JPH0978230A - シート状プラズマ発生装置 - Google Patents
シート状プラズマ発生装置Info
- Publication number
- JPH0978230A JPH0978230A JP7239811A JP23981195A JPH0978230A JP H0978230 A JPH0978230 A JP H0978230A JP 7239811 A JP7239811 A JP 7239811A JP 23981195 A JP23981195 A JP 23981195A JP H0978230 A JPH0978230 A JP H0978230A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sheet
- plasma
- plasma flow
- vacuum chamber
- flow
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Plasma Technology (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 プラズマガン３の電極３ｂ、真空室１等に接
触させることなくプラズマ流Ｐを所望のシート状に変形
させる。 【解決手段】 プラズマガン３からの円柱状プラズマ流
を空芯コイル８の発生する磁場によって真空室１方向に
引き出した後、該円柱形状プラズマ流を一対の第１永久
磁石１７で挟み込むことによりシート状に変形するシー
ト状プラズマ発生装置において、一対の永久磁石１７に
よりシート状に変形されたシート状プラズマ流Ｐをさら
に挟み込むための一対の第２永久磁石１８を真空室１内
に備えている。
触させることなくプラズマ流Ｐを所望のシート状に変形
させる。 【解決手段】 プラズマガン３からの円柱状プラズマ流
を空芯コイル８の発生する磁場によって真空室１方向に
引き出した後、該円柱形状プラズマ流を一対の第１永久
磁石１７で挟み込むことによりシート状に変形するシー
ト状プラズマ発生装置において、一対の永久磁石１７に
よりシート状に変形されたシート状プラズマ流Ｐをさら
に挟み込むための一対の第２永久磁石１８を真空室１内
に備えている。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマガンから
の円柱状プラズマ流を空芯コイルから発生する磁場によ
って真空室方向に引き出した後、該円柱状プラズマ流を
一対の永久磁石で挟み込むことによりシート状に変形す
るシート状プラズマ発生装置装置に関する。
の円柱状プラズマ流を空芯コイルから発生する磁場によ
って真空室方向に引き出した後、該円柱状プラズマ流を
一対の永久磁石で挟み込むことによりシート状に変形す
るシート状プラズマ発生装置装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、シート状プラズマ発生装置を組み
込んだ成膜装置として、例えば、図４に示す蒸着装置が
使用されている。上記蒸着装置３０は、真空室１の天井
部２に設置された圧力勾配型プラズマガン３と、該プラ
ズマガン３と天井部２のプラズマ通過部２ａとの間に設
置された一対の永久磁石５と、真空室１の底部に載置さ
れたプラズマ収束用永久磁石６、及び天井部２の外方に
設置された空芯コイル８とで構成されている。また、上
記収束用永久磁石６の上部には、蒸発材料１０が投入さ
れたるつぼ１１が載置してある。上記プラズマガン３の
カソード３ｃには直流電源Ｖ１のマイナスが接続してあ
り、第１中間電極３ａ、第２中間電極３ｂは、それぞれ
抵抗Ｒ１，Ｒ２を介して上記直流電源Ｖ１のプラスが接
続してある。また、永久磁石６は直流電源Ｖ１のプラス
が接続してある。
込んだ成膜装置として、例えば、図４に示す蒸着装置が
使用されている。上記蒸着装置３０は、真空室１の天井
部２に設置された圧力勾配型プラズマガン３と、該プラ
ズマガン３と天井部２のプラズマ通過部２ａとの間に設
置された一対の永久磁石５と、真空室１の底部に載置さ
れたプラズマ収束用永久磁石６、及び天井部２の外方に
設置された空芯コイル８とで構成されている。また、上
記収束用永久磁石６の上部には、蒸発材料１０が投入さ
れたるつぼ１１が載置してある。上記プラズマガン３の
カソード３ｃには直流電源Ｖ１のマイナスが接続してあ
り、第１中間電極３ａ、第２中間電極３ｂは、それぞれ
抵抗Ｒ１，Ｒ２を介して上記直流電源Ｖ１のプラスが接
続してある。また、永久磁石６は直流電源Ｖ１のプラス
が接続してある。
【０００３】上記シート状プラズマ発生装置３０を組み
込んだ蒸着装置３１では、真空室１を１０-5〜１０-6Ｔ
ｏｒｒに真空排気した後、プラズマガン３で発生した円
柱状プラズマ流を永久磁石５の磁場により挟み込んでシ
ート状プラズマ流Ｐに変形し、空芯コイル８で真空室１
内に引き込んだ後、収束用永久磁石６によりるつぼ１１
に収束させ、蒸発原料１０を蒸発させる。蒸発した蒸発
原料１０は、真空室１内に投入された反応ガスと反応し
て、図示しない基板に反応生成物からなる膜となって成
膜される。
込んだ蒸着装置３１では、真空室１を１０-5〜１０-6Ｔ
ｏｒｒに真空排気した後、プラズマガン３で発生した円
柱状プラズマ流を永久磁石５の磁場により挟み込んでシ
ート状プラズマ流Ｐに変形し、空芯コイル８で真空室１
内に引き込んだ後、収束用永久磁石６によりるつぼ１１
に収束させ、蒸発原料１０を蒸発させる。蒸発した蒸発
原料１０は、真空室１内に投入された反応ガスと反応し
て、図示しない基板に反応生成物からなる膜となって成
膜される。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】上記構成からなるシー
ト状プラズマ発生装置３０では、成膜面積を広げるため
円柱状プラズマ流をシート状に変形させている。しかし
ながら、永久磁石５を大型化したり、該磁石５の磁束密
度を上げてプラズマ流Ｐのシート幅を広げて成膜面積の
拡大を図ると、プラズマ流Ｐが第２中間電極３ｂ及びプ
ラズマ通過部２ａに接触して、これらを加熱するので、
プラズマガン３が故障したり、パッキン１４が焼損して
真空室１にリークが発生する。すなわち、上記シート状
プラズマ発生装置３０では、プラズマ流のシート幅をあ
まり広げることができないという問題点があった。
ト状プラズマ発生装置３０では、成膜面積を広げるため
円柱状プラズマ流をシート状に変形させている。しかし
ながら、永久磁石５を大型化したり、該磁石５の磁束密
度を上げてプラズマ流Ｐのシート幅を広げて成膜面積の
拡大を図ると、プラズマ流Ｐが第２中間電極３ｂ及びプ
ラズマ通過部２ａに接触して、これらを加熱するので、
プラズマガン３が故障したり、パッキン１４が焼損して
真空室１にリークが発生する。すなわち、上記シート状
プラズマ発生装置３０では、プラズマ流のシート幅をあ
まり広げることができないという問題点があった。
【０００５】そこで本発明は、上記問題点に鑑みてなさ
れたもので、プラズマ流を電極、プラズマ通過部等に接
触させることなく所望のシート幅とすることができるシ
ート状プラズマ発生装置を提供することを目的としてい
る。
れたもので、プラズマ流を電極、プラズマ通過部等に接
触させることなく所望のシート幅とすることができるシ
ート状プラズマ発生装置を提供することを目的としてい
る。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明に係るシート状プラズマ発生装置では、プラズ
マガンからの円柱状プラズマ流を空芯コイルの発生する
磁場によって真空室方向に引き出した後、該円柱形状プ
ラズマ流を一対の永久磁石で挟み込むことによりシート
状に変形するシート状プラズマ発生装置において、上記
一対の永久磁石によりシート状に変形されたシート状プ
ラズマ流をさらに挟み込むための第２の一対の永久磁石
を上記真空室内に備えたことを特徴としている。
に本発明に係るシート状プラズマ発生装置では、プラズ
マガンからの円柱状プラズマ流を空芯コイルの発生する
磁場によって真空室方向に引き出した後、該円柱形状プ
ラズマ流を一対の永久磁石で挟み込むことによりシート
状に変形するシート状プラズマ発生装置において、上記
一対の永久磁石によりシート状に変形されたシート状プ
ラズマ流をさらに挟み込むための第２の一対の永久磁石
を上記真空室内に備えたことを特徴としている。
【０００７】上記構成からなるシート状プラズマ装置で
は、プラズマガンから真空室方向に引き出された円柱状
プラズマ流が一対の永久磁石によりシート状プラズマ流
に変形される。続いて、上記シート状プラズマ流は、第
２の永久磁石により所望の幅、厚みを有するシート状プ
ラズマ流に変形される。このように、プラズマガンから
発生した円柱状プラズマ流は、２段階に分けて所望のシ
ート状プラズマ流に変形される。したがって、上記プラ
ズマ流は、プラズマガン、真空室等に接触しないよう
に、かつ所望の形状のシート状プラズマ流に変形させる
ことができる。
は、プラズマガンから真空室方向に引き出された円柱状
プラズマ流が一対の永久磁石によりシート状プラズマ流
に変形される。続いて、上記シート状プラズマ流は、第
２の永久磁石により所望の幅、厚みを有するシート状プ
ラズマ流に変形される。このように、プラズマガンから
発生した円柱状プラズマ流は、２段階に分けて所望のシ
ート状プラズマ流に変形される。したがって、上記プラ
ズマ流は、プラズマガン、真空室等に接触しないよう
に、かつ所望の形状のシート状プラズマ流に変形させる
ことができる。
【０００８】
【発明の実施の形態】以下、添付図面を参照して本発明
に係るシート状プラズマ発生装置について説明する。図
１は、本発明に係るシート状プラズマ発生装置１５が組
み込まれた蒸着装置１６を示している。このシート状プ
ラズマ発生装置１５及び蒸着装置１６において、上記シ
ート状プラズマ発生装置３０及び蒸着装置３１と同一部
材については同一符号を付して説明を省略する。シート
状プラズマ発生装置１５と３０で異なる部分は、シート
状プラズマ発生装置１５が第１と第２の二対の永久磁石
１７、１８を有している点にある。
に係るシート状プラズマ発生装置について説明する。図
１は、本発明に係るシート状プラズマ発生装置１５が組
み込まれた蒸着装置１６を示している。このシート状プ
ラズマ発生装置１５及び蒸着装置１６において、上記シ
ート状プラズマ発生装置３０及び蒸着装置３１と同一部
材については同一符号を付して説明を省略する。シート
状プラズマ発生装置１５と３０で異なる部分は、シート
状プラズマ発生装置１５が第１と第２の二対の永久磁石
１７、１８を有している点にある。
【０００９】上記第１永久磁石１７は、プラズマガン３
で発生した円柱状プラズマ流をシート状に変形させるも
ので、変形されたシート状プラズマ流Ｐが第２中間電極
３ｂ及びプラズマ通過部２ａに接触しないような大きさ
あるいは磁束密度を有するものが選択される。
で発生した円柱状プラズマ流をシート状に変形させるも
ので、変形されたシート状プラズマ流Ｐが第２中間電極
３ｂ及びプラズマ通過部２ａに接触しないような大きさ
あるいは磁束密度を有するものが選択される。
【００１０】上記第２永久磁石１８は、真空室１内に配
置してあり、上記永久磁石１７でシート状に変形された
シート状プラズマ流Ｐをさらに所望の形状のシート状に
変形させるものである。この第２永久磁石１８は、上記
第１永久磁石１７により形成された、シート状プラズマ
流Ｐが所望の幅および厚さになるような大きさあるいは
磁束密度を有するものが選択される。また、図２に示す
ように、一対の永久磁石１７、１８は、対向する面が同
一磁極（Ｎ極）となるように配置される。
置してあり、上記永久磁石１７でシート状に変形された
シート状プラズマ流Ｐをさらに所望の形状のシート状に
変形させるものである。この第２永久磁石１８は、上記
第１永久磁石１７により形成された、シート状プラズマ
流Ｐが所望の幅および厚さになるような大きさあるいは
磁束密度を有するものが選択される。また、図２に示す
ように、一対の永久磁石１７、１８は、対向する面が同
一磁極（Ｎ極）となるように配置される。
【００１１】上記構成からなるシート状プラズマ装置１
５では、プラズマガン３から真空室１に引き出された円
柱状プラズマ流が第１永久磁石１７の磁場によりシート
状に変形される。続いて、上記シート状プラズマ流Ｐ
は、第２永久磁石１８の磁場により所望の幅、および厚
みを有するシート状に変形される。このように、円柱状
プラズマ流は、プラズマガン３の第２中間電極３ｂある
いは真空室１等に接触しないように、２段階に分けて所
望のシート状プラズマ流Ｐに変形される。
５では、プラズマガン３から真空室１に引き出された円
柱状プラズマ流が第１永久磁石１７の磁場によりシート
状に変形される。続いて、上記シート状プラズマ流Ｐ
は、第２永久磁石１８の磁場により所望の幅、および厚
みを有するシート状に変形される。このように、円柱状
プラズマ流は、プラズマガン３の第２中間電極３ｂある
いは真空室１等に接触しないように、２段階に分けて所
望のシート状プラズマ流Ｐに変形される。
【００１２】また、収束用永久磁石６によりるつぼ１１
に収束されたシート状プラズマ流Ｐは蒸発原料１０を蒸
発させる。これにより、蒸着装置１６では、上記蒸発原
料１０が反応ガスと反応して図示しない基板に成膜され
る。この際、蒸発原料１０と反応ガスは、幅広のシート
状プラズマ流Ｐにより反応が促進される。
に収束されたシート状プラズマ流Ｐは蒸発原料１０を蒸
発させる。これにより、蒸着装置１６では、上記蒸発原
料１０が反応ガスと反応して図示しない基板に成膜され
る。この際、蒸発原料１０と反応ガスは、幅広のシート
状プラズマ流Ｐにより反応が促進される。
【００１３】上記シート状プラズマ装置１５では、第２
永久磁石１８を真空室１内に配置する構成としたが、図
３に示すように、真空室１の天井部２に空間１９を設
け、該空間１９内に第２永久磁石１８を設置する構成と
してもよい。また、プラズマガン３を真空室１の側壁に
取り付け、シート状プラズマ流Ｐを真空室１の底部分に
配置したるつぼ１１に偏向して収束するようにしてもよ
いし、上記永久磁石１７、１８を複数組設置して、複数
回に分けて、プラズマ流を所望のシート状に変形するよ
うにしてもよい。
永久磁石１８を真空室１内に配置する構成としたが、図
３に示すように、真空室１の天井部２に空間１９を設
け、該空間１９内に第２永久磁石１８を設置する構成と
してもよい。また、プラズマガン３を真空室１の側壁に
取り付け、シート状プラズマ流Ｐを真空室１の底部分に
配置したるつぼ１１に偏向して収束するようにしてもよ
いし、上記永久磁石１７、１８を複数組設置して、複数
回に分けて、プラズマ流を所望のシート状に変形するよ
うにしてもよい。
【００１４】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
に係るシート状プラズマ装置では、第１と第２永久磁石
により、プラズマ流を２段階に分けて所望のシート状プ
ラズマ流に変形することができる。これにより、プラズ
マガン、真空室等にプラズマ流が接触しない形状に変形
することができ、この形状で真空室に引き込むことがで
きる。したがって、プラズマガン、真空室はプラズマ流
によって損傷することはないのでプラズマガンの故障や
真空室のリークを防止することができる。また、プラズ
マ流の幅を広げることができるので、従来より大面積に
成膜できる。
に係るシート状プラズマ装置では、第１と第２永久磁石
により、プラズマ流を２段階に分けて所望のシート状プ
ラズマ流に変形することができる。これにより、プラズ
マガン、真空室等にプラズマ流が接触しない形状に変形
することができ、この形状で真空室に引き込むことがで
きる。したがって、プラズマガン、真空室はプラズマ流
によって損傷することはないのでプラズマガンの故障や
真空室のリークを防止することができる。また、プラズ
マ流の幅を広げることができるので、従来より大面積に
成膜できる。
【図１】 本発明に係るシート状プラズマ装置を組み込
んだ蒸着装置の断面図である。
んだ蒸着装置の断面図である。
【図２】 第１と第２永久磁石の配置、磁力線及びプラ
ズマ流を示す模式図である。
ズマ流を示す模式図である。
【図３】 本発明に係るシート状プラズマ装置を組み込
んだ蒸着装置の変形例の断面図である。
んだ蒸着装置の変形例の断面図である。
【図４】 従来のシート状プラズマ装置を組み込んだ蒸
着装置の断面図である。
着装置の断面図である。
１…真空室、２…天井部、３…プラズマガン、６…収束
用永久磁石、８…空芯コイル、１０…蒸発原料、１１…
るつぼ、１５…シート状プラズマ発生装置、１６…蒸着
装置、１７…第１永久磁石、１８…第２永久磁石。
用永久磁石、８…空芯コイル、１０…蒸発原料、１１…
るつぼ、１５…シート状プラズマ発生装置、１６…蒸着
装置、１７…第１永久磁石、１８…第２永久磁石。
Claims (1)
- 【請求項１】 プラズマガンからの円柱状プラズマ流を
空芯コイルの発生する磁場によって真空室方向に引き出
した後、該円柱形状プラズマ流を一対の永久磁石で挟み
込むことによりシート状に変形するシート状プラズマ発
生装置において、上記一対の永久磁石によりシート状に
変形されたシート状プラズマ流をさらに挟み込むための
第２の一対の永久磁石を上記真空室内に備えたことを特
徴とするシート状プラズマ発生装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7239811A JPH0978230A (ja) | 1995-09-19 | 1995-09-19 | シート状プラズマ発生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7239811A JPH0978230A (ja) | 1995-09-19 | 1995-09-19 | シート状プラズマ発生装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0978230A true JPH0978230A (ja) | 1997-03-25 |
Family
ID=17050212
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7239811A Pending JPH0978230A (ja) | 1995-09-19 | 1995-09-19 | シート状プラズマ発生装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0978230A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100595114B1 (ko) * | 1999-02-01 | 2006-07-03 | 쥬가이로 고교 가부시키가이샤 | 진공성막장치 |
| JP2007119804A (ja) * | 2005-10-25 | 2007-05-17 | Canon Anelva Corp | シート状プラズマ発生装置および成膜装置 |
| JP2007154265A (ja) * | 2005-12-06 | 2007-06-21 | Shin Meiwa Ind Co Ltd | シートプラズマ成膜装置 |
| KR100798515B1 (ko) * | 2006-02-20 | 2008-01-28 | 위순임 | 외부 방전 브리지를 구비한 유도 플라즈마 소오스 |
| WO2008136130A1 (ja) * | 2007-04-24 | 2008-11-13 | Canon Anelva Corporation | プラズマ発生装置およびこれを用いた成膜方法並びに成膜装置 |
| JP2009256711A (ja) * | 2008-04-15 | 2009-11-05 | Canon Anelva Corp | プラズマ発生装置、成膜装置及び成膜方法 |
-
1995
- 1995-09-19 JP JP7239811A patent/JPH0978230A/ja active Pending
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100595114B1 (ko) * | 1999-02-01 | 2006-07-03 | 쥬가이로 고교 가부시키가이샤 | 진공성막장치 |
| JP2007119804A (ja) * | 2005-10-25 | 2007-05-17 | Canon Anelva Corp | シート状プラズマ発生装置および成膜装置 |
| JP4728089B2 (ja) * | 2005-10-25 | 2011-07-20 | キヤノンアネルバ株式会社 | シート状プラズマ発生装置および成膜装置 |
| JP2007154265A (ja) * | 2005-12-06 | 2007-06-21 | Shin Meiwa Ind Co Ltd | シートプラズマ成膜装置 |
| EP1972700A1 (en) * | 2005-12-06 | 2008-09-24 | Shinmaywa Industries, Ltd. | Sheet plasma film-forming apparatus |
| EP1972700A4 (en) * | 2005-12-06 | 2009-12-09 | Shinmaywa Ind Ltd | AREA PLASMA FILM FORMATION DEVICE |
| KR100798515B1 (ko) * | 2006-02-20 | 2008-01-28 | 위순임 | 외부 방전 브리지를 구비한 유도 플라즈마 소오스 |
| WO2008136130A1 (ja) * | 2007-04-24 | 2008-11-13 | Canon Anelva Corporation | プラズマ発生装置およびこれを用いた成膜方法並びに成膜装置 |
| JP2009256711A (ja) * | 2008-04-15 | 2009-11-05 | Canon Anelva Corp | プラズマ発生装置、成膜装置及び成膜方法 |
| JP4660570B2 (ja) * | 2008-04-15 | 2011-03-30 | キヤノンアネルバ株式会社 | 真空成膜装置及び成膜方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4632719A (en) | Semiconductor etching apparatus with magnetic array and vertical shield | |
| WO2009128132A1 (ja) | 巻取式真空成膜装置 | |
| JPH0978230A (ja) | シート状プラズマ発生装置 | |
| US4076990A (en) | Tube target for fusion neutron generator | |
| JPH0423400B2 (ja) | ||
| JPS60163433A (ja) | プラズマ処理装置 | |
| JPH0465057A (ja) | 荷電粒子線装置 | |
| Ohtsu et al. | Spatial distributions of the ion flux in a capacitive hydrogen RF discharge using a hollow cathode with double toroidal grooves enclosed by magnets | |
| JP2947995B2 (ja) | プラズマ処理方法および処理装置 | |
| US12049878B2 (en) | Segmented wall-less hall thruster | |
| JPH0273964A (ja) | 回転カソードを用いた薄膜形成装置 | |
| JPS6249974B2 (ja) | ||
| JPH0747825B2 (ja) | プラズマｃｖｄ装置 | |
| JPS61157676A (ja) | イオン化機構 | |
| JP2910944B2 (ja) | プラズマ生成装置 | |
| JPH05271904A (ja) | 立方晶窒化硼素膜の製造方法 | |
| JPS63223171A (ja) | 高能率シ−トプラズマ型スパタリング装置 | |
| JPS5912689A (ja) | スピ−カ用振動板の製造方法 | |
| JPH0680185B2 (ja) | 膜作成装置 | |
| WO2019118602A1 (en) | Multifocal magnetron design for physical vapor deposition processing on a single cathode | |
| JPH06223998A (ja) | 非接触プラズマ形状制御装置 | |
| JPH0641754A (ja) | シートプラズマ成膜装置 | |
| JPH06330301A (ja) | 成膜装置 | |
| JP2007154230A (ja) | 成膜装置 | |
| JPH0136661B2 (ja) |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20050823 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050830 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20060322 |