JPH10123524A - ラビング処理方法および配向膜形成方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 摩擦ストレスの変動を防止して、薄膜に均一
なラビング処理を施す。 【解決手段】 原基板部材１は、矩形の基板２の一方表
面に外部接続端子３を除き、少なくとも表示用領域４を
覆って配向膜材料から成る薄膜５が、基板２の辺２ａ〜
２ｄと薄膜５の辺５ａ〜５ｄとがそれぞれ平行となるよ
うに形成される。ラビングローラ６は、基板２の辺２ｃ
と移動方向７とが成す角度θは７５度以上９０度以下の
範囲に選ばれ、該方向７に回転しながら移動して、薄膜
５にラビング処理を施す。これによって、原基板部材１
とラビングローラ６との接触辺７ａの長さがほぼ一定に
保たれるので、ラビング処理中の原基板部材１とラビン
グローラ６との接触によって生じる摩擦ストレスの変動
を防止することができ、配向処理を均一に施すことがで
きて液晶表示装置としたときの液晶分子の配向状態を均
一とすることができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、たとえばワードプ
ロセッサやパーソナルコンピュータなどのＯＡ（オフィ
スオートメーション）機器の表示手段として用いられる
液晶表示装置を構成する配向膜に対してラビング処理を
施すラビング処理方法および配向膜形成方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、ワードプロセッサやパーソナルコ
ンピュータなどのＯＡ機器の普及に伴い、ＯＡ機器の表
示装置として、たとえば軽量、低消費電力を特徴とする
液晶表示装置が注目されている。液晶表示装置は、ＯＡ
機器などの表示装置として用いるために、表示品位を含
む製品品質の向上が要求されている。

【０００３】液晶表示装置において、表示品位は該装置
の液晶層内の液晶分子の配向状態に関係し、配向状態は
液晶層を挟持する基板部材表面の配向膜によって定めら
れる。配向膜は、たとえば高分子材料から成る薄膜に、
いわゆる配向処理を施して形成され、この配向処理の一
手法としてラビング処理法が挙げられる。

【０００４】図７は、ラビング処理を説明するための、
配向膜形成工程における原基板部材３２の平面図であ
る。工程終了後に４枚の基板部材に分割される原基板部
材３２が準備されて、原基板部材３２の表面に形成され
る薄膜に対して、ラビング処理が施される。

【０００５】原基板部材３２は、原基板３３、外部接続
端子３４、および薄膜３６を含んで構成される。矩形の
原基板３３の一方表面には、４組の外部接続端子３４が
形成される。さらに、外部接続端子３４とそれぞれ隣接
して、矩形の領域３５が４つ設定される。この領域３５
は、４辺がそれぞれ原基板３３の辺と平行であり、液晶
表示装置の表示用領域に対応する。各領域３５の内部に
は、表示用電極が形成され、表示電極および露出する原
基板３３の表面を覆う領域３５にポリイミド樹脂などの
配向膜材料から成る薄膜３６が形成される。

【０００６】ラビング処理工程では、このようにして構
成される原基板部材３２の薄膜３６に、後述するラビン
グ機を用いてラビング処理が施され、これによって配向
膜を得る。配向膜形成後の原基板部材３２を、各領域３
５を１つずつ含むように分割して液晶表示装置の基板部
材が得られる。

【０００７】原基板部材３２に形成された薄膜３６にラ
ビング処理を施すラビング機は、原基板部材３２を載置
するステージと、ラビングローラ３７とを含んで構成さ
れる。ラビングローラ３７は円筒状の曲面にラビング布
が貼られており、ステージ上の原基板部材３２の一方表
面と接触される。このとき、ラビングローラ３７の長手
方向と原基板部材３２の所定の辺とは比較的大きい交差
角で交差するようにして配置されてラビング処理が実施
される。

【０００８】ラビング処理は、具体的には、ラビングロ
ーラ３７の中心軸線を回転中心軸線として、円周方向に
沿う予め定められた回転方向に回転させつつ、予め定め
る圧力で曲面を原基板部材３２に接触させてこすり、か
つラビングローラ３７とステージとを、予め定める移動
方向３８に相対移動させて行う。このとき、ラビングロ
ーラ３７の曲面と原基板部材３２との接触部分である接
触辺３８ａは、原基板部材３２の直交する２辺を両端と
する直線、または対向する２辺を両端とする直線で表さ
れる。移動方向３８は、接触辺３８ａの伸びる方向と直
交し、原基板部材３２のある一辺と予め定める角度θ３
を成す方向である。このような移動方向３８に相対移動
させて、原基板部材３２の薄膜３６全域をラビング処理
する。このような手法で得られた液晶表示装置の基板部
材の配向膜のラビング軸は、配向膜のある一辺と予め定
める角度θ３を成す。

【０００９】上述のラビング処理では、角度θ３は液晶
表示装置の視角特性に重点をおいて決定される。具体的
には、ＯＡ機器の表示手段として用いられる液晶表示装
置では、装置の使用者は一般的に液晶表示装置の正面に
座るので、液晶表示装置の１２時−６時方向に対して高
い視角特性が要求される。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】このように、角度θ３
を４５度としてラビング処理を行うときにおいては、ラ
ビング処理の開始から終了までの間に、上述の接触辺３
８ａの長さが大きく変化する。これによって、単位時間
当たりに薄膜３５と接触するラビングローラ３７の接触
面積、すなわち、原基板部材３２の単位時間当たりにラ
ビング処理される基板面積が大きく変化する。原基板部
材３２とラビングローラ３７との接触によって生じる摩
擦ストレスは、該基板面積にほぼ比例するので、ラビン
グ処理の開始から終了までの間に摩擦ストレスが大きく
変動する。具体的には、摩擦ストレスは、ラビングロー
ラ３７が、ラビング処理の開始点から原基板部材３２の
中央部に至るまでの間に、ラビング処理される基板面積
の増加に伴って増加する。また、ラビングローラ３７
が、原基板部材３２の中央部からラビング処理の終了点
に至るまでの間に、ラビング処理される基板面積の減少
に伴って減少する。

【００１１】このようにラビング処理中に摩擦ストレス
が大きく変動すると、予め定める回転速度で回転するラ
ビングローラ３７の回転速度が変動してしまう。具体的
には、摩擦ストレスが増加するとラビングローラ３７の
回転速度は遅くなり、摩擦ストレスが減少するとラビン
グローラ３７の回転速度は速くなる。回転速度が変動す
ると、配向膜の配向処理状態も不均一となり、液晶表示
装置としたときの液晶分子の配向状態が不均一となって
表示品位が低下する。

【００１２】ラビング処理中の摩擦ストレスの変動を防
止するための制御手法として、ラビングローラ３７を駆
動するモータを含む駆動系の、たとえばトルクを電気的
に制御して、回転速度を一定に保つ手法がある。具体的
には、摩擦ストレスが増加してラビングローラ３７の回
転速度が遅くなったときに、ラビングローラ３７への電
力の供給量を増加させ、摩擦ストレスが減少してラビン
グローラ３７の回転速度が速くなったときに、ラビング
ローラ３７への電力の供給量を減少させることによっ
て、駆動系のモータのトルクを制御する。しかしこの手
法では、ラビングローラ３７に加わる摩擦ストレスの変
動タイミングと、駆動系のトルクの変動タイミングとの
間に遅延が生じ易く、遅延分だけ回転速度の調整が遅れ
るので、摩擦ストレスの変動を充分に補正することが困
難である。

【００１３】また、原基板部材３２の一方表面には、領
域３５だけに薄膜３６が形成されているので、領域３５
とそれ以外の残余領域との境界には、少なくとも薄膜３
６の厚さ分の段差が生じている。ラビング処理の実施中
に、前述の接触辺３８ａの一部は残余領域をも通過す
る。接触辺３８ａが、領域３５から残余領域へと通過す
るとき、またはその逆のときに、領域３５と残余領域と
の段差部分でラビングローラ３７と原基板部材３２間の
圧力が変化することによって、摩擦ストレスが急激に変
化する。この摩擦ストレスの変化によって、段差部分の
近傍の薄膜３６へのラビング処理が不均一になり、液晶
表示装置の液晶分子の配向状態も不均一になる。

【００１４】上述したような液晶表示装置の第１の従来
技術として、特開昭６３−１２４０２７号公開公報が挙
げられる。本公報では、液晶素子の表示面へ加えられる
圧力によって液晶層内の液晶分子の配向状態に欠陥が生
じることを防止するために、配向膜のラビング軸が、長
方形基板の長手方向にほぼ平行な方向に規定される。ま
た、第２の従来技術として、特開平５−２０３９５５号
公開公報が挙げられる。本公報では、液晶層内の液晶分
子の移動によってセル内の圧力が変動し、セル厚が変化
することを防止するために、配向膜のラビング方向が、
装置のストライプ状電極の長手方向に対してほぼ平行な
方向に規定される。

【００１５】これらの従来技術では、完成後の液晶表示
装置の基板部材の配向膜におけるラビング軸およびラビ
ング方向は定められるが、製造段階において基板部材と
ラビングローラとがどのような位置関係に配置されるの
かが不明である。ゆえに、たとえば製造段階で上述した
領域３５の４辺と原基板部材３２の４辺とが非平行に設
定されていたときには上述したように接触辺３８ａの長
さが大きく変動する。このように、これら２つの従来技
術は、ラビング処理を行うときの摩擦ストレスを考慮し
ておらず、本件とは目的が異なる。

【００１６】本発明の目的は、基板部材とラビングロー
ラとの間に生じる摩擦ストレスの変動を防止し、均一な
ラビング処理を施すことができるラビング処理方法、お
よび、該ラビング処理方法を用いて全面が均一な配向状
態を有する配向膜を得ることができる配向膜形成方法を
提供することである。

【００１７】

【課題を解決するための手段】本発明は、平板状の基板
の一方表面の予め定める領域に形成された被処理膜の表
面を含む基板の全表面に、円周方向に回転する円筒状の
接触部材の曲面を接触させ、かつ基板端辺に対して直交
する方向に基板および接触部材を相対的に移動させて被
処理膜の表面をラビングするラビング処理方法におい
て、被処理膜の表面を含む基板表面と接触部材の曲面と
の接触部分の長さを予め定められる一定の長さにほぼ保
ちながら、基板および接触部材を相対的に移動させるこ
とを特徴とするラビング処理方法である。本発明に従え
ば、上述の基板上の被処理膜表面を含む基板の全表面に
対して、接触部材の曲面を接触させてこすることによっ
て、被処理膜に対してラビング処理が施される。このと
き、被処理膜表面を含む基板の全表面と接触部材の曲面
とが接触する直線状の接触部分は、その長さを予め定め
られる一定の長さにほぼ保たれる。上述したようなラビ
ング処理中には、被処理膜を含む基板と接触部材とに、
接触部分の長さに比例して増大する摩擦ストレスが加わ
る。この摩擦ストレスの変動は、接触部材の回転速度の
変動、すなわちラビング処理の不均一化の原因となる。
本発明のラビング処理方法によって接触部分の長さをほ
ぼ一定に保つことで、摩擦ストレスの変動を防ぐことが
できる。これによって、接触部材の回転を一定に保つこ
とができるので、被処理膜の全面に均一なラビング処理
を施すことができる。

【００１８】また本発明は、前記基板は矩形であり、前
記移動方向と基板のいずれか一辺との成す角は７５度以
上９０度以下の範囲に選ばれることを特徴とする。本発
明に従えば、基板は矩形であり、上述した角度でラビン
グ処理が施される。これによって、接触部材の回転中心
軸線が、基板のいずれか一辺とほぼ平行な状態を保って
移動されるので、基板と接触部材との接触部分の長さ
を、被処理膜表面のほぼ全域にわたって、一定に保つこ
とができる。特に、上記角度を９０度に選んだときに
は、接触部分の長さを常に一定に保つことができる。こ
れによって、前記摩擦ストレスの変動を防ぐことがで
き、接触部材の回転を一定に保つことができるので、被
処理膜の全面に均一なラビング処理を施すことができ
る。

【００１９】また本発明は、平板状で矩形の基板であっ
て、該基板の各辺と平行な各辺で囲まれた矩形の配向膜
形成領域が設定された基板を準備し、前記基板上の配向
膜形成領域に配向膜材料から成る薄膜を形成し、形成さ
れた薄膜の表面を上述したようなラビング処理方法でラ
ビングして、配向膜を形成することを特徴とする配向膜
形成方法である。本発明に従えば、まず基板の一方表面
には、配向膜形成領域に配向膜材料から成る薄膜が形成
され、該薄膜に前記ラビング処理方法でラビング処理し
て配向膜が形成される。これによって、基板の辺と移動
方向との成す角度と、形成された薄膜の辺と移動方向と
の成す角度とが一致するので、基板に対する移動方向と
薄膜に対する移動方向とは一致し、前記接触部分の長さ
の変動は薄膜だけに対する接触部分の長さの変動と一致
する。したがって、摩擦ストレスの変動を防止すること
ができ、均一にラビング処理された配向膜を得ることが
できる。このような配向膜を有する液晶表示装置では、
液晶分子の均一な配向状態が得られ、表示の均一性が向
上する。

【００２０】また本発明は、平板状で矩形の基板であっ
て、該基板の各辺と平行な各辺で囲まれた矩形の配向膜
形成領域が設定された基板を準備し、前記基板上であっ
て、前記配向膜形成領域を含み、該基板のいずれか一方
辺から該一方辺と対向する辺に向かって延びる帯状領域
に配向膜材料から成る薄膜を形成し、形成された薄膜の
表面を上述したようなラビング処理方法でラビングし
て、配向膜を形成することを特徴とする配向膜形成方法
である。本発明に従えば、まず基板の一方表面には、配
向膜形成領域を含み、該基板のいずれか一方辺から該一
方辺と対向する辺に向かって延びる帯状領域に、配向膜
材料から成る薄膜が形成され、該薄膜に前記ラビング処
理方法によってラビング処理を施して、配向膜が作成さ
れる。このように、配向膜形成領域毎に形成されていた
薄膜をつなげて帯状に形成することによって、基板表面
のうちの薄膜が形成された部分と形成されていない部分
との段差の数を低減することができる。これによって、
段差に起因する摩擦ストレスの変動を低減することがで
き、より均一にラビング処理された配向膜を得ることが
できる。特に帯状の薄膜の長手方向と接触部材の移動方
向とを略平行にしたときに、ラビング処理中に、接触部
分が段差部分に対して直交する方向に通過する回数が減
る。これによって、摩擦ストレスの変動をさらに防止す
ることができるので、より均一にラビング処理された配
向膜を得ることができる。したがって、本形成方法で得
られる配向膜を含む液晶表示装置では、液晶分子の配向
状態はさらに優れたものとなり、表示品位はさらに向上
する。

【００２１】また本発明は、平板状で矩形の基板であっ
て、該基板の各辺と平行な各辺で囲まれた矩形の配向膜
形成領域が設定された基板を準備し、前記基板上であっ
て、前記配向膜形成領域を含むほぼ全面を覆って配向膜
材料から成る薄膜を形成し、形成された薄膜の表面を、
上述したようなラビング処理方法でラビングして、配向
膜を形成することを特徴とする配向膜形成方法である。
本発明に従えば、まず、基板の一方表面には、配向膜形
成領域を含むほぼ全面を覆って、配向膜材料から成る薄
膜が形成され、さらに上述のラビング処理方法のラビン
グ処理が施されて、配向膜が形成される。前記薄膜は、
たとえば配向膜形成後の基板部材が液晶表示装置の基板
部材として使用されるときに、基板部材に含まれる表示
用の電極へ外部から電気信号を供給するための外部接続
端子が形成される領域を除いた領域であっても構わな
い。本発明ではラビング処理に対する基板と薄膜との段
差による影響をさらに防止することができるので、摩擦
ストレスの変動をさらに防ぐことができる。これによっ
て、さらに均一にラビング処理された配向膜を得ること
ができる。したがって、本形成方法で得られる配向膜を
含む液晶表示装置では、液晶分子の配向状態はさらに優
れたものとなり、表示品位はさらに向上する。

【００２２】

【発明の実施の形態】図１は、本発明の第１実施形態で
ある配向膜の形成方法を説明するための原基板部材１の
平面図である。以後、本実施形態の配向膜形成方法は、
液晶表示装置において、液晶層を挟持する１対の基板部
材にそれぞれ形成される配向膜の形成工程を例として述
べる。この液晶表示装置の製造工程では、配向膜完成後
に原基板部材を４分割して、液晶表示装置の基板部材を
得ている。

【００２３】配向膜形成工程は、薄膜形成工程とラビン
グ処理工程とに分けられる。薄膜形成工程では、配向膜
以外の基板部材の構成部品が作り付けられた工程途中の
原基板部材に、これらの構成部品および露出する基板表
面を覆って、配向膜材料から成る薄膜が形成される。図
１の原基板部材１は、該薄膜が形成された後の状態を表
す。

【００２４】原基板部材１は、原基板２、外部接続端子
３、および薄膜５を含む。平板状で矩形の原基板２は、
その一方表面に、各辺と平行に行列状に配置される４つ
の矩形の領域４を有する。領域４の各辺は、それぞれ原
基板２の各辺と平行に配置される。領域４は、液晶表示
装置の表示用領域に対応する。原基板２の一方表面に
は、液晶表示装置の構成部品として、領域４内に、たと
えば表示電極などの構成部品が形成される。さらに、領
域４に隣接して、領域４内の電極と電気的に接続される
外部接続端子３が形成される。

【００２５】薄膜形成工程では、原基板２の一方表面
に、外部接続端子３の形成された領域を除き、少なくと
も領域４内の構成部品および露出する原基板２表面を覆
うようにして、薄膜５が形成される。本実施形態では、
薄膜５は、領域４内部だけを覆うように形成される。薄
膜は、たとえばポリイミド樹脂などの配向膜材料から成
る。本実施形態では、薄膜５の各辺５ａ〜５ｄと、原基
板２の各辺２ａ〜２ｄとは、それぞれ平行になる。この
薄膜５を含む原基板部材１に後述のラビング機を用いて
ラビング処理を施すことによって、薄膜５が配向膜とな
る。

【００２６】原基板部材１にラビング処理を施すラビン
グ機は、円筒状のラビングローラ６とステージとを含ん
で構成される。原基板部材１はステージ上に載置されて
固定される。ラビングローラ６は、円筒状の曲面にラビ
ング布が貼られており、ステージ上に載置される原基板
部材１の一方表面と曲面とが接触される。このときラビ
ングローラ６の長手方向と原基板部材１の所定の辺と
は、比較的小さい交差角で交差するようにして配置され
る。あるいは平行となるようにして配置される。

【００２７】さらにラビングローラ６には駆動装置が付
加され、ラビングローラ６本体の円筒の中心軸線を回転
中心軸線として、円周方向の予め定められた回転方向に
予め定める回転速度を保って回転させる。ラビングロー
ラ６の回転速度は、毎分５００ｒｐｍ以上毎分２，００
０ｒｐｍ以下の範囲に選ばれる。かつ駆動装置は、ラビ
ングローラ６全体をステージ上の原基板部材１に対して
予め定める圧力で押付けつつ、原基板部材１の一方表面
に沿って後述する移動方向７に移動させる。

【００２８】ラビング処理工程では、具体的には、ラビ
ングローラ６とステージとの間に原基板部材１を挟込
み、ラビングローラ６をその回転中心軸線回りに回転さ
せつつ、予め定める圧力でラビングローラ６の曲面のラ
ビング布を原基板部材１表面に接触させて、薄膜５表面
をこする。さらにラビングローラ６とステージとを、接
触辺７ａが原基板２のある辺２ｃから該辺２ｃと対向す
る辺２ｄまで平行移動するように、予め定める移動方向
７に相対移動させる。接触辺７ａは、ラビングローラ６
の曲面と原基板部材３２との接触部分であり、原基板２
の対向する２辺または直交する２辺を端部とする直線で
表される。本実施形態では、ラビング機の構造を、ステ
ージを固定して、ラビングローラ６を移動させる構造と
仮定して説明するが、ラビング機の構造はこれに限ら
ず、接触辺７ａが移動する構成であれば、たとえばラビ
ングローラ６を固定してステージを移動させるような、
他の構造であってもよい。

【００２９】原基板部材１に対するラビング処理を開始
する辺２ｃと、ラビングローラ６の移動方向７とが成す
角度θ０は、７５度以上９０度以下の範囲に選ばれる。
この角度範囲の決定理由は後述する。角度θ０が上述の
範囲のうちの９０度以外の角度に選ばれるとき、接触辺
７ａの両端は、該接触辺７ａが辺２ｃ，２ｄ近傍にある
ときを除いて、辺２ｃ，２ｄと直交する１対の平行な辺
２ａ，２ｂによって規定される。したがって、ラビング
工程において移動中の接触辺７ａの長さは、ほぼ等しく
保たれる。さらに、角度θ０を９０度としたとき、ラビ
ング処理工程に開始から終了まで、常に接触辺７ａ辺２
ａ，２ｂを両端とするので、接触辺７ａの長さは常に等
しく保たれる。

【００３０】接触辺７ａの長さが等しく保たれると、単
位時間当たりに原基板部材１がラビングローラ６の曲面
と接触する接触面積、すなわち単位時間当たりにラビン
グローラ６によってラビング処理される基板面積が、時
間経過に拘わらずほぼ等しくなる。具体的には、たとえ
ば角度θ０が７５度に選ばれるとき、該基板面積は、ラ
ビング処理開始直後には、接触辺７ａが直交する辺２
ｂ，２ｃを端部とするために、時間経過に伴い急激に増
加し、処理終了直前には、接触辺７ａが直交する辺２
ｄ，２ａを端部とするために、時間経過に伴い急激に減
少する。さらに、ラビング処理の上述のときを除く残余
のときには、接触辺７ａが辺２ａ，２ｂを両端とするの
で、時間経過に拘わらず等しく保たれる。

【００３１】上述のラビング処理工程中には、原基板部
材１とラビングローラ６とには、該基板面積に比例して
増加する摩擦ストレスが加わる。上述したように、該基
板面積は、少なくともラビング処理開始直後および終了
直前を除く残余のときには等しく保たれるので、摩擦ス
トレスも等しく保たれる。このように、接触辺７ａの移
動方向、すなわちラビングローラ６の移動方向７を上述
の関係を満たすように定めることによって、ラビング処
理中の摩擦ストレスが、単一の原基板部材に対するラビ
ング処理中に変動することを防止することができる。

【００３２】この摩擦ストレスは、ラビングローラ６の
回転速度を変動させる原因となるが、本実施形態のラビ
ング処理方法では、上述のように摩擦ストレスをラビン
グ処理工程のほぼ全域で等しく保つので、ラビングロー
ラ６の回転速度を一定に保つことができる。その結果、
原基板２上に形成された薄膜５に均一なラビング処理が
施されるので、その表面加工について均一性を有する配
向膜を得ることができる。またラビング処理によって形
成された配向膜の有する遅相軸は、移動方向７と平行な
方向である。

【００３３】図２は、上述の配向膜の形成方法を用いた
配向膜形成工程を含む製造工程によって作成された液晶
表示装置８を示す分解断面図である。液晶表示装置８
は、たとえばＳＴＮ型液晶表示装置である。液晶表示装
置８は、液晶表示素子９、一対の位相差板１０，１１、
および一対の偏光板１２，１３を含んで構成される。一
対の偏光板１２，１３の間に液晶表示素子９が配置さ
れ、液晶表示素子９と偏光板１２，１３との間に位相差
板１０，１１がそれぞれ配置される。

【００３４】液晶表示素子９は、一方および他方基板部
材１４，１９、ならびに該基板部材１４，１９に挟持さ
れる液晶層２４を含む。一方基板部材１４は、透光性を
有する平板状の基板１５、複数の帯状電極１６、配向膜
１７、および外部接続端子を含み、基板１５の一方表面
に形成された複数の電極１６の表面、および露出する基
板１５の一方表面を配向膜１７が覆う構造を有する。さ
らに、他方基板部材１９は、透光性を有する平板状の基
板２０、複数の帯状電極２１、配向膜２２、および外部
接続端子を含み、一方基板部材１４と同様の構造を有す
る。液晶層２４のツイスト角は、たとえば２６０度に形
成される。ツイスト角とは、基板部材１４，１９の法線
方向から見て、液晶層２４内の液晶分子のうち、基板部
材１４，１９にそれぞれ最近接する２つの液晶分子の長
軸がなす角である。

【００３５】液晶表示素子９の製造工程では、まず、後
述の基板部材製造工程によって一方および他方基板部材
を形成する。この製造工程のうち、配向膜形成工程は、
図１の配向膜形成工程と等しい。続いて、形成された一
方および他方基板部材１４，１９を、配向膜１７，２２
が形成される基板１５，２０の一方表面を対向させ、か
つ帯状電極１６，２１の長手方向が相互に直交するよう
に、予め定める間隔を明けて配置し、一方および他方基
板部材１４，１９間の間隙に液晶を封入して、液晶層２
４を形成する。このような工程をへて、液晶表示素子９
が完成する。

【００３６】以下に一方および他方基板部材１４，１９
の製造工程について、詳細に説明する。一方および他方
基板部材１４，１９は、図１で説明した配向膜形成工程
を含む基板部材製造工程を経て製造される。すなわち、
一方および他方基板部材１４，１９は、それぞれ基板１
５，２０の４枚分の大きさの原基板１５Ａ，２０Ａ上
に、４枚分の帯状電極１６，２０、外部接続端子および
配向膜１７，２１を作り付けた後、該原基板１５Ａ，２
０Ａを４枚に分割して、一方および他方基板部材１４，
１９を得る。

【００３７】図３（ａ）は、一方基板部材１４の製造工
程内のラビング処理工程のために準備される原基板部材
１４Ａの平面図である。原基板部材１４Ａは、配向膜形
成工程の中の薄膜形成終了後に得られる部材であり、そ
の構造は図１の原基板部材１と等しい。等しい構造の構
成部品は、名称を一致させて詳細な説明は省略する。

【００３８】原基板部材１４Ａは、原基板１５Ａ、外部
接続端子１８、および薄膜１７Ａを含んで構成される。
平板状で矩形の原基板１５Ａは、その一方表面に、液晶
表示装置８の表示用領域にそれぞれ対応する４つの領域
２５が、行列状に配置されて設定されている。原基板１
５Ａの有する辺１５ａ〜１５ｄは、辺１５ａおよび辺１
５ｂ、ならびに辺１５ｃおよび辺１５ｄがそれぞれ平行
であり、辺１５ａと辺１５ｃとが直交する。

【００３９】図３（ａ）には図示しない複数の帯状電極
１６は、原基板１５Ａの領域２５の内部に、領域２５の
長手方向と平行に形成されている。外部接続端子１８
は、該帯状電極１６の長手方向の一方端部に接続される
ようにして、領域２５の幅方向の一方端部に形成されて
いる。さらに、薄膜１７Ａが、上述の４つの領域２５を
それぞれ覆って原基板１５Ａの一方表面に形成されてい
る。原基板１５Ａの各辺１５ａ〜１５ｄと、薄膜１７Ａ
の各辺１７ａ〜１７ｄとがそれぞれ平行である。

【００４０】ラビング処理工程では、薄膜１７Ａが形成
された原基板部材１４Ａに対して、前述のラビング機を
用いて、図１で説明したラビング処理方法を用いたラビ
ング処理が施され、薄膜１７Ａが配向膜１７となる。こ
のとき、原基板部材１４Ａのラビング処理を開始する辺
１５ｃと、前記ラビングローラ６の移動方向７とが成す
角度θ１は、辺１５ｃから反時計回り方向に８５度に選
ぶ。これによって、辺１５ｃに対して、略垂直な方向
に、ラビング処理が施される。

【００４１】図３（ｂ）は、他方基板部材１９の製造工
程内のラビング処理工程のために準備される原基板部材
１９Ａの平面図である。原基板部材１９Ａは、配向膜形
成工程の中の薄膜形成終了後に得られる部材であり、外
部接続端子の形成位置および電極の配置以外の構造は原
基板部材１と等しい。等しい構造の構成部品は、名称を
一致させて詳細な説明は省略する。

【００４２】原基板部材１９Ａは、原基板２０Ａ、外部
接続端子２３、および薄膜２２Ａをそれぞれ含んで構成
される。平板状で矩形の原基板１９Ａは、その一方表面
に、液晶表示装置８の表示用領域にそれぞれ対応する４
つの領域２６が、行列状に配置されて設定されている。
原基板２０Ａの有する辺２０ａ〜２０ｄは、辺２０ａお
よび辺２０ｂ、ならびに辺２０ｃおよび辺２０ｄがそれ
ぞれ平行であり、辺１５ａと辺１５ｃとは直交する。

【００４３】図３（ｂ）には図示しない複数の帯状電極
２１は、原基板２０Ａの各領域２６内に、領域２６の長
手方向と垂直に形成されている。外部接続端子２３は、
該帯状電極２１の長手方向両端部と接続されるようにし
て、領域２６の長手方向両端部に形成されている。さら
に、薄膜２２Ａは、上述の４つの領域２６をそれぞれ覆
って、原基板２０Ａの一方表面に形成されている。原基
板２０Ａの各辺２０ａ〜２０ｄと薄膜２２Ａの各辺２２
ａ〜２２ｄとは平行である。

【００４４】ラビング処理工程では、薄膜２２Ａが形成
された原基板部材１９Ａに対して、前述のラビング機を
用いて、図１で説明したラビング処理方法を用いたラビ
ング処理が施され、薄膜２２Ａが配向膜２２となる。こ
のとき、原基板２０Ａのラビング処理を開始する辺２０
ｂと前記ラビングローラ６の移動方向７とが成す角度θ
２は、辺２０ｂから反時計回り方向に８５度に選ぶ。こ
れによって、辺２２ｄに対して、略垂直な方向に、ラビ
ング処理が施される。

【００４５】上述の手法で得られた配向膜を含む一対の
原基板部材１４Ａ，１９Ａを、前述したように、各領域
２５，２６を１つずつ含むように４分割すると、前述の
一方および他方基板部材１４，１９が得られる。得られ
た一方基板部材１４と他方基板部材１９とは、液晶を封
入するために、たとえば、他方基板部材１９を図３
（ｂ）と同様に配置し、一方基板部材１４を辺１５ｂを
基準として図３（ａ）の配置状態と反転させて、各基板
部材１４，１９を基板１５，２０の一方表面を対向させ
るように配置する。これによって、液晶封入後の各基板
部材１４，１９は、辺１５ａ，２０ｂ；１５ｂ，２０
ａ；１５ｃ，２０ｃ；１５ｄ，２０ｄがそれぞれ対向す
る。

【００４６】このような配置状態における配向膜１７，
２２のラビング軸同士の成す角度は、ラビング軸がラビ
ングローラ６の移動方向と平行なので、基板部材１４，
１９の法線方向から見て、２６０度となる。したがっ
て、この基板部材１４，１９に挟持される液晶層の液晶
分子のツイスト角は２６０度となる。

【００４７】以下に、本発明の他の実施形態である配向
膜形成方法を説明する。本実施形態の配向膜の形成方法
は、前述の実施形態と比べて、図３に示される原基板１
５Ａ，２０Ａに形成される薄膜の形成領域が異なること
を特徴とする。以下の説明は、前述した液晶表示装置の
一方および他方基板部材１４，１９の製造工程内で実施
される配向膜形成工程を例として述べる。

【００４８】図４（ａ）は、一方基板部材１４の製造工
程内の薄膜形成工程で得られる原基板部材１４Ｂの平面
図である。原基板部材１４Ｂは、前述の実施形態の原基
板部材１４Ａと薄膜以外の構成部品の構造および配置は
等しく、同様の構成部材については、同じ符号を付し、
詳細な説明は省略する。

【００４９】薄膜形成工程では、複数の領域２５を覆う
ようにして、帯状の薄膜２７が形成される。形成される
薄膜２７は、前述した配向膜材料から成り、具体的に原
基板１５Ａの一方表面に、外部接続端子１８を除き、平
行に配置される複数の領域２５、該領域２５間に露出す
る原基板１５Ａの一方表面、および該領域２５と原基板
１５Ａの辺１５ｃ，１５ｄとの間に露出する一方表面を
覆って形成される。原基板１５Ａの各辺１５ａ〜１５ｄ
と薄膜２７の各辺２７ａ〜２７ｄとが平行となる。

【００５０】したがって薄膜２７は、原基板１５Ａの辺
１５ｃ側の端から該辺１５ｃ対向する辺１５ｄ側の端ま
での領域であって、外部接続端子１８を除く少なくとも
領域２５を覆う領域に、原基板１５Ａの辺１５ｃ，１５
ｄとは直交する辺１５ａ，１５ｂと平行な方向を長手方
向として帯状に形成される。

【００５１】図４（ｂ）は、他方基板部材１９の製造工
程内の薄膜形成工程で得られる原基板部材１９Ｂの平面
図である。原基板部材１９Ｂは、前述の実施形態の原基
板部材１９Ａと薄膜以外の構成部品の構造および配置は
等しく、同様の構成部材については、同じ符号を付し、
詳細な説明は省略する。

【００５２】薄膜形成工程では、複数の領域２６を覆う
ようにして、帯状の薄膜２８が形成される。形成される
薄膜２８は、前述した配向膜材料から成り、具体的には
原基板２０Ａの一方表面に、外部接続端子２３を除き、
平行に配置される複数の領域２６、該領域２６間に露出
する原基板２０Ａの一方表面、および該領域２６と原基
板２０Ａの辺２０ａ，２０ｂとの間に露出する一方表面
を覆って形成される。

【００５３】他方基板部材１９Ｂの有する外部接続端子
２３の長手方向は原基板２０Ａの長手方向と平行な方向
である。ゆえに、薄膜２８は、原基板２０Ａの長手方向
と平行な方向を長手方向とする帯状の領域に形成され
る。具体的には、原基板２０Ａの各辺２０ｃ，２０ｄと
薄膜２７の各辺２８ｃ，２８ｄとは平行であり、辺２０
ａ，２０ｂと薄膜２７の各辺２８ａ，２８ｂとは一致す
る。

【００５４】上述のように形成される薄膜を含む原基板
部材１４Ｂ，１９Ｂに対するラビング処理方法は、前述
の第１実施形態と等しく、移動方向７と原基板１５Ａ，
２０Ａの辺との角度関係も等しい。これによって、本実
施形態のラビング処理工程では、薄膜２７，２８の長手
方向と移動方向７とが略平行になる状態で、原基板部材
１４Ｂ，１９Ｂに対してラビング処理が施される。

【００５５】薄膜２７，２８が帯状に形成された原基板
部材１４Ｂ，１９Ｂは、領域２５，２６の数が等しいに
も拘わらず、第１実施形態の原基板部材１４Ａ，１９Ａ
よりも薄膜の数が少なく、また薄膜の形成されていない
領域が少ない。これによって、原基板部材１４Ｂ，１９
Ｂは原基板部材１４Ａ，１９Ａと比較して、原基板と薄
膜とによって生じる段差部分の数が減少する。これによ
って、前述の接触辺７ａの長さに起因する摩擦ストレス
の変動を防止することができるだけでなく、段差通過時
に生じる摩擦ストレスの変動を防止することができる。
したがって、さらに均一にラビング処理された配向膜を
得ることができる。

【００５６】また移動方向７を薄膜２７，２８の長手方
向と略平行な方向としたとき、原基板１５Ａと薄膜２７
および原基板２０Ａと薄膜２８によって生じる段差に対
して、ラビング処理中のラビングローラが段差部に対し
て直交する方向に通過する回数を減少することができ
る。したがって第１実施形態よりも摩擦ストレスの変動
を防止することができるので、原基板部材に対してさら
に均一なラビング処理を施すことができる。

【００５７】なお、上述の配向膜となるべき薄膜を形成
する領域は、図３および図４を用いて示した領域以外
に、外部接続端子を除く原基板１５Ａ，２０Ａの全面に
形成しても良い。この場合のラビング処理は、薄膜の形
成されていない領域がさらに減少するので、基板と薄膜
とによる段差通過時に生じる摩擦ストレスの変動をさら
に防止することができる。これによって、さらに均一に
ラビング処理された配向膜を得ることができる。

【００５８】次に、本発明の第１および第２実施形態で
示す配向膜形成方法によって得られた配向膜の均一性に
ついての評価結果を示す。

【００５９】まず、前述の実施形態で得られる配向膜と
比較するための比較例として、従来技術の配向膜形成方
法で形成された配向膜を含む２種類の液晶表示装置を準
備した。比較例の配向膜の配向膜形成方法は、上述の第
１および第２実施形態の配向膜形成方法と比べて、原基
板に対する移動方向７の角度だけが異なり、他の条件お
よび手法は等しい。

【００６０】具体的には、第１比較例は、第１実施形態
の製造方法とほぼ等しく、移動方向７は、図３（ａ）に
示す原基板１５Ａのラビング処理を開始する辺１５ｃと
移動方向７との成す角度θ１を、辺１５ｃから反時計回
り方向に４０度とし、図３（ｂ）に示す原基板２０Ａの
ラビング処理を開始する辺２０ｂと、移動方向７との成
す角度θ２を、辺２０ｂから反時計回り方向に１３０度
とするように設定した。

【００６１】また、第２比較例は、第２実施形態の製造
方法とほぼ等しく、移動方向７は、図４（ａ）に示す原
基板１５Ａのラビング処理を開始する辺１５ｃと移動方
向７との成す角度θ１を、辺１５ｃから反時計回り方向
に４０度とし、図４（ｂ）示す原基板２０Ａのラビング
処理を開始する辺２０ｂと移動方向７との成す角度θ２
を、辺２０ｂから反時計回りに１３０度とするように設
定した。

【００６２】配向膜の均一性の評価は、配向膜の遅相軸
分布、および該配向膜を有する基板部材を含む液晶表示
装置の輝度分布によって行う。

【００６３】遅相軸分布の測定は、測定対象の配向膜上
から任意に選ばれた複数の点に対して、ＰＥＭ(Photo E
lastic Modulator）を採用した高感度自動複屈折測定装
置によって遅相軸の角度を測定して行った。遅相軸分布
の評価手法としては、該遅相軸の角度のばらつきを指標
とし、測定された角度の標準偏差を求めて比較する。

【００６４】表１は、実施形態と比較例との配向膜の形
成方法によって得られた基板部材の有する配向膜の遅相
軸の標準偏差を示している。

【００６５】

【表１】

【００６６】遅相軸の標準偏差は、実施形態では１．７
５度となり、比較例では５．８７度という測定結果が得
られた。したがって本発明の実施形態の方が、従来技術
である比較例よりも遅相軸の標準偏差が小さいので、遅
相軸のばらつきが少なく、均一にラビング処理された配
向膜が得られることがわかる。

【００６７】また、輝度分布の測定は、測定対象の配向
膜を含む基板部材を用いて形成された液晶表示装置を準
備し、該装置を、装置外部からの光を通過させる黒表示
点灯状態に保ち、この状態で液晶表示装置の表示用領域
内から任意に選ばれた複数点に対して輝度を測定した。
輝度分布の評価手法としては、各測定点の輝度のばらつ
きを指標とし、測定された輝度の標準偏差を求めて比較
する。

【００６８】表２は、実施形態と比較例との配向膜の形
成方法によって作成した配向膜を含む基板部材をそれぞ
れ用いた液晶表示素子９の輝度の標準偏差の測定結果を
示している。

【００６９】

【表２】

【００７０】輝度の標準偏差は、実施形態では３．８２
ｃｄ／ｍ² となり、比較例では６．０６ｃｄ／ｍ² であ
った。このように、本発明の実施形態で得られた配向膜
を含む液晶表示装置は、比較例で得られた配向膜を含む
液晶表示装置よりも輝度の標準偏差が小さいので、輝度
のばらつきが少ないことがわかる。したがって、本発明
の実施形態の配向膜形成方法を含む液晶表示装置の製造
方法は、従来技術である比較例の配向膜形成方法を含む
液晶表示装置の製造方法よりも表示品位の向上した液晶
表示素子が得られることがわかる。

【００７１】本発明の実施形態において、ラビング処理
を開始する辺と移動方向７との成す角度θ１，θ２とを
７５度以上９０度以下の範囲とした理由について述べ
る。最も好ましい角度θ１，θ２の値は９０度である。
この場合、ラビング処理中の基板とラビングローラとの
接触辺の長さが常に一定となり、最も摩擦ストレスの変
動を防止することができる。したがって角度θ１，θ２
は９０度に近い値であるほど好ましいが、上述の原基板
１５Ａ，２０Ａに設定される領域２５，２６を、原基板
１５Ａ，２０Ａと相似で各辺が平行に設定する場合であ
って、ＳＴＮ型の液晶表示装置の基板部材を形成すると
き、液晶層の液晶分子のツイスト角を２６０度とするた
めに、角度θ１，θ２を９０度以外の角度とする必要が
ある。

【００７２】摩擦ストレスの変動をほぼ一定にすること
ができるラビング処理の角度θ１，θ２の範囲を調べる
ために、実際に複数の液晶表示装置を作成して、その配
向膜を評価した。具体的には、第１実施形態で説明した
配向膜形成方法を含む液晶表示装置の製造工程を用い、
角度θ１，θ２を８５度とした場合と、角度θ１，θ２
を７５度とした場合と、角度θ１を９０度とし角度θ２
を８０度とした場合との３種類の形成方法でそれぞれ形
成された液晶表示装置と、従来技術の配向膜形成方法を
含む液晶表示装置の製造工程を用い、角度θ１を４０度
とし、角度θ２を１３０度として形成された比較対象の
液晶表示装置を準備し、これらの液晶表示装置につい
て、配向膜の遅相軸のばらつきや液晶表示素子の輝度分
布などについて測定し、評価を行った。

【００７３】この結果、角度θ１を４０度とし、角度θ
２を１３０度とした場合の比較対象の液晶表示装置の配
向膜よりも、他の３つの本実施形態の液晶表示装置の配
向膜のほうが、各配向膜を含む液晶表示装置の表示品位
が良く、配向膜が均一にラビング処理されていることが
判った。したがって、角度θ１およびθ２が７５度の場
合でも充分な効果を得ることができると判断した。

【００７４】次に本発明の配向膜の形成方法を用いて作
成した液晶表示装置の視角特性について述べる。視角特
性を調べるために用いた液晶表示装置は、図２に示す液
晶表示装置８と配向膜のラビング軸、すなわちラビング
処理工程時の移動方向７だけが異なり、他の構造は第１
実施形態で説明した液晶表示装置と等しい。また、液晶
表示装置８の有する位相差板、偏向板と液晶表示素子と
の配設関係は、従来技術のＳＴＮ型液晶表示装置におけ
る配設関係と等しい。以下に、異なる点だけを示す。

【００７５】この液晶表示装置の一方基板部材１４の製
造工程では、図３（ａ）に示す辺１５ｂをラビング処理
を開始する辺とし、移動方向７は、辺１５ｂから反時計
回り方向に角度θ１を８５度とする方向に選んだ。他方
基板部材１９の製造工程では、図３（ｂ）に示す辺２０
ｃをラビング処理を開始する辺とし、移動方向７は、辺
２０ｃから反時計回り方向に角度θ２を８５度とする方
向に選んだ。また、基板部材１４，１９を貼り合わせる
とき、一方基板部材１４は、辺１５ｄを基準として反転
させた。

【００７６】したがって、他方基板部材１９の短手方向
を１２時−６時方向とし、長手方向を９時−３時方向と
規定すると、一方基板部材１４の配向膜１７の移動方向
７と平行な遅相軸は、６時方向から反時計回り方向に８
５度の方向であり、他方基板部材１９の配向膜２２の遅
相軸は、９時方向から時計回り方向に８５度の方向にな
る。

【００７７】図５は、本発明の実施形態である配向膜の
形成方法を用いて作成した液晶表示装置のコントラスト
Ｃｏ＝１０が得られる点を結んだイソコントラストグラ
フである。表示面の短手方向を１２時−６時方向とし、
長手方向を９時−３時方向とする。イソコントラストグ
ラフの中心点を表示面に対して垂直方向である０度と
し、０度から５０度までの視角範囲の傾きを表してい
る。視角の測定は、１時方向から１２時方向まで、１時
間ずつ移動させた方向についてコントラストＣｏ＝１０
が得られるときの視角範囲の傾きを、それぞれ測定する
ことによって行う。

【００７８】液晶表示装置８の視角特性は、測定点を白
丸印３９で表し、各白丸印３９を実線４１で結ぶことに
よって表される。従来技術の配向膜形成方法を含む製造
工程によって得られる液晶表示装置は、１２時−６時方
向の視角特性が良いことが知られている。それに対し
て、本発明の配向膜形成方法によって得られた液晶表示
装置８の視角特性の良い方向は、１２時−６時方向の視
角特性から多少ずれた方向であることが判る。しかしな
がら、このような視角特性のずれは、使用者の視角方向
が一般的に表示面に対して正面であるので、実用上の問
題にはならない。

【００７９】視角特性のずれを改善し、さらに視認性を
向上するために液晶表示装置にさらに光学補償板３０，
３１を取入れた場合について述べる。図６は、本発明の
配向膜の形成方法を用いて作成した液晶表示装置２９を
示す分解断面図である。液晶表示装置２９は、図２に示
す液晶表示装置８と比較して、光学補償板３０，３１を
挿入した点だけが異なり、他の構成部品は等しい。ま
た、液晶表示装置２９の有する一方基板部材１４と他方
基板部材１９との形成方法は、視角特性を調べるために
用いた前述の液晶表示装置の配向膜の形成方法製造方法
と等しい。液晶表示装置８と等しい構成部材には、同じ
符号を付し、説明は省略する。

【００８０】光学補償板３０，３１は、液晶高分子を垂
直配向させて積層したフィルムによって実現され、位相
差板１０，１１と偏光板１２，１３との間にそれぞれ配
置される。また、光学補償板３０，３１は、液晶表示素
子９と偏光板１２，１３との間に少なくとも１枚配置さ
れていればよい。光学補償板３０，３１を配置すること
によって、液晶表示装置２９の視角範囲が拡大される。

【００８１】この液晶表示装置２９の視角特性を評価す
るために、上述のコントラストＣｏ＝１０が得られる視
角範囲を計測し、前述の図５に表す。図５では、液晶表
示装置２９の視角特性は、測定点を黒三角印４０で表
し、黒三角印４０を破線４２で結ぶことによって表され
る。このグラフから、液晶表示装置２９の視角範囲は、
前述の白丸で表す視角特性を有する液晶表示装置より
も、１２−６時方向に関して拡大されていることが分か
る。したがって、光学補償板３０，３１を挿入すること
によって、視角方向のずれが補正され、実線４１で示す
視角特性よりも視認性が向上されることが判る。

【００８２】

【発明の効果】以上のように本発明によれば、基板の全
表面と接触部材の曲面とが接触する接触部分の長さを一
定の長さにほぼ保ってラビング処理を行うようにしたの
で、摩擦ストレスの変動を防いで接触部材の回転を一定
に保つことができ、被処理膜の全面に均一なラビング処
理を施すことができる。

【００８３】また本発明によれば、基板を矩形とし、移
動方向と基板のいずれか一辺との成す角を７５度以上９
０度以下の範囲としたので、接触部分の長さを確実にほ
ぼ一定に保つことができ、特に９０度に選んだときに一
定に保つことができる。

【００８４】また本発明によれば、配向膜形成領域のみ
に配向膜材料から成る薄膜を形成してラビング処理を施
すようにし、基板に対する移動方向と薄膜に対する移動
方向とを一致させたので、接触部分の長さの変動を薄膜
だけに対する接触部分の長さの変動とが一致し、摩擦ス
トレスの変動を防止することができ、均一にラビング処
理された配向膜を得ることができる。このような配向膜
を有する液晶表示装置では、液晶分子の均一な配向状態
が得られ、表示の均一性が向上する。

【００８５】また本発明によれば、配向膜形成領域を含
む帯状領域に配向膜材料から成る薄膜を形成したので、
基板表面のうちの薄膜が形成された部分と形成されてい
ない部分との段差の数を低減することができ、段差に起
因する摩擦ストレスの変動が低減して、より均一にラビ
ング処理された配向膜を得ることができる。特に帯状の
薄膜の長手方向と接触部材の移動方向とを略平行にした
ときに摩擦ストレスの変動をさらに防止することができ
る。

【００８６】また本発明によれば、配向膜形成領域を含
むほぼ全面を覆って配向膜材料から成る薄膜を形成した
ので、段差による影響をさらに防止することができ、摩
擦ストレスの変動をさらに防いで、さらに均一にラビン
グ処理された配向膜を得ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１実施形態である配向膜の形成方法
に用いられる原基板部材１の平面図である。

【図２】第１実施形態の配向膜の形成方法を含む製造方
法を用いて作成した液晶表示装置８を示す分解断面図で
ある。

【図３】第１実施形態の配向膜の形成方法に用いられる
原一方基板部材１４Ａと原他方基板部材１９Ａとの平面
図である。

【図４】本発明の第２実施形態である配向膜形成方法に
おいて用いられる原一方基板部材１４Ｂと原他方基板部
材１９Ｂとの平面図である。

【図５】本発明の実施形態である配向膜の形成方法を用
いて作成した液晶表示装置のコントラストＣｏ＝１０が
得られるイソコントラストグラフである。

【図６】本発明の配向膜の形成方法を含む製造方法を用
いて作成した液晶表示装置２９を示す分解断面図であ
る。

【図７】従来技術のラビング処理方法を説明するための
原基板部材３２の平面図である。

【符号の説明】

１ 原基板部材 ２ 原基板 ２ａ，２ｂ，２ｃ，２ｄ 基板２の辺 ４ 領域 ５ 薄膜 ５ａ，５ｂ，５ｃ，５ｄ 薄膜５の辺 ６ ラビングローラ ７ 移動方向 ７ａ 接触辺 θ 基板と移動方向との成す角度

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 平板状の基板の一方表面の予め定める領
   域に形成された被処理膜の表面を含む基板の全表面に、
   円周方向に回転する円筒状の接触部材の曲面を接触さ
   せ、かつ基板端辺に対して直交する方向に基板および接
   触部材を相対的に移動させて被処理膜の表面をラビング
   するラビング処理方法において、被処理膜の表面を含む
   基板表面と接触部材の曲面との接触部分の長さを予め定
   められる一定の長さにほぼ保ちながら、基板および接触
   部材を相対的に移動させることを特徴とするラビング処
   理方法。
2. 【請求項２】 前記基板は矩形であり、前記移動方向と
   基板のいずれか一辺との成す角は７５度以上９０度以下
   の範囲に選ばれることを特徴とする請求項１記載のラビ
   ング処理方法。
3. 【請求項３】 平板状で矩形の基板であって、該基板の
   各辺と平行な各辺で囲まれた矩形の配向膜形成領域が設
   定された基板を準備し、 前記基板上の配向膜形成領域に配向膜材料から成る薄膜
   を形成し、 形成された薄膜の表面を請求項１または２記載のラビン
   グ処理方法でラビングして、配向膜を形成することを特
   徴とする配向膜形成方法。
4. 【請求項４】 平板状で矩形の基板であって、該基板の
   各辺と平行な各辺で囲まれた矩形の配向膜形成領域が設
   定された基板を準備し、 前記基板上であって、前記配向膜形成領域を含み、該基
   板のいずれか一方辺から該一方辺と対向する辺に向かっ
   て延びる帯状領域に配向膜材料から成る薄膜を形成し、 形成された薄膜の表面を請求項１または２記載のラビン
   グ処理方法でラビングして、配向膜を形成することを特
   徴とする配向膜形成方法。
5. 【請求項５】 平板状で矩形の基板であって、該基板の
   各辺と平行な各辺で囲まれた矩形の配向膜形成領域が設
   定された基板を準備し、 前記基板上であって、前記配向膜形成領域を含むほぼ全
   面を覆って配向膜材料から成る薄膜を形成し、 形成された薄膜の表面を、請求項１または２記載のラビ
   ング処理方法でラビングして、配向膜を形成することを
   特徴とする配向膜形成方法。