JPH10104314A - ウェハ不良解析装置 - Google Patents

ウェハ不良解析装置

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JPH10104314A
JPH10104314A JP8257165A JP25716596A JPH10104314A JP H10104314 A JPH10104314 A JP H10104314A JP 8257165 A JP8257165 A JP 8257165A JP 25716596 A JP25716596 A JP 25716596A JP H10104314 A JPH10104314 A JP H10104314A
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chip
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wafer
fail
memory cell
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JP8257165A
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Toshihiro Oda
智弘 小田
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Ando Electric Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 半導体ウェハの不良発生分布の傾向が解析で
きるとともに、個々のチップをメモリセルアレイ単位で
解析することができるウェハ不良解析装置を提供するこ
と。 【解決手段】 記憶部20はウェハ上に形成されたチッ
プの不良情報を格納する。演算部30は上記不良情報か
ら、上記ウェハ上に形成された上記チップの物理配置で
フェイルビットマップを作成し、表示部40は演算部3
0で作成されたフェイルビットマップを表示する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウェハ上に
形成されたチップの不良原因の解析を行うウェハ不良解
析装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来より、RAM(Random Access Memo
ry)等の半導体記憶装置を試験して不良を解析する装置
が案出されている。上記半導体記憶装置は多数のメモリ
セルを有し、各々のメモリセルにはアドレスが割り当て
られている。この半導体記憶装置の試験をする場合に
は、メモリセルのアドレスを指定し、そのアドレスが割
り当てられたメモリセルに試験データを書き込み、この
書き込んだ試験データを再び読み出して、試験データと
比較することによって上記アドレスが割り当てられたメ
モリセルが不良であるか否かを判断する。
【0003】アドレスを変えながら上記動作を繰り返し
行うことによって半導体記憶装置のフェイルビットマッ
プが作成される。上記半導体記憶装置が1つのチップか
ら構成されている場合には、そのチップのフェイルビッ
トマップが得られることになる。そして、得られたフェ
イルビットマップをディスプレイ等に表示させることに
よって発生した不良の形態が解析される。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ところで、従来の装置
では、フェイルビットマップは、半導体ウェハ上に形成
された1つのチップに対するものであり、半導体ウェハ
上に形成された全チップに対する不良ビットの分布の表
示を得ることができないため、半導体ウェハ全体の不良
ビット発生分布の傾向を求めるのが困難であるという問
題があった。
【0005】本発明は、上記事情に鑑みてなされたもの
であり、半導体ウェハに形成されたチップの不良発生分
布の傾向が解析できるとともに、個々のチップをメモリ
セルアレイ単位で解析を行うことができるウェハ不良解
析装置を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、請求項1記載の発明は、ウェハ上に形成されたチッ
プの不良情報を格納する記憶部と、前記不良情報から、
前記ウェハ上に形成された前記チップの物理配置でフェ
イルビットマップを作成する演算部と、前記フェイルビ
ットマップを表示する表示部と、操作者の操作に応じた
操作情報を出力する入力部を備え、前記演算部は前記入
力部から出力される操作情報に応じて前記フェイルビッ
トマップに表示されたチップを選択し、該チップのフェ
イルビットマップをメモリセルアレイ単位で作成するこ
とを特徴とする。請求項2記載の発明は、請求項1記載
のウェハ不良解析装置において、前記演算部は、前記不
良情報から、データビット毎のパス/フェイルを示すマ
ップを作成することを特徴とする。請求項3記載の発明
は、請求項1記載のウェハ不良解析装置において、前記
演算部は、前記不良情報から、各チップのメモリセルア
レイ単位のパス/フェイルを示すマップを作成すること
を特徴とする。
【0007】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の一
実施形態について説明する。図1は、本発明の一実施形
態によるウェハ不良解析装置の概略構成を示すブロック
図である。図1に示されたように、本実施形態によるウ
ェハ不良解析装置は大別すると、操作者の指示を入力す
るための入力部10、ウェハ上に形成された各々のチッ
プの不良情報I等を記憶する記憶部20、記憶部20に
記憶された不良情報Iに対して入力部10から入力され
る操作者の指示に応じた演算を行う演算部30、及び演
算部30の演算結果を表示する表示部40からなる。
【0008】上記入力部10は例えばマウスであり、操
作者により移動操作が行われることによって、その操作
量に応じた操作信号を演算部30に出力する。また、こ
の入力部10はボタン10aを備えており、操作者によ
って押下された場合に押下信号を出力する(上記操作信
号及び押下信号は操作情報をなす)。
【0009】記憶部20は、図示は省略しているがIC
(Integrated Circuit)試験装置から得られる種々の情
報を格納するために設けられる。上記不良情報Iは不良
情報ファイルFとしてファイル形式で記憶される。この
不良情報ファイルFは、形成されているチップのX軸方
向の最大数、Y軸方向の最大数数等のウェハに関する半
導体ウェハ情報Wi、半導体ウェハ上に形成されたチッ
プの上記基準座標に対する位置、大きさ、試験結果等の
チップに関するチップ情報Ci1,Ci2,…を格納す
る。
【0010】尚、上記X軸及びY軸はIC試験装置から
種々の情報を得る際に予め設定された直交軸であり、そ
の原点は上記基準座標として設定されている。通常、チ
ップは半導体ウェハ上にマトリクス状に形成されてお
り、上記各軸は半導体ウェハ上にマトリクス状に形成さ
れたチップと平行になるよう設定される。上記チップ情
報Ci1,Ci2,…は、第0行第0列に形成されたチ
ップに関する情報、第0行第1列に形成されたチップに
関する情報、……、第1行第0列に形成されたチップに
関する情報、第1行第1列に形成されたチップに関する
情報、……といった具合に格納されている。この場合、
X軸は列と同方向に設定され、Y軸は行と同方向に設定
される。
【0011】また、上記チップ内に形成されるメモリセ
ルは各々が独立ではなく、複数を単位としたマトリクス
状に形成されたメモリセルアレイとして構成されてお
り、上記チップ情報Ci1,Ci2,…は、各メモリセ
ルアレイのパス/フェイル情報DF1、データビット毎
のパス/フェイル情報DF2と、各メモリセルアレイの
位置、大きさ、X軸方向の最大メモリセルアレイ数、Y
軸方向の最大メモリセルアレイ数等のメモリセルアレイ
情報D1,D2,…とからなる。22はメモリバッファ
であり、不良情報ファイルFから読み出された各種情報
に基づいて作成されて表示部40に表示される表示デー
タや、各種レジスタ等を記憶する。
【0012】演算部30は記憶部20に記憶されている
不良情報ファイルFからウェハ情報Wi及びチップ情報
Ci1,Ci2,…を読み込み、各々の位置情報から各
チップとウェハとの位置関係を演算し、各チップがウェ
ハ上の所定位置配されるような画像データに変換すると
ともに、チップ情報Ci1,Ci2,…に含まれる各メ
モリセルアレイのパス/フェイル情報DF1、データビ
ット毎のパス/フェイル情報DF2、又はメモリセルア
レイ情報D1,D2,…から、不良があるメモリセルに
対して色分け表示を行い表示データを作成する。
【0013】また、演算部30は、表示部40にカーソ
ルCを表示させ、入力部10から出力される操作信号に
基づいて、このカーソルCを移動表示させる。また、入
力部10から押下信号が出力されると、カーソルCが表
示された位置に表示されているメニューボタン40a〜
40dに割り当てられている機能を実行したり、表示さ
れた複数のチップから1つのチップを選択する機能を有
する。この演算部30はCPU(中央処理装置)や各種
制御プログラムを格納したROM(Read OnlyMemory)
によって実現される。
【0014】表示部40に表示される上記メニューボタ
ン40a〜40d各々は、ウェハ規模のフェイルビット
マップを表示させるためのメニューボタン40a、特定
チップのメモリセルアレイ単位でのフェイルビットマッ
プを表示させるためのメニューボタン40b、各ビット
毎のパス/フェイルを表示させるためのメニューボタン
40c、及びメモリセルアレイのパス/フェイルを表示
させるためのメニューボタン40dである。これらのメ
ニューボタン40a〜40dはウェハ不良解析装置の電
源投入時に演算部30が表示部40に表示させる。
【0015】次に、本発明の一実施形態によるウェハ不
良解析装置の動作について説明する。 (1)ウェハ規模のフェイルビットマップの表示 図2はウェハ規模のフェイルビットマップを表示させる
場合の動作を示すフローチャートである。操作者が入力
部10を移動操作し、カーソルCをメニューボタン40
aが表示されている位置に移動させる。この状態で操作
者が入力部10に備えられたボタン10aを押下する
と、入力部10から演算部30へ押下信号が出力され
る。この押下信号が入力されると演算部30は記憶部2
0に格納された不良情報ファイルFを読み出す(ステッ
プSA1)。
【0016】次に、演算部30は読み出した不良情報フ
ァイルFに格納されたウェハ情報Wi、X軸方向のチッ
プの最大数、及びY軸方向のチップの最大数等の情報を
メモリバッファ22に格納するとともに、メモリバッフ
ァ22内にカウント内容を記憶させるレジスタを2つ作
成し、その内容を“0”に初期化する(ステップSA
2)。
【0017】ステップSA3では上記レジスタの一方
(以下、Yレジスタと称する)の内容と、Y軸方向のチ
ップの最大数とが比較され、Yレジスタの内容がY軸方
向のチップの最大数以上であるか否かが判断される。こ
の判断結果が「NO」である場合にはステップSA4へ
進む。ステップSA4では、上記レジスタの他方(以
下、Xレジスタと称する)の内容と、X軸方向のチップ
の最大数とが比較され、Xレジスタの内容がX軸方向の
チップの最大数以上であるか否かが判断される。この判
断結果が「NO」である場合にはステップSA5へ進
む。
【0018】ステップSA5では、Xレジスタ及びYレ
ジスタの内容に基づいてチップ情報Ci1,Ci2,…
のうちの1つのチップ情報を読み込む。例えば、最初は
Xレジスタの内容及びYレジスタの内容が共に“0”で
あるので、第0行第0列に配されたチップに関するチッ
プ情報を読み込む。次に、このチップ情報及びステップ
SA1でバッファメモリ22に格納されたウェハ情報に
基づいて表示データを作成する処理が行われる。この表
示データは、チップの枠からなり、上記チップのチップ
情報に基づいて、そのチップが不良である場合にはその
チップの枠内が例えば赤で塗り潰される。このとき、上
記チップの枠は実際にそのチップがウェハ上に形成され
ている位置に対応した位置に配される。以上の処理が終
了すると、演算部30はXレジスタの内容をインクリメ
ントし、ステップSA4へ戻る。
【0019】一方、ステップSA4の判断結果が「YE
S」である場合には、演算部30はYレジスタの内容を
インクリメントしてステップSA3へ戻る。つまり、ス
テップSA3からステップSA5までの処理では、ウェ
ハ上に形成された全てのチップに対して、不良であるか
否かの分布を示す表示データが作成される。作成された
表示データはバッファメモリ22に格納される。
【0020】ステップSA3における判断結果が「YE
S」である場合には、処理がステップSA6へ進み、メ
モリバッファ22に格納された表示データが演算部30
によって読み出されて表示部40へ出力され、図1に示
されたようなウェハ規模のフェイルビットマップが表示
される。
【0021】このフェイルビットマップは、例えば図3
(a),図3(b),図4(a),及び図4(b)に示
されたものである。図3及び図4はウェハ規模のフェイ
ルビットマップの例を示す図である。これらの図におい
て、塗り潰されている部分が不良箇所である。図3
(a)は各チップ間に共通の不良が生じた場合に表示さ
れるフェイルビットマップの例であり、図3(b)はシ
ョット間の共通不良が生じた場合のフェイルビットマッ
プの例である。また図4(a)はウェハの特定領域に不
良が生じた場合のフェイルビットマップの例であり、図
4(b)はウェハの周辺不良が生じた場合のフェイルビ
ットマップである。
【0022】以上説明したように、図3,図4に示され
たような、ウェハ規模のフェイルビットマップを表示さ
せることによって、ウェハに形成されたチップの不良種
類が一目で識別することができ、不良原因を見つけ出す
ために要する時間を短縮できる。また、不良の種類別に
発生頻度の統計をとることによって、チップ作成時のど
の工程を改善すればよいかが判断できる。
【0023】(2)特定チップのメモリセルアレイ単位
でのマップの表示 図5は特定チップのメモリセルアレイ単位でのマップの
表示を行う場合の動作を示すフローチャートである。図
1に示されたように、ウェハ規模のフェイルビットマッ
プが表示されている状態で、操作者が入力部10を移動
操作し、カーソルCを特定チップの位置に配置させ、ボ
タン10aを押下すると、入力部10から押下信号が出
力される。
【0024】この押下信号が入力されると、演算部30
はカーソルCの表示位置に表示されているチップを例え
ば青色表示させ、そのチップが選択された旨を強調する
(ステップSB1)。次に、操作者が入力部10を移動
操作し、カーソルCをメニューボタン40bが表示され
た位置に移動させる。そして、操作者がボタン10aを
押下すると、入力部10から押下信号が出力される(ス
テップSB2)。
【0025】上記押下信号が入力されると、演算部30
は不良情報ファイルFから、ステップSB1で選択され
たチップのチップ情報を読み込み、このチップ情報のX
軸方向の最大メモリセルアレイ数及びY軸方向の最大メ
モリセルアレイ数をメモリバッファ22に格納する。ま
た、演算部30はメモリバッファ22内にカウント内容
を記憶させるレジスタを2つ作成し、その内容を“0”
に初期化する(ステップSB3)。
【0026】ステップSB4では上記レジスタの一方
(以下、Yレジスタと称する)の内容と、Y軸方向の最
大メモリセルアレイ数とが比較され、Yレジスタの内容
がY軸方向の最大メモリセルアレイ数以上であるか否か
が判断される。この判断結果が「NO」である場合には
ステップSB5へ進む。ステップSB5では、上記レジ
スタの他方(以下、Xレジスタと称する)の内容と、X
軸方向の最大メモリセルアレイ数とが比較され、Xレジ
スタの内容がX軸方向のチップの最大数以上であるか否
かが判断される。この判断結果が「NO」である場合に
はステップSB6へ進む。
【0027】ステップSB6では、Xレジスタ及びYレ
ジスタの内容に基づいてステップSB3において読み込
んだチップ情報からメモリセルアレイ情報D1,D2,
…を読み込む。最初はXレジスタの内容及びYレジスタ
の内容が共に“0”であるので、第0行第0列に配され
たメモリセルアレイに関するメモリセルアレイ情報を読
み込む。次に、このメモリセルアレイ情報に基づいて、
表示データを作成する処理が行われる。この表示データ
は、チップの枠、チップ内のメモリセルの枠からなり、
各メモリセルのメモリセル情報に基づいて、そのメモリ
セルが不良である場合にはそのメモリセルの枠内が例え
ば赤で塗り潰される。このとき、上記メモリセルの枠は
実際にそのメモリセルが実際にチップ内に形成されてい
る位置に対応した位置に配される。以上の処理が終了す
ると、演算部30はXレジスタの内容をインクリメント
してステップSB5へ戻る。
【0028】一方、ステップSB5の判断結果が「YE
S」である場合には、演算部30はYレジスタの内容を
インクリメントしてステップSB4へ戻る。つまり、ス
テップSB4からステップSB6までの処理では、チッ
プ内の全てのメモリセルに対して、不良であるか否の分
布を示す表示データが作成される。作成された表示デー
タはバッファメモリ22に格納される。
【0029】ステップSB4における判断結果が「YE
S」である場合には、処理がステップSB7へ進み、メ
モリバッファ22に格納された表示データが演算部30
によって読み出されて表示部40へ出力され、図6に示
されたような特定チップのメモリセルアレイ単位でのマ
ップが表示される。図6中の塗り潰された部分が不良箇
所である。
【0030】以上説明したように、図3(a)に示され
たようなウェハ規模のフェイルビットマップを表示した
場合、ある特定の回路の不良原因と推定されるときに
は、特定のチップを拡大してメモリセルアレイ単位での
マップが表示されるようにしたので、不良ビットが存在
するメモリセルアレイに関係するデコーダやセンスアッ
プ回路等の周辺回路の不良を容易に探し出すことができ
るため、不良解析の効率が向上し、歩止まりの向上に寄
与することができる。
【0031】(3)データビット毎のパス/フェイルの
表示 図7はデータビット毎のパス/フェイルを表示する場合
の動作を示すフローチャートである。まず、操作者が入
力部10を移動操作し、カーソルCをメニューボタン4
0cが表示されている位置に移動させる。この状態で操
作者が入力部10に備えられたボタン10aを押下する
と、入力部10から演算部30へ押下信号が出力される
(ステップSC1)。
【0032】この押下信号が入力されると演算部30は
メモリバッファ22に格納されたウェハ情報Wi、即ち
ウェハの位置、ウェハの径、X軸方向のチップの最大
数、及びY軸方向のチップの最大数等の情報を取得する
とともに、メモリバッファ22内にカウント内容を記憶
させるレジスタを2つ作成し、その内容を“0”に初期
化する(ステップSC2)。尚、上記ウェハ情報Wiは
前述した(1)ウェハ規模のフェイルビットマップを表
示する場合の図2中ステップSA2の処理によってメモ
リバッファ22に格納されている。
【0033】ステップSC3では上記レジスタの一方
(以下、Yレジスタと称する)の内容と、Y軸方向のチ
ップの最大数とが比較され、Yレジスタの内容がY軸方
向のチップの最大数以上であるか否かが判断される。こ
の判断結果が「NO」である場合にはステップSC4へ
進む。ステップSC4では、上記レジスタの他方(以
下、Xレジスタと称する)の内容と、X軸方向のチップ
の最大数とが比較され、Xレジスタの内容がX軸方向の
チップの最大数以上であるか否かが判断される。この判
断結果が「NO」である場合にはステップSC5へ進
む。
【0034】ステップSC5では、Xレジスタ及びYレ
ジスタの内容に基づいてチップ情報Ci1,Ci2,…
の内の1つのチップ情報を読み込む。例えば、最初はX
レジスタの内容及びYレジスタの内容が共に“0”であ
るので、第0行第0列に配されたチップに関するチップ
情報を読み込む。次に、このチップ情報及び、ステップ
SC2でバッファメモリ22から取得したウェハ情報及
びデータビット毎のパス/フェイル情報DF2に基づい
て、表示データを作成する。この表示データは、ウェハ
の枠、ウェハに形成された各チップの枠からなり、上記
データビット毎のパス/フェイル情報DF2に基づい
て、そのデータビットが不良である場合にはそのチップ
の枠内が例えば赤で塗り潰される。以上の処理が終了す
ると、演算部30はXレジスタの内容をインクリメント
してステップSC4へ戻る。
【0035】一方、ステップSC4の判断結果が「YE
S」である場合には、演算部30はYレジスタの内容を
インクリメントし、ステップSC3へ戻る。つまり、ス
テップSC3からステップSC5までの処理では、ウェ
ハ上に形成された全てのチップに対して、データビット
が不良であるか否かの分布を示す分布の表示データが作
成される。作成された表示データはバッファメモリ22
に格納される。
【0036】ステップSC3における判断結果が「YE
S」である場合には、処理がステップSC6へ進み、メ
モリバッファ22に格納された表示データが演算部30
によって読み出されて表示部40へ出力され、図8に示
されたようなウェハ規模のデータビット毎のデータビッ
トのパス/フェイルが表示される。図8は図4(b)を
データビット毎のパス/フェイル表示で表したマップで
ある。この図では、4つのデータビットを有するチップ
のデータビットのパス/フェイルを示しており、フェイ
ルの部分は塗り潰された表示になっている。
【0037】メモリセルアレイの中に幾つかのデータビ
ットが混在した場合や不規則にデータビットが配置され
る場合等の複雑なデータビットの配置を持つチップのマ
ップからは容易にデータビットのパス/フェイルが分か
らない。例えば、図9のように4つのデータビットを有
するチップが8つのメモリセルアレイ上に配置されてい
る場合、図4(b)に示された表示が為された場合には
容易にデータビットのパス/フェイルを認識することが
困難である。さらに複雑な場合などはなおさらである。
上記マップはデータビットのパス/フェイルを表示する
ことでデータビットの配置にかかわらず、ウェハ規模で
不良となったデータビットを容易に知ることができる。
【0038】(4)メモリセルアレイのパス/フェイル
の表示 図10はメモリセルアレイのパス/フェイルを表示する
場合の動作を示すフローチャートである。まず、操作者
が入力部10を移動操作し、カーソルCをメニューボタ
ン40dが表示されている位置に移動させる。この状態
で操作者が入力部10に備えられたボタン10aを押下
すると、入力部10から演算部30へ押下信号が出力さ
れる(ステップSD1)。
【0039】この押下信号が入力されると演算部30は
メモリバッファ22に格納されたウェハ情報Wi、即ち
ウェハの位置、ウェハの径、X軸方向のチップの最大
数、及びY軸方向のチップの最大数等の情報を取得する
とともに、メモリバッファ22内にカウント内容を記憶
させるレジスタを2つ作成し、その内容を“0”に初期
化する(ステップSD2)。尚、上記ウェハ情報Wiは
前述した(1)ウェハ規模のフェイルビットマップを表
示する場合の図2中ステップSA2の処理によってメモ
リバッファ22に格納されている。
【0040】ステップSD3では上記レジスタの一方
(以下、Yレジスタと称する)の内容と、Y軸方向のチ
ップの最大数とが比較され、Yレジスタの内容がY軸方
向のチップの最大数以上であるか否かが判断される。こ
の判断結果が「NO」である場合にはステップSD4へ
進む。ステップSD4では、上記レジスタの他方(以
下、Xレジスタと称する)の内容と、X軸方向のチップ
の最大数とが比較され、Xレジスタの内容がX軸方向の
チップの最大数以上であるか否かが判断される。この判
断結果が「NO」である場合にはステップSD5へ進
む。
【0041】ステップSD5では、Xレジスタ及びYレ
ジスタの内容に基づいてチップ情報Ci1,Ci2,…
の内の1つのチップ情報を読み込む。例えば、最初はX
レジスタの内容及びYレジスタの内容が共に“0”であ
るので、第0行第0列に配されたチップに関するチップ
情報を読み込む。次に、このチップ情報及びステップS
D2でバッファメモリ22から取得したウェハ情報及び
メモリセルアレイのパス/フェイル情報DF1に基づい
て表示データを作成する。この表示データは、ウェハの
枠、ウェハに形成された各チップの枠、及び上記メモリ
セルアレイの枠からなり、上記各メモリセルアレイのパ
ス/フェイル情報DF1に基づいて、そのチップが不良
である場合にはそのメモリセルアレイの枠内が例えば赤
で塗り潰される。以上の処理が終了すると、演算部30
はXレジスタの内容をインクリメントしステップSD4
へ戻る。
【0042】一方、ステップSD4の判断結果が「YE
S」である場合には、演算部30はYレジスタの内容を
インクリメントし、ステップSD3へ戻る。つまり、ス
テップSD3からステップSD5までの処理では、ウェ
ハ上に形成された全てのチップに対して、メモリセルア
レイが不良であるか否かの分布を示す表示データが作成
される。作成された表示データはバッファメモリ22に
格納される。
【0043】ステップSD3における判断結果が「YE
S」である場合には、処理がステップSD6へ進み、メ
モリバッファ22に格納された表示データが演算部30
によって読み出されて表示部40へ出力され、図11に
示されたようなウェハ規模のメモリセルアレイのパス/
フェイルが表示される。図11は、図4(b)のフェイ
ルビットマップをメモリセルアレイのパス/フェイルで
表示したマップである。チップ内に形成されたメモリセ
ルアレイのフェイルがある部分は塗り潰された表示がな
される。
【0044】このように、ウェハ規模でメモリセルアレ
イのパス/フェイルが表示されるので、チップ間のメモ
リセルアレイの共通不良を判別することができる。
【0045】
【発明の効果】以上説明したように、請求項1記載の発
明によれば、ウェハ上に作成されたチップ全てのフェイ
ルビットマップが表示されるので、ウェハに形成された
チップの不良種類が一目で識別でき、不良原因を見つけ
出すために要する時間を短縮できる。また、特定のチッ
プを拡大してメモリセルアレイ単位でのフェイルビット
マップが表示されるので、不良ビットが存在するメモリ
セルアレイに関係するデコーダやセンスアップ回路等の
周辺回路の不良を容易に探し出すことができるため、不
良解析の効率が向上し、歩止まりの向上に寄与すること
ができる。請求項2記載の発明によれば、データビット
のパス/フェイルがウェハ規模で表示されるので、容易
にデータビットの不良箇所を知ることができる。また、
複雑なデータビットを有するチップであっても容易にデ
ータビットの状態を知ることができる。請求項3記載の
発明によれば、ウェハ規模でメモリセルアレイのパス/
フェイルが表示されるので、チップ間のメモリセルアレ
イの共通不良を判別することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の一実施形態によるウェハ不良解析装
置の概略構成を示すブロック図である。
【図2】 ウェハ規模のフェイルビットマップを表示さ
せる場合の動作を示すフローチャートである。
【図3】 ウェハ規模のフェイルビットマップの例を示
す図である。
【図4】 ウェハ規模のフェイルビットマップの例を示
す図である。
【図5】 特定チップのメモリセルアレイ単位でのフェ
イルビットマップの表示を行う場合の動作を示すフロー
チャートである。
【図6】 特定チップのメモリセルアレイ単位でのマッ
プの例を示す図である。
【図7】 データビット毎のパス/フェイルを表示する
場合の動作を示すフローチャートである。
【図8】 ウェハ規模でデータビット毎のパス/フェイ
ルを表示したマップである。
【図9】 データビットの配置が複雑であるチップのデ
ータビットの区分を示す図である。
【図10】 メモリセルアレイのパス/フェイルを表示
する場合の動作を示すフローチャートである。
【図11】 ウェハ規模でメモリセルアレイのパス/フ
ェイルを表示したマップである。
【符号の説明】
10 入力部 20 記憶部 30 演算部 40 表示部

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ウェハ上に形成されたチップの不良情報
    を格納する記憶部と、 前記不良情報から、前記ウェハ上に形成された前記チッ
    プの物理配置でフェイルビットマップを作成する演算部
    と、 前記フェイルビットマップを表示する表示部と、 操作者の操作に応じた操作情報を出力する入力部を備
    え、 前記演算部は前記入力部から出力される操作情報に応じ
    て前記フェイルビットマップに表示されたチップを選択
    し、該チップのフェイルビットマップをメモリセルアレ
    イ単位で作成することを特徴とするウェハ不良解析装
    置。
  2. 【請求項2】 前記演算部は、前記不良情報から、デー
    タビット毎のパス/フェイルを示すマップを作成するこ
    とを特徴とする請求項1記載のウェハ不良解析装置。
  3. 【請求項3】 前記演算部は、前記不良情報から、各チ
    ップのメモリセルアレイ単位のパス/フェイルを示すマ
    ップを作成することを特徴とする請求項1記載のウェハ
    不良解析装置。
JP8257165A 1996-09-27 1996-09-27 ウェハ不良解析装置 Withdrawn JPH10104314A (ja)

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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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JP2008034100A (ja) * 2007-10-18 2008-02-14 Hitachi Ulsi Systems Co Ltd メモリ不良解析システム
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