JPH0969594A - 圧接用窒化けい素放熱板およびそれを用いた圧接構造部品 - Google Patents

圧接用窒化けい素放熱板およびそれを用いた圧接構造部品

Info

Publication number
JPH0969594A
JPH0969594A JP7344234A JP34423495A JPH0969594A JP H0969594 A JPH0969594 A JP H0969594A JP 7344234 A JP7344234 A JP 7344234A JP 34423495 A JP34423495 A JP 34423495A JP H0969594 A JPH0969594 A JP H0969594A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
silicon nitride
sintered body
thermal conductivity
heat
grain boundary
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP7344234A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2975882B2 (ja
Inventor
Kazuo Ikeda
和男 池田
Michiyasu Komatsu
通泰 小松
Nobuyuki Mizunoya
信幸 水野谷
Yoshitoshi Satou
孔俊 佐藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP7344234A priority Critical patent/JP2975882B2/ja
Publication of JPH0969594A publication Critical patent/JPH0969594A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2975882B2 publication Critical patent/JP2975882B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/0002Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01005Boron [B]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01011Sodium [Na]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01012Magnesium [Mg]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01013Aluminum [Al]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01019Potassium [K]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/0102Calcium [Ca]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01023Vanadium [V]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01024Chromium [Cr]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01025Manganese [Mn]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01038Strontium [Sr]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/0104Zirconium [Zr]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01041Niobium [Nb]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01042Molybdenum [Mo]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01056Barium [Ba]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01072Hafnium [Hf]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01073Tantalum [Ta]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01074Tungsten [W]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/011Groups of the periodic table
    • H01L2924/01105Rare earth metals

Landscapes

  • Ceramic Products (AREA)
  • Cooling Or The Like Of Electrical Apparatus (AREA)
  • Cooling Or The Like Of Semiconductors Or Solid State Devices (AREA)
  • Power Conversion In General (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】窒化けい素焼結体が本来備える高強度特性を利
用し、さらに熱伝導率が高く放熱性に優れるとともに絶
縁破壊特性を大幅に改善した圧接用窒化けい素放熱板お
よびそれを用いた圧接構造部品を提供する。 【解決手段】本発明の圧接用窒化けい素放熱板7aは、
希土類元素を酸化物に換算して2.0〜17.5重量
%、不純物陽イオン元素としてのLi,Na,K,F
e,Ca,Mg,Sr,Ba,Mn,Bを合計で0.3
重量%以下含有し、90W/m・K以上の熱伝導率を有
する高熱伝導性窒化けい素焼結体から成ることを特徴と
する。また本発明のサイリスタなどの圧接構造部品は、
90W/m・K以上の熱伝導率を有する高熱伝導性窒化
けい素焼結体から成る圧接用窒化けい素放熱板7aに整
流素子10などの発熱部品を圧接して構成したことを特
徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は圧接用窒化けい素放
熱板およびそれを用いた圧接構造部品に係り、特に、高
い強度および放熱性を有するとともに、優れた耐絶縁破
壊特性を備えた圧接用窒化けい素放熱板およびそれを用
いた圧接構造部品に関する。
【0002】
【従来の技術】発熱部品と圧接により接合され、発熱部
品からの熱を系外に放散するための圧接用放熱板が各種
電気設備や電子機器に広く用いられる。また大電流のス
イッチングや交流を直流に変換するなどの電流制御機能
を持つ半導体素子としてサイリスタ等の圧接構造部品が
広く使用されている。
【0003】図1はシリコン制御整流素子(SCR)と
してのサイリスタの構造例を示す断面図である。このサ
イリスタは、陽極となる銅スタッド1と陰極導線2との
間に介装されたシリコン接合体3と、シリコン接合体3
に接続されるゲート導線4と、シリコン接合体3をシー
ルして外気と遮断するためのセラミックシール5および
ケース6と、内部で発生する熱を銅スタッド1を介して
外部に放散させるために圧接された平板状の放熱板7と
を備えて構成され、ゲート導線4に流れるゲート電流に
よって陽陰極間をオフ(遮断)状態からオン(始動)状
態にして、大電流を制御するものである。
【0004】近年、発熱部品の高集積化,高出力化に対
応して部品からの発熱量も急激に増大する傾向があり、
より放熱性が良好な放熱板が希求されている。例えば、
電力需要の増大に対処するために、より大容量のサイリ
スタが希求されており、必然的に発熱による絶縁破壊を
起こすおそれがなく、より放熱特性および絶縁特性が優
れた放熱板が望まれている。
【0005】このようなサイリスタ用などの放熱板7を
構成する材料としては、従来アルミナ(Al2 3 )が
一般に使用されていたが、熱伝導率が20W/m・K程
度と小さいために放熱性が低く、高出力化に対応した放
熱板を形成することは困難であった。そこで熱伝導率が
アルミナの2〜3倍程度と大きく、より熱伝導性が優れ
た窒化アルミニウム(AlN)焼結体も放熱板の構成材
料として使用されつつある。
【0006】一方、窒化けい素を主成分とするセラミッ
クス焼結体は、一般に1000℃以上の高温度環境下で
も優れた耐熱性を有し、かつ耐熱衝撃性にも優れている
ことから、従来の耐熱性超合金に代わる高温構造材料と
してガスタービン用部品、エンジン用部品、製鋼用機械
部品等の各種高強度耐熱部品への応用が試みられてい
る。
【0007】従来より窒化けい素セラミックス焼結体の
組成として、窒化けい素に酸化イットリウム(Y
2 3 ),酸化セリウム(CeO),酸化カルシウム
(CaO)などの希土類元素あるいはアルカリ土類元素
の酸化物を焼結助剤として添加されたものが知られてお
り、これら焼結助剤により焼結性を高めて緻密化・高強
度化している。
【0008】従来の窒化けい素焼結体は、窒化けい素原
料粉末に上記のような焼結助剤を添加し成形し、得られ
た成形体を1600〜2000℃程度の温度で焼成炉で
所定時間焼成した後に炉冷し、得られた焼結体を研削研
摩加工する製法で製造されている。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来方法によって製造された窒化けい素焼結体では、靭性
値などの機械的強度は優れているものの、熱伝導特性の
点では、他の窒化アルミニウム(AlN)焼結体、酸化
ベリリウム(BeO)焼結体や炭化けい素(SiC)焼結体
などと比較して著しく低いため、特に放熱性を要求され
る放熱板などの電子用材料としては実用化されておら
ず、用途範囲が狭い難点があった。
【0010】一方上記窒化アルミニウム焼結体は他のセ
ラミックス焼結体と比較して高い熱伝導率と低熱膨張係
数の特長を有するため、高速化、高出力化、多機能化、
大型化が進展する半導体チップ搭載用の回路基板部品や
パッケージ材料として用いられているが、機械的強度の
点で充分に満足できるものは得られていなかった。
【0011】さらに上記セラミックス焼結体を主たる構
成材とする放熱板を、発熱部品と圧接により接合した
り、アッセンブリ工程にて実装ボートにねじ止め等によ
り固定しようとすると、ねじの押圧力や圧接力による僅
かな変形やハンドリング時の衝撃によって放熱板が破損
し、放熱部品の製造歩留りが大幅に低減する問題があっ
た。
【0012】またサイリスタに使用される放熱板のよう
に高電圧が印加される場合には、所定の絶縁耐力を確保
するために、ある程度の厚さを有する放熱板が必要にな
り、必然的に熱抵抗が増大するとともに放熱板の原料コ
ストを上昇させる難点もあった。
【0013】本発明は上記のような課題に対処するため
になされたものであり、高強度特性とともに、熱伝導率
が高く放熱性に優れるとともに絶縁破壊特性を大幅に改
善した圧接用放熱板およびそれを用いたサイリスタ等の
圧接構造部品を提供することを目的とする。
【0014】
【課題を解決するための手段】本発明者は上記目的を達
成するために、従来使用されていた窒化けい素粉末の種
類、焼結助剤や添加物の種類および添加量、焼結条件に
検討を加え、従来の窒化けい素焼結体の有する熱伝導率
の3倍以上の高い熱伝導性(90W/m・K以上)を有
する窒化けい素焼結体を開発した。さらに、この窒化け
い素焼結体を放熱板として使用し、その放熱板に整流素
子等の発熱部品を圧接により一体に接合してサイリスタ
等の圧接構造部品を製造したときに、機械的強度、靭性
値、絶縁耐力特性および放熱性を全て満足するサイスリ
タ等の圧接構造部品が得られることを実験により確認し
た。
【0015】このような熱伝導率が90W/m・K以上
の高熱伝導性窒化けい素焼結体自体は、その一部が既に
本発明者により特許出願されており、さらに特開平6−
135771号公報および特開平7−48174号公報
によって出願公開されている。そして、これらの特許出
願において記載されている窒化けい素焼結体は、希土類
元素を酸化物に換算して2.0〜7.5重量%含有する
ものである。しかしながら、本発明者はさらに改良研究
を進めた結果、含有される希土類元素は酸化物に換算し
て7.5重量%を超えた場合の方が焼結体の高熱伝導化
がさらに進み、焼結性も良いことを見い出し、本願発明
を完成したものである。特に希土類元素がランタノイド
系列の元素である場合に、その効果は顕著である。ちな
みに粒界相中における結晶化合物相の粒界相全体に対す
る割合が60〜70%である場合においても、焼結体は
110〜120W/m・K以上の高熱伝導率を達成する
ことができる。
【0016】具体的には、微細で高純度を有する窒化け
い素粉末に希土類元素酸化物等を所定量ずつ添加した原
料混合体を成形脱脂し、得られた成形体を所定温度で一
定時間加熱保持して緻密化焼結を実施した後、所定の冷
却速度以下で徐冷し、製造することにより高特性の焼結
体が得られる。この熱伝導率が90W/m・K以上で、
かつ高強度を有する窒化けい素焼結体を放熱板に適用し
たときに、優れた放熱特性と耐久性と絶縁破壊特性とを
同時に兼ね備えた圧接用窒化けい素放熱板および圧接構
造部品を実現できることが判明した。
【0017】また、酸素や不純物陽イオン元素含有量を
低減した高純度の窒化けい素原料粉末を使用し、上記条
件にて焼結することにより、粒界相におけるガラス相
(非晶質相)の生成を効果的に抑制できる。そして、粒
界相における結晶化合物相の割合を20%以上(粒界相
全体に対し)、より好ましくは50%以上とすることに
より、希土類元素酸化物のみを原料粉末に添加した場合
においても90W/m・K以上さらに好ましくは100
W/m・K以上の高熱伝導率を有する窒化けい素焼結体
が得られるという知見を得た。
【0018】また、従来、焼結操作終了後に焼成炉の加
熱用電源をOFFとして焼結体を炉冷していた場合に
は、冷却速度が毎時400〜800℃と急速であった
が、本発明者の実験によれば、特に冷却速度を毎時10
0℃以下に緩速度に制御することにより、窒化けい素焼
結体組織の粒界相が非結晶質状態から結晶相を含む相に
変化し、高強度特性と高伝熱特性とが同時に達成される
ことが判明した。
【0019】このように高強度特性および高伝熱特性を
共に満足する窒化けい素焼結体を放熱板材料とし、整流
素子等の発熱部品を圧接により放熱板に接合してサイリ
スタ等の圧接構造部品を形成することにより、サイリス
タ等の圧接構造部品の靭性強度および熱伝導性を改善す
ることができ、特に放熱板のアッセンブリ工程における
締め付け割れや熱サイクルの付加によるクラックの発生
を効果的に防止できることが判明した。
【0020】本発明は上記知見に基づいて完成されたも
のである。すなわち本発明に係る圧接用窒化けい素放熱
板は、希土類元素を酸化物に換算して2.0〜17.5
重量%、不純物陽イオン元素としてのLi,Na,K,
Fe,Ca,Mg,Sr,Ba,Mn,Bを合計で0.
3重量%以下含有し、90W/m・K以上の熱伝導率を
有する高熱伝導性窒化けい素焼結体から成ることを特徴
とする。
【0021】また本発明に係る圧接用窒化けい素放熱板
は、希土類元素を酸化物に換算して2.0〜17.5重
量%含有し、窒化けい素結晶および粒界相から成るとと
もに粒界相中における結晶化合物相の粒界相全体に対す
る割合が20%以上であり、90W/m・K以上の熱伝
導率を有する高熱伝導性窒化けい素焼結体から構成して
もよい。
【0022】また高熱伝導性窒化けい素焼結体の3点曲
げ強度は650MPa以上である。さらに発熱部品等に
圧接される高熱伝導性窒化けい素焼結体の圧接面の表面
粗さは最大高さ(Rmax)基準で10μm以下にすると
よい。高熱伝導性窒化けい素焼結体の圧接面の表面粗さ
をRmax 基準で10μm以下とすることにより、発熱部
品からの熱を効果的に放散させることができる。
【0023】また希土類元素を酸化物に換算して2.0
〜17.5重量%含有し、窒化けい素結晶および粒界相
から成るとともに粒界相中における結晶化合物相の粒界
相全体に対する割合が20%以上である高熱伝導性窒化
けい素焼結体を使用することもできる。
【0024】さらに高熱伝導性窒化けい素焼結体は、窒
化けい素結晶および粒界相から成るとともに、粒界相中
における結晶化合物相の粒界相全体に対する割合が50
%以上であることがさらに好ましい。
【0025】なお、上記希土類元素としてランタノイド
系列の元素を使用することが、焼結体の熱伝導率を向上
させるために特に好ましい。
【0026】また、窒化けい素焼結体が窒化アルミニウ
ムまたはアルミナを1.0重量%以下含有するように構
成してもよい。さらにアルミナを1.0重量%以下と窒
化アルミニウムを1.0重量%以下とを併用してもよ
い。
【0027】また本発明で使用する高熱伝導性窒化けい
素焼結体は、Ti,Zr,Hf,V,Nb,Ta,C
r,Mo,Wからなる群より選択される少なくとも1種
を酸化物に換算して0.1〜0.3重量%含有すること
が好ましい。このTi,Zr,Hf,V,Nb,Ta,
Cr,Mo,Wから成る群より選択される少なくとも1
種は、酸化物、炭化物、窒化物、けい化物,硼化物とし
て窒化けい素粉末に添加することにより含有させること
ができる。
【0028】さらに本発明に係る圧接構造部品は、90
W/m・K以上の熱伝導率を有する高熱伝導性窒化けい
素焼結体から成る圧接用窒化けい素放熱板に発熱部品を
圧接して構成したことを特徴とする。
【0029】本発明に係る圧接用窒化けい素放熱板およ
び圧接構造部品の構成材料として使用される高熱伝導性
窒化けい素焼結体は、例えば以下の方法で製造される。
すなわち、酸素を1.7重量%以下、不純物陽イオン元
素としてのLi,Na,K,Fe,Ca,Mg,Sr,
Ba,Mn,Bを合計で0.3重量%以下、α相型窒化
けい素を90重量%以上含有し、平均粒径1.0μm以
下の窒化けい素粉末に、希土類元素を酸化物に換算して
1.0〜17.5重量%と、必要に応じてアルミナおよ
び窒化アルミニウムの少なくとも一方を1.0重量%以
下添加した原料混合体を成形して成形体を調製し、得ら
れた成形体を脱脂後、温度1800〜2100℃で雰囲
気加圧焼結し、上記焼結温度から、上記希土類元素によ
り焼結時に形成された液相が凝固する温度までに至る焼
結体の冷却速度を毎時100℃以下にして徐冷する。
【0030】上記製造方法において、窒化けい素粉末
に、さらにアルミナおよび窒化アルミニウムの少なくと
も一方を1.0重量%以下添加するとよい。
【0031】さらに窒化けい素粉末に、さらにTi,Z
r,Hf,V,Nb,Ta,Cr,Mo,Wの酸化物、
炭化物、窒化物、けい化物、硼化物からなる群より選択
される少なくとも1種を0.1〜3.0重量%添加する
とよい。
【0032】上記製造方法によれば、窒化けい素結晶組
織中に希土類元素等を含む粒界相が形成され、気孔率が
2.5%以下、熱伝導率が90W/m・K以上、三点曲
げ強度が室温で650MPa以上の機械的特性および熱
伝導特性が共に優れた窒化けい素焼結体が得られる。
【0033】本発明において使用される高熱伝導性窒化
けい素焼結体の主成分となる窒化けい素粉末としては、
焼結性、強度および熱伝導率を考慮して、酸素含有量が
1.7重量%以下、好ましくは0.5〜1.5重量%、
Li,Na,K,Fe,Mg,Ca,Sr,Ba,M
n,Bなどの不純物陽イオン元素含有量が合計で0.3
重量%以下、好ましくは0.2重量%以下に抑制された
α相型窒化けい素を90重量%以上、好ましくは93重
量%以上含有し、平均粒径が1.0μm以下、好ましく
は0.4〜0.8μm程度の微細な窒化けい素粉末を使
用することができる。
【0034】平均粒径が1.0μm以下の微細な原料粉
末を使用することにより、少量の焼結助剤であっても気
孔率が2.5%以下の緻密な焼結体を形成することが可
能であり、また焼結助剤が熱伝導特性を阻害するおそれ
も減少する。
【0035】またLi,Na,K,Fe,Ca,Mg,
Sr,Ba,Mn,Bの不純物陽イオン元素も熱伝導性
を阻害する物質となるため、90W/m・K以上の熱伝
導率を確保するためには、上記不純物陽イオン元素の含
有量は合計で0.3重量%以下とすることにより達成可
能である。特に同様の理由により、上記不純物陽イオン
元素の含有量は合計で0.2重量%以下とすることが、
さらに好ましい。ここで通常の窒化けい素焼結体を得る
ために使用される窒化けい素粉末には、特にFe,C
a,Mgが比較的に多く含有されているため、Fe,C
a,Mgの合計量が上記不純物陽イオン元素の合計含有
量の目安となる。
【0036】さらに、β相型と比較して焼結性に優れた
α相型窒化けい素を90重量%以上含有する窒化けい素
原料粉末を使用することにより、高密度の焼結体を製造
することができる。
【0037】また窒化けい素原料粉末に焼結助剤として
添加する希土類元素としては、Ho,Er,Yb,Y,
La,Sc,Pr,Ce,Nd,Dy,Sm,Gdなど
の酸化物もしくは焼結操作により、これらの酸化物とな
る物質が単独で、または2種以上の酸化物を組み合せた
ものを含んでもよいが、特に酸化ホルミウム(Ho2
3 ),酸化エルビウム(Er2 3 )が好ましい。
【0038】特に希土類元素としてランタノイド系列の
元素であるHo,Er,Ybを使用することにより、焼
結性あるいは高熱伝導化が良好になり、1850℃程度
の低温度領域においても十分に緻密な焼結体が得られ
る。したがって焼成装置の設備費およびランニングコス
トを低減できる効果も得られる。これらの焼結助剤は、
窒化けい素原料粉末と反応して液相を生成し、焼結促進
剤として機能する。
【0039】上記焼結助剤の添加量は、酸化物換算で原
料粉末に対して2.0〜17.5重量%の範囲とする。
この添加量が2.0重量%未満の場合は、焼結体の緻密
化が不十分であり、特に希土類元素がランタノイド系元
素のように原子量が大きい元素の場合には、低強度で低
熱伝導率の焼結体が形成される。一方、添加量が17.
5重量%を超える過量となると、過量の粒界相が生成
し、熱伝導率の低下や強度が低下し始めるので上記範囲
とする。特に同様の理由により4〜15重量%とするこ
とが望ましい。
【0040】また上記製造方法において他の選択的な添
加成分として使用するTi,Zr,Hf,V,Nb,T
a,Cr,Mo,Wの酸化物,炭化物、窒化物、けい化
物、硼化物は、上記希土類元素の焼結促進剤の機能を促
進すると共に、結晶組織において分散強化の機能を果し
Si3 4 焼結体の機械的強度を向上させるものであ
り、特に、Hf,Tiの化合物が好ましい。これらの化
合物の添加量が0.1重量%未満の場合においては添加
効果が不充分である一方、3.0重量%を超える過量と
なる場合には熱伝導率および機械的強度や電気絶縁破壊
強度の低下が起こるため、添加量は0.1〜3.0重量
%の範囲とする。特に0.2〜2重量%とすることが望
ましい。
【0041】また上記Ti,Zr,Hf等の化合物は窒
化けい素焼結体を黒色系に着色し不透明性を付与する遮
光剤としても機能する。
【0042】さらに上記製造方法において、他の選択的
な添加成分としてのアルミナ(Al2 3 )は、前記希
土類元素の焼結促進剤の機能を助長する役目を果すもの
であり、特に加圧焼結を行なう場合に著しい効果を発揮
するものである。このAl2 3 の添加量が0.1重量
%未満の場合においては、より高温度での焼結が必要に
なる一方、1.0重量%を超える過量となる場合には過
量の粒界相を生成したり、または窒化けい素に固溶し始
め、熱伝導の低下が起こるため、添加量は1重量%以
下、好ましくは0.1〜0.75重量%の範囲とする。
特に強度、熱伝導率共に良好な性能を確保するためには
添加量を0.1〜0.5重量%の範囲とすることが望ま
しい。
【0043】また、後述するAlNと併用する場合に
は、その合計添加量は1.0重量%以下にすることが望
ましい。
【0044】さらに他の添加成分としての窒化アルミニ
ウム(AlN)は焼結過程における窒化けい素の蒸発な
どを抑制するとともに、上記希土類元素の焼結促進剤と
しての機能をさらに助長する役目を果すものである。
【0045】AlNの添加量が0.1重量%未満(アル
ミナと併用する場合では0.05重量%未満)の場合に
おいては、より高温度での焼結が必要になる一方、1.
0重量%を超える過量となる場合には過量の粒界相を生
成したり、または窒化けい素に固溶し始め、熱伝導率の
低下が起こるため、添加量は0.1〜1.0重量%の範
囲とする。特に焼結性,強度,熱伝導率共に良好な性能
を確保するためには添加量を0.1〜0.5重量%の範
囲とすることが望ましい。なお前記Al2 3と併用す
る場合には、AlNの添加量は0.05〜0.5重量%
の範囲が好ましい。
【0046】また焼結体の気孔率は熱伝導率および強度
に大きく影響するため2.5%以下となるように製造す
る。気孔率が2.5%を超えると熱伝導の妨げとなり、
焼結体の熱伝導率が低下するとともに、焼結体の強度低
下が起こる。
【0047】また、窒化けい素焼結体は組織的に窒化け
い素結晶と粒界相とから構成されるが、粒界相中の結晶
化合物相の割合は焼結体の熱伝導率に大きく影響し、本
発明において使用される高熱伝導性窒化けい素焼結体に
おいては粒界相の20%以上とすることが必要であり、
より好ましくは50%以上が結晶相で占めることが望ま
しい。結晶相が20%未満では熱伝導率が90W/m・
K以上となるような放熱特性に優れ、かつ高温強度に優
れた焼結体が得られないからである。
【0048】さらに上記のように窒化けい素焼結体の気
孔率を2.5%以下にし、また窒化けい素結晶組織に形
成される粒界相の20%以上が結晶相で占めるようにす
るためには、窒化けい素成形体を温度1800〜210
0℃で2〜10時間程度、加圧焼結し、かつ焼結操作完
了直後における焼結体の冷却速度を毎時100℃以下に
して徐冷することが重要である。
【0049】焼結温度を1800℃未満とした場合に
は、焼結体の緻密化が不充分で気孔率が2.5vol%以上
になり機械的強度および熱伝導性が共に低下してしま
う。一方焼結温度が2100℃を超えると窒化けい素成
分自体が蒸発分解し易くなる。特に加圧焼結ではなく、
常圧焼結を実施した場合には、1800℃付近より窒化
けい素の分解蒸発が始まる。
【0050】上記焼結操作完了直後における焼結体の冷
却速度は粒界相を結晶化させるために重要な制御因子で
あり、冷却速度が毎時100℃を超えるような急速な冷
却を実施した場合には、焼結体組織の粒界相が非結晶質
(ガラス相)となり、焼結体に生成した液相が結晶相と
して粒界相に占める割合が20%未満となり、強度およ
び熱伝導性が共に低下してしまう。
【0051】上記冷却速度を厳密に調整すべき温度範囲
は、所定の焼結温度(1800〜2100℃)から、前
記の焼結助剤の反応によって生成する液相が凝固するま
での温度範囲で充分である。ちなみに前記のような焼結
助剤を使用した場合の液相凝固点は概略1600〜15
00℃程度である。そして少なくとも焼結温度から上記
液相凝固温度に至るまでの焼結体の冷却速度を毎時10
0℃以下、好ましくは50℃以下、さらに好ましくは2
5℃以下に制御することにより、粒界相の20%以上、
特に好ましくは50%以上が結晶相になり、熱伝導率お
よび機械的強度が共に優れた窒化けい素焼結体が得られ
る。
【0052】本発明において使用する窒化けい素焼結体
は、例えば以下のようなプロセスを経て製造される。す
なわち前記所定の微細粒径を有し、また不純物含有量が
少ない微細な窒化けい素粉末に対して所定量の焼結助
剤、有機バインダ等の必要な添加剤および必要に応じて
Al2 3 やAlN,Ti化合物等を加えて原料混合体
を調整し、次に得られた原料混合体を成形して所定形状
の成形体を得る。原料混合体の成形法としては、汎用の
金型プレス法、ドクターブレード法のようなシート成形
法などが適用できる。
【0053】上記成形操作に引き続いて、成形体を非酸
化性雰囲気中で温度600〜800℃、または空気中で
温度400〜500℃で1〜2時間加熱して、予め添加
していた有機バインダ成分を充分に除去し、脱脂する。
次に脱脂処理された成形体を窒素ガス、水素ガスやアル
ゴンガスなどの不活性ガス雰囲気中で1800〜210
0℃の温度で所定時間雰囲気加圧焼結を行う。
【0054】上記製法によって製造された窒化けい素焼
結体は気孔率が2.5%以下、90W/m・K(25
℃)以上、さらには100W/m・K以上の熱伝導率を
有し、また三点曲げ強度が常温で650MPa以上、さ
らには800MPa以上と機械的特性にも優れている。
【0055】なお、低熱伝導性の窒化けい素に高熱伝導
性のSiC等を添加して焼結体全体としての熱伝導率を
90W/m・K以上にした窒化けい素焼結体は本発明の
範囲には含まれない。しかしながら、熱伝導率が90W
/m・K以上である窒化けい素焼結体に高熱伝導性のS
iC等を複合させた窒化けい素系焼結体の場合には、窒
化けい素焼結体自体の熱伝導率が90W/m・K以上で
ある限り、本発明の範囲に含まれることは言うまでもな
い。
【0056】発熱部品等に圧接される高熱伝導性窒化け
い素焼結体の圧接面の表面粗さは、放熱性に大きな影響
を及ぼすため、本発明においては、最大高さ(Rmax)
基準で10μm以下に設定される。上記表面粗さが10
μmを超えると、圧接面における伝熱抵抗が急激に上昇
して放熱板の放熱特性が低下してしまう。したがって表
面粗さは10μm以下に設定されるが、5μm以下がよ
り好ましい。
【0057】本発明に係る圧接構造部品としてのサイリ
スタは、上記のように製造した高熱伝導性窒化けい素焼
結体に、発熱部品としての整流素子を圧接して製造され
る。
【0058】本発明に係る圧接用窒化けい素放熱板によ
れば、窒化けい素焼結体が本来的に有する高強度高靭性
特性に加えて熱伝導率を大幅に改善した高熱伝導性窒化
けい素焼結体によって形成されているため、アッセンブ
リ工程において放熱板の締め付け割れが発生せず、放熱
板を用いたサイリスタ等の圧接構造部品を高い製造歩留
りで量産することが可能になる。
【0059】また窒化けい素焼結体の靭性値が高いた
め、発熱部品からの熱サイクルによって放熱板に割れが
発生することが少なく、耐熱サイクル特性が著しく向上
し、耐久性および信頼性に優れたサイリスタなどの圧接
構造部品を提供することができる。
【0060】さらに従来では達成されていない高い熱伝
導率を有する窒化けい素焼結体を放熱板として使用して
いるため、高出力化および高集積化を指向する発熱部品
を圧接した場合においても、熱抵抗特性の劣化が少な
く、優れた放熱特性を発揮する。
【0061】特に窒化けい素焼結体自体の機械的強度が
優れているため、要求される機械的強度特性を一定とし
た場合に、他のセラミックス焼結体から成る放熱板と比
較して放熱板の厚さをより低減することが可能となる。
この放熱板の厚さを低減できることから熱抵抗値をより
小さくでき、放熱特性をさらに改善することができる。
また要求される機械的特性に対して、従来より薄い放熱
板でも充分に対応可能となるため、発熱部品の高密度実
装も可能となり、圧接構造部品をより小型化することが
可能となる。
【0062】
【発明の実施の形態】次に本発明の実施形態を以下に示
す実施例を参照して具体的に説明する。
【0063】まず、各放熱板を構成する窒化けい素焼結
体について説明し、しかる後に、この窒化けい素焼結体
を用いたサイリスタについて説明する。
【0064】実施例1〜2 酸素を1.3重量%、不純物陽イオン元素としてのL
i,Na,K,Fe,Ca,Mg,Sr,Ba,Mn,
Bを合計で0.15重量%含有し、α相型窒化けい素9
7%を含む平均粒径0.55μmの窒化けい素原料粉末
に対して、焼結助剤として平均粒径0.7μmのY2
3 (酸化イットリウム)粉末5重量%、平均粒径0.5
μmのAl2 3 (アルミナ)粉末1.5重量%を添加
し、エチルアルコール中で24時間湿式混合した後に乾
燥して原料粉末混合体を調整した。次に得られた原料粉
末混合体に有機バインダを所定量添加して均一に混合し
た後に、1000kg/cm2 の成形圧力でプレス成形し、
円板状の成形体を多数製作した。次に得られた成形体を
700℃の雰囲気ガス中において2時間脱脂した後に、
この脱脂体を窒素ガス雰囲気中7.5気圧にて1900
℃で6時間保持し、緻密化焼結を実施した後に、焼結炉
に付設した加熱装置への通電量を制御して焼結炉内温度
が1500℃まで降下するまでの間における焼結体の冷
却速度がそれぞれ50℃/hr(実施例1)、25℃/hr
(実施例2)となるように調整して焼結体を冷却し、さ
らに得られた各焼結体を研摩加工することにより、表面
粗さを5μm−Rmaxに設定し、さらに厚さ0.3mm×
直径70mmに加工して、それぞれ実施例1〜2の圧接用
窒化けい素放熱板を調製した。
【0065】比較例1 一方、緻密化焼結完了直後に、加熱装置電源をOFFに
し、従来の炉冷による冷却速度(約500℃/hr)で焼
結体を冷却した点以外は実施例1と同一条件で焼結処理
して比較例1の圧接用窒化けい素放熱板を調製した。
【0066】比較例2 酸素を1.5重量%、前記不純物陽イオン元素を合計で
0.6重量%含有し、α相型窒化けい素93%を含む平
均粒径0.60μmの窒化けい素原料粉末を用いた点お
よび冷却速度を100℃/hrとした点以外は実施例1と
同一条件で処理し、比較例2の圧接用窒化けい素放熱板
を調製した。
【0067】比較例3 酸素を1.7重量%、前記不純物陽イオン元素を合計で
0.7重量%含有し、α相型窒化けい素91%を含む平
均粒径1.1μmの窒化けい素原料粉末を用いた点およ
び冷却速度を100℃/hrとした点以外は実施例1と同
一条件で処理し、比較例3の圧接用窒化けい素放熱板を
調製した。
【0068】こうして得た実施例1〜2および比較例1
〜3の圧接用窒化けい素放熱板について気孔率および2
5℃における熱伝導率を測定した。さらに、各Si3
4 放熱板についてX線回折法によって粒界相に占める結
晶相の割合(体積比)を測定し、下記表1に示す結果を
得た。
【0069】
【表1】
【0070】表1に示す結果から明らかなように実施例
1〜2の圧接用窒化けい素放熱板においては、比較例1
と比較して緻密化焼結完了直後における焼結体の冷却速
度を従来より低く設定しているため、粒界相に結晶相を
含み、結晶相の占める割合が高い程、高熱伝導率を有す
る放熱性の高い圧接用Si3 4 放熱板が得られた。
【0071】一方、比較例1のように焼結体の冷却速度
を大きく設定し、急激に冷却した場合は粒界相が全て非
結晶質で形成され熱伝導率が低下した。また、比較例2
のように不純物陽イオン元素を0.6重量%と多く含有
した窒化けい素粉末を用いた場合は焼結体の冷却速度を
比較的に小さくしても粒界相が全て非結晶質で形成され
熱伝導率が低下した。
【0072】さらに比較例3のように平均粒径が1.1
μmと粗い窒化けい素粉末を用いた場合は、焼結におい
て緻密化が不充分で強度、熱伝導率とも低下した。
【0073】比較例4 一方、実施例におけるSi3 4 焼結体に代えて、厚さ
が0.3mmであり、熱伝導率が170W/m・Kである
窒化アルミニウム(AlN)焼結体を使用して実施例と
同一寸法を有する比較例4に係るAlN放熱板を製造し
た。
【0074】比較例5 また、実施例におけるSi3 4 焼結体に代えて、厚さ
が0.8mmであり、熱伝導率が70W/m・Kである窒
化アルミニウム(AlN)焼結体を使用して実施例と同
一寸法を有する比較例5に係るAlN放熱板を製造し
た。
【0075】比較例6 また、実施例におけるSi3 4 焼結体に代えて、厚さ
が0.3mmであり、熱伝導率が20W/m・Kである酸
化アルミニウム(Al2 3 )焼結体を使用して実施例
と同一寸法を有する比較例6に係るAl2 3 放熱板を
製造した。
【0076】上記のように調製した実施例および比較例
に係る各放熱板の強度特性および絶縁破壊特性を評価す
るため、各放熱板の3点曲げ強度を測定するとともに、
絶縁破壊試験を実施し、放熱板の絶縁耐力を測定した。
【0077】なお絶縁破壊試験は、絶縁油中に浸漬した
各放熱板の両面に設置した電極に50Hzの電圧を印加
し、放熱板が絶縁破壊を起こしたときの最小の電圧を測
定して実施した。絶縁耐力は測定した最小の絶縁破壊電
圧を放熱板の厚さで割った数値で表す。
【0078】また上記実施例および比較例に係る各放熱
板を使用して、図2に示すような車輌搭載用のサイリス
タを多数調製した。このサイリスタは、冷却フィン8の
側面に、圧接用放熱板7a,端子9a,整流素子10,
端子9b,絶縁スペーサ11,圧接板12を積層し、冷
却フィン8から立ち上げたボルト13に押え板14を装
着し、さらに皿ばね15を介して圧接ねじ16を取り付
け、この圧接ねじ16を締着することにより整流素子1
0を放熱板7a側に圧接して構成される。
【0079】そして上記のように各種放熱板を使用して
サイリスタを多数製造するに際して、アセンブル時に圧
接ねじ16の圧接力によってクラックを生じたり、破損
した放熱板の割合を測定し、サイリスタの製造歩留りを
算出した。
【0080】各測定結果を下記表2に示す。
【0081】
【表2】
【0082】上記表2に示す結果から明らかなように、
各実施例に係る圧接型Si3 4 放熱板によれば、3点
曲げ強度が、比較例と比較して大きくなる傾向がある。
したがって、サイリスタのアッセンブリ工程における締
め付け割れが発生することが少なく圧接用放熱板を使用
した圧接構造部品の製造歩留りを大幅に改善できること
が実証された。
【0083】さらに各実施例に係るSi3 4 放熱板
は、従来のSi3 4 焼結体から成る比較例1〜3の放
熱板と比較して2〜5倍程度大きな熱伝導率を有してい
るため、放熱性が優れており、高出力化および高発熱化
に対応した放熱板として極めて有効である。
【0084】また各実施例に係る放熱板の絶縁耐力は、
比較例5〜6に示す従来のAlN焼結体やAl2 3
結体の絶縁耐力の2倍程度と大きく、優れた耐絶縁破壊
特性を示す。
【0085】上記のように従来の放熱板と比較して、3
点曲げ強度や絶縁耐力が2倍以上大きい本実施例の放熱
板を使用すると、要求される機械的強度や絶縁耐力を従
来と同一に設定した場合には、放熱板の厚さを従来の1
/2以下に低減することもできる。この場合、放熱板の
厚さを低減できることから放熱板における熱抵抗値をよ
り小さくでき、放熱特性をさらに相乗的に改善すること
ができる。さらに放熱板の板厚の低減化により、発熱部
品の高密度実装も可能になり、サイリスタなどの圧接構
造部品の小型化にも有効である。
【0086】一方、比較例1〜3に係る圧接型Si3
4 放熱板においては、3点曲げ強度は良好であるが、そ
の熱伝導率が40W/m・K以下と相対的に低いため、
高出力化も指向した圧接構造部品には不適であることが
判明した。
【0087】また比較例4に係るAlN放熱板において
は、熱伝導性が高いAlN焼結体を使用しているため、
放熱特性は優れている反面、強度およびたわみ量が小さ
く、アッセンブリ工程における締め付け割れやハンドリ
ング時の衝撃に耐え難いことが確認された。また耐電圧
特性も低いことが判明した。
【0088】さらに比較例5に係るAlN回路基板にお
いては、従来のSi3 4 基板よりも高い熱伝導率を有
しているため放熱性は良好である反面、強度が不充分で
ある。また耐電圧特性が低下することが判明した。
【0089】一方、比較例6に係る従来のAl2 3
熱板においては、熱伝導率,3点曲げ強度および絶縁耐
力が揃って小さいため、放熱性および耐久性も低く、ア
センブル時における放熱板の割れや損傷が多く発生し、
サイリスタの製造歩留りが大幅に低下した。
【0090】次に種々の組成および特性値を有する他の
窒化けい素焼結体を使用した放熱板および圧接構造部品
としてのサイリスタの実施形態について以下に示す実施
例3を参照して具体的に説明する。
【0091】実施例3 まず放熱板の構成材となる各種窒化けい素焼結体を以下
の手順で製造した。
【0092】すなわち、酸素を1.3重量%、前記の不
純物陽イオン元素を合計で0.15重量%含有し、α相
型窒化けい素97%を含む平均粒径0.55μmの窒化
けい素原料粉末に対して、表3〜5に示すように、焼結
助剤としてのY2 3 ,Ho2 3 などの希土類酸化物
と、必要に応じてTi,Hf化合物とを添加し、エチル
アルコール中で窒化けい素製ボールを用いて72時間湿
式混合した後に乾燥して原料粉末混合体をそれぞれ調整
した。次に得られた各原料粉末混合体に有機バインダを
所定量添加して均一に混合した後に、1000kg/cm2
の成形圧力でプレス成形し、各種組成を有する成形体を
多数製作した。
【0093】次に得られた各成形体を700℃の雰囲気
ガス中において2時間脱脂した後に、この脱脂体を表3
〜5に示す焼結条件で緻密化焼結を実施した後に、焼結
炉に付設した加熱装置への通電量を制御して焼結炉内温
度が1500℃まで降下するまでの間における焼結体の
冷却速度がそれぞれ表3〜5に示す値となるように調整
して焼結体を冷却し、それぞれ試料1〜56に係る窒化
けい素焼結体を調製した。
【0094】こうして得た試料1〜56に係る各窒化け
い素焼結体について気孔率、熱伝導率(25℃)、室温
での三点曲げ強度の平均値を測定した。さらに、各焼結
体についてX線回折法によって粒界相に占める結晶相の
割合(面積比)を測定し、下記表3〜5に示す結果を得
た。
【0095】
【表3】
【0096】
【表4】
【0097】
【表5】
【0098】表3〜5に示す結果から明らかなように試
料1〜56に係る窒化けい素焼結体においては、原料組
成を適正に制御し、従来例と比較して緻密化焼結完了直
後における焼結体の冷却速度を従来より低く設定してい
るため、粒界相に結晶相を含み、結晶相の占める割合が
高い程、高熱伝導率を有する放熱性の高い高強度窒化け
い素焼結体が得られた。
【0099】これに対して酸素を1.3〜1.5重量
%,前記の不純物陽イオン元素を合計で0.13〜0.
16重量%含有し、α相型窒化けい素を93%含む平均
粒径0.60μmの窒化けい素原料粉末を用い、この窒
化けい素粉末に対してY2 3(酸化イットリウム)粉
末を3〜6重量と、アルミナ粉末を1.3〜1.6重量
%添加した原料粉末を成形,脱脂後、1900℃で6時
間焼結し、炉冷(冷却速度:毎時400℃)して得た焼
結体の熱伝導率は25〜28W/m・Kと低く、従来の
一般的な製法によって製造された窒化けい素焼結体の熱
伝導率に近い値になった。
【0100】次に得られた試料1〜56に係る各窒化け
い素焼結体の表面を研磨加工することにより、表面粗さ
を5μm−Rmax に調整し、さらに厚さ0.3mm×直径
70mmに加工してそれぞれ各サイリスタ用の窒化けい素
放熱板とした。さらに各窒化けい素放熱板を使用して図
2に示すような車輌搭載用の実施例3に係るサイリスタ
をそれぞれ多数調製した。そして実施例1〜2と同様
に、サイリスタのアセンブル時に圧接ねじ16の圧接力
によってクラックを生じたり、破損した放熱板の割合を
測定したが、締め付け割れの発生がなく、圧接用放熱板
を使用した製品の製造歩留りを大幅に改善できることが
判明した。
【0101】さらに各実施例3に係るSi3 4 放熱板
は、従来のSi3 4 焼結体から成る放熱板と比較して
2〜5倍程度大きな熱伝導率を有しているため、放熱性
が優れており、高出力化および高発熱化に対応した放熱
板として極めて有効である。
【0102】
【発明の効果】以上説明の通り、本発明に係る圧接用窒
化けい素放熱板によれば、窒化けい素焼結体が本来的に
有する高強度高靭性特性に加えて熱伝導率を大幅に改善
した高熱伝導性窒化けい素焼結体によって形成されてい
るため、アッセンブリ工程において放熱板の締め付け割
れが発生せず、放熱板を用いた圧接構造部品を高い製造
歩留りで量産することが可能になる。
【0103】また窒化けい素焼結体の靭性値が高いた
め、発熱部品からの熱サイクルによって放熱板に割れが
発生することが少なく、耐熱サイクル特性が著しく向上
し、耐久性および信頼性に優れたサイリスタなどの圧接
構造部品を提供することができる。
【0104】さらに従来では達成されていない高い熱伝
導率を有する窒化けい素焼結体を放熱板として使用して
いるため、高出力化および高集積化を指向する発熱素子
を圧接した場合においても、熱抵抗特性の劣化が少な
く、優れた放熱特性を発揮する。
【0105】特に窒化けい素焼結体自体の機械的強度が
優れているため、要求される機械的強度特性を一定とし
た場合に、他のセラミックス焼結体から成る放熱板と比
較して放熱板の厚さをより低減することが可能となる。
この放熱板の厚さを低減できることから熱抵抗値をより
小さくでき、放熱特性をさらに改善することができる。
また要求される機械的特性に対して、従来より薄い放熱
板でも充分に対応可能となるため、発熱部品の高密度実
装も可能となり、圧接構造部品をより小型化することが
可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】シリコン制御整流素子としてのサイリスタの構
造例を示す断面図。
【図2】車輌搭載型のサイリスタの他の構造例を示す側
面図。
【符号の説明】
1 銅スタッド(陽極) 2 陰極導線 3 シリコン接合体 4 ゲート導線 5 セラミックシール 6 ケース 7,7a 放熱板 8 冷却フィン 9a,9b 端子 10 整流素子 11 絶縁スペーサ 12 圧接板 13 ボルト 14 押え板 15 皿ばね 16 圧接ねじ
フロントページの続き (72)発明者 佐藤 孔俊 神奈川県横浜市磯子区新杉田町8番地 株 式会社東芝横浜事業所内

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 希土類元素を酸化物に換算して2.0〜
    17.5重量%、不純物陽イオン元素としてのLi,N
    a,K,Fe,Ca,Mg,Sr,Ba,Mn,Bを合
    計で0.3重量%以下含有し、90W/m・K以上の熱
    伝導率を有する高熱伝導性窒化けい素焼結体から成るこ
    とを特徴とする圧接用窒化けい素放熱板。
  2. 【請求項2】 希土類元素を酸化物に換算して2.0〜
    17.5重量%含有し、窒化けい素結晶および粒界相か
    ら成るとともに粒界相中における結晶化合物相の粒界相
    全体に対する割合が20%以上であり、90W/m・K
    以上の熱伝導率を有する高熱伝導性窒化けい素焼結体か
    ら成ることを特徴とする圧接用窒化けい素放熱板。
  3. 【請求項3】 高熱伝導性窒化けい素焼結体の3点曲げ
    強度が650MPa以上であることを特徴とする請求項
    1記載の圧接用窒化けい素放熱板。
  4. 【請求項4】 発熱部品等に圧接される高熱伝導性窒化
    けい素焼結体の圧接面の表面粗さが最大高さ(Rmax
    基準で10μm以下であることを特徴とする請求項1記
    載の圧接用窒化けい素放熱板。
  5. 【請求項5】 高熱伝導性窒化けい素焼結体は、希土類
    元素を酸化物に換算して2.0〜17.5重量%含有
    し、窒化けい素結晶および粒界相から成るとともに粒界
    相中における結晶化合物相の粒界相全体に対する割合が
    20%以上であることを特徴とする請求項1記載の圧接
    用窒化けい素放熱板。
  6. 【請求項6】 高熱伝導性窒化けい素焼結体は、窒化け
    い素結晶および粒界相から成るとともに、粒界相中にお
    ける結晶化合物相の粒界相全体に対する割合が50%以
    上であることを特徴とする請求項1記載の圧接用窒化け
    い素放熱板。
  7. 【請求項7】 90W/m・K以上の熱伝導率を有する
    高熱伝導性窒化けい素焼結体から成る圧接用窒化けい素
    放熱板に発熱部品を圧接して構成したことを特徴とする
    圧接構造部品。
JP7344234A 1995-06-23 1995-12-28 圧接用窒化けい素放熱板およびそれを用いた圧接構造部品 Expired - Lifetime JP2975882B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP7344234A JP2975882B2 (ja) 1995-06-23 1995-12-28 圧接用窒化けい素放熱板およびそれを用いた圧接構造部品

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP7-158206 1995-06-23
JP15820695 1995-06-23
JP7344234A JP2975882B2 (ja) 1995-06-23 1995-12-28 圧接用窒化けい素放熱板およびそれを用いた圧接構造部品

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP13487299A Division JP3226898B2 (ja) 1999-05-14 1999-05-14 圧接構造を有するサイリスタ用窒化けい素放熱板およびそれを用いたサイリスタ

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0969594A true JPH0969594A (ja) 1997-03-11
JP2975882B2 JP2975882B2 (ja) 1999-11-10

Family

ID=26485407

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP7344234A Expired - Lifetime JP2975882B2 (ja) 1995-06-23 1995-12-28 圧接用窒化けい素放熱板およびそれを用いた圧接構造部品

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2975882B2 (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000205276A (ja) * 1999-01-18 2000-07-25 Koyo Seiko Co Ltd 転がり軸受
US6613443B2 (en) 2000-10-27 2003-09-02 Kabushiki Kaisha Toshiba Silicon nitride ceramic substrate, silicon nitride ceramic circuit board using the substrate, and method of manufacturing the substrate
WO2015060274A1 (ja) * 2013-10-23 2015-04-30 株式会社東芝 窒化珪素基板およびそれを用いた窒化珪素回路基板

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01123352U (ja) * 1988-02-15 1989-08-22
JPH02180762A (ja) * 1988-12-13 1990-07-13 Showa Denko Kk 窒化アルミニウム焼結体の製造方法
JPH06135771A (ja) * 1992-09-08 1994-05-17 Toshiba Corp 高熱伝導性窒化けい素焼結体およびその製造方法
JPH0717768A (ja) * 1993-06-17 1995-01-20 Denki Kagaku Kogyo Kk 窒化ケイ素質セラミックス基板及びその用途
JPH0748174A (ja) * 1993-08-03 1995-02-21 Toshiba Corp 高熱伝導性窒化けい素焼結体およびその製造方法
JPH07149588A (ja) * 1993-11-26 1995-06-13 Toshiba Corp 高熱伝導性窒化けい素メタライズ基板,その製造方法および窒化けい素モジュール
JPH07187793A (ja) * 1993-12-27 1995-07-25 Toshiba Corp 高熱伝導性窒化けい素構造部材および半導体パッケージ

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01123352U (ja) * 1988-02-15 1989-08-22
JPH02180762A (ja) * 1988-12-13 1990-07-13 Showa Denko Kk 窒化アルミニウム焼結体の製造方法
JPH06135771A (ja) * 1992-09-08 1994-05-17 Toshiba Corp 高熱伝導性窒化けい素焼結体およびその製造方法
JPH0717768A (ja) * 1993-06-17 1995-01-20 Denki Kagaku Kogyo Kk 窒化ケイ素質セラミックス基板及びその用途
JPH0748174A (ja) * 1993-08-03 1995-02-21 Toshiba Corp 高熱伝導性窒化けい素焼結体およびその製造方法
JPH07149588A (ja) * 1993-11-26 1995-06-13 Toshiba Corp 高熱伝導性窒化けい素メタライズ基板,その製造方法および窒化けい素モジュール
JPH07187793A (ja) * 1993-12-27 1995-07-25 Toshiba Corp 高熱伝導性窒化けい素構造部材および半導体パッケージ

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000205276A (ja) * 1999-01-18 2000-07-25 Koyo Seiko Co Ltd 転がり軸受
US6613443B2 (en) 2000-10-27 2003-09-02 Kabushiki Kaisha Toshiba Silicon nitride ceramic substrate, silicon nitride ceramic circuit board using the substrate, and method of manufacturing the substrate
WO2015060274A1 (ja) * 2013-10-23 2015-04-30 株式会社東芝 窒化珪素基板およびそれを用いた窒化珪素回路基板
JPWO2015060274A1 (ja) * 2013-10-23 2017-03-09 株式会社東芝 窒化珪素基板およびそれを用いた窒化珪素回路基板
US9630846B2 (en) 2013-10-23 2017-04-25 Kabushiki Kaisha Toshiba Silicon nitride substrate and silicon nitride circuit board using the same
JP2017152707A (ja) * 2013-10-23 2017-08-31 株式会社東芝 圧接構造用窒化珪素基板およびそれを用いた窒化珪素回路基板
JP2017165647A (ja) * 2013-10-23 2017-09-21 株式会社東芝 窒化珪素基板およびそれを用いた窒化珪素回路基板
JP2017178776A (ja) * 2013-10-23 2017-10-05 株式会社東芝 窒化珪素基板およびそれを用いた窒化珪素回路基板
US9884762B2 (en) 2013-10-23 2018-02-06 Kabushiki Kaisha Toshiba Silicon nitride substrate and silicon nitride circuit board using the same
US10322934B2 (en) 2013-10-23 2019-06-18 Kabushiki Kaisha Toshiba Silicon nitride substrate and silicon nitride circuit board using the same

Also Published As

Publication number Publication date
JP2975882B2 (ja) 1999-11-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5928768A (en) Silicon nitride circuit board
KR0166406B1 (ko) 고열전도성 질화규소 소결체, 그 제조방법 및 압접구조체
JP2000034172A (ja) 高熱伝導性窒化けい素焼結体およびその製造方法
JPH01203270A (ja) 高熱伝導性窒化アルミニウム焼結体及びその製造法
JP2002201075A (ja) 窒化けい素セラミックス基板およびそれを用いた窒化けい素セラミックス回路基板並びにその製造方法
JP5039097B2 (ja) パワーモジュール
JPH0969672A (ja) 窒化けい素回路基板
JP3450570B2 (ja) 高熱伝導性窒化けい素回路基板
JP2772273B2 (ja) 窒化けい素回路基板
JP2975882B2 (ja) 圧接用窒化けい素放熱板およびそれを用いた圧接構造部品
JP4384101B2 (ja) 窒化けい素セラミックス基板およびそれを用いた窒化けい素セラミックス回路基板
JPH1093244A (ja) 多層窒化けい素回路基板
JP3226898B2 (ja) 圧接構造を有するサイリスタ用窒化けい素放熱板およびそれを用いたサイリスタ
JP2000351673A (ja) 高熱伝導窒化ケイ素質焼結体およびその製造方法
JP3561145B2 (ja) 窒化珪素質放熱部材及びその製造方法
JP2772274B2 (ja) 複合セラミックス基板
CN113614910A (zh) 氮化硅烧结体及其制造方法、以及层叠体及电力模组
JP5073135B2 (ja) 窒化アルミニウム焼結体、その製造方法及び用途
JP2677748B2 (ja) セラミックス銅回路基板
JP2742600B2 (ja) 窒化アルミニウム質焼結体およびその製造方法
JP2578114B2 (ja) 高熱伝導性窒化アルミニウム焼結体の製造方法
JP2967065B2 (ja) 半導体モジュール
JP4221006B2 (ja) 窒化けい素セラミックス回路基板
JP2001010864A (ja) 高熱伝導窒化ケイ素質焼結体
JPH057349B2 (ja)

Legal Events

Date Code Title Description
FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20070903

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080903

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080903

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090903

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090903

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100903

Year of fee payment: 11

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100903

Year of fee payment: 11

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110903

Year of fee payment: 12

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120903

Year of fee payment: 13

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120903

Year of fee payment: 13

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130903

Year of fee payment: 14

EXPY Cancellation because of completion of term