JPH0990153A - 光導波路の作製方法およびそれにより得られるデバイス - Google Patents
光導波路の作製方法およびそれにより得られるデバイスInfo
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- JPH0990153A JPH0990153A JP7241924A JP24192495A JPH0990153A JP H0990153 A JPH0990153 A JP H0990153A JP 7241924 A JP7241924 A JP 7241924A JP 24192495 A JP24192495 A JP 24192495A JP H0990153 A JPH0990153 A JP H0990153A
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- light
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/73—Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L24/10, H01L24/18, H01L24/26, H01L24/34, H01L24/42, H01L24/50, H01L24/63, H01L24/71
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01004—Beryllium [Be]
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/10—Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/11—Device type
- H01L2924/14—Integrated circuits
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- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Optical Integrated Circuits (AREA)
- Optical Couplings Of Light Guides (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 各種光デバイス間の光結合を簡便かつ高効率
にして各種光集積回路および光制御技術を実現する。 【解決手段】 複数の光デバイスの間の全部または１部
に、光屈折率材料を配置し、１つまたは複数の光デバイ
スから光を照射して光屈折率材料に屈折率分布を付与す
ることにより形成された、光デバイス間の片方向または
双方向の光結合路を含む光コネクタであって、前記複数
の光デバイスの少なくとも１つが脱着可能であることを
特徴とする光コネクタ、空間伝搬光または導波光または
放射光を光屈折率材料に入射させ、セルフフォーカス効
果を生じさせながら、屈折率分布を形成することを特徴
とする光導波路の作製方法、およびその他の方法および
デバイス。
にして各種光集積回路および光制御技術を実現する。 【解決手段】 複数の光デバイスの間の全部または１部
に、光屈折率材料を配置し、１つまたは複数の光デバイ
スから光を照射して光屈折率材料に屈折率分布を付与す
ることにより形成された、光デバイス間の片方向または
双方向の光結合路を含む光コネクタであって、前記複数
の光デバイスの少なくとも１つが脱着可能であることを
特徴とする光コネクタ、空間伝搬光または導波光または
放射光を光屈折率材料に入射させ、セルフフォーカス効
果を生じさせながら、屈折率分布を形成することを特徴
とする光導波路の作製方法、およびその他の方法および
デバイス。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光導波路の作成方
法およびそれにより得られるデバイスに関する。
法およびそれにより得られるデバイスに関する。
【０００２】
【従来の技術】情報処理や通信の分野では、配線の光化
が急激に進み、今後、光化された並列プロセッサやＦｉ
ｂｅｒ ｔｏ ｔｈｅ Ｈｏｍｅなどの光技術の浸透が
進展して行くと予想される。また、光ディスク、ＰＯＳ
システム、光プリンタ、イメージセンサ、ディスプレイ
などの光を利用した情報関連装置が普及してきている。
今後、これらの装置では、高機能、小型かつ低コスト
化、低消費電力化などが、強く要求されると予想され、
さらに種々の光関連装置やデバイスが出現すると考えら
れる。このような状況に備えて、光導波路デバイスを始
めとする各種光集積回路および光制御技術が必要になる
とともに、光ファイバを含め、各種光デバイス間の光結
合を簡便かつ高効率にしなければならない。
が急激に進み、今後、光化された並列プロセッサやＦｉ
ｂｅｒ ｔｏ ｔｈｅ Ｈｏｍｅなどの光技術の浸透が
進展して行くと予想される。また、光ディスク、ＰＯＳ
システム、光プリンタ、イメージセンサ、ディスプレイ
などの光を利用した情報関連装置が普及してきている。
今後、これらの装置では、高機能、小型かつ低コスト
化、低消費電力化などが、強く要求されると予想され、
さらに種々の光関連装置やデバイスが出現すると考えら
れる。このような状況に備えて、光導波路デバイスを始
めとする各種光集積回路および光制御技術が必要になる
とともに、光ファイバを含め、各種光デバイス間の光結
合を簡便かつ高効率にしなければならない。
【０００３】しかるに、かかる技術分野においては、下
記のような問題がある。 （１）これまで、導波路の形成方法としてはエッチング
法などが知られているが、位置決め精度や形状の自由度
が少なかった。 （２）また、Ｖ溝法など位置精度の追求がなされてきた
が、まだ十分な性能は実現されていない。 （３）光コネクタのロスやマルチモード系の場合のモー
ダルノイズの問題があった。 （４）光素子が簡便に脱着できない場合があった。 （５）導波ビームや空間ビームを絞ったり、形状を変化
させるためのレンズアレイなどでは、ビームとレンズの
位置合わせに手間がかかる問題があった。 （６）光の径が軸方向により異なる光の整形（例えば、
円形に近づける）を簡便にできる方法がなかった。 （７）光配線の光路を自動的に簡便に形成する手法がな
かった。 （８）光プリンタにおいて、感光ドラムに光を導く光路
を自動的に簡便に形成する手法がなかった。 （９）画像読み取りデバイスにおいて、光源、読み取り
対象物およひＰＤを結ぶ光路を自動的に簡便に形成する
手法がなかった。 （１０）ＴＦＴ駆動液晶ディスプレイにおいて、ＴＦＴ
開口部に自動的に光を導く手法がなかった。 （１１）導光路の配置で認識されるようなキーがなかっ
た。 （１２）導波路形成後に、導波路端面からの出射光でマ
ーカーを形成する手法がなかった。 （１３）導波路の途中に簡便に光デバイスを挿入する手
法がなかった。
記のような問題がある。 （１）これまで、導波路の形成方法としてはエッチング
法などが知られているが、位置決め精度や形状の自由度
が少なかった。 （２）また、Ｖ溝法など位置精度の追求がなされてきた
が、まだ十分な性能は実現されていない。 （３）光コネクタのロスやマルチモード系の場合のモー
ダルノイズの問題があった。 （４）光素子が簡便に脱着できない場合があった。 （５）導波ビームや空間ビームを絞ったり、形状を変化
させるためのレンズアレイなどでは、ビームとレンズの
位置合わせに手間がかかる問題があった。 （６）光の径が軸方向により異なる光の整形（例えば、
円形に近づける）を簡便にできる方法がなかった。 （７）光配線の光路を自動的に簡便に形成する手法がな
かった。 （８）光プリンタにおいて、感光ドラムに光を導く光路
を自動的に簡便に形成する手法がなかった。 （９）画像読み取りデバイスにおいて、光源、読み取り
対象物およひＰＤを結ぶ光路を自動的に簡便に形成する
手法がなかった。 （１０）ＴＦＴ駆動液晶ディスプレイにおいて、ＴＦＴ
開口部に自動的に光を導く手法がなかった。 （１１）導光路の配置で認識されるようなキーがなかっ
た。 （１２）導波路形成後に、導波路端面からの出射光でマ
ーカーを形成する手法がなかった。 （１３）導波路の途中に簡便に光デバイスを挿入する手
法がなかった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、従って、光
屈折率材料を用い、光のセルフフォーカシング効果など
を利用することにより上記（１）〜（１３）の問題点を
解決し、各種光デバイス間の光結合を簡便かつ高効率に
して各種光集積回路および光制御技術を実現しようとす
るものである。
屈折率材料を用い、光のセルフフォーカシング効果など
を利用することにより上記（１）〜（１３）の問題点を
解決し、各種光デバイス間の光結合を簡便かつ高効率に
して各種光集積回路および光制御技術を実現しようとす
るものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記課題を解
決するため、複数の光デバイスの間の全部または１部
に、光屈折率材料を配置し、１つまたは複数の光デバイ
スから光を照射して光屈折率材料に屈折率分布を付与す
ることにより形成された、光デバイス間の片方向または
双方向の光結合路を含む光コネクタであって、前記複数
の光デバイスの少なくとも１つが脱着可能であることを
特徴とする光コネクタを提供する。
決するため、複数の光デバイスの間の全部または１部
に、光屈折率材料を配置し、１つまたは複数の光デバイ
スから光を照射して光屈折率材料に屈折率分布を付与す
ることにより形成された、光デバイス間の片方向または
双方向の光結合路を含む光コネクタであって、前記複数
の光デバイスの少なくとも１つが脱着可能であることを
特徴とする光コネクタを提供する。
【０００６】本発明は、また、空間伝搬光または導波光
または放射光を光屈折率材料に入射させ、セルフフォー
カス効果を生じさせながら、屈折率分布を形成すること
を特徴とする光導波路の作製方法を提供する。本発明
は、さらに、光ファイバ、光導波路、半導体レーザ、発
光ダイオード、ＥＬ素子、空間光変調素子、レンズ、ホ
ログラム、プリズム、グレーティング、ミラー、ピンホ
ール、スリットまたはフィルタ、またはそれらのアレイ
から選ばれたデバイスに接してまたはそれと間隔をおい
て配置した光屈折率材料に、前記デバイスからの放射光
を入射させ、セルフフォーカス効果を生じさせながら、
屈折率分布を形成し、その終端をフォトダイオードアレ
イに接してまたはそれと間隔をおいて形成したことを特
徴とする光配線、光ファイバ、光導波路、半導体レー
ザ、発光ダイオード、ＥＬ素子、空間光変調素子、レン
ズ、ホログラム、プリズム、グレーティング、ミラー、
ピンホール、スリットまたはフィルタ、またはそれらの
アレイから選ばれたデバイスに接してまたはそれと間隔
をおいて配置した光屈折率材料に、前記デバイスからの
放射光を入射させ、セルフフォーカス効果を生じさせな
がら、入射端での径より狭いかまたはそれと同等の径の
導光路を形成し、その終端を感光ドラムまたは感光体に
接してまたはそれと間隔をおいて形成したことを特徴と
する光プリンタ、光ファイバ、光導波路、半導体レー
ザ、発光ダイオード、ＥＬ素子、空間光変調素子、レン
ズ、ホログラム、プリズム、グレーティング、ミラー、
ピンホール、スリットまたはフィルタ、またはそれらの
アレイから選ばれたデバイスに接してまたはそれと間隔
をおいて配置した光屈折率材料に、前記デバイスからの
放射光を入射させ、セルフフォーカス効果を生じさせな
がら、端面付近に配置した光反射体で光を反射させて入
射端での径より狭いかまたはそれと同等の径の折れ曲が
り導光路を形成し、その終端をフォトダイオードＰＤに
接してまたはそれと間隔をおいて形成したことを特徴と
する画像読み取りデバイス、ＴＦＴ駆動液晶ディスプレ
イにおいて、ＴＦＴ形成基板またはこれと対向する基板
上に光屈折率材料を配置し、ＴＦＴが形成された基板側
から光を照射し、開口部を通過した光により光屈折率材
料に屈折率分布を形成したことを特徴とするＬＣＤディ
スプレイ、光ファイバ、光導波路、半導体レーザ、発光
ダイオード、ＥＬ素子、空間光変調素子、レンズ、ホロ
グラム、プリズム、グレーティング、ミラー、ピンホー
ル、スリットまたはフィルタ、またはそれらのアレイか
ら選ばれたデバイスに接してまたはそれと間隔をおいて
配置した光屈折率材料に、前記デバイスからの放射光を
入射させ、セルフフォーカス効果を生じさせながら、入
射端での径より狭いかまたはそれと同等の径の導光路を
形成し、その終端をフォトダイオードアレイに接してま
たはそれと間隔をおいて形成した光配線の途中に１つ以
上の切断を施したことを特徴とする光キー、形成された
導波路の端面を含む領域に光屈折率材料を配置し、導波
路からの出射光でマーカーを形成することを特徴とする
マーカの形成方法、複数の光デバイスを形成または設置
し、その前にまたは同時にまたはその後にそれらの間の
光路の途中に他の光デバイスを形成し、その前にまたは
同時にまたはその後に光屈折率材料を配置し、光デバイ
スの少なくとも１つから光を出射して導光路を形成する
ことを特徴とする光回路デバイスの作製方法、並びに１
個の光デバイスを形成または設置し、その前にまたは同
時にまたはその後に他の光デバイスを形成し、その前に
または同時にまたはその後に光屈折率材料を配置し、光
デバイスの少なくとも１つから光を出射して導光路を形
成することを特徴とする光回路デバイスの作製方法、を
提供する。
または放射光を光屈折率材料に入射させ、セルフフォー
カス効果を生じさせながら、屈折率分布を形成すること
を特徴とする光導波路の作製方法を提供する。本発明
は、さらに、光ファイバ、光導波路、半導体レーザ、発
光ダイオード、ＥＬ素子、空間光変調素子、レンズ、ホ
ログラム、プリズム、グレーティング、ミラー、ピンホ
ール、スリットまたはフィルタ、またはそれらのアレイ
から選ばれたデバイスに接してまたはそれと間隔をおい
て配置した光屈折率材料に、前記デバイスからの放射光
を入射させ、セルフフォーカス効果を生じさせながら、
屈折率分布を形成し、その終端をフォトダイオードアレ
イに接してまたはそれと間隔をおいて形成したことを特
徴とする光配線、光ファイバ、光導波路、半導体レー
ザ、発光ダイオード、ＥＬ素子、空間光変調素子、レン
ズ、ホログラム、プリズム、グレーティング、ミラー、
ピンホール、スリットまたはフィルタ、またはそれらの
アレイから選ばれたデバイスに接してまたはそれと間隔
をおいて配置した光屈折率材料に、前記デバイスからの
放射光を入射させ、セルフフォーカス効果を生じさせな
がら、入射端での径より狭いかまたはそれと同等の径の
導光路を形成し、その終端を感光ドラムまたは感光体に
接してまたはそれと間隔をおいて形成したことを特徴と
する光プリンタ、光ファイバ、光導波路、半導体レー
ザ、発光ダイオード、ＥＬ素子、空間光変調素子、レン
ズ、ホログラム、プリズム、グレーティング、ミラー、
ピンホール、スリットまたはフィルタ、またはそれらの
アレイから選ばれたデバイスに接してまたはそれと間隔
をおいて配置した光屈折率材料に、前記デバイスからの
放射光を入射させ、セルフフォーカス効果を生じさせな
がら、端面付近に配置した光反射体で光を反射させて入
射端での径より狭いかまたはそれと同等の径の折れ曲が
り導光路を形成し、その終端をフォトダイオードＰＤに
接してまたはそれと間隔をおいて形成したことを特徴と
する画像読み取りデバイス、ＴＦＴ駆動液晶ディスプレ
イにおいて、ＴＦＴ形成基板またはこれと対向する基板
上に光屈折率材料を配置し、ＴＦＴが形成された基板側
から光を照射し、開口部を通過した光により光屈折率材
料に屈折率分布を形成したことを特徴とするＬＣＤディ
スプレイ、光ファイバ、光導波路、半導体レーザ、発光
ダイオード、ＥＬ素子、空間光変調素子、レンズ、ホロ
グラム、プリズム、グレーティング、ミラー、ピンホー
ル、スリットまたはフィルタ、またはそれらのアレイか
ら選ばれたデバイスに接してまたはそれと間隔をおいて
配置した光屈折率材料に、前記デバイスからの放射光を
入射させ、セルフフォーカス効果を生じさせながら、入
射端での径より狭いかまたはそれと同等の径の導光路を
形成し、その終端をフォトダイオードアレイに接してま
たはそれと間隔をおいて形成した光配線の途中に１つ以
上の切断を施したことを特徴とする光キー、形成された
導波路の端面を含む領域に光屈折率材料を配置し、導波
路からの出射光でマーカーを形成することを特徴とする
マーカの形成方法、複数の光デバイスを形成または設置
し、その前にまたは同時にまたはその後にそれらの間の
光路の途中に他の光デバイスを形成し、その前にまたは
同時にまたはその後に光屈折率材料を配置し、光デバイ
スの少なくとも１つから光を出射して導光路を形成する
ことを特徴とする光回路デバイスの作製方法、並びに１
個の光デバイスを形成または設置し、その前にまたは同
時にまたはその後に他の光デバイスを形成し、その前に
または同時にまたはその後に光屈折率材料を配置し、光
デバイスの少なくとも１つから光を出射して導光路を形
成することを特徴とする光回路デバイスの作製方法、を
提供する。
【０００７】
【発明の実施の形態】以下に、本発明の実施の形態を、
添付図面を参照しながら説明する。図１は、ファイバ光
コネクタのいくつかの例を示す模式図である。図１
（ａ）では、ＬＤ／マルチモードファイバについて例示
した。ＬＤ／ファイバ間の全部または１部に、光屈折率
材料を配置し、ファイバまたはＬＤ、または両方から光
を照射して光屈折率材料に屈折率分布を付与し、光結合
路を形成する。ＬＤから書き込む場合は広がった屈折率
分布を、ファイバから書き込む場合はセルフフォーカス
による屈折率分布を形成するような書き込み条件を用い
る。両側から、ＳＯＬＮＥＴ方式（自己組織化光導波路
網、特願平６−１４０５０２号参照）で書き込むことも
できる。ここで、光屈折率材料をＬＤ側またはファイバ
側のいずれかに密着させるか、または両側に密着させ、
途中を離しておくなどの方法により、脱着が容易とな
る。ファイバはシングルモードでもよく、これによって
も同様なことができる。また、離れている場所と書き込
み側との相関はなく、例えば、上段に示す如く、両デバ
イスを対向させ、ファイバ側から書き込むこともできる
（上段の例示はＬＤ側からの書き込みの場合である
が）。この配置でファイバ側から書き込むと、ファイバ
と光屈折率材料とが離れていても、例えば、中段のよう
な分布が形成される。図１（ｂ）では、マルチモードフ
ァイバ間の結合を例示した。上段は左側からのセルフフ
ォーカス利用の書き込み、中段は右側から広がった屈折
率分布の書き込み（パルス書込み）、そして下段はそれ
らの両方を行った場合である。下段の場合は、配置され
ている光屈折率材料を両ファイバにより別々の場所で露
光してものであってもよい。これらの方法により左から
右への光伝送に対し、モーダルノイズが低減できる。図
１（ｃ）は、ファイバ／ＰＤ間の結合であり、ファイバ
からセルフフォーカス利用の書き込みを行う。
添付図面を参照しながら説明する。図１は、ファイバ光
コネクタのいくつかの例を示す模式図である。図１
（ａ）では、ＬＤ／マルチモードファイバについて例示
した。ＬＤ／ファイバ間の全部または１部に、光屈折率
材料を配置し、ファイバまたはＬＤ、または両方から光
を照射して光屈折率材料に屈折率分布を付与し、光結合
路を形成する。ＬＤから書き込む場合は広がった屈折率
分布を、ファイバから書き込む場合はセルフフォーカス
による屈折率分布を形成するような書き込み条件を用い
る。両側から、ＳＯＬＮＥＴ方式（自己組織化光導波路
網、特願平６−１４０５０２号参照）で書き込むことも
できる。ここで、光屈折率材料をＬＤ側またはファイバ
側のいずれかに密着させるか、または両側に密着させ、
途中を離しておくなどの方法により、脱着が容易とな
る。ファイバはシングルモードでもよく、これによって
も同様なことができる。また、離れている場所と書き込
み側との相関はなく、例えば、上段に示す如く、両デバ
イスを対向させ、ファイバ側から書き込むこともできる
（上段の例示はＬＤ側からの書き込みの場合である
が）。この配置でファイバ側から書き込むと、ファイバ
と光屈折率材料とが離れていても、例えば、中段のよう
な分布が形成される。図１（ｂ）では、マルチモードフ
ァイバ間の結合を例示した。上段は左側からのセルフフ
ォーカス利用の書き込み、中段は右側から広がった屈折
率分布の書き込み（パルス書込み）、そして下段はそれ
らの両方を行った場合である。下段の場合は、配置され
ている光屈折率材料を両ファイバにより別々の場所で露
光してものであってもよい。これらの方法により左から
右への光伝送に対し、モーダルノイズが低減できる。図
１（ｃ）は、ファイバ／ＰＤ間の結合であり、ファイバ
からセルフフォーカス利用の書き込みを行う。
【０００８】また、図２に示すように、光路にミラーを
配置し、直角方向のコネクタを形成することもできる。
導波路基板から出射した光で光屈折率ポリマ中に屈折率
分布を書き込むものである。図は、強くセルフフォーカ
スさせた場合で、基板からの出射をしぼっているが、よ
り弱いセルフフォーカス効果を利用して、ほぼ同一の広
がりで導波させたり、あるいは広がりながら導波させる
こともできる。
配置し、直角方向のコネクタを形成することもできる。
導波路基板から出射した光で光屈折率ポリマ中に屈折率
分布を書き込むものである。図は、強くセルフフォーカ
スさせた場合で、基板からの出射をしぼっているが、よ
り弱いセルフフォーカス効果を利用して、ほぼ同一の広
がりで導波させたり、あるいは広がりながら導波させる
こともできる。
【０００９】本発明に有用な光屈折率材料としては、例
えば、アクリル系バインダやエポキシ系バインダ（ポリ
マ、オリゴマもしくはモノマ）に高屈折率なカルバゾー
ルなどを添加し、さらに増感剤、重合開始剤などを添加
したフォトポリマを用いることができる。かかる材料で
は、光照射部の屈折率が高くなる。また、感度は通常４
００〜７００ｎｍにある。書き込まれた屈折率分布は、
加熱、光照射などにより固定される。また、紫外（Ｕ
Ｖ）光照射や加熱処理により、硬化度や安定度の増強が
可能である。もちろん、材料は、これに限定されるもの
ではなく、他のポリマやガラスなど、光照射で屈折率が
変化するものであればいかなるものであってもよい。ま
た、増感剤を添加して、長波長増感を行ってもよい。さ
らに、ＬＤ光吸収性物質の例としては、ジフタロシアニ
ン、ポリメチン、カヤソーブ（Ｋａｙａｓｏｒｂ）ＩＲ
−７５０，ＩＲＧ−００２，ＩＲＧ−００３，ＩＲ−８
２０，ＩＲＧ−０２２，ＩＲＧ−０２３：ＣＹ−２，Ｃ
Ｙ−４，ＣＹ−９およびＣＹ２０（いずれも日本化薬株
式会社商標）などがある。
えば、アクリル系バインダやエポキシ系バインダ（ポリ
マ、オリゴマもしくはモノマ）に高屈折率なカルバゾー
ルなどを添加し、さらに増感剤、重合開始剤などを添加
したフォトポリマを用いることができる。かかる材料で
は、光照射部の屈折率が高くなる。また、感度は通常４
００〜７００ｎｍにある。書き込まれた屈折率分布は、
加熱、光照射などにより固定される。また、紫外（Ｕ
Ｖ）光照射や加熱処理により、硬化度や安定度の増強が
可能である。もちろん、材料は、これに限定されるもの
ではなく、他のポリマやガラスなど、光照射で屈折率が
変化するものであればいかなるものであってもよい。ま
た、増感剤を添加して、長波長増感を行ってもよい。さ
らに、ＬＤ光吸収性物質の例としては、ジフタロシアニ
ン、ポリメチン、カヤソーブ（Ｋａｙａｓｏｒｂ）ＩＲ
−７５０，ＩＲＧ−００２，ＩＲＧ−００３，ＩＲ−８
２０，ＩＲＧ−０２２，ＩＲＧ−０２３：ＣＹ−２，Ｃ
Ｙ−４，ＣＹ−９およびＣＹ２０（いずれも日本化薬株
式会社商標）などがある。
【００１０】図３は、各種光コネクタの例を模式的に示
す図である。これらは両側書き込みのＳＯＬＮＥＴ方式
により形成されたものである（ファイバ／ＰＤ結合につ
いては片側書き込みである）。ここでは、光屈折率材料
は、両方のデバイスから離れている。この場合には、材
料をプレート状にし、デバイス間に挿入すればよい。こ
れらの例でも、図１に示したように、光屈折率材料をデ
バイスに密着させた構成をとってもよい。
す図である。これらは両側書き込みのＳＯＬＮＥＴ方式
により形成されたものである（ファイバ／ＰＤ結合につ
いては片側書き込みである）。ここでは、光屈折率材料
は、両方のデバイスから離れている。この場合には、材
料をプレート状にし、デバイス間に挿入すればよい。こ
れらの例でも、図１に示したように、光屈折率材料をデ
バイスに密着させた構成をとってもよい。
【００１１】図４には、マルチモードファイバ間のコネ
クタ部の詳細構造の例を示す。有用なデバイスとして
は、上記に例示したものに限らず、例えば、光導波路、
発光ダイオード、ＥＬ素子、空間光変調素子、レンズ、
ホログラム、プリズム、グレーティング、ミラー、ピン
ホール、スリット、フィルタなどを用いることもでき
る。
クタ部の詳細構造の例を示す。有用なデバイスとして
は、上記に例示したものに限らず、例えば、光導波路、
発光ダイオード、ＥＬ素子、空間光変調素子、レンズ、
ホログラム、プリズム、グレーティング、ミラー、ピン
ホール、スリット、フィルタなどを用いることもでき
る。
【００１２】図５は、空間伝搬光または導波光または放
射光を光屈折率材料に入射させ、セルフフォーカス効果
を生じさせながら、屈折率分布を形成させて得られた光
導波路を応用した例を示す模式図である。図５（ａ）
は、空間ビームまたは導波ビームを光屈折率材料に入射
させ、セルフフォーカス効果によりビームを絞った例で
ある。図５（ｂ）はマスクでビームパターンを形成する
例である。図５（ｃ）は、空間ビームのアレイを絞った
例である。図５（ｄ）は、光の径が軸方向により異な
り、ビームが円形でない場合に、セルフフォーカス効果
によりビームを円形に近づける例である。例えば、横と
縦でビーム径が異なっていても、セルフフォーカス効果
により同等の径に近づくように変化させることができ
る。図５（ｅ）は、ファイバアレイからの光をセルフフ
ォーカス効果により絞り、ＰＤに集光させた例である。
これにより、光ファイバに限らず、光導波路、半導体レ
ーザ、発光ダイオード、ＥＬ素子、空間光変調素子、レ
ンズ、ホログラム、プリズム、グレーティング、ミラ
ー、ピンホール、スリットまたはフィルタ、またはそれ
らのアレイから選ばれたデバイスに接して、またはそれ
と間隔をおいて光屈折率材料を配置し、これらからの出
射光を入射させ、セルフフォーカス効果を生じさせなが
ら、屈折率分布を形成し、その終端をフォトダイオード
アレイに接してまたはそれと間隔をおいて形成して光配
線を実現することができる。図５（ｆ）は、ＥＬまたは
ＬＤの放射光を集光した例である。図５（ｇ）は、ＥＬ
素子、ＬＥＤ（発光ダイオード）、ＬＣライトバルブ
（空間光変調素子）などからの光を集光し、感光ドラム
に照射する光プリンタの例である。出射光源としては、
これらに限らず、光ファイバ、光導波路、半導体レー
ザ、レンズ、ホログラム、プリズム、グレーティング、
ミラー、ピンホール、スリットまたはフィルタ、または
それらのアレイから選ばれたものを用いてもよい。これ
らに接してまたはそれと間隔をおいて光屈折率材料を配
置し、上記デバイスからの出射光を入射させ、セルフフ
ォーカス効果を生じさせながら、入射端での径より狭い
かまたはそれと同等の径の導光路を形成し、その終端を
感光ドラムまたは感光体に接してまたはそれと間隔をお
いて形成することにより、光プリンタを実現することが
できる。さらに、図５（ｈ）は、ＥＬ素子、ＬＥＤなど
の光を集光し、まず原稿面に導き、次いでその反射光を
ＰＤに導く、画像読み取り装置の一例である。ＥＬ素
子、ＬＥＤなどの光のほか、光ファイバ、光導波路、半
導体レーザ、空間光変調素子、レンズ、ホログラム、プ
リズム、グレーティング、ミラー、ピンホール、スリッ
トまたはフィルタ、またはそれらのアレイから選ばれた
デバイスを用いてもよい。これらに接してまたはそれと
間隔をおいて光屈折率材料を配置し、上記デバイスから
の出射光を入射させ、セルフフォーカス効果を生じさせ
ながら、端面付近に配置した光反射体で光を反射させて
入射端での径より狭いかまたはそれと同等の径の折れ曲
がり導光路を形成し、その終端をＰＤに接してまたはそ
れと間隔をおいて形成することにより、画像読み取りデ
バイスを実現することができる。例えば、まず原稿面に
ミラーを置き、露光することにより作製することができ
る。
射光を光屈折率材料に入射させ、セルフフォーカス効果
を生じさせながら、屈折率分布を形成させて得られた光
導波路を応用した例を示す模式図である。図５（ａ）
は、空間ビームまたは導波ビームを光屈折率材料に入射
させ、セルフフォーカス効果によりビームを絞った例で
ある。図５（ｂ）はマスクでビームパターンを形成する
例である。図５（ｃ）は、空間ビームのアレイを絞った
例である。図５（ｄ）は、光の径が軸方向により異な
り、ビームが円形でない場合に、セルフフォーカス効果
によりビームを円形に近づける例である。例えば、横と
縦でビーム径が異なっていても、セルフフォーカス効果
により同等の径に近づくように変化させることができ
る。図５（ｅ）は、ファイバアレイからの光をセルフフ
ォーカス効果により絞り、ＰＤに集光させた例である。
これにより、光ファイバに限らず、光導波路、半導体レ
ーザ、発光ダイオード、ＥＬ素子、空間光変調素子、レ
ンズ、ホログラム、プリズム、グレーティング、ミラ
ー、ピンホール、スリットまたはフィルタ、またはそれ
らのアレイから選ばれたデバイスに接して、またはそれ
と間隔をおいて光屈折率材料を配置し、これらからの出
射光を入射させ、セルフフォーカス効果を生じさせなが
ら、屈折率分布を形成し、その終端をフォトダイオード
アレイに接してまたはそれと間隔をおいて形成して光配
線を実現することができる。図５（ｆ）は、ＥＬまたは
ＬＤの放射光を集光した例である。図５（ｇ）は、ＥＬ
素子、ＬＥＤ（発光ダイオード）、ＬＣライトバルブ
（空間光変調素子）などからの光を集光し、感光ドラム
に照射する光プリンタの例である。出射光源としては、
これらに限らず、光ファイバ、光導波路、半導体レー
ザ、レンズ、ホログラム、プリズム、グレーティング、
ミラー、ピンホール、スリットまたはフィルタ、または
それらのアレイから選ばれたものを用いてもよい。これ
らに接してまたはそれと間隔をおいて光屈折率材料を配
置し、上記デバイスからの出射光を入射させ、セルフフ
ォーカス効果を生じさせながら、入射端での径より狭い
かまたはそれと同等の径の導光路を形成し、その終端を
感光ドラムまたは感光体に接してまたはそれと間隔をお
いて形成することにより、光プリンタを実現することが
できる。さらに、図５（ｈ）は、ＥＬ素子、ＬＥＤなど
の光を集光し、まず原稿面に導き、次いでその反射光を
ＰＤに導く、画像読み取り装置の一例である。ＥＬ素
子、ＬＥＤなどの光のほか、光ファイバ、光導波路、半
導体レーザ、空間光変調素子、レンズ、ホログラム、プ
リズム、グレーティング、ミラー、ピンホール、スリッ
トまたはフィルタ、またはそれらのアレイから選ばれた
デバイスを用いてもよい。これらに接してまたはそれと
間隔をおいて光屈折率材料を配置し、上記デバイスから
の出射光を入射させ、セルフフォーカス効果を生じさせ
ながら、端面付近に配置した光反射体で光を反射させて
入射端での径より狭いかまたはそれと同等の径の折れ曲
がり導光路を形成し、その終端をＰＤに接してまたはそ
れと間隔をおいて形成することにより、画像読み取りデ
バイスを実現することができる。例えば、まず原稿面に
ミラーを置き、露光することにより作製することができ
る。
【００１３】これらの例では、書き込み光と実際に使用
する光の波長は同一でもあっても、異なっていてもよ
い。セルフフォーカス効果により、本来の光ビームの広
がりに比べ、狭い広がりで屈折率分布ができ、入射端で
の径より狭いかまたはそれと同等の径の導光路が形成さ
れ、光の絞り込みが有効に行われる。
する光の波長は同一でもあっても、異なっていてもよ
い。セルフフォーカス効果により、本来の光ビームの広
がりに比べ、狭い広がりで屈折率分布ができ、入射端で
の径より狭いかまたはそれと同等の径の導光路が形成さ
れ、光の絞り込みが有効に行われる。
【００１４】光は、空間伝搬光、光ファイバ、光導波路
もしく半導体レーザ、または光ファイバ、光導波路もし
くは半導体レーザの導波光、または発光ダイオード、Ｅ
Ｌ素子、空間光変調素子、レンズ、ホログラム、プリズ
ム、グレーティング、ミラー、ピンホール、スリットも
しくはフィルタから選ばれたものからの放射光などを適
用することができる。また、光が通過する領域の全部ま
たは少なくとも一部に、ミラー、グレーティング、ホロ
グラム、プリズム、レンズ、導波路、ピンホール、スリ
ットまたはフィルタを配置してもよい。
もしく半導体レーザ、または光ファイバ、光導波路もし
くは半導体レーザの導波光、または発光ダイオード、Ｅ
Ｌ素子、空間光変調素子、レンズ、ホログラム、プリズ
ム、グレーティング、ミラー、ピンホール、スリットも
しくはフィルタから選ばれたものからの放射光などを適
用することができる。また、光が通過する領域の全部ま
たは少なくとも一部に、ミラー、グレーティング、ホロ
グラム、プリズム、レンズ、導波路、ピンホール、スリ
ットまたはフィルタを配置してもよい。
【００１５】図６は、ＴＦＴ駆動液晶ディスプレイにお
いて、ＴＦＴ形成基板またはこれと対向する基板上に光
屈折率材料を配置し、ＴＦＴが形成された基板側から光
を照射し、開口部を通過した光により光屈折率材料に屈
折率分布を形成し、バックライトなどの光の有効利用を
実現した例を示す模式図であるが、図には配向膜などの
細部は示されていない。図６（ａ）は、電極を形成した
対向基板側に光屈折率材料を配置し、ＴＦＴ基板側から
書き込み光を照射した例である。開口部を通った書き込
み光により、この場合には広がった分布を形成する。こ
の結果、開口部にセルフアラインした集光路が形成さ
れ、パネルの明るさを向上させることができる。図６
（ｂ）および（ｃ）は、光屈折率層形成後に電極を形成
した例である。これにより液晶層への電圧印加効率を落
とすことなく、光の利用効率を上げることができる。図
６（ｄ）は、対向基板側からセルフフォーカスにより集
光路を形成した例である。この場合、ＴＦＴ基板側から
も書き込み光を入射させ、ＳＯＬＮＥＴ方式で開口部へ
のセルフアラインを行うことが有効である。
いて、ＴＦＴ形成基板またはこれと対向する基板上に光
屈折率材料を配置し、ＴＦＴが形成された基板側から光
を照射し、開口部を通過した光により光屈折率材料に屈
折率分布を形成し、バックライトなどの光の有効利用を
実現した例を示す模式図であるが、図には配向膜などの
細部は示されていない。図６（ａ）は、電極を形成した
対向基板側に光屈折率材料を配置し、ＴＦＴ基板側から
書き込み光を照射した例である。開口部を通った書き込
み光により、この場合には広がった分布を形成する。こ
の結果、開口部にセルフアラインした集光路が形成さ
れ、パネルの明るさを向上させることができる。図６
（ｂ）および（ｃ）は、光屈折率層形成後に電極を形成
した例である。これにより液晶層への電圧印加効率を落
とすことなく、光の利用効率を上げることができる。図
６（ｄ）は、対向基板側からセルフフォーカスにより集
光路を形成した例である。この場合、ＴＦＴ基板側から
も書き込み光を入射させ、ＳＯＬＮＥＴ方式で開口部へ
のセルフアラインを行うことが有効である。
【００１６】図７は光キーの例である。ＥＬ，ＬＥＤな
どとＰＤなどの受光素子を所定の配置で対向させ、発光
源からの出射光で光路を書き込む。途中で１または２以
上の切断を入れ、切断単位をばらばらにし、次に整合さ
せた時に、発光源からの光がすべての光路に入射した場
合、それぞれが同一のセットであると判断できる。従っ
て、これを判別可能なキーとして使用できる。すべての
単位をバラバラにすることは必ずしも必要ではなく、固
定ブロックとしてもよく、種々のセキュリティ管理やパ
ターン認識装置に応用できる。光源としては、他に光フ
ァイバ、光導波路、半導体レーザ、空間光変調素子、レ
ンズ、ホログラム、プリズム、グレーティング、ミラ
ー、ピンホール、スリットまたはフィルタ、またはそれ
らのアレイから選ばれたものなどが使用できる。これら
に接してまたはそれと間隔をおいて光屈折率材料を形成
し、これらからの出射光を入射させ、セルフフォーカス
効果を生じさせながら、入射端での径より狭いかまたは
それと同等の径の導光路を形成し、その終端をフォトダ
イオードアレイに接してまたはそれと間隔をおいて形成
して光配線し、途中で１つ以上の切断を施すことにより
光キーが実現できる。また、予め切断し、隣接させた状
態で導光路を形成してもよい。
どとＰＤなどの受光素子を所定の配置で対向させ、発光
源からの出射光で光路を書き込む。途中で１または２以
上の切断を入れ、切断単位をばらばらにし、次に整合さ
せた時に、発光源からの光がすべての光路に入射した場
合、それぞれが同一のセットであると判断できる。従っ
て、これを判別可能なキーとして使用できる。すべての
単位をバラバラにすることは必ずしも必要ではなく、固
定ブロックとしてもよく、種々のセキュリティ管理やパ
ターン認識装置に応用できる。光源としては、他に光フ
ァイバ、光導波路、半導体レーザ、空間光変調素子、レ
ンズ、ホログラム、プリズム、グレーティング、ミラ
ー、ピンホール、スリットまたはフィルタ、またはそれ
らのアレイから選ばれたものなどが使用できる。これら
に接してまたはそれと間隔をおいて光屈折率材料を形成
し、これらからの出射光を入射させ、セルフフォーカス
効果を生じさせながら、入射端での径より狭いかまたは
それと同等の径の導光路を形成し、その終端をフォトダ
イオードアレイに接してまたはそれと間隔をおいて形成
して光配線し、途中で１つ以上の切断を施すことにより
光キーが実現できる。また、予め切断し、隣接させた状
態で導光路を形成してもよい。
【００１７】図８（ａ）は、形成された導波路の端面を
含む領域に光屈折率材料を形成し、導波路からの出射光
でマーカーを形成する、マーカの形成方法を説明する模
式図である。これにより、出射コアの位置が正確にわか
り、後のプロセスがやりやすくなる。図８（ｂ）は、１
個または複数の光デバイスを形成または設置し、その前
にまたは同時にまたはその後に、それらの間の光路の途
中に他の光デバイスを形成し、その前にまたは同時にま
たはその後に光屈折率材料を配置し、光デバイスの少な
くとも１つから光を出射し、導光路を形成する、光回路
デバイスの作製方法の例を示す模式図である。ここで
は、導波路などを形成した後、フィルタとそれらの間を
満たす光屈折率材料を配置し、その後に導波路の片側、
もしくは好ましくは両側からＳＯＬＮＥＴ方式で導波路
を形成している。これにより、従来のような導波路の切
断およびその後のフィルタの挿入という面倒なプロセス
なしに光回路への光デバイスの挿入が実現できる。さら
に、フィルタと導波路のすきまを無くすことが可能なこ
とおよびフィルタをそのまま固定できることなどのメリ
ットもある。図８（ｃ）の場合も同様で、ここではＰＤ
が分波された光を受ける構成になっている。図９も分波
光回路の例を示す図である。これらの例において、光デ
バイスは、上記のものに限定されることはない。
含む領域に光屈折率材料を形成し、導波路からの出射光
でマーカーを形成する、マーカの形成方法を説明する模
式図である。これにより、出射コアの位置が正確にわか
り、後のプロセスがやりやすくなる。図８（ｂ）は、１
個または複数の光デバイスを形成または設置し、その前
にまたは同時にまたはその後に、それらの間の光路の途
中に他の光デバイスを形成し、その前にまたは同時にま
たはその後に光屈折率材料を配置し、光デバイスの少な
くとも１つから光を出射し、導光路を形成する、光回路
デバイスの作製方法の例を示す模式図である。ここで
は、導波路などを形成した後、フィルタとそれらの間を
満たす光屈折率材料を配置し、その後に導波路の片側、
もしくは好ましくは両側からＳＯＬＮＥＴ方式で導波路
を形成している。これにより、従来のような導波路の切
断およびその後のフィルタの挿入という面倒なプロセス
なしに光回路への光デバイスの挿入が実現できる。さら
に、フィルタと導波路のすきまを無くすことが可能なこ
とおよびフィルタをそのまま固定できることなどのメリ
ットもある。図８（ｃ）の場合も同様で、ここではＰＤ
が分波された光を受ける構成になっている。図９も分波
光回路の例を示す図である。これらの例において、光デ
バイスは、上記のものに限定されることはない。
【００１８】また、図１０（ａ）に示すように、例え
ば、バンドパスフィルタの両側に光屈折率材料を配置
し、ここに光ビームを照射することにより両面に導波路
（導波路アレイ）を有する波長制御デバイスが形成でき
る。ここで、バンドパスフィルタが２次元的であれば空
間デバイス、１次元的であればアレイデバイスまたは導
波路デバイスとなる。また、ファイバ間または導波路間
（ファイバアレイ間または導波路アレイ間）にバンドパ
スフィルタの両側に光屈折率材料を形成したものを配置
し、これらの両側から書き込み光を出射させることによ
り導波路を形成することができる。ここで、ファイバま
たは導波路（ファイバアレイまたは導波路アレイ）と光
屈折率材料は接していてもいなくてもよい。逆に、ファ
イバまたは導波路（ファイバアレイまたは導波路アレ
イ）側に光屈折率材料を配置して対向させ、バンドパス
フィルタの挿入後またはその前に光書き込みを行っても
よい。また、全体を一体化してもよい。図１０（ｂ）で
は、ファイバまたは導波路間に複数のデバイスを配置し
ている。例えば、かかるデバイスとしては、異なる波長
に対するバンドパスフィルタなどがある。
ば、バンドパスフィルタの両側に光屈折率材料を配置
し、ここに光ビームを照射することにより両面に導波路
（導波路アレイ）を有する波長制御デバイスが形成でき
る。ここで、バンドパスフィルタが２次元的であれば空
間デバイス、１次元的であればアレイデバイスまたは導
波路デバイスとなる。また、ファイバ間または導波路間
（ファイバアレイ間または導波路アレイ間）にバンドパ
スフィルタの両側に光屈折率材料を形成したものを配置
し、これらの両側から書き込み光を出射させることによ
り導波路を形成することができる。ここで、ファイバま
たは導波路（ファイバアレイまたは導波路アレイ）と光
屈折率材料は接していてもいなくてもよい。逆に、ファ
イバまたは導波路（ファイバアレイまたは導波路アレ
イ）側に光屈折率材料を配置して対向させ、バンドパス
フィルタの挿入後またはその前に光書き込みを行っても
よい。また、全体を一体化してもよい。図１０（ｂ）で
は、ファイバまたは導波路間に複数のデバイスを配置し
ている。例えば、かかるデバイスとしては、異なる波長
に対するバンドパスフィルタなどがある。
【００１９】
【発明の効果】本発明により、下記の課題を解決するこ
とができる。 （１）これまで、導波路の形成方法としては、エッチン
グ法などが知られているが、位置決め精度や形状の自由
度が少なかった。 （２）また、Ｖ溝法など位置精度の追求がなされてきた
が、まだ十分な性能は実現されていない。 （３）光コネクタのロスや、マルチモード系の場合のモ
ーダルノイズの問題があった。 （４）光素子が簡便に脱着できない場合があった。 （５）導波ビームや空間ビームを絞ったり形状を変化さ
せるためのレンズアレイなどでは、ビームとレンズの位
置合わせに手間がかかる問題があった。 （６）光の径が軸方向により異なる光の整形（例えば、
円形に近づける）を簡便にできる方法がなかった。 （７）光配線の光路を自動的に簡便に形成する手法がな
かった。 （８）光プリンタにおいて、感光ドラムに光を導く光路
を自動的に簡便に形成する手法がなかった。 （９）画像読み取りデバイスにおいて、光源、読み取り
対象物、ＰＤを結ぶ光路を自動的に簡便に形成する手法
がなかった。 （１０）ＴＦＴ駆動液晶ディスプレイにおいて、ＴＦＴ
開口部に自動的に光を導く手法がなかった。 （１１）導光路の配置で認識されるようなキーがなかっ
た。 （１２）導波路形成後に、導波路端面からの出射光でマ
ーカーを形成する手法がなかった。 （１３）導波路の途中に簡便に光デバイスを挿入する手
法がなかった。
とができる。 （１）これまで、導波路の形成方法としては、エッチン
グ法などが知られているが、位置決め精度や形状の自由
度が少なかった。 （２）また、Ｖ溝法など位置精度の追求がなされてきた
が、まだ十分な性能は実現されていない。 （３）光コネクタのロスや、マルチモード系の場合のモ
ーダルノイズの問題があった。 （４）光素子が簡便に脱着できない場合があった。 （５）導波ビームや空間ビームを絞ったり形状を変化さ
せるためのレンズアレイなどでは、ビームとレンズの位
置合わせに手間がかかる問題があった。 （６）光の径が軸方向により異なる光の整形（例えば、
円形に近づける）を簡便にできる方法がなかった。 （７）光配線の光路を自動的に簡便に形成する手法がな
かった。 （８）光プリンタにおいて、感光ドラムに光を導く光路
を自動的に簡便に形成する手法がなかった。 （９）画像読み取りデバイスにおいて、光源、読み取り
対象物、ＰＤを結ぶ光路を自動的に簡便に形成する手法
がなかった。 （１０）ＴＦＴ駆動液晶ディスプレイにおいて、ＴＦＴ
開口部に自動的に光を導く手法がなかった。 （１１）導光路の配置で認識されるようなキーがなかっ
た。 （１２）導波路形成後に、導波路端面からの出射光でマ
ーカーを形成する手法がなかった。 （１３）導波路の途中に簡便に光デバイスを挿入する手
法がなかった。
【図１】光ファイバコネクタの例を示す模式図。
【図２】光ファイバコネクタの他の例を示す模式図。
【図３】各種光コネクタの例を示す模式図。
【図４】マルチモードファイバ間のコネクタ部の詳細構
造の例を示す模式図。
造の例を示す模式図。
【図５】空間伝搬光、導波光または放射光を光屈折率材
料に入射させ、屈折率分布を形成させて得られた光導波
路を応用した例を示す模式図。
料に入射させ、屈折率分布を形成させて得られた光導波
路を応用した例を示す模式図。
【図６】ＴＦＴ駆動液晶ディスプレイにおいて、ＴＦＴ
形成基板またはこれと対抗する基板上に配置された光屈
折率材料に屈折率分布を形成したＬＣＤディスプレイの
例を示す模式図。
形成基板またはこれと対抗する基板上に配置された光屈
折率材料に屈折率分布を形成したＬＣＤディスプレイの
例を示す模式図。
【図７】光キーの例を示す模式図。
【図８】光回路デバイスの作成方法を説明するための模
式図。
式図。
【図９】分波光回路の例を示す模式図。
【図１０】波長制御デバイスの形成方法を説明するため
の模式図。
の模式図。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 塚本 浩司 神奈川県川崎市中原区上小田中1015番地 富士通株式会社内 (72)発明者 青木 重憲 神奈川県川崎市中原区上小田中1015番地 富士通株式会社内 (72)発明者 外山 弥 神奈川県川崎市中原区上小田中1015番地 富士通株式会社内 (72)発明者 辰浦 智 神奈川県川崎市中原区上小田中1015番地 富士通株式会社内 (72)発明者 本吉 勝貞 神奈川県川崎市中原区上小田中1015番地 富士通株式会社内 (72)発明者 米田 泰博 神奈川県川崎市中原区上小田中1015番地 富士通株式会社内
Claims (18)
- 【請求項１】 複数の光デバイスの間の全部または１部
に、光屈折率材料を配置し、１つまたは複数の光デバイ
スから光を照射して光屈折率材料に屈折率分布を付与す
ることにより形成された、光デバイス間の片方向または
双方向の光結合路を含む光コネクタであって、前記複数
の光デバイスの少なくとも１つが脱着可能であることを
特徴とする光コネクタ。 - 【請求項２】 光デバイスが、光ファイバ、光導波路、
半導体レーザ、発光ダイオード、ＥＬ素子、空間光変調
素子、フォトダイオード、レンズ、ホログラム、プリズ
ム、グレーティング、ミラー、ピンホール、スリットお
よびフィルタから選ばれたものである、請求項１記載の
光コネクタ。 - 【請求項３】 複数の光デバイスが、２個の光デバイス
であり、光屈折率材料がそれらの一方に密着している
か、または両方に密着し、その途中で切断されている、
請求項１または２記載の光コネクタ。 - 【請求項４】 空間伝搬光または導波光または放射光を
光屈折率材料に入射させ、セルフフォーカス効果を生じ
させながら、屈折率分布を形成することを特徴とする光
導波路の作製方法。 - 【請求項５】 屈折率分布が入射端での径より狭いかま
たはそれと同等の径の導光路であることを特徴とする、
請求項４記載の方法。 - 【請求項６】 軸方向により光の径が異なる光を入射さ
せることを特徴とする、請求項４または５記載の方法。 - 【請求項７】 光が、空間伝搬光、または光ファイバ、
光導波路もしくは半導体レーザ、または光ファイバ、光
導波路もしくは半導体レーザの導波光、または発光ダイ
オード、ＥＬ素子、空間光変調素子、レンズ、ホログラ
ム、プリズム、グレーティング、ミラー、ピンホール、
スリットもしくはフィルタから選ばれたものからの放射
光である、請求項４または５記載の方法。 - 【請求項８】 光が通過する領域の全部または少なくと
も一部に、ミラー、グレーティング、ホログラム、プリ
ズム、レンズ、導波路、ピンホール、スリットまたはフ
ィルタ、またはそれらの組み合わせが配置される、請求
項４〜６のいずれかに記載の方法。 - 【請求項９】 光ファイバ、光導波路、半導体レーザ、
発光ダイオード、ＥＬ素子、空間光変調素子、レンズ、
ホログラム、プリズム、グレーティング、ミラー、ピン
ホール、スリットまたはフィルタ、またはそれらのアレ
イから選ばれたデバイスに接してまたはそれと間隔をお
いて配置した光屈折率材料に、前記デバイスからの放射
光を入射させ、セルフフォーカス効果を生じさせなが
ら、屈折率分布を形成し、その終端をフォトダイオード
アレイに接してまたはそれと間隔をおいて形成したこと
を特徴とする光配線。 - 【請求項１０】 屈折率分布が入射端での径より狭いか
またはそれと同等の径の導光路であることを特徴とす
る、請求項９記載の光配線。 - 【請求項１１】 光ファイバ、光導波路、半導体レー
ザ、発光ダイオード、ＥＬ素子、空間光変調素子、レン
ズ、ホログラム、プリズム、グレーティング、ミラー、
ピンホール、スリットまたはフィルタ、またはそれらの
アレイから選ばれたデバイスに接してまたはそれと間隔
をおいて配置した光屈折率材料に、前記デバイスからの
放射光を入射させ、セルフフォーカス効果を生じさせな
がら、入射端での径より狭いかまたはそれと同等の径の
導光路を形成し、その終端を感光ドラムまたは感光体に
接してまたはそれと間隔をおいて形成したことを特徴と
する光プリンタ。 - 【請求項１２】 光ファイバ、光導波路、半導体レー
ザ、発光ダイオード、ＥＬ素子、空間光変調素子、レン
ズ、ホログラム、プリズム、グレーティング、ミラー、
ピンホール、スリットまたはフィルタ、またはそれらの
アレイから選ばれたデバイスに接してまたはそれと間隔
をおいて配置した光屈折率材料に、前記デバイスからの
放射光を入射させ、セルフフォーカス効果を生じさせな
がら、端面付近に配置した光反射体で光を反射させて入
射端での径より狭いかまたはそれと同等の径の折れ曲が
り導光路を形成し、その終端をフォトダイオードＰＤに
接してまたはそれと間隔をおいて形成したことを特徴と
する画像読み取りデバイス。 - 【請求項１３】 ＴＦＴ駆動液晶ディスプレイにおい
て、ＴＦＴ形成基板またはこれと対向する基板上に光屈
折率材料を配置し、ＴＦＴが形成された基板側から光を
照射し、開口部を通過した光により光屈折率材料に屈折
率分布を形成したことを特徴とするＬＣＤディスプレ
イ。 - 【請求項１４】 光ファイバ、光導波路、半導体レー
ザ、発光ダイオード、ＥＬ素子、空間光変調素子、レン
ズ、ホログラム、プリズム、グレーティング、ミラー、
ピンホール、スリットまたはフィルタ、またはそれらの
アレイから選ばれたデバイスに接してまたはそれと間隔
をおいて配置した光屈折率材料に、前記デバイスからの
放射光を入射させ、セルフフォーカス効果を生じさせな
がら、入射端での径より狭いかまたはそれと同等の径の
導光路を形成し、その終端をフォトダイオードアレイに
接してまたはそれと間隔をおいて形成した光配線の途中
に１つ以上の切断を施したことを特徴とする光キー。 - 【請求項１５】 予め切断し、隣接させた状態で導光路
を形成したことを特徴とする、請求項１４記載の光キ
ー。 - 【請求項１６】 形成された導波路の端面を含む領域に
光屈折率材料を配置し、導波路からの出射光でマーカー
を形成することを特徴とするマーカの形成方法。 - 【請求項１７】 複数の光デバイスを形成または設置
し、その前にまたは同時にまたはその後にそれらの間の
光路の途中に他の光デバイスを形成し、その前にまたは
同時にまたはその後に光屈折率材料を配置し、光デバイ
スの少なくとも１つから光を出射して導光路を形成する
ことを特徴とする光回路デバイスの作製方法。 - 【請求項１８】 １個の光デバイスを形成または設置
し、その前にまたは同時にまたはその後に他の光デバイ
スを形成し、その前にまたは同時にまたはその後に光屈
折率材料を配置し、光デバイスの少なくとも１つから光
を出射して導光路を形成することを特徴とする光回路デ
バイスの作製方法。
Priority Applications (2)
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|---|---|---|---|
| JP7241924A JPH0990153A (ja) | 1995-09-20 | 1995-09-20 | 光導波路の作製方法およびそれにより得られるデバイス |
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Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7241924A JPH0990153A (ja) | 1995-09-20 | 1995-09-20 | 光導波路の作製方法およびそれにより得られるデバイス |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
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| JPH0990153A true JPH0990153A (ja) | 1997-04-04 |
Family
ID=17081594
Family Applications (1)
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| JP7241924A Withdrawn JPH0990153A (ja) | 1995-09-19 | 1995-09-20 | 光導波路の作製方法およびそれにより得られるデバイス |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0990153A (ja) |
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