JPH0971403A

JPH0971403A - ガス放電型表示パネル用誘電体材料、誘電体材料組成物

Info

Publication number: JPH0971403A
Application number: JP7254728A
Authority: JP
Inventors: Nobuyuki Ushifusa; 信之牛房; Seiichi Tsuchida; 誠一槌田; Eiji Matsuzaki; 永二松崎; Teruo Takai; 輝男高井
Original assignee: Hitachi Ltd
Current assignee: Hitachi Ltd
Priority date: 1995-09-06
Filing date: 1995-09-06
Publication date: 1997-03-18

Abstract

(57)【要約】【目的】薄い層でも、電極の段差が解消でき、かつ、電
気絶縁性が確保でき、低温で成膜できる誘電体材料。【構成】金属アルコキシドを加水分解して得られるゲル
または水ガラスを誘電体材料として用いる。また、これ
らの誘電体材料のいずれかと、無機物のフィラとからな
る誘電体材料組成物を用いて誘電体層７ａ，７ｂを形成
する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、プラズマディスプレイ
パネルなどのガス放電型表示パネルに用いられる誘電体
材料に関する。

【０００２】

【従来の技術】プラズマディスプレイなどのガス放電型
表示パネルは、視野角が広い、自己発光するため表示が
見やすい、薄型のものが作製できる等の特徴を有してお
り、ＯＡ機器等の表示装置に利用されている他、高品位
テレビジョン受像機等への応用が期待されている。

【０００３】ガス放電型表示パネルは直流駆動型と交流
駆動型に大別される。このうち交流駆動型のプラズマデ
ィスプレイは、電極を覆っている誘電体層の作用により
メモリー機能を有して輝度が高く、保護膜の適用などに
より実用に絶える寿命が得られるようになり、ビデオモ
ニタなど多用途の画像表示装置として実用化されてい
る。

【０００４】図２２に、実用化されたプラズマディスプ
レイパネルの構造を示す部分斜視図を示す。このガス放
電型表示パネルは、互いに対向して配置された背面基板
２および前面基板１を備える。背面基板２は、前面基板
１との間隙を一定に保つためのバリアリブ３ａを備え、
前面基板１と背面基板２とは、このバリアリブ３ａを介
して接続されている。なお、図２２は、図を見やすくす
るために、前面基板１と背面基板２のバリアリブ３ａと
を分離して図示した。

【０００５】前面基板１は前面ガラス板４ａ上に表示電
極（透明電極）５、バス電極６、誘電体層７ａ、および
ＭｇＯ膜（保護膜）８ａが形成された構造となってい
る。背面基板２は背面ガラス板４ｂ上にアドレス電極
９、バリアリブ３ａ、および蛍光体層１４が形成された
構造となっている。そして、前面基板１と背面基板２と
を、それぞれ電極の形成された面が対向するように、互
いに平行に配置してはりあわせることにより、前面基板
１と背面基板２の間に放電空間３ｆを形成している。な
お、表示電極６とアドレス電極９とは、放電空間３ｆを
介して直交するようにする。

【０００６】このガス放電型表示パネルの断面図を、図
２０（ａ）〜（ｃ）および図２１に示す。図２０（ａ）
はアドレス電極９に平行で、基板１，２表面に垂直な平
面で本実施例の表示パネルの一部を切断した場合の断面
図である。また、図２０（ｂ）は、図２０（ａ）のＡの
位置での断面図であり、その切断面は、アドレス電極９
に垂直で、基板１，２表面に垂直な平面である。図２０
（ｃ）は、図２０（ａ）のＢの位置での断面図であり、
その切断面は、アドレス電極９に垂直で、基板１，２表
面に垂直な平面である。なお、図２０（ａ）〜（ｃ）で
は、図を見やすくするために、断面のみを図示し、画面
奥に見えるであろう構成の図示は省略した。また、図２
０（ａ）においてＣで示した平面での断面図を、図２１
に示す。

【０００７】図２０（ｂ）、図２０（ｃ）に示すよう
に、両基板１，２との間は、透明電極５ａ，５ｂの組ご
とに、放電セルが形成され、両基板１，２とバリアリブ
３ａとにより放電空間３ｆが形成される。この放電セル
の内部には、蛍光体膜１４が形成されている。また、セ
ル内の空間３ｆには放電ガスが封入されている。この従
来の表示パネルでは、図２１に示すように、バリアリブ
３ａは平行な棒状をしており、横（または縦）に連続し
たセルの放電空間３ｆは、バリアリブ３ａによって隔て
られていない。

【０００８】この前面基板１の電極５，６と、背面基板
２に形成されたアドレス電極９との間に交流電圧を印加
すると、前面基板１、背面基板２およびバリアリブ３ａ
により形成される各セル内３ｆに補助放電が発生する。
この補助放電を利用して、各セルごとに前面基板１に形
成されている平行した電極５ａ，６ａと電極５ｂ，６ｂ
との間に交流電圧を印加すると、主放電が発生する。こ
の主放電により生じる紫外線は、セル内部に塗布されて
いる螢光体１４を発光させる。この表示パネルの表示
は、前面基板１を通して観察されるこの蛍光体１４から
の光によるものである。

【０００９】ここで示したガス放電型表示装置の従来例
は、フラットパネル・ディスプレイ１９９４（日経マイ
クロデバイス編、１９９３年）の第１９８頁〜第２０１
頁に記載されている。

【００１０】このようなガス放電型表示パネルの従来の
製造方法として、つぎに説明するような方法が知られて
いる。

【００１１】まず、一対の透明な基板を用意する。ガス
放電型表示パネルに用いる基板としては、一般に、歪点
が約４５０℃のソーダガラス板が使用される。

【００１２】このガラス基板の一方（背面基板）に、厚
膜印刷法により電極用ペーストを所定パターンになるよ
うに印刷し、ペーストを１００〜１５０℃で乾燥させた
後、５００〜６００℃で焼成する。つぎに、画素となる
放電セルを形成するため、この背面基板の電極パターン
を形成した面に、厚膜印刷法によりバリアリブ形成用の
ペーストを所定パターンになるように印刷し、１００〜
１５０℃で乾燥させる。これにより、背面基板にマトリ
クス状に配列された多数のセルが形成される。なお、バ
リアリブは、十分な放電空間を確保するために、厚い膜
厚（例えば１６０〜２００μｍ）が必要とされ、１回の
厚膜印刷ではこの膜厚を得ることができない。そこで、
このバリアリブ形成用ペーストの印刷及び乾燥は、複数
回行われる。このバリアリブにより形成されたセルの内
部に、厚膜印刷法により赤、青および緑の蛍光体用ペー
ストを所定のパターンで印刷し、１００〜１５０℃で乾
燥した後、５００〜６００℃で焼成する。これにより、
放電セルが形成された背面基板が得られる。

【００１３】他方のガラス基板（前面基板用ガラス板）
には、例えばＩＴＯ（Indium Tin Oxide）などの透明な
導電体の蒸着膜を形成し、これをパターン化して、セル
の列に対して平行な２電極がセル毎に設けられるよう
に、互いに平行な多数の電極パターンを形成する。つぎ
に、この電極の配線抵抗を下げるため、パターンの各電
極部にバス電極を形成する。この電極を形成した面に、
厚膜印刷法により誘電体用ペーストを所定パターンにな
るように印刷し、１００〜１５０℃で乾燥させた後、５
００〜６００℃で焼成する。さらに、得られた誘電体膜
表面に、ＥＢ（Electron Beam）蒸着法によりＭｇＯ膜
を形成する。これにより、透明電極が形成された前面基
板が得られる。

【００１４】つぎに、前面基板と背面基板とを、前面基
板のＭｇＯ膜を形成した面と背面基板のセルを形成した
面を対向させて位置合わせし、両基板の縁部分をシール
用鉛ガラスで覆って、約４５０℃で加熱し、両基板間の
シールを行った後、両基板およびシール部で囲まれる空
隙内の空気を排気管から排気し、この排気管を介してこ
の空隙内に放電ガスを入れる。最後に、排気管の焼きち
ぎり（チップオフ）を行い、放電ガスを封止する。以上
により、ガス放電型表示パネルが作成される。

【００１５】なお、上述の説明では、背面基板にバリア
リブを形成したが、表示パネルの設計によっては、バリ
アリブが前面基板に形成されたり、前面基板および背面
基板の双方に形成される場合がある。また、電極やＭｇ
Ｏ膜を厚膜印刷法により形成する場合もある。

【００１６】いずれにしても、このような従来の表示パ
ネル製造方法は、バリアリブ、電極及び蛍光体等を厚膜
印刷法により形成するため、比較的容易に表示パネルを
作製できるという利点を有している。

【００１７】

【発明が解決しようとする課題】ガス放電型表示パネル
の基板としては、一般に、歪点が約４５０℃のソーダガ
ラス板が使用される。このガラス板は、ガラス作製時に
生じる歪を取り、焼成時の変形を低減するために、あら
かじめ、製造工程中の熱処理温度のうち最も高い温度で
熱処理したものが用いられる。

【００１８】しかしながら、ソーダガラス板は、使用す
る前に熱処理を加えても、製造工程での焼成時にペース
トの焼成収縮及び異種材料間の熱膨張係数差による熱歪
が生じ、ソーダガラス板が変形するという問題がある。
このようなガラス板の歪みや変形は、基板の組立の際に
位置精度を悪化させる。このため、歪点の高いガラス板
を使用することが考えられるが、歪点の高いガラス板
は、非常に高価であることから、ガス放電型表示パネル
には不向きである。

【００１９】また、従来より、電極上に形成する誘電体
は、電極の段差の解消および電気絶縁性の確保のため、
２０〜４５μｍの厚さを必要とするとされてきた。これ
は、この誘電体は、一般に、厚膜印刷法により誘電体用
ペーストを印刷、焼成して形成され、厚膜印刷法により
形成した誘電体材料は、気孔を多く含有しているためで
ある。誘電体の厚さが厚くなると、電界を生じさせるた
めに高い電圧を必要とする。

【００２０】そこで、作動電圧を低く抑えるためには、
薄い層でも、電極の段差が解消でき、かつ、電気絶縁性
が確保できる誘電体材料であって、低温で成膜できる誘
電体材料と、ガス放電型表示パネル用誘電体およびその
製造方法とを提供することを目的とする。

【００２１】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明では、誘電体材料として、有機金属化合物
（特に、金属アルコキシド）を加水分解して得られるゲ
ル（以下、有機金属ゲルと呼ぶ）と、水ガラスとが提供
される。これらの誘電体材料は、低温での熱処理によ
り、放電に耐えうる無機物が形成できるため、ガス放電
型表示パネルの製造に適している。

【００２２】さらに、本発明では、これらの誘電体材料
のいずれかと、無機物の粒状物（以下、フィラと呼ぶ）
とからなる誘電体材料組成物と、これを用いるガス放電
型表示パネルの製造方法とが提供される。この組成物
は、この組成物を用いて誘電体層を形成すると、薄い誘
電体層であっても、電界集中を生じない平坦な誘電体表
面が形成されるために、ガス放電型表示パネルの製造に
適している。

【００２３】また、本発明では、これらの誘電体材料お
よび誘電体材料組成物のうちのいずれかを加熱して得ら
れる誘電体が提供される。

【００２４】

【作用】本発明で提供される誘電体材料のひとつである
有機金属ゲルは、分子レベルのセラミックスが分散した
ものであり、水またはアルコールのような溶媒を除去す
ることで無機質の材料を得ることができるものである。
しかし、放電中にガスを発生することのないように、吸
着している水またはアルコールを充分に除去するとも
に、均質で強度を有する誘電体層を得るために、十分な
熱処理を行うことが望ましい。ただし、このゲルは分子
レベルのセラミックスであることから、焼成温度が低
く、ソーダガラス材料の歪点である４５０℃以下の温度
で充分な熱処理が可能である。

【００２５】均質で強度を有する誘電体層を得るために
は、５０℃以上の熱処理を行うことが望ましい。熱処理
温度が低い場合には、水またはアルコールのような溶媒
は除去できているが、形成した誘電体の表面に吸着した
水酸基などが充分に除去できないことがあるため、パネ
ルを組み立てて真空排気し、さらに、封止ガス導入した
ときに水蒸気やアルコールを放出することがあり、放電
に影響を及ぼす可能性がある。また、熱処理温度がソー
ダガラス材料の歪点である４５０℃に近くなると、歪点
を超えなくても、ガラスが変形しやすくなる。しかも、
ガス放電型表示パネルに用いる大面積のガラス板では、
特に自重でも変形しやすいため、極力温度を上げないこ
とが要求される。そこで、本発明におけるゲルの加熱処
理の温度は、１００℃以上４００℃以下とすることが望
ましい。

【００２６】上述のように、有機金属ゲルを用いること
は、前面基板および背面基板の誘電体層に限らず、前面
基板および背面基板の保護膜（例えばＭｇＯ膜）の形成
においても望ましい。このゲルを用いて形成した膜の表
面は、ガラスペーストを焼結して得られる膜の表面にく
らべてはるかに滑らかであり、含まれる結晶の粒径も小
さく、均一だからである。なお、ＭｇＯ膜は、従来ＥＢ
蒸着法により形成されているが、大型のガス放電型表示
パネルを製造するためには、かなり大がかりで高価な設
備が必要になる。また、厚膜印刷法により形成したＭｇ
Ｏ膜は、結晶粒径が均一とならないことから、充分な特
性が得られていない。本発明で用いる有機金属ゲルは分
子レベルのセラミックスが分散したものであり、均一な
ＭｇＯの結晶粒径が得られ、ＥＢ蒸着法と遜色のないＭ
ｇＯ膜が形成できる。

【００２７】本発明に用いられる有機金属ゲルは、Ｓ
ｉ，Ｔｉ，Ａｌ，Ｚｒなどの金属のアルコキシドの溶液
（水溶液、アルコール溶液など）を常温またはそれに近
い温度で加水分解することにより得られる。反応溶液
は、加水分解の進行に伴い重縮合反応が進行してゾルと
なり、さらに反応が進行すると、本発明に用いられるゲ
ルが得られる。

【００２８】ここで用いられる金属アルコキシドは、一
般式Ｍ（ＯＲ¹）_nで表される。Ｍは金属原子を表し、例
えば、Ｓｉ，Ｔｉ，Ａｌ，Ｚｒが挙げられる。また、Ｒ
¹は有機基を表し、炭素数１〜５のアルキル基が望まし
い。ｎはＭの価数によって定まる正の整数であり、通
常、１〜４である。金属アルコキシドおよびその加水分
解生成物は、熱処理により金属酸化物に変化する。

【００２９】本発明に使用できる金属アルコキシドに
は、例えば、テトラ（ｎ−ブチル）シリケート：Ｓｉ
（ＯＣ₄Ｈ₉）₄、トリ（ｓｅｃ−ブトキシ）アルミニウ
ム：Ａｌ（ＯＣ₄Ｈ₉）₃、テトラ（ｎ−プロピル）チタ
ネート：Ｔｉ（ＯＣ₃Ｈ₇）₄、テトラ（ｎ−ブチル）ジ
ルコネート：Ｚｒ（ＯＣ₄Ｈ₉）₄、トリメチルボレー
ト：Ｂ（ＯＣＨ₃）₃などがある。

【００３０】金属アルコキシドは、例えば、合成原料と
して金属塩化物を用い、この塩化物を蒸留、再結晶など
通常の精製方法を用いて精製しておくことにより、容易
に高純度のものを得ることができる。また、金属アルコ
キシドは、ほとんどの金属について作ることができ、通
常、常温で液体である。そこで、これらの金属アルコキ
シドを複数種類混合して加水分解することにより、所望
の組成を有するガラスまたはセラミックの原料ゲルを容
易に調製することができる。有機金属ゲルから得ること
のできる誘電体の組成例を、表１に示す。

【００３１】

【表１】また、本発明で提供される誘電体材料のひとつである水
ガラスは、Ｒ₂Ｏ・ｎＳｉＯ₂で表されるアルカリケイ酸
塩の濃厚水溶液（水の量が、全体の７０〜９０重量％）
である。ここで、Ｒはナトリウムまたはカリウムであ
り、特にカリウムが好ましい。また、ｎは４〜５であ
り、ｎが４以下だと、生成されるガラスの重合度が不足
し、ｎが５より大きいと、加水分解速度が遅い。

【００３２】なお、上述した誘電体材料のみで誘電体層
を形成する場合、厚さ２μｍ程度の電極（蒸着法により
形成）による段差を解消するためには、０．０１ｍｍ以
上の厚い誘電体層を形成しなくてはならない。そこで、
上述の誘電体材料と無機物のフィラとの混合物である誘
電体材料組成物を用いることが望ましい。無機物フィラ
を用いることにより、薄い誘電体層であっても、電極等
の段差を解消することができるからである。

【００３３】無機物フィラの量は、誘電体材料組成物全
体の１〜８０重量％とすることが望ましく、特に７０〜
８０重量％とすることが望ましい。また、無機物フィラ
としては、実質的に電極の段差より小さい粒径（すなわ
ち、電極の厚さが２μｍであれば、２μｍ未満の粒径）
の粉末を用いることが望ましく、粉末の分散性及び充填
性を考慮すると、無機物フィラは球状が望ましい。な
お、球状の無機物フィラは、光の乱反射が少ないという
点からも望ましい。

【００３４】さらに、前面基板に使用する誘電体材料
は、光を透過する必要があることから、透明な材料を用
いることが望ましい。そこで、前面基板の誘電体の作成
には、無機物フィラとして、シリカまたはアルミナを主
成分とする透明な材料を用いることが好ましい。一方、
背面基板に使用する誘電体材料は、透明であっても有色
であっても問題がない。そこで、有色の誘電体材料に使
用する無機物フィラには、シリカ、アルミナ、ムライ
ト、マグネシア，酸化チタン，酸化ジルコニウム，酸化
バナジウム、チタン酸カリウム、酸化バナジウムおよび
酸化鉛の少なくともいずれかを主成分とする材料が挙げ
られる。石英ガラス、クウォーツ、サファイア、および
硼珪酸ガラスなどは、透明であるため、前面基板の誘電
体層を形成する際に無機物フィラとして用いるのに適し
ている。一般に、アルミナ、ムライト、チタニアまたは
チタン酸カリウムを主成分とする材料は白色であり、酸
化バナジウムまたは酸化鉛を主成分とする材料は黒色で
ある。

【００３５】本発明の誘電体材料組成物を用いて得られ
た誘電体層を備えるガス放電型表示パネルでは、誘電体
が無機物フィラとガラス質材料（有機金属ゲルまたは水
ガラス）との複合物により形成されているため、電界集
中が生じることなく、低電圧で放電可能である。誘電体
層中に無機フィラを分散させることにより、電極の段差
が低減でき、電界集中を防止することができるからであ
る。

【００３６】本発明のガス放電型表示パネルの製造方法
は、一貫した低温プロセスで行なうことが望ましい。そ
こで、背面基板と前面基板に形成する金属電極は、スパ
ッタリング法や真空蒸着法、および無電解めっき法のう
ちの少なくともいずれかにより形成することが望まし
い。このようにすることにより、配線を低温で形成でき
るだけではなく、配線抵抗を厚膜印刷法により形成され
たものの３分の１以下に低減することができ、放電の高
速駆動に有効である。なお、金属電極の材料としては、
Ｃｕ、Ｃｒ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｎｉ、Ｗ、またはＭｏなどの
金属や、これらの合金、あるいは、Ｃｒ／Ｃｕ／Ｃｒ積
層膜などを用いることができる。

【００３７】主放電用の透明電極には、酸化スズやＩＴ
Ｏなどの導電性を有する透明な材料を用いる。この透明
電極の形成方法としては、スパッタリング法、電子線蒸
着法、化学気相反応法、ゾル−ゲル法などを用いること
ができる。

【００３８】放電の開始電圧を低く抑え、放電を安定化
させる、さらに、スパッタリングによる誘電体層の劣化
を抑制するためには、誘電体層表面を、２次電子放出能
を有する保護膜で覆うことが望ましい。この保護膜とし
ては、スパッタリング率が低く、２次電子放出能が高い
材料を用いることが望ましく、ＭｇＯ、ＣａＯ、あるい
はＳｒＯ、またはこれらの混合物などの膜を用いること
ができる。

【００３９】また、放電空間を分割するための隔壁１３
およびバリアリブ３ａと、主放電空間３ｄと補助放電空
間３ｃとを連通する隔壁１３の貫通孔である導通経路３
ｅとを形成する方法としては、サンドブラスト法あるい
はエッチング法などを用いることができる。これらの方
法は、寸法精度がよいため、本発明に適している。な
お、背面基板側バリアリブ１２には、フィルムパターン
を形成したのちにガラス材料やセラミック材料を埋め込
むリフトオフ法や、厚膜印刷技術も有効な形成方法であ
る。

【００４０】放電空間を満たす放電ガスとしては、Ｈｅ
とＸｅの混合気体や、ＮｅとＸｅの混合気体などを用い
ることができる。

【００４１】なお、前面基板に色フィルタを備えれば、
色純度が向上し、画質が良好な画像を得ることができ
る。色フィルタはブラックマトリックスを備えることが
のぞましい。色フィルタは、例えば、前面基板の外側
（すなわち誘電体層を形成していない側）に備えてもよ
い。

【００４２】しかし、本発明では、色フィルタを、前面
基板のガラス板と誘電体との間に設けることができる。
本発明では、低温プロセスにより表示パネルを作製する
ことができるため、前面基板のガラス板と誘電体との間
に有機物を含む色フィルタを挟み込んでも、後工程にお
ける加熱処理で有機物が分解することがないからであ
る。このようにすれば、色フィルタが放電空間に近いた
め、視野角を広げることができるので望ましい。

【００４３】前面基板および背面基板の基材としては、
上述のように、コストの点から、ソーダガラスを用いる
ことが望ましく、本発明では、熱処理温度をソーダガラ
スの歪点以下にすることができるため、ソーダガラスを
用いる場合に適しているが、基材の材質はこれに限られ
ず、硼珪酸ガラスなど、他の材料からなる基材を用いて
もよい。なお、前面基板の基材には透明な材料を用いる
必要があるが、背面基板の基材は透明でなくてもよい。

【００４４】

【実施例】以下に、本発明の実施例を、図面を用いて説
明する。なお、以下の説明で述べる基板の材質や大き
さ、製造条件、製造装置は、この発明の一例を示してい
るに過ぎない。従って、この発明がこれらの条件等のみ
によって限定されるものではない。

【００４５】＜実施例１＞本実施例により作製されたガ
ス放電型カラー表示パネルの断面を、図１および図９に
示す。本実施例のガス放電型カラー表示パネルは、図１
（ａ）〜（ｃ）に示すように、前面基板１と、背面基板
２と、それらの間隙を区画して画素となるセルを形成す
る隔壁基板３とを備える。前面基板１と背面基板２との
間の空隙３ｂには、ＨｅとＸｅとの混合ガス（Ｘｅ含有
量５体積％）が封入されている。

【００４６】前面基板１は、ソーダガラス板４ａと、そ
の表面に形成された、図１の紙面に垂直方向のセル列の
全セルに共通な２つ一組のＩＴＯ電極５ａ，５ｂと、Ｉ
ＴＯ電極５ａ，５ｂ表面に形成されたバス電極６ａ，６
ｂと、ＩＴＯ電極５ａ，５ｂおよびバス電極６ａ，６ｂ
を覆うようにソーダガラス板４ａ表面に形成された誘電
体層７ａと、さらに誘電体層７ａ表面に形成されたＭｇ
Ｏ膜８ａとを備える。ＩＴＯ電極５ａ，５ｂと、バス電
極６ａ，６ｂとにより形成される電極パターンは、マト
リクス状に配列されたセルのうち、一方の方向に並ぶセ
ル列の各セルに対して平行な２つの電極が設けられるよ
うに、多数の並行な直線状のパターンとしてパターンニ
ングされる。

【００４７】ここで、ＩＴＯ電極５ａ，５ｂは透明電極
である。しかし、ＩＴＯ電極５ａ，５ｂは配線抵抗値が
高く、これのみを用いたのでは、主放電の駆動速度が遅
い。そこで、本実施例の表示パネルでは、このＩＴＯ電
極５ａ，５ｂ表面に、ＩＴＯ電極５ａ，５ｂのなす直線
に平行な金属製のバス電極６ａ，６ｂを設け、前面基板
１での電極の配線抵抗値を低くしている。ただし、この
バス電極６ａ，６ｂは不透明であるから、できるかぎり
幅狹のものとすることが望ましい。これは、螢光体１４
から発光する光の、バス電極６ａ，６ｂによって遮蔽さ
れる量を少なくするためである。

【００４８】なお、本実施例では、前面基板１に設けた
透明電極５ａ，５ｂは、放電セル列方向に伸延させてい
る。しかし、本実施例のようにバス電極６ａ，６ｂが設
けられている場合には、放電セル列にそって伸延させる
必要はなく、各放電セル毎に独立した電極として透明電
極を形成し、それぞれの透明電極をバス電極によって接
続するようにしても良い。また、前面基板１に設ける透
明電極を構成する透明電極材料の抵抗値が低く、実用に
十分である場合、透明電極を放電セルのある並びの方向
に伸延させ、信号線などのバスラインとしても用いても
さしつかえない。ただし、これらの場合には、補助放電
の光をバス電極６ａ，６ｂにより遮蔽するという効果を
得ることはできない。

【００４９】背面基板２は、ソーダガラス板４ｂと、そ
の表面に形成されたアドレス電極９と、第１のアドレス
電極９表面に形成された誘電体層７ｂと、誘電体層７ｂ
に埋め込まれているトリガ電極１０と、誘電体層７ｂ表
面およびトリガ電極１０の誘電体層７ｂから露出した表
面を覆うように形成されたＭｇＯ膜８ｂとを備える。ア
ドレス電極９は、基板表面に平行であり、かつ互いに平
行な多数の直線状パターンとしてパターンニングされ
る。また、トリガ電極１０は、互いに平行な多数の、基
板表面に平行であり、かつアドレス電極９のなす直線に
直角な直線状パターンとしてパターンニングされる。

【００５０】なお、前面基板１及び背面基板２に形成さ
れるＭｇＯ膜８ａ，８ｂは、誘電体層７ａ，７ｂの保護
膜として働く。ＭｇＯ膜８ａ，８ｂは、スパッタリング
率が低く耐スパッタリング性に優れているため、放電に
おけるスパッタリングによる損傷を抑制でき、表示パネ
ルの長寿命化を図るために有効である。また、ＭｇＯ膜
８ａ，８ｂは透明であるから、螢光体１４から発光した
光を通しやすく、表示パネルに用いるのに適している。

【００５１】なお、図１（ａ）はアドレス電極９に平行
（すなわちトリガ電極１０に垂直）で、基板１，２表面
に垂直な平面で表示パネルを切断した断面図である。ま
た、図１（ｂ）は、図１（ａ）のＡの位置での断面図で
あり、その切断面は、アドレス電極９に垂直（すなわち
トリガ電極１０に平行）で、基板１，２表面に垂直な平
面である。図１（ｃ）は、図１（ａ）のＢの位置での断
面図であり、その切断面は、アドレス電極９に垂直（す
なわちトリガ電極１０に平行）で、基板１，２表面に垂
直な平面である。

【００５２】隔壁基板３は、前面基板１のＭｇＯ膜８ａ
と背面基板２のＭｇＯ膜８ｂとに接続したバリアリブ３
ａと、バリアリブ３ａに接続された、前面基板および背
面基板に平行な隔壁１３と、バリアリブ３ａおよび隔壁
１３の前面基板側に形成された蛍光体層１４とを備え
る。蛍光体層１４は、放射線（紫外線）により緑、青、
または赤を発光する蛍光体からなる塗膜であり、本実施
例では、広範囲に蛍光体層１４が備えられているため、
主放電による発光効率がよい。なお、いずれの色を発色
する蛍光体を用いるかは、セルごとに、基板全体の配色
が所定のパターンとなるように定められている。

【００５３】バリアリブ３ａは、前面基板側のバリアリ
ブ１１と、背面基板側のバリアリブ１２とからなる。バ
リアリブ１１，１２は隔壁１３と一体に成形されてお
り、これらは、ガラスまたはセラミック板をサンドブラ
ストまたはエッチング法などにより加工して形成され
る。表示セル内で発光した光が隣の表示セルに漏れ込む
ことによって混色が生じないようにするために、バリア
リブ１１や隔壁１３は、不透明な白色または有色とし、
遮光するようにすることが望ましい。

【００５４】バリアリブ３ａは、基板１，２の間隙を区
画してセルを形成するために、格子状をしている。図１
（ａ）においてＣで示した平面での断面図を、図９
（ａ）に示し、図１（ａ）においてＤで示した平面での
断面図を、図９（ｂ）に示す。

【００５５】前面基板１、背面基板２、隔壁基板３によ
り形成されるセルは、バリアリブ３ａにより隣接するセ
ルと隔離される。各セル内には、基板１，２の面に並行
な隔壁１３が設けられている。なお、本実施例では、隔
壁１３はガラス板４ａ、４ｂに対して水平に設けられて
いるが、荷電粒子等の移動を妨げない限り、必ずしも水
平でなくてもよい。

【００５６】セル内の空間３ｂのうち、隔壁１３と背面
基板２との間の空間３ｃが補助放電用の空間とされ、隔
壁１３と前面基板１との間の空間３ｄが主放電用の空間
とされる。補助放電用の空間３ｃと主放電用の空間３ｄ
とは、隔壁１３の端部とバリアリブとの間に形成された
導通経路３ｅにより連通されている。セル内には、上述
のように放電用ガスが封止されている。

【００５７】この本実施例によるガス放電型カラー表示
パネルは、背面基板２に設けられたアドレス電極９の１
本、および、トリガ電極１０の１本が選択されて、これ
らの電極間に交流電圧が印加されることにより、それら
の誘電体層７ｂを介した交点の上にあるセルの補助空間
３ｃ内で補助放電が起こる。すなわち、いずれかのアド
レス電極９およびトリガ電極１０に電圧を印加すること
により、補助放電の起こるセルを選択することができ
る。なお、この補助放電は、アドレス電極９への電圧の
印加により、誘電体層７ｂを介してＭｇＯ層８ｂの表面
に誘導された電荷と、トリガ電極１０への電圧の印加に
より、誘電体層７ｂを介してＭｇＯ層８ｂの表面に誘導
された電荷との間で生じる。

【００５８】このように、補助放電が発生している状態
で、この所定の表示セルを通る２つのバス電極５ａ、５
ｂに交流電圧を印加すると、これらの電極の電荷パター
ンが誘電体層７ａを介してＭｇＯ層８ａ表面に誘導さ
れ、補助放電の影響が導通経路３ｅを介して主放電用空
間３ｄに波及しているため、ＭｇＯ層８ａ表面の異なる
電荷間に主放電を起こさせる。すなわち、この主放電
は、バス電極６ａが設けられたＩＴＯ電極５ａへの電圧
の印加により、誘電体層７ａを介してＭｇＯ層８ａの表
面に誘導された電荷と、バス電極６ｂが設けられたＩＴ
Ｏ電極５ｂへの電圧の印加により、誘電体層７ａを介し
てＭｇＯ層８ａの表面に誘導された電荷との間で生じ
る。なお、この主放電は、補助放電の発生していないセ
ルでは起こらない。

【００５９】この主放電により、放電空間内のガス（Ｈ
ｅとＸｅとの混合ガス）が励起されて放射線（紫外線）
を発生し、この放射線は、蛍光体１４を励起して可視光
を発生させる。電圧を印加する電極を選択することで、
所望の各セルにおいてこの可視光を発生させ、該可視光
が前面基板１を通して外部に放射されることにより、本
表示パネルに画像が形成される。

【００６０】このように、この実施例では、各セルを、
バリアリブ３ａで区切るほか、前面基板１と背面基板２
の間の空間を隔壁１３で区切ることにより、補助放電に
より発生する放射線が蛍光体１４に当たらないように、
補助放電を蛍光体１４から隠す。このため、本実施例の
表示パネルでは、背面基板２側のアドレス電極９および
トリガ電極１０により補助放電を発生させても、この補
助放電による発光が隔壁１３によって阻止されることに
なり、主放電によってのみ螢光体１４が発光することに
なるため、補助放電のみが起こり、主放電が起きていな
いセル（すなわち、アドレス電極９およびトリガ電極１
０には電圧が印加されているが、バス電極６ａ，６ｂに
は電圧が印加されていないセル）では、蛍光体１４が発
光せず、主放電による発光だけが前面基板１側から観察
できるから、充分なコントラストを得ることができる。

【００６１】つぎに、本実施例のガス放電型表示パネル
の製造方法を、図１０（ａ）〜（ｐ）を用いて説明す
る。図１０は、本実施例の表示パネルの製造方法を模式
的に示した説明図である。

【００６２】Ａ．前面基板の作製（１）主放電用電極の形成まず、前面基板１を作製した。表裏一方の面にＩＴＯ膜
５ｃの形成された、幅：約８５ｃｍ、奥行：約７０ｃ
ｍ、厚さ：約２．８ｍｍのソーダガラス板４ａを用意
し、室温１５〜２５℃、湿度６０％の防塵室内で、ＩＴ
Ｏ膜５ｃ表面に感光性樹脂組成物を塗布し、この感光性
樹脂組成物塗膜を、所定パターンのマスクを介して３ｋ
Ｗ（出力８ｋＷ）の超高圧水銀灯により露光量を２００
〜２５０ｍＪ／ｃｍ²として露光させ、０．２〜０．５
％の炭酸ナトリウム水溶液を用いて、現像液温度２５
℃、圧力１．２ｋｇ／ｃｍ²の条件で、１０５秒間スプ
レー現像したのち、０．１％の希酸で中和して、水洗
し、乾燥して、所定パターンのレジスト膜を形成した。
つぎに、エッチング液によりＩＴＯ膜５ｃの露出部分を
エッチングしたのち、剥離液でレジスト膜を剥離した。
これにより、ＩＴＯ膜５ｃがパターン化され、所定の位
置にＩＴＯ電極５ａ，５ｂが形成された（図１０
（ａ））。

【００６３】パターン化して得られたＩＴＯ電極５ａ，
５ｂおよびガラス板４ａの露出部分に感光性樹脂組成物
を塗布し、所定パターンのマスクを介して、３ｋＷ（出
力８ｍＷ）の超高圧水銀灯により、露光量を２００〜２
５０ｍＪ／ｃｍ²に調節して、感光性樹脂組成物を露光
させたのち、０．２〜０．５％の炭酸ナトリウム水溶液
を用いて、現像温度：２５℃、圧力：１．２ｋｇ／ｃｍ
²、時間：１０５秒の条件でスプレー現像を行ない、
０．１％程度の希酸で中和し、水洗して乾燥して、所定
のパターンのレジスト膜１９１を得た（図１０
（ｂ））。

【００６４】つぎに、ＩＴＯ電極５ａ，５ｂのレジスト
膜１９１から露出した表面に、無電解めっき法により、
幅：０．０５ｍｍ、厚さ：０．００３ｍｍのバス電極６
ａ，６ｂを形成した。このバス電極６ａ，６ｂの材料は
良好な導電性を有する金属であればよく、ここでは、銅
を用いた。このめっき処理後、剥離液によってレジスト
膜１９１を剥離した（図１０（ｃ））。

【００６５】（２）誘電体層の形成得られた電極５ａ、５ｂ、６ａ，６ｂを覆うように、ガ
ラス板４ａ表面に、Ａｌ、Ｓｉ、Ｏを主成分とする加水
分解型コーティング剤をブレード法で塗布し、１００〜
４００℃の温度で５〜６０分間加熱することにより、厚
さ：０．０２〜０．０３ｍｍの誘電体層７を形成した
（図１０（ｄ））。なお、ここで５０〜８０℃の温度で
６０分間加熱したものは、真空中での放出ガス分析を行
なった際に、水またはアルコールのガスが検出された。
また、４２０〜５００℃の温度で１５分間加熱したもの
は、ソーダガラス板４に約０．１５ｍｍの反りが生じ
た。本実施例にように、熱処理を１００〜４００℃の温
度で５〜６０分間行なったものは、真空中での放出ガス
がなく、また、ソーダガラス板７に反りが生じないた
め、良好であった。これにより、誘電体層７表面が形成
された。

【００６６】なお、Ａｌ、Ｓｉ、Ｏを主成分とする加水
分解型コーティング剤として、ここでは、トリ（ｎ−ブ
トキシ）アルミニウムと、テトラ（ｎ−ブチル）シリケ
ートとを、酸化物に換算したときの３７：６３の重量比
で含むｎ−ブタノール溶液を常温で加水分解して得られ
たゲルを用いた。

【００６７】（３）保護膜の形成得られた誘電体層７ａ表面に、Ｍｇ、Ｏを主成分とする
加水分解型コーティング剤をスピンナーで塗布し、上記
誘電体層７の形成と同様に１００〜４００℃の温度で５
〜６０分間低温加熱することにより、厚さ：０．００１
〜０．００５ｍｍのＭｇＯ膜８ａを形成した（図１０
（ｅ））。得られたＭｇＯ膜表面は平滑であった。Ｍ
ｇ、Ｏを主成分とする加水分解型コーティング剤とし
て、ここでは、ジ（ｎ−ブトキシ）マグネシウムのｎ−
ブタノール溶液を常温で加水分解して得られたゲルを用
いた。なお、誘電体層７ａおよびＭｇＯ膜８ａの形成に
おけるコーティング剤の塗布は、スピンナーによる塗布
以外に、スプレー法、ロール法、ディップ法、印刷法な
どで行ってもよい。

【００６８】このようにして、本実施例では、ソーダガ
ラス板４ａの歪点（４５０℃）以上の温度に加熱するこ
となく、前面基板１を作成した。なお、以上の作製工程
を経ても、ソーダガラス４ａに寸法変化はなかった。

【００６９】Ｂ．背面基板の作製（４）トリガ電極の形成次に、背面基板２を作製した。まず、幅：約９０ｃｍ、
奥行：約６５ｃｍ、厚さ：約２．８ｍｍのソーダガラス
板４ｂに感光性樹脂組成物を塗布し、その上に所定パタ
ーンのマスクを介して、３ｋＷ（出力８ｍＷ）の超高圧
水銀灯により、露光量を２００〜２５０ｍＪ／ｃｍ²に
調節して、感光性樹脂組成物膜を露光させ、０．２〜
０．５％の炭酸ナトリウム水溶液を用いて、現像温度：
２５℃、圧力：１．２ｋｇ／ｃｍ²、時間：１０５秒の
条件でスプレー現像した後、０．１％程度の希酸で中和
し、水洗して乾燥して、所定のパターンのレジスト膜１
９２を得た。

【００７０】つぎに、ガラス板４ｂのレジスト膜１９２
から露出した表面に、無電解めっき法により、幅０．１
ｍｍ、厚さ０．００２ｍｍのトリガ電極１０を形成し、
剥離液によってレジスト膜１９２を剥離した。

【００７１】（５）誘電体層の形成得られたトリガ電極１０を覆うように、ガラス板４ｂ上
に工程（２）と同じ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｏを主成分とする加
水分解型コーティング剤をブレード法で塗布し、上述の
誘電体層７ａの形成と同様に１００〜４００℃の温度で
５〜６０分間低温加熱して、表面の誘電体層７ｂの一部
７ｃ（厚さ：０．０１ｍｍ）を形成した（図１０
（ｈ））。

【００７２】（６）アドレス電極および誘電体層の形成さらに、得られた誘電体層の一部の表面に、上述のトリ
ガ電極１０と同様の方法により、厚さ０．００２μｍの
アドレス電極９を形成し、得られたアドレス電極９を覆
うように、誘電体層上に、工程（５）と同様にして加水
分解型コーティング剤を塗布、加熱して、誘電体層７ｂ
の残り（厚さ：０．００５ｍｍ）を形成した（図１０
（ｉ））た。

【００７３】（７）保護膜の形成以上により誘電体層７ｂが形成されたので、その表面
に、工程（３）と同様にして、厚さ：０．００１〜０．
００５ｍｍのＭｇＯ膜８ｂを形成した。

【００７４】このようにして、本実施例では、前面基板
１と同様、ソーダガラス板４の歪点（４５０℃）以上の
温度に加熱することなく、背面基板２が作製された。な
お、背面基板２には、パネル組立後に排気およびガス導
入のためのチップ管（図示せず）を取り付けた。

【００７５】Ｃ．隔壁基板の作製（８）レジスト膜の形成次に、隔壁基板３を作製した。まず、幅：約８５ｃｍ、
奥行：約６５ｃｍ、厚さ：０．５ｍｍのアルミナを主成
分とするセラミック板３０（あるいは、硼珪酸ガラス板
でもよい）を用意し、その表裏一方の面に感光性樹脂組
成物を塗布し、各セルにおける前面基板側と背面基板側
との放電の導通経路を作成するための所定パターンを有
するマスクを介して、３ｋＷ（出力８ｍＷ）の超高圧水
銀灯を用い、２００ｍＪ／ｃｍ²〜２５０ｍＪ／ｃｍ²の
感光量で、感光性樹脂組成物膜を露光させた。つぎに、
０．２％〜０．５％の炭酸ナトリウム水溶液を用いて、
現像温度：２５℃、圧力：１．２ｋｇ／ｃｍ²、時間：
１０５秒間の条件でスプレー現像を行ったのち、０．１
％程度の希酸で中和し、水洗、乾燥を行って、所定のパ
ターンのレジスト膜３１を形成した（図１０（ｋ））。

【００７６】（９）導通経路の形成つぎに、サンドブラスト法により、レジスト膜３１に覆
われていない部分のセラミック板３０に貫通孔をあけ、
前面基板１側の空間３ｄと背面基板２側の空間３ｃとの
放電の導通経路３ｅを形成し、レジスト膜３１を剥離液
で剥離した（図１０（ｌ））。導通経路３ｅは、底面が
０．１ｍｍ×０．１５ｍｍの貫通孔である。

【００７７】（１０）レジスト膜の形成得られた導通経路３ｅを備えるセラミック板３０の両面
に、感光性樹脂組成物を塗布し、セルを形成するための
所定パターンのマスクを介して、３ｋＷ（出力８ｍＷ）
の超高圧水銀灯を用い、露光量を２００ｍＪ／ｃｍ²〜
２５０ｍＪ／ｃｍ²として露光させた。その後、０．２
％〜０．５％の炭酸ナトリウム水溶液を用いて、現像温
度：２５℃、圧力：１．２ｋｇ／ｃｍ²、時間：１０５
秒の条件でスプレー現像を行った後、０．１％程度の希
酸で中和し、水洗、乾燥を行って、所定のパターンのレ
ジスト膜３２を得た（図１０（ｍ））。

【００７８】（１１）バリアリブおよび隔壁の形成つぎに、両面サンドブラスト法により、レジスト膜３２
に覆われていない部分のセラミック板３０を削り、セル
の主放電用の空間３ｄおよび補助放電用の空間３ｃを形
成し、剥離液によりレジスト膜３２を剥離した。これに
より、前面基板側のバリアリブ１１と背面基板側のバリ
アリブ１２とを一体に構成したバリアリブと、主放電と
補助放電とを隔離する隔壁１３とが形成された。すなわ
ち、バリアリブ３ａと、隔壁１３とを備えた部品が形成
された（図１０（ｎ））。

【００７９】（１２）蛍光体層の形成さらに、この部品の前面基板側に、緑用、青用、赤用の
所定のパターンのマスクをそれぞれ介して、スプレー法
により、緑、青、赤の各蛍光体を塗布した後、１５０℃
〜３００℃の温度で５分〜６０分間乾燥させて、蛍光体
層１４を形成した（図１０（ｏ））。なお、カラー表示
が不要な場合には、全セルに同一色の蛍光体層を形成す
ればたりる。

【００８０】以上の（８）〜（１２）の工程により、バ
リアリブ３ａと、隔壁１３と、蛍光体層１４とを有する
部品としての隔壁基板３が得られた。

【００８１】Ｄ．組立（１３）基板１〜３の組立工程（３）において得られた前面基板１と、工程（１
２）において得られた隔壁基板３と、工程（７）におい
て得られた背面基板２とを、位置合わせしてこの順で積
層し、基板１〜３の周囲に、工程（２）で用いたものと
同じ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｏを主成分とする加水分解型コーテ
ィング剤をディスペンサで塗布した後、１００〜３００
℃で熱処理を行なって硬化させ、基板を固定するととも
に、基板間隙を封止した（図１０（ｐ））。本実施例で
は、ガラス板４ａ、４ｂを歪点以上に加熱しなかったた
め、前面基板１、背面基板２および隔壁基板３に歪みな
く、精度良く組み立てることができた。

【００８２】（１４）ガスの注入さらに、背面基板２に設けられているチップ管を介して
前面基板１と背面基板２との間の空気を吸引して真空に
したのち、Ｈｅ−５％Ｘｅ混合ガスを３５〜７０ｋＰａ
の内圧になるまで導入した。その後、局部加熱によって
チップ管を加熱し、チップオフして、図１に示したもの
と同様のガス放電型カラー表示パネルを作成した。な
お、本実施例では、前面基板１、背面基板２および隔壁
基板３の密着性を向上させるため、接着部を樹脂でさら
に固定した。これにより、信頼性が向上した。

【００８３】Ｅ．結果本実施例により、発色コントラストがよく、放電特性の
よい表示パネルが得られた。本実施例により作製したガ
ス放電型表示パネルは、ガラス板４ａ、４ｂに歪みがな
いため、組立時の位置精度がよい。このため、本実施例
では、高精度の表示パネルが得られた。

【００８４】なお、ガラスペーストを用いて形成した誘
電体膜７ａの表面の走査型電子顕微鏡写真を、図１７
（ａ）に示し、工程（２）で形成した誘電体膜７ａの表
面の走査型電子顕微鏡写真を、図１７（ｂ）に示す。こ
れらの写真からわかるように、金属アルコキシド溶液を
加水分解して得られたゲルを加熱して形成されるセラミ
ックは、あらかじめ焼結したガラスの微粒子を含むペー
ストを加熱して形成されるセラミックにくらべて、分散
しているセラミック粒子の結晶粒径が小さく、均一であ
って、滑らかな表面が得られる。従って、このようなア
ルコキシドのゲルを用いて誘電体膜および／またはＭｇ
Ｏ膜を形成することは、誘電体膜７ａ、７ｂ表面にさら
にＭｇＯ膜８ａ、８ｂや電極９を形成するガス放電型カ
ラー表示パネルの作製に、特に適している。

【００８５】＜実施例２〜１２＞実施例１と同様にし
て、ガス放電型カラー表示パネルを作製した。ただし、
工程（２）および工程（５）において、有機金属ゲルの
みを用いて誘電体を形成する代わりに、実施例１と同様
の有機金属ゲルに、表２に示す各フィラを混合して得ら
れる誘電体材料組成物を用いて誘電体層を形成した。本
実施例においても、良好な表示パネルが高精度で得られ
た。なお、実施例１では、誘電体層７ａ，７ｂ表面に、
電極による段差がわずかに認められたが、実施例２〜１
２では、表２に示すように、誘電体層７ａ，７ｂ表面は
平滑であり、電極による段差は認められなかった。

【００８６】

【表２】なお、表２に記載した「パイレックス」は、コーニング
社の商品名であり、ＳｉＯ₂：８２重量％、Ｂ₂Ｏ₃：１
２重量％、Ｎａ₂Ｏ：４重量％、Ａｌ₂Ｏ₃：３重量％の
硼珪酸ガラスである。

【００８７】無機物フィラには２μｍ以下の粒子のもの
を使用した。また、本実施例において用いた誘電体材料
組成物は、表２に示した各無機物フィラと、加水分解型
コーティング剤（有機金属ゲル）とのみからなる。

【００８８】表２に示したように、実施例１では、加水
分解型コーティング剤のみで、無機物フィラを複合して
いない材料を用いて誘電体層を形成したが、電極部の段
差を吸収できずに誘電体表面に凹凸が生じた。しかし、
表２に示したように、実施例２〜１２では、誘電体表面
が平滑で電極部の段差が無く、放電時に電界集中を生じ
なかった。そのため、実施例１の表示パネルに比べて、
寿命が著しく延長された。また、無機物フィラに球状の
粒子を使用したものは、分散性及び充填性に優れたもの
が得られた。

【００８９】表２の実施例２〜５は、無機物フィラが透
明であるため誘電体材料が透明となり、前面基板用とし
て有効であった。一方、表２中の実施例６〜１２では、
無機物フィラが有色なため誘電体が白色又は黒色とな
り、光を遮断してしまう。そこで、これらの実施例で
は、背面基板の誘電体層７ｂの形成にのみ無機物フィラ
を含む誘電体材料組成物を用い、前面基板の誘電体層７
ａの形成には、実施例１と同様のフィラを含まない誘電
体材料を用いた。

【００９０】なお、本実施例および以下の各実施例にお
ける、バリアリブ１１，１２の間隔および厚さを表３に
示し、隔壁１３および放電空間のサイズと導通経路３ｅ
の位置とを表４に示す。

【００９１】

【表３】

【００９２】

【表４】＜実施例１３＞本実施例では、工程（１０）におけるセ
ラミック板３０のマスク３２の形状が異なる（すなわ
ち、工程（１１）におけるセラミック板３０を削る位置
が異なり、結果として、隔壁基板３の形状が異なる）以
外は、実施例２と同様にして、ガス放電型カラー表示パ
ネルを作製した。

【００９３】本実施例により作製した表示パネルの断面
図を、図２および図１１に示す。図１と同様に、図２
（ａ）はアドレス電極９に平行で、基板１，２表面に垂
直な平面で本実施例の表示パネルの一部を切断した場合
の断面図である。また、図２（ｂ）は、図２（ａ）のＡ
の位置での断面図であり、その切断面は、アドレス電極
９に垂直（すなわちトリガ電極１０に平行）で、基板
１，２表面に垂直な平面である。図２（ｃ）は、図２
（ａ）のＢの位置での断面図であり、その切断面は、ア
ドレス電極９に垂直（すなわちトリガ電極１０に平行）
で、基板１，２表面に垂直な平面である。また、図２
（ａ）においてＣで示した平面での断面図を、図１１
（ａ）に示し、図２（ａ）においてＤで示した平面での
断面図を、図１１（ｂ）に示す。

【００９４】実施例２では、背面基板側バリアリブ１２
は図９（ｂ）に示すように、格子状に形成されている
が、本実施例の表示パネルの隔壁基板３では、背面基板
側バリアリブ１２は、図１１（ｂ）に示すように、アド
レス電極９に平行なストライプ状となっている。本実施
例でも、実施例２と同様に、発色のコントラストのよい
表示パネルが精度よく得られた。

【００９５】＜実施例１４＞本実施例では、工程（１
０）におけるセラミック板３０のマスク３２の形状が異
なる（すなわち、工程（１１）におけるセラミック板３
０を削る位置が異なり、結果として、隔壁基板３の形状
が異なる）以外は、実施例２と同様にして、ガス放電型
カラー表示パネルを作製した。

【００９６】本実施例により作製した表示パネルの断面
図を、図３および図１２に示す。図１と同様に、図３
（ａ）はアドレス電極９に平行で、基板１，２表面に垂
直な平面で本実施例の表示パネルの一部を切断した場合
の断面図である。また、図３（ｂ）は、図３（ａ）のＡ
の位置での断面図であり、その切断面は、アドレス電極
９に垂直（すなわちトリガ電極１０に平行）で、基板
１，２表面に垂直な平面である。図３（ｃ）は、図３
（ａ）のＢの位置での断面図であり、その切断面は、ア
ドレス電極９に垂直（すなわちトリガ電極１０に平行）
で、基板１，２表面に垂直な平面である。また、図３
（ａ）においてＣで示した平面での断面図を、図１２
（ａ）に示し、図３（ａ）においてＤで示した平面での
断面図を、図１２（ｂ）に示す。

【００９７】実施例２では、前面基板側バリアリブ１１
および背面基板側バリアリブ１２の両方が、図９（ａ）
および（ｂ）に示すように、格子状に形成されている
が、本実施例の表示パネルの隔壁基板３では、前面基板
側バリアリブ１１および背面基板側バリアリブ１２の両
方が、図１２（ａ）および（ｂ）に示すように、アドレ
ス電極９に平行なストライプ状となっている。本実施例
でも、実施例２と同様に、発色のコントラストのよい表
示パネルが精度よく得られた。

【００９８】＜実施例１５＞前面基板側バリアリブ１１
および背面基板側バリアリブ１２を、実施例２では工程
（１０）および工程（１１）により一括して形成した
が、本実施例では、それぞれ別々に形成した。本実施例
のガス放電型カラー表示パネルの作製工程は、バリアリ
ブ３ａの形成方法が異なる以外は、実施例２と同様であ
り、バリアリブ３ａの形状も実施例２と同様である。

【００９９】本実施例により作製した表示パネルの断面
図を、図４および図１３に示す。図１と同様に、図４
（ａ）はアドレス電極９に平行で、基板１，２表面に垂
直な平面で本実施例の表示パネルの一部を切断した場合
の断面図である。また、図４（ｂ）は、図４（ａ）のＡ
の位置での断面図であり、その切断面は、アドレス電極
９に垂直（すなわちトリガ電極１０に平行）で、基板
１，２表面に垂直な平面である。図４（ｃ）は、図４
（ａ）のＢの位置での断面図であり、その切断面は、ア
ドレス電極９に垂直（すなわちトリガ電極１０に平行）
で、基板１，２表面に垂直な平面である。なお、図４
（ａ）においてＣで示した平面での断面図を、図１３
（ａ）に示し、図４（ａ）においてＤで示した平面での
断面図を、図１３（ｂ）に示す。

【０１００】つぎに、本実施例におけるバリアリブ３ａ
の形成方法を、図１４を用いて説明する。

【０１０１】本実施例では、実施例２と同様にして作製
した背面基板２（図１４（ｂ））のＭｇＯ膜８ｂ表面
に、実施例２と同様の有機金属ゲルを所定のパターンで
塗布し、１００〜４００℃で６０分間加熱して厚さ０．
１ｍｍの背面基板側バリアリブ１２を形成した（図１４
（ｃ））。なお、背面基板側バリアリブ１２の厚さは、
０．０２〜０．１ｍｍとすることが望ましい。

【０１０２】また、図１４（ｄ）に示すように、厚さ
０．４ｍｍのセラミック板３０に、実施例２と同様にし
て、導通経路３ｅの貫通孔をあけたのち、表裏一方の面
にのみ、実施例２と同様にして、前面基板側バリアリブ
１１用のパターンのレジスト膜４１を形成し（図１４
（ｅ））、サンドブラスト法により、セラミック板３０
のレジスト膜４１に覆われていない部分を削り、主放電
用の空間３ｄと、隔壁１３とを形成したのち（図１４
（ｆ））、実施例２と同様にして所定の位置に蛍光体を
塗布し、蛍光体層１４を形成した（図１４（ｇ））。

【０１０３】最後に、実施例２と同様にして作製した前
面基板１（図１４（ａ）に図示）と、背面基板側バリア
リブ１２を形成していない隔壁基板３（図１４（ｇ））
と、背面基板側バリアリブ１２を形成した背面基板２
（図１４（ｃ））とを、位置あわせして、この順に積層
し、その周囲を実施例２と同様にして封止したのち（図
１４（ｈ））、Ｈｅ−５％Ｘｅガスを封入して、チップ
管をチップオフし、ガス放電型カラー表示パネルを得
た。

【０１０４】本実施例でも、実施例２と同様に、発色の
コントラストのよい表示パネルが精度よく得られた。

【０１０５】＜実施例１６＞前面基板側バリアリブ１１
および背面基板側バリアリブ１２を、実施例１３では、
実施例１の工程（１０）および工程（１１）と同様にし
て一括形成したが、本実施例では、それぞれ別々に形成
した。本実施例のガス放電型カラー表示パネルの作製工
程は、バリアリブ３ａの形成方法が異なる以外は、実施
例１３と同様であり、バリアリブ３ａの形状も実施例１
３と同様である。

【０１０６】本実施例により作製した表示パネルの断面
図を、図５および図１５に示す。図１と同様に、図５
（ａ）はアドレス電極９に平行で、基板１，２表面に垂
直な平面で本実施例の表示パネルの一部を切断した場合
の断面図である。また、図５（ｂ）は、図５（ａ）のＡ
の位置での断面図であり、その切断面は、アドレス電極
９に垂直（すなわちトリガ電極１０に平行）で、基板
１，２表面に垂直な平面である。図５（ｃ）は、図５
（ａ）のＢの位置での断面図であり、その切断面は、ア
ドレス電極９に垂直（すなわちトリガ電極１０に平行）
で、基板１，２表面に垂直な平面である。なお、図５
（ａ）においてＣで示した平面での断面図を、図１５
（ａ）に示し、図５（ａ）においてＤで示した平面での
断面図を、図１５（ｂ）に示す。

【０１０７】本実施例の表示パネルの隔壁基板３の背面
基板側バリアリブ１２は、図１５（ｂ）に示すように、
実施例１３と同様の、アドレス電極９に平行なストライ
プ状となっている。本実施例におけるバリアリブ３ａの
形成方法は、背面基板のＭｇＯ膜表面に印刷する有機金
属ゲル膜の形状が異なる以外は、実施例１５と同様であ
る。本実施例でも、実施例１３と同様に、発色のコント
ラストのよい表示パネルが得られた。

【０１０８】＜実施例１７＞前面基板側バリアリブ１１
および背面基板側バリアリブ１２を、実施例１４では、
実施例１の工程（１０）および工程（１１）と同様にし
て一括形成したが、本実施例では、それぞれ別々に形成
した。本実施例のガス放電型カラー表示パネルの作製工
程は、バリアリブ３ａの形成方法が異なる以外は、実施
例１４と同様であり、バリアリブ３ａの形状も実施例１
４と同様である。

【０１０９】本実施例により作製した表示パネルの断面
図を、図６および図１６に示す。図１と同様に、図６
（ａ）はアドレス電極９に平行で、基板１，２表面に垂
直な平面で本実施例の表示パネルの一部を切断した場合
の断面図である。また、図６（ｂ）は、図６（ａ）のＡ
の位置での断面図であり、その切断面は、アドレス電極
９に垂直（すなわちトリガ電極１０に平行）で、基板
１，２表面に垂直な平面である。図６（ｃ）は、図６
（ａ）のＢの位置での断面図であり、その切断面は、ア
ドレス電極９に垂直（すなわちトリガ電極１０に平行）
で、基板１，２表面に垂直な平面である。なお、図６
（ａ）においてＣで示した平面での断面図を、図１６
（ａ）に示し、図６（ａ）においてＤで示した平面での
断面図を、図１６（ｂ）に示す。

【０１１０】本実施例の表示パネルの隔壁基板３では、
実施例１４と同様に、前面基板側バリアリブ１１および
背面基板側バリアリブ１２の両方が、図１６（ａ）およ
び（ｂ）に示すように、アドレス電極９に平行なストラ
イプ状となっている。本実施例におけるバリアリブ３ａ
の形成方法は、背面基板のＭｇＯ膜表面に印刷するガラ
スペースト膜の形状と、セラミック板３０のマスク３２
の形状とが異なる以外は、実施例１５と同様である。本
実施例でも、実施例１４と同様に、発色のコントラスト
のよい表示パネルが精度よく得られた。

【０１１１】＜実施例１８＞本実施例のガス放電型カラ
ー表示パネルは、図７に示すように、実施例１と同様の
構成を備え、さらに、前面基板１のガラス板４ａの表裏
のうち、電極５ａ、５ｂの形成されていない側に、厚さ
１．０μｍの色フィルタ１５と、色フィルタ１５を覆う
厚さ０．５〜１．０μｍの保護膜１６とを備える。色フ
ィルタ１５は、バス電極６ａ、６ｂおよびバリアリブ３
ａを覆い隠すように形成された黒色の格子状領域である
ブラックマトリックス１５ｂと、ブラックマトリックス
１５ｂに囲まれた緑、青、または赤の光のみを通すフィ
ルタ領域１５ａとを備える。本実施例では、フィルタ領
域１５ａは、有機色素を含む材料により構成されてい
る。

【０１１２】実施例１では、工程（１）の出発材料とし
て、ＩＴＯ膜５ｃの形成されたソーダガラス板４ａを用
いたが、本実施例では、このかわりに、表裏一方の面
に、保護膜１６で保護されたカラーフィルタ１５を備
え、他方の面にＩＴＯ膜５ｃを備えるソーダガラス板４
ａを用いた。本実施例では、工程（１）の出発材料が異
なること以外は、実施例２と同様にしてガス放電型表示
パネルを作製した。

【０１１３】本実施例における工程（１）の出発材料
は、つぎのようにして作製した。作製工程を図１８に示
す。

【０１１４】まず、スパッタリングにより表面にＣｒ膜
を形成したソーダガラス板４ａを用意し（ステップ１８
０１）、Ｃｒ膜をフォトリソグラフィ法によりパターン
化した（ステップ１８０２）。これにより、ブラックマ
トリクス１５ｂが形成された。

【０１１５】つぎに、赤色画素用の赤色のフィルタ領域
１５ａを形成した。すなわち、ブラックマトリクス１５
ｂを形成したガラス板４ａを洗浄したのち（ステップ１
８０３）、その表面に、感光性を有する可染性樹脂前駆
体組成物を塗布し（ステップ１８０４）、加熱してプリ
ベークし（ステップ１８０５）、所定の位置（赤色画素
を形成する位置）のみを露光させたのち（ステップ１８
０６）、現像し（ステップ１８０７）、さらに紫外線を
照射して可染性樹脂を硬化させ（ステップ１８０９）、
温水で処理したのち（ステップ１８１０）、赤色のアゾ
系染料で可染性樹脂を染色し（ステップ１８１１）、タ
ンニン酸等で固着させ（ステップ１８１２）、加熱して
さらに硬化させた（ステップ１８１３）。

【０１１６】さらに、ステップ１８１１において用いる
染料が異なる以外は、上述のステップ１８０４〜１８１
３と同様にして、緑色画素用の緑色のフィルタ領域１５
ａと、青色画素用の青色のフィルタ領域１５ａとを形成
した（ステップ１８１４，１８１５）。ただし、青色の
フィルタ領域１５ａの形成（ステップ１８１５）におい
ては、固着処理（ステップ１８１２）は行わなかった。
なお、緑色のフィルタ領域１５ａを形成する際の染料と
しては、フタロシアニン系染料とアゾ系染料との混合物
を用い、青色のフィルタ領域１５ａを形成する際の染料
としては、アントラキノン系の染料を用いた。

【０１１７】以上のステップ１８０１〜１８１５により
得られた、カラーフィルタ１５を備えるガラス板４ａを
洗浄し（ステップ１８１６）、熱処理したのち（ステッ
プ１８１７）、カラーフィルタ１５の表面を酸素ガスで
アッシングし、このアッシングした表面に、Ａｌ、Ｓ
ｉ、Ｏを主成分とする加水分解型コーティング剤（有機
金属ゲル）をディスペンサで塗布した後、１００〜３０
０℃で加熱して硬化させ、保護膜１６とした。

【０１１８】なお、Ａｌ、Ｓｉ、Ｏを主成分とする加水
分解型コーティング剤として、ここでは、トリ（ｎ−ブ
トキシ）アルミニウムと、テトラ（ｎ−ブチル）シリケ
ートとを、酸化物に換算したときの３７：６３の重量比
で含むｎ−ブタノール溶液を常温で加水分解して得られ
たゲルを用いた。

【０１１９】最後に、ガラス板４ａのカラーフィルタ１
５および保護膜１６を形成していない面に、スパッタリ
ングによりＩＴＯ膜５ｃを形成し、洗浄した。以上によ
り、本実施例における工程（１）の出発材料である、表
裏一方の面に、保護膜１６で保護されたカラーフィルタ
１５を備え、他方の面にＩＴＯ膜５ｃを備えるソーダガ
ラス板４ａが作製された。

【０１２０】本実施例でも、実施例２と同様に、発色の
コントラストのよい表示パネルが精度よく得られた。ま
た、本実施例のガス放電型カラー表示パネルは、有機質
の色フィルタを搭載したことにより、実施例２よりもさ
らに色純度の良い良好な表示を行うことができた。

【０１２１】＜実施例１９＞本実施例では、図８に示す
ように、前面基板１のガラス板４ａとＩＴＯ電極５ａ，
５ｂとの間に、色フィルタ１５および絶縁膜１７を備え
る表示パネルを作製した。表示パネルの他の構成は、実
施例１において作製したのものと同様である。なお、色
フィルタ１５は、実施例１８に形成したものと同様であ
る。また、絶縁膜１７は、透明な無機物からなり、ＩＴ
Ｏ膜５ｃを形成する際に色フィルタ１５を保護し、ま
た、ＩＴＯ電極５ａ，５ｂと、Ｃｒからなるブラックマ
トリクス１５ｂとの間の電気的絶縁を確保するためのも
のである。

【０１２２】本実施例では、実施例２と同様にして表示
パネルを作製した。ただし、実施例２では、工程（１）
の出発材料として、ＩＴＯ膜５ｃの形成されたソーダガ
ラス板４ａを用いたが、本実施例では、このかわりに、
表裏一方の面に、色フィルタ１５、絶縁膜１７、および
ＩＴＯ膜５ｃをこの順で備えるソーダガラス板４ａを用
いた。

【０１２３】本実施例における工程（１）の出発材料
は、つぎのようにして作製した。まず、実施例１８のス
テップ１８０１〜１８１５と同様にして、ソーダガラス
板４ａ表面に、Ｃｒからなるブラックマトリクス１５ｂ
と、赤、緑、青のフィルタ領域１５ａと形成した。つぎ
に、得られた色フィルタ１５表面に、工程（２）で用い
たものと同様の、Ａｌ、Ｓｉ、Ｏを主成分とする加水分
解型コーティング剤をスピンナーで塗布し、１００〜４
００℃の温度で５〜６０分間低温加熱して、厚さ：０．
０１〜０．０２ｍｍの透明絶縁無機膜１７を形成した。
最後に、スパッタリングにより絶縁膜１７表面にＩＴＯ
膜５ｃを形成して、工程（１）の出発材料である、色フ
ィルタ１５、絶縁膜１７、およびＩＴＯ膜５ｃを備える
ガラス板４ａを得た。

【０１２４】本実施例でも、実施例２と同様に、発色の
コントラストのよい表示パネルが精度よく得られた。ま
た、本実施例のガス放電型カラー表示パネルは、有機質
の色フィルタを搭載したことにより、実施例２よりもさ
らに色純度の良い良好な表示を行うことができた。

【０１２５】なお、本実施例では、色フィルタ１５が放
電空間３ｄに近いところに形成されているため、実施例
１８の表示パネルよりも広い視野角が得られた。

【０１２６】＜実施例２０＞本実施例では、実施例１８
と同様にして、図１９に示す、色フィルタ１５を備える
表示パネルを作製した。ただし、バリアリブ１２は、実
施例１５と同様にして作製した。本実施例でも、実施例
１８と同様に、色純度のよい良好な表示パネルを得るこ
とができた。

【０１２７】なお、図１９（ａ）はアドレス電極９に平
行で、基板１，２表面に垂直な平面で本実施例の表示パ
ネルの一部を切断した場合の断面図である。また、図１
９（ｂ）は、図１９（ａ）のＡの位置での断面図であ
り、その切断面は、アドレス電極９に垂直（すなわちト
リガ電極１０に平行）で、基板１，２表面に垂直な平面
である。図１９（ｃ）は、図１９（ａ）のＢの位置での
断面図であり、その切断面は、アドレス電極９に垂直
（すなわちトリガ電極１０に平行）で、基板１，２表面
に垂直な平面である。

【０１２８】＜実施例２１＞本実施例では、実施例１８
と同様にして、図２３に示す、色フィルタ１５を備える
表示パネルを作製した。ただし、バリアリブ１２は、実
施例１５と同様にして作製した。本実施例でも、実施例
１８と同様に、色純度のよい良好な表示パネルを得るこ
とができた。

【０１２９】なお、図２３（ａ）はアドレス電極９に平
行で、基板１，２表面に垂直な平面で本実施例の表示パ
ネルの一部を切断した場合の断面図である。また、図２
３（ｂ）は、図２３（ａ）のＡの位置での断面図であ
り、その切断面は、アドレス電極９に垂直（すなわちト
リガ電極１０に平行）で、基板１，２表面に垂直な平面
である。図２３（ｃ）は、図２３（ａ）のＢの位置での
断面図であり、その切断面は、アドレス電極９に垂直
（すなわちトリガ電極１０に平行）で、基板１，２表面
に垂直な平面である。

【０１３０】＜実施例２２＞本実施例により作製した表
示パネルの断面図を、図２４および図２５に示す。図１
と同様に、図２４（ａ）はアドレス電極９に平行で、基
板１，２表面に垂直な平面で本実施例の表示パネルの一
部を切断した場合の断面図である。また、図２４（ｂ）
は、図２４（ａ）のＡ−Ａ’の位置での断面図であり、
その切断面は、アドレス電極９に垂直で、基板１，２表
面に垂直な平面である。図２４（ｃ）は、図２４（ａ）
のＢ−Ｂ’の位置での断面図であり、その切断面は、ア
ドレス電極９に垂直で、基板１，２表面に垂直な平面で
ある。

【０１３１】また、図２４（ａ）においてＣで示した平
面での断面図を、図２５（ａ）に示し、図２４（ａ）に
おいてＤで示した平面での断面図を、図２５（ｂ）に示
す。なお、図２５（ａ）および（ｂ）において、保護膜
８ａ，８ｂおよび誘電体層７ａ，７ｂの図示は省略し、
これらの層８ａ，８ｂ，７ａ，７ｂの奥に存在する電極
５ａ，５ｂ，６ａ，６ｂ，９ａ，９ｂと、さらにその奥
のガラス板４ａ，４ｂを図示した。また、図２５（ｂ）
に図示されている電極９ａ，９ｂは、断面ではないが、
図を見やすくするためにハッチングを付した。

【０１３２】補助放電用電極として、実施例１〜８で
は、誘電体７ｂを隔てて上下に離間した２電極（アドレ
ス電極９およびトリガ電極１０）を形成したが、本実施
例では、図２４（ｂ）に示すように、同一平面に形成さ
れた２本のアドレス電極９（９ａおよび９ｂ）からなる
補助放電用電極対１４０を形成し、トリガ電極１０は形
成しない。また、本実施例では、図２４（ａ）に示すよ
うに、主放電用電極対６０の一方のバス電極６ｂを、導
通経路３ｅの上部に形成する。

【０１３３】以下、本実施例の製造方法の一例を、図２
６を用いて説明する。なお、特に明示しない限り、ガラ
ス板サイズ、各層の膜厚等は実施例１と同様である。

【０１３４】Ａ．前面基板の作製（２２−１）主放電用電極の形成まず、中性洗剤等を用いて洗浄した、ソーダガラスから
なる前面基板用ガラス板４ａ上に、スパッタリング法あ
るいは電子線蒸着法により酸化スズ（ＳｎＯ₂）膜ある
いはＩＴＯ膜などの透明導電膜５ｃを形成した（図２６
（ａ））。ついで、周知のフォトエッチング法によって
透明導電膜５ｃの加工を行い、透明電極５ａ、５ｂの電
極パターンを形成した（図２６（ｂ））。透明電極のパ
ターン寸法は、製造する放電セルの大きさに合わせて定
めれば良い。

【０１３５】次に、ガラス板４ａの透明電極５ａ，５ｂ
を形成した表面の全面に、スパッタリング法あるいは電
子線蒸着法により、クロム膜により銅膜をサンドイッチ
したＣｒ／Ｃｕ／Ｃｒ積層膜を形成した。このＣｒ／Ｃ
ｕ／Ｃｒ積層膜を、周知のフォトエッチング法によって
加工し、透明電極５ａ，５ｂ表面にＣｒ／Ｃｕ／Ｃｒの
パターンを形成し、バス電極６ａ，６ｂとした（図２６
（ｃ））。Ｃｕ膜の膜厚とバス電極のパターン寸法と
は、バス電極６ａ，６ｂに要求される抵抗値によって定
めれば良い。

【０１３６】（２２−２）誘電体層および保護膜の形成得られた電極５ａ，５ｂ，６ａ，６ｂを覆うように、ガ
ラス板４ａ表面に、実施例２で用いたものと同様の、Ａ
ｌ、Ｓｉ、およびＯを主成分とする加水分解型コーティ
ング剤（有機金属ゲル）とフィラとからなる組成物をブ
レード法あるいはスプレー法によって塗布し、１００〜
４００℃の温度で１〜６０分間加熱することにより、厚
さ０．００１〜０．０３ｍｍの誘電体層７ａを形成した
（図２６（ｄ））。さらに、この誘電体層７ａ表面に、
スパッタリング法あるいは電子線蒸着法により、ＭｇＯ
からなる保護層８ａを形成した。これによって前面基板
１が得られた（図２６（ｅ））。

【０１３７】Ｂ．背面基板の作製（２２−３）補助放電用電極の形成つぎに、背面基板２の製造方法について説明する。ま
ず、中性洗剤等を用いて洗浄したソーダガラスからなる
背面基板用ガラス板４ｂ上に、スパッタリング法あるい
は電子線蒸着法により、Ｃｒ膜でＣｕ膜をサンドイッチ
したＣｒ／Ｃｕ／Ｃｒ積層膜９ｃを形成した（図２６
（ｆ））。この積層膜９ｃを、周知のフォトエッチング
法により加工し、補助放電用電極９の電極パターンを形
成した（図２６（ｇ））。なお、Ｃｕ膜の膜厚と補助放
電用電極のパターン寸法は補助放電用電極に要求される
抵抗値によって定めれば良い。

【０１３８】（２２−４）誘電体層および保護膜の形成得られた補助放電用電極９を覆うように、ガラス板４ｂ
表面に、上述の工程（２２−２）で用いたものと同じ加
水分解型コーティング剤をブレード法あるいはスプレー
法により塗布し、１００〜４００℃の温度で１〜６０分
間加熱して、厚さ０．００１〜０．０３ｍｍの誘電体層
７ｂを形成した（図２６（ｈ））。さらに、誘電体層７
ｂ表面に、スパッタリング法あるいは電子線蒸着法を用
いてＭｇＯからなる保護層８ｂを形成した（図２６
（ｉ））。これによって背面基板２が得られた。なお、
背面基板２には、パネル組み立て後に行う排気とガス導
入のためにチップ管（図示せず）を取り付けた。

【０１３９】Ｃ．組立（２２−５）基板１〜３の組立およびガスの封入実施例１の組み立て工程と同様にして、工程（２２−
２）において得られた前面基板１と、実施例１と同様に
して作製した隔壁基板３（図２６（ｉ））と、工程（２
２−３）において得られた背面基板２とを、組み立て、
封止し、内部を減圧してガスを注入して、チップオフを
行った（図２６（ｋ））。なお、本実施例では封入する
放電ガスとして、３体積％のＸｅを含むＮｅガスを用い
た。

【０１４０】Ｄ．結果以上の工程により、ガス放電型表示パネルが得られた。
なお、本実施例のガス放電型表示パネルは、実施例８と
同様に、４００℃以下の低温プロセスで製造できるた
め、歪点は低いが安価なソーダガラス等のガラスを基材
として使用できる。しかし、歪点の高い材料を基材とし
て用いれば、製造プロセスの温度を４００℃以上として
もよい。製造プロセスの温度を４００℃以上にしても、
本実施例のガス放電型表示パネルを作製することができ
る。

【０１４１】本実施例により得られたガス放電型表示パ
ネルにおいても、バリアリブ１１は前面基板１の放電空
間側の面に接触することにより、バリアリブ１２が背面
基板２の放電空間側の面に接触することにより、それぞ
れ放電空間を仕切っている。これら仕切られたそれぞれ
の空間が放電セルを形成し、個々の放電セルは、それぞ
れ隔壁基板３による仕切りによって分離されている。な
お、放電セルは格子状のバリアリブ１１により、直交す
る２軸を有するマトリクス状に形成されている。このマ
トリクスの一方の軸は補助放電用電極９に沿い、他方の
軸は主放電用電極６０に沿っている。

【０１４２】各放電セルは前面基板１と背面基板２の間
に設けられた導通経路３ｅを有する隔壁１３によって主
放電空間３ｄと補助放電空間３ｃに分離されている。隔
壁１３の主放電空間側の面とバリアリブ１１の側面には
蛍光体層１４が形成され、この蛍光体層１４の発光によ
り、各放電セルによる表示が行なわれる。個々の放電セ
ルの主放電空間３ｄは、それぞれバリアリブ１１および
隔壁１３によって囲まれている。これに対して、補助放
電空間３ｃは、図２６（ｂ）に示すように補助放電用電
極９に平行なバリアリブ１２によってストライプ状に形
成されている。すなわち、補助放電用電極９に沿った放
電セル列の各放電セルの補助放電空間３ｃは連続してお
り、その全体が一空間をなしている。

【０１４３】前面基板１には、各放電セルごとに、主放
電用電極対６０が設けられている。主放電用電極対は、
透明電極５ａおよびバス電極６ａと、それらと対向する
透明電極５ｂおよびバス電極６ｂとからなる。これらの
主放電用電極５ａ，５ｂ，６ａ，６ｂは、それぞれ、パ
ネル表面に垂直な（すなわちガラス板４ａからガラス板
４ｂへ垂直に下した）、アドレス電極９を含む平面に垂
直に、主放電電極に沿った放電セル列ごとに備えられ
た、帯状の電極である。

【０１４４】背面基板２に設けられた補助放電用電極９
は、帯状の電極であり、互いに平行な２本の電極９（電
極９ａ，９ｂ）により補助放電用電極対１４０が形成さ
れている。この補助放電用電極対１４０は、該電極９に
沿った放電セル列ごとに設けられている。

【０１４５】また本実施例では、図２４（ｂ）および
（ｃ）と図２６（ｂ）とからわかるように、パネル表面
から垂直にみて、補助放電電極対１４０とバリアリブ１
２とが重ならないようなっているが、隣の放電セルに対
応する補助放電用電極９と短絡しない限り、補助放電用
電極９の一部とバリアリブ１２の一部が重なってもさし
つかえない。これは、各放電セルの補助放電空間３ｃが
前面基板１の電極にほぼ直交して互いに平行に配置され
ているバリアリブ１２によって分離されているからであ
る。

【０１４６】本実施例の表示パネルにおいて、ある放電
セルを発光させるためには、まず、この発光させる放電
セルの下を通る補助放電電極対１４０に交流電圧を加え
て補助放電を発生させる。この補助放電の蛍光体１４へ
の影響は隔壁１３によって遮断されるため、蛍光体１４
は発光しない。一方、発光させる放電セルの直上を通る
主放電電極対６０に、放電開始電圧より低い交流電圧を
印加する。この状態で、発光させる放電セルの直上を通
る前面基板１の電極（主放電電極対６０）の一方の電極
と、発光させる放電セルの直下を通る補助放電電極対１
４０の一方の補助放電用電極９との間に電圧を印加す
る。これにより、補助放電によって発生した荷電粒子等
が導通経路３ｅを通って主放電空間３ｄに広がる。する
と、主放電電極対６０を被覆している誘電体層８を介し
てＭｇＯ層９表面に壁電荷パターンが形成され、壁電荷
による電圧が印加電圧に畳重されて主放電が発生する。
すなわち、発光させる所定の放電セルにおいて主放電が
発生することになる。この主放電によって３％のＸｅを
含むＮｅガスが励起されて紫外線を発生し、この紫外線
によって蛍光体１４が発光し、前面基板１の透明部分を
介して外部に光が放出される。

【０１４７】以上述べてきたように、指定した放電セル
の下を通る補助放電電極対に交流電圧を印加することに
よって補助放電を発生させ、指定した放電セルの上を通
る前面基板１の電極の一方の電極と補助放電電極対の一
方の電極の間に電圧を印加して放電セルを指定し、指定
した放電セルの上を通る主放電電極対に交流電圧を印加
することによって所定の表示セルを発光させることがで
きる。

【０１４８】なお、蛍光体１４は主放電空間３ｄの内壁
のみに備えられているため、補助放電によってはほとん
ど発光しない。また、補助放電のガス放電による発光
は、隔壁１３により覆い隠されている。そこで、本実施
例では、主放電による発光だけが前面基板１側から観測
されるので、充分高いコントラストを得ることができ
る。

【０１４９】なお、導通経路３ｅが大きい場合、補助放
電のガス放電による光が前面基板１を通して外部に放射
され、コントラストが低下する恐れがある。この場合に
は、不透明材料からなるバス電極６ａ，６ｂと導通経路
３ｅを重なるように配置し、前面基板１を通過する補助
放電のガス放電による光をバス電極６ａ，６ｂによって
遮ることが有効である。

【０１５０】従来のガス放電型表示パネルでは、主放電
やアドレス放電あるいは補助放電を前面基板と背面基板
の間に電圧を印加して行っている。それに対し、本実施
例のガス放電型表示パネルでは、前面基板に設けられた
透明電極間に電圧を印加して主放電を発生させ、背面基
板に設けられた補助放電用電極間に電圧を印加すること
によって補助放電を発生させている。かかる構成では、
透明電極間の距離や補助放電用電極間の距離を小さくで
きるため、主放電あるいは補助放電を発生させるために
印加する電圧を低くすることができる。すなわち、本実
施例によれば、補助放電と主放電をそれぞれ同一基板上
に近接して設けた電極によって行うので補助放電と主放
電を発生させるために印加する電圧を低くでき、さら
に、補助放電による発光を隔壁によって防止することか
ら表示画面のコントラストを高くできる効果がある。従
って、本実施例のガス放電型表示パネルにより表示画面
の高いコントラストと低い駆動電圧が達成される。

【０１５１】また、本実施例では、補助放電を発生させ
るための電極を、同一平面上の２つの補助放電用電極９
とした。このため、本実施例における補助放電のために
印加する電圧を、実施例１におけるそれよりも低くする
ことができた。

【０１５２】＜実施例２３＞実施例１と同様にして表示
パネルを作製した。ただし、誘電体材料として、有機金
属ゲルのかわりに、水ガラスを用いた。本実施例におい
て用いた水ガラスは、カリウム成分をＫ₂Ｏに換算して
５．４重量％、ケイ素成分をＳｉＯ₂に換算して１５．
１重量％含み、水を７９．５％含むカリウムケイ素酸塩
水溶液である。本実施例においても、実施例１と同様に
良好なガス放電型表示パネルが得られた。

【０１５３】＜実施例２４〜３４＞実施例２〜１２と同
様にして表示パネルを作製した。ただし、誘電体材料と
して、有機金属ゲルのかわりに、実施例２３と同様の水
ガラスを用いた。実施例２４〜３４の各実施例において
も、実施例２〜１２と同様に良好なガス放電型表示パネ
ルが得られた。

【０１５４】

【発明の効果】以上に説明したように、本発明によれ
ば、低温で、平滑な表面を有する絶縁性の良好な誘電体
層を形成できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】実施例１のガス放電型カラー表示パネルの構
造を示す部分拡大断面図である。

【図２】実施例１３のガス放電型カラー表示パネルの
構造を示す部分拡大断面図である。

【図３】実施例１４のガス放電型カラー表示パネルの
構造を示す部分拡大断面図である。

【図４】実施例１５のガス放電型カラー表示パネルの
構造を示す部分拡大断面図である。

【図５】実施例１６のガス放電型カラー表示パネルの
構造を示す部分拡大断面図である。

【図６】実施例１７のガス放電型カラー表示パネルの
構造を示す部分拡大断面図である。

【図７】実施例１８のガス放電型カラー表示パネルの
構造を示す部分拡大断面図である。

【図８】実施例１９のガス放電型カラー表示パネルの
構造を示す部分拡大断面図である。

【図９】実施例１のガス放電型カラー表示パネルのバ
リアリブの構造を示す部分拡大断面図である。

【図１０】実施例１のガス放電型カラー表示パネルの
製造方法を示す説明図である。

【図１１】実施例１３のガス放電型カラー表示パネル
のバリアリブの構造を示す部分拡大断面図である。

【図１２】実施例１４のガス放電型カラー表示パネル
のバリアリブの構造を示す部分拡大断面図である。

【図１３】実施例１５のガス放電型カラー表示パネル
のバリアリブの構造を示す部分拡大断面図である。

【図１４】実施例１９のガス放電型カラー表示パネル
の製造方法を示す説明図である。

【図１５】実施例１６のガス放電型カラー表示パネル
のバリアリブの構造を示す部分拡大断面図である。

【図１６】実施例１７のガス放電型カラー表示パネル
のバリアリブの構造を示す部分拡大断面図である。

【図１７】誘電体であるセラミックの表面の走査型電
子顕微鏡写真である。

【図１８】実施例１８のカラーフィルタの形成工程を
示す説明図である。

【図１９】実施例２０のガス放電型カラー表示パネル
の構造を示す部分拡大断面図である。

【図２０】従来技術によるガス放電型カラー表示パネ
ルの構造を示す部分拡大断面図である。

【図２１】従来技術によるガス放電型カラー表示パネ
ルのバリアリブの構造を示す部分拡大断面図である。

【図２２】従来技術によるガス放電型カラー表示パネ
ルの部分斜視図である。

【図２３】実施例２１のガス放電型カラー表示パネル
の構造を示す部分拡大断面図である。

【図２４】実施例２２のガス放電型カラー表示パネル
の構造を示す部分拡大断面図である。

【図２５】実施例２２のガス放電型カラー表示パネル
のバリアリブおよび電極の配置を示す部分拡大断面図で
ある。

【図２６】実施例２２のガス放電型カラー表示パネル
の製造方法を示す説明図である。

【符号の説明】

１…前面基板、２…背面基板、３…隔壁基板、３ａ…バ
リアリブ、３ｂ…セル内空間、３ｃ…補助放電空間、３
ｄ…主放電空間、３ｅ…導通経路、４ａ，４ｂ…ソーダ
ガラス板、５…ＩＴＯ膜、５ａ，５ｂ…ＩＴＯ電極、６
ａ，６ｂ…バス電極、７ａ，７ｂ…誘電体層、７ｃ…誘
電体層の一部、８ａ，８ｂ…ＭｇＯ膜、９，９ａ，９
ｂ，９ｄ…アドレス電極、９ｃ…アドレス電極（共通電
極）、１０…トリガ電極、１１…前面基板側のバリアリ
ブ、１２…背面基板側のバリアリブ、１３…補助放電空
間と主放電空間との隔壁、１４…蛍光体層、１５…色フ
ィルタ、１５ａ…フィルタ領域、１５ｂ…ブラックマト
リックス、１６…保護膜、１７…絶縁膜、３０…隔壁基
板用セラミック板、３１，３２…サンドブラスト用レジ
スト膜、３３…封止材、４１…サンドブラスト用レジス
ト膜、６０…主放電用電極対、１４０…補助放電用電極
対、１９１，１９２…エッチング用レジスト膜。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者高井輝男神奈川県横浜市戸塚区吉田町292番地株式会社日立製作所情報映像事業部内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】有機金属化合物を加水分解して得られるゲ
ルからなることを特徴とするガス放電型表示パネル製造
用誘電体材料。
【請求項２】請求項１において、上記有機金属化合物は、金属アルコキシドであることを特徴とするガス放電型表
示パネル製造用誘電体材料。
【請求項３】請求項２において、上記金属アルコキシドは、Ｍ（ＯＲ¹）_nで表されること
を特徴とするガス放電型表示パネル製造用誘電体材料。
ただし、Ｍは金属原子を表し、Ｒ¹は炭素数１〜５のア
ルキル基を表す。また、ｎはＭの価数によって定まる正
の整数である。
【請求項４】請求項３において、上記金属は、Ｓｉ，Ｔｉ，Ａｌ，およびＺｒの少なくと
もいずれかであることを特徴とするガス放電型表示パネ
ル製造用誘電体材料。
【請求項５】Ｒ₂Ｏ・ｎＳｉＯ₂で表されるアルカリケイ
酸塩の水溶液（水の量が、全体の７０〜９０重量％）か
らなることを特徴とするガス放電型表示パネル製造用誘
電体材料。ここで、Ｒはナトリウムまたはカリウムであ
り、ｎは４〜５である。
【請求項６】請求項５において、上記Ｒはカリウムであることを特徴とするガス放電型表
示パネル製造用誘電体材料。
【請求項７】有機金属化合物を加水分解して得られるゲ
ルと、無機物からなる粒状物とからなり、上記粒状物の量は、１〜８０重量％であることを特徴と
する誘電体材料組成物。
【請求項８】Ｒ₂Ｏ・ｎＳｉＯ₂で表されるアルカリケイ
酸塩の濃厚水溶液（水の量が、全体の７０〜９０重量
％）と、無機物からなる粒状物とからなり、上記粒状物の量は、１〜８０重量％であることを特徴と
する誘電体材料組成物。ここで、Ｒはナトリウムまたは
カリウムであり、ｎは４〜５である。
【請求項９】請求項７または８において、上記粒状物の量は、特に７０〜８０重量％であることを
特徴とする誘電体材料組成物。
【請求項１０】請求項７または８において、上記粒状物の粒子は、粒径２μｍ以下の球形であること
を特徴とする誘電体材料組成物。
【請求項１１】請求項７または８において、上記粒状物は、シリカ、アルミナ、ムライト、マグネシア，酸化チタ
ン，酸化ジルコニウム，酸化バナジウム、チタン酸カリ
ウム、酸化バナジウムおよび酸化鉛のうちの少なくとも
いずれかであることを特徴とする誘電体材料組成物。
【請求項１２】間隔を保って対向して配設された、第１
の誘電体層および主放電用電極を備える前面基板と、第
２の誘電体層および補助放電用電極を備える背面基板
と、上記前面基板と上記背面基板との間に設けられた蛍
光体層とを備えるガス放電型表示パネルにおいて、上記第１の誘電体層および第２の誘電体層のうちの少な
くとも一方は、有機金属化合物を加水分解して得られるゲルまたは水ガ
ラスと、無機物からなる粒状物とからなる誘電体材料組
成物を加熱することにより得られる誘電体からなること
を特徴とするガス放電型表示パネル。
【請求項１３】互いに平行にかつ対向して配設された、
第１の誘電体層および主放電用電極を備える前面基板
と、第２の誘電体層および補助放電用電極を備える背面
基板と、上記前面基板と上記背面基板との間に設けられ
た蛍光体層とを備えるガス放電型表示パネルの製造方法
において、有機金属化合物を加水分解して得られるゲルまたは水ガ
ラスと、無機物からなる粒状物とからなる誘電体材料組
成物を加熱することにより、上記第１の誘電体層および
上記第２の誘電体層のうちの少なくともいずれかを形成
する工程を備えることを特徴とするガス放電型表示パネ
ルの製造方法。