JP2001125144A - 液晶表示装置 - Google Patents

液晶表示装置

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JP2001125144A
JP2001125144A JP31001199A JP31001199A JP2001125144A JP 2001125144 A JP2001125144 A JP 2001125144A JP 31001199 A JP31001199 A JP 31001199A JP 31001199 A JP31001199 A JP 31001199A JP 2001125144 A JP2001125144 A JP 2001125144A
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JP
Japan
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liquid crystal
pixel electrode
display device
crystal display
crystal layer
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JP31001199A
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Kiyoshi Ogishima
清志 荻島
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Original Assignee
Sharp Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 液晶表示装置において、ざらつき感の無い鮮
明で高コントラストで高輝度な視角依存性の小さい表示
を容易に得る。 【解決手段】 液晶表示装置1は、偏光板3、4分の1
波長板5、液晶セル2、4分の1波長板6および偏光板
4をこの順番に配置して構成される。ECB方式で光透
過型の液晶セル2は、一対の透光性基板7,12によっ
て負の誘電率異方性のNn液晶を挟持して構成される。
基板7の液晶層側にはゲートバスライン、ソースバスラ
イン、画素電極10、TFT素子8および垂直配向膜1
1が形成され、基板12の液晶層側には対向電極13お
よび垂直配向膜14が形成される。液晶セル2は、駆動
回路の制御によってドット反転駆動される。画素電極1
0のピッチは、液晶層厚以上であって、50μm、特に
20μm以下に設定される。画素電極10は、正方形ま
たは円形に形成される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示装置に関
する。
【0002】
【従来の技術】従来、TN(ツイステッドネマティッ
ク)型液晶表示装置では、液晶分子の立ち上がり方向が
異なる2以上の液晶配向区分を形成することによって視
角依存性の改善が図られ、具体的にはプレチルト角の大
きさや方向が制御される。たとえば、プレチルト角の大
きさを制御した例が特開平5−188374号公報に、
プレチルト角の方向を制御した例が特開平5−1075
44号公報にそれぞれ開示されている。
【0003】特開平5−188374号公報のプレチル
ト角の大きさを制御する手法では、まず、液晶を挟持す
る一対の基板の液晶層側にプレチルト角の大きさが異な
る領域、たとえば大きい領域と小さい領域とを有する配
向膜がそれぞれ形成される。具体的には、ラビング処理
によって大きさが異なるプレチルト角を発生する2種の
配向膜材料が用いられ、一方材料を用いた第1配向膜が
基板の所定領域に形成され、他方材料を用いた第2配向
膜が基板の第1配向膜とは異なる所定領域に形成され
る。続いて、各配向膜のプレチルト角が大きい領域と小
さい領域とが互いに対向するようにして一対の基板が貼
り合わせられる。プレチルト角が小さい領域の液晶分子
はプレチルト角が大きい領域の液晶分子に追従して配向
するので、このようにして液晶分子の立ち上がり方向が
逆となる液晶配向区分を形成することができる。
【0004】また、特開平5−107544号公報のプ
レチルト角の方向を制御する手法では、基板上に配向膜
用樹脂膜が塗布され、レジストによって第1の所定領域
だけが露出されて所定方向にラビングされた後、該レジ
ストが除去され、新たなレジストによって第1の所定領
域とは異なる第2の所定領域だけが露出されて第1の所
定領域のラビング方向とは180°異なる方向にラビン
グされた後、該レジストが除去される。このようにして
液晶分子の立ち上がり方向が逆となる液晶配向区分を形
成することができる。
【0005】しかし、特開平5−188374号および
特開平5−107544号の公報の手法では液晶分子の
立ち上がり方向の境界部にディスクリネーションライン
が発生し、表示にざらつき感が生じて不鮮明となり、コ
ントラストが低下する。また、複雑な配向処理が必要で
製造に手間がかかる。
【0006】そこで、特開平6−301036号公報で
は複雑な配向処理を行わずに視角依存性の改善を図って
いる。具体的には、一対の基板間に負の誘電率異方性を
有するNn液晶を垂直配向として介在した電界効果複屈
折(ECB)方式の液晶セルを使用して、上述したよう
な複雑な配向処理を必要とせずに視角依存性を改善して
いる。また、該液晶セルの一方基板の液晶層側に300
μm×200μmの大きさの画素電極を設け、他方基板
の液晶層側に対向電極を設け、対向電極の中央部に10
μm×10μmの大きさの開口部を設け、画素電極と対
向電極との間に電圧を印加して電圧無印加時の液晶分子
の垂直配向状態と電圧印加時の傾斜した配向状態とで表
示を行っており、前記開口部を設けることによって、電
圧印加時の液晶分子の傾斜方向を特定するための横電界
を1画素毎に発生させている。このような駆動方式によ
ればディスクリネーションラインは発生せず、ざらつき
感の無い鮮明な表示が得られ、高コントラストが得られ
る。
【0007】しかし、特開平6−301036号公報の
手法では、開口部の液晶層には電圧が印加されないので
輝度が低い。また、画素電極が形成された一方基板と画
素毎に開口部を有する対向電極が形成された他方基板と
を貼り合わせるので、一方基板と開口部のない対向電極
が形成された他方基板とを貼り合わせる場合と比較し
て、基板の貼り合わせに高い精度が要求される。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、ざら
つき感が無く鮮明で高コントラストで高輝度で視角依存
性の小さい表示が容易に得られる液晶表示装置を提供す
ることである。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明は、一対の基板に
よって負の誘電率異方性を有するNn液晶を挟持する電
界効果複屈折方式の液晶セルであって、一方基板の液晶
層側にはマトリクス状に配置される画素電極、画素電極
に表示用の信号を供給するための信号配線、信号配線か
らの表示用の信号を画素電極に供給/遮断するスイッチ
ング素子および液晶層に最近接する垂直配向膜が形成さ
れ、他方基板の液晶層側には画素電極に対向する対向電
極および液晶層に最近接する垂直配向膜が形成される液
晶セルと、信号配線と接続されて液晶セルをドット反転
駆動する駆動回路とを備え、画素電極のピッチは、液晶
層厚以上であって、50μm以下の範囲に選ばれること
を特徴とする液晶表示装置である。
【0010】本発明に従えば、電圧無印加時において、
一対の基板間に介在される負の誘電率異方性を有する液
晶の分子は垂直配向膜の規制力によってその長軸方向が
基板表面に対して垂直に配向する。このとき液晶層では
複屈折効果は発生しない。電圧印加時には、液晶セルを
ドット反転駆動する駆動回路の制御によって隣合う列お
よび行の画素電極には互いに逆相の電圧が印加される。
このため、画素電極の端部の液晶層には等電位線(電
位)に歪みが生じる。この歪み領域は、液晶層のバルク
領域に比べて等電位線の密度が高く、電界強度が大き
い。したがって、歪み領域を起点として横方向の電界効
果が発生する。液晶分子はその長軸方向が基板表面に対
して平行に配向し、液晶層では複屈折効果が得られる。
【0011】ここで、画素電極領域全体の液晶分子の配
向は画素電極の端部の電界の歪みのみによって制御され
ているので、配向制御が可能な画素電極の大きさは限ら
れる。本発明では、該画素電極のピッチを液晶層厚以上
であって、50μm以下の範囲としている。これによっ
て、電界によって液晶分子の配向を制御することができ
る。
【0012】このような本発明の液晶表示装置では、一
対の基板間に負の誘電率異方性を有するNn液晶を垂直
配向として介在したECB方式の液晶セルを使用してい
る。該液晶セルはプレチルト角の大きさや方向を制御す
るための複雑な配向処理を必要とせず、したがって容易
に作製することができる。また、ディスクリネーション
ラインが無く、ざらつき感が無く鮮明で高コントラスト
で高輝度な表示を得ることができる。さらに、Nn液晶
を垂直配向として用いることから、視角依存性の少ない
表示を得ることができる。
【0013】また本発明は、前記画素電極のピッチが、
液晶層厚以上であって、20μm以下の範囲に選ばれる
ことを特徴とする。
【0014】本発明に従えば、特に、画素電極のピッチ
を液晶層厚以上であって、20μm以下の範囲としてい
る。これによって、電界によって液晶分子の配向を充分
な応答速度で制御することができ、また高精細な表示を
得ることができる。
【0015】また本発明は、前記画素電極の形状が、正
方形または円形であることを特徴とする。
【0016】本発明に従えば、画素電極の形状を正方形
または円形としたので、電圧印加時の電界効果を画素電
極領域全体の液晶分子に均等に与えることができ、液晶
分子を放射状に配向させて視角依存性をさらに少なくす
ることができる。
【0017】また本発明は、前記画素電極が、その中央
部に開口部を有することを特徴とする。
【0018】本発明に従えば、画素電極の中央部に開口
部を設けたので、電圧印加時において、画素電極の端部
だけでなく画素電極の中央部の液晶層にも電界の歪みが
発生する。これによって、液晶分子の放射状配向の中心
部が画素電極の中央部の開口部に確実に固定され、より
安定した配向状態を得ることができる。また、開口部を
有する画素電極が形成された一方基板と対向電極が形成
された他方基板とは、高い精度を必要とすることなく貼
り合わせることができる。
【0019】また本発明は、前記スイッチング素子と画
素電極とのコンタクトが画素電極の中央部で行われるこ
とを特徴とする。
【0020】本発明に従えば、スイッチング素子と画素
電極との接続を画素電極の中央部で行うことによって、
実質的に、画素電極の中央部に開口部を設けたのと同様
の作用が得られる。すなわち、電圧印加時において、画
素電極の端部だけでなく画素電極の中央部の液晶層にも
電界の歪みが発生し、液晶分子の放射状配向の中心部が
画素電極の中央部の接続部に確実に固定され、より安定
した配向状態を得ることができる。また、画素電極が形
成された一方基板と対向電極が形成された他方基板と
は、高い精度を必要とすることなく貼り合わせることが
できる。
【0021】なお、画素電極の中央部に開口部を設ける
ことは、透過型の液晶表示装置だけでなく、画素電極が
反射板を兼用する反射型の液晶表示装置にも効果的に適
用することができる。また、スイッチング素子と画素電
極との接続を画素電極の中央部で行って、実質的に、画
素電極の中央部に開口部を設けたのと同様の作用を得る
ことは、反射型の液晶表示装置だけに効果的に適用する
ことができる。これは、透過型の液晶表示装置ではスイ
ッチング素子が開口部を遮光してしまうからである。
【0022】また本発明は、前記液晶セルが光透過型で
あり、前記液晶表示装置が一対の偏光板と一対の4分の
1波長板とをさらに含み、一対の偏光板間に液晶セルが
配置され、液晶セルと各偏光板との間に4分の1波長板
がそれぞれ配置されて構成され、一対の偏光板の各偏光
軸は互いに90°を成し、一方偏光板の偏光軸と該偏光
板側の4分の1波長板の遅相軸とは45°を成し、他方
偏光板の偏光軸と該偏光板側の4分の1波長板の遅相軸
とは45°を成すように選ばれることを特徴とする。
【0023】本発明に従えば、電圧無印加時において入
射側の偏光板を通過した光は直線偏光となって4分の1
波長板を通過し、円偏光となる。液晶セルでは複屈折効
果が発生していないので、該円偏光はそのまま液晶セル
を通過する。液晶層を通過した円偏光は出射側の4分の
1波長板を通過してもとの直線偏光に戻り、偏光板に到
達する。ここで、偏光板の偏光軸の関係は上述したよう
に選ばれるので、偏光板に到達した直線偏光は完全に遮
断されて、完全な黒表示となる。
【0024】電圧印加時では、電圧無印加時と同様にし
て入射側の偏光板を通過した光は直線偏光となって4分
の1波長板を通過し、円偏光となる。液晶セルでは複屈
折効果が発生しているので、該円偏光は入射時とは異な
る偏光状態で液晶セルを通過する。液晶層を通過した円
偏光は出射側の4分の1波長板を通過するが、もとの直
線偏光には戻らずに偏光板に到達する。ここで、偏光板
の偏光軸の関係は上述したように選ばれるので、偏光板
に到達した光は該偏光板から抜け出し、白表示となる。
【0025】なお、電圧印加時の白表示において最も明
るい表示を得るためには、液晶層の厚さ、液晶の複屈折
率および印加電圧を調整して、複屈折効果量を2分の1
波長とすることが好ましい。この条件によれば、液晶層
に入射した円偏光は180°だけ回転して出射し、該光
が4分の1波長板を通過することによって入射時とは9
0°だけ異なる方向の直線偏光となり、ほぼ全ての光が
出射側偏光板を通過する。
【0026】
【発明の実施の形態】図1は、本発明の実施の一形態で
ある液晶表示装置1の断面図である。図2は、液晶表示
装置1が備えるスイッチング素子であるTFT(薄膜ト
ランジスタ)素子8を拡大して示す断面図である。図3
は、液晶表示装置1の平面図である。図4は、液晶表示
装置1の位置関係を説明するための図である。液晶表示
装置1は、光透過型の液晶セル2を一対の偏光板3,4
の間に配置し、液晶セル2と各偏光板3,4との間に4
分の1波長板5,6をそれぞれ配置し、液晶セル2をド
ット反転駆動するための駆動回路30,31を含んで構
成される。
【0027】図1と図3を参照して、ECB(Electric
ally Controlled Birefringence)方式の液晶セル2
は、石英ガラスなどで実現される透光性基板7,12に
よって負の誘電率異方性を有するNn液晶を挟持して構
成される。Nn液晶は、たとえばメルク社製ネマティッ
ク液晶ZLI−4788(複屈折率0.16)で実現さ
れる。
【0028】一方の透光性基板7の液晶層15の側に
は、ゲート側駆動回路30に接続される複数のゲートバ
スライン21が、互いに間隔を開けて絶縁性を保持し、
かつ互いに平行に配設される。また、ソース側駆動回路
31と接続される複数のソースバスライン22が、互い
に間隔を開けて絶縁性を保持し、かつゲートバスライン
21とは直交して配設される。なお、ゲートバスライン
21とソースバスライン22とは、絶縁層9によって互
いに絶縁性が保持される。画素電極10は、前記ゲート
バスライン21とソースバスライン22とによって形成
される基板7の複数の矩形領域にそれぞれ設けられる。
すなわち、画素電極10はマトリクス状に配置される。
画素電極10は、たとえばITO(インジウム錫酸化
物)から成り、100nmの厚みを有する。
【0029】画素電極10はゲートバスライン21およ
びソースバスライン22とTFT素子8によって電気的
に接続され、ゲートバスライン21およびソースバスラ
イン22によって供給される表示用の信号がTFT素子
8を介して画素電極10に供給/遮断されて、アクティ
ブマトリクス駆動が実施される。垂直配向膜11は、前
記ゲートバスライン21、ソースバスライン22、画素
電極10およびTFT素子8を覆って、液晶層15に最
近接して設けられる。垂直配向膜11は、たとえばJS
R株式会社製JALS−204から成り、100nmの
厚みを有する。
【0030】他方の透光性基板12の液晶層15の側に
は、画素電極10に対向する対向電極13が基板12の
全面に設けられる。対向電極13は、たとえばITOか
ら成り、100nmの厚みを有する。垂直配向膜14
は、前記対向電極13を覆って、液晶層15に最近接し
て設けられる。垂直配向膜14は、前記垂直配向膜11
と同様に、たとえばJSR株式会社製JALS−204
から成り、100nmの厚みを有する。
【0031】液晶層厚は、基板7,12の間に介在され
るスペーサ16によって、たとえば3.0μmの一定厚
に規制される。スペーサ16は、たとえばプラスチック
製である。また、基板7,12の周縁部は接着剤17に
よって接着される。接着剤17は、たとえば三井東圧化
学株式会社製エポキシ系接着剤XN−21で実現され
る。
【0032】画素電極10のピッチは、液晶層厚以上で
あって、50μm以下、特に20μm以下の範囲に設定
される。また、画素電極10は、正方形または円形に形
成される。たとえば、画素電極10は48μm×48μ
mの正方形とされ、画素電極10の間隙の幅が2μmと
される。
【0033】図2を参照して、透光性基板7の上にはソ
ース電極23およびドレイン電極24が、これらの間に
チャネル部25を介在して平面的に設けられる。ゲート
絶縁膜26は、前記ソース電極23、ドレイン電極24
およびチャネル部25を覆って設けられる。また、ゲー
ト電極27は前記チャネル部25の上に相当するゲート
絶縁膜26の上に設けられる。さらに、ゲート電極27
に接続するゲートバスライン21とソース電極23に接
続するソースバスライン22とが設けられる。絶縁膜2
8は、前記ソースバスライン22、ゲート絶縁膜26お
よびゲート電極27を覆って設けられる。また、絶縁膜
28およびゲート絶縁膜26にはコンタクトホール29
が設けられ、該コンタクトホール29によってドレイン
電極24が露出する。なお、絶縁膜28とゲート絶縁膜
26とによって前記絶縁層9が構成される。画素電極1
0は絶縁膜28の上に形成され、コンタクトホール29
によってドレイン電極24に接続される。
【0034】液晶表示装置1のTFT素子8は上述のよ
うにして構成されるが、液晶表示装置1において他の構
造のTFT素子を用いても構わない。また、スイッチン
グ素子としてTFT素子以外を用いても構わない。
【0035】図4を参照して、偏光板3の偏光軸35と
偏光板4の偏光軸36とのなす角度αは、90°に設定
される。また、偏光板3の偏光軸35と該偏光板3の側
の4分の1波長板5の遅相軸37とのなす角度βは、4
5°に設定される。さらに、偏光板4の偏光軸36と該
偏光板4の側の4分の1波長板6の遅相軸38との成す
角度γは、45°に設定される。
【0036】図5は、液晶セル2のドット反転駆動を説
明するための図である。図6は、電圧印加時における液
晶層15の等電位線41を示すである。図7は、液晶表
示装置1の印加電圧−透過率曲線を示す図である。図8
は、電圧無印加時および電圧印加時の液晶分子15aの
配向状態を示す断面図である。
【0037】電圧無印加時、透光性基板7,12の間に
介在される液晶分子15aは垂直配向膜11,14の規
制力を受ける。これによって、液晶分子15aは図8
(a)に示されるようにその長軸方向が基板7,12の
表面に対して垂直に配向する。このとき液晶層15では
複屈折効果は発生しない。
【0038】電圧無印加時に入射側の偏光板、たとえば
偏光板3を通過した光は直線偏光となって4分の1波長
板5を通過し、円偏光となる。液晶セル2では複屈折効
果が発生していないので、該円偏光はそのまま液晶セル
2を通過する。液晶層15を通過した円偏光は出射側の
4分の1波長板6を通過してもとの直線偏光に戻り、偏
光板4に到達する。偏光板4に到達した直線偏光は、偏
光板4によって完全に遮断される。このとき、配向状態
の異なる領域は存在しないので、ディスクリネーション
ラインが発生することはなく、黒レベルが低下する要因
はない。このようにして完全な黒表示を得ることができ
る。
【0039】電圧印加時には、前記ゲート側駆動回路3
0およびソース側駆動回路31の制御によって隣合う列
および行の画素電極10には図5に示されるような互い
に逆相の電圧が印加される。このため、画素電極10の
端部の液晶層15には図6に示されるような等電位線
(電位)41に歪みが生じる。この歪み領域42は液晶
層15のバルク領域43に比べて等電位線41の密度が
高く、電界強度が大きい。したがって、歪み領域42を
起点として横方向の電界効果が発生する。その結果、液
晶分子15aは図8(b)に示されるようにその長軸方
向が基板7,12の表面に対して放射状に傾斜して配向
した後、図8(c)に示されるようにその長軸方向が基
板7,12の表面に対して平行に配向する。このとき液
晶層15では複屈折効果が得られる。
【0040】電圧印加時に入射側の偏光板3を通過した
光は電圧無印加時と同様にして直線偏光となって4分の
1波長板5を通過し、円偏光となるが、液晶セル2では
複屈折効果が発生しているので、該円偏光は入射時とは
異なる偏光状態で液晶セル2を通過する。液晶層15を
通過した円偏光は出射側の4分の1波長板6を通過する
が、もとの直線偏光には戻らずに偏光板4に到達し、該
偏光板4から抜け出す。したがって白表示となる。
【0041】液晶表示装置15では、上述したようなド
ット反転駆動方式によって図7に示されるような印加電
圧−透過率曲線が得られる。液晶表示装置1では、最も
明るい白表示を得るために、複屈折効果量が2分の1波
長となるように、液晶層15の厚さ、液晶の複屈折率お
よび印加電圧が調整さる。これによれば、液晶層15に
入射した円偏光は180°だけ回転して出射し、該光が
4分の1波長板6を通過することによって入射時とは9
0°だけ異なる方向の直線偏光となり、ほぼ全ての光が
出射側の偏光板4を通過する。
【0042】液晶表示装置1では、画素電極10の領域
全体の液晶分子15aの配向は画素電極10の端部の電
界の歪みのみによって制御されているので、配向制御が
可能な画素電極10の大きさは限られる。液晶表示装置
1では画素電極10を48μm×48μmの大きさと
し、画素電極10の間隙の幅を2μmとして、画素電極
10のピッチを50μmとしており、これによって電界
による液晶分子15aの配向制御が可能となる。特に、
画素電極10を18μm×18μmの大きさとし、画素
電極10の間隙の幅を2μmとして、画素ピッチを20
μmとすることによって、電界によって液晶分子15a
の配向を充分な応答速度で制御することができ、また高
精細な表示を得ることができる。
【0043】このような液晶表示装置1では、一対の基
板7,12の間に負の誘電率異方性を有するNn液晶を
垂直配向として介在したECB方式の液晶セル2を使用
している。該液晶セル2はプレチルト角の大きさや方向
を制御するための複雑な配向処理を必要とせず、したが
って容易に作製することができる。また、ディスクリネ
ーションラインの発生は無く、ざらつき感の無い鮮明で
高コントラストで高輝度な表示を得ることができる。さ
らに、Nn液晶を垂直配向として用いることから、全て
の方向において均一な視角特性を有する視角依存性の小
さい表示を得ることができる。
【0044】また、液晶表示装置1では画素電極10の
形状を正方形としているので、電圧印加時の電界効果を
画素電極10の領域全体の液晶分子15aに均等に与え
ることができる。これによって、液晶分子15aを図9
に示されるように画素電極10の中央部から放射状に配
向させて、視角依存性をさらに小さくすることができ
る。このような効果は、画素電極を円形とした場合にも
同様に得ることができる。
【0045】なお、画素電極10の中央部に図10に示
されるような開口部45を設けることも本発明の範囲に
属するものである。前述した48μm角または18μm
角の画素電極10に、たとえば5μm角の開口部45を
設けることによって、電圧印加時において、画素電極1
0の端部だけでなく画素電極10の中央部の液晶層15
にも電界の歪みが発生し、液晶分子15aの放射状配向
の中心部が画素電極10の中央部の開口部45に確実に
固定される。したがって、より安定した配向状態を得る
ことができる。
【0046】また、前記TFT素子8と画素電極10と
の接続を画素電極10の中央部で行うようにすることも
本発明の範囲に属するものである。これによって、実質
的に、画素電極10の中央部に前記開口部45を設けた
のと同様の効果を得ることができる。
【0047】また、本形態では透過型の液晶表示装置1
の例について説明したが、液晶表示装置を反射型として
も構わない。この場合、反射性を有する金属で画素電極
10を形成することによって、画素電極10に反射機能
を持たせることができる。前述の画素電極10の中央部
に開口部45を設けることは、本形態の透過型の液晶表
示装置1だけでなく、このような反射型の液晶表示装置
においても効果的である。また、TFT素子8と画素電
極10との接続を画素電極10の中央部で行って、実質
的に、画素電極10の中央部に開口部45を設けたのと
同様の効果を得ることは、反射型の液晶表示装置だけに
効果的である。これは、透過型の液晶表示装置ではTF
T素子8が開口部45を遮光してしまうからである。
【0048】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、一対の基
板によって負の誘電率異方性を有するNn液晶を挟持す
るECB方式の液晶セルをドット反転駆動し、画素電極
のピッチを液晶層厚以上であって50μm以下の範囲に
選んだので、電界によって液晶分子の配向を制御するこ
とができ、ざらつき感の無い鮮明で高コントラストで高
輝度な表示を得ることができる。また、視角依存性の小
さい表示が得られる。さらに、複雑な配向処理を必要と
せず、液晶表示装置を容易に作製することができる。
【0049】また本発明によれば、画素電極のピッチ
を、特に、液晶層厚以上であって20μm以下の範囲に
選んだので、電界によって液晶分子の配向を充分な応答
速度で制御することができ、高精細な表示を得ることが
できる。
【0050】また本発明によれば、画素電極を正方形ま
たは円形としたので、電圧印加時の電界効果を画素電極
領域全体の液晶分子に均等に与えて、放射状に液晶分子
を配向させ、これによって視角依存性をさらに小さくす
ることができる。
【0051】また本発明によれば、画素電極の中央部に
開口部を設けたので、電圧印加時に、液晶分子の放射状
配向の中心部を画素電極の中央部の開口部に確実に固定
して、安定した配向状態を得ることができる。
【0052】また本発明によれば、スイッチング素子と
画素電極との接続を画素電極の中央部で行うようにした
ので、画素電極の中央部に開口部を設けたのと同様に、
液晶分子の放射状配向の中心部を画素電極の中央部の接
続部に確実に固定して、安定した配向状態を得ることが
できる。
【0053】また本発明によれば、一対の偏光板間に光
透過型の液晶セルを配置し、液晶セルと各偏光板との間
に4分の1波長板をそれぞれ配置し、一対の偏光板の各
偏光軸が互いに90°を成すようにし、一方偏光板の偏
光軸と該偏光板側の4分の1波長板の遅相軸とが45°
を成すようにし、他方偏光板の偏光軸と該偏光板側の4
分の1波長板の遅相軸とが45°を成すようにしたの
で、完全な黒表示と明るい白表示を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の一形態である液晶表示装置1の
断面図である。
【図2】液晶表示装置1が備えるTFT素子8を拡大し
て示す断面図である。
【図3】液晶表示装置1の平面図である。
【図4】液晶表示装置1の位置関係を説明するための図
である。
【図5】液晶セル2のドット反転駆動を説明するための
図である。
【図6】電圧印加時における液晶層15の等電位線41
を示すである。
【図7】液晶表示装置1の印加電圧−透過率曲線を示す
図である。
【図8】電圧無印加時および電圧印加時の液晶分子15
aの配向状態を示す断面図である。
【図9】電圧印加時の液晶分子15aの配向状態を示す
平面図である。
【図10】画素電極10の中央部に形成された開口部4
5を示す平面図である。
【符号の説明】
1 液晶表示装置 2 液晶セル 3,4 偏光板 5,6 4分の1波長板 7,12 透光性基板 8 TFT(薄膜トランジスタ)素子 10 画素電極 11,14 垂直配向膜 13 対向電極 15 液晶層 30 ゲート側駆動回路 31 ソース側駆動回路 35 偏光板3の偏光軸 36 偏光軸4の偏光軸 37 4分の1波長板5の遅相軸 38 4分の1波長板6の遅相軸 45 開口部 α 偏光板3の偏光軸35と偏光軸4の偏光軸36との
成す角度 β 偏光板3の偏光軸35と4分の1波長板5の遅相軸
37との成す角度 γ 偏光軸4の偏光軸36と4分の1波長板5の遅相軸
38との成す角度

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 一対の基板によって負の誘電率異方性を
    有するNn液晶を挟持する電界効果複屈折方式の液晶セ
    ルであって、一方基板の液晶層側にはマトリクス状に配
    置される画素電極、画素電極に表示用の信号を供給する
    ための信号配線、信号配線からの表示用の信号を画素電
    極に供給/遮断するスイッチング素子および液晶層に最
    近接する垂直配向膜が形成され、他方基板の液晶層側に
    は画素電極に対向する対向電極および液晶層に最近接す
    る垂直配向膜が形成される液晶セルと、 信号配線と接続されて液晶セルをドット反転駆動する駆
    動回路とを備え、 画素電極のピッチは、液晶層厚以上であって、50μm
    以下の範囲に選ばれることを特徴とする液晶表示装置。
  2. 【請求項2】 前記画素電極のピッチが、液晶層厚以上
    であって、20μm以下の範囲に選ばれることを特徴と
    する請求項1記載の液晶表示装置。
  3. 【請求項3】 前記画素電極の形状が、正方形または円
    形であることを特徴とする請求項1記載の液晶表示装
    置。
  4. 【請求項4】 前記画素電極が、その中央部に開口部を
    有することを特徴とする請求項1記載の液晶表示装置。
  5. 【請求項5】 前記スイッチング素子と画素電極とのコ
    ンタクトが画素電極の中央部で行われることを特徴とす
    る請求項1記載の液晶表示装置。
  6. 【請求項6】 前記液晶セルが光透過型であり、 前記液晶表示装置が一対の偏光板と一対の4分の1波長
    板とをさらに含み、一対の偏光板間に液晶セルが配置さ
    れ、液晶セルと各偏光板との間に4分の1波長板がそれ
    ぞれ配置されて構成され、 一対の偏光板の各偏光軸は互いに90°を成し、一方偏
    光板の偏光軸と該偏光板側の4分の1波長板の遅相軸と
    は45°を成し、他方偏光板の偏光軸と該偏光板側の4
    分の1波長板の遅相軸とは45°を成すように選ばれる
    ことを特徴とする請求項1記載の液晶表示装置。
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007148136A (ja) * 2005-11-29 2007-06-14 Optrex Corp 液晶表示素子
US7599030B2 (en) 2005-12-01 2009-10-06 Au Optronics Corp. Pixel structure
US7646459B2 (en) 2003-12-26 2010-01-12 Sharp Kabushiki Kaisha Liquid crystal display device
US7724326B2 (en) 2004-02-19 2010-05-25 Sharp Kabushiki Kaisha Liquid crystal display device comprising a shading conductive layer formed at least near an opening or cut of an electrode
US7728937B2 (en) 2004-06-17 2010-06-01 Sharp Kabushiki Kaisha Multi-domain liquid crystal with axisymmetric alignment and electrode having asymmetrical cuts at the edge

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