JPH10114550A - 光ファイバとその線引装置及び製造方法 - Google Patents

光ファイバとその線引装置及び製造方法

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JPH10114550A
JPH10114550A JP9108775A JP10877597A JPH10114550A JP H10114550 A JPH10114550 A JP H10114550A JP 9108775 A JP9108775 A JP 9108775A JP 10877597 A JP10877597 A JP 10877597A JP H10114550 A JPH10114550 A JP H10114550A
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optical fiber
metal
uncoated
coated
coating
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JP9108775A
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Mun-Hyun Do
文顯 都
Tea-San Jeong
泰山 鄭
E M Dianov
イー.エム.ディアノフ
V A Bogatyrjov
ブイ.エー.ボガティリョフ
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Samsung Electronics Co Ltd
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Samsung Electronics Co Ltd
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    • G02B6/44Mechanical structures for providing tensile strength and external protection for fibres, e.g. optical transmission cables
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C25/00Surface treatment of fibres or filaments made from glass, minerals or slags
    • C03C25/10Coating
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C25/00Surface treatment of fibres or filaments made from glass, minerals or slags
    • C03C25/10Coating
    • C03C25/104Coating to obtain optical fibres
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 光ファイバの強度をより高く、そして水分浸
透を確実に防止することができるような光ファイバとそ
の線引装置及び製造方法を提供する。 【解決手段】 クラッドの周囲に銅、錫又はアルミニウ
ムの金属被覆層を設ける。線引装置は、光ファイバ母材
10を溶融させる溶融炉12と、母材10から引出され
た未被覆光ファイバ14の径を測定する外径測定部16
と、径測定後の未被覆光ファイバ14に金属の被覆処理
を施す金属被覆部18と、被覆後の金属被覆光ファイバ
30を冷却する冷却部26と、外径測定部16の測定結
果に従って母材からのファイバ線引を調整するキャプス
タン32と、金属被覆光ファイバ30を巻取るスプール
34と、を備えてなるものとする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、シリカ系の光ファ
イバとその製造技術に関する。
【0002】
【従来の技術】光通信用の主流をなすシリカ系の光ファ
イバは、外径100〜150μm程度の細いガラスファ
イバであるため、強度を得るために被覆するのが普通で
ある。ガラスは特殊な破壊特性の材料なので、光ファイ
バ表面の微小欠陥が成長しこの部分に局部的な応力集中
が起こると破壊の原因となる。また、シリカ系の光ファ
イバは理論的に14GPa以上の強度であるが、水分に
非常に脆弱な特性を有しており、ファイバ表面に水分が
つくと強度が急激に低下する。従って、光ファイバの表
面を保護して水分浸透を防止し、引張強度、曲げ強度を
向上させて取り扱いやすくする目的で、光ファイバ表面
を被覆して使用する。
【0003】図1は、プラスチック材質の樹脂で被覆処
理した光ファイバを製造する線引装置の構成を示した概
略図である。
【0004】溶融炉52が光ファイバ母材50を高温で
溶融させ、未被覆光ファイバ54が線引される。外径測
定部56は、溶融炉52の下部に設けられて未被覆光フ
ァイバ54の径を測定し、これに基づき均一径で引出す
ための制御が実施される。冷却部58は、外径測定部5
6の下部に設けられ、高温の未被覆光ファイバ54を常
温まで冷却する。コーティング部60は、冷却部58の
下部に設けられ、未被覆光ファイバ54を外部環境から
保護するためファイバ表面に、紫外線硬化型のアクリル
樹脂又は熱硬化型のシリコン樹脂で被覆処理を行う。硬
化部62は、コーティング部60の下部に設けられ、被
覆処理された樹脂被覆光ファイバ64の硬化を行う。キ
ャプスタン66は、硬化部62の下部に設けられ、光フ
ァイバ母材50からの線引力を発生する線引器である。
被覆の終わった樹脂被覆光ファイバ64は、スプール6
8に巻き取られていく。
【0005】この樹脂被覆光ファイバの製造(線引) 方
法は次の通りである。
【0006】母材位置制御機構により光ファイバ母材5
0を溶融炉52にゆっくり供給し、該溶融炉52内を数
千℃、典型的には2100〜2200℃程度に保つ。こ
れよる溶融部分から、キャプスタン66よる線引で未被
覆光ファイバ54を引出す。引出した未被覆光ファイバ
54の直径を外径測定部56で測定して所定の径(一般
に125μm)であるどうか調べ、これに基づき直径が
一定に保たれるようにキャプスタン66を制御する。即
ち、キャプスタン66は、外径測定部56の測定値に応
じる直径制御器の制御でその線引力の強弱が調節されつ
つ回転する。
【0007】次いで、未被覆光ファイバ54を冷却部5
8で冷却した後、コーティング部60を通すことでdi
pping法により樹脂被覆する。そして、硬化部62
を通して樹脂を硬化させる。被覆処理の終わった樹脂被
覆光ファイバ64は、キャプスタン66を経た後にスプ
ール68で巻き取る。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】上記従来の製造方法に
よる樹脂被覆光ファイバは、大気中に存在する水分の浸
透を長期間にわたって防止するには確実に十分とは言え
ず、一度水分が浸透してしまうと光ファイバの強度が急
激に劣化し、少しの衝撃にも弱くなってしまうので、よ
り確実な技術が望まれている。また特に、現在一般的な
紫外線硬化型樹脂で被覆したものは、被覆樹脂が200
℃以上の高温になると光ファイバの被覆材としての機能
を喪失するので、あまり高温多湿な環境下では使用に適
さないという課題がある。
【0009】このような課題に着目して本発明では、光
ファイバの強度をより高く、そして水分浸透を確実に防
止することができ、品質が向上して信頼性を高められる
ような光ファイバとその線引装置及び製造方法を提供す
る。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明は、光ファイバ表
面を金属で被覆処理した金属被覆光ファイバとその線引
装置及び製造方法を提供する。また、光ファイバ表面に
導電性金属を連続的に被覆し得る製造方法を提供する。
【0011】即ち本発明によれば、コアの周囲に屈折率
の異なるクラッドを形成したシリカ系の光ファイバにお
いて、前記クラッドの周囲に金属の被覆層を設けること
を特徴とする。その金属被覆層の厚さは5〜50μmと
するとよい。被覆する金属は、銅、錫又はアルミニウム
とすることができる。
【0012】このために本発明では、光ファイバ母材を
溶融させる溶融炉と、前記光ファイバ母材から引出され
た未被覆光ファイバの径を測定する外径測定部と、この
径測定後の未被覆光ファイバに金属の被覆処理を施す金
属被覆部と、この被覆後の金属被覆光ファイバを冷却す
る冷却部と、前記外径測定部の測定結果に従って前記光
ファイバ母材からのファイバ線引を調整するキャプスタ
ンと、前記金属被覆光ファイバを巻取るスプールと、を
備えてなる光ファイバの線引装置を提供する。その金属
被覆部内の金属溶融温度は熱電対により測定し、この測
定結果に基づき温度制御器で前記金属被覆部の内部温度
を制御するとよい。この金属被覆部は、その中心部を未
被覆光ファイバが正確に整列して通るように位置制御す
るテーブル上に設置しておくのがよい。また、不活性気
体を供給する冷却用気体供給手段を冷却部の下端部分に
設けておくことができる。その不活性気体としてはヘリ
ウム、アルゴン又は窒素を使用可能である。また、未被
覆光ファイバが金属被覆部へ至る前に常温まで冷却する
冷却部を更に備えておくとよい。
【0013】また本発明では、シリカ系の光ファイバの
製造方法において、光ファイバ母材を溶融させつつ未被
覆光ファイバを引出す過程と、引出された未被覆光ファ
イバの径が一定となるように線引力を制御する過程と、
引出された未被覆光ファイバに金属の被覆処理を施す過
程と、この被覆処理後の金属被覆光ファイバを冷却する
過程と、を実施することを特徴とする光ファイバの製造
方法を提供する。引出された未被覆光ファイバは、溶融
させた金属に通して被覆処理を施すようにすることがで
きる。また、未被覆光ファイバに被覆される金属の被覆
厚は、該金属の溶融温度と光ファイバの線引速度により
制御することができる。このような金属は銅、錫又はア
ルミニウムを使用することができ、銅であれば、未被覆
光ファイバを接触させる溶融温度は1083〜1110
℃、錫であれば、未被覆光ファイバを接触させる溶融温
度は231〜260℃、アルミニウムであれば、未被覆
光ファイバを接触させる溶融温度は660〜690℃と
する。
【0014】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につき
添付図面を参照して詳細に説明する。
【0015】この例の金属被覆光ファイバの線引装置及
び製造方法について、図2及び図3を参照して説明す
る。図2は、金属被覆光ファイバを製造する線引装置の
構成を示した概略図、図3Aは銅被覆光ファイバの断面
図、図3Bは錫被覆光ファイバの断面図、図3Cはアル
ミニウム被覆光ファイバの断面図である。
【0016】図2に示す線引装置では、光ファイバ母材
10を未被覆光ファイバ14として引出すため、215
0℃の高温で溶融させる溶融炉12が設置されている。
この溶融炉12の下部に設けられる外径測定部16は、
引出された未被覆光ファイバ14の直径を連続測定し、
これに基づき未被覆光ファイバ14の径を均一に保つ制
御が実行される。
【0017】外径測定部16の下部には金属被覆部18
が設けられ、導電性金属である銅40、錫42又はアル
ミニウム44を5〜50μmの厚さで未被覆光ファイバ
14に被覆処理する。この金属被覆部18の上部には、
未被覆光ファイバ14が金属被覆部18を通過する前に
25℃の常温まで冷却する冷却部を設置することもでき
る。
【0018】金属被覆部18は、温度制御器22により
内部温度が制御され、内部に入れた溶融金属が常に一定
温度を維持し得るようにしてある。金属被覆部18に入
れた金属の温度は熱電対20で測定され、その測定結果
から温度制御部22が温度制御する。金属被覆部18は
テーブル24の上に設置されており、該テーブル24の
X−Y制御により、未被覆光ファイバ14が金属被覆部
18の中心部を正確に整列して通過し、被覆が行われる
よいうにしてある。
【0019】金属被覆部18の下部には冷却部26が設
けられ、被覆直後で高温の金属被覆光ファイバ30を冷
却する。冷却部26の下端部分に冷却用気体供給手段2
8が設けられ、冷却用の不活性気体であるヘリウム(H
e)、アルゴン(Ar)又は窒素(N)が供給される。
冷却部26による冷却後の金属被覆光ファイバ30はキ
ャプスタン32で引張られ、これにより線引力が調整さ
れる。キャプスタン32を経た金属被覆光ファイバ30
はスプール34で巻き取られる。
【0020】この金属被覆光ファイバの製造(線引)方
法は次の通りである。
【0021】まず、第1例として銅被覆光ファイバの製
造方法を説明する。
【0022】母材位置制御機構により、シリカ又はシリ
カ+ドーパントのシリカ系光ファイバ母材10を溶融炉
12にゆっくり供給する。溶融炉12は、数千℃、典型
的には2100〜2200℃の温度にしてある。これに
より光ファイバ母材10を溶融させ、その断面積減少部
分からキャプスタン32の回転で未被覆光ファイバ14
を引出す。引出された未被覆光ファイバ14の直径を外
径測定部16で測定し、所定の直径(一般に125μ
m)になるように直径制御器で監視する。直径制御器
は、未被覆光ファイバ14の直径が一定になるようにキ
ャプスタン32を制御し、キャプスタン32は、未被覆
光ファイバ14の線引力の強弱を調節すべく回転制御さ
れる。
【0023】外径測定部16を経た未被覆光ファイバ1
4は、99.9%の高純度の銅40を1083〜111
0℃で溶融させてある金属被覆部18を通過させ、被覆
処理する。この銅被覆処理における銅の被覆厚は、銅4
0の溶融温度と未被覆光ファイバ14の線引速度により
決定(制御) される。
【0024】金属被覆部18を通過する未被覆光ファイ
バ14の表面温度は例えば25℃の常温で、金属被覆部
18内の溶融銅40の温度は1085℃以上の高温であ
るので、未被覆光ファイバ14の表面が溶融銅40と接
触すると、その温度差により未被覆光ファイバ14の周
囲の溶融銅40が瞬間的に固化して未被覆光ファイバ1
4の表面が被覆される。このときに、未被覆光ファイバ
14と溶融銅40との接触時間が長くなると未被覆光フ
ァイバ14の表面温度は溶融銅40からの熱伝達により
再上昇し、未被覆光ファイバ14の周囲に固化し付着す
る銅40の体積が徐々に減少するので、銅40の被覆厚
も減少することになる。従って、好ましくは、溶融銅4
0と未被覆光ファイバ14の接触時間は0.001〜
0.1秒の間に設定し、特に、0.04秒以下になるよ
うに制御しておくと連続的な銅被覆を容易に行える。
【0025】被覆処理の終わった銅被覆光ファイバ30
は冷却部26でゆっくり冷却し、キャプスタン32の線
引力により引張ってスプール34で巻き取る。
【0026】この製造方法による銅被覆光ファイバ30
は、図3Aに示すように、光を伝送する中心のコア36
の周りにコア36よりも屈折率の低いクラッド38をも
ち、そしてクラッド38の周囲に、水分浸透を防止して
光ファイバの強度を向上させる導電性金属の銅40が一
例として22μmの厚さで被覆されたものとなる。この
銅40は、単一モード光ファイバ、分散移動光ファイ
バ、多重モード光ファイバ、エルビウム添加光ファイ
バ、分散補償光ファイバ、偏光維持光ファイバに被覆可
能である。
【0027】この銅被覆光ファイバによれば、光ファイ
バ表面に被覆した銅で水分浸透をシャットアウトするこ
とができ、より長期間、光ファイバの強度を保つことが
できる。また、200℃以上の高温でも光ファイバに損
傷を与えずに使用でき、引張や曲げ強度も向上する。更
に、被覆してある銅を介して電気信号も流すことが可能
になるので経済的である。
【0028】次に、第2例として錫被覆光ファイバの製
造方法を説明する。
【0029】母材位置制御機構により、シリカ又はシリ
カ+ドーパントの光ファイバ母材10を溶融炉12にゆ
っくり供給する。溶融炉12は、数千℃、典型的には2
100〜2200℃の温度にしてある。これにより光フ
ァイバ母材10を溶融させ、その断面積減少部分からキ
ャプスタン32の回転で未被覆光ファイバ14を引出
す。引出された未被覆光ファイバ14の直径を外径測定
部16で測定し、所定の直径(一般に125μm)にな
るように直径制御器で監視する。直径制御器は、未被覆
光ファイバ14の直径が一定になるようにキャプスタン
32を制御し、キャプスタン32は、未被覆光ファイバ
14の線引力の強弱を調節すべく回転制御される。
【0030】外径測定部16を経た未被覆光ファイバ1
4は、99.9%の高純度の錫42を231〜260℃
で溶融させてある金属被覆部18を通過させ、被覆処理
する。この錫被覆処理における錫の被覆厚は、錫42の
溶融温度と未被覆光ファイバ14の線引速度により決定
(制御) される。
【0031】金属被覆部18を通過する未被覆光ファイ
バ14の表面温度は例えば25℃の常温で、金属被覆部
18内の溶融錫42の温度は231℃以上の高温である
ので、未被覆光ファイバ14の表面が溶融錫42と接触
すると、その温度差により未被覆光ファイバ14の周囲
の溶融錫42が瞬間的に固化して未被覆光ファイバ14
の表面が被覆される。このときに、未被覆光ファイバ1
4と溶融錫42との接触時間が長くなると未被覆光ファ
イバ14の表面温度は溶融錫42からの熱伝達により再
上昇し、未被覆光ファイバ14の周囲に固化し付着する
錫42の体積が徐々に減少するので、錫42の被覆厚も
減少することになる。従って、好ましくは、溶融錫42
と未被覆光ファイバ14の接触時間は0.001〜0.
1秒の間に設定しておくとよい。
【0032】被覆処理の終わった錫被覆光ファイバ30
は冷却部26でゆっくり冷却し、キャプスタン32の線
引力により引張ってスプール34で巻き取る。
【0033】この製造方法による錫被覆光ファイバ30
は、図3Bに示すように、光を伝送する中心のコア36
の周りにコア36よりも屈折率の低いクラッド38をも
ち、そしてクラッド38の周囲に、水分浸透を防止して
光ファイバの強度を向上させる導電性金属の錫42が一
例として22μmの厚さで被覆されたものとなる。この
錫42は、単一モード光ファイバ、分散移動光ファイ
バ、多重モード光ファイバ、エルビウム添加光ファイ
バ、分散補償光ファイバ、偏光維持光ファイバに被覆可
能である。
【0034】この錫被覆光ファイバによれば、光ファイ
バ表面に被覆した錫で水分浸透をシャットアウトするこ
とができ、より長期間、光ファイバの強度を保つことが
できる。また、100℃以上の高温でも光ファイバに損
傷を与えずに使用でき、引張や曲げ強度も向上する。更
に、被覆してある錫を介して電気信号も流すことが可能
になるので経済的である。
【0035】次に、第3例としてアルミニウム被覆光フ
ァイバの製造方法を説明する。
【0036】母材位置制御機構により、シリカ又はシリ
カ+ドーパントの光ファイバ母材10を溶融炉12にゆ
っくり供給する。溶融炉12は、数千℃、典型的には2
100〜2200℃の温度にしてある。これにより光フ
ァイバ母材10を溶融させ、その断面積減少部分からキ
ャプスタン32の回転で未被覆光ファイバ14を引出
す。引出された未被覆光ファイバ14の直径を外径測定
部16で測定し、所定の直径(一般に125μm)にな
るように直径制御器で監視する。直径制御器は、未被覆
光ファイバ14の直径が一定になるようにキャプスタン
32を制御し、キャプスタン32は、未被覆光ファイバ
14の線引力の強弱を調節すべく回転制御される。
【0037】外径測定部16を経た未被覆光ファイバ1
4は、99.9%の高純度のアルミニウム44を660
〜690℃で溶融させてある金属被覆部18を通過さ
せ、被覆処理する。このアルミニウム被覆処理における
アルミニウムの被覆厚は、アルミニウム44の溶融温度
と未被覆光ファイバ14の線引速度により決定(制御)
される。
【0038】金属被覆部18を通過する未被覆光ファイ
バ14の表面温度は例えば25℃の常温で、金属被覆部
18内の溶融アルミニウム44の温度は660℃以上の
高温であるので、未被覆光ファイバ14の表面が溶融ア
ルミニウム44と接触すると、その温度差により未被覆
光ファイバ14の周囲の溶融アルミニウム44が瞬間的
に固化して未被覆光ファイバ14の表面が被覆される。
このときに、未被覆光ファイバ14と溶融アルミニウム
44との接触時間が長くなると未被覆光ファイバ14の
表面温度は溶融アルミニウム44からの熱伝達により再
上昇し、未被覆光ファイバ14の周囲に固化し付着する
アルミニウム44の体積が徐々に減少するので、アルミ
ニウム44の被覆厚も減少することになる。従って、好
ましくは、溶融アルミニウム44と未被覆光ファイバ1
4の接触時間は0.001〜0.1秒の間に設定してお
くとよい。
【0039】被覆処理の終わったアルミニウム被覆光フ
ァイバ30は冷却部26でゆっくり冷却し、キャプスタ
ン32の線引力により引張ってスプール34で巻き取
る。
【0040】この製造方法によるアルミニウム被覆光フ
ァイバ30は、図3Cに示すように、光を伝送する中心
のコア36の周りにコア36よりも屈折率の低いクラッ
ド38をもち、そしてクラッド38の周囲に、水分浸透
を防止して光ファイバの強度を向上させる導電性金属の
アルミニウム44が一例として22μmの厚さで被覆さ
れたものとなる。このアルミニウム44は、単一モード
光ファイバ、分散移動光ファイバ、多重モード光ファイ
バ、エルビウム添加光ファイバ、分散補償光ファイバ、
偏光維持光ファイバに被覆可能である。
【0041】このアルミニウム被覆光ファイバによれ
ば、光ファイバ表面に被覆したアルミニウムで水分浸透
をシャットアウトすることができ、より長期間、光ファ
イバの強度を保つことができる。また、200℃以上の
高温でも光ファイバに損傷を与えずに使用でき、引張や
曲げ強度も向上する。更に、被覆してあるアルミニウム
を介して電気信号も流すことが可能になるので経済的で
ある。
【0042】
【発明の効果】本発明による金属被覆光ファイバによれ
ば、ファイバ表面に被覆した金属で水分浸透を確実にシ
ャットアウトすることができ、光ファイバの強度低下が
防止され信頼性が高まる。また、かなりの高温でも光フ
ァイバに損傷を与えずに使用でき、引張強度や曲げ強度
が向上するので、品質が向上し信頼性が高くなる。加え
て、金属で被覆してあるので、光ファイバ固定先の金属
パネルに対し直接溶接することも可能である。
【図面の簡単な説明】
【図1】従来の樹脂被覆光ファイバを製造する線引装置
の概略図。
【図2】本発明による金属被覆光ファイバを製造する線
引装置の概略図。
【図3】分図Aは銅被覆光ファイバの断面図、分図Bは
錫被覆光ファイバの断面図、分図Cはアルミニウム被覆
光ファイバの断面図。
【符号の説明】
10 光ファイバ母材 12 溶融炉 14 未被覆光ファイバ 16 外径測定部 18 金属被覆部 20 熱電対 22 温度制御器 24 X−Yテーブル 26 冷却部 28 冷却用気体供給手段 30 金属被覆光ファイバ 32 キャプスタン 34 スプール
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ブイ.エー.ボガティリョフ ロシア 117942 モスクワ バビロフスト リート 38

Claims (22)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 光ファイバ母材を溶融させる溶融炉と、
    前記光ファイバ母材から引出された未被覆光ファイバの
    径を測定する外径測定部と、この径測定後の未被覆光フ
    ァイバに金属の被覆処理を施す金属被覆部と、この被覆
    後の金属被覆光ファイバを冷却する冷却部と、前記外径
    測定部の測定結果に従って前記光ファイバ母材からのフ
    ァイバ線引を調整するキャプスタンと、前記金属被覆光
    ファイバを巻取るスプールと、を備えてなる光ファイバ
    の線引装置。
  2. 【請求項2】 金属被覆部内の金属溶融温度が熱電対に
    より測定され、この測定結果に基づき温度制御器が前記
    金属被覆部の内部温度を制御する請求項1記載の光ファ
    イバの線引装置。
  3. 【請求項3】 不活性気体を供給する冷却用気体供給手
    段が冷却部の下端部分に設けられる請求項1記載の光フ
    ァイバの線引装置。
  4. 【請求項4】 不活性気体がヘリウム、アルゴン又は窒
    素である請求項3記載の光ファイバの線引装置。
  5. 【請求項5】 未被覆光ファイバが金属被覆部へ至る前
    に常温まで冷却する冷却部を更に備える請求項1記載の
    光ファイバの線引装置。
  6. 【請求項6】 金属被覆部は、その中心部を未被覆光フ
    ァイバが正確に整列して通るように位置制御するテーブ
    ル上に設置される請求項1記載の光ファイバの線引装
    置。
  7. 【請求項7】 コアの周囲に屈折率の異なるクラッドを
    形成したシリカ系の光ファイバにおいて、前記クラッド
    の周囲に金属の被覆層を設けたことを特徴とする光ファ
    イバ。
  8. 【請求項8】 金属被覆層の厚さが5〜50μmである
    請求項7記載の光ファイバ。
  9. 【請求項9】 光ファイバが、単一モード光ファイバ、
    分散移動光ファイバ、多重モード光ファイバ、エルビウ
    ム添加光ファイバ、分散補償光ファイバ又は偏光維持光
    ファイバのいずれかである請求項7記載の光ファイバ。
  10. 【請求項10】 金属が銅である請求項7〜9のいずれ
    か1項に記載の光ファイバ。
  11. 【請求項11】 金属が錫である請求項7〜9のいずれ
    か1項に記載の光ファイバ。
  12. 【請求項12】 金属がアルミニウムである請求項7〜
    9のいずれか1項に記載の光ファイバ。
  13. 【請求項13】 シリカ系の光ファイバの製造方法にお
    いて、光ファイバ母材を溶融させつつ未被覆光ファイバ
    を引出す過程と、引出された未被覆光ファイバの径が一
    定となるように線引力を制御する過程と、引出された未
    被覆光ファイバに金属の被覆処理を施す過程と、この被
    覆処理後の金属被覆光ファイバを冷却する過程と、を実
    施することを特徴とする光ファイバの製造方法。
  14. 【請求項14】 引出された未被覆光ファイバを、溶融
    させた金属に通して被覆処理を施す請求項13記載の光
    ファイバの製造方法。
  15. 【請求項15】 未被覆光ファイバに被覆される金属の
    被覆厚は、該金属の溶融温度と光ファイバの線引速度に
    より制御する請求項14記載の光ファイバの製造方法。
  16. 【請求項16】 未被覆光ファイバを溶融金属に接触さ
    せる時間が0.001〜0.1秒である請求項15記載
    の光ファイバの製造方法。
  17. 【請求項17】 金属が銅である請求項14〜16記載
    の光ファイバの製造方法。
  18. 【請求項18】 未被覆光ファイバを接触させる銅の溶
    融温度が1083〜1110℃である請求項17記載の
    光ファイバの製造方法。
  19. 【請求項19】 金属が錫である請求項14〜16記載
    の光ファイバの製造方法。
  20. 【請求項20】 未被覆光ファイバを接触させる錫の溶
    融温度が231〜260℃である請求項19記載の光フ
    ァイバの製造方法。
  21. 【請求項21】 金属がアルミニウムである請求項14
    〜16記載の光ファイバの製造方法。
  22. 【請求項22】 未被覆光ファイバを接触させるアルミ
    ニウムの溶融温度が660〜690℃である請求項21
    記載の光ファイバの製造方法。
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