JP2001126627A - 薄型平面表示装置とその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 本発明は薄型平面表示装置とその製造方法に
関し、表示パネルの前面側ガラス基板に配列さる複数の
サステイン電極対の間の非放電領域にブラックベルトを
400 ℃以下の低温で形成しても、そのパネルの気密封止
温度で熱分解ガスや体積収縮が発生せず、該ブラックベ
ルト上にプラズマＣＶＤ法で形成された誘電体層のクラ
ックの発生を防止した構成を得ることを目的とする。 【解決手段】 対向する一対のガラス基板の内の一方の
ガラス基板11の内面に配列された複数のサステイン電極
Ｘ，Ｙで形成される複数の表示ライン間の非表示領域と
なるサステイン電極Ｘ，Ｙ間に、黒色無機顔料を含む架
橋型無機ポリマーからなる黒色塗布膜のパターンを形成
し、この膜を加熱（３５０℃）や紫外線照射による架橋
反応により固化されたブラックベルトを設けた構成とす
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ガス放電を利用し
たプラズマディスプレイパネルやプラズマアドレッシン
グ液晶表示パネルなどの薄膜平面表示装置とその製造方
法に関する。

【０００２】プラズマディスプレイパネルやプラズマア
ドレッシング液晶表示パネルなどからなる薄膜平面表示
装置は、民生用壁掛けテレビ、コンピュータモニタ、駅
や空港、証券取引所、工場、学校などの情報表示用大型
ディスプレイとして利用されている。このような薄膜平
面表示装置としては、更に高精細で、コントラストの良
い鮮明な高表示品質の画面の実現と製造の容易化が要望
されている。

【０００３】

【従来の技術】従来の薄膜平面表示装置として、例えば
ＡＣ駆動型のプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）の
基本的な構造は図３の要部断面斜視図で示すように、放
電空間３０を挟む基板対のうちの前面側のガラス基板１
１の内面には、画面の水平方向のセル列であるラインＬ
毎に一対ずつサステイン電極（表示電極）Ｘ，Ｙが配列
されている。

【０００４】そのサステイン電極（表示電極）Ｘ，Ｙ
は、それぞれが透明導電膜１２と抵抗値を低減するため
の金属膜１３とを積層した構成からなり、その各対のサ
ステイン電極（表示電極）Ｘ，Ｙ上は、壁電荷を利用し
てガス放電を維持するＡＣ駆動のための、例えば低融点
ガラス等からなる誘電体層１４により放電空間３０に対
して絶縁状態に被覆され，該誘電体層１４の表面には更
に７０００Å程度の厚さのＭｇＯ膜からなる保護膜１５
が被着されている。

【０００５】一方、背面側のガラス基板２１の内面に
は、下地層２２を介して単位発光領域（サブピクセル）
を選択的に発光させるための複数のアドレス電極Ａが、
前記サステイン電極（表示電極）Ｘ，Ｙと交叉する方向
に一定のピッチで配列され、その各アドレス電極Ａの間
には絶縁層２３を介してストライプ状の隔壁２４が設け
られ、この隔壁２４によって放電空間３０がライン方向
に単位発光領域（サブピクセル）毎に区画され、かつ放
電空間３０の間隙寸法が一定（１５０μｍ程度）に規定
されている。

【０００６】また、前記隔壁２４の間には、前記隔壁２
４の側面をも含めてカラー表示のための３色（Ｒ，Ｇ，
Ｂ）の蛍光体層２５Ｒ，２５Ｇ，２５Ｂが設けられてい
る。そして前記放電空間３０には、ネオン（Ｎｅ）に微
量のキセノン（Ｘｅ）を混合した放電ガスが充填され、
前記蛍光体層２５Ｒ，２５Ｇ，２５Ｂはガス放電で生じ
た紫外線により局部的に励起されて所定色の可視光を放
出してカラー表示を行っている。

【０００７】更に、上記したＰＤＰ１の前面側のガラス
基板１１上には、図４(a) の要部平面図及びそのＡ−Ａ
切断線に沿った図４(b) の断面図に示すように、前記前
面側のガラス基板１１上に配列されている複数のサステ
イン電極（表示電極）Ｘ，Ｙ対の間の非放電部（非表示
ライン）に、対向する背面側のガラス基板２１に配設さ
れた前記蛍光体層２５Ｒ，２５Ｇ，２５Ｂでの外部から
の入射光の反射によりコントラストが低下する不都合を
防止するために遮光性膜からなるブラックベルト１６が
配設されている。このブラックベルト１６と前記隔壁２
４の頂面にブラックベルト（図示省略）を設けることで
ブラックマトリクスを構成している。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】ところで、図４(a) と
(b) に示すように、例えば前記前面側のガラス基板１１
に配列されている複数のサステイン電極（表示電極）
Ｘ，Ｙ対の間の非放電部（非表示ライン）に対してブラ
ックベルト１６を形成する場合、前記複数のサステイン
電極（表示電極）Ｘ，Ｙ対が配列された前面側のガラス
基板１１上に、酸化鉄、酸化銅、酸化マンガン等の金属
酸化物からなる無機の黒色顔料を混合した感光性のレジ
ストをスピンコータ法等により塗布し、そのレジスト膜
をフォトリソグラフィ法によりパターニングして黒色レ
ジストパターンを形成するか、又は前記前面側のガラス
基板１１上の非放電部（非表示ライン）に対して、前記
金属酸化物からなる無機の黒色顔料とフリットガラスと
を有機樹脂等のバインダーと混合したペーストを印刷法
等により塗布して黒色塗布膜パターンを形成し、これら
を熱処理することによってブラックベルト１６を形成し
ている。

【０００９】また、前記複数のサステイン電極（表示電
極）Ｘ，Ｙ対及びブラックベルト１６を被覆する誘電体
層（図示省略）の形成においても、フリットガラス（低
融点ガラス粉末）をビヒクルと有機溶剤に分散・混合さ
せたペーストをスロットコーター法等により塗布し、該
塗布膜を熱処理して形成していた。

【００１０】このようなブラックベルト１６や誘電体層
を形成する熱処理では、レジスト成分やバインダー成分
を焼失させるために、少なくとも４５０℃以上の焼成温
度が必要であり、実際には５５０℃程度の焼成温度で熱
処理を行っていた。

【００１１】ところが、最近では前記誘電体層の形成方
法として、低温焼成化（４００℃以下）、低誘電率化を
目的としたプラズマＣＶＤ法が新たに提案されている。
また、焼成温度が４５０℃以上になると熱処理炉が大型
化する傾向にあり、表示パネルの大型化に伴って熱処理
された大型基板内に歪みが生じ易くなるという問題があ
った。

【００１２】そこで、前記前面側のガラス基板１１及び
背面側のガラス基板２１上に対して個別に所定の構成要
素を設ける熱処理温度としては、少なくとも４００℃以
下の従来よりも低温で行うことが要望されている。

【００１３】従って、４００℃以下の焼成温度で形成さ
れたブラックベルトの上に、プラズマＣＶＤ法を用い
て、例えば３５０℃の加熱状態でＳｉＯ₂ 膜からなる低
誘電率の誘電体層を形成した場合、前記ブラックベルト
にはレジスト成分やバインダー成分が焼失しきれずに残
存しているため、その後のパネル製造工程での熱処理、
例えばそれぞれ個別に所定の構成要素を設けた前面側の
ガラス基板と背面側のガラス基板とを対向配置してその
間隙の周囲を４００℃程度で気密に封止する熱処理等に
おいて前記ブラックベルトから熱分解ガスが発生した
り、それに起因してブラックベルトの体積収縮等により
前記誘電体層にクラックを発生させてしまうといった欠
点が生じる。

【００１４】本発明は上記した従来の問題点に鑑み、ブ
ラックベルトを少なくとも４００℃以下の低温の熱処理
で形成しても、その後のパネルの気密封止温度によりブ
ラックベルトからの熱分解ガスの発生やそれに起因する
体積収縮等が無く、該ブラックベルト上にプラズマＣＶ
Ｄ法を用いて形成された低誘電率の誘電体層のクラック
の発生を防止した薄膜平面表示装置の構成とその製造方
法を提供することを目的とするものである。

【００１５】

【課題を解決するための手段】本発明では、ブラックベ
ルトの形成材料として、４００℃以下の低温焼成、また
は紫外線照射により架橋反応を起こさせて硬化させるこ
とにより、パネルの気密封止温度（４００℃程度）で加
熱しても、その硬化物からの熱分解ガスの発生やそれに
起因する体積収縮等が生じることがない架橋型無機ポリ
マーに着目し、この架橋型無機ポリマーと黒色無機顔料
を主体とした材料を使用して、ブラックベルトを形成す
ることによって目的とするブラックベルトと、該ブラッ
クベルト上にプラズマＣＶＤ法を用いて形成された低誘
電率の誘電体層にクラックが発生しないことが判明し
た。

【００１６】従って、本発明の構成としては、対向する
一対の基板間に放電空間を形成し、少なくとも一方の基
板の内面に複数の表示ラインを形成する複数の表示電極
を配列してなる薄型平面表示装置であって、前記表示ラ
イン間の非表示領域となる表示電極間に、黒色無機顔料
を含む架橋型無機ポリマーを加熱または紫外線による架
橋反応により固化したブラックベルトを設けた構成とす
る。

【００１７】また、本発明の薄型平面表示装置の製造方
法としては、基板上に複数の表示ラインを形成する複数
の表示電極を形成した後、前記表示ライン間の非表示領
域となる表示電極間に、印刷法、またはフォトリソグラ
フィ法により黒色無機顔料を含む架橋型無機ポリマーか
らなる黒色塗布膜のパターンを形成する工程と、該黒色
塗布膜のパターンを４００℃以下の温度で加熱、または
紫外線照射により架橋反応させてブラックベルトを形成
する工程と、前記ブラックベルトが形成された基板上
に、プラズマＣＶＤ法により誘電体層を形成する工程と
を含むことを特徴とする。

【００１８】そして本発明では、対向する一対の基板の
内の、複数の表示ラインを形成する複数の表示電極が形
成された一方の基板の内面の複数の表示ライン間の非表
示領域である表示電極間に、ブラックベルトの形成材料
として架橋型無機ポリマー、例えば酸化珪素を含むポリ
フェニルシルセスキオキサンや、酸化チタンを含むジエ
トキシチタン〔Ｔｉ（ＯＣ₂ Ｈ₅)₂ の加水分解重合
物〕、或いは酸化アルミニウムを含むトリエトキシジア
ルミニウム〔Ａｌ₂(ＯＣ₂ Ｈ₅ ）₃ の加水分解重合物〕
等、本発明の実施例では特に酸化珪素を含むポリフェニ
ルシルセスキオキサンと、酸化鉄、酸化銅および酸化マ
ンガンからなる黒色無機顔料を主体にした材料を使用
し、この材料によりパターン形成された黒色材料膜を４
００℃以下の低温焼成、または紫外線照射により架橋反
応を起こさせて固化したブラックベルトを形成する。

【００１９】そのブラックベルト上に、プラズマＣＶＤ
法を用いて、例えば３５０℃の加熱状態でＳｉＯ₂ 膜か
らなる低誘電率の誘電体層を形成した場合、その後の製
造工程におけるパネルの気密封止の熱処理工程（４００
℃程度）等において前記ブラックベルトより熱分解ガス
の発生や体積収縮等が解消され、製造プロセスに対する
十分な耐熱性を持たせることができるので、従来の如き
ブラックベルトの熱反応に起因する誘電体層のクラック
発生等を防止することが可能となる。

【００２０】なお、本発明のブラックベルトの形成用材
料は、少なくとも１種または２種以上の架橋型無機ポリ
マーと黒色無機顔料とを混合したものであり、加熱、ま
たは紫外線照射により架橋反応が促進されて硬化した金
属酸化物が形成される。前記金属酸化物としては酸化珪
素、酸化チタン、アルミナ等が挙げられ、中でも酸化珪
素が特に望ましい。

【００２１】また、ブラックベルトの形成プロセスとし
ては、フォトリソグラフィ法、または印刷法によりパタ
ーン形成した後、３５０℃以下の加熱、または８００ｍ
Ｊ程度の紫外線の照射、或いは該紫外線を照射しながら
加熱することにより、架橋反応が十分に完了して固化さ
れることから、４５０℃以下の温度領域において熱分解
ガスや体積収縮等が発生しなくなることが判明した。

【００２２】

【発明の実施の形態】以下、図面を用いて本発明に係る
実施例をプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）に適用
した場合について詳細に説明する。

【００２３】図１(a) 〜 (c)は本発明の薄膜平面表示装
置とその製造方法の第１実施例をＰＤＰとその製造方法
に適用して工程順に説明する要部断面図であり、図４と
同等機能の部分には同一符号を付している。

【００２４】本実施例では、図１(a) に示すようにＰＤ
Ｐを構成する前面側のガラス基板１１上には、ネサ膜や
ＩＴＯ（Indium Tin 0xide) 膜等のストライプ状の透明
導電膜12とそれに重ねて低抵抗化を図るための銀(Ag)膜
などからなる金属膜13を積層状に形成した複数のサステ
イン電極（表示電極）Ｘ，Ｙ対が列設されている。

【００２５】その前面側のガラス基板１１に配列されて
いる複数のサステイン電極（表示電極）Ｘ，Ｙ対の間の
各非放電部（非表示ライン）に対して、架橋型無機ポリ
マー、例えば粉末状の重量分子量が１００００の酸化珪
素を含むポリフェニルシルセスキオキサンと、酸化鉄、
酸化銅および酸化マンガンからなる黒色無機顔料と、２
５０℃程度で熱分解して焼失するタイプのアクリル樹脂
（三菱レイヨン社製、ＢＲ１０５）をブチルカルビトー
ルアセテートに５wt％溶解させたビヒクルとをそれぞれ
３０：１０：６０のwt％の割合になるように調整して混
合した黒色ペーストを印刷法によって選択的に塗布す
る。

【００２６】次に図１(b) に示すように、前記各非放電
部に塗布された各黒色塗布膜４１を１５０℃で３０分間
程度の乾燥工程により溶剤を蒸発させて乾燥させた後、
３５０℃で10分間程度空気中で焼成することにより、前
記黒色塗布膜４１内のアクリル樹脂分は２５０℃で焼失
すると共に、架橋反応により確実に硬化して形成された
図１(c）に示すような２μｍの膜厚のブラックベルト４
２を成膜した。この成膜された各ブラックベルト４２を
光学的に観察した結果、いずれにもクラックおよび剥離
現象は見られなかった。

【００２７】次に、前記各ブラックベルト４２とその周
囲の複数のサステイン電極（表示電極）Ｘ，Ｙ対を含む
前記前面側のガラス基板１１上に、図１(c）に示すよう
にプラズマＣＶＤ法により、例えば３５０℃の加熱状態
でＳｉＯ₂ 膜からなる低誘電率の誘電体層１４を１０μ
ｍの厚さに成膜した。この成膜された誘電体層１４を光
学的に観察した結果、クラックおよび剥離現象は見られ
なかった。

【００２８】更に、引き続きその誘電体層１４上にＭｇ
Ｏ膜からなる保護膜１５を成膜した後、かかる構成の前
面側のガラス基板１１と、別途に従来例で説明したと同
様なアドレス電極および該アドレス電極上に設けた複数
の隔壁、またその各隔壁間に蛍光体層を設けた構成の背
面側のガラス基板とを放電空間を介して重ね合わせると
共に、その対向間隙の周囲を４００℃程度の加熱温度で
気密封止し、内部の排気と放電ガスの封入を行ってパネ
ルを作成し完成させた後、パネルを分解して前記前面側
のガラス基板１１上の誘電体層１４を保護膜１５を通し
て光学的に観察した結果においても、クラックおよび剥
離現象は見られなかった。

【００２９】図２(a) 〜 (d)は本発明の薄膜平面表示装
置の製造方法の第２実施例をＰＤＰの製造方法に適用し
て工程順に説明する要部断面図であり、図１と同等機能
の部分には同一符号を付している。

【００３０】本実施例では、図２(a) に示すようにＰＤ
Ｐを構成する前面側のガラス基板１１上には、図１(a)
で示すと同様にネサ膜やＩＴＯ（Indium Tin 0xide) 膜
等のストライプ状の透明導電膜12とそれに重ねて低抵抗
化を図るための銀(Ag)膜などからなる金属膜13を積層状
に形成した複数のサステイン電極（表示電極）Ｘ，Ｙ対
が列設されている。

【００３１】次に、図２(b）に示すように、前記複数の
サステイン電極（表示電極）Ｘ，Ｙ対が配列されている
前面側のガラス基板１１上の全面に対して、架橋型無機
ポリマー、例えば粉末状の重量分子量が１００００の酸
化珪素を含むポリフェニルシルセスキオキサンと、酸化
鉄、酸化銅および酸化マンガンからなる黒色無機顔料
と、溶媒であるメチルイソブチルケトンとをそれぞれ３
０：１０：６０のwt％の割合となるように調整して混合
した黒色塗布溶液をスロットコーターにより直接的に塗
布する。

【００３２】次に、その塗布した黒色塗布膜４４を１０
０℃で３分間程度の乾燥工程により溶剤を蒸発させて乾
燥させた後、該黒色塗布膜４４をブラックベルトのパタ
ーン形成用のフォトマスク４３を通して定圧水銀ランプ
（図示省略）で、例えば８００ｍＪの紫外線を矢印で示
すように照射し、この黒色塗布膜４４を例えば０．３wt
％の炭酸ナトリウム現像液で現像することにより、図２
(c）に示すように前記前面側のガラス基板１１上の複数
のサステイン電極（表示電極）Ｘ，Ｙ対の間の各非放電
部（非表示ライン）に対して、パターニングされたブラ
ックベルト４５を形成する。

【００３３】このブラックベルト４５は、前記紫外線の
照射により架橋反応を起こして硬化されているが、更に
３５０℃で１０分間程度空気中で焼成することにより、
図２(d）に示すように架橋反応によってより確実に硬化
して形成された２μｍの膜厚のブラックベルト４５を成
膜することができる。この成膜された各ブラックベルト
４５を光学的に観察した結果、いずれにもクラックおよ
び剥離現象は見られなかった。

【００３４】次に、前記各ブラックベルト４５とその周
囲の複数のサステイン電極（表示電極）Ｘ，Ｙ対を含む
前記前面側のガラス基板１１上に、図２(d）に示すよう
にプラズマＣＶＤ法により例えば３５０℃の加熱状態で
ＳｉＯ₂ からなる誘電体層１４を１０μｍの厚さに成膜
する。そしてこの成膜された誘電体層１４を光学的に観
察した結果、第１実施例の結果と同様にクラックおよび
剥離現象は見られなかった。

【００３５】引き続きその誘電体層１４上にＭｇＯ膜か
らなる保護膜１５を成膜した後、かかる構成の前面側の
ガラス基板１１と、別途に従来例で説明したと同様なア
ドレス電極および該アドレス電極上に設けた複数の隔
壁、またその各隔壁間に蛍光体層を設けた構成の背面側
のガラス基板とを放電空間を介して重ね合わせると共
に、その対向間隙の周囲を４００℃程度の加熱温度で気
密封止し、内部の排気と放電ガスの封入を行ってパネル
を作成し完成させた後、該パネルを分解して前記前面側
のガラス基板１１上の誘電体層１４を保護膜１５を通し
て光学的に観察した結果においても、クラックおよび剥
離現象は見られなかった。

【００３６】一方、これらの実施例に対する比較例とし
て、前記複数のサステイン電極（表示電極）Ｘ，Ｙ対が
配列されている前面側のガラス基板上の全面に対して、
例えば一般的なアクリル系のフォトレジストと、酸化
鉄、酸化銅および酸化マンガンからなる黒色無機顔料と
を塗布液状に混合し調製した黒色塗布溶液をスロットコ
ーターにより直接的に塗布する。

【００３７】その塗布した黒色塗布膜を１００℃で３分
間程度の乾燥工程により溶剤を蒸発させて乾燥させた
後、該黒色塗布膜をブラックベルトのパターン形成用の
フォトマスクを介して定圧水銀ランプ（図示省略）で例
えば２００ｍＪの紫外線を照射し、この黒色塗布膜を例
えば０．３wt％の炭酸ナトリウム現像液で現像してパタ
ーニングする。

【００３８】そのパターニングされた黒色塗布膜を、更
に３５０℃で１０分間程度空気中で焼成して前記前面側
のガラス基板上の複数のサステイン電極（表示電極）
Ｘ，Ｙ対の間の各非放電部（非表示ライン）に対して、
熱硬化反応により形成された３μｍの膜厚のブラックベ
ルトを成膜し、この成膜された各ブラックベルトを光学
的に観察した結果、何れにもクラックおよび剥離現象は
見られなかった。

【００３９】しかしその後、上記各ブラックベルトとそ
の周囲の複数のサステイン電極（表示電極）Ｘ，Ｙ対を
含む前記前面側のガラス基板上に、プラズマＣＶＤ法に
より例えば３５０℃の加熱状態でＳｉＯ₂ からなる誘電
体層を１０μｍの厚さに成膜し、この成膜された誘電体
層を光学的に観察したところ、該誘電体層にクラックお
よび剥離現象が生じており、前記第１実施例および第２
実施例におけるブラックベルトの形成法の有効性と優位
性が顕著であることが判明した。

【００４０】なお、以上の実施例では、薄膜平面表示装
置とその製造方法としてカラー表示用面放電型のプラズ
マディスプレイパネルを対象として説明しているが、本
発明はこの例に限定されるものではなく、例えばモノク
ロ表示用のプラズマディスプレイパネル、各種ガス放電
表示パネルやプラズマアドレッシング液晶表示装置等の
薄膜平面表示装置にも適用することができることはいう
までもない。

【００４１】

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
に係る薄膜平面表示装置とその製造方法によれば、対向
する一対の基板の内の、複数の表示ラインを形成する複
数の表示電極が形成された一方の基板の内面の複数の表
示ライン間の非表示領域となる表示電極間に、ブラック
ベルトの形成材料として架橋型無機ポリマーと黒色無機
顔料とを主体とした材料を使用し、この材料によりパタ
ーン形成された黒色材料膜は４００℃以下の低温焼成、
または紫外線照射と該低温焼成により架橋反応を起こさ
せて確実に固化したブラックベルトを容易に形成するこ
とができる。

【００４２】また、該ブラックベルト上にプラズマＣＶ
Ｄ法を用いて例えば３５０℃の加熱温度で誘電体層を形
成しても、その後の製造工程におけるパネルの気密封止
の熱処理工程（４００℃程度）等において前記ブラック
ベルトより熱分解ガスの発生や体積収縮等が解消され、
製造プロセスに対する十分な耐熱性を持たせることがで
きるので、従来の如き誘電体層のクラック等も防止する
ことが可能となる。

【００４３】従って、プラズマディスプレイパネルやプ
ラズマアドレッシング液晶表示装置等の薄膜平面表示装
置の大型化に伴う製造プロセスに於ける熱処理の低温化
に寄与することが可能となり、実用上優れた効果を奏す
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の薄膜平面表示装置とその製造方法の
第１実施例をＰＤＰとその製造方法に適用して工程順に
説明する要部断面図である。

【図２】 本発明の薄膜平面表示装置の製造方法の第２
実施例をＰＤＰの製造方法に適用して工程順に説明する
要部断面図である。

【図３】 薄膜平面表示装置としてＰＤＰの一例を示す
要部断面斜視図である。

【図４】 従来の薄膜平面表示装置としてＰＤＰの表示
電極まわりの構造を説明する要部平面図とそのＡ−Ａ切
断線に沿った断面図である。

【符号の説明】 １１，２１ ガラス基板 １２ 透明導電膜 １３ 金属膜 １４ 誘電体層 １５ 保護膜 Ｘ，Ｙ サステイン電極 ４１，４４ 黒色塗布膜 ４２，４５ ブラックベルト ４３ フォトマスク

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 5C027 AA01 5C040 FA01 GD09 GH07 JA12 JA15 KA16 MA22 MA23 5C094 AA42 AA43 BA31 CA19 CA24 DA13 ED15 FB02 FB20 GB01 HA08

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 対向する一対の基板間に放電空間を形成
   し、少なくとも一方の基板の内面に複数の表示ラインを
   形成する複数の表示電極を配列してなる薄型平面表示装
   置であって、 前記表示ライン間の非表示領域となる表示電極間に、黒
   色無機顔料を含む架橋型無機ポリマーを加熱または紫外
   線による架橋反応により固化されたブラックベルトを設
   けたことを特徴とする薄型平面表示装置。
2. 【請求項２】 前記架橋型無機ポリマーは、酸化珪素を
   含んでなることを特徴とする請求項１に記載の薄型平面
   表示装置。
3. 【請求項３】 基板上に複数の表示ラインを形成する複
   数の表示電極を形成した後、前記表示ライン間の非表示
   領域となる表示電極間に、印刷法、またはフォトリソグ
   ラフィ法により黒色無機顔料を含む架橋型無機ポリマー
   からなる黒色塗布膜のパターンを形成する工程と、 該黒色塗布膜のパターンを加熱、または紫外線照射によ
   り架橋反応させてブラックベルトを形成する工程と、 前記ブラックベルトが形成された基板上に、プラズマＣ
   ＶＤ法により誘電体層を形成する工程とを含むことを特
   徴とする薄型平面表示装置の製造方法。
4. 【請求項４】 前記黒色塗布膜の加熱温度は、４００℃
   以下であることを特徴とする請求項３に記載の薄型平面
   表示装置の製造方法。