JPH10112086A - エンボス付き光カード - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 透明基板に光記録とエンボス加工の両立が可
能で、透明基板にエンボス加工を施してもカードの反り
が小さいエンボス付き光カードを提供する。 【解決手段】 透明基板２上に光記録層３を担持し、該
光記録層３の上に接着剤４を介して保護部材５を積層し
てなり、光記録層３を含む光記録領域１０と、エンボス
情報１１を有するエンボス記録領域９を備えてなり、透
明基板２の厚みは、光記録領域１０とエンボス記録領域
９とで異なっているエンボス付き光カード。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、エンボス付きカー
ド状情報記録媒体に関し、特に該カード状情報記録媒体
が、光学的に情報の記録／再生を行う光メモリ−媒体
と、エンボス情報、例えばＪＩＳ ６３０１で規格化さ
れたエンボス情報を有する、エンボス付き光カードに関
するものである。

【０００２】

【従来の技術】携帯性に優れた、カード状の情報記録媒
体は、身分証明書としてのＩＤカードとして非常に多く
使用されている。しかも、これらのカードに記録される
情報は、年々、その内容が複雑多岐に渡り、高度な情報
処理とセキュリティの高い情報を取り扱う傾向にある。

【０００３】これまで、カード状情報記録媒体として
は、エンボスカード、磁気カード、ＩＣカード、光カー
ドが提案・実用化されている。特に、光カードは記録容
量が大きいことからプリペイドカード、クレジットカー
ド、バンクカード等の金融カードへの適用が考えられて
いる。

【０００４】ところで、光カードをこのような金融カー
ドシステムに応用しようとした場合、従来のシステムに
対する互換性を持たせることが、光カードを普及させる
うえで重要と考えられる。即ち、光カードに、磁気スト
ライプとエンボス文字の設置が金融カードへの適用にお
いては必要であると考えれる。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】図４は従来の光カード
を示す概略断面図であるが、従来の光カードの、一般的
な構成は、同図４で示される様に、光記録層３を担持す
る凹凸状のプリフォーマット６を有する透明基板２が、
該光記録層３を挟む様にして保護部材５と接着剤４を介
して積層されている。光記録層３に記録・再生を行う光
ビームが入射する透明基板２は、その光路長が、規格
（ＩＳＯ／ＩＥＣ １１６９４−３）で決められた、
１．０３６〜１．４３１ｍｍと成るように透明基板の材
質（屈折率）と板厚で調整され、その表面には、耐擦性
を向上する硬膜処理によるハードコート層７が被覆され
ている。

【０００６】光カードは、光ビームにより情報の記録・
再生を行うカードであるから、この約０．４０ｍｍ厚の
透明基板２の存在が、光カードに必須な特徴で、該透明
基板は記録情報の記録・再生時の信号を損なう光学的に
歪みやヘイズが無く、透過率の高い事が要求される。

【０００７】これらを満足する透明基板の材料として
は、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレ
ン樹脂、ポリオレフィン樹脂、ＴＰＸ樹脂、エポキシ樹
脂、ＣＲ−３９などがあり、一般に、上市されて入手可
能な光カードは該透明基板として、アクリル樹脂、ポリ
カーボネート樹脂が使用されている。

【０００８】光カードの実際の使用に際しては、アプリ
ケーション毎にそのアプリケーションに対応した、可視
情報の表示が必要となる。例えば、そのアプリケーショ
ンの説明、使用法、イメージデザインや、カード所有者
のセキュリティを確保する為の、個人情報、例えば、顔
写真やＩＤ番号、サインパネルなどであり、これらの可
視情報は、可視情報表示層８として、光カードの光記録
面と反対、即ち、保護部材５の外側に設けられるのが一
般的である。

【０００９】一方、エンボス情報は、「ＪＩＳ Ｘ ６
３０１：磁気ストライプ付きクレジットカード」に準拠
するもので、カードの凹凸変化によって凸部で構成され
る文字、符号、記号を組み合わせて、カードにＩＤ情報
を形成するものである。又、該エンボス文字は、ＯＣＲ
−ＡサイズＩＶ、ＯＣＲ−ＢサイズＩＶ、７Ｂ字体など
の様に、予め決められた文字パターン（凹凸変形の形状
と大きさ）を与えるエンボッサによって加工、形成され
るのが一般的な方法である。

【００１０】しかしながら、該エンボッサは、カード基
板として、塩化ビニル重合体、塩化ビニル・酢酸ビニル
共重合体又は、これらと同等以上の特性をもつ材料で作
られたシートを積層し、一体化した基板を対象としたも
のであり、これら以外の材質、例えば、光カードの透明
基板を構成する材質では、該エンボッサによって、規格
の凹凸変形を得ることが出来ないと言う問題点があっ
た。

【００１１】例えば、透明基板として、アクリル樹脂を
使用した光カードの場合には、カード基板を加熱しない
限り、アクリル樹脂が割れて、そのエンボス加工は不可
能であり、又、ポリカーボネート樹脂を使用した場合に
は、基板が変形して、反りが大きくなったり、エンボス
文字の変形が不十分で、規格を満足するエンボス文字は
得る事が出来ない。

【００１２】しかも、該エンボス加工は、既存のエンボ
ッサで可能である事が、従来のアプリケーションと共用
する上で必須である。

【００１３】従って、本発明の目的は、エンボス付き光
カードに於いて、透明基板にエンボス加工を施してもカ
ードの反りやエンボス文字の変形が小さいエンボス付き
光カードを提供するものである。

【００１４】また、本発明の他の目的は、エンボス加工
が従来のエンボッサで可能であり、既存のアプリケーシ
ョンとの共用が可能であり、エンボス加工を低コスト
で、生産性良く行なうことを可能とする事である。さら
に、本発明の他の目的は、透明基板としてポリカーボネ
ート樹脂を用いた光カードに、エンボス加工を可能とす
る事である。

【００１５】

【課題を解決するための手段】即ち、本発明は、透明基
板上に、光記録層および保護部材をこの順序で設け、該
光記録層を有する光記録領域とエンボス情報を有するエ
ンボス記録領域を備えたエンボス付き光カードに於い
て、該透明基板の厚みが、光記録領域とエンボス記録領
域とで異なることを特徴とするエンボス付き光カードで
ある。

【００１６】本発明においては、保護部材が透明基板と
異なる材質からなるのが好ましい。また、前記保護部材
がポリ塩化ビニル樹脂からなり、前記透明基板がポリカ
ーボネート樹脂からなるエンボス付き光カードが好まし
い。

【００１７】

【発明の実施の形態】図１は本発明のエンボス付き光カ
ードの一例を示す平面図、図２は図１のＡＡ線断面図で
ある。本発明のエンボス付き光カードの構成は、同図で
示される様に、凹凸状のプリフォーマット６を有する透
明基板２上に光記録層３を担持し、該光記録層３の上に
接着剤４を介して保護部材５を積層してなり、光記録層
３を含む光記録領域１０と、エンボス情報１１を有する
エンボス記録領域９を備えてなるものである。透明基板
２の厚みは、光記録領域１０とエンボス記録領域９とで
異なっており、光記録領域１０の厚みがエンボス記録領
域９の厚みよりも厚くなっている。また、保護部材５の
厚みは、透明基板２とは反対に、光記録領域１０の厚み
がエンボス記録領域９の厚みよりも薄くなっている。記
録・再生を行う光ビームは透明基板２側から入射し、光
記録領域１０の光記録層３で情報の記録・再生を行う。

【００１８】図３は本発明のエンボス付き光カードの他
の例を示す断面図である。同図においては、透明基板２
の厚みは、光記録領域１０の厚みがエンボス記録領域９
の厚みよりも厚く、また保護部材５の厚みは、光記録領
域１０とエンボス記録領域９で同一の厚みのエンボス付
き光カードを示す。

【００１９】本発明は、エンボス付き光カードにおい
て、光カードの透明基板の厚みが、光記録層を有する光
記録領域とエンボス情報を有するエンボス記録領域とで
異なる事を特徴とするものである。

【００２０】エンボス情報は、「ＪＩＳ Ｘ ６３０
１：磁気ストライプ付きクレジットカード」に準拠する
もので、カードの凹凸変化によって凸部で構成される文
字、符号、記号を組み合わせて、カードにＩＤ情報を形
成するものである。又、該エンボス文字は、ＯＣＲ−Ａ
サイズＩＶ、ＯＣＲ−ＢサイズＩＶ、７Ｂ字体などの様
に、予め決められた文字パターン（凹凸変形の形状と大
きさ）を与えるエンボッサによって加工、形成される。

【００２１】透明基板として、ポリカーボネート樹脂基
板を使用した光カードは、エンボス加工によって、エン
ボス情報、例えばエンボス文字の凸側に、大きな“反
り”が生じる。カードの“反り”に関しては、前述のＪ
ＩＳ Ｘ ６３０１によって２ｍｍ以下である事が規定
されており、エンボス付き光カードもこの値に準拠しな
ければならない。

【００２２】本発明は、該エンボス付き光カードの透明
基板の材質及び形状について、種々組み合わせて検討し
た結果、透明基板の厚みが、光記録領域とエンボス記録
領域で、光記録領域：エンボス記録領域＝１：０．２〜
０．９、好ましくは１：０．３〜０．７の範囲が好まし
い。

【００２３】例えば、透明基板の材質としては、ポリカ
ーボネート樹脂では、形状としては、厚みが、光記録領
域で０．４ｍｍ、エンボス記録領域で０．１５〜０．２
７ｍｍの組み合わせが、最も好ましい。

【００２４】これは、上記構成を取る事に依って、従来
のエンボッサでのエンボス加工を施しても、透明基板で
の残留応力を緩和して、エンボス付き光カードの“反
り”を規格内に納めることができる。

【００２５】本発明において、透明基板の材料として
は、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリオ
レフィン樹脂、ＴＰＸ樹脂、エポキシ樹脂、ＣＲ−３９
などが挙げられるが、それ等の中でポリカーボネート樹
脂が好ましい。

【００２６】透明基板２に凹凸状のプリフォーマット６
を形成する方法には、予め設計作製された“型”や、
“スタンパー”を用いて、インジェクション法、コンプ
レッション法、注型法等によって基板の成形と同時に形
成する方法や、平らな基板の表面に微細なパターンを刻
設（エッチング、彫刻ｅｔｃ）したり、２Ｐ樹脂を使っ
た２Ｐ法などの方法で、２次的に加工する方法がある。

【００２７】光記録層３は、記録光ビームの照射によっ
て、再生光ビームで検出される変化（光学常数などの）
が生じる媒体で、少ないエネルギ（記録光パワー）で、
最大効果（再生光での出力変化が大きい）が得られる、
高感度の媒体が要求されている。即ち、媒体としては、
記録光の波長に対して、大きい“吸収率”と、再生光の
波長に対して、高い“反射率”とを持つ事である。

【００２８】これらを実現する光記録層３としては、従
来の光ディスクメモリーや、光記録媒体として知られて
いるものが好ましく使用することができる。例えば、Ｔ
ｅ、Ｂｉ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｉｎなどの低融点金属及びその
合金、ＴｅＯｘ化合物による“相変化”媒体、シニアン
系、スクワリウム系、フタロシアニン系、ナフトキノン
系、テトラヒドロコリン系、メチン系等の染・顔料、ベ
ンゼンジチオールニッケル錯体などの有機金属錯体の類
などである。

【００２９】保護部材５は、光記録層３を機械的、物理
的に保護するだけで無く、化学的にも環境から光記録層
３を保護し、耐久安定性を確保して、光カードの媒体と
しての信頼性を保証するものである。

【００３０】該保護部材５としては、紙、プラスチッ
ク、金属、セラミックス、ガラス板、及び、これらの複
合材、エンボス適性の良い材料など、その目的に応じて
使用する事が出来る。特に、ポリ塩化ビニル樹脂が好ま
しい。

【００３１】

【実施例】以下に実施例および比較例を挙げて本発明を
具体的に説明する。

【００３２】実施例１〜２および比較例１〜２ 光カード用透明基板２として、図１および図２に示すよ
うに、表面に光カード用の凹凸プリフォーマットパター
ンを予め設けた１００ｍｍ×１００のポリカーボネート
性透明基板を用意し、基板の非パターン面上に紫外線硬
化樹脂ユニディック（大日本インキ社製）を５μｍの膜
厚にスピンコートし、紫外線ランプ（パワー８０Ｗ／ｃ
ｍ）を照射して硬化処理により、ハードコート層７を設
けた。

【００３３】図１のエンボス付き光カード（たて８５．
６ｍｍ×よこ５４ｍｍ）は、カードの上から１９．４０
ｍｍまでが光記録領域で、下から２４．００ｍｍがエン
ボス記録領域であり、光記録領域には、その表面に凹凸
状プリフォーマットが予め設けられている。ポリカーボ
ネート性透明基板の厚みは光記録領域は０．４０ｍｍ
に、エンボス記録領域は表１に示す様な０．１ｍｍ〜
０．４０ｍｍの実施例１，２、比較例１，２の４種類の
基板を用意した。比較例２は基板の厚みを均一の０．４
０ｍｍとした。

【００３４】次に、ポリカーボネート性透明基板の光記
録領域の凹凸プリフォーマット面側にポリメチン系有機
色素ＩＲ−８２０（日本化薬（株）製）３重量％のジア
セトンアルコール溶液をグラビア塗布で図１中の光記録
領域１０に相当する部分に部分塗布、乾燥して光記録層
３を設けた。

【００３５】一方、保護部材５として、１００ｍｍ×１
００ｍｍ、光記録領域の厚さ０．３０ｍｍ、エンボス記
録領域は表１に示す様な０．３０ｍｍ〜０．６０ｍｍの
ポリ塩化ビニル基板を用意し、該光記録層３の上に接着
剤４としてホットメルトＥＥＡ系接着剤（品名：クラン
ベターＰ−２２００、倉敷紡績（株）製、厚み３０μ
ｍ）を１２０℃でロールラミネートする事により、接合
一体化した。

【００３６】これを８５．６ｍｍ×５４ｍｍのカードサ
イズに打ち抜き切断し、エンボス付き光カードを得た。
得られたエンボス領域を有する光カードに、非光記録面
側からエンボッサでエンボスを施したところ、エンボス
の転写も規格を満足し、また、エンボスによるカードの
反りは０．５ｍｍ以内であった。一方、光記録層は、熱
変形しやすい接着剤を用いているため、記録感度の低下
を妨げることもなかった。

【００３７】評 価 得られたエンボス付き光カードのエンボス記録領域に、
非光記録面側からエンボッサ（Ｅｍｂｏｓｓｅｒ ＮＥ
−１６００：日本字研社（株）製）でエンボス加工して
エンボスされたエンボス文字の形状、及びカードの状態
を評価した。その結果を下記の表１に示す。

【００３８】

【表１】

【００３９】（注） （１）エンボス文字の形状 ◎：忠実に転写している ○：忠実に転写しているが、文字の周囲がやや歪む △：忠実に転写しているが、文字の周囲がかなり歪む ×：忠実に転写していない （２）総合評価 ◎：外観上、使用上とも一般の塩ビ製カードと同等 ○：外観上一般の塩ビ製カードよりはやや劣るが使用上
問題ない △：外観上一般の塩ビ製カードより劣り、光記録の録再
に支障がある ×：使用不可

【００４０】表１の結果より、カードの“反り”は、透
明基板のエンボス記録領域の厚みが、０．２７ｍｍ以下
で“反り”量が規格；２ｍｍ以下を満足するが、透明基
板のエンボス記録領域の厚みが０．１０ｍｍ以下では、
エンボス文字の形状でひび割れが目立ち、総合的には好
ましくない。従って、透明基板のエンボス記録領域の厚
みは、光記録領域の厚み０．４０ｍｍに対して、０．１
５ｍｍ〜０．２７ｍｍが規格を満足する結果となる。

【００４１】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
エンボス付き光カードに於いて、透明基板の光記録領域
とエンボス記録領域の厚みを変える事により、 透明基板に光記録とエンボス加工の両立が可能で、
透明基板にエンボス加工を施してもカードの反りが小さ
いエンボス付き光カードの提供を可能とする。 エンボス加工が従来のエンボッサで可能である。こ
の事は、既存のアプリケーションとの共用を可能とす
る。 エンボス加工が低コストで、生産性良く可能となっ
た。 エンボス加工がポリカーボネート樹脂を用いた透明
基板に可能となった。等の効果が得られる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のエンボス付き光カードの一例を示す平
面図である。

【図２】図１のＡＡ線断面図である。

【図３】本発明のエンボス付き光カードの他の例を示す
断面図である。

【図４】従来の光カードを示す概略断面図である。

【符号の説明】

１ エンボス付き光カード ２ 透明基板 ３ 光記録層 ４ 接着剤 ５ 保護部材 ６ 凹凸状のプリフォーマット ７ ハードコート層 ８ 可視情報表示層 ９ エンボス記録領域 １０ 光記録領域 １１ エンボス情報

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 透明基板上に、光記録層および保護部材
   をこの順序で設け、該光記録層を有する光記録領域とエ
   ンボス情報を有するエンボス記録領域を備えたエンボス
   付き光カードに於いて、該透明基板の厚みが、光記録領
   域とエンボス記録領域とで異なることを特徴とするエン
   ボス付き光カード。
2. 【請求項２】 前記保護部材が透明基板と異なる材質か
   らなる請求項１記載のエンボス付き光カード。
3. 【請求項３】 前記保護部材がポリ塩化ビニル樹脂から
   なる請求項１記載のエンボス付き光カード。
4. 【請求項４】 前記透明基板がポリカーボネート樹脂か
   らなる請求項１記載のエンボス付き光カード。