JPH0963079A - 露光装置 - Google Patents

露光装置

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JPH0963079A
JPH0963079A JP7215956A JP21595695A JPH0963079A JP H0963079 A JPH0963079 A JP H0963079A JP 7215956 A JP7215956 A JP 7215956A JP 21595695 A JP21595695 A JP 21595695A JP H0963079 A JPH0963079 A JP H0963079A
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laser beam
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mirror
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photoresist
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Toru Arai
徹 荒井
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  • Optical Recording Or Reproduction (AREA)
  • Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
  • Optical Head (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 露光中にレーザビーム1の光軸の変動が生じ
ると、ヘッド内の対物レンズへの入射点が漸次変化する
ことで、レーザビームの強度変化などが起き、露光され
る案内溝やピット形状が内周と外周で変化してしまう。 【解決手段】 予め光軸調整された光学系で、レーザ発
振器2からフォトレジスト盤17に至るレーザビームの
光軸位置ずれをセンサ部8により検出する。演算部9は
この検出位置ずれに基づいて位置ずれ量を計算し、ミラ
ー10、12とミラー駆動部11、13によりレーザビ
ームの光軸位置ずれを補正して光軸位置ずれに元に戻す
ように補正する。これにより、レーザ発振器2から出射
されたレーザビームの光軸がレーザ発振器2の状態によ
り変動しても当該変動を補正でき、ヘッド16の対物レ
ンズへのレーザビーム入射点を一定に保つことができ
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は露光装置に係り、特
に光記録媒体製造用原盤の露光装置に関する。
【0002】
【従来の技術】光ビームの照射によって光学特性を変化
させて情報の記録・再生を行う光記録媒体の製造に際し
ては、予め記録する情報ピットや案内溝の凹凸パターン
を形成した光記録媒体製造用原盤に基づいて情報の記録
・再生を行うための光記録媒体を大量に製造するように
している。そして、その光記録媒体製造用原盤は、従来
は露光装置により作成される(例えば、特開平4−49
527号、特開平4−205722号各公報)。
【0003】図2は上記の従来の露光装置の一例の構成
図を示す。この露光装置は、レーザビーム1を発振する
レーザ発振器2と、レーザビーム1をパワー制御するパ
ワー制御部3と、露光パターンに対応した光変調を行う
光変調器4と、光変調器4からのレーザビーム1のビー
ム径を拡大するエキスパンダレンズ5と、レーザビーム
1を垂直方向に向きを変える折り返しミラー14と、レ
ーザビーム1とフォーカス用レーザビーム15を集光す
る対物レンズを含んだヘッド16と、集光されたレーザ
ビームが照射されるフォトレジスト盤17を固定した回
転機構部18と、フォトレジスト盤17で反射されたフ
ォーカス用レーザビーム15を検出し、常にフォトレジ
スト盤17とヘッド16を等距離に保つフォーカスサー
ボアクチュエータ19で構成される。
【0004】光変調器4を常時オンにすると案内溝がフ
ォトレジスト盤17に露光され、光変調器4をオン−オ
フの変調をすることでピットがフォトレジスト盤17に
露光される。例えば、フォトレジスト盤17を固定した
回転機構部18を一定回転数で回転させ、エキスパンダ
レンズ5、折り返しミラー14、ヘッド16を含んだ移
動光学系20を等速で移動させることで、スパイラルの
案内溝を内周から外周に露光することができる。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
従来の露光装置では、レーザ発振器2が発振しているレ
ーザビーム1の光軸がレーザの状態により変動すること
がある。この光軸の変動はヘッド16の対物レンズに対
する入射点を変化させるため、露光中にレーザビーム1
の光軸の変動が生じると、レーザビーム1の強度が変化
する。
【0006】また、露光する際に移動光学系20を移動
させるため、移動光学系20の移動軸とレーザビームの
光軸との微小な角度分だけ、ヘッド16の対物レンズに
対する入射点が変化してしまい、その結果、露光中に入
射点が漸次変化することで、レーザビームの強度変化が
起きる。
【0007】更に、ヘッド16とフォトレジスト盤17
がフォーカスサーボによって一定距離を保持する構成と
なっているため、集光されたレーザビームの焦点深度か
ら漸次はずれて露光することもあることから、露光され
る案内溝やピット形状が内周と外周で変化してしまうと
いう欠点がある。
【0008】本発明は以上の点に鑑みなされたもので、
露光中に対物レンズへのレーザビーム入射点を一定に保
つことができる露光装置を提供することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明は上記の目的を達
成するため、レーザビームを出射する光源と、表面にフ
ォトレジストが塗布されたフォトレジスト盤と、フォト
レジスト盤を回転する回転機構部と、光源からフォトレ
ジスト盤に至るレーザビームの一部を分岐する分岐手段
と、分岐手段により分岐されたレーザビームの光軸位置
ずれを検出するセンサ部と、分岐手段を通過したレーザ
ビームをフォトレジスト盤上に集光する対物レンズを備
えたヘッドと、センサ部の出力位置ずれ検出信号に基づ
いて位置ずれ量を計算する演算部と、光源と分岐手段と
の間のレーザビームの光路中に設けられ、演算部の位置
ずれ量演算結果に基づいて、レーザビームの光軸位置ず
れを補正する補正手段とを有する構成としたものであ
る。
【0010】また、本発明における補正手段は、光源か
ら出射されたレーザビームの光路を変える第1のミラー
と、第1のミラーにより反射されたレーザビームの光路
を再度変える第2のミラーと、演算部の出力位置ずれ量
演算結果に基づいて、光軸補正量の水平方向分と垂直方
向分の一方を補正するように第1のミラーを駆動する第
1のミラー駆動部と、演算部の出力位置ずれ量演算結果
に基づいて、光軸補正量の水平方向分と垂直方向分の他
方を補正するように第2のミラーを駆動する第2のミラ
ー駆動部とよりなることを特徴とする。
【0011】また、本発明は光源の出射レーザビームの
強度を露光すべき情報に応じて変調する変調器と、ヘッ
ドとフォトレジスト盤表面との距離を一定に保つように
制御するフォーカスサーボ手段とを有し、分岐手段、セ
ンサ部及びヘッドは移動光学系を構成し、露光中にフォ
トレジスト盤の半径方向へ移動することを特徴とする。
【0012】本発明では、予め光軸調整された光学系
で、光源からフォトレジスト盤に至るレーザビームの光
軸位置ずれをセンサ部により検出し、演算部により位置
ずれ検出信号に基づいて位置ずれ量を計算して、補正手
段によりレーザビームの光軸位置ずれを補正して光軸位
置ずれに元に戻すようにしたため、光源から出射された
レーザビームの光軸が光源の状態により変動しても当該
変動を補正でき、ヘッドの対物レンズへのレーザビーム
入射点を一定に保つことができる。
【0013】
【発明の実施の形態】次に、本発明の実施の形態につい
て図面と共に説明する。図1は本発明の一実施の形態の
構成図を示す。同図中、図2と同一構成部分には同一符
号を付してある。図1において、光変調器4とエキスパ
ンダレンズ5との間のレーザビーム1の光路中に、ミラ
ー10及び12が設けられ、またエキスパンダレンズ5
と折り返しミラー14との間のレーザビーム1の光路中
にビームスプリッタ7が設けられ、更に、ビームスプリ
ッタ7により分岐された一部の光をモニタするセンサ部
8と、センサ部8の出力信号から所定の演算を実行する
演算部9と、ミラー駆動部11及び13を新たに設けた
点に特徴を有する。
【0014】パワー制御部3はEO(Electro
Optic)変調器から構成されており、所望のパワー
が得られる電圧を設定し、制御する。また、光変調器4
はEO変調器あるいはAO(Acoust Opti
c)変調器から構成されている。センサ部8は4分割フ
ォトディテクタから構成されている。
【0015】エキスパンダレンズ5、ビームスプリッタ
7、センサ部8、折り返しミラー14及びヘッド16は
フォトレジスト盤17の上方をフォトレジスト盤17の
半径方向に移動する移動光学系25を構成している。な
お、ヘッド16はフォーカスサーボアクチュエータ19
の出力信号により、フォトレジスト盤17の表面に対し
て垂直方向に移動制御されることは従来と同様である。
【0016】次に、この実施の形態の動作について説明
する。事前に適正位置に調整されたレーザビーム1がレ
ーザ発振器2から出射され、このレーザビーム1がパワ
ー制御部3によりパワー制御された後、光変調器4に入
射されて露光パターンに対応した光変調を受ける。光変
調器4より変調を受けて出射されたレーザビーム1は、
ミラー10により光軸補正量の水平方向分を補正されて
光路が変えられ、更にミラー12に入射されて光軸補正
量の垂直方向分が補正されるように光路が変えられた
後、エキスパンダレンズ5によりビーム径が拡大されて
ビームスプリッタ7に入射され、一部が透過して残りが
反射される。
【0017】ビームスプリッタ7を透過した一部のレー
ザビームは、折り返しミラー14により垂直方向に向き
が変えられてヘッド16内の対物レンズにより、図示し
ない光源よりのフォーカス用レーザビーム15と共にフ
ォトレジスト盤17の表面に集光される。フォトレジス
ト盤17で反射されたフォーカス用レーザビーム15
は、フォーカスサーボアクチュエータ19により検出さ
れ、常にフォトレジスト盤17とヘッド16を等距離に
保つ。
【0018】フォトレジスト盤17はその表面にフォト
レジストが塗布されており、回転機構部18により回転
されており、レーザビーム1の照射された部分が露光さ
れる。このフォトレジスト盤17はその後現像等された
後、スタンパ盤作成の基となる。
【0019】一方、ビームスプリッタ7で反射した残り
のレーザビーム1(モニタ光6)は、図1に示すよう
に、4分割された受光部A、B、C及びDからなる4分
割フォトディテクタであるセンサ部8に入射されて光軸
位置のずれに応じたレベルの光軸位置ずれ検出信号aに
変換された後、演算部9に供給される。ここで、レーザ
ビーム1の最良の光軸位置のときに、センサ部8を構成
する4分割フォトディテクタの中心位置にモニタ光6が
照射されるように、予めミラー10及び12等の位置が
調整されている。
【0020】すなわち、センサ部8の中心からモニタ光
6が図中、上方向にずれた場合はヘッド16の俯瞰した
ときの右側にずれたときであり、同様にモニタ光6が下
方向にずれたときはヘッド16の俯瞰した時の左側にず
れたときで、モニタ光6が右(左)方向にずれたときに
はヘッド16の俯瞰した時の前(後)側にずれたときで
ある。
【0021】そこで、センサ部8は受光部A、B、C及
びDでそれぞれ光電変換して得られた電気信号のレベル
もA、B、C及びDで示すものとすると、(A−B)と
(C−D)の電圧変化を電圧信号である光軸位置ずれ検
出信号aとしてモニタする。
【0022】演算部9は、モニタ光6の光軸位置ずれに
よる光量変位を電圧変位に変換した光軸位置ずれ検出信
号aに基づいて、光軸位置ずれ量と光軸補正量を計算
し、光軸補正量の水平方向分に対応した補正信号bと光
軸補正量の垂直方向分に対応した補正信号cとをそれぞ
れ生成出力する。
【0023】例えば、演算部9は、(A−B)=k×
y、(C−D)=m×zとし(ただし、k、mはそれぞ
れ定数、yはミラー12の駆動量、zはミラー10の駆
動量)なる計算式をそれぞれ演算し、(A−B)が正の
電圧値を示しているときにはミラー12を図中、右方向
へ駆動し、(A−B)が負の電圧値を示しているときに
はミラー12を図中、左方向へ駆動する補正信号cを生
成出力する。また、(C−D)が正の電圧値を示してい
るときにはミラー10を図中、前方向へ駆動し、(C−
D)が負の電圧値を示しているときにはミラー10を図
中、後方向へ駆動する補正信号bを生成出力する。
【0024】このように、水平方向補正信号bはミラー
駆動部11に供給されて、ミラー10を光軸位置ずれ量
の水平方向分を無くすような移動量と移動方向に駆動さ
せる。これと同時に、垂直方向補正信号cはミラー駆動
部13に供給されて、ミラー12を光軸位置ずれ量の垂
直方向分を無くすような移動量と移動方向に駆動させ
る。
【0025】これにより、モニタ光6の光軸位置ずれが
無くなるように制御され、その結果レーザビーム1の光
軸位置ずれも無くなるように制御され、よって、露光中
の移動光学系25を移動中でのヘッド16内の対物レン
ズへのレーザビーム入射点を一定に保つことができる。
これにより、フォトレジスト盤17に集光されたレーザ
ビームの強度が一定になり、かつ、集光されたレーザビ
ームの焦点深度内で安定に露光され、所望の案内溝やピ
ット形状を安定、かつ、正確に得られる。
【0026】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
光源から出射されたレーザビームの光軸が光源の状態に
より変動しても当該変動を補正でき、ヘッドの対物レン
ズへのレーザビーム入射点を一定に保つことができるよ
うにしたため、フォトレジスト盤面上に集光されたレー
ザビームの強度を一定にでき、集光されたレーザビーム
の焦点深度内で安定して露光され、露光により案内溝や
ピット形状として所望のものが安定して得られ、特に分
岐手段、センサ部及びヘッドは移動光学系を構成し、露
光中にフォトレジスト盤の半径方向へ移動する場合に
も、安定に露光ができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施の形態の構成図である。
【図2】従来装置の一例の構成図である。
【符号の説明】
1 レーザビーム 2 レーザ発振器 3 パワー制御部 4 光変調器 5 エキスパンダレンズ 7 ビームスプリッタ 8 センサ部 9 演算部 10 第1のミラー 11 第1のミラー駆動部 12 第2のミラー 13 第2のミラー駆動部 14 折り返しミラー 16 ヘッド 17 フォトレジスト盤 18 回転機構部 19 フォーカスサーボアクチュエータ 25 移動光学系

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 レーザビームを出射する光源と、 表面にフォトレジストが塗布されたフォトレジスト盤
    と、 前記フォトレジスト盤を回転する回転機構部と、 前記光源から前記フォトレジスト盤に至る前記レーザビ
    ームの一部を分岐する分岐手段と、 前記分岐手段により分岐された前記レーザビームの光軸
    位置ずれを検出するセンサ部と、 前記分岐手段を通過した前記レーザビームを前記フォト
    レジスト盤上に集光する対物レンズを備えたヘッドと、 前記センサ部の出力位置ずれ検出信号に基づいて位置ず
    れ量を計算する演算部と、 前記光源と分岐手段との間の前記レーザビームの光路中
    に設けられ、前記演算部の位置ずれ量演算結果に基づい
    て、前記レーザビームの光軸位置ずれを補正する補正手
    段とを有することを特徴とする露光装置。
  2. 【請求項2】 前記補正手段は、前記光源から出射され
    た前記レーザビームの光路を変える第1のミラーと、該
    第1のミラーにより反射されたレーザビームの光路を再
    度変える第2のミラーと、前記演算部の出力位置ずれ量
    演算結果に基づいて、光軸補正量の水平方向分と垂直方
    向分の一方を補正するように前記第1のミラーを駆動す
    る第1のミラー駆動部と、前記演算部の出力位置ずれ量
    演算結果に基づいて、前記光軸補正量の水平方向分と垂
    直方向分の他方を補正するように前記第2のミラーを駆
    動する第2のミラー駆動部とよりなることを特徴とする
    請求項1記載の露光装置。
  3. 【請求項3】 前記光源の出射レーザビームの強度を露
    光すべき情報に応じて変調する変調器と、前記ヘッドと
    前記フォトレジスト盤表面との距離を一定に保つように
    制御するフォーカスサーボ手段とを有し、前記分岐手
    段、センサ部及びヘッドは移動光学系を構成し、露光中
    に前記フォトレジスト盤の半径方向へ移動することを特
    徴とする請求項1又は2記載の露光装置。
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Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60126620A (ja) * 1983-12-14 1985-07-06 Hitachi Ltd レ−ザビ−ム合成装置

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPS60126620A (ja) * 1983-12-14 1985-07-06 Hitachi Ltd レ−ザビ−ム合成装置

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