JPH10110111A - 表面処理顔料およびその製造方法 - Google Patents
表面処理顔料およびその製造方法Info
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- JPH10110111A JPH10110111A JP26571796A JP26571796A JPH10110111A JP H10110111 A JPH10110111 A JP H10110111A JP 26571796 A JP26571796 A JP 26571796A JP 26571796 A JP26571796 A JP 26571796A JP H10110111 A JPH10110111 A JP H10110111A
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09C—TREATMENT OF INORGANIC MATERIALS, OTHER THAN FIBROUS FILLERS, TO ENHANCE THEIR PIGMENTING OR FILLING PROPERTIES ; PREPARATION OF CARBON BLACK ; PREPARATION OF INORGANIC MATERIALS WHICH ARE NO SINGLE CHEMICAL COMPOUNDS AND WHICH ARE MAINLY USED AS PIGMENTS OR FILLERS
- C09C3/00—Treatment in general of inorganic materials, other than fibrous fillers, to enhance their pigmenting or filling properties
- C09C3/06—Treatment with inorganic compounds
Abstract
(57)【要約】
【課題】水や有機溶剤に対する初期分散性、長期分散性
に優れ、顔料粒子の凝集を起こしずらい優れた顔料を提
供することにあり、また分散性向上のための顔料表面の
親水化処理方法を提供する。 【解決手段】スルホン化反応溶剤中で、有機顔料の凝集
粒子を粉砕機または分散機で微分散させながら、有機顔
料の粒子表面にスルホン化剤によりスルホン酸基を導入
する表面処理顔料の製造方法。粉砕機または分散機によ
る微分散がせん断応力またはメディアによる衝撃力であ
る表面処理顔料の製造方法。
に優れ、顔料粒子の凝集を起こしずらい優れた顔料を提
供することにあり、また分散性向上のための顔料表面の
親水化処理方法を提供する。 【解決手段】スルホン化反応溶剤中で、有機顔料の凝集
粒子を粉砕機または分散機で微分散させながら、有機顔
料の粒子表面にスルホン化剤によりスルホン酸基を導入
する表面処理顔料の製造方法。粉砕機または分散機によ
る微分散がせん断応力またはメディアによる衝撃力であ
る表面処理顔料の製造方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、表面処理された顔
料および、表面処理顔料の製造方法に関する。
料および、表面処理顔料の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】顔料は通常有機溶剤や水などの溶剤に対
し不溶であるため、インキ、塗料、プラスチックの着色
剤、液体現像剤などの着色用の画像形成材料に用いる場
合、用途によって有機溶剤や水に分散させて用いること
が多い。特に最近は環境問題や人体への影響から水性化
への要望が強く、水分散の安定性が必要とされている。
従来、顔料を水中に分散させるため界面活性剤や分散
剤、分散樹脂を用いて顔料表面を修飾して水性インキや
水性塗料としている。しかしながら、大抵の有機顔料は
親油性で、水性のビヒクルと分散状態を保持させるた
め、分散剤や界面活性剤を各顔料ごとに選択し、分散条
件を変えたり、前分散が必要であったりと、分散が容易
ではないという問題がある。また、インクジェットの顔
料型インキの場合、分散したインキがノズル部分で凝集
し再分散が困難であったり、塗料においては凝集による
顔料粒子の沈降などの現象が問題となっている。
し不溶であるため、インキ、塗料、プラスチックの着色
剤、液体現像剤などの着色用の画像形成材料に用いる場
合、用途によって有機溶剤や水に分散させて用いること
が多い。特に最近は環境問題や人体への影響から水性化
への要望が強く、水分散の安定性が必要とされている。
従来、顔料を水中に分散させるため界面活性剤や分散
剤、分散樹脂を用いて顔料表面を修飾して水性インキや
水性塗料としている。しかしながら、大抵の有機顔料は
親油性で、水性のビヒクルと分散状態を保持させるた
め、分散剤や界面活性剤を各顔料ごとに選択し、分散条
件を変えたり、前分散が必要であったりと、分散が容易
ではないという問題がある。また、インクジェットの顔
料型インキの場合、分散したインキがノズル部分で凝集
し再分散が困難であったり、塗料においては凝集による
顔料粒子の沈降などの現象が問題となっている。
【０００３】そのため、分散安定性を改良するために種
々の試みがなされており、その一つとして有機顔料の親
水化の改良がある。有機顔料の一分子ごとに、化学的に
親水基を導入し、親水化することで親水性ビヒクルとの
相溶性を向上させ、分散安定性を上げる方法は既に提案
されている。しかしながら、この場合導入された親水基
の数が多いと処理された有機顔料が水溶性染料となり、
画像形成時に被転写物上での耐水性や耐候性が劣るなど
の現象が生じ、インキとしての性能面で問題がある。ま
た、導入された親水基の数が少ない場合、分散安定に要
する効果が著しく低下する。このように、分子内に親水
基を導入する方法では、導入親水基の制御が難しく、親
水化と堅牢性を両立させる事は極めて困難である。
々の試みがなされており、その一つとして有機顔料の親
水化の改良がある。有機顔料の一分子ごとに、化学的に
親水基を導入し、親水化することで親水性ビヒクルとの
相溶性を向上させ、分散安定性を上げる方法は既に提案
されている。しかしながら、この場合導入された親水基
の数が多いと処理された有機顔料が水溶性染料となり、
画像形成時に被転写物上での耐水性や耐候性が劣るなど
の現象が生じ、インキとしての性能面で問題がある。ま
た、導入された親水基の数が少ない場合、分散安定に要
する効果が著しく低下する。このように、分子内に親水
基を導入する方法では、導入親水基の制御が難しく、親
水化と堅牢性を両立させる事は極めて困難である。
【０００４】一方、フッ素ガスを用いた顔料表面の処理
法が考案されている（化学、４６巻、９号、１９９
１）。本方法では粒子表面がフッ素ガスによって炭素粒
子表面がイオン化することにより親水化され、分散性に
優れた炭素が得られることが挙げられている。しかしな
がら、炭素粒子表面のイオン化は、粉体状態での保存中
の性能安定性に問題が有り、分散系中のｐＨや温度変化
に対して不安定であるという欠点を有している。上記手
法以外にも種々の処理方法が検討されており、大きく気
相処理と液相処理に分けることができる。気相処理とし
てはオゾン処理やプラズマ処理が代表的であり、どちら
のも処理方法も、処理中系内の被処理顔料を攪拌するこ
とで均一な処理が図られているが、粒子の凝集や造粒に
よって均一処理が不十分であったり、凝集粒子内部の粒
子表面への処理が困難であるなどの課題がある。
法が考案されている（化学、４６巻、９号、１９９
１）。本方法では粒子表面がフッ素ガスによって炭素粒
子表面がイオン化することにより親水化され、分散性に
優れた炭素が得られることが挙げられている。しかしな
がら、炭素粒子表面のイオン化は、粉体状態での保存中
の性能安定性に問題が有り、分散系中のｐＨや温度変化
に対して不安定であるという欠点を有している。上記手
法以外にも種々の処理方法が検討されており、大きく気
相処理と液相処理に分けることができる。気相処理とし
てはオゾン処理やプラズマ処理が代表的であり、どちら
のも処理方法も、処理中系内の被処理顔料を攪拌するこ
とで均一な処理が図られているが、粒子の凝集や造粒に
よって均一処理が不十分であったり、凝集粒子内部の粒
子表面への処理が困難であるなどの課題がある。
【０００５】一方液相処理においては、従来の有機反応
同様に、反応槽において処理された場合（特願平０７−
８９１１９）、反応系の攪拌部が半月羽根、タービン羽
根、碇羽根などの攪拌では槽内での反応は均一に進むも
のの、気相処理と同様凝集粒子の内部の粒子表面まで表
面処理することが困難である。また、凝集粒子表面での
表面処理効果が十分であっても、処理顔料を着色剤やイ
ンキ、塗料などとして使用する際に凝集粒子を微細化し
た場合、粉砕した微細粒子表面では十分な分散安定効果
が得られにくいといった問題があり、顔料粒子表面処理
方法のさらなる改善が必要とされていた。
同様に、反応槽において処理された場合（特願平０７−
８９１１９）、反応系の攪拌部が半月羽根、タービン羽
根、碇羽根などの攪拌では槽内での反応は均一に進むも
のの、気相処理と同様凝集粒子の内部の粒子表面まで表
面処理することが困難である。また、凝集粒子表面での
表面処理効果が十分であっても、処理顔料を着色剤やイ
ンキ、塗料などとして使用する際に凝集粒子を微細化し
た場合、粉砕した微細粒子表面では十分な分散安定効果
が得られにくいといった問題があり、顔料粒子表面処理
方法のさらなる改善が必要とされていた。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、水や有機溶
剤に対する初期分散性、長期分散性に優れ、顔料粒子の
凝集を起こしずらい優れた顔料を提供することにあり、
また分散性向上のための顔料表面の親水化処理方法を提
供するものである。
剤に対する初期分散性、長期分散性に優れ、顔料粒子の
凝集を起こしずらい優れた顔料を提供することにあり、
また分散性向上のための顔料表面の親水化処理方法を提
供するものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】すなわち、本発明によれ
ば以下の表面処理有機顔料およびその製造方法が提供さ
れる。 （１）スルホン化反応溶剤中で、有機顔料の凝集粒子を
粉砕機または分散機で微分散させながら、有機顔料の粒
子表面にスルホン化剤によりスルホン酸基を導入するこ
とを特徴とする表面処理顔料の製造方法。 （２）粉砕機または分散機による微分散がせん断応力ま
たはメディアによる衝撃力である（１）に記載の表面処
理顔料の製造方法。 （３）スルホン化剤がスルホン化ピリジン塩またはスル
ファミン酸である（１）または（２）に記載の表面処理
顔料の製造方法。 （４）スルホン化反応溶剤が、三酸化硫黄と錯体を形成
する塩基性溶剤である（１）ないし（３）いずれかに記
載の表面処理顔料の製造方法。 （５）スルホン化反応溶剤が、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルム
アミド、ジオキサン、ピリジン、トリエチルアミン、ト
リメチルアミン、ニトロメタン、アセトニトリル、トリ
クロロフルオロメタンの１種ないしは２種以上である
（４）に記載の表面処理顔料の製造方法。 （６）スルホン化反応溶剤がスルホランまたはＮ−メチ
ル−２−ピロリドンである（１）ないし（３）いずれか
記載の表面処理顔料の製造方法。 （７）（１）ないし（６）いずれかに記載の方法により
製造された表面処理顔料。
ば以下の表面処理有機顔料およびその製造方法が提供さ
れる。 （１）スルホン化反応溶剤中で、有機顔料の凝集粒子を
粉砕機または分散機で微分散させながら、有機顔料の粒
子表面にスルホン化剤によりスルホン酸基を導入するこ
とを特徴とする表面処理顔料の製造方法。 （２）粉砕機または分散機による微分散がせん断応力ま
たはメディアによる衝撃力である（１）に記載の表面処
理顔料の製造方法。 （３）スルホン化剤がスルホン化ピリジン塩またはスル
ファミン酸である（１）または（２）に記載の表面処理
顔料の製造方法。 （４）スルホン化反応溶剤が、三酸化硫黄と錯体を形成
する塩基性溶剤である（１）ないし（３）いずれかに記
載の表面処理顔料の製造方法。 （５）スルホン化反応溶剤が、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルム
アミド、ジオキサン、ピリジン、トリエチルアミン、ト
リメチルアミン、ニトロメタン、アセトニトリル、トリ
クロロフルオロメタンの１種ないしは２種以上である
（４）に記載の表面処理顔料の製造方法。 （６）スルホン化反応溶剤がスルホランまたはＮ−メチ
ル−２−ピロリドンである（１）ないし（３）いずれか
記載の表面処理顔料の製造方法。 （７）（１）ないし（６）いずれかに記載の方法により
製造された表面処理顔料。
【０００８】
【発明の実施の形態】本発明の表面処理顔料および顔料
表面処理方法に用いる有機顔料としては、特に限定はな
いが、例えば染料レーキ系、アゾ系、ベンズイミダゾロ
ン系、フタロシアニン系、キナクリドン系、アントラキ
ノン系、ジオキサジン系、インジゴ系、チオインジゴ
系、ペリレン系、ペリノン系、ジケトピロロピロール
系、アンスアンスロン系、イソインドリノン系、ニトロ
系、ニトロソ系、アンスラキノン系、フラバンスロン
系、キノフタロン系、ピランスロン系、インダンスロン
系などが挙げられる。また、使用する顔料粒子の粒径は
通常インキや塗料用として使用する顔料の粒径範囲と同
じであるが、好ましくは５０〜０．０１μｍ、特に好ま
しくは１０〜０．０５μｍである。
表面処理方法に用いる有機顔料としては、特に限定はな
いが、例えば染料レーキ系、アゾ系、ベンズイミダゾロ
ン系、フタロシアニン系、キナクリドン系、アントラキ
ノン系、ジオキサジン系、インジゴ系、チオインジゴ
系、ペリレン系、ペリノン系、ジケトピロロピロール
系、アンスアンスロン系、イソインドリノン系、ニトロ
系、ニトロソ系、アンスラキノン系、フラバンスロン
系、キノフタロン系、ピランスロン系、インダンスロン
系などが挙げられる。また、使用する顔料粒子の粒径は
通常インキや塗料用として使用する顔料の粒径範囲と同
じであるが、好ましくは５０〜０．０１μｍ、特に好ま
しくは１０〜０．０５μｍである。
【０００９】本発明における顔料表面処理方法として
は、反応系の分散溶剤がスルホン化剤と反応することな
く、顔料に対し不溶性または難溶性である溶剤を選択す
れば、通常の有機反応で行えるスルホン化反応が利用で
きる。スルホン化剤としては、硫酸、発煙硫酸、三酸化
硫黄、クロロ硫酸、フルオロ硫酸、アミド硫酸などが用
いられる。その他、三酸化硫黄自身では反応性が大きす
ぎて顔料自身を分解または変質させたり、あるいは強酸
による反応制御が困難な場合には、三酸化硫黄と第三ア
ミンとの錯体を用いてスルホン化を行うことができる
（新実験化学講座、１４巻、１７７３項、丸善）。ま
た、硫酸や発煙硫酸、クロロ硫酸、フルオロ硫酸などそ
のもの単体で使用すると容易に顔料が溶解し、一分子ご
とに反応する様な強酸に対しては、反応抑制のため溶剤
の種類や使用する量に関して留意する必要がある。反応
における溶剤の種類、反応温度、反応時間、スルホン化
剤の種類などは、顔料の種類や反応系ごとに異なるため
特定することはできないが、用いることのできる溶剤の
例としては、スルホラン、Ｎ−メチル−２−ピロリド
ン、ジメチルアセトアミド、キノリン、ヘキサメチルホ
スホリックトリアミド、クロロホルム、ジクロロエタ
ン、テトラクロロエタン、テトラクロロエチレン、ジク
ロロメタン、ニトロメタン、ニトロベンゼン、液体二酸
化硫黄、二硫化炭素、トリクロロフルオロメタンなどが
挙げられる。
は、反応系の分散溶剤がスルホン化剤と反応することな
く、顔料に対し不溶性または難溶性である溶剤を選択す
れば、通常の有機反応で行えるスルホン化反応が利用で
きる。スルホン化剤としては、硫酸、発煙硫酸、三酸化
硫黄、クロロ硫酸、フルオロ硫酸、アミド硫酸などが用
いられる。その他、三酸化硫黄自身では反応性が大きす
ぎて顔料自身を分解または変質させたり、あるいは強酸
による反応制御が困難な場合には、三酸化硫黄と第三ア
ミンとの錯体を用いてスルホン化を行うことができる
（新実験化学講座、１４巻、１７７３項、丸善）。ま
た、硫酸や発煙硫酸、クロロ硫酸、フルオロ硫酸などそ
のもの単体で使用すると容易に顔料が溶解し、一分子ご
とに反応する様な強酸に対しては、反応抑制のため溶剤
の種類や使用する量に関して留意する必要がある。反応
における溶剤の種類、反応温度、反応時間、スルホン化
剤の種類などは、顔料の種類や反応系ごとに異なるため
特定することはできないが、用いることのできる溶剤の
例としては、スルホラン、Ｎ−メチル−２−ピロリド
ン、ジメチルアセトアミド、キノリン、ヘキサメチルホ
スホリックトリアミド、クロロホルム、ジクロロエタ
ン、テトラクロロエタン、テトラクロロエチレン、ジク
ロロメタン、ニトロメタン、ニトロベンゼン、液体二酸
化硫黄、二硫化炭素、トリクロロフルオロメタンなどが
挙げられる。
【００１０】また、スルホン化剤として三酸化硫黄錯体
として用いて、反応溶剤が三酸化硫黄と錯体を形成する
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドやジオキサン、ピリジ
ン、トリエチルアミン、トリメチルアミンのような塩基
性溶剤またはニトロメタン、アセトニトリルは、スルホ
ン化剤と錯体形成するといった反応性であれば塩基性溶
剤単独または上記にある他の溶剤１種以上と併用するこ
とが可能である。具体的な反応例については実施例によ
り説明する。
として用いて、反応溶剤が三酸化硫黄と錯体を形成する
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドやジオキサン、ピリジ
ン、トリエチルアミン、トリメチルアミンのような塩基
性溶剤またはニトロメタン、アセトニトリルは、スルホ
ン化剤と錯体形成するといった反応性であれば塩基性溶
剤単独または上記にある他の溶剤１種以上と併用するこ
とが可能である。具体的な反応例については実施例によ
り説明する。
【００１１】本発明の顔料表面処理方法に用いる粉砕機
または分散機としては、公知の種々な粉砕機または分散
機を用いることができるが、顔料の凝集粒子を微分散で
きれば以下の具体例に特定されることはない。具体例と
しては、せん断応力により顔料粒子を微分散させる３本
ロールミル、２本ロールミルなどや、ガラスビーズ、ジ
ルコニアビーズ、メノー球などのメディアと顔料粒子と
の衝突による衝撃力により微分散させるボールミル、ア
トライター、サンドミル、コボールミル、バスケットミ
ル、振動ミル、ペイントコンディショナーなどや、せん
断応力、キャビテーション、衝突力、ポテンシャルコア
などを発生させるような回転羽根により微分散させるデ
ィスパーサー、ホモジナイザー、クレアミックス（Ｒ）
などや、顔料粒子同士または顔料粒子とビヒクルや壁面
の衝突力やせん断応力により微分散させるニーダー、エ
クストルーダー、ジェットミルなどや、超音波により微
分散させる超音波分散機などが適用可能である。本発明
の顔料表面処理方法ではスルホン化剤を使用するため、
いずれの粉砕機、分散機または必要ならば使用するメデ
ィアも耐酸性であることが望ましい。また３本ロールミ
ル、２本ロールミルは一般的には開放型であるため、使
用するに当たり、反応温度の制御または溶剤の揮発に依
る反応系の変化や引火、人体への影響に留意する必要が
ある。また密閉型の粉砕機または分散機を使用する際に
は、系内が溶剤の蒸気により充満するので、火気特に静
電気による爆発や圧力制御などに注意を払わねばならな
い。
または分散機としては、公知の種々な粉砕機または分散
機を用いることができるが、顔料の凝集粒子を微分散で
きれば以下の具体例に特定されることはない。具体例と
しては、せん断応力により顔料粒子を微分散させる３本
ロールミル、２本ロールミルなどや、ガラスビーズ、ジ
ルコニアビーズ、メノー球などのメディアと顔料粒子と
の衝突による衝撃力により微分散させるボールミル、ア
トライター、サンドミル、コボールミル、バスケットミ
ル、振動ミル、ペイントコンディショナーなどや、せん
断応力、キャビテーション、衝突力、ポテンシャルコア
などを発生させるような回転羽根により微分散させるデ
ィスパーサー、ホモジナイザー、クレアミックス（Ｒ）
などや、顔料粒子同士または顔料粒子とビヒクルや壁面
の衝突力やせん断応力により微分散させるニーダー、エ
クストルーダー、ジェットミルなどや、超音波により微
分散させる超音波分散機などが適用可能である。本発明
の顔料表面処理方法ではスルホン化剤を使用するため、
いずれの粉砕機、分散機または必要ならば使用するメデ
ィアも耐酸性であることが望ましい。また３本ロールミ
ル、２本ロールミルは一般的には開放型であるため、使
用するに当たり、反応温度の制御または溶剤の揮発に依
る反応系の変化や引火、人体への影響に留意する必要が
ある。また密閉型の粉砕機または分散機を使用する際に
は、系内が溶剤の蒸気により充満するので、火気特に静
電気による爆発や圧力制御などに注意を払わねばならな
い。
【００１２】本発明の顔料表面処理方法によって得られ
る表面処理顔料は、有機顔料表面の反応性官能基や芳香
族環と反応し、顔料粒子表面にスルホン酸基が結合する
ことにより、顔料がビヒクル、溶媒、との親和力を向上
させ優れた分散安定性を示すと考えられる。また、顔料
粒子表面にスルホン酸基を結合させることにより、処理
された有機顔料を一様に酸性化することができる。した
がって、従来塩基性顔料、酸性顔料によって適する分散
剤やビヒクルを変える必要性があったが、有機顔料の表
面性状をある程度合わせることで顔料表面のｐＨ値の範
囲を制御し、分散剤やビヒクルの構造を統一することが
可能となり、インキ作成時の処方化が容易になった。ま
た有機顔料の凝集粒子を粉砕機または分散機で微分散さ
せながら表面処理反応を行うことにより、従来凝集粒子
表面までしか反応効果が与えられなかったのに対し、さ
らに微分散された粒子表面にまで反応効果を与えること
ができるようになり、水や有機溶剤に対する分散性が向
上した。
る表面処理顔料は、有機顔料表面の反応性官能基や芳香
族環と反応し、顔料粒子表面にスルホン酸基が結合する
ことにより、顔料がビヒクル、溶媒、との親和力を向上
させ優れた分散安定性を示すと考えられる。また、顔料
粒子表面にスルホン酸基を結合させることにより、処理
された有機顔料を一様に酸性化することができる。した
がって、従来塩基性顔料、酸性顔料によって適する分散
剤やビヒクルを変える必要性があったが、有機顔料の表
面性状をある程度合わせることで顔料表面のｐＨ値の範
囲を制御し、分散剤やビヒクルの構造を統一することが
可能となり、インキ作成時の処方化が容易になった。ま
た有機顔料の凝集粒子を粉砕機または分散機で微分散さ
せながら表面処理反応を行うことにより、従来凝集粒子
表面までしか反応効果が与えられなかったのに対し、さ
らに微分散された粒子表面にまで反応効果を与えること
ができるようになり、水や有機溶剤に対する分散性が向
上した。
【００１３】本発明の表面処理有機顔料は、印刷イン
キ、塗料、化粧品、筆記用インキ、トナー、液体現像
剤、電子写真用材料、インクジェットなどの記録材料、
プラスチックなどの着色剤など広範囲の分野に利用が可
能である。
キ、塗料、化粧品、筆記用インキ、トナー、液体現像
剤、電子写真用材料、インクジェットなどの記録材料、
プラスチックなどの着色剤など広範囲の分野に利用が可
能である。
【００１４】
【実施例】以下、本発明を実施例に基づきさらに詳細に
説明するが、本発明の範囲はその要旨をこえない限り、
実施例に限定されるものではない。また、得られた表面
処理顔料の評価については下記の方法で行った。 分散安定性：調製したインキを５０℃で２ヶ月放置した
後のインキ中の沈澱物の状態を調べ、○△×で評価し
た。○は沈殿物なし、△は若干の沈殿物有り、×は沈殿
物多しを表す。また顔料粒子の粒度分布をレーザー粒径
解析装置（ＬＰＡ−３０００／３１００大塚電子株式会
社製）測定し、分散顔料粒子の平均粒径を調べた。
説明するが、本発明の範囲はその要旨をこえない限り、
実施例に限定されるものではない。また、得られた表面
処理顔料の評価については下記の方法で行った。 分散安定性：調製したインキを５０℃で２ヶ月放置した
後のインキ中の沈澱物の状態を調べ、○△×で評価し
た。○は沈殿物なし、△は若干の沈殿物有り、×は沈殿
物多しを表す。また顔料粒子の粒度分布をレーザー粒径
解析装置（ＬＰＡ−３０００／３１００大塚電子株式会
社製）測定し、分散顔料粒子の平均粒径を調べた。
【００１５】実施例１〜４、比較例１〜２ 表１に示す条件により銅フタロシアニンブルー（リオノ
ールブルーＦＧ−７３５１：東洋インキ製造社製）を溶
剤中で、設定された温度まで加温する。次いでスルホン
化剤を添加し、設定された時間かつ設定された粉砕機ま
たは分散機で顔料凝集粒子の微分散を行いながら反応さ
せ、反応終了後表面処理された銅フタロシアニンブルー
を過剰の溶剤で数回洗浄後、水中に注ぎ、ろ過物より表
面処理銅フタロシアニンブルーを得た。反応中に粉砕機
または分散機で顔料凝集粒子の微分散を行わず反応させ
た銅フタロシアニンブルーを比較例１とし、未処理の銅
フタロシアニンブルーを比較例２とした。
ールブルーＦＧ−７３５１：東洋インキ製造社製）を溶
剤中で、設定された温度まで加温する。次いでスルホン
化剤を添加し、設定された時間かつ設定された粉砕機ま
たは分散機で顔料凝集粒子の微分散を行いながら反応さ
せ、反応終了後表面処理された銅フタロシアニンブルー
を過剰の溶剤で数回洗浄後、水中に注ぎ、ろ過物より表
面処理銅フタロシアニンブルーを得た。反応中に粉砕機
または分散機で顔料凝集粒子の微分散を行わず反応させ
た銅フタロシアニンブルーを比較例１とし、未処理の銅
フタロシアニンブルーを比較例２とした。
【００１６】実施例５〜８、比較例３〜４ 表１に示す条件によりジケトピロロピロール（ＩＲＧＡ
ＺＩＮ ＤＰＰ Ｒｅｄ ＢＯ：チバガイギー社製）を
溶剤中で、設定された温度まで加温する。次いでスルホ
ン化剤を添加し、設定された時間かつ設定された粉砕機
または分散機で顔料凝集粒子の微分散を行いながら反応
させ、反応終了後表面処理されたジケトピロロピロール
を過剰の溶剤で数回洗浄後、水中に注ぎ、ろ過物より表
面処理ジケトピロロピロールを得た。反応中に粉砕機ま
たは分散機で顔料凝集粒子の微分散を行わず反応させた
ジケトピロロピロールを比較例３とし、未処理のジケト
ピロロピロールを比較例４とした。
ＺＩＮ ＤＰＰ Ｒｅｄ ＢＯ：チバガイギー社製）を
溶剤中で、設定された温度まで加温する。次いでスルホ
ン化剤を添加し、設定された時間かつ設定された粉砕機
または分散機で顔料凝集粒子の微分散を行いながら反応
させ、反応終了後表面処理されたジケトピロロピロール
を過剰の溶剤で数回洗浄後、水中に注ぎ、ろ過物より表
面処理ジケトピロロピロールを得た。反応中に粉砕機ま
たは分散機で顔料凝集粒子の微分散を行わず反応させた
ジケトピロロピロールを比較例３とし、未処理のジケト
ピロロピロールを比較例４とした。
【００１７】実施例９〜１２、比較例５〜６ 表１に示す条件によりキナクリドンレッド（リオノゲン
レッド Ｙ−Ｆ：東洋インキ製造社製）を溶剤中で、設
定された温度まで加温する。次いでスルホン化剤を添加
し、設定された時間かつ設定された粉砕機または分散機
で顔料凝集粒子の微分散を行いながら反応させ、反応終
了後表面処理されたキナクリドンレッドを過剰の溶剤で
数回洗浄後、水中に注ぎ、ろ過物より表面処理キナクリ
ドンレッドを得た。反応中に粉砕機または分散機で顔料
凝集粒子の微分散を行わず反応させたキナクリドンレッ
ドを比較例５とし、未処理のキナクリドンレッドを比較
例６とした。
レッド Ｙ−Ｆ：東洋インキ製造社製）を溶剤中で、設
定された温度まで加温する。次いでスルホン化剤を添加
し、設定された時間かつ設定された粉砕機または分散機
で顔料凝集粒子の微分散を行いながら反応させ、反応終
了後表面処理されたキナクリドンレッドを過剰の溶剤で
数回洗浄後、水中に注ぎ、ろ過物より表面処理キナクリ
ドンレッドを得た。反応中に粉砕機または分散機で顔料
凝集粒子の微分散を行わず反応させたキナクリドンレッ
ドを比較例５とし、未処理のキナクリドンレッドを比較
例６とした。
【００１８】評価例１ 下記の配合により、水溶性アミノ樹脂を水およびプロピ
レングリコールに溶解し、これに実施例１〜４、比較例
１〜２で得られた表面処理銅フタロシアニンブルー、ガ
ラスビーズを加え、ペイントコンディショナーで３時間
混合分散し水性インキとし、分散安定性試験を行った。
その結果を表１に示す。 表面処理銅フタロシアニンブルー １０重量部 水溶性アミノ樹脂 （サイメル ３５０ 三井サイテック社製） ５重量部 ガラスビーズ １φ ３０重量部 水 ５５重量部
レングリコールに溶解し、これに実施例１〜４、比較例
１〜２で得られた表面処理銅フタロシアニンブルー、ガ
ラスビーズを加え、ペイントコンディショナーで３時間
混合分散し水性インキとし、分散安定性試験を行った。
その結果を表１に示す。 表面処理銅フタロシアニンブルー １０重量部 水溶性アミノ樹脂 （サイメル ３５０ 三井サイテック社製） ５重量部 ガラスビーズ １φ ３０重量部 水 ５５重量部
【００１９】評価例２ 下記の配合により、水溶性メラミン樹脂を水およびプロ
ピレングリコールに溶解し、これに実施例５〜８、比較
例３〜４で得られた表面処理ジケトピロロピロール、ガ
ラスビーズを加え、ペイントコンディショナーで３時間
混合分散し水性インキとし、分散安定性試験を行った。
その結果を表１に示す。 表面処理ジケトピロロピロール １２重量部 水溶性メラミン樹脂 （メラン６２０ 日立化成社製） １０重量部 ガラスビーズ １φ ３０重量部 水 ４８重量部
ピレングリコールに溶解し、これに実施例５〜８、比較
例３〜４で得られた表面処理ジケトピロロピロール、ガ
ラスビーズを加え、ペイントコンディショナーで３時間
混合分散し水性インキとし、分散安定性試験を行った。
その結果を表１に示す。 表面処理ジケトピロロピロール １２重量部 水溶性メラミン樹脂 （メラン６２０ 日立化成社製） １０重量部 ガラスビーズ １φ ３０重量部 水 ４８重量部
【００２０】評価例３ 下記の配合により、アクリルエマルジョンを水およびプ
ロピレングリコールに溶解し、これに実施例９〜１２、
比較例５〜６で得られた表面処理キナクリドン、ガラス
ビーズを加え、ペイントコンディショナーで３時間混合
分散し水性インキとし、分散安定性試験を行った。その
結果を表１に示す。 表面処理キナクリドン ８重量部 水溶性アクリル樹脂 （ジョンクリルＪ−６１ ジョンソンポリマー社製）１５重量部 ジメチルアミノエタノール １重量部 ガラスビーズ １φ ２５重量部 水 ５１重量部
ロピレングリコールに溶解し、これに実施例９〜１２、
比較例５〜６で得られた表面処理キナクリドン、ガラス
ビーズを加え、ペイントコンディショナーで３時間混合
分散し水性インキとし、分散安定性試験を行った。その
結果を表１に示す。 表面処理キナクリドン ８重量部 水溶性アクリル樹脂 （ジョンクリルＪ−６１ ジョンソンポリマー社製）１５重量部 ジメチルアミノエタノール １重量部 ガラスビーズ １φ ２５重量部 水 ５１重量部
【００２１】
【表１】
【００２２】
【発明の効果】本発明の表面処理顔料は、ビヒクル、溶
剤と混合してインキ、塗料などにした場合、優れた分散
安定性を有し、長期間の保存においても顔料の凝集、沈
降が見られない。
剤と混合してインキ、塗料などにした場合、優れた分散
安定性を有し、長期間の保存においても顔料の凝集、沈
降が見られない。
【手続補正書】
【提出日】平成９年５月１２日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正内容】
【００１１】本発明の顔料表面処理方法に用いる粉砕機
または分散機としては、公知の種々な粉砕機または分散
機を用いることができるが、顔料の凝集粒子を微分散で
きれば以下の具体例に特定されることはない。具体例と
しては、せん断応力により顔料粒子を微分散させる３本
ロールミル、２本ロールミルなどや、ガラスビーズ、ジ
ルコニアビーズ、メノー球などのメディアと顔料粒子と
の衝突による衝撃力により微分散させるボールミル、ア
トライター、サンドミル、コボールミル、バスケットミ
ル、振動ミル、ペイントコンディショナーなどや、せん
断応力、キャビテーション、衝突力、ポテンシャルコア
などを発生させるような回転羽根により微分散させるデ
ィスパーサー、ホモジナイザー、クレアミックスなど
や、顔料粒子同士または顔料粒子とビヒクルや壁面の衝
突力やせん断応力により微分散させるニーダー、エクス
トルーダー、ジェットミルなどや、超音波により微分散
させる超音波分散機などが適用可能である。本発明の顔
料表面処理方法ではスルホン化剤を使用するため、いず
れの粉砕機、分散機または必要ならば使用するメディア
も耐酸性であることが望ましい。また３本ロールミル、
２本ロールミルは一般的には開放型であるため、使用す
るに当たり、反応温度の制御または溶剤の揮発に依る反
応系の変化や引火、人体への影響に留意する必要があ
る。また密閉型の粉砕機または分散機を使用する際に
は、系内が溶剤の蒸気により充満するので、火気特に静
電気による爆発や圧力制御などに注意を払わねばならな
い。
または分散機としては、公知の種々な粉砕機または分散
機を用いることができるが、顔料の凝集粒子を微分散で
きれば以下の具体例に特定されることはない。具体例と
しては、せん断応力により顔料粒子を微分散させる３本
ロールミル、２本ロールミルなどや、ガラスビーズ、ジ
ルコニアビーズ、メノー球などのメディアと顔料粒子と
の衝突による衝撃力により微分散させるボールミル、ア
トライター、サンドミル、コボールミル、バスケットミ
ル、振動ミル、ペイントコンディショナーなどや、せん
断応力、キャビテーション、衝突力、ポテンシャルコア
などを発生させるような回転羽根により微分散させるデ
ィスパーサー、ホモジナイザー、クレアミックスなど
や、顔料粒子同士または顔料粒子とビヒクルや壁面の衝
突力やせん断応力により微分散させるニーダー、エクス
トルーダー、ジェットミルなどや、超音波により微分散
させる超音波分散機などが適用可能である。本発明の顔
料表面処理方法ではスルホン化剤を使用するため、いず
れの粉砕機、分散機または必要ならば使用するメディア
も耐酸性であることが望ましい。また３本ロールミル、
２本ロールミルは一般的には開放型であるため、使用す
るに当たり、反応温度の制御または溶剤の揮発に依る反
応系の変化や引火、人体への影響に留意する必要があ
る。また密閉型の粉砕機または分散機を使用する際に
は、系内が溶剤の蒸気により充満するので、火気特に静
電気による爆発や圧力制御などに注意を払わねばならな
い。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正内容】
【００１４】
【実施例】以下、本発明を実施例に基づきさらに詳細に
説明するが、本発明の範囲はその要旨をこえない限り、
実施例に限定されるものではない。また、得られた表面
処理顔料の評価については下記の方法で行った。 分散安定性：調製したインキを５０℃で２ヶ月放置した
後のインキ中の沈澱物の状態を調べ、○△×で評価し
た。○は沈殿物なし、△は若干の沈殿物有り、×は沈殿
物多しを表す。また顔料粒子の粒度分布をレーザー粒径
解析装置（ＬＰＡ−３０００／３１００大塚電子株式会
社製）で測定し、分散顔料粒子の平均粒径を調べた。
説明するが、本発明の範囲はその要旨をこえない限り、
実施例に限定されるものではない。また、得られた表面
処理顔料の評価については下記の方法で行った。 分散安定性：調製したインキを５０℃で２ヶ月放置した
後のインキ中の沈澱物の状態を調べ、○△×で評価し
た。○は沈殿物なし、△は若干の沈殿物有り、×は沈殿
物多しを表す。また顔料粒子の粒度分布をレーザー粒径
解析装置（ＬＰＡ−３０００／３１００大塚電子株式会
社製）で測定し、分散顔料粒子の平均粒径を調べた。
Claims (7)
- 【請求項１】スルホン化反応溶剤中で、有機顔料の凝集
粒子を粉砕機または分散機で微分散させながら、有機顔
料の粒子表面にスルホン化剤によりスルホン酸基を導入
することを特徴とする表面処理顔料の製造方法。 - 【請求項２】粉砕機または分散機による微分散がせん断
応力またはメディアによる衝撃力である請求項１記載の
表面処理顔料の製造方法。 - 【請求項３】スルホン化剤がスルホン化ピリジン塩また
はスルファミン酸である請求項１または２記載の表面処
理顔料の製造方法。 - 【請求項４】スルホン化反応溶剤が、三酸化硫黄と錯体
を形成する塩基性溶剤である請求項１ないし３いずれか
記載の表面処理顔料の製造方法。 - 【請求項５】スルホン化反応溶剤が、Ｎ，Ｎ−ジメチル
ホルムアミド、ジオキサン、ピリジン、トリエチルアミ
ン、トリメチルアミン、ニトロメタン、アセトニトリル
またはトリクロロフルオロメタンの１種以上である請求
項４記載の表面処理顔料の製造方法。 - 【請求項６】スルホン化反応溶剤がスルホランまたはＮ
−メチル−２−ピロリドンである請求項１ないし３いず
れか記載の表面処理顔料の製造方法。 - 【請求項７】請求項１ないし請求項６いずれか記載の方
法により製造された表面処理顔料。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26571796A JP3271529B2 (ja) | 1996-10-07 | 1996-10-07 | 表面処理顔料およびその製造方法 |
| US08/944,437 US5928419A (en) | 1996-10-07 | 1997-10-06 | Surface-treated organic pigment and process for the production thereof |
| EP97307934A EP0834537B1 (en) | 1996-10-07 | 1997-10-07 | Surface-treated organic pigment and process for the production thereof |
| DE69710878T DE69710878T2 (de) | 1996-10-07 | 1997-10-07 | Tintenstrahlaufzeichnungsflüssigkeit die ein oberflächenbehandeltes organisches Pigment enthält |
| EP98119588A EP0894835B1 (en) | 1996-10-07 | 1997-10-07 | Inkjet recording liquid comprising a surface-treated organic pigment |
| DE69709015T DE69709015T2 (de) | 1996-10-07 | 1997-10-07 | Oberflächenbehandeltes organisches Pigment und Verfahren zu dessen Herstellung |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26571796A JP3271529B2 (ja) | 1996-10-07 | 1996-10-07 | 表面処理顔料およびその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10110111A true JPH10110111A (ja) | 1998-04-28 |
| JP3271529B2 JP3271529B2 (ja) | 2002-04-02 |
Family
ID=17421038
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26571796A Expired - Fee Related JP3271529B2 (ja) | 1996-10-07 | 1996-10-07 | 表面処理顔料およびその製造方法 |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3271529B2 (ja) |
Cited By (38)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| EP1146090A2 (en) | 2000-04-10 | 2001-10-17 | Seiko Epson Corporation | Process for the preparation of pigment dispersion, pigment dispersion obtained by the same, ink jet recording ink comprising the same, and recording method and recording material using the same |
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| US6524383B2 (en) | 2000-02-23 | 2003-02-25 | Seiko Epson Corporation | Method for manufacturing pigment dispersion, pigment dispersion obtained by this method, and ink jet recording ink using same |
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| EP2368948A1 (en) | 2010-03-23 | 2011-09-28 | Seiko Epson Corporation | Aqueous ink composition and printing process by ink jet recording system using the composition |
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| US9067417B2 (en) | 2010-04-05 | 2015-06-30 | Seiko Epson Corporation | Ink jet recording apparatus and maintenance liquid for ink jet recording apparatus |
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- 1996-10-07 JP JP26571796A patent/JP3271529B2/ja not_active Expired - Fee Related
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