JPH0977552A - セラミック成形品の乾燥方法 - Google Patents
セラミック成形品の乾燥方法Info
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- JPH0977552A JPH0977552A JP23797695A JP23797695A JPH0977552A JP H0977552 A JPH0977552 A JP H0977552A JP 23797695 A JP23797695 A JP 23797695A JP 23797695 A JP23797695 A JP 23797695A JP H0977552 A JPH0977552 A JP H0977552A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 高品質のセラミック成形品が得られるように
したセラミック成形品の乾燥方法を提供する。 【解決手段】 セラミック成形品にマイクロ波を照射し
て乾燥させるセラミック成形品の乾燥方法であって、セ
ラミック成形品１をマイクロ波乾燥機で７５〜８５％の
脱水率まで乾燥させる第１乾燥工程と、このセラミック
成形品１を熱風乾燥機５で絶乾状態まで乾燥させる第２
乾燥工程とから成ることを特徴とする。
したセラミック成形品の乾燥方法を提供する。 【解決手段】 セラミック成形品にマイクロ波を照射し
て乾燥させるセラミック成形品の乾燥方法であって、セ
ラミック成形品１をマイクロ波乾燥機で７５〜８５％の
脱水率まで乾燥させる第１乾燥工程と、このセラミック
成形品１を熱風乾燥機５で絶乾状態まで乾燥させる第２
乾燥工程とから成ることを特徴とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はセラミック成形品の
乾燥方法に関するものであり、特に、電化製品や自動車
の排ガス処理等に使用されるハニカム状のセラミック成
形品の乾燥方法に関するものである。
乾燥方法に関するものであり、特に、電化製品や自動車
の排ガス処理等に使用されるハニカム状のセラミック成
形品の乾燥方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】周知のように、電化製品や自動車の排ガ
ス処理等にハニカム状のセラミック成形品（以下、セラ
ミック成形品という）が広く使用されている。このセラ
ミック成形品は、通常、次のような工程によって製造さ
れる。即ち、セラミック原料にバインダー及び水を加え
て混練した坏土を押出成形機によってハニカム状に押し
出し成形し、得られた高含水率のセラミック成形品を所
定の寸法に切断した後、乾燥工程でほぼ絶乾状態にまで
乾燥させ、さらに焼成工程で熱処理する。
ス処理等にハニカム状のセラミック成形品（以下、セラ
ミック成形品という）が広く使用されている。このセラ
ミック成形品は、通常、次のような工程によって製造さ
れる。即ち、セラミック原料にバインダー及び水を加え
て混練した坏土を押出成形機によってハニカム状に押し
出し成形し、得られた高含水率のセラミック成形品を所
定の寸法に切断した後、乾燥工程でほぼ絶乾状態にまで
乾燥させ、さらに焼成工程で熱処理する。
【０００３】焼成工程前の乾燥したセラミック成形品に
おいて重要な事は、収縮率が均一であること、成形
品内部に乾燥密度の差が無いこと、成形品の表面や内
部にクラックが無いこと、寸法精度が均一であるこ
と、であり、これらの条件をクリアーしないと高品質の
セラミック成形品が得られない。
おいて重要な事は、収縮率が均一であること、成形
品内部に乾燥密度の差が無いこと、成形品の表面や内
部にクラックが無いこと、寸法精度が均一であるこ
と、であり、これらの条件をクリアーしないと高品質の
セラミック成形品が得られない。
【０００４】一般にセラミック成形品の乾燥方法として
は、自然乾燥、強制乾燥、遠赤輻射乾燥等のいわゆる外
熱乾燥方式と、マイクロ波のエネルギーを利用した内熱
乾燥方式とがある。前者は熱風やヒータの熱エネルギー
をセラミック成形品の外部より伝達する方式であるが、
セラミック成形品の内部の乾燥が不十分なうちにセラミ
ック成形品の外部が収縮するので、内外の乾燥収縮の差
が大きく、乾燥が不均一になり易い。
は、自然乾燥、強制乾燥、遠赤輻射乾燥等のいわゆる外
熱乾燥方式と、マイクロ波のエネルギーを利用した内熱
乾燥方式とがある。前者は熱風やヒータの熱エネルギー
をセラミック成形品の外部より伝達する方式であるが、
セラミック成形品の内部の乾燥が不十分なうちにセラミ
ック成形品の外部が収縮するので、内外の乾燥収縮の差
が大きく、乾燥が不均一になり易い。
【０００５】このため、従来より、セラミック成形品を
乾燥させる場合には、後者のマイクロ波エネルギーを利
用した方式が採用されている。この方式は、オーブン内
でセラミック成形品にマイクロ波を照射するものである
が、マイクロ波のエネルギーが成形直後のセラミック成
形品に含まれる水分に内部から吸収されるので効果的で
ある。
乾燥させる場合には、後者のマイクロ波エネルギーを利
用した方式が採用されている。この方式は、オーブン内
でセラミック成形品にマイクロ波を照射するものである
が、マイクロ波のエネルギーが成形直後のセラミック成
形品に含まれる水分に内部から吸収されるので効果的で
ある。
【０００６】なお、マイクロ波乾燥機では、均一な乾燥
ができるように、設備的には、オーブン内での場所に
よるマイクロ波の強弱や疎密の差（電波ムラ）を緩和す
るために撹拌用羽根を設ける、オーブン内でセラミッ
ク成形品を移動（回転）させることにより電波ムラの影
響を少なくする、マイクロ波の発信機構を機械的に駆
動してマイクロ波の発信方向を変化させることにより電
波ムラを防止する、オーブン内を減圧しながらマイク
ロ波を照射することにより低温での乾燥やセラミック成
形品から排出される蒸気の除去を促進する、等の手段が
採られており、セラミック成形品の外形や材質に応じて
上記〜の手段が適宜組み合わされている。また、直
方体状のセラミック成形品を乾燥させる際には、セラミ
ック成形品のコーナや縁へのマイクロ波の集中を緩和す
るために、セラミック成形品を金属製のカバーで覆うと
いう工夫がなされている。
ができるように、設備的には、オーブン内での場所に
よるマイクロ波の強弱や疎密の差（電波ムラ）を緩和す
るために撹拌用羽根を設ける、オーブン内でセラミッ
ク成形品を移動（回転）させることにより電波ムラの影
響を少なくする、マイクロ波の発信機構を機械的に駆
動してマイクロ波の発信方向を変化させることにより電
波ムラを防止する、オーブン内を減圧しながらマイク
ロ波を照射することにより低温での乾燥やセラミック成
形品から排出される蒸気の除去を促進する、等の手段が
採られており、セラミック成形品の外形や材質に応じて
上記〜の手段が適宜組み合わされている。また、直
方体状のセラミック成形品を乾燥させる際には、セラミ
ック成形品のコーナや縁へのマイクロ波の集中を緩和す
るために、セラミック成形品を金属製のカバーで覆うと
いう工夫がなされている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来の技術では、使用するバインダー、セラミック成
形品の外形寸法、ハニカムのセルの数によっては以下の
ような問題が生じており、品質及び歩留まり向上のため
に改善が望まれている。
た従来の技術では、使用するバインダー、セラミック成
形品の外形寸法、ハニカムのセルの数によっては以下の
ような問題が生じており、品質及び歩留まり向上のため
に改善が望まれている。
【０００８】（乾燥の不均一に関する問題）オーブン内
でセラミック成形品にマイクロ波を照射してセラミック
成形品を乾燥させる場合、その乾燥状態の進渉度を確認
するには、セラミック成形品のマイクロ波照射前後の重
量変化を測定することによって判断している。即ち、加
水した水の重量分だけ成形品の重量が減少すると絶乾状
態であると判断される。しかし、実際には、平均脱水率
が１００％のセラミック成形品の内部は、図３に示すよ
うに、中心部が脱水率１００％以上の過乾燥状態になっ
ており、中心部から外周部に向かうに従って脱水率が低
くなっている。特に、セラミック成形品の内部に過乾燥
の部分が形成されると、バインダーや保形剤の効果が著
しく劣化するので、これを避けなければならない。
でセラミック成形品にマイクロ波を照射してセラミック
成形品を乾燥させる場合、その乾燥状態の進渉度を確認
するには、セラミック成形品のマイクロ波照射前後の重
量変化を測定することによって判断している。即ち、加
水した水の重量分だけ成形品の重量が減少すると絶乾状
態であると判断される。しかし、実際には、平均脱水率
が１００％のセラミック成形品の内部は、図３に示すよ
うに、中心部が脱水率１００％以上の過乾燥状態になっ
ており、中心部から外周部に向かうに従って脱水率が低
くなっている。特に、セラミック成形品の内部に過乾燥
の部分が形成されると、バインダーや保形剤の効果が著
しく劣化するので、これを避けなければならない。
【０００９】また、マイクロ波をセラミック成形品に照
射する場合、図５に示すように、マイクロ波のエネルギ
ーが集中する部分（楕円形の部分）がセラミック成形品
１の中心部よりずれることがあり、この場合、乾燥が不
均一になるとともに非効率的になる。
射する場合、図５に示すように、マイクロ波のエネルギ
ーが集中する部分（楕円形の部分）がセラミック成形品
１の中心部よりずれることがあり、この場合、乾燥が不
均一になるとともに非効率的になる。
【００１０】（寸法精度に関する問題）上述したよう
に、通常、セラミック成形品は押出成形によって製造さ
れており、坏土を成形機のスクリューの回転押し出し圧
力で金型を通して押し出すことによって成形されるが、
坏土のねじれを緩和するために、成形機内に均圧管や整
流板が設けられている。しかしながら、セラミック成形
品は潜在的に坏土の方向性を有しており、その方向性は
必ずしも直線的ではなく、大きな反りを持つことがあ
る。従って、ある程度均一な乾燥ができたとしても、乾
燥時の収縮に伴う外形の歪みが発生する。
に、通常、セラミック成形品は押出成形によって製造さ
れており、坏土を成形機のスクリューの回転押し出し圧
力で金型を通して押し出すことによって成形されるが、
坏土のねじれを緩和するために、成形機内に均圧管や整
流板が設けられている。しかしながら、セラミック成形
品は潜在的に坏土の方向性を有しており、その方向性は
必ずしも直線的ではなく、大きな反りを持つことがあ
る。従って、ある程度均一な乾燥ができたとしても、乾
燥時の収縮に伴う外形の歪みが発生する。
【００１１】なお、セラミック成形品を均一に乾燥させ
るための方法としては、特公平５−２４８７６号公報の
ものが公知であるが、この方法では、熱風乾燥を行って
からマイクロ波乾燥を行うようにしているため、本願発
明が対象とするようなハニカム状のセラミック成形品に
適用すると、内部と外部の収縮率の違いによって表面に
クラックが生じる。
るための方法としては、特公平５−２４８７６号公報の
ものが公知であるが、この方法では、熱風乾燥を行って
からマイクロ波乾燥を行うようにしているため、本願発
明が対象とするようなハニカム状のセラミック成形品に
適用すると、内部と外部の収縮率の違いによって表面に
クラックが生じる。
【００１２】本発明は、上述した問題点を解決し、高品
質のセラミック成形品が得られるようにしたセラミック
成形品の乾燥方法を提供することにある。
質のセラミック成形品が得られるようにしたセラミック
成形品の乾燥方法を提供することにある。
【００１３】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、請求項１のセラミック成形品の乾燥方法は、セラミ
ック成形品にマイクロ波を照射して乾燥させるセラミッ
ク成形品の乾燥方法であって、セラミック成形品をマイ
クロ波乾燥機で７５〜８５％の脱水率まで乾燥させる第
１乾燥工程と、このセラミック成形品を熱風乾燥機で絶
乾状態まで乾燥させる第２乾燥工程とからなることを特
徴とするものである。
に、請求項１のセラミック成形品の乾燥方法は、セラミ
ック成形品にマイクロ波を照射して乾燥させるセラミッ
ク成形品の乾燥方法であって、セラミック成形品をマイ
クロ波乾燥機で７５〜８５％の脱水率まで乾燥させる第
１乾燥工程と、このセラミック成形品を熱風乾燥機で絶
乾状態まで乾燥させる第２乾燥工程とからなることを特
徴とするものである。
【００１４】なお、第１乾燥工程におけるセラミック成
形品の脱水率は、ハニカムのセルの大きさが３００〜４
００（メッシュ／１平方インチ）の場合には８０〜８５
％が好ましく、ハニカムのセルの大きさが１００〜２０
０（メッシュ／１平方インチ）の場合には７５〜８０％
が好ましい。また、熱風乾燥機の熱風の温度は１００℃
以下であることが好ましい。
形品の脱水率は、ハニカムのセルの大きさが３００〜４
００（メッシュ／１平方インチ）の場合には８０〜８５
％が好ましく、ハニカムのセルの大きさが１００〜２０
０（メッシュ／１平方インチ）の場合には７５〜８０％
が好ましい。また、熱風乾燥機の熱風の温度は１００℃
以下であることが好ましい。
【００１５】この乾燥方法によると、セラミック成形品
を第１乾燥工程で７５〜８５％の脱水率まで乾燥させ、
次いで第２乾燥工程で絶乾状態まで乾燥させるので、セ
ラミック成形品が内部と外部から乾燥し、セラミック成
形品全体を均一に乾燥させることができるとともに、セ
ラミック成形品の中心部が過乾燥になるのを防止するこ
とができる。
を第１乾燥工程で７５〜８５％の脱水率まで乾燥させ、
次いで第２乾燥工程で絶乾状態まで乾燥させるので、セ
ラミック成形品が内部と外部から乾燥し、セラミック成
形品全体を均一に乾燥させることができるとともに、セ
ラミック成形品の中心部が過乾燥になるのを防止するこ
とができる。
【００１６】請求項２の乾燥方法は、セラミック成形品
にマイクロ波を照射して乾燥させるセラミック成形品の
乾燥方法であって、セラミック成形品をマイクロ波乾燥
機のオーブンの底面から浮かせた状態でマイクロ波を照
射することを特徴とするものである。
にマイクロ波を照射して乾燥させるセラミック成形品の
乾燥方法であって、セラミック成形品をマイクロ波乾燥
機のオーブンの底面から浮かせた状態でマイクロ波を照
射することを特徴とするものである。
【００１７】この乾燥方法によると、マイクロ波のエネ
ルギーがセラミック成形品の底部からも吸収される。ま
た、マイクロ波のエネルギーが集中する場所とセラミッ
ク成形品の中心部とを合わせることができる。従って、
乾燥効率が向上するとともに、均一な乾燥が可能とな
る。
ルギーがセラミック成形品の底部からも吸収される。ま
た、マイクロ波のエネルギーが集中する場所とセラミッ
ク成形品の中心部とを合わせることができる。従って、
乾燥効率が向上するとともに、均一な乾燥が可能とな
る。
【００１８】請求項３の乾燥方法は、セラミック成形品
にマイクロ波を照射して乾燥させるセラミック成形品の
乾燥方法であって、セラミック成形品をマイクロ波吸収
プレート上に載置してマイクロ波を照射することを特徴
とするものである。
にマイクロ波を照射して乾燥させるセラミック成形品の
乾燥方法であって、セラミック成形品をマイクロ波吸収
プレート上に載置してマイクロ波を照射することを特徴
とするものである。
【００１９】この乾燥方法によると、マイクロ波のエネ
ルギーがセラミック成形品の底部からも吸収されるの
で、乾燥効率が向上するとともに、均一な乾燥が可能と
なる。
ルギーがセラミック成形品の底部からも吸収されるの
で、乾燥効率が向上するとともに、均一な乾燥が可能と
なる。
【００２０】請求項４の乾燥方法は、セラミック成形品
にマイクロ波を照射して乾燥させるセラミック成形品の
乾燥方法であって、セラミック成形品の側面を押圧する
ための押圧部材と、この押圧部材を押圧方向に弾性付勢
するとともに前記押圧部材が前記セラミック成形品の側
面を押圧した状態を前記セラミック成形品の乾燥時の収
縮に追従して維持する弾発部材とを備えた収縮補正用治
具を準備し、この収縮補正用治具によって前記セラミッ
ク成形品を固定面に押し付けた状態でマイクロ波を照射
することを特徴とするものである。
にマイクロ波を照射して乾燥させるセラミック成形品の
乾燥方法であって、セラミック成形品の側面を押圧する
ための押圧部材と、この押圧部材を押圧方向に弾性付勢
するとともに前記押圧部材が前記セラミック成形品の側
面を押圧した状態を前記セラミック成形品の乾燥時の収
縮に追従して維持する弾発部材とを備えた収縮補正用治
具を準備し、この収縮補正用治具によって前記セラミッ
ク成形品を固定面に押し付けた状態でマイクロ波を照射
することを特徴とするものである。
【００２１】弾発部材の種類、材質は特に限定されない
が、例えば、金属製の板バネやコイルバネを使用するこ
とができる。
が、例えば、金属製の板バネやコイルバネを使用するこ
とができる。
【００２２】この乾燥方法によると、セラミック成形品
の乾燥時の収縮に追従して押圧部材がセラミック成形品
の側面を押圧し続けるため、セラミック成形品の乾燥時
の収縮に伴う反りが抑制される。
の乾燥時の収縮に追従して押圧部材がセラミック成形品
の側面を押圧し続けるため、セラミック成形品の乾燥時
の収縮に伴う反りが抑制される。
【００２３】請求項５の乾燥方法は、セラミック成形品
にマイクロ波を照射して乾燥させるセラミック成形品の
乾燥方法であって、セラミック成形品を水平面に対して
４５°傾けた状態でマイクロ波を照射することを特徴と
するものである。
にマイクロ波を照射して乾燥させるセラミック成形品の
乾燥方法であって、セラミック成形品を水平面に対して
４５°傾けた状態でマイクロ波を照射することを特徴と
するものである。
【００２４】この乾燥方法によると、セラミック成形品
の自重によってセラミック成形品の乾燥時の乾燥時の収
縮に伴う反りが抑制される。
の自重によってセラミック成形品の乾燥時の乾燥時の収
縮に伴う反りが抑制される。
【００２５】
【発明の実施の形態】以下、本発明の具体的な実施の形
態を図面を参照しながら説明する。本実施形態で使用さ
れる乾燥前のセラミック成形品は、次頁の表１の配合の
混合物を混練機で混練して得られた坏土を３本ロールで
圧練し、押出成形機でハニカム状に押し出し成形した
後、切断したもので、直方体状の形状を有し、外形寸法
は横９０ｍｍ、高さ４０ｍｍ、長さ２００ｍｍで、重量
は７００ｇ、ハニカムのセル数は２００、含水量は１０
０ｃｃである。なお、表１の配合比率において、メチル
セルロースを７重量部、紙パルプを２重量部、水を２５
重量部としたときに特に好ましい結果が得られることが
判明している。
態を図面を参照しながら説明する。本実施形態で使用さ
れる乾燥前のセラミック成形品は、次頁の表１の配合の
混合物を混練機で混練して得られた坏土を３本ロールで
圧練し、押出成形機でハニカム状に押し出し成形した
後、切断したもので、直方体状の形状を有し、外形寸法
は横９０ｍｍ、高さ４０ｍｍ、長さ２００ｍｍで、重量
は７００ｇ、ハニカムのセル数は２００、含水量は１０
０ｃｃである。なお、表１の配合比率において、メチル
セルロースを７重量部、紙パルプを２重量部、水を２５
重量部としたときに特に好ましい結果が得られることが
判明している。
【００２６】
【表１】
【００２７】図１にこのセラミック成形品の乾燥時に使
用される乾燥用治具２を示す。この乾燥用治具２は、セ
ラミック成形品１の表面の乾燥を防止するための保水カ
バー３と、セラミック成形品１のコーナや縁へのマイク
ロ波の集中を防止するための上下一対の金属製のカバー
４、４とを備えている。セラミック成形品１をこの乾燥
用治具２にはめ込み、マイクロ波乾燥機のオーブン内の
中央部にセットし、マイクロ波を照射してセラミック成
形品１を乾燥させる。
用される乾燥用治具２を示す。この乾燥用治具２は、セ
ラミック成形品１の表面の乾燥を防止するための保水カ
バー３と、セラミック成形品１のコーナや縁へのマイク
ロ波の集中を防止するための上下一対の金属製のカバー
４、４とを備えている。セラミック成形品１をこの乾燥
用治具２にはめ込み、マイクロ波乾燥機のオーブン内の
中央部にセットし、マイクロ波を照射してセラミック成
形品１を乾燥させる。
【００２８】まず、本発明の第１実施形態について説明
する。この実施形態の乾燥方法は、セラミック成形品１
をマイクロ波乾燥機で７５〜８５％の脱水率まで乾燥さ
せる第１乾燥工程と、このセラミック成形品１を熱風乾
燥機で絶乾状態まで乾燥させる第２乾燥工程とから成っ
ている。
する。この実施形態の乾燥方法は、セラミック成形品１
をマイクロ波乾燥機で７５〜８５％の脱水率まで乾燥さ
せる第１乾燥工程と、このセラミック成形品１を熱風乾
燥機で絶乾状態まで乾燥させる第２乾燥工程とから成っ
ている。
【００２９】
【実施例】セラミック成形品１を乾燥用治具２にはめ込
んでマイクロ波乾燥機のオーブン内にセットし、１．１
ＫＷのマイクロ波を４分照射した。図２はマイクロ波に
よる加熱時間とセラミック成形品１全体の平均脱水率の
相関関係を示すグラフである。このグラフに示すよう
に、５分でセラミック成形品１全体の平均脱水率が１０
０％に達するが、この時、セラミック成形品１内部の状
態は、図３に示すように、中心部が脱水率１００％以上
の過乾燥の状態になっており、外周部にゆくに従って脱
水率が低下している。この状態で焼成を行うと強度や品
質の低下につながる。そこで、この第１乾燥工程ではマ
イクロ波の照射時間をセラミック成形品１全体の脱水率
が８０％となる４分としている。この場合、図３に示す
ように、セラミック成形品１の中心部の脱水率がほぼ１
００％で、外周部にゆくほど脱水率が低くなっている。
んでマイクロ波乾燥機のオーブン内にセットし、１．１
ＫＷのマイクロ波を４分照射した。図２はマイクロ波に
よる加熱時間とセラミック成形品１全体の平均脱水率の
相関関係を示すグラフである。このグラフに示すよう
に、５分でセラミック成形品１全体の平均脱水率が１０
０％に達するが、この時、セラミック成形品１内部の状
態は、図３に示すように、中心部が脱水率１００％以上
の過乾燥の状態になっており、外周部にゆくに従って脱
水率が低下している。この状態で焼成を行うと強度や品
質の低下につながる。そこで、この第１乾燥工程ではマ
イクロ波の照射時間をセラミック成形品１全体の脱水率
が８０％となる４分としている。この場合、図３に示す
ように、セラミック成形品１の中心部の脱水率がほぼ１
００％で、外周部にゆくほど脱水率が低くなっている。
【００３０】第１乾燥工程で上記の状態まで乾燥させた
セラミック成形品１を第２乾燥工程では熱風乾燥機で絶
乾状態まで乾燥させる。この時の乾燥条件は、熱風の温
度を１００℃以下とし、セラミック成形品１を、図４に
示すように、ハニカムの端面（目開き部）に熱風が当た
るように熱風乾燥機５内にセットし、乾燥時間は６０分
である。これによって得られたセラミック成形品は、全
体の収縮率が安定した、クラックの無い高品質のもので
あった。
セラミック成形品１を第２乾燥工程では熱風乾燥機で絶
乾状態まで乾燥させる。この時の乾燥条件は、熱風の温
度を１００℃以下とし、セラミック成形品１を、図４に
示すように、ハニカムの端面（目開き部）に熱風が当た
るように熱風乾燥機５内にセットし、乾燥時間は６０分
である。これによって得られたセラミック成形品は、全
体の収縮率が安定した、クラックの無い高品質のもので
あった。
【００３１】次に、本発明の第２実施形態について説明
する。マイクロ波乾燥機でセラミック成形品を乾燥させ
る場合、オーブン６内でのマイクロ波の照射状態を確認
すると、図５に示すように、マイクロ波はセラミック成
形品１の上方から照射され、オーブン６の内壁や乾燥用
治具２で反射してセラミック成形品１に吸収される。図
５に示すように、マイクロ波のエネルギーが集中する場
所（楕円形の部分）とセラミック成形品の中心部とがず
れていると、乾燥が不均一になるとともに、乾燥効率が
悪くなる。そこで、この実施形態では、図６に示すよう
に、セラミック成形品１をオーブン６の底面６ａから浮
かせ、この状態でセラミック成形品１にマイクロ波を照
射する。
する。マイクロ波乾燥機でセラミック成形品を乾燥させ
る場合、オーブン６内でのマイクロ波の照射状態を確認
すると、図５に示すように、マイクロ波はセラミック成
形品１の上方から照射され、オーブン６の内壁や乾燥用
治具２で反射してセラミック成形品１に吸収される。図
５に示すように、マイクロ波のエネルギーが集中する場
所（楕円形の部分）とセラミック成形品の中心部とがず
れていると、乾燥が不均一になるとともに、乾燥効率が
悪くなる。そこで、この実施形態では、図６に示すよう
に、セラミック成形品１をオーブン６の底面６ａから浮
かせ、この状態でセラミック成形品１にマイクロ波を照
射する。
【００３２】この乾燥方法によると、マイクロ波のエネ
ルギーが集中する場所とセラミック成形品の中心部とを
一致させることができる。また、マイクロ波のエネルギ
ーがセラミック成形品の底部からも吸収される。従っ
て、乾燥効率が向上するとともに、均一な乾燥が可能と
なる。
ルギーが集中する場所とセラミック成形品の中心部とを
一致させることができる。また、マイクロ波のエネルギ
ーがセラミック成形品の底部からも吸収される。従っ
て、乾燥効率が向上するとともに、均一な乾燥が可能と
なる。
【００３３】次に、本発明の第３実施形態について説明
する。この実施形態では、図７に示すように、セラミッ
ク成形品１をマイクロ波吸収プレート７上に載置してマ
イクロ波を照射する。
する。この実施形態では、図７に示すように、セラミッ
ク成形品１をマイクロ波吸収プレート７上に載置してマ
イクロ波を照射する。
【００３４】この乾燥方法によると、マイクロ波のエネ
ルギーがセラミック成形品１の底部からも吸収されるの
で、乾燥効率が向上するとともに、均一な乾燥が可能と
なる。
ルギーがセラミック成形品１の底部からも吸収されるの
で、乾燥効率が向上するとともに、均一な乾燥が可能と
なる。
【００３５】次に、本発明の第４実施形態について説明
する。上記実施形態では、セラミック成形品１を乾燥さ
せた場合、その横幅が９０ｍｍから８５ｍｍに収縮す
る。そして、収縮する際に成形時の坏土の癖が反りとな
って現れるので、その補正が必要である。そこで、この
実施形態では、図８、９に示すように、セラミック成形
品１の側面を押圧するための押圧部材９と、この押圧部
材９を押圧方向に弾性付勢するとともにセラミック成形
品１の乾燥時の収縮に追従して押圧部材９がセラミック
成形品１の側面を押圧した状態を維持する弾発部材１０
とを備えた収縮補正用治具８を準備し、この治具８によ
ってセラミック成形品１を固定面１１に押し付けた状態
でマイクロ波を照射する。
する。上記実施形態では、セラミック成形品１を乾燥さ
せた場合、その横幅が９０ｍｍから８５ｍｍに収縮す
る。そして、収縮する際に成形時の坏土の癖が反りとな
って現れるので、その補正が必要である。そこで、この
実施形態では、図８、９に示すように、セラミック成形
品１の側面を押圧するための押圧部材９と、この押圧部
材９を押圧方向に弾性付勢するとともにセラミック成形
品１の乾燥時の収縮に追従して押圧部材９がセラミック
成形品１の側面を押圧した状態を維持する弾発部材１０
とを備えた収縮補正用治具８を準備し、この治具８によ
ってセラミック成形品１を固定面１１に押し付けた状態
でマイクロ波を照射する。
【００３６】図８のものでは、弾発部材１０が帯状の金
属板の一方の端部をアール状に折り返した板バネであ
り、この弾発部材１０が乾燥用治具２の側壁の内面にス
ポット溶接で取り付けられている。治具８によってセラ
ミック成形品１の一方の側面が押圧され、他方の側面が
固定面１１に押し付けられている。セラミック成形品１
が図８（ａ）に示す乾燥前の状態から収縮すると、図８
（ｂ）に示すように、押圧部材９が弾発部材１０によっ
て矢印方向に移動し、セラミック成形品１の収縮に追従
して押圧部材９がセラミック成形品１の側面を押圧し続
けるので、セラミック成形品１の反りが抑制される。
属板の一方の端部をアール状に折り返した板バネであ
り、この弾発部材１０が乾燥用治具２の側壁の内面にス
ポット溶接で取り付けられている。治具８によってセラ
ミック成形品１の一方の側面が押圧され、他方の側面が
固定面１１に押し付けられている。セラミック成形品１
が図８（ａ）に示す乾燥前の状態から収縮すると、図８
（ｂ）に示すように、押圧部材９が弾発部材１０によっ
て矢印方向に移動し、セラミック成形品１の収縮に追従
して押圧部材９がセラミック成形品１の側面を押圧し続
けるので、セラミック成形品１の反りが抑制される。
【００３７】図９のものでは、弾発部材１０がコイルバ
ネであり、一端が乾燥用治具２の側壁の内面に固定され
ている。その他の構成は図８のものと同様である。セラ
ミック成形品１が図９（ａ）に示す乾燥前の状態から収
縮すると、図９（ｂ）に示すように、押圧部材９が弾発
部材１０によって矢印方向に移動し、セラミック成形品
１の収縮に追従して押圧部材９がセラミック成形品１の
側面を押圧し続けるので、セラミック成形品１の反りが
抑制される。
ネであり、一端が乾燥用治具２の側壁の内面に固定され
ている。その他の構成は図８のものと同様である。セラ
ミック成形品１が図９（ａ）に示す乾燥前の状態から収
縮すると、図９（ｂ）に示すように、押圧部材９が弾発
部材１０によって矢印方向に移動し、セラミック成形品
１の収縮に追従して押圧部材９がセラミック成形品１の
側面を押圧し続けるので、セラミック成形品１の反りが
抑制される。
【００３８】次に、本発明の第５実施形態について説明
する。この実施形態では、図１０に示すように、セラミ
ック成形品１が支持台１２上に載せられており、セラミ
ック成形品１が水平面に対して４５°に傾いた状態でマ
イクロ波を照射する。
する。この実施形態では、図１０に示すように、セラミ
ック成形品１が支持台１２上に載せられており、セラミ
ック成形品１が水平面に対して４５°に傾いた状態でマ
イクロ波を照射する。
【００３９】この乾燥方法によると、セラミック成形品
１の自重によってセラミック成形品１の乾燥時の反りが
抑制される。
１の自重によってセラミック成形品１の乾燥時の反りが
抑制される。
【００４０】
【発明の効果】請求項１のセラミック成形品の乾燥方法
によると、セラミック成形品を第１乾燥工程で７５〜８
５％の脱水率まで乾燥させ、次いで第２乾燥工程で絶乾
状態まで乾燥させるので、セラミック成形品が内部と外
部から乾燥し、セラミック成形品全体を均一に乾燥させ
ることができるとともに、セラミック成形品の中心部が
過乾燥になるのを防止することができる。従って、高品
質のセラミック成形品を得ることができる。
によると、セラミック成形品を第１乾燥工程で７５〜８
５％の脱水率まで乾燥させ、次いで第２乾燥工程で絶乾
状態まで乾燥させるので、セラミック成形品が内部と外
部から乾燥し、セラミック成形品全体を均一に乾燥させ
ることができるとともに、セラミック成形品の中心部が
過乾燥になるのを防止することができる。従って、高品
質のセラミック成形品を得ることができる。
【００４１】請求項２のセラミック成形品の乾燥方法に
よると、セラミック成形品をマイクロ波乾燥機のオーブ
ンの底面から浮かせた状態でマイクロ波を照射するの
で、マイクロ波のエネルギーがセラミック成形品の底部
からも吸収される。また、マイクロ波のエネルギーが集
中する場所とセラミック成形品の中心部とを合わせるこ
とができ、乾燥効率が向上するとともに、均一な乾燥が
可能となる。従って、高品質のセラミック成形品を得る
ことができる。
よると、セラミック成形品をマイクロ波乾燥機のオーブ
ンの底面から浮かせた状態でマイクロ波を照射するの
で、マイクロ波のエネルギーがセラミック成形品の底部
からも吸収される。また、マイクロ波のエネルギーが集
中する場所とセラミック成形品の中心部とを合わせるこ
とができ、乾燥効率が向上するとともに、均一な乾燥が
可能となる。従って、高品質のセラミック成形品を得る
ことができる。
【００４２】請求項３のセラミック成形品の乾燥方法に
よると、セラミック成形品をマイクロ波吸収プレート上
に載置してマイクロ波を照射するので、マイクロ波のエ
ネルギーがセラミック成形品の底部からも吸収され、乾
燥効率が向上するとともに、均一な乾燥が可能となる。
従って、高品質のセラミック成形品を得ることができ
る。
よると、セラミック成形品をマイクロ波吸収プレート上
に載置してマイクロ波を照射するので、マイクロ波のエ
ネルギーがセラミック成形品の底部からも吸収され、乾
燥効率が向上するとともに、均一な乾燥が可能となる。
従って、高品質のセラミック成形品を得ることができ
る。
【００４３】請求項４のセラミック成形品の乾燥方法に
よると、セラミック成形品の側面を押圧するための押圧
部材と、この押圧部材を押圧方向に弾性付勢するととも
に前記押圧部材が前記セラミック成形品の側面を押圧し
た状態を前記セラミック成形品の乾燥時の収縮に追従し
て維持する弾発部材とを備えた収縮補正用治具を準備
し、この収縮補正用治具によってセラミック成形品を固
定面に押し付けた状態でマイクロ波を照射するので、セ
ラミック成形品の乾燥時の収縮に追従して押圧部材がセ
ラミック成形品の側面を押圧し続け、セラミック成形品
の乾燥時の収縮に伴う反りが抑制される。従って、高品
質のセラミック成形品を得ることができる。
よると、セラミック成形品の側面を押圧するための押圧
部材と、この押圧部材を押圧方向に弾性付勢するととも
に前記押圧部材が前記セラミック成形品の側面を押圧し
た状態を前記セラミック成形品の乾燥時の収縮に追従し
て維持する弾発部材とを備えた収縮補正用治具を準備
し、この収縮補正用治具によってセラミック成形品を固
定面に押し付けた状態でマイクロ波を照射するので、セ
ラミック成形品の乾燥時の収縮に追従して押圧部材がセ
ラミック成形品の側面を押圧し続け、セラミック成形品
の乾燥時の収縮に伴う反りが抑制される。従って、高品
質のセラミック成形品を得ることができる。
【００４４】請求項５のセラミック成形品の乾燥方法に
よると、セラミック成形品を水平面に対して４５°傾け
た状態でマイクロ波を照射するので、セラミック成形品
の自重によってセラミック成形品の乾燥時の収縮に伴う
反りが抑制される。従って、高品質のセラミック成形品
を得ることができる。
よると、セラミック成形品を水平面に対して４５°傾け
た状態でマイクロ波を照射するので、セラミック成形品
の自重によってセラミック成形品の乾燥時の収縮に伴う
反りが抑制される。従って、高品質のセラミック成形品
を得ることができる。
【図１】 セラミック成形品１および乾燥用治具２の斜
視図。
視図。
【図２】 マイクロ波による加熱時間とセラミック成形
品１全体の平均脱水率の相関関係を示すグラフ。
品１全体の平均脱水率の相関関係を示すグラフ。
【図３】 セラミック成形品１内部の乾燥状態を示す
図。
図。
【図４】 熱風乾燥機５内部にセラミック成形品１をセ
ットした状態を示す図。
ットした状態を示す図。
【図５】 マイクロ波乾燥機のオーブン６内部の状態を
示す図。
示す図。
【図６】 本発明の第２実施形態を示し、マイクロ波乾
燥機のオーブン６内部の状態を示す図。
燥機のオーブン６内部の状態を示す図。
【図７】 本発明の第３実施形態を示し、マイクロ波乾
燥機のオーブン６内部の状態を示す図。
燥機のオーブン６内部の状態を示す図。
【図８】 本発明の第４実施形態を示し、収縮補正用治
具８を使用してセラミック成形品１を乾燥させる状態を
示す図。
具８を使用してセラミック成形品１を乾燥させる状態を
示す図。
【図９】 本発明の第４実施形態を示し、収縮補正用治
具８を使用してセラミック成形品１を乾燥させる状態を
示す図。
具８を使用してセラミック成形品１を乾燥させる状態を
示す図。
【図１０】 本発明の第５実施形態を示し、セラミック
成形品１を水平面に対して４５°傾けて乾燥させる状態
を示す図。
成形品１を水平面に対して４５°傾けて乾燥させる状態
を示す図。
１ セラミック成形品 ５ 熱風乾燥機 ６ マイクロ波乾燥機のオーブン ７ マイクロ波吸収プレート ８ 収縮補正用治具 ９ 押圧部材 １０ 弾発部材
Claims (5)
- 【請求項１】 セラミック成形品にマイクロ波を照射し
て乾燥させるセラミック成形品の乾燥方法であって、 セラミック成形品をマイクロ波乾燥機で７５〜８５％の
脱水率まで乾燥させる第１乾燥工程と、 このセラミック成形品を熱風乾燥機で絶乾状態まで乾燥
させる第２乾燥工程とから成ることを特徴とするセラミ
ック成形品の乾燥方法。 - 【請求項２】 セラミック成形品にマイクロ波を照射し
て乾燥させるセラミック成形品の乾燥方法であって、 セラミック成形品をマイクロ波乾燥機のオーブンの底面
から浮かせた状態でマイクロ波を照射することを特徴と
するセラミック成形品の乾燥方法。 - 【請求項３】 セラミック成形品にマイクロ波を照射し
て乾燥させるセラミック成形品の乾燥方法であって、 セラミック成形品をマイクロ波吸収プレート上に載置し
てマイクロ波を照射することを特徴とするセラミック成
形品の乾燥方法。 - 【請求項４】 セラミック成形品にマイクロ波を照射し
て乾燥させるセラミック成形品の乾燥方法であって、 セラミック成形品の側面を押圧するための押圧部材と、
この押圧部材を押圧方向に弾性付勢するとともに前記押
圧部材が前記セラミック成形品の側面を押圧した状態を
前記セラミック成形品の乾燥時の収縮に追従して維持す
る弾発部材とを備えた収縮補正用治具を準備し、この収
縮補正用治具によって前記セラミック成形品を固定面に
押し付けた状態でマイクロ波を照射することを特徴とす
るセラミック成形品の乾燥方法。 - 【請求項５】 セラミック成形品にマイクロ波を照射し
て乾燥させるセラミック成形品の乾燥方法であって、 セラミック成形品を水平面に対して４５°傾けた状態で
マイクロ波を照射することを特徴とするセラミック成形
品の乾燥方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23797695A JPH0977552A (ja) | 1995-09-18 | 1995-09-18 | セラミック成形品の乾燥方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23797695A JPH0977552A (ja) | 1995-09-18 | 1995-09-18 | セラミック成形品の乾燥方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0977552A true JPH0977552A (ja) | 1997-03-25 |
Family
ID=17023271
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23797695A Pending JPH0977552A (ja) | 1995-09-18 | 1995-09-18 | セラミック成形品の乾燥方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0977552A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002234780A (ja) * | 2001-02-01 | 2002-08-23 | Hitachi Metals Ltd | 多孔質セラミックハニカム構造体の製造方法 |
| JP2009012482A (ja) * | 2008-10-02 | 2009-01-22 | Shimada Phys & Chem Ind Co Ltd | セラミック成形体のマイクロ波乾燥装置に用いるセラミック成形体乾燥用治具 |
| JP2009544506A (ja) * | 2006-07-28 | 2009-12-17 | コーニング インコーポレイテッド | セラミック構造体の改善されたマイクロ波乾燥 |
| WO2012046320A1 (ja) * | 2010-10-06 | 2012-04-12 | イビデン株式会社 | セラミック焼成体の製造方法、ハニカム構造体の製造方法、排ガス浄化装置の製造方法及び乾燥装置 |
| JP2013144407A (ja) * | 2012-01-16 | 2013-07-25 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | ハニカム構造体の乾燥方法 |
| JP2013173270A (ja) * | 2012-02-24 | 2013-09-05 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | ハニカム構造体の乾燥方法 |
| JP2013173269A (ja) * | 2012-02-24 | 2013-09-05 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | ハニカム構造体の乾燥方法 |
| JP2013173271A (ja) * | 2012-02-24 | 2013-09-05 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | ハニカム構造体の乾燥方法 |
-
1995
- 1995-09-18 JP JP23797695A patent/JPH0977552A/ja active Pending
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002234780A (ja) * | 2001-02-01 | 2002-08-23 | Hitachi Metals Ltd | 多孔質セラミックハニカム構造体の製造方法 |
| JP2009544506A (ja) * | 2006-07-28 | 2009-12-17 | コーニング インコーポレイテッド | セラミック構造体の改善されたマイクロ波乾燥 |
| JP2009012482A (ja) * | 2008-10-02 | 2009-01-22 | Shimada Phys & Chem Ind Co Ltd | セラミック成形体のマイクロ波乾燥装置に用いるセラミック成形体乾燥用治具 |
| WO2012046320A1 (ja) * | 2010-10-06 | 2012-04-12 | イビデン株式会社 | セラミック焼成体の製造方法、ハニカム構造体の製造方法、排ガス浄化装置の製造方法及び乾燥装置 |
| JP2013144407A (ja) * | 2012-01-16 | 2013-07-25 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | ハニカム構造体の乾燥方法 |
| JP2013173270A (ja) * | 2012-02-24 | 2013-09-05 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | ハニカム構造体の乾燥方法 |
| JP2013173269A (ja) * | 2012-02-24 | 2013-09-05 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | ハニカム構造体の乾燥方法 |
| JP2013173271A (ja) * | 2012-02-24 | 2013-09-05 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | ハニカム構造体の乾燥方法 |
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