル）を室温下、１時間かけて滴
下した。その後、室温で３時間撹拌した。その後、１０
時間、室温にて撹拌した。次に水３００ｍｌを加え、エ
バポレーターで脱溶媒した。冷却後、酢酸エチル２００
ｍｌを加え抽出した。これを２回繰り返した後０．１Ｎ
塩酸水溶液１００ｍｌで洗浄後、飽和食塩水１００ｍｌ
で洗浄後エバポレーターで脱溶媒し４，７，１０，１３
−テトラチア−９−（２−チア−４−ペンテンオキサイ
ド）−１，１５−Ｎ−ヘキサデカジエンジオキサイドを
１６．７ｇ得た。（収率３０％） ＩＲνｎｅａｔｃｍ-1：２９９０，１４１２ ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δｐｐｍ：２．５
５〜３．２０（２８Ｈ，ｍ）．
メルカプトプロパン３３．８ｇ（０．１３モル）とメタ
ノール１０００ｍｌ、水酸化ナトリウム１５．６ｇ
（０．３９モル）を、３ｌの反応フラスコに仕込み、完
全に溶解するまで撹拌した。次にエピクロルヒドリン３
７．８ｇ（０．４０９モル）を室温下、１時間かけて滴
下した。その後、室温で３時間撹拌した。その後、１０
時間、室温にて撹拌した。次に水３００ｍｌを加え、エ
バポレーターで脱溶媒した。冷却後、酢酸エチル２００
ｍｌを加え抽出した。これを２回繰り返した後０．１Ｎ
塩酸水溶液１００ｍｌで洗浄後、飽和食塩水１００ｍｌ
で洗浄後エバポレーターで脱溶媒し４，７，１０，１３
−テトラチア−９−（２−チア−４−ペンテンオキサイ
ド）−１，１５−Ｎ−ヘキサデカジエンジオキサイドを
１６．７ｇ得た。（収率３０％） ＩＲνｎｅａｔｃｍ-1：２９９０，１４１２ ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δｐｐｍ：２．５
５〜３．２０（２８Ｈ，ｍ）．
【００４７】実施例２ １，２−ビス［（２−メルカプトエチル）チオ］−３−
メルカプトプロパン３３．８ｇ（０．１３モル）とメタ
ノール１５０ｍｌ、水酸化ナトリウム０．１５ｇ（０．
００３８モル）を１ｌの反応フラスコに入れ、完全に溶
解するまで撹拌した。次にエピクロロヒドリン３７．９
ｇ（０．４１モル）を室温下、１時間かけて滴下した。
その後、室温で３時間撹拌した。エバポレーターで脱溶
媒後、シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ｎ
−ヘキサン＝１：３）で分離し１，２−ビス［（１，４
−ジチア−６−ヒドロキシ−７−クロロ）−ｎ−ヘプチ
ル］−３−［（１−チア−３−ヒドロキシ−４−クロ
ロ）−ｎ−ブチル］プロパンを５２．４ｇ得た。（収率
７５％） ＩＲνｎｅａｔｃｍ-1：３４０２，１４２５ ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δｐｐｍ：２．７
０〜３．１０（２２Ｈ，ｍ），３．６０〜３．７５（６
Ｈ，ｍ），３．９５〜４．０５（３Ｈ，ｍ）
メルカプトプロパン３３．８ｇ（０．１３モル）とメタ
ノール１５０ｍｌ、水酸化ナトリウム０．１５ｇ（０．
００３８モル）を１ｌの反応フラスコに入れ、完全に溶
解するまで撹拌した。次にエピクロロヒドリン３７．９
ｇ（０．４１モル）を室温下、１時間かけて滴下した。
その後、室温で３時間撹拌した。エバポレーターで脱溶
媒後、シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ｎ
−ヘキサン＝１：３）で分離し１，２−ビス［（１，４
−ジチア−６−ヒドロキシ−７−クロロ）−ｎ−ヘプチ
ル］−３−［（１−チア−３−ヒドロキシ−４−クロ
ロ）−ｎ−ブチル］プロパンを５２．４ｇ得た。（収率
７５％） ＩＲνｎｅａｔｃｍ-1：３４０２，１４２５ ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δｐｐｍ：２．７
０〜３．１０（２２Ｈ，ｍ），３．６０〜３．７５（６
Ｈ，ｍ），３．９５〜４．０５（３Ｈ，ｍ）
【００４８】実施例３ 実施例２に示した１，２−ビス［（１，４−ジチア−６
−ヒドロキシ−７−クロロ）−ｎ−ヘプチル］−３−
［（１−チア−３−ヒドロキシ−４−クロロ）−ｎ−ブ
チル］プロパン５２．４ｇ（０．０９７５モル）とトル
エン６００ｍｌ、水酸化ナトリウム２１．２ｇ（０．５
３１モル）を１０００ｍｌの水に溶かした水酸化ナトリ
ウムを３ｌの反応フラスコに仕込んだ。次にテトラ−ｎ
−ブチルアンモニウムブロマイド２．４ｇを加え、室温
で３時間撹拌した。酢酸エチル５００ｍｌを加え抽出し
た。さらにこれを２回繰り返した後、０．１Ｎ塩酸水溶
液３００ｍｌで洗浄後、飽和食塩水１００ｍｌで洗浄
し、エバポレーターで脱溶媒し、４，７，１０，１３−
テトラチア−９−（２−チア−４−ペンテンオキサイ
ド）−１，１５−Ｎ−ヘキサデカジエンジオキサイドを
３１．３ｇ得た。（収率７５％）
−ヒドロキシ−７−クロロ）−ｎ−ヘプチル］−３−
［（１−チア−３−ヒドロキシ−４−クロロ）−ｎ−ブ
チル］プロパン５２．４ｇ（０．０９７５モル）とトル
エン６００ｍｌ、水酸化ナトリウム２１．２ｇ（０．５
３１モル）を１０００ｍｌの水に溶かした水酸化ナトリ
ウムを３ｌの反応フラスコに仕込んだ。次にテトラ−ｎ
−ブチルアンモニウムブロマイド２．４ｇを加え、室温
で３時間撹拌した。酢酸エチル５００ｍｌを加え抽出し
た。さらにこれを２回繰り返した後、０．１Ｎ塩酸水溶
液３００ｍｌで洗浄後、飽和食塩水１００ｍｌで洗浄
し、エバポレーターで脱溶媒し、４，７，１０，１３−
テトラチア−９−（２−チア−４−ペンテンオキサイ
ド）−１，１５−Ｎ−ヘキサデカジエンジオキサイドを
３１．３ｇ得た。（収率７５％）
【００４９】実施例４ １，２−ビス［（２−メルカプトエチル）チオ］−３−
メルカプトプロパン３３．８ｇ（０．１３モル）とメタ
ノール１５０ｍｌ、水酸化ナトリウム０．１５ｇ（０．
００３８モル）を５００ｍｌの反応フラスコに仕込み、
完全に溶解するまで撹拌した。次にエピクロルヒドリン
３７．８ｇ（０．４０９モル）を室温下、１時間かけて
滴下した。その後、室温で３時間撹拌した。その後、１
０時間、室温にて撹拌した。次にエバポレーターで脱溶
媒後の反応物をトルエン４００ｍｌに溶解し、１０００
ｍｌの水に溶かした水酸化ナトリウム２２．７ｇ（０．
５６７モル）と共に３ｌの反応フラスコに装入した。次
に、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムブロマイド２．４
ｇを加え、室温で３時間撹拌した。酢酸エチル５００ｍ
ｌを加え抽出した。これを２回繰り返した後０．１Ｎ塩
酸水溶液３００ｍｌで洗浄後、飽和食塩水１００ｍｌで
洗浄後エバポレーターで脱溶媒し４，７，１０，１３−
テトラチア−９−（２−チア−４−ペンテンオキサイ
ド）−１，１５−Ｎ−ヘキサデカジエンジオキサイドを
２３．４ｇ得た（収率４２％）。
メルカプトプロパン３３．８ｇ（０．１３モル）とメタ
ノール１５０ｍｌ、水酸化ナトリウム０．１５ｇ（０．
００３８モル）を５００ｍｌの反応フラスコに仕込み、
完全に溶解するまで撹拌した。次にエピクロルヒドリン
３７．８ｇ（０．４０９モル）を室温下、１時間かけて
滴下した。その後、室温で３時間撹拌した。その後、１
０時間、室温にて撹拌した。次にエバポレーターで脱溶
媒後の反応物をトルエン４００ｍｌに溶解し、１０００
ｍｌの水に溶かした水酸化ナトリウム２２．７ｇ（０．
５６７モル）と共に３ｌの反応フラスコに装入した。次
に、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムブロマイド２．４
ｇを加え、室温で３時間撹拌した。酢酸エチル５００ｍ
ｌを加え抽出した。これを２回繰り返した後０．１Ｎ塩
酸水溶液３００ｍｌで洗浄後、飽和食塩水１００ｍｌで
洗浄後エバポレーターで脱溶媒し４，７，１０，１３−
テトラチア−９−（２−チア−４−ペンテンオキサイ
ド）−１，１５−Ｎ−ヘキサデカジエンジオキサイドを
２３．４ｇ得た（収率４２％）。
【００５０】実施例５ 実施例１に示した４，７，１０，１３−テトラチア−９
−（２−チア−４−ペンテンオキサイド）−１，１５−
Ｎ−ヘキサデカジエンジオキサイド１０．０ｇとトリエ
チルアミン０．１ｇ、内部離型剤としてＺｅｌｅｃ−Ｕ
Ｎ０．０１ｇを撹拌したものを１００ｍｌのガラス製サ
ンプル管に入れ、１２０℃で１時間オーブン加熱し、無
色の樹脂を得た。 ｎｄ＝１．６３ νｄ＝３９．０ 耐衝撃性試験 １００ｇ＝○
−（２−チア−４−ペンテンオキサイド）−１，１５−
Ｎ−ヘキサデカジエンジオキサイド１０．０ｇとトリエ
チルアミン０．１ｇ、内部離型剤としてＺｅｌｅｃ−Ｕ
Ｎ０．０１ｇを撹拌したものを１００ｍｌのガラス製サ
ンプル管に入れ、１２０℃で１時間オーブン加熱し、無
色の樹脂を得た。 ｎｄ＝１．６３ νｄ＝３９．０ 耐衝撃性試験 １００ｇ＝○
【００５１】実施例６ 実施例１に示した４，７，１０，１３−テトラチア−９
−（２−チア−４−ペンテンオキサイド）−１，１５−
Ｎ−ヘキサデカジエンジオキサイド１０．０ｇと４−メ
チルヘキサヒドロフタル酸無水物７．９ｇとトリエチル
アミン０．１ｇ、内部離型剤としてＺｅｌｅｃ−ＵＮ
０．１ｇを撹拌したものを１００ｍｌのガラス製サンプ
ル管に入れ、１２０℃で２時間オーブン加熱し、淡黄色
の樹脂を得た。 ｎｄ＝１．５５ νｄ＝５０．１
−（２−チア−４−ペンテンオキサイド）−１，１５−
Ｎ−ヘキサデカジエンジオキサイド１０．０ｇと４−メ
チルヘキサヒドロフタル酸無水物７．９ｇとトリエチル
アミン０．１ｇ、内部離型剤としてＺｅｌｅｃ−ＵＮ
０．１ｇを撹拌したものを１００ｍｌのガラス製サンプ
ル管に入れ、１２０℃で２時間オーブン加熱し、淡黄色
の樹脂を得た。 ｎｄ＝１．５５ νｄ＝５０．１
【００５２】実施例７ 実施例１に示した４，７，１０，１３−テトラチア−９
−（２−チア−４−ペンテンオキサイド）−１，１５−
Ｎ−ヘキサデカジエンジオキサイド１０．０ｇと１，２
−ビス［（２−メルカプトエチル）チオ］−３−メルカ
プトプロパン６．１ｇとトリエチルアミン０．１ｇ、内
部離型剤としてＺｅｌｅｃ−ＵＮ０．１ｇを撹拌したも
のを１００ｍｌのガラス製サンプル管に入れ、１２０℃
で２時間オーブン加熱し、淡黄色の樹脂を得た。 ｎｄ＝１．６７ νｄ＝３５．９ 耐衝撃性試験 １００ｇ＝○
−（２−チア−４−ペンテンオキサイド）−１，１５−
Ｎ−ヘキサデカジエンジオキサイド１０．０ｇと１，２
−ビス［（２−メルカプトエチル）チオ］−３−メルカ
プトプロパン６．１ｇとトリエチルアミン０．１ｇ、内
部離型剤としてＺｅｌｅｃ−ＵＮ０．１ｇを撹拌したも
のを１００ｍｌのガラス製サンプル管に入れ、１２０℃
で２時間オーブン加熱し、淡黄色の樹脂を得た。 ｎｄ＝１．６７ νｄ＝３５．９ 耐衝撃性試験 １００ｇ＝○
【００５３】実施例８ 実施例１に示した４，７，１０，１３−テトラチア−９
−（２−チア−４−ペンテンオキサイド）−１，１５−
Ｎ−ヘキサデカジエンジオキサイド３０．０ｇとトリエ
チルアミン０．３ｇ、内部離型剤としてＺｅｌｅｃ−Ｕ
Ｎ０．０３ｇを撹拌し均一溶液とし、十分に脱泡したも
のをガラスモールドとガスケットよりなるモールド型中
に注入した。１２０℃で３時間オーブン加熱し、無色の
マイナスレンズを得た。 ｎｄ＝１．６３ νｄ＝３９．０ 耐衝撃性試験は中心厚１．５ｍｍのマイナスレンズを作
成し、１２７ｃｍの高さより所定の重量の鉄球を落下
し、割れなかったものを○、割れたものを×とした。１
１４ｇ＝○
−（２−チア−４−ペンテンオキサイド）−１，１５−
Ｎ−ヘキサデカジエンジオキサイド３０．０ｇとトリエ
チルアミン０．３ｇ、内部離型剤としてＺｅｌｅｃ−Ｕ
Ｎ０．０３ｇを撹拌し均一溶液とし、十分に脱泡したも
のをガラスモールドとガスケットよりなるモールド型中
に注入した。１２０℃で３時間オーブン加熱し、無色の
マイナスレンズを得た。 ｎｄ＝１．６３ νｄ＝３９．０ 耐衝撃性試験は中心厚１．５ｍｍのマイナスレンズを作
成し、１２７ｃｍの高さより所定の重量の鉄球を落下
し、割れなかったものを○、割れたものを×とした。１
１４ｇ＝○
【００５４】比較例１ エチレングリコールジグリシジルエーテル１０．０ｇと
トリエチルアミン０．１ｇ、内部離型剤としてＺｅｌｅ
ｃ−ＵＮ０．０１ｇを撹拌したものを１００ｍｌのガラ
ス製サンプル管に入れ、１２０℃で２時間オーブン加熱
し、淡黄色の樹脂を得た。 ｎｄ＝１．５０ νｄ＝６１．３
トリエチルアミン０．１ｇ、内部離型剤としてＺｅｌｅ
ｃ−ＵＮ０．０１ｇを撹拌したものを１００ｍｌのガラ
ス製サンプル管に入れ、１２０℃で２時間オーブン加熱
し、淡黄色の樹脂を得た。 ｎｄ＝１．５０ νｄ＝６１．３
【００５５】比較例２ ビニルシクロヘキセンジエポキシド１０．０ｇとテトラ
キス（２ーメルカプトエチルチオメチル）メタン４．４
ｇとトリエチルアミン０．０５ｇ、内部離型剤としてＺ
ｅｌｅｃ−ＵＮ０．０１ｇを撹拌したものを１００ｍｌ
のガラス製サンプル管に入れ、５０℃で２時間オーブン
加熱し、淡黄色の樹脂を得た。 ｎｄ＝１．６４ νｄ＝４４．０ 耐衝撃性試験 １００ｇ＝×
キス（２ーメルカプトエチルチオメチル）メタン４．４
ｇとトリエチルアミン０．０５ｇ、内部離型剤としてＺ
ｅｌｅｃ−ＵＮ０．０１ｇを撹拌したものを１００ｍｌ
のガラス製サンプル管に入れ、５０℃で２時間オーブン
加熱し、淡黄色の樹脂を得た。 ｎｄ＝１．６４ νｄ＝４４．０ 耐衝撃性試験 １００ｇ＝×
【００５６】
【発明の効果】本発明に係る４，７，１０，１３−テト
ラチア−９−（２−チア−４−ペンテンオキサイド）−
１，１５−Ｎ−ヘキサデカジエンジオキサイドを見出
し、該化合物を重合してなる高屈折率の樹脂を提供する
ことが出来た。
ラチア−９−（２−チア−４−ペンテンオキサイド）−
１，１５−Ｎ−ヘキサデカジエンジオキサイドを見出
し、該化合物を重合してなる高屈折率の樹脂を提供する
ことが出来た。
Claims (7)
- 【請求項１】 式（Ｉ） 【化１】 で表される含硫エポキシ化合物。
- 【請求項２】 １，２−ビス［（２−メルカプトエチ
ル）チオ］−３−メルカプトプロパンと式（ＩＩ）で表
される化合物 【化２】 （式中、ＸはＢｒまたはＣｌを示す。）を無機塩基の存
在下、反応させることを特徴とする式（Ｉ）で表される
含硫エポキシ化合物の製造法。 - 【請求項３】 １，２−ビス［（２−メルカプトエチ
ル）チオ］−３−メルカプトプロパンと式（ＩＩ）で表
される化合物を無機塩基の存在下、反応させ式（ＩＩ
Ｉ）で表される化合物を製造後、 【化３】 （式中、Ｘは式（ＩＩ）に同じ。） 単離あるいは単離することなく、無機塩基の存在下、反
応させることを特徴とする式（Ｉ）で表される含硫エポ
キシ化合物の製造法。 - 【請求項４】 式（Ｉ）で表される化合物を重合触媒の
存在下、重合させることを特徴とする樹脂の製造法。 - 【請求項５】 請求項４に記載の製造法で得られる樹
脂。 - 【請求項６】 式（Ｉ）で表される化合物と１種以上の
硬化剤を重合触媒存在下、重合させる樹脂の製造法。 - 【請求項７】 請求項６に記載の製造法で得られる樹
脂。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28389196A JP3403592B2 (ja) | 1996-10-25 | 1996-10-25 | 含硫エポキシ化合物及び含硫エポキシ樹脂 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28389196A JP3403592B2 (ja) | 1996-10-25 | 1996-10-25 | 含硫エポキシ化合物及び含硫エポキシ樹脂 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10130250A true JPH10130250A (ja) | 1998-05-19 |
| JP3403592B2 JP3403592B2 (ja) | 2003-05-06 |
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ID=17671528
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28389196A Expired - Lifetime JP3403592B2 (ja) | 1996-10-25 | 1996-10-25 | 含硫エポキシ化合物及び含硫エポキシ樹脂 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3403592B2 (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000186086A (ja) * | 1998-10-15 | 2000-07-04 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | エピスルフィド化合物の製造方法 |
| JP2000186087A (ja) * | 1998-10-15 | 2000-07-04 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | エピスルフィド化合物の製造方法 |
| US6458908B1 (en) | 1999-06-01 | 2002-10-01 | Mitsui Chemicals, Inc. | Sulfur-containing unsaturated carboxylate compound and its cured products |
| JP2006070279A (ja) * | 2005-11-01 | 2006-03-16 | Gika Oyo Kagi Kofun Yugenkoshi | 高光学性能の樹脂組成物 |
| WO2008102545A1 (ja) | 2007-02-20 | 2008-08-28 | Mitsui Chemicals, Inc. | 金属チエタン化合物、これを含む重合性組成物、樹脂およびその使用 |
| US20110001419A1 (en) * | 2008-01-25 | 2011-01-06 | Mitsui Chemicals, Inc. | Polymerizable epoxy composition, and sealing material composition comprising the same |
| CN102432829A (zh) * | 2011-08-02 | 2012-05-02 | 华南理工大学 | 一种含硫光学环氧树脂及其制备方法 |
| US8680295B2 (en) | 2007-02-20 | 2014-03-25 | Mitsui Chemicals, Inc. | Process for producing bis(thietanylthio)dithiastannolane |
| WO2020003999A1 (ja) * | 2018-06-29 | 2020-01-02 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 多官能含硫エポキシ化合物の製造方法 |
-
1996
- 1996-10-25 JP JP28389196A patent/JP3403592B2/ja not_active Expired - Lifetime
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| US8293864B2 (en) | 2007-02-20 | 2012-10-23 | Mitsui Chemicals, Inc. | Metal thietane compound, polymerizable composition containing the compound, resin and use of the resin |
| US8426551B2 (en) | 2007-02-20 | 2013-04-23 | Mitsui Chemicals, Inc. | Metal thietane compound, polymerizable composition containing the compound, resin and use of the resin |
| WO2008102545A1 (ja) | 2007-02-20 | 2008-08-28 | Mitsui Chemicals, Inc. | 金属チエタン化合物、これを含む重合性組成物、樹脂およびその使用 |
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| US8889803B2 (en) * | 2008-01-25 | 2014-11-18 | Mitsui Chemicals, Inc. | Polymerizable epoxy composition, and sealing material composition comprising the same |
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| WO2020003999A1 (ja) * | 2018-06-29 | 2020-01-02 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 多官能含硫エポキシ化合物の製造方法 |
| JPWO2020003999A1 (ja) * | 2018-06-29 | 2021-07-08 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 多官能含硫エポキシ化合物の製造方法 |
| US11377433B2 (en) | 2018-06-29 | 2022-07-05 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Method for producing polyfunctional sulfur-containing epoxy compound |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3403592B2 (ja) | 2003-05-06 |
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