JPH0967310A - α−ヒドロキシアルキルアクリレート類の精製方法 - Google Patents
α−ヒドロキシアルキルアクリレート類の精製方法Info
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- JPH0967310A JPH0967310A JP22390495A JP22390495A JPH0967310A JP H0967310 A JPH0967310 A JP H0967310A JP 22390495 A JP22390495 A JP 22390495A JP 22390495 A JP22390495 A JP 22390495A JP H0967310 A JPH0967310 A JP H0967310A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 アセタール化合物を不純物として含む粗α−
ヒドロキシアルキルアクリレート（ＲＨＭＡ）類を、高
純度、かつ、工業的に安価に精製する方法を提供する。 【解決手段】 上記の粗ＲＨＭＡ類を熱処理した後で精
製処理する。これにより、上記のアセタール化合物は、
ＲＨＭＡより高沸点の化合物に変化する。このため、上
記粗ＲＨＭＡを熱処理した後で精製処理することによ
り、不純物をＲＨＭＡから容易に分離することができ
る。これにより、アセタール化合物を不純物として含む
粗ＲＨＭＡを、高純度、かつ、工業的に安価に精製する
ことができる。
ヒドロキシアルキルアクリレート（ＲＨＭＡ）類を、高
純度、かつ、工業的に安価に精製する方法を提供する。 【解決手段】 上記の粗ＲＨＭＡ類を熱処理した後で精
製処理する。これにより、上記のアセタール化合物は、
ＲＨＭＡより高沸点の化合物に変化する。このため、上
記粗ＲＨＭＡを熱処理した後で精製処理することによ
り、不純物をＲＨＭＡから容易に分離することができ
る。これにより、アセタール化合物を不純物として含む
粗ＲＨＭＡを、高純度、かつ、工業的に安価に精製する
ことができる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、α−ヒドロキシア
ルキルアクリレート類の精製方法に関するものであり、
特に、アセタール化合物を不純物として含むα−ヒドロ
キシアルキルアクリレート類の精製方法に関するもので
ある。
ルキルアクリレート類の精製方法に関するものであり、
特に、アセタール化合物を不純物として含むα−ヒドロ
キシアルキルアクリレート類の精製方法に関するもので
ある。
【０００２】
【従来の技術】一般的に、アクリレート化合物とアルデ
ヒド化合物とを反応させることによって得られる粗α−
ヒドロキシアルキルアクリレート類は、目的物であるα
−ヒドロキシアルキルアクリレート類との沸点差が小さ
いアセタール化合物を不純物として含んでいる。しかし
ながら、上記の不純物は、目的物との沸点差が小さいた
め、蒸留により精留しても分離効率が悪く、高純度の目
的物を得ようとすると、収率が著しく低下する。
ヒド化合物とを反応させることによって得られる粗α−
ヒドロキシアルキルアクリレート類は、目的物であるα
−ヒドロキシアルキルアクリレート類との沸点差が小さ
いアセタール化合物を不純物として含んでいる。しかし
ながら、上記の不純物は、目的物との沸点差が小さいた
め、蒸留により精留しても分離効率が悪く、高純度の目
的物を得ようとすると、収率が著しく低下する。
【０００３】そこで、このような粗α−ヒドロキシアル
キルアクリレート類の精製方法として、特開平５−７０
４０８号公報には、上記粗α−ヒドロキシアルキルアク
リレート類を水に溶解した後、石油エーテルあるいはｎ
−ヘキサンを用いて、不純物を抽出除去する方法が開示
されている。
キルアクリレート類の精製方法として、特開平５−７０
４０８号公報には、上記粗α−ヒドロキシアルキルアク
リレート類を水に溶解した後、石油エーテルあるいはｎ
−ヘキサンを用いて、不純物を抽出除去する方法が開示
されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
精製方法を用いても、目的物の収率と純度とを共に満足
させることは困難である。つまり、製品純度を満足させ
るためには、精製による目的物の損失が多くなり、一
方、目的物の損失を少なくするためには、製品純度が満
足できるものではなくなる。さらに、上記の精製方法
は、精製に使用する水や溶媒の除去に多大の労力を必要
とするという問題点を有している。
精製方法を用いても、目的物の収率と純度とを共に満足
させることは困難である。つまり、製品純度を満足させ
るためには、精製による目的物の損失が多くなり、一
方、目的物の損失を少なくするためには、製品純度が満
足できるものではなくなる。さらに、上記の精製方法
は、精製に使用する水や溶媒の除去に多大の労力を必要
とするという問題点を有している。
【０００５】これらの問題点から、上記の精製方法は、
生産性および品質の面から工業的製法として好ましい方
法とは言い難い。このため、アセタール化合物を不純物
として含む粗α−ヒドロキシアルキルアクリレート類
を、高純度、かつ、工業的に安価に精製する方法が求め
られている。即ち、本発明の目的は、アセタール化合物
を不純物として含む粗α−ヒドロキシアルキルアクリレ
ート類を、高純度、かつ、工業的に安価に精製する方法
を提供することにある。
生産性および品質の面から工業的製法として好ましい方
法とは言い難い。このため、アセタール化合物を不純物
として含む粗α−ヒドロキシアルキルアクリレート類
を、高純度、かつ、工業的に安価に精製する方法が求め
られている。即ち、本発明の目的は、アセタール化合物
を不純物として含む粗α−ヒドロキシアルキルアクリレ
ート類を、高純度、かつ、工業的に安価に精製する方法
を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本願発明者らは、上記従
来の問題点を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、アセタ
ール化合物を不純物として含む粗α−ヒドロキシアルキ
ルアクリレート類を熱処理した後で精製処理することに
より、所望するα−ヒドロキシアルキルアクリレート類
を、高純度、かつ、工業的に安価に精製することができ
ることを見出し、本発明を完成させるに至った。
来の問題点を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、アセタ
ール化合物を不純物として含む粗α−ヒドロキシアルキ
ルアクリレート類を熱処理した後で精製処理することに
より、所望するα−ヒドロキシアルキルアクリレート類
を、高純度、かつ、工業的に安価に精製することができ
ることを見出し、本発明を完成させるに至った。
【０００７】即ち、請求項１記載の発明のα−ヒドロキ
シアルキルアクリレート類の精製方法は、上記の課題を
解決するために、アセタール化合物を不純物として含む
粗α−ヒドロキシアルキルアクリレート類を精製するに
際し、該粗α−ヒドロキシアルキルアクリレート類を熱
処理した後で精製処理することを特徴としている。
シアルキルアクリレート類の精製方法は、上記の課題を
解決するために、アセタール化合物を不純物として含む
粗α−ヒドロキシアルキルアクリレート類を精製するに
際し、該粗α−ヒドロキシアルキルアクリレート類を熱
処理した後で精製処理することを特徴としている。
【０００８】請求項２記載の発明のα−ヒドロキシアル
キルアクリレート類の精製方法は、上記の課題を解決す
るために、請求項１記載の発明のα−ヒドロキシアルキ
ルアクリレート類の精製方法において、上記熱処理が20
℃〜 150℃の範囲内で行われることを特徴としている。
キルアクリレート類の精製方法は、上記の課題を解決す
るために、請求項１記載の発明のα−ヒドロキシアルキ
ルアクリレート類の精製方法において、上記熱処理が20
℃〜 150℃の範囲内で行われることを特徴としている。
【０００９】請求項３記載の発明のα−ヒドロキシアル
キルアクリレート類の精製方法は、上記の課題を解決す
るために、請求項１または２記載の発明のα−ヒドロキ
シアルキルアクリレート類の精製方法において、上記熱
処理が酸の共存下で行われることを特徴としている。
キルアクリレート類の精製方法は、上記の課題を解決す
るために、請求項１または２記載の発明のα−ヒドロキ
シアルキルアクリレート類の精製方法において、上記熱
処理が酸の共存下で行われることを特徴としている。
【００１０】請求項４記載の発明のα−ヒドロキシアル
キルアクリレート類の精製方法は、上記の課題を解決す
るために、請求項１または２記載の発明のα−ヒドロキ
シアルキルアクリレート類の精製方法において、上記熱
処理がアルカリの共存下で行われることを特徴としてい
る。
キルアクリレート類の精製方法は、上記の課題を解決す
るために、請求項１または２記載の発明のα−ヒドロキ
シアルキルアクリレート類の精製方法において、上記熱
処理がアルカリの共存下で行われることを特徴としてい
る。
【００１１】請求項５記載の発明のα−ヒドロキシアル
キルアクリレート類の精製方法は、上記の課題を解決す
るために、請求項１〜４の何れか１項に記載の発明のα
−ヒドロキシアルキルアクリレート類の精製方法におい
て、上記精製処理が蒸留精製であることを特徴としてい
る。
キルアクリレート類の精製方法は、上記の課題を解決す
るために、請求項１〜４の何れか１項に記載の発明のα
−ヒドロキシアルキルアクリレート類の精製方法におい
て、上記精製処理が蒸留精製であることを特徴としてい
る。
【００１２】上記の構成によれば、目的物であるα−ヒ
ドロキシアルキルアクリレート類と沸点差の小さい化合
物であるアセタール化合物を不純物として含む粗α−ヒ
ドロキシアルキルアクリレート類を熱処理した後で精製
処理することで、上記の粗α−ヒドロキシアルキルアク
リレート類を高純度、かつ、工業的に安価に精製するこ
とができる。このとき、粗α−ヒドロキシアルキルアク
リレート類を20℃〜 150℃の範囲内で熱処理すること
で、高品質のα−ヒドロキシアルキルアクリレート類を
高い収率で容易に得ることができる。また、この熱処理
において酸またはアルカリを共存させることにより、α
−ヒドロキシアルキルアクリレート類の損失を抑え、短
い熱処理時間で、著しく処理効率を高めることができ
る。
ドロキシアルキルアクリレート類と沸点差の小さい化合
物であるアセタール化合物を不純物として含む粗α−ヒ
ドロキシアルキルアクリレート類を熱処理した後で精製
処理することで、上記の粗α−ヒドロキシアルキルアク
リレート類を高純度、かつ、工業的に安価に精製するこ
とができる。このとき、粗α−ヒドロキシアルキルアク
リレート類を20℃〜 150℃の範囲内で熱処理すること
で、高品質のα−ヒドロキシアルキルアクリレート類を
高い収率で容易に得ることができる。また、この熱処理
において酸またはアルカリを共存させることにより、α
−ヒドロキシアルキルアクリレート類の損失を抑え、短
い熱処理時間で、著しく処理効率を高めることができ
る。
【００１３】
【発明の実施の形態】以下に本発明の実施の一形態につ
いて詳しく説明する。本発明にかかるα−ヒドロキシア
ルキルアクリレート（以下、ＲＨＭＡと記す）類は、一
般式（１）
いて詳しく説明する。本発明にかかるα−ヒドロキシア
ルキルアクリレート（以下、ＲＨＭＡと記す）類は、一
般式（１）
【００１４】
【化１】
【００１５】（式中、Ｘは炭素数１〜８のヒドロキシア
ルキル基を表し、Ｙは水素原子または有機残基を表す）
で示される化合物であり、相当するアクリレート化合物
とアルデヒド化合物とから合成される。
ルキル基を表し、Ｙは水素原子または有機残基を表す）
で示される化合物であり、相当するアクリレート化合物
とアルデヒド化合物とから合成される。
【００１６】上記一般式（１）で示されるＲＨＭＡ類
は、式中、Ｘで示される置換基が炭素数１〜８のヒドロ
キシアルキル基で構成され、かつ、上記Ｙで示される置
換基が水素原子または有機残基である化合物である。
は、式中、Ｘで示される置換基が炭素数１〜８のヒドロ
キシアルキル基で構成され、かつ、上記Ｙで示される置
換基が水素原子または有機残基である化合物である。
【００１７】上記Ｙで示される置換基とは、具体的に
は、水素原子、炭素数１〜18のアルキル基、炭素数３〜
10のシクロアルキル基、アリール基、炭素数１〜８のヒ
ドロキシアルキル基、− (ＣＨ2)m ＮＲ1 Ｒ2 基、−
(ＣＨ2)m Ｎ+ Ｒ1 Ｒ2 Ｒ3 ・Ｍ- 基、または− (Ｃ2
Ｈ4 Ｏ) n Ｒ4 基を示す。さらに、上記Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ
3で示される置換基は、それぞれ独立して炭素数１〜８
の直鎖状または枝分かれ鎖状のアルキル基を表し、ｍ
は、２〜５の整数であり、Ｍ- で示される陰イオンは、
Ｃｌ- 、Ｂｒ- 、ＣＨ3 ＣＯＯ- 、ＨＣＯＯ- 、ＳＯ4
2- 、またはＰＯ4 3- を表す。また、上記Ｒ4 で示され
る置換基は、炭素数１〜18の直鎖状または枝分かれ鎖状
のアルキル基を表し、ｎは、１〜80の整数である。
は、水素原子、炭素数１〜18のアルキル基、炭素数３〜
10のシクロアルキル基、アリール基、炭素数１〜８のヒ
ドロキシアルキル基、− (ＣＨ2)m ＮＲ1 Ｒ2 基、−
(ＣＨ2)m Ｎ+ Ｒ1 Ｒ2 Ｒ3 ・Ｍ- 基、または− (Ｃ2
Ｈ4 Ｏ) n Ｒ4 基を示す。さらに、上記Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ
3で示される置換基は、それぞれ独立して炭素数１〜８
の直鎖状または枝分かれ鎖状のアルキル基を表し、ｍ
は、２〜５の整数であり、Ｍ- で示される陰イオンは、
Ｃｌ- 、Ｂｒ- 、ＣＨ3 ＣＯＯ- 、ＨＣＯＯ- 、ＳＯ4
2- 、またはＰＯ4 3- を表す。また、上記Ｒ4 で示され
る置換基は、炭素数１〜18の直鎖状または枝分かれ鎖状
のアルキル基を表し、ｎは、１〜80の整数である。
【００１８】上記のＲＨＭＡ類としては、具体的には、
（ａ）Ｙで示される置換基が水素原子である、例えば、
α−ヒドロキシメチルアクリル酸、α−（１−ヒドロキ
シエチル）アクリル酸、α−（１−ヒドロキシブチル）
アクリル酸、α−（１−ヒドロキシ−２−エチルヘキシ
ル）アクリル酸等； （ｂ）Ｙで示される置換基が炭素数１〜18のアルキル基
である、例えば、メチル−α−ヒドロキシメチルアクリ
レート、メチル−α−（１−ヒドロキシエチル）アクリ
レート、メチル−α−（１−ヒドロキシブチル）アクリ
レート、メチル−α−（１−ヒドロキシ−２−エチルヘ
キシル）アクリレート、エチル−α−ヒドロキシメチル
アクリレート、エチル−α−（１−ヒドロキシエチル）
アクリレート、エチル−α−（１−ヒドロキシブチル）
アクリレート、エチル−α−（１−ヒドロキシ−２−エ
チルヘキシル）アクリレート、ｎ−プロピル−α−ヒド
ロキシメチルアクリレート、ｎ−プロピル−α−（１−
ヒドロキシエチル）アクリレート、ｎ−プロピル−α−
（１−ヒドロキシブチル）アクリレート、ｎ−プロピル
−α−（１−ヒドロキシ−２−エチルヘキシル）アクリ
レート、イソプロピル−α−ヒドロキシメチルアクリレ
ート、イソプロピル−α−（１−ヒドロキシエチル）ア
クリレート、イソプロピル−α−（１−ヒドロキシブチ
ル）アクリレート、イソプロピル−α−（１−ヒドロキ
シ−２−エチルヘキシル）アクリレート、ｎ−ブチル−
α−ヒドロキシメチルアクリレート、イソブチル−α−
ヒドロキシメチルアクリレート、tert−ブチル−α−ヒ
ドロキシメチルアクリレート、ｎ−オクチル−α−ヒド
ロキシメチルアクリレート、イソオクチル−α−ヒドロ
キシメチルアクリレート、２−エチルヘキシル−α−ヒ
ドロキシメチルアクリレート、ステアリル−α−ヒドロ
キシメチルアクリレート等； （ｃ）Ｙで示される置換基が炭素数３〜10のシクロアル
キル基である、例えば、シクロペンチル−α−ヒドロキ
シメチルアクリレート、シクロペンチル−α−（１−ヒ
ドロキシエチル）アクリレート、シクロペンチル−α−
（１−ヒドロキシブチル）アクリレート、シクロペンチ
ル−α−（１−ヒドロキシ−２−エチルヘキシル）アク
リレート、シクロヘキシル−α−ヒドロキシメチルアク
リレート等； （ｄ）Ｙで示される置換基がアリール基である、例え
ば、フェニル−α−ヒドロキシメチルアクリレート、フ
ェニル−α−（１−ヒドロキシエチル）アクリレート、
フェニル−α−（１−ヒドロキシブチル）アクリレー
ト、フェニル−α−（１−ヒドロキシ−２−エチルヘキ
シル）アクリレート、ｏ−メトキシフェニル−α−ヒド
ロキシメチルアクリレート、ｐ−メトキシフェニル−α
−ヒドロキシメチルアクリレート、ｐ−ニトロフェニル
−α−ヒドロキシメチルアクリレート、ｏ−メチルフェ
ニル−α−ヒドロキシメチルアクリレート、ｐ−メチル
フェニル−α−ヒドロキシメチルアクリレート、ｐ−te
rt−ブチルフェニル−α−ヒドロキシメチルアクリレー
ト等； （ｅ）Ｙで示される置換基が炭素数１〜８のヒドロキシ
アルキル基である、例えば、２−ヒドロキシエチル−α
−ヒドロキシメチルアクリレート、２−ヒドロキシエチ
ル−α−（１−ヒドロキシエチル）アクリレート、２−
ヒドロキシエチル−α−（１−ヒドロキシブチル）アク
リレート、２−ヒドロキシエチル−α−（１−ヒドロキ
シ−２−エチルヘキシル）アクリレート、２−ヒドロキ
シプロピル−α−ヒドロキシメチルアクリレート、３−
ヒドロキシプロピル−α−ヒドロキシメチルアクリレー
ト、４−ヒドロキシブチル−α−ヒドロキシメチルアク
リレート等； （ｆ）Ｙで示される置換基が− (ＣＨ2)m ＮＲ1 Ｒ2 基
である、例えば、N,N −ジメチルアミノエチル−α−ヒ
ドロキシメチルアクリレート、N,N −ジメチルアミノエ
チル−α−（１−ヒドロキシエチル）アクリレート、N,
N −ジメチルアミノブチル−α−ヒドロキシメチルアク
リレート、N,N −ジメチルアミノエチル−α−（１−ヒ
ドロキシ−２−エチルヘキシル）アクリレート、N,N −
ジエチルアミノエチル−α−ヒドロキシメチルアクリレ
ート、N,N −ジメチルアミノプロピル−α−ヒドロキシ
メチルアクリレート、N,N −ジエチルアミノプロピル−
α−ヒドロキシメチルアクリレート、N,N −ジメチルア
ミノブチル−α−ヒドロキシメチルアクリレート、N,N
−ジエチルアミノブチル−α−ヒドロキシメチルアクリ
レート、N,N −ジメチルアミノネオペンチル−α−ヒド
ロキシメチルアクリレート、N,N −ジエチルアミノネオ
ペンチル−α−ヒドロキシメチルアクリレート等； （ｇ）Ｙで示される置換基が− (ＣＨ2)m Ｎ+ Ｒ1 Ｒ2
Ｒ3 ・Ｍ- 基である、例えば、中和または四級化された
N,N −ジアルキルアミノアルキル−α−ヒドロキシメチ
ルアクリレート等； （ｈ）Ｙで示される置換基が− (Ｃ2 Ｈ4 Ｏ) n Ｒ4 基
である、例えば、メトキシエチル−α−ヒドロキシメチ
ルアクリレート、メトキシエチル−α−（１−ヒドロキ
シエチル）アクリレート、メトキシエチル−α−（１−
ヒドロキシブチル）アクリレート、メトキシエチル−α
−（１−ヒドロキシ−２−エチルヘキシル）アクリレー
ト、エトキシエチル−α−ヒドロキシメチルアクリレー
ト、ラウリルオキシトリオキシエチル−α−ヒドロキシ
メチルアクリレート、ｎが１〜80、好ましくは３〜30の
メトキシポリオキシエチレン−α−ヒドロキシメチルア
クリレート等が挙げられる。
（ａ）Ｙで示される置換基が水素原子である、例えば、
α−ヒドロキシメチルアクリル酸、α−（１−ヒドロキ
シエチル）アクリル酸、α−（１−ヒドロキシブチル）
アクリル酸、α−（１−ヒドロキシ−２−エチルヘキシ
ル）アクリル酸等； （ｂ）Ｙで示される置換基が炭素数１〜18のアルキル基
である、例えば、メチル−α−ヒドロキシメチルアクリ
レート、メチル−α−（１−ヒドロキシエチル）アクリ
レート、メチル−α−（１−ヒドロキシブチル）アクリ
レート、メチル−α−（１−ヒドロキシ−２−エチルヘ
キシル）アクリレート、エチル−α−ヒドロキシメチル
アクリレート、エチル−α−（１−ヒドロキシエチル）
アクリレート、エチル−α−（１−ヒドロキシブチル）
アクリレート、エチル−α−（１−ヒドロキシ−２−エ
チルヘキシル）アクリレート、ｎ−プロピル−α−ヒド
ロキシメチルアクリレート、ｎ−プロピル−α−（１−
ヒドロキシエチル）アクリレート、ｎ−プロピル−α−
（１−ヒドロキシブチル）アクリレート、ｎ−プロピル
−α−（１−ヒドロキシ−２−エチルヘキシル）アクリ
レート、イソプロピル−α−ヒドロキシメチルアクリレ
ート、イソプロピル−α−（１−ヒドロキシエチル）ア
クリレート、イソプロピル−α−（１−ヒドロキシブチ
ル）アクリレート、イソプロピル−α−（１−ヒドロキ
シ−２−エチルヘキシル）アクリレート、ｎ−ブチル−
α−ヒドロキシメチルアクリレート、イソブチル−α−
ヒドロキシメチルアクリレート、tert−ブチル−α−ヒ
ドロキシメチルアクリレート、ｎ−オクチル−α−ヒド
ロキシメチルアクリレート、イソオクチル−α−ヒドロ
キシメチルアクリレート、２−エチルヘキシル−α−ヒ
ドロキシメチルアクリレート、ステアリル−α−ヒドロ
キシメチルアクリレート等； （ｃ）Ｙで示される置換基が炭素数３〜10のシクロアル
キル基である、例えば、シクロペンチル−α−ヒドロキ
シメチルアクリレート、シクロペンチル−α−（１−ヒ
ドロキシエチル）アクリレート、シクロペンチル−α−
（１−ヒドロキシブチル）アクリレート、シクロペンチ
ル−α−（１−ヒドロキシ−２−エチルヘキシル）アク
リレート、シクロヘキシル−α−ヒドロキシメチルアク
リレート等； （ｄ）Ｙで示される置換基がアリール基である、例え
ば、フェニル−α−ヒドロキシメチルアクリレート、フ
ェニル−α−（１−ヒドロキシエチル）アクリレート、
フェニル−α−（１−ヒドロキシブチル）アクリレー
ト、フェニル−α−（１−ヒドロキシ−２−エチルヘキ
シル）アクリレート、ｏ−メトキシフェニル−α−ヒド
ロキシメチルアクリレート、ｐ−メトキシフェニル−α
−ヒドロキシメチルアクリレート、ｐ−ニトロフェニル
−α−ヒドロキシメチルアクリレート、ｏ−メチルフェ
ニル−α−ヒドロキシメチルアクリレート、ｐ−メチル
フェニル−α−ヒドロキシメチルアクリレート、ｐ−te
rt−ブチルフェニル−α−ヒドロキシメチルアクリレー
ト等； （ｅ）Ｙで示される置換基が炭素数１〜８のヒドロキシ
アルキル基である、例えば、２−ヒドロキシエチル−α
−ヒドロキシメチルアクリレート、２−ヒドロキシエチ
ル−α−（１−ヒドロキシエチル）アクリレート、２−
ヒドロキシエチル−α−（１−ヒドロキシブチル）アク
リレート、２−ヒドロキシエチル−α−（１−ヒドロキ
シ−２−エチルヘキシル）アクリレート、２−ヒドロキ
シプロピル−α−ヒドロキシメチルアクリレート、３−
ヒドロキシプロピル−α−ヒドロキシメチルアクリレー
ト、４−ヒドロキシブチル−α−ヒドロキシメチルアク
リレート等； （ｆ）Ｙで示される置換基が− (ＣＨ2)m ＮＲ1 Ｒ2 基
である、例えば、N,N −ジメチルアミノエチル−α−ヒ
ドロキシメチルアクリレート、N,N −ジメチルアミノエ
チル−α−（１−ヒドロキシエチル）アクリレート、N,
N −ジメチルアミノブチル−α−ヒドロキシメチルアク
リレート、N,N −ジメチルアミノエチル−α−（１−ヒ
ドロキシ−２−エチルヘキシル）アクリレート、N,N −
ジエチルアミノエチル−α−ヒドロキシメチルアクリレ
ート、N,N −ジメチルアミノプロピル−α−ヒドロキシ
メチルアクリレート、N,N −ジエチルアミノプロピル−
α−ヒドロキシメチルアクリレート、N,N −ジメチルア
ミノブチル−α−ヒドロキシメチルアクリレート、N,N
−ジエチルアミノブチル−α−ヒドロキシメチルアクリ
レート、N,N −ジメチルアミノネオペンチル−α−ヒド
ロキシメチルアクリレート、N,N −ジエチルアミノネオ
ペンチル−α−ヒドロキシメチルアクリレート等； （ｇ）Ｙで示される置換基が− (ＣＨ2)m Ｎ+ Ｒ1 Ｒ2
Ｒ3 ・Ｍ- 基である、例えば、中和または四級化された
N,N −ジアルキルアミノアルキル−α−ヒドロキシメチ
ルアクリレート等； （ｈ）Ｙで示される置換基が− (Ｃ2 Ｈ4 Ｏ) n Ｒ4 基
である、例えば、メトキシエチル−α−ヒドロキシメチ
ルアクリレート、メトキシエチル−α−（１−ヒドロキ
シエチル）アクリレート、メトキシエチル−α−（１−
ヒドロキシブチル）アクリレート、メトキシエチル−α
−（１−ヒドロキシ−２−エチルヘキシル）アクリレー
ト、エトキシエチル−α−ヒドロキシメチルアクリレー
ト、ラウリルオキシトリオキシエチル−α−ヒドロキシ
メチルアクリレート、ｎが１〜80、好ましくは３〜30の
メトキシポリオキシエチレン−α−ヒドロキシメチルア
クリレート等が挙げられる。
【００１９】これらＲＨＭＡ類のうち、メチル−α−ヒ
ドロキシメチルアクリレート、エチル−α−ヒドロキシ
メチルアクリレート、ｎ−ブチル−α−ヒドロキシメチ
ルアクリレート、２−エチルヘキシル−α−ヒドロキシ
メチルアクリレート、２−ヒドロキシエチル−α−ヒド
ロキシメチルアクリレートおよび２−ヒドロキシプロピ
ル−α−ヒドロキシメチルアクリレートが特に好適に使
用される。
ドロキシメチルアクリレート、エチル−α−ヒドロキシ
メチルアクリレート、ｎ−ブチル−α−ヒドロキシメチ
ルアクリレート、２−エチルヘキシル−α−ヒドロキシ
メチルアクリレート、２−ヒドロキシエチル−α−ヒド
ロキシメチルアクリレートおよび２−ヒドロキシプロピ
ル−α−ヒドロキシメチルアクリレートが特に好適に使
用される。
【００２０】本発明によれば、アクリレート化合物とア
ルデヒド化合物とから得られた粗ＲＨＭＡ類、即ち、精
製前のＲＨＭＡ類を還流することによって熱処理した
後、精製処理することにより、高純度のＲＨＭＡ類を安
価に得ることができる。一般的に、アクリレート化合物
とアルデヒド化合物とを反応させることによって得られ
た粗ＲＨＭＡ類には、微量ではあるが、副生成物が複数
含まれている。そして、その副生成物のうちいくつか
は、目的物であるＲＨＭＡ類との沸点差が小さい不純物
である。
ルデヒド化合物とから得られた粗ＲＨＭＡ類、即ち、精
製前のＲＨＭＡ類を還流することによって熱処理した
後、精製処理することにより、高純度のＲＨＭＡ類を安
価に得ることができる。一般的に、アクリレート化合物
とアルデヒド化合物とを反応させることによって得られ
た粗ＲＨＭＡ類には、微量ではあるが、副生成物が複数
含まれている。そして、その副生成物のうちいくつか
は、目的物であるＲＨＭＡ類との沸点差が小さい不純物
である。
【００２１】本発明において熱処理される上記不純物、
即ち、目的物であるＲＨＭＡ類との沸点差が小さい不純
物とは、粗ＲＨＭＡ類に含まれるアセタール化合物であ
る。上記アセタール化合物としては、例えば、エチル-
α- ヒドロキシメチルアクリレートの場合を例に挙げる
と、エチル−α−エトキシメトキシメチルアクリレート
等が挙げられる。
即ち、目的物であるＲＨＭＡ類との沸点差が小さい不純
物とは、粗ＲＨＭＡ類に含まれるアセタール化合物であ
る。上記アセタール化合物としては、例えば、エチル-
α- ヒドロキシメチルアクリレートの場合を例に挙げる
と、エチル−α−エトキシメトキシメチルアクリレート
等が挙げられる。
【００２２】上記のアセタール化合物は、目的物である
ＲＨＭＡ類との沸点差が小さいため、そのままでは蒸留
による分離は困難である。しかし、本願発明者等が鋭意
検討を重ねた結果、上記のアセタール化合物は、熱処理
により、容易にＲＨＭＡ類より高沸点の化合物に変化す
ることが判った。
ＲＨＭＡ類との沸点差が小さいため、そのままでは蒸留
による分離は困難である。しかし、本願発明者等が鋭意
検討を重ねた結果、上記のアセタール化合物は、熱処理
により、容易にＲＨＭＡ類より高沸点の化合物に変化す
ることが判った。
【００２３】
【化２】
【００２４】また、この熱処理において酸またはアルカ
リを共存させることにより、著しく処理効率を高めるこ
とができる。そして、この高沸点物は、粗ＲＨＭＡ類を
蒸留精製することで、容易に分離することができる。
リを共存させることにより、著しく処理効率を高めるこ
とができる。そして、この高沸点物は、粗ＲＨＭＡ類を
蒸留精製することで、容易に分離することができる。
【００２５】上記粗ＲＨＭＡ類を熱処理する際の熱処理
温度は、粗ＲＨＭＡ類中のアセタール化合物が高沸点の
化合物に変化する温度であれば、特に限定されるもので
はないが、20℃〜 150℃の範囲内が好ましく、粗ＲＨＭ
Ａ類中のアセタール化合物を効率的に処理するために
は、50℃〜 100℃の範囲内がさらに好ましい。上記熱処
理温度が20℃よりも低い場合には、高純度のＲＨＭＡ類
を高収率で得ることができなくなるので好ましくない。
また、上記のＲＨＭＡ類は、分子中にビニル基等を含有
しているので、重合し易い性質を有している。このた
め、上記熱処理温度が 150℃よりも高い場合には、前記
した重合を抑制することができなくなるので好ましくな
い。
温度は、粗ＲＨＭＡ類中のアセタール化合物が高沸点の
化合物に変化する温度であれば、特に限定されるもので
はないが、20℃〜 150℃の範囲内が好ましく、粗ＲＨＭ
Ａ類中のアセタール化合物を効率的に処理するために
は、50℃〜 100℃の範囲内がさらに好ましい。上記熱処
理温度が20℃よりも低い場合には、高純度のＲＨＭＡ類
を高収率で得ることができなくなるので好ましくない。
また、上記のＲＨＭＡ類は、分子中にビニル基等を含有
しているので、重合し易い性質を有している。このた
め、上記熱処理温度が 150℃よりも高い場合には、前記
した重合を抑制することができなくなるので好ましくな
い。
【００２６】上記粗ＲＨＭＡ類を熱処理する際の熱処理
時間は、熱処理温度、酸またはアルカリの種類や使用量
に応じて適宜設定すればよく、特に限定されるものでは
ないが、通常、0.5 時間〜５時間の範囲内である。
時間は、熱処理温度、酸またはアルカリの種類や使用量
に応じて適宜設定すればよく、特に限定されるものでは
ないが、通常、0.5 時間〜５時間の範囲内である。
【００２７】本発明で使用される上記の酸としては、特
に限定されるものではないが、具体的には、例えば、硫
酸、塩酸、硝酸、リン酸等の無機酸およびその部分中和
塩；シュウ酸、酢酸、（メタ）アクリル酸、（無水）マ
レイン酸、フマル酸、（無水）フタル酸、コハク酸、ク
エン酸、メタンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸等
の有機酸；タングストリン酸、モリブトリン酸、タング
ストケイ酸、モリブトケイ酸等のヘテロポリ酸およびそ
の部分中和塩；フッ化ホウ素、塩化ホウ素、塩化アルミ
ニウム、二塩化錫、四塩化錫等のルイス酸が挙げられ
る。これら酸のなかでも、特に硫酸、リン酸およびｐ−
トルエンスルホン酸が好適に使用される。
に限定されるものではないが、具体的には、例えば、硫
酸、塩酸、硝酸、リン酸等の無機酸およびその部分中和
塩；シュウ酸、酢酸、（メタ）アクリル酸、（無水）マ
レイン酸、フマル酸、（無水）フタル酸、コハク酸、ク
エン酸、メタンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸等
の有機酸；タングストリン酸、モリブトリン酸、タング
ストケイ酸、モリブトケイ酸等のヘテロポリ酸およびそ
の部分中和塩；フッ化ホウ素、塩化ホウ素、塩化アルミ
ニウム、二塩化錫、四塩化錫等のルイス酸が挙げられ
る。これら酸のなかでも、特に硫酸、リン酸およびｐ−
トルエンスルホン酸が好適に使用される。
【００２８】また、本発明で使用される上記のアルカリ
としては、特に限定されるものではないが、具体的に
は、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸
化カルシウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸カ
ルシウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等が
挙げられる。
としては、特に限定されるものではないが、具体的に
は、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸
化カルシウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸カ
ルシウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等が
挙げられる。
【００２９】熱処理に際して、上記の酸またはアルカリ
を添加することにより、ＲＨＭＡ類の損失を抑え、短い
熱処理時間で、上記ＲＨＭＡ類と沸点差の小さい不純物
を高沸点の化合物とすることができる。尚、使用する酸
またはアルカリの形態としては、特に限定されるもので
はなく、固体状でも液体状でもよい。
を添加することにより、ＲＨＭＡ類の損失を抑え、短い
熱処理時間で、上記ＲＨＭＡ類と沸点差の小さい不純物
を高沸点の化合物とすることができる。尚、使用する酸
またはアルカリの形態としては、特に限定されるもので
はなく、固体状でも液体状でもよい。
【００３０】上記の酸またはアルカリの添加量は、粗Ｒ
ＨＭＡ類の重量に対して、0.01重量％〜 100重量％の範
囲内が好ましく、 0.5重量％〜30重量％の範囲内がさら
に好ましく、１重量％〜10重量％の範囲内が特に好まし
い。上記の酸またはアルカリは、熱処理後、中和してか
ら粗ＲＨＭＡ類を蒸留してもよいし、中和せずに、その
まま粗ＲＨＭＡ類を蒸留してもよい。
ＨＭＡ類の重量に対して、0.01重量％〜 100重量％の範
囲内が好ましく、 0.5重量％〜30重量％の範囲内がさら
に好ましく、１重量％〜10重量％の範囲内が特に好まし
い。上記の酸またはアルカリは、熱処理後、中和してか
ら粗ＲＨＭＡ類を蒸留してもよいし、中和せずに、その
まま粗ＲＨＭＡ類を蒸留してもよい。
【００３１】また、上記のＲＨＭＡ類は高い重合性を有
することから、粗ＲＨＭＡ類を熱処理する際には、ＲＨ
ＭＡ類の重合を抑制するために、処理系に重合禁止剤や
分子状酸素を添加することが好ましい。
することから、粗ＲＨＭＡ類を熱処理する際には、ＲＨ
ＭＡ類の重合を抑制するために、処理系に重合禁止剤や
分子状酸素を添加することが好ましい。
【００３２】重合禁止剤としては、具体的には、例え
ば、ハイドロキノン、メチルハイドロキノン、tert−ブ
チルハイドロキノン、 2,4−ジ−tert−ブチルハイドロ
キノン、 2,4−ジメチルハイドロキノン等のキノン類；
フェノチアジンなどのアミン化合物； 2,4−ジメチル−
６−tert−ブチルフェノール、 2,4−ジ−tert−ブチル
フェノール、ｐ−メトキシフェノール等のフェノール類
等が挙げられるが、特に限定されるものではない。これ
ら重合禁止剤は、一種類のみを用いてもよいし、二種類
以上を適宜混合して用いてもよい。
ば、ハイドロキノン、メチルハイドロキノン、tert−ブ
チルハイドロキノン、 2,4−ジ−tert−ブチルハイドロ
キノン、 2,4−ジメチルハイドロキノン等のキノン類；
フェノチアジンなどのアミン化合物； 2,4−ジメチル−
６−tert−ブチルフェノール、 2,4−ジ−tert−ブチル
フェノール、ｐ−メトキシフェノール等のフェノール類
等が挙げられるが、特に限定されるものではない。これ
ら重合禁止剤は、一種類のみを用いてもよいし、二種類
以上を適宜混合して用いてもよい。
【００３３】上記重合禁止剤の添加量は、特に限定され
るものではないが、通常、粗ＲＨＭＡ類に対する割合
が、0.01重量％〜１重量％の範囲内となるようにすれば
よい。
るものではないが、通常、粗ＲＨＭＡ類に対する割合
が、0.01重量％〜１重量％の範囲内となるようにすれば
よい。
【００３４】上記の分子状酸素としては、例えば、空気
を用いることができる。この場合、反応系に空気を吹き
込む（いわゆる、バブリング）ようにすればよい。尚、
上記重合禁止剤と分子状酸素とを併用してもよい。
を用いることができる。この場合、反応系に空気を吹き
込む（いわゆる、バブリング）ようにすればよい。尚、
上記重合禁止剤と分子状酸素とを併用してもよい。
【００３５】また、上記の熱処理は、通常、常圧（大気
圧）で行うが、特に限定されるものではなく、減圧下ま
たは加圧下で行うこともできる。
圧）で行うが、特に限定されるものではなく、減圧下ま
たは加圧下で行うこともできる。
【００３６】本発明における精製方法によって精製され
たＲＨＭＡ類は高い品質を有し、塗料、接着剤、洗剤ビ
ルダーおよび光学材料等に好適に用いることができる。
たＲＨＭＡ類は高い品質を有し、塗料、接着剤、洗剤ビ
ルダーおよび光学材料等に好適に用いることができる。
【００３７】以上のように、本発明によれば、目的物で
あるＲＨＭＡ類と沸点差の小さい化合物であるアセター
ル化合物を不純物として含む粗ＲＨＭＡ類を熱処理する
ことで、上記のアセタール化合物は、ＲＨＭＡ類より高
沸点の化合物に変化する。このため、上記粗ＲＨＭＡ類
を熱処理した後で蒸留精製することにより、不純物をＲ
ＨＭＡ類から容易に分離することができる。このため、
高品質のＲＨＭＡ類を、高い収率で容易に得ることがで
きる。これにより、アセタール化合物を不純物として含
む粗ＲＨＭＡ類を、高純度、かつ、工業的に安価に精製
することができる。また、この熱処理において酸または
アルカリを共存させることにより、ＲＨＭＡ類の損失を
抑え、短い熱処理時間で、著しく処理効率を高めること
ができる。尚、熱処理後、粗ＲＨＭＡ類を精製処理する
ための方法としては、特に限定されるものではなく、蒸
留精製以外にも、抽出等、従来公知の種々の方法を用い
ることができる。
あるＲＨＭＡ類と沸点差の小さい化合物であるアセター
ル化合物を不純物として含む粗ＲＨＭＡ類を熱処理する
ことで、上記のアセタール化合物は、ＲＨＭＡ類より高
沸点の化合物に変化する。このため、上記粗ＲＨＭＡ類
を熱処理した後で蒸留精製することにより、不純物をＲ
ＨＭＡ類から容易に分離することができる。このため、
高品質のＲＨＭＡ類を、高い収率で容易に得ることがで
きる。これにより、アセタール化合物を不純物として含
む粗ＲＨＭＡ類を、高純度、かつ、工業的に安価に精製
することができる。また、この熱処理において酸または
アルカリを共存させることにより、ＲＨＭＡ類の損失を
抑え、短い熱処理時間で、著しく処理効率を高めること
ができる。尚、熱処理後、粗ＲＨＭＡ類を精製処理する
ための方法としては、特に限定されるものではなく、蒸
留精製以外にも、抽出等、従来公知の種々の方法を用い
ることができる。
【００３８】
【実施例】以下、実施例および比較例により、本発明を
さらに具体的に説明するが、本発明はこれらにより何ら
限定されるものではない。尚、ＲＨＭＡ類の純度測定は
ガスクロマトグラフィーにより行った。
さらに具体的に説明するが、本発明はこれらにより何ら
限定されるものではない。尚、ＲＨＭＡ類の純度測定は
ガスクロマトグラフィーにより行った。
【００３９】〔実施例１〕先ず、撹拌機、温度計、冷却
管およびバブリング管を備えた1000mlの四つ口フラスコ
に、粗エチル- α- ヒドロキシメチルアクリレート（以
下、ＥＨＭＡと記す） 600ｇ（ＥＨＭＡ含有量： 480
ｇ）および重合禁止剤としてのｐ−メトキシフェノール
0.06ｇ(100ppm ／粗ＥＨＭＡ）を仕込み、空気をバブリ
ングしながら浴温 100℃にて３時間撹拌することで、粗
ＥＨＭＡを熱処理した。熱処理終了後、該粗ＥＨＭＡの
蒸留精製を行った。この結果、純度98.2重量％のＥＨＭ
Ａ ４２８ｇを得た。このときの精製収率は８９．２重
量％であった。主な処理条件と精製後のＥＨＭＡの純度
および精製収率をまとめて表１に示す。
管およびバブリング管を備えた1000mlの四つ口フラスコ
に、粗エチル- α- ヒドロキシメチルアクリレート（以
下、ＥＨＭＡと記す） 600ｇ（ＥＨＭＡ含有量： 480
ｇ）および重合禁止剤としてのｐ−メトキシフェノール
0.06ｇ(100ppm ／粗ＥＨＭＡ）を仕込み、空気をバブリ
ングしながら浴温 100℃にて３時間撹拌することで、粗
ＥＨＭＡを熱処理した。熱処理終了後、該粗ＥＨＭＡの
蒸留精製を行った。この結果、純度98.2重量％のＥＨＭ
Ａ ４２８ｇを得た。このときの精製収率は８９．２重
量％であった。主な処理条件と精製後のＥＨＭＡの純度
および精製収率をまとめて表１に示す。
【００４０】〔実施例２〕実施例１と同様の四つ口フラ
スコに粗ＥＨＭＡ 600ｇ（ＥＨＭＡ含有量： 480ｇ）、
ｐ−トルエンスルホン酸18ｇ（３重量％／粗ＥＨＭ
Ａ）、および重合禁止剤としてのｐ−メトキシフェノー
ル0.06ｇ（100ppm／粗ＥＨＭＡ）を仕込み、空気をバブ
リングしながら浴温80℃にて１時間撹拌することで、粗
ＥＨＭＡを熱処理した。熱処理終了後、該粗ＥＨＭＡの
蒸留精製を行った。この結果、純度98.3重量％のＥＨＭ
Ａ 441ｇを得た。このときの精製収率は91.9重量％であ
った。主な処理条件と精製後のＥＨＭＡの純度および精
製収率をまとめて表１に示す。
スコに粗ＥＨＭＡ 600ｇ（ＥＨＭＡ含有量： 480ｇ）、
ｐ−トルエンスルホン酸18ｇ（３重量％／粗ＥＨＭ
Ａ）、および重合禁止剤としてのｐ−メトキシフェノー
ル0.06ｇ（100ppm／粗ＥＨＭＡ）を仕込み、空気をバブ
リングしながら浴温80℃にて１時間撹拌することで、粗
ＥＨＭＡを熱処理した。熱処理終了後、該粗ＥＨＭＡの
蒸留精製を行った。この結果、純度98.3重量％のＥＨＭ
Ａ 441ｇを得た。このときの精製収率は91.9重量％であ
った。主な処理条件と精製後のＥＨＭＡの純度および精
製収率をまとめて表１に示す。
【００４１】〔実施例３〕実施例１と同様の四つ口フラ
スコに粗ＥＨＭＡ 600ｇ（ＥＨＭＡ含有量： 480ｇ）、
濃硫酸３ｇ(0.5重量％／粗ＥＨＭＡ）、および重合禁止
剤としてのｐ−メトキシフェノール0.06ｇ(100ppm ／粗
ＥＨＭＡ）を仕込み、空気をバブリングしながら浴温50
℃にて 0.5時間撹拌することで、粗ＥＨＭＡを熱処理し
た。熱処理終了後、該粗ＥＨＭＡの蒸留精製を行った。
この結果、純度98.1重量％のＥＨＭＡ 432ｇを得た。こ
のときの精製収率は90.0重量％であった。主な処理条件
と精製後のＥＨＭＡの純度および精製収率をまとめて表
１に示す。
スコに粗ＥＨＭＡ 600ｇ（ＥＨＭＡ含有量： 480ｇ）、
濃硫酸３ｇ(0.5重量％／粗ＥＨＭＡ）、および重合禁止
剤としてのｐ−メトキシフェノール0.06ｇ(100ppm ／粗
ＥＨＭＡ）を仕込み、空気をバブリングしながら浴温50
℃にて 0.5時間撹拌することで、粗ＥＨＭＡを熱処理し
た。熱処理終了後、該粗ＥＨＭＡの蒸留精製を行った。
この結果、純度98.1重量％のＥＨＭＡ 432ｇを得た。こ
のときの精製収率は90.0重量％であった。主な処理条件
と精製後のＥＨＭＡの純度および精製収率をまとめて表
１に示す。
【００４２】〔実施例４〕実施例１と同様の四つ口フラ
スコに粗ＥＨＭＡ 600ｇ（ＥＨＭＡ含有量： 480ｇ）、
リン酸30ｇ（５重量％／粗ＥＨＭＡ）、および重合禁止
剤としてのｐ−メトキシフェノール0.06ｇ(100ppm ／粗
ＥＨＭＡ）を仕込み、空気をバブリングしながら浴温 1
00℃にて１時間撹拌することで、粗ＥＨＭＡを熱処理し
た。熱処理終了後、該粗ＥＨＭＡの蒸留精製を行った。
この結果、純度97.9重量％のＥＨＭＡ 429ｇを得た。こ
のときの精製収率は89.4重量％であった。主な処理条件
と精製後のＥＨＭＡの純度および精製収率をまとめて表
１に示す。
スコに粗ＥＨＭＡ 600ｇ（ＥＨＭＡ含有量： 480ｇ）、
リン酸30ｇ（５重量％／粗ＥＨＭＡ）、および重合禁止
剤としてのｐ−メトキシフェノール0.06ｇ(100ppm ／粗
ＥＨＭＡ）を仕込み、空気をバブリングしながら浴温 1
00℃にて１時間撹拌することで、粗ＥＨＭＡを熱処理し
た。熱処理終了後、該粗ＥＨＭＡの蒸留精製を行った。
この結果、純度97.9重量％のＥＨＭＡ 429ｇを得た。こ
のときの精製収率は89.4重量％であった。主な処理条件
と精製後のＥＨＭＡの純度および精製収率をまとめて表
１に示す。
【００４３】〔実施例５〕実施例１と同様の四つ口フラ
スコに粗メチル−α−ヒドロキシメチルアクリレート
（以下、ＭＨＭＡと記す） 600ｇ（ＭＨＭＡ含有量： 4
00ｇ）、ｐ−トルエンスルホン酸18ｇ（３重量％／粗Ｍ
ＨＭＡ）、および重合禁止剤としてのｐ−メトキシフェ
ノール0.06ｇ(100ppm ／粗ＭＨＭＡ）を仕込み、空気を
バブリングしながら浴温80℃にて１時間撹拌すること
で、粗ＭＨＭＡを熱処理した。熱処理終了後、該粗ＭＨ
ＭＡの蒸留精製を行った。この結果、純度97.5重量％の
ＭＨＭＡ368ｇを得た。このときの精製収率は92.0重量
％であった。主な処理条件と精製後のＭＨＭＡの純度お
よび精製収率をまとめて表１に示す。
スコに粗メチル−α−ヒドロキシメチルアクリレート
（以下、ＭＨＭＡと記す） 600ｇ（ＭＨＭＡ含有量： 4
00ｇ）、ｐ−トルエンスルホン酸18ｇ（３重量％／粗Ｍ
ＨＭＡ）、および重合禁止剤としてのｐ−メトキシフェ
ノール0.06ｇ(100ppm ／粗ＭＨＭＡ）を仕込み、空気を
バブリングしながら浴温80℃にて１時間撹拌すること
で、粗ＭＨＭＡを熱処理した。熱処理終了後、該粗ＭＨ
ＭＡの蒸留精製を行った。この結果、純度97.5重量％の
ＭＨＭＡ368ｇを得た。このときの精製収率は92.0重量
％であった。主な処理条件と精製後のＭＨＭＡの純度お
よび精製収率をまとめて表１に示す。
【００４４】〔実施例６〕実施例１と同様の四つ口フラ
スコに粗ｎ−ブチル−α−ヒドロキシメチルアクリレー
ト（以下、ＢＨＭＡと記す） 600ｇ（ＢＨＭＡ含有量：
456ｇ）、ｐ−トルエンスルホン酸18ｇ（３重量％／粗
ＢＨＭＡ）、および重合禁止剤としてのｐ−メトキシフ
ェノール0.06ｇ（100ppm／粗ＢＨＭＡ）を仕込み、空気
をバブリングしながら浴温80℃にて１時間撹拌すること
で、粗ＢＨＭＡを熱処理した。熱処理終了後、該粗ＢＨ
ＭＡの蒸留精製を行った。この結果、純度98.6重量％の
ＢＨＭＡ 420ｇを得た。このときの精製収率は92.1重量
％であった。主な処理条件と精製後のＢＨＭＡの純度お
よび精製収率をまとめて表１に示す。
スコに粗ｎ−ブチル−α−ヒドロキシメチルアクリレー
ト（以下、ＢＨＭＡと記す） 600ｇ（ＢＨＭＡ含有量：
456ｇ）、ｐ−トルエンスルホン酸18ｇ（３重量％／粗
ＢＨＭＡ）、および重合禁止剤としてのｐ−メトキシフ
ェノール0.06ｇ（100ppm／粗ＢＨＭＡ）を仕込み、空気
をバブリングしながら浴温80℃にて１時間撹拌すること
で、粗ＢＨＭＡを熱処理した。熱処理終了後、該粗ＢＨ
ＭＡの蒸留精製を行った。この結果、純度98.6重量％の
ＢＨＭＡ 420ｇを得た。このときの精製収率は92.1重量
％であった。主な処理条件と精製後のＢＨＭＡの純度お
よび精製収率をまとめて表１に示す。
【００４５】〔実施例７〕実施例１と同様の四つ口フラ
スコに粗ＥＨＭＡ 600ｇ（ＥＨＭＡ含有量： 480ｇ）、
炭酸水素ナトリウム18ｇ（３重量％／粗ＥＨＭＡ）、お
よび重合禁止剤としてのｐ−メトキシフェノール0.06ｇ
（100ppm／粗ＥＨＭＡ）を仕込み、空気をバブリングし
ながら浴温90℃にて１時間撹拌することで、粗ＥＨＭＡ
を熱処理した。熱処理終了後、該粗ＥＨＭＡの蒸留精製
を行った。この結果、純度97.9重量％のＥＨＭＡ 427ｇ
を得た。このときの精製収率は89.0重量％であった。主
な処理条件と精製後のＥＨＭＡの純度および精製収率を
まとめて表１に示す。
スコに粗ＥＨＭＡ 600ｇ（ＥＨＭＡ含有量： 480ｇ）、
炭酸水素ナトリウム18ｇ（３重量％／粗ＥＨＭＡ）、お
よび重合禁止剤としてのｐ−メトキシフェノール0.06ｇ
（100ppm／粗ＥＨＭＡ）を仕込み、空気をバブリングし
ながら浴温90℃にて１時間撹拌することで、粗ＥＨＭＡ
を熱処理した。熱処理終了後、該粗ＥＨＭＡの蒸留精製
を行った。この結果、純度97.9重量％のＥＨＭＡ 427ｇ
を得た。このときの精製収率は89.0重量％であった。主
な処理条件と精製後のＥＨＭＡの純度および精製収率を
まとめて表１に示す。
【００４６】〔実施例８〕実施例１と同様の四つ口フラ
スコに粗ＥＨＭＡ 600ｇ（ＥＨＭＡ含有量： 480ｇ）、
炭酸水素カリウム３ｇ(0.5重量％／粗ＥＨＭＡ）、およ
び重合禁止剤としてのｐ−メトキシフェノール0.06ｇ
（100ppm／粗ＥＨＭＡ）を仕込み、空気をバブリングし
ながら浴温90℃にて１時間撹拌することで、粗ＥＨＭＡ
を熱処理した。熱処理終了後、該粗ＥＨＭＡの蒸留精製
を行った。この結果、純度98.1重量％のＥＨＭＡ 425ｇ
を得た。このときの精製収率は88.5重量％であった。主
な処理条件と精製後のＥＨＭＡの純度および精製収率を
まとめて表１に示す。
スコに粗ＥＨＭＡ 600ｇ（ＥＨＭＡ含有量： 480ｇ）、
炭酸水素カリウム３ｇ(0.5重量％／粗ＥＨＭＡ）、およ
び重合禁止剤としてのｐ−メトキシフェノール0.06ｇ
（100ppm／粗ＥＨＭＡ）を仕込み、空気をバブリングし
ながら浴温90℃にて１時間撹拌することで、粗ＥＨＭＡ
を熱処理した。熱処理終了後、該粗ＥＨＭＡの蒸留精製
を行った。この結果、純度98.1重量％のＥＨＭＡ 425ｇ
を得た。このときの精製収率は88.5重量％であった。主
な処理条件と精製後のＥＨＭＡの純度および精製収率を
まとめて表１に示す。
【００４７】〔比較例１〕実施例１と同様の四つ口フラ
スコに粗ＥＨＭＡ 600ｇ（ＥＨＭＡ含有量： 480ｇ）を
仕込んだ後、熱処理を行わず、そのまま該粗ＥＨＭＡの
蒸留精製を行った。この結果、純度95.1重量％のＥＨＭ
Ａを 384ｇを得た。このときの精製収率は80.0重量％で
あった。主な処理条件と精製後のＥＨＭＡの純度および
精製収率をまとめて表１に示す。
スコに粗ＥＨＭＡ 600ｇ（ＥＨＭＡ含有量： 480ｇ）を
仕込んだ後、熱処理を行わず、そのまま該粗ＥＨＭＡの
蒸留精製を行った。この結果、純度95.1重量％のＥＨＭ
Ａを 384ｇを得た。このときの精製収率は80.0重量％で
あった。主な処理条件と精製後のＥＨＭＡの純度および
精製収率をまとめて表１に示す。
【００４８】〔比較例２〕実施例１において、浴温を 1
00℃から 160℃に変更した以外は、実施例１と同様の操
作を行って粗ＥＨＭＡの精製を行った。この結果、純度
97.5重量％のＥＨＭＡ 313ｇを得た。このときの精製収
率は62.5重量％であった。主な処理条件と精製後のＥＨ
ＭＡの純度および精製収率をまとめて表１に示す。
00℃から 160℃に変更した以外は、実施例１と同様の操
作を行って粗ＥＨＭＡの精製を行った。この結果、純度
97.5重量％のＥＨＭＡ 313ｇを得た。このときの精製収
率は62.5重量％であった。主な処理条件と精製後のＥＨ
ＭＡの純度および精製収率をまとめて表１に示す。
【００４９】〔比較例３〕実施例１と同様の四つ口フラ
スコに粗ＥＨＭＡ 600ｇ（ＥＨＭＡ含有量： 480ｇ）、
ｐ−トルエンスルホン酸18ｇ（３重量％／粗ＥＨＭ
Ａ）、および重合禁止剤としてのｐ−メトキシフェノー
ル0.06ｇ（100ppm／粗ＥＨＭＡ）を仕込み、空気をバブ
リングしながら浴温10℃にて５時間撹拌することで、粗
ＥＨＭＡを熱処理した。熱処理終了後、該粗ＥＨＭＡの
蒸留精製を行った。この結果、純度９４．９重量％のＥ
ＨＭＡ ３８５ｇを得た。このときの精製収率は80.2重
量％であった。主な処理条件と精製後のＥＨＭＡの純度
および精製収率をまとめて表１に示す。
スコに粗ＥＨＭＡ 600ｇ（ＥＨＭＡ含有量： 480ｇ）、
ｐ−トルエンスルホン酸18ｇ（３重量％／粗ＥＨＭ
Ａ）、および重合禁止剤としてのｐ−メトキシフェノー
ル0.06ｇ（100ppm／粗ＥＨＭＡ）を仕込み、空気をバブ
リングしながら浴温10℃にて５時間撹拌することで、粗
ＥＨＭＡを熱処理した。熱処理終了後、該粗ＥＨＭＡの
蒸留精製を行った。この結果、純度９４．９重量％のＥ
ＨＭＡ ３８５ｇを得た。このときの精製収率は80.2重
量％であった。主な処理条件と精製後のＥＨＭＡの純度
および精製収率をまとめて表１に示す。
【００５０】
【表１】
【００５１】表１に記載の結果から明らかなように、本
実施例にかかる精製方法を用いれば、高純度のＲＨＭＡ
類を高収率で得ることができることが判った。
実施例にかかる精製方法を用いれば、高純度のＲＨＭＡ
類を高収率で得ることができることが判った。
【００５２】
【発明の効果】本発明の請求項１記載のα−ヒドロキシ
アルキルアクリレート類の精製方法は、以上のように、
アセタール化合物を不純物として含む粗α−ヒドロキシ
アルキルアクリレート類を精製するに際し、該粗α−ヒ
ドロキシアルキルアクリレート類を熱処理した後で精製
処理する方法である。
アルキルアクリレート類の精製方法は、以上のように、
アセタール化合物を不純物として含む粗α−ヒドロキシ
アルキルアクリレート類を精製するに際し、該粗α−ヒ
ドロキシアルキルアクリレート類を熱処理した後で精製
処理する方法である。
【００５３】本発明の請求項２記載のα−ヒドロキシア
ルキルアクリレート類の精製方法は、以上のように、上
記熱処理が20℃〜 150℃の範囲内で行われる方法であ
る。
ルキルアクリレート類の精製方法は、以上のように、上
記熱処理が20℃〜 150℃の範囲内で行われる方法であ
る。
【００５４】本発明の請求項３記載のα−ヒドロキシア
ルキルアクリレート類の精製方法は、以上のように、上
記熱処理が酸の共存下で行われる方法である。
ルキルアクリレート類の精製方法は、以上のように、上
記熱処理が酸の共存下で行われる方法である。
【００５５】本発明の請求項４記載のα−ヒドロキシア
ルキルアクリレート類の精製方法は、以上のように、上
記熱処理がアルカリの共存下で行われる方法である。
ルキルアクリレート類の精製方法は、以上のように、上
記熱処理がアルカリの共存下で行われる方法である。
【００５６】本発明の請求項５記載のα−ヒドロキシア
ルキルアクリレート類の精製方法は、以上のように、上
記精製処理が蒸留精製である方法である。
ルキルアクリレート類の精製方法は、以上のように、上
記精製処理が蒸留精製である方法である。
【００５７】上記の構成によれば、目的物であるα−ヒ
ドロキシアルキルアクリレート類と沸点差の小さい化合
物であるアセタール化合物を不純物として含む粗α−ヒ
ドロキシアルキルアクリレート類を熱処理した後で精製
処理することで、上記の粗α−ヒドロキシアルキルアク
リレート類を高純度、かつ、工業的に安価に精製するこ
とができる。このとき、粗α−ヒドロキシアルキルアク
リレート類を20℃〜 150℃の範囲内で熱処理すること
で、高品質のα−ヒドロキシアルキルアクリレート類を
高い収率で容易に得ることができる。また、この熱処理
において酸またはアルカリを共存させることにより、α
−ヒドロキシアルキルアクリレート類の損失を抑え、短
い熱処理時間で、著しく処理効率を高めることができる
という効果を併せて奏する。
ドロキシアルキルアクリレート類と沸点差の小さい化合
物であるアセタール化合物を不純物として含む粗α−ヒ
ドロキシアルキルアクリレート類を熱処理した後で精製
処理することで、上記の粗α−ヒドロキシアルキルアク
リレート類を高純度、かつ、工業的に安価に精製するこ
とができる。このとき、粗α−ヒドロキシアルキルアク
リレート類を20℃〜 150℃の範囲内で熱処理すること
で、高品質のα−ヒドロキシアルキルアクリレート類を
高い収率で容易に得ることができる。また、この熱処理
において酸またはアルカリを共存させることにより、α
−ヒドロキシアルキルアクリレート類の損失を抑え、短
い熱処理時間で、著しく処理効率を高めることができる
という効果を併せて奏する。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｃ 67/60 Ｃ０７Ｃ 67/60 (72)発明者 喜多 裕一 兵庫県姫路市網干区興浜字西沖992番地の １ 株式会社日本触媒内
Claims (5)
- 【請求項１】アセタール化合物を不純物として含む粗α
−ヒドロキシアルキルアクリレート類を精製するに際
し、該粗α−ヒドロキシアルキルアクリレート類を熱処
理した後で精製処理することを特徴とするα−ヒドロキ
シアルキルアクリレート類の精製方法。 - 【請求項２】上記熱処理が20℃〜 150℃の範囲内で行わ
れることを特徴とする請求項１記載のα−ヒドロキシア
ルキルアクリレート類の精製方法。 - 【請求項３】上記熱処理が酸の共存下で行われることを
特徴とする請求項１または２記載のα−ヒドロキシアル
キルアクリレート類の精製方法。 - 【請求項４】上記熱処理がアルカリの共存下で行われる
ことを特徴とする請求項１または２記載のα−ヒドロキ
シアルキルアクリレート類の精製方法。 - 【請求項５】上記精製処理が蒸留精製であることを特徴
とする請求項１〜４の何れか１項に記載のα−ヒドロキ
シアルキルアクリレート類の精製方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22390495A JPH0967310A (ja) | 1995-08-31 | 1995-08-31 | α−ヒドロキシアルキルアクリレート類の精製方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22390495A JPH0967310A (ja) | 1995-08-31 | 1995-08-31 | α−ヒドロキシアルキルアクリレート類の精製方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0967310A true JPH0967310A (ja) | 1997-03-11 |
Family
ID=16805537
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22390495A Pending JPH0967310A (ja) | 1995-08-31 | 1995-08-31 | α−ヒドロキシアルキルアクリレート類の精製方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0967310A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000319228A (ja) * | 1999-05-10 | 2000-11-21 | Nippon Shokubai Co Ltd | α−ヒドロキシメチルアクリレート化合物の製造方法 |
| JP2007070607A (ja) * | 2005-08-11 | 2007-03-22 | Nippon Shokubai Co Ltd | 異物が少なくゲル化し難いラクトン環含有重合体およびその用途 |
-
1995
- 1995-08-31 JP JP22390495A patent/JPH0967310A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000319228A (ja) * | 1999-05-10 | 2000-11-21 | Nippon Shokubai Co Ltd | α−ヒドロキシメチルアクリレート化合物の製造方法 |
| JP2007070607A (ja) * | 2005-08-11 | 2007-03-22 | Nippon Shokubai Co Ltd | 異物が少なくゲル化し難いラクトン環含有重合体およびその用途 |
| EP1752475B1 (en) * | 2005-08-11 | 2008-11-05 | Nippon Shokubai Co., Ltd. | Lactone ring-containing polymer having few foreign matters and not easily causing gelation, and its applications |
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