JPH0972864A - Ｘ線回折測定装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 装置を大型化することなく、Ｘ線回折測定装
置の測定精度を向上させること。 【解決手段】 固定支持された円弧状Ｘ線検出部を有す
る位置敏感型比例計数管１２と、第１軸線χの回りに回
転可能な第１回転部材１３と、第１回転部材１３によ
り、前記第１軸線χに交わる第２軸線ω回りに回転可能
に支持された第２回転部材１７と、前記第２回転部材１
７により前記第１軸線χおよび第２軸線ωの交点を通り
前記第２軸線ωに垂直な面内に有る第３軸線φ回りに回
転可能に支持された第３回転部材２３と、第３軸線φに
平行なＺ軸方向に移動可能で且つ、前記第２回転部材１
７と前記第３回転部材２３との間に設けられたＺテーブ
ル１９と、前記Ｚ軸と共に直交する３軸を構成するＸ軸
およびＹ軸の各軸方向にそれぞれ移動可能で且つ、前記
第３回転部材２３に支持されたＸテーブル２７およびＹ
テーブル２９とを備えたＸ線回折測定装置。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、直交するχ軸、ω
軸、φ軸の３つの回転軸回りに回転可能に支持された試
料にＸ線を照射して、そのＸ線が照射された試料からの
回折Ｘ線を検出するＰＳＰＣ（Position Sensitive P
roportional Counter）を用いたＸ線回折測定装置に関
する。本発明のＸ線回折測定装置は、試料に含まれる極
めて微小な介在物や、微小試料の結晶構造あるいは微視
的残留応力等の研究、検査、測定等に使用される。

【０００２】

【従来の技術】前記種類の従来のＸ線回折測定装置とし
ては、特開平６−３００７１７号公報、特開平７−６５
７７４号公報等が知られている。これらの公報に記載さ
れたＸ線回折測定装置は、互いに直交するχ軸、ω軸、
φ軸の３つの回転軸のいずれかの軸回りに順次回転自在
に支持される第１、第２、第３の回転部材と、前記３つ
の回転軸とは異なる直交するＸ軸、Ｙ軸、Ｚ軸の中の２
軸（例えばＸ軸およびＹ軸）に沿って移動制御され且つ
Ｚ軸方向に手動で位置設定されるるＸＹテーブルとを用
いて試料の位置および姿勢を制御する手段と、前記試料
にＸ線ビームを照射するＸ線照射装置と、試料からの回
折Ｘ線を検出する検出器等により構成されている。そし
て、試料の位置および姿勢を制御する手段は、前記第
１、第２、第３の回転部材を回転させる回転駆動手段
と、前記ＸＹテーブルをＸ軸、Ｙ軸方向に移動させる移
動手段と、試料の複数の測定点を前記３つの回転軸の交
点に移動させた際のＸＹテーブルのＸ座標およびＹ座標
を記憶する手段と、前記試料の複数の測定点を所定の順
序で前記交点に移動させるように前記移動手段を制御す
る装置等により構成されている。

【０００３】前記従来のＸ線回折測定装置では、平板状
の試料表面の複数の測定点を測定する場合、試料の測定
点のＺ軸方向の位置を手動で設定し、その後、試料の複
数の測定点に対応して記憶されたＸＹ座標データを順次
読出して、ＸＹテーブルを自動的に移動させながら測定
を行っていた。図７は前記従来のＸ線回折測定装置の測
定方法の説明図である。図７は、試料表面を測定点に区
切って番地を付けた図である。測定方式にはＡ1番地か
ら順番にＡ9番地までスキャニングする方法とＡ1，Ａ
5，Ａ9等任意に抽出して記憶させた番地のみを測定する
マッピング測定方式とがある。これらの方法において、
従来は試料高さはある測定点で設定しただけで、その他
の測定点での測定では高さ位置は前記設定した高さで測
定していた。

【０００４】次に、試料の残留応力をＸ線回折測定装置
を用いて測定する場合の試料位置の誤差について説明す
る。図８は試料の表面（以下、「試料面」ともいう）Ｓ
に対する入射Ｘ線および回折Ｘ線の説明図であり、図８
Ａは試料面と回折面との角度ψが大きくなると試料の格
子面間隔ｄおよび残留応力σが大きくなることを示す
図、図８Ｂは試料面と回折面との角度ψと、入射Ｘ線お
よび回折Ｘ線が試料面となす角度との関係を示す図であ
る。図８Ｂに示すように、入射Ｘ線が試料面となす角度
がθ−ψの場合には回折Ｘ線と試料面とのなす角度はθ
＋ψとなる。

【０００５】図９は前記試料面に高さ方向の誤差が生じ
た場合の測定値への影響を示す図である。図９におい
て、Ｘ線ビーム照射装置０１はＸ線発生源０２およびコ
リメータ０３を有しており、試料Ｓの測定点ＯにＸ線ビ
ームを照射する。試料Ｓの位置が測定点Ｏにある場合の
回折Ｘ線の方向はＬ1であり、試料ＳがΔｚずれてＳ′
に在る場合にはＸ線ビームは試料の点Ａに入射し、その
場合の回折Ｘ線の方向はＬ2となる。この場合、ＰＳＰ
Ｃの回折Ｘ線検出用のワイヤ０４に入射する回折Ｘ線は
Ｌ3から入射したものとして検出されるため、角度Δ２
θの誤差が生じることになる。なお、前記誤差Δ２θは
下記の式で定まることは周知である。前記測定点Ｏを中
心とする前記ワイヤ０４の半径をｒ、測定点ＯからＬ2
に下ろした垂線の足をＨ、試料Ｓ′に下ろした垂線の足
をＢとすると、次の式が成り立つ。 Δｚ／Δｘ＝ＯＢ／ＡＢ＝tan（θ−ψ） …………………………（１） ＯＨ＝ｒsinΔ２θ ………………………………………………………（２） ＯＢ＝Δｚ ＯＡ＝Δｚ／sin（θ−ψ） 角ＯＡＨ＝π−２θ ＯＨ＝ＯＡsin（π−２θ）……………………………………………（３） 前記式（２）および（３）より次式が得られる。 Δ２θ＝sin\t-1\t｛Δｚ sin（π−２θ）｝／｛ｒ si
n（θ−ψ）｝ また、前記式（１）より次式が得られる。 Δｘ＝Δｚ cot（θ−ψ）

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】前述したように、試料
の高さ（Ｚ方向の位置）に誤差が生じるとＸ線回折測定
装置の測定値に誤差が生じることは従来周知である。し
かしながら、前述したように従来技術では、試料のＺ軸
方向の位置は一度手動で設定した後は、ＸＹテーブルを
移動させて試料の測定点のＸＹ座標を移動させても、Ｚ
方向の位置は調整していなかった。この理由は、前記Ｚ
方向の位置の誤差は小さく、Ｘ線回折測定装置の測定値
には余り大きく影響しないと考えられていたからと思わ
れる。しかしながら、試料をＸＹテーブル上に固定する
際に接着剤や、両面テープ等を使用する方法を採用する
と、装置の上下、左右方向に機械的誤差が無くても、試
料表面には傾きが生じているものと考えられる。試料に
傾きが生じた場合には、試料表面の測定点を移動させる
ためにＸＹテーブルを移動させた際、新たな測定点のＺ
座標は異なることになる。すなわち、装置の上下、左右
方向に機械的誤差が無くても、試料のＺ軸方向の位置に
は誤差を生じている。

【０００７】本発明者の研究によれば、前記試料の測定
点毎に、ＸＹテーブルの位置だけでなく、Ｚ軸方向の位
置も調節することにより非常に高精度のＸ線回折測定装
置が得られることが分かった。また、本発明者の研究に
よれば、Ｘ線回折測定装置において、直交するχ軸、ω
軸、φ軸の３つの回転軸の軸回りに順次回転自在に支持
される第１、第２、第３の回転部材の中の前記第３回転
部材に、位置が自動制御されるＸＹＺテーブルを支持
し、そのＸＹＺテーブルに試料保持部を支持する構成を
採用すると、ＸＹＺテーブルが移動してもχ軸、ω軸、
φ軸の交点位置（試料測定位置）が変化しない。したが
って、そのような構成を採用すると、都合が良いが、次
の様な問題点が有ることが分かった。

【０００８】図１０において、０５はＰＳＰＣの内側ケ
ースを示し、０６は外側ケースを示す。例えばｒ＝９０
ｍｍとした場合、内側ケース０５の半径ｒ1は７０ｍｍ
程度となる。前記第３の回転部材にＸＹＺテーブルＴを
支持してχ軸、ω軸、φ軸回りに回転させたときに、Ｘ
ＹＺテーブルＴおよび第３の回転部材が前記内側ケース
０５に当たらないようにする必要がある。前記ＸＹＺテ
ーブルＴで厚さ３０ｍｍの試料Ｓを支持して測定点Ｏに
試料を配置する必要が有る場合、ＸＹＺテーブルＴおよ
び第３の回転部材が内側ケース０５に当たらないように
するためには、ＸＹＺテーブルＴおよび第３の回転部材
の高さは４０ｍｍ以下にする必要がある。しかしなが
ら、ＸＹＺテーブルＴおよび第３の回転部材を前記４０
ｍｍ以内に配置することは容易なことではない。前記問
題点を解決するために、前記ＸＹＺテーブルＴおよび第
３の回転部材の高さを例えば６０ｍｍにして、前記ｒを
１２０ｍｍ、ｒ1を１００ｍｍとすることは可能である
が、その場合、装置が大型となるばかりではなく、ｒが
長くなるため、検出される回折Ｘ線の強度が低下すると
いう問題点が生じる。

【０００９】本発明は、前述の事情および研究結果に鑑
み、下記の記載内容を課題とする。 （Ｏ01）Ｘ線回折測定装置の測定精度を向上させるこ
と。 （Ｏ02）装置を大型化することなく、Ｘ線回折測定装置
の測定精度を向上させること。

【００１０】

【課題を解決するための手段】次に、前記課題を解決す
るために案出した本発明を説明するが、本発明の要素に
は、後述の実施例の要素との対応を容易にするため、実
施例の要素の符号をカッコで囲んだものを付記する。ま
た、本発明を後述の実施例の符号と対応させて説明する
理由は、本発明の理解を容易にするためであり、本発明
の範囲を実施例に限定するためではない。

【００１１】（第１発明）前記課題を解決するために、
本出願の第１発明のＸ線回折測定装置は、下記の要件を
備えたことを特徴とする、（Ｙ01）固定支持された円弧
状Ｘ線検出部を有する位置敏感型比例計数管（１２）、
（Ｙ02）第１軸線（χ）回りに回転可能な第１回転部材
（１３）、（Ｙ03）前記第１回転部材（１３）により前
記第１軸線（χ）に交わる第２軸線（ω）回りに回転可
能に支持された第２回転部材（１７）、（Ｙ04）前記第
２回転部材（１７）により前記第１軸線（χ）および第
２軸線（ω）の交点を通り前記第２軸線（ω）に垂直な
面内に有る第３軸線（φ）回りに回転可能に支持された
第３回転部材（２３）、（Ｙ05）前記第３回転部材（２
３）に支持される試料保持部、（Ｙ06）前記第３軸線
（φ）に平行なＺ軸方向に移動可能で且つ、前記第２回
転部材（１７）と前記第３回転部材（２３）との間に設
けられたＺテーブル（１９）、（Ｙ07）前記Ｚ軸と共に
直交する３軸を構成するＸ軸およびＹ軸の各軸方向にそ
れぞれ移動可能で且つ、前記第３回転部材（２３）に支
持されたＸテーブル（２７）およびＹテーブル（２
９）、（Ｙ08）前記第１軸線（χ）、第２軸線（ω）、
および第３軸線（φ）からなる回転３軸線の交点にＸ線
ビームを照射するＸ線照射装置（１）、（Ｙ09）前記試
料保持部に保持された試料の複数の測定点をそれぞれ前
記回転３軸線の交点に配置したときのＸテーブル（２
７）、Ｙテーブル（２９）およびＺテーブル（１９）の
各座標を記憶した座標記憶メモリ、（Ｙ010）前記試料
保持部に保持された試料の複数の測定点を前記回転３軸
線（χ，ω，φ）の交点に移動させるように、前記Ｘ，
ＹおよびＺテーブル（２７，２９，１９）をそれぞれ移
動させるＸテーブル移動手段（Ｄ5＋２８）、Ｙテーブ
ル移動手段（Ｄ6＋３０）およびＺテーブル移動手段
（Ｄ4＋２１）、（Ｙ011）前記試料保持部に保持された
試料の複数の測定点を前記回転３軸線（χ，ω，φ）の
交点に所定の順序で移動させるように、前記Ｘテーブル
移動手段（Ｄ5＋２８）、Ｙテーブル移動手段（Ｄ6＋３
０）およびＺテーブル移動手段（Ｄ4＋２１）の作動を
制御するテーブル移動制御手段（Ｃ）。

【００１２】（第２発明）また、本出願の第２発明のＸ
線回折測定装置は、下記の要件を備えたことを特徴とす
る、（Ｙ01）固定支持された円弧状Ｘ線検出部を有する
位置敏感型比例計数管（１２）、（Ｙ02）第１軸線
（χ）回りに回転可能な第１回転部材（１３）、（Ｙ0
3）前記第１回転部材（１３）により前記第１軸線
（χ）に交わる第２軸線（ω）回りに回転可能に支持さ
れた第２回転部材（１７）、（Ｙ04）前記第２回転部材
（１７）により前記第１軸線（χ）および第２軸線
（ω）の交点を通り前記第２軸線（ω）に垂直な面内に
有る第３軸線（φ）回りに回転可能に支持された第３回
転部材（２３）、（Ｙ05）前記第３回転部材（２３）に
支持される試料保持部、（Ｙ06′）互いに直交するＸ
軸、Ｙ軸およびＺ軸の各軸方向にそれぞれ移動可能で且
つ、前記第３回転部材（２３）に支持されたＸテーブル
（２７）、Ｙテーブル（２９）およびＺテーブル（１
９）、（Ｙ08）前記第１軸線（χ）、第２軸線（ω）、
および第３軸線（φ）からなる回転３軸線（χ，ω，
φ）の交点にＸ線ビームを照射するＸ線照射装置
（１）、（Ｙ09）前記試料保持部に保持された試料の複
数の測定点をそれぞれ前記回転３軸線（χ，ω，φ）の
交点に配置したときのＸテーブル（２７）、Ｙテーブル
（２９）およびＺテーブル（１９）の各座標を記憶した
座標記憶メモリ、（Ｙ010）前記試料保持部に保持され
た試料の複数の測定点を前記回転３軸線（χ，ω，φ）
の交点に移動させるように、前記Ｘ，ＹおよびＺテーブ
ル（２７，２９，１９）をそれぞれ移動させるＸテーブ
ル移動手段（Ｄ5＋２８）、Ｙテーブル移動手段（Ｄ6＋
３０）およびＺテーブル移動手段（Ｄ4＋２１）、（Ｙ0
11）前記試料保持部に保持された試料の複数の測定点を
前記回転３軸線（χ，ω，φ）の交点に所定の順序で移
動させるように、前記Ｘテーブル移動手段（Ｄ5＋２
８）、Ｙテーブル移動手段（Ｄ6＋３０）およびＺテー
ブル移動手段（Ｄ4＋２１）の作動を制御するテーブル
移動制御手段（Ｃ）。

【００１３】

【作用】次に、前述の特徴を備えた本発明の作用を説明
する。 （第１発明の作用）前述の特徴を備えた本出願の第１発
明のＸ線回折測定装置では、第１軸線（χ）回りに回転
可能な第１回転部材（１３）により、第２回転部材（１
７）が前記第１軸線（χ）に交わる第２軸線（ω）回り
に回転可能に支持されている。前記第２回転部材（１
７）にＺ軸方向に移動可能に支持されたＺテーブル（１
９）のＺ軸は、前記第１軸線（χ）および第２軸線
（ω）の交点を通り前記第２軸線（ω）に垂直な面内に
有る第３軸線（φ）と平行に設定されている。そして第
３回転部材（２３）は、前記第３軸線（φ）回りに回転
可能に支持される。したがって、第３軸線（φ）は、第
２回転部材（１７）を第２軸線（ω）回りに回転させる
ことにより、前記第１軸線（χ）および第２軸線（ω）
の交点を通るようにすることができる。その状態（すな
わち、前記第１、第２および第３軸線（χ，ω，φ）か
らなる回転３軸線（χ，ω，φ）が１点で交わる状態）
で、前記Ｚテーブル（１９）をＺ軸方向に移動させた場
合、前記Ｚ軸と平行な第３軸線（φ）は同一直線上に有
るので、常に前記回転３軸線（χ，ω，φ）の交点を通
ることになる。

【００１４】前記第３回転部材（２３）に支持されたＸ
テーブル（２７）およびＹテーブル（２９）は、前記Ｚ
軸と共に直交する３軸を構成するＸ軸およびＹ軸の各軸
方向にそれぞれ移動可能である。試料保持部は、前記第
３回転部材（２３）に前記Ｘテーブル（２７）およびＹ
テーブル（２９）を介して支持される。前記第１軸線
（χ）、第２軸線（ω）および第３軸線（φ）からなる
回転３軸線（χ，ω，φ）の交点が１点で交わっている
状態で、前記試料保持部に保持された試料の高さ（Ｚ方
向の位置）が前記交点からずれている場合には、Ｚテー
ブル（１９）を移動させることにより試料の測定面を前
記交点に一致させることができる。その場合、Ｚテーブ
ル（１９）の移動と共に第３軸線（φ）も移動するが、
Ｚ軸と第３軸線（φ）とが平行なので、回転３軸線
（χ，ω，φ）の交点は移動しない。

【００１５】試料の測定点を前記回転３軸線（χ，ω，
φ）の交点に保持した状態で、Ｘ線照射装置（１）によ
り、前記回転３軸線（χ，ω，φ）の交点（すなわち、
試料の測定点が配置された位置、すなわち、測定位置）
にＸ線ビームを照射すると、試料からでてくる回折Ｘ線
は、固定支持された位置敏感型比例計数管（１２）の円
弧状Ｘ線検出部により検出される。座標記憶メモリは、
前記試料保持部に保持された試料の複数の測定点をそれ
ぞれ前記回転３軸線（χ，ω，φ）の交点に配置したと
きのＸテーブル（２７）、Ｙテーブル（２９）およびＺ
テーブル（１９）の各座標を記憶している。テーブル移
動制御手段（Ｃ）は、前記Ｘテーブル移動手段（Ｄ5＋
２８）、Ｙテーブル移動手段（Ｄ6＋３０）およびＺテ
ーブル移動手段（Ｄ4＋２１）の作動を制御して、前記
試料保持部に保持された試料の複数の測定点を前記回転
３軸線（χ，ω，φ）の交点（測定位置）に所定の順序
で移動させる。したがって、前記座標記憶メモリに記憶
された試料の複数の測定点を所定の順序で測定位置に移
動させて、その測定点に対して順次Ｘ線回折測定を行う
ことができる。

【００１６】（第２発明の作用）前述の特徴を備えた本
出願の第２発明のＸ線回折測定装置では、第１軸線
（χ）回りに回転可能な第１回転部材（１３）により、
第２回転部材（１７）が前記第１軸線（χ）に交わる第
２軸線（ω）回りに回転可能に支持されている。前記第
３回転部材（２３）は、前記第２回転部材（１７）によ
り、前記第１軸線（χ）および第２軸線（ω）の交点を
通り前記第２軸線（ω）に垂直な面内に有る第３軸線
（φ）回りに回転可能に支持される。したがって、第３
軸線（φ）は、第２回転部材（１７）を第２軸線（ω）
回りに回転させることにより、前記第１軸線（χ）およ
び第２軸線（ω）の交点を通るようにすることができ
る。

【００１７】前記第３回転部材（２３）に支持されたＸ
テーブル（２７）、Ｙテーブル（２９）およびＺテーブ
ル（１９）は、直交する３軸を構成するＸ軸、Ｙ軸およ
びＺ軸の各軸方向にそれぞれ移動可能である。試料保持
部は、前記第３回転部材（２３）に前記Ｘテーブル（２
７）、Ｙテーブル（２９）、およびＺテーブル（１９）
を介して支持される。この場合、前記Ｘテーブル（２
７）、Ｙテーブル（２９）、およびＺテーブル（１９）
を移動させても、前記第１軸線（χ）、第２軸線（ω）
および第３軸線（φ）からなる回転３軸線（χ，ω，
φ）の交点は変化しない。前記第１軸線（χ）、第２軸
線（ω）および第３軸線（φ）からなる回転３軸線
（χ，ω，φ）の交点が１点で交わっている状態で、前
記試料保持部に保持された試料の高さ（Ｚ方向の位置）
が前記交点からずれている場合には、Ｚテーブル（１
９）を移動させることにより試料を前記交点に一致させ
ることができる。

【００１８】試料の測定点を前記回転３軸線（χ，ω，
φ）の交点に保持した状態で、Ｘ線照射装置（１）によ
り、前記回転３軸線（χ，ω，φ）の交点（すなわち、
試料の測定点が配置された位置、すなわち、測定位置）
にＸ線ビームを照射すると、試料からでてくる回折Ｘ線
は、固定支持された位置敏感型比例計数管（１２）の円
弧状Ｘ線検出部により検出される。座標記憶メモリは、
前記試料保持部に保持された試料の複数の測定点をそれ
ぞれ前記回転３軸線（χ，ω，φ）の交点に配置したと
きのＸテーブル（２７）、Ｙテーブル（２９）およびＺ
テーブル（１９）の各座標を記憶している。テーブル移
動制御手段（Ｃ）は、前記Ｘテーブル移動手段（Ｄ5＋
２８）、Ｙテーブル移動手段（Ｄ6＋３０）およびＺテ
ーブル移動手段（Ｄ4＋２１）の作動を制御して、前記
試料保持部に保持された試料の複数の測定点を前記回転
３軸線（χ，ω，φ）の交点（測定位置）に所定の順序
で移動させる。したがって、前記座標記憶メモリに記憶
された試料の複数の測定点を所定の順序で測定位置に移
動させて、その測定点に対して順次Ｘ線回折測定を行う
ことができる。

【００１９】

【発明の実施の形態】次に図面を参照しながら、本発明
のＸ線回折測定装置の実施の形態を説明するが、本発明
は以下の実施の形態に限定されるものではない。 （実施例１）図１は本発明の実施例１のＸ線回折測定装
置の全体斜視図である。図１において、Ｘ線回折測定装
置Ｕは、図示しない基板部材により支持されたＸ線照射
装置１を有している。Ｘ線照射装置１は、Ｘ線発生装置
２およびコリメータ３を有し、Ｘ線発生装置で発生した
Ｘ線をコリメートしてビーム状のＸ線を所定の測定位置
Ｏに向けて出射する機能を有している。前記図示しない
基板部材に対して固定支持されたベース板４上にはχ軸
駆動ケース６、χ軸フレーム７、顕微鏡取付台８等が固
定支持されている。顕微鏡取付台８には顕微鏡９が支持
されている。顕微鏡９は試料観察および試料の位置決め
の際に用いられる。前記χ軸フレーム７には、検出器取
付板１１を介してＰＳＰＣ検出器（位置敏感型比例計数
管）１２が固定支持されている。

【００２０】前記χ軸フレーム７の内部にはχ軸回転板
（第１回転部材）１３がχ軸回りに回転可能に支持され
ている。χ軸回転板１３は前記χ軸フレーム７に支持さ
れたχ軸モータＭ1により回転駆動されるように構成さ
れている。χ軸回転板１３には、連結板を介してω軸固
定アーム１４が固定されている。ω軸固定アーム１４に
は、ω軸ケース１６が固定されている。前記ω軸ケース
１６にはω軸回転板（第２回転部材）１７がω軸回りに
回転可能に支持されている。ω軸回転板１７はω軸モー
タＭ2（図２参照）により前記χ軸に垂直なω軸回りに
回転駆動されるように構成されている。ω軸回転板１７
にはＺ軸用固定板１８が固定されている。前記Ｚ軸用固
定板１８にはＺテーブル１９が、Ｚ軸用固定板１８に対
して設定されたＺ軸方向に移動可能に支持されている。
前記Ｚテーブル１９はＺ軸用モータ２１により移動され
るように構成されている。なお、移動板をモータにより
所定方向に移動させる構成は従来周知であり、前記Ｚ軸
移動板１９を移動させる構成としては、従来周知の種々
の構成を採用することが可能である。

【００２１】前記Ｚテーブル１９には、φ軸取付台２２
が固定支持されている。φ軸取付台２２の上面には、φ
軸回転板（第３回転部材）２３が回転自在に支持されて
いる。φ軸取付台２２の下面にはφ軸ケース２４が支持
されており、φ軸ケース２４にはφ軸モータＭ3が支持
されている。前記φ軸回転板２３は前記φ軸モータＭ3
により前記χ軸およびω軸に垂直なφ軸回りに回転駆動
されるように構成されている。そして、前記互いに垂直
なχ軸、ω軸、φ軸は、それらの交点が所定の測定位置
Ｏに一致するように配置されている。前記φ軸回転板２
３上にはＸ軸用固定板２６が固定されている。Ｘ軸用固
定板２６にはＸテーブル２７が、Ｘ軸用固定板２６上に
前記Ｚ軸に対して垂直に設定されたＸ軸方向に移動可能
に支持されている。前記Ｘテーブル２７はＸ軸用モータ
２８により移動されるように構成されている。前記Ｘテ
ーブル２７上にはＹテーブル２９がＸテーブル２７上に
前記Ｚ軸、Ｘ軸に対して垂直に設定されたＹ軸方向に移
動可能に支持されている。前記Ｙテーブル２９はＹ軸用
モータ３０により移動されるように構成されている。そ
して、Ｙテーブル２９上面には両面テープまたは接着剤
により試料Ｓが支持される。すなわち、この実施例では
Ｙテーブル２９上面により試料支持部が構成されてい
る。

【００２２】次に図２により、本実施例の制御部の構成
を説明する。図２において、コンピュータＣは、外部と
の信号の入出力および入出力信号レベルの調節等を行う
Ｉ／Ｏ（入出力インターフェース）、必要な処理を行う
ためのプログラムおよびデータ等が記憶されたＲＯＭ
（リードオンリーメモリ）、必要なデータを一時的に記
憶するためのＲＡＭ（ランダムアクセスメモリ）、なら
びに、前記ＲＯＭに記憶されたプログラムに応じた入出
力制御および演算処理等を行うＣＰＵ（中央演算処理装
置）等により構成されている。

【００２３】前記コンピュータＣには、測定点設定用操
作パネル３１が接続されている。測定点設定用操作パネ
ル３１は、前記顕微鏡９を見ながら操作するパネルであ
り、移動ピッチ設定スイッチ３２、Ｘテーブル移動スイ
ッチ３３、Ｙテーブル移動スイッチ３４、Ｚテーブル移
動スイッチ３５、リバーススイッチ３６、座標記憶指令
スイッチ３７、設定開始、終了スイッチ３８等を有して
いる。移動ピッチ設定スイッチ３２は、前記各移動スイ
ッチ３３，３４，３５が１回押された際のＸ，Ｙ，Ｚの
各テーブルの移動ピッチを設定するスイッチであり、最
小ピッチ設定スイッチ３２a、中間ピッチ設定スイッチ
３２b、最大ピッチ設定スイッチ３２cを有している。前
記コンピュータＣは、前記移動ピッチ設定スイッチ３２
により設定されたピッチの大小に応じて、前記各移動ス
イッチ３３，３４，３５が１回押された際のＸ，Ｙ，Ｚ
の各テーブル２７，２９，１９の移動量を増減すること
ができるように構成されている。また、リバーススイッ
チ３６は、押す度にＯＮの状態とＯＦＦの状態が交代す
るスイッチであり、ＯＦＦの状態とＯＮの状態とでは、
前記各移動スイッチ３３，３４，３５が１回押された際
のＸ，Ｙ，Ｚの各テーブル２９，２７，１９の移動方向
が逆になるように、前記パソコンＣが動作するようにな
っている。

【００２４】また、前記パソコンＣには、前記Ｘ，Ｙ，
Ｚの各テーブル２９，２７，１９のホーム位置を検出す
るテーブルホーム位置センサ４１の検出信号が入力され
ている。また、前記パソコンＣには、前記χ軸、ω軸、
φ軸まわりに回転する各回転板１３，１７，２３のホー
ム位置を検出する回転部材ホーム位置センサ４２の検出
信号が入力されている。また、前記パソコンＣには、測
定開始スイッチ４３、測定終了スイッチ４４、キーボー
ド４５、前記試料Ｓの測定面を撮像するＣＣＤカメラ４
６等が接続されている。

【００２５】前記パソコンＣの出力側にはディスプレイ
Ｄ、χ軸モータ駆動回路Ｄ1、ω軸モータ駆動回路Ｄ2、
φ軸モータ駆動回路Ｄ3が接続されている。前記各駆動
回路Ｄ1，Ｄ2，Ｄ3はそれぞれ、前記χ軸モータＭ1、ω
軸モータＭ2、φ軸モータＭ3を回転駆動するための回路
である。また、前記パソコンＣの出力側にはＺ軸用モー
タ駆動回路Ｄ4、Ｘ軸用モータ駆動回路Ｄ5、Ｙ軸用モー
タ駆動回路Ｄ6が接続されている。前記Ｚ軸用モータ駆
動回路Ｄ4およびＺ軸用モータ２１によりＺテーブル移
動手段（Ｄ4＋２１）が構成されている。また、Ｘ軸用
モータ駆動回路Ｄ5およびＸ軸用モータ２８によりＸテ
ーブル移動手段（Ｄ5＋２８）が構成されている。ま
た、Ｙ軸用モータ駆動回路Ｄ6およびＹ軸用モータ（３
０）によりＹテーブル移動手段（Ｄ6＋３０）が構成さ
れている。また、前記コンピュータＣにより、前記Ｚテ
ーブル移動手段（Ｄ4＋２１）、Ｘテーブル移動手段
（Ｄ5＋２８）およびＹテーブル移動手段（Ｄ6＋３０）
を制御するテーブル移動制御手段（Ｃ）が構成されてい
る。

【００２６】（実施例１の作用）次に前述の構成を備え
た本発明の実施例１の作用を説明する。図３および図４
は、試料Ｓの測定点を記憶するフローを示すフローチャ
ートである。図３、図４に示す試料Ｓの測定点記憶フロ
ーのフローチャートの各ステップの処理は、前記コンピ
ュータＣのＲＯＭに記憶されたプログラムに従って行わ
れる。図３、図４に示す試料Ｓの測定点記憶フローは、
そのフローが実行されていない時に、前記図２に示す設
定開始終了スイッチ３８を押すことにより開始される。
測定点記憶フローが開始されると、ステップＳＴ1にお
いて、Ｚテーブル１９、Ｘテーブル２７、Ｙテーブル２
９をホーム位置に移動させ、停止させる。

【００２７】次にステップＳＴ2において、測定点番号
を記憶するメモリに測定点番号ＮとしてＮ＝１を入れ
る。次にステップＳＴ30において、図５に示すサブルー
チン（移動ピッチ設定フロー）を実行して、Ｘ，Ｙ，Ｚ
テーブル２７，２９，１９の移動ピッチを設定する。な
お、図５に示す移動ピッチ設定フローに関しては後述す
る。前記ステップＳＴ30の次にステップＳＴ3に移る。
ステップＳＴ3において、リバーススイッチ３６（図２
参照）がＯＮか否か判断する。ノー（Ｎ）の場合はステ
ップＳＴ4に移る。ステップＳＴ4において、Ｚテーブル
移動スイッチ３５（図２参照）がＯＮされたか否か判断
する。イエス（Ｙ）の場合はステップＳＴ5に移る。ス
テップＳＴ5において、前記ステップＳＴ30で設定され
た移動ピッチだけＺテーブル１９をＺ方向へ移動させ
る。前記移動ピッチの設定値は、後述する図５に示す移
動ピッチ設定フローによって、設定ピッチ記憶メモリに
記憶されている値である。前記ステップＳＴ4でノー
（Ｎ）の場合は次のステップＳＴ6に移る。そして、前
記ステップＳＴ4，ＳＴ5でのＺテーブル１９のＺ方向の
移動と同様に、ステップＳＴ6，ＳＴ7においてＸテーブ
ル２７の移動を行う。ステップＳＴ6においてノー
（Ｎ）の場合はステップＳＴ8に移る。そして、前記Ｚ
テーブル１９、Ｘテーブル２７の場合と同様に、ステッ
プＳＴ8，ＳＴ9においてＹテーブル２９の移動を行う。
ステップＳＴ8においてノー（Ｎ）の場合はステップＳ
Ｔ10に移る。

【００２８】前記ステップＳＴ4〜ステップＳＴ9におい
ては、試料Ｓを顕微鏡９で目視しながら、またはディス
プレイＤ（図２参照）に表示されるモニタ画面（図２に
示すＣＣＤカメラで撮像した画面）で監視しながら、
Ｘ，Ｙ，Ｚテーブル２７，２９，１９の移動を行う。そ
して、測定する必要がある測定点を見つけると、試料の
測定点を顕微鏡９の焦点に合わせる。そして、前記座標
記憶指令スイッチ３７を押す。ステップＳＴ10におい
て、座標記憶指令スイッチ３７（図２参照）がＯＮか否
か判断する。ノー（Ｎ）の場合は前記ステップＳＴ3に
戻り、イエス（Ｙ）の場合は図４のステップＳＴ17に移
る。ステップＳＴ17において、Ｘ，Ｙ，Ｚテーブル２
７，２９，１９の現在位置の座標を測定点番号Ｎに対応
する測定点記憶メモリに記憶する。なお、Ｘ，Ｙ，Ｚテ
ーブル２７，２９，１９を移動させるＸ軸用モータ２
８、Ｙ軸用モータ３０、およびＺ軸用モータ２１はステ
ッピングモータであり、その回転量はコンピュータＣに
より検出されている。したがって、Ｘ，Ｙ，Ｚテーブル
２７，２９，１９は、ホーム位置からの移動量が常にコ
ンピュータＣによって検出されている。したがって、
Ｘ，Ｙ，Ｚテーブル２７，２９，１９の現在位置の座標
は常に知ることができるので、前記座標記憶指令スイッ
チ３７（図２参照）がＯＮになった時に各テーブルの座
標を記憶することができる。

【００２９】次にステップＳＴ18に移り、Ｎ＝Ｎ＋１と
置く。すなわち、測定点番号Ｎに１を加える。次にステ
ップＳＴ19において、設定開始終了スイッチ３８がＯＮ
したか否か判断する。ノー（Ｎ）の場合は前記ステップ
ＳＴ3に戻り、イエス（Ｙ）の場合は測定点記憶フロー
を終了する。前記図３のステップＳＴ3においてイエス
（Ｙ）の場合はステップＳＴ11に移る。ステップＳＴ11
〜ステップＳＴ16の処理は、前記ステップＳＴ4〜ステ
ップＳＴ9の処理と略同様であるが、リバーススイッチ
３６がＯＮであるので、Ｘ，Ｙ，Ｚテーブル２７，２
９，１９の移動方向が逆になる点で異なる。

【００３０】次に図５により、前記図３のステップＳＴ
30で実行する移動ピッチ設定フローについて説明する。
ステップＳＴ31において、最小ピッチ設定スイッチ３２
a（前記図２参照）がＯＮされたか否か判断する。イエ
ス（Ｙ）の場合はステップＳＴ32において設定ピッチ記
憶メモリ（コンピュータＣのＲＡＭ）に最小移動ピッチ
を記憶する。この最小移動ピッチが記憶されている場合
に、例えば前記図３のステップＳＴ4でＺテーブル移動
スイッチ３５（図２参照）が１回押されると、ステッピ
ングモータにより構成されたＺ軸用モータ２１が１ステ
ップだけ回転してＺテーブル１９が最小移動ピッチだけ
移動するようになっている。

【００３１】ステップＳＴ31においてノー（Ｎ）の場合
は次のステップＳＴ33に移る。ステップＳＴ33において
中間ピッチ設定スイッチ３２b（図２参照）がＯＮされ
たか否か判断する。イエス（Ｙ）の場合はステップＳＴ
34に移る。ステップＳＴ34において、設定ピッチ記憶メ
モリに中間移動ピッチを記憶する。この中間ピッチは前
記最小移動ピッチの５倍の長さのピッチである。前記ス
テップＳＴ33においてノー（Ｎ）の場合はステップＳＴ
35に移る。ステップＳＴ35において最大ピッチ設定スイ
ッチ３２cがＯＮされたか否か判断する。イエス（Ｙ）
の場合はステップＳＴ36に移る。

【００３２】ステップＳＴ36において、設定ピッチ記憶
メモリに最大移動ピッチを記憶する。この最大移動ピッ
チは前記最小移動ピッチの１０倍の長さのピッチであ
る。前記ステップＳＴ35においてノー（Ｎ）の場合は、
前記図３のステップＳＴ3に移る。この図５に示す移動
ピッチ設定フローで記憶されたピッチに応じたピッチ
で、前記図３、図４の測定点記憶フローでのＸ，Ｙ，Ｚ
テーブル２７，２９，１９の移動が行われるのである。

【００３３】前記図３〜５で説明したフローにより、試
料Ｓの複数の測定点をそれぞれ測定位置に配置するとき
のＸ，Ｙ，Ｚテーブル２７，２９，１９の座標が測定点
番号Ｎに対応して定まる。したがって、前記各測定点番
号Ｎに対するＸ線回折測定を行う場合には、測定点番号
を順次指定して、自動的に全測定番号に対する精密なＸ
線回折測定を行うことが可能となる。次に図６によりＸ
線回折測定を行う場合の測定フローについて説明する。

【００３４】前記図２に示す測定開始スイッチ４３を押
すと、図６に示す測定フローが開始される。図６のステ
ップＳＴ41において、測定点指定番号メモリＫにＫ＝１
を入れる。次に、ステップＳＴ42において、測定点指定
番号メモリＫの値に一致する測定点番号Ｎにより定まる
測定点のＸ，Ｙ，Ｚテーブル２７，２９，１９の座標位
置を読出し、読出した座標位置にＸ，Ｙ，Ｚテーブル２
７，２９，１９を移動させる。

【００３５】次にステップＳＴ43において、前記測定点
番号Ｋで指定した測定点に対するＸ線回折測定を行う。
このＸ線回折測定は、前記χ軸モータＭ1、ω軸モータ
Ｍ2、φ軸モータＭ3を駆動して、試料Ｓをχ軸、ω軸、
φ軸の直交３軸回りに回転させながらＸ線照射装置１か
らのＸ線を試料Ｓに照射してＸ線回折測定を行う。この
実施例では、前述したように、従来のＸＹテーブルの座
標の指定に加えてＺ座標の指定を加えたので、試料Ｓの
傾きや凹凸から生じるＸ線光軸と試料位置の微小な高さ
誤差を除くことができる。したがって、前述した回折角
度誤差Δ２θおよび測定位置誤差Δｘを生じることな
く、高精度なＸ線回折測定を行うことができる。

【００３６】前記ステップＳＴ43で測定点番号Ｋで指定
した測定点に対するＸ線回折測定を行ってから、次のス
テップＳＴ44に移る。ステップＳＴ44において、測定点
指定番号ＫにＫ＝Ｋ＋１を入れる。すなわち、測定点指
定番号Ｋに１を加えて次の測定点を指定する。次にステ
ップＳＴ45において、測定終了スイッチ４４（図２参
照）がＯＮされたか否か判断する。イエス（Ｙ）の場合
は測定フローを終了する。ノー（Ｎ）の場合は、次のス
テップＳＴ46に移る。ステップＳＴ46において、次に測
定すべき測定点が有るか否か判断する。この判断は測定
点指定番号Ｋで指定した測定点番号Ｎが有るか否かによ
って行う。ノー（Ｎ）の場合は前記ステップＳＴ42に戻
り、イエス（Ｙ）の場合は測定フローを終了する。

【００３７】（変更例）以上、本発明の実施例を詳述し
たが、本発明は、前記実施例に限定されるものではな
く、特許請求の範囲に記載された本発明の要旨の範囲内
で、種々の変更を行うことが可能である。本発明の変更
実施例を下記に例示する。

【００３８】（Ｈ01）試料Ｓの測定面が平坦な場合に
は、試料測定面の任意の３点について、Ｘ，Ｙ，Ｚ座標
を読取って、コンピュータＣに入力し、測定面の傾斜を
表す方程式を作成し、各測定点のＸ，Ｙ座標から演算に
よりＺ座標を定めることが可能となる。この場合、各測
定点に対応して記憶する座標はＸ，Ｙ座標のみとし、Ｚ
座標は前記方程式を用いた演算により定めれば良い。ま
た、前記方程式を作成するために必要な試料測定面の任
意の３点のＸ，Ｙ，Ｚ座標は、Ｘ，Ｙ座標に対応するＺ
座標を、試料の高さを測定可能な距離測定装置例えば、
レーザビームを用いた距離測定装置を用いて定めること
が可能である。前記距離測定装置を用いた場合には、設
定した任意の３点のＸ，Ｙ座標とそれに対応するＺ座標
とを全自動で求めることができる。、その場合、試料の
傾斜を定める前記方程式も自動的に定めることが可能と
なる。 （Ｈ02）Ｘ，Ｙ，Ｚテーブルを圧電素子により構成する
ことが可能である。この場合、Ｘ，Ｙ，Ｚテーブルの全
体の高さを低く構成することが可能となる。したがっ
て、前記第２回転部材１７および第３回転部材２３間の
Ｚテーブルを省略して、第１〜第３回転部材１３，１
７，２３を順次χ軸、ω軸、φ軸回り回転自在に支持
し、前記第３回転部材上に前記圧電素子により構成され
たＸ，Ｙ，Ｚテーブルを支持することが可能となる。 （Ｈ03）第１回転部材をχ軸、第２回転部材をω軸回り
に回転自在にする代わりに、第１回転部材をω軸、第２
回転部材をχ軸回りに回転自在に支持することが可能で
ある。 （Ｈ04）測定点設定用操作にパネル３１に代えて、ＣＲ
Ｔ上に各スイッチを表示し、マウスによりスイッチを指
定して操作してもよい。

【００３９】

【発明の効果】前述の本発明のＸ線回折測定装置は、下
記の効果を奏することができる。 （Ｅ01）試料の測定点のＺ座標位置を制御することによ
り、試料の傾きや、光軸と試料位置の微小な高さ誤差を
除くことができるので、回折角度誤差Δ２θや照射位置
誤差Δｘを生じることなく、高精度に回折角度を測定す
ることができる。 （Ｅ02）前記直交するＸ軸，Ｙ軸，Ｚ軸に沿って移動す
るＸ，ＹおよびＺテーブルの中の前記Ｚ軸方向に移動可
能なテーブルを、前記第２回転部材と前記第３回転部材
との間に設けた場合、第３回転部材にはＸＹ平面内で移
動可能なＸＹテーブルのみを配置すれば良い。このた
め、第３回転部材上のＸ，Ｙテーブルの高さが高くなら
ないので、前記高さよりも大きな寸法を必要とする位置
敏感型比例計数管の半径を大きくしなくても良くなる。
したがって、装置を大型にすることなく、高精度のＸ線
回折測定を行うことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 図１は本発明の実施例１のＸ線回折測定装置
の全体斜視図である。

【図２】 図２は同実施例の制御部の構成説明図であ
る。

【図３】 図３は、試料Ｓの測定点を記憶するフローを
示すフローチャートである。

【図４】 図４は、試料Ｓの測定点を記憶するフローを
示すフローチャートで、前記図３に続く処理を示す図で
ある。

【図５】 図５は前記図３のステップＳＴ30で実行する
移動ピッチ設定フローのフローチャートである。

【図６】 図６は同実施例のＸ線回折測定を行う場合の
測定フローのフローチャートである。

【図７】 図７は前記従来のＸ線回折測定装置の測定方
法の説明図で、試料表面を測定点に区切って番地を付け
た図である。

【図８】 図８は試料の表面（以下、「試料面」ともい
う）Ｓに対する入射Ｘ線および回折Ｘ線の説明図であ
り、図８Ａは試料面と回折面との角度ψが大きくなると
試料の格子面間隔ｄおよび残留応力σが大きくなること
を示す図、図８Ｂは試料面と回折面との角度ψと、入射
Ｘ線および回折Ｘ線が試料面となす角度と関係を示す図
である。

【図９】 図９は前記試料面に高さ方向の誤差が生じた
場合の測定値への影響を示す図である。

【図１０】 図１０は従来のＸ線回折測定の問題点の説
明図である。

【符号の説明】

Ｃ…テーブル移動制御手段（コンピュータ）、χ…第１
軸線（χ軸）、ω…第２軸線（ω軸）、φ…第３軸線
（φ軸）、（χ，ω，φ）…回転３軸線 １…Ｘ線照射装置、１２…位置敏感型比例計数管（ＰＳ
ＰＣ検出器）、１３…第１回転部材（χ軸回転板）、１
７…第２回転部材（ω軸回転板）、２３…第３回転部材
（ω軸回転板）、１９…Ｚテーブル、２７…Ｘテーブ
ル、２９…Ｙテーブル、（Ｄ5＋２８）…Ｘテーブル移
動手段、（Ｄ6＋３０）…Ｙテーブル移動手段、（Ｄ4＋
２１）…Ｚテーブル移動手段、

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 下記の要件を備えたことを特徴とするＸ
   線回折測定装置、（Ｙ01）固定支持された円弧状Ｘ線検
   出部を有する位置敏感型比例計数管、（Ｙ02）第１軸線
   回りに回転可能な第１回転部材、（Ｙ03）前記第１回転
   部材により前記第１軸線に交わる第２軸線回りに回転可
   能に支持された第２回転部材、（Ｙ04）前記第２回転部
   材により前記第１軸線および第２軸線の交点を通り前記
   第２軸線に垂直な面内に有る第３軸線回りに回転可能に
   支持される第３回転部材、（Ｙ05）前記第３回転部材に
   支持される試料保持部、（Ｙ06）前記第３軸線に平行な
   Ｚ軸方向に移動可能で且つ、前記第２回転部材と前記第
   ３回転部材との間に設けられたＺテーブル、（Ｙ07）前
   記Ｚ軸と共に直交する３軸を構成するＸ軸およびＹ軸の
   各軸方向にそれぞれ移動可能で且つ、前記第３回転部材
   に支持されたＸテーブルおよびＹテーブル、（Ｙ08）前
   記第１軸線、第２軸線、および第３軸線からなる回転３
   軸線の交点にＸ線ビームを照射するＸ線照射装置、（Ｙ
   09）前記試料保持部に保持された試料の複数の測定点を
   それぞれ前記回転３軸線の交点に配置したときのＸテー
   ブル、ＹテーブルおよびＺテーブルの各座標を記憶した
   座標記憶メモリ、（Ｙ010）前記試料保持部に保持され
   た試料の複数の測定点を前記回転３軸線の交点に移動さ
   せるように、前記Ｘ，ＹおよびＺテーブルをそれぞれ移
   動させるＸテーブル移動手段、Ｙテーブル移動手段およ
   びＺテーブル移動手段、（Ｙ011）前記試料保持部に保
   持された試料の複数の測定点を前記回転３軸線の交点に
   所定の順序で移動させるように、前記Ｘテーブル移動手
   段、Ｙテーブル移動手段およびＺテーブル移動手段の作
   動を制御するテーブル移動制御手段。
2. 【請求項２】 下記の要件を備えたことを特徴とするＸ
   線回折測定装置、（Ｙ01）固定支持された円弧状Ｘ線検
   出部を有する位置敏感型比例計数管、（Ｙ02）第１軸線
   回りに回転可能な第１回転部材、（Ｙ03）前記第１回転
   部材により前記第１軸線に交わる第２軸線回りに回転可
   能に支持された第２回転部材、（Ｙ04）前記第２回転部
   材により前記第１軸線および第２軸線の交点を通り前記
   第２軸線に垂直な面内に有る第３軸線回りに回転可能に
   支持された第３回転部材、（Ｙ05）前記第３回転部材に
   支持される試料保持部、（Ｙ06′）互いに直交するＸ
   軸、Ｙ軸およびＺ軸の各軸方向にそれぞれ移動可能で且
   つ、前記第３回転部材に支持されたＸテーブル、Ｙテー
   ブルおよびＺテーブル、（Ｙ08）前記第１軸線、第２軸
   線、および第３軸線からなる回転３軸線の交点にＸ線ビ
   ームを照射するＸ線照射装置、（Ｙ09）前記試料保持部
   に保持された試料の複数の測定点をそれぞれ前記回転３
   軸線の交点に配置したときのＸテーブル、Ｙテーブルお
   よびＺテーブルの各座標を記憶した座標記憶メモリ、
   （Ｙ010）前記試料保持部に保持された試料の複数の測
   定点を前記回転３軸線の交点に移動させるように、前記
   Ｘ，ＹおよびＺテーブルをそれぞれ移動させるＸテーブ
   ル移動手段、Ｙテーブル移動手段およびＺテーブル移動
   手段、（Ｙ011）前記試料保持部に保持された試料の複
   数の測定点を前記回転３軸線の交点に所定の順序で移動
   させるように、前記Ｘテーブル移動手段、Ｙテーブル移
   動手段およびＺテーブル移動手段の作動を制御するテー
   ブル移動制御手段。