JPH0952891A - クマリン誘導体 - Google Patents
クマリン誘導体Info
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- JPH0952891A JPH0952891A JP12549896A JP12549896A JPH0952891A JP H0952891 A JPH0952891 A JP H0952891A JP 12549896 A JP12549896 A JP 12549896A JP 12549896 A JP12549896 A JP 12549896A JP H0952891 A JPH0952891 A JP H0952891A
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- Japan
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- lower alkyl
- alkyl group
- group
- coumarin
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【構成】一般式
〔式中、Ｒ1 は水素原子、低級アルキル基、低級アルコ
キシ基又はハロゲン原子を、Ｒ2 は低級アルキル基、フ
ェニル低級アルキル基、カルボキシ低級アルキル基など
を、Ｒ3 はジ低級アルキルホスホロ低級アルキル基、カ
ルボキシ低級アルキル基などを示すか、あるいはＲ2 及
びＲ3 は互いに結合してそれらが結合する硫黄原子と共
に２Ｈ−１，４−ベンゾチアジン−３（４Ｈ）−オン
環、４−メチル−２Ｈ−１，４−ベンゾチアジン−３
（４Ｈ）−オン環、１，４−チオキサン環、４−ベンゾ
イル−４Ｈ−１，４−チアジン環、ジヒドロ−３（２
Ｈ）−チオフェノン環、１，４−ジチアン環又は２−メ
チルテトラヒドロチオフェン環を形成してもよい。〕で
表わされるクマリン誘導体。 【効果】上記クマリン誘導体は、優れた血糖降下作用を
有しており、血糖降下剤として糖尿病の治療及び予防に
有用である。
キシ基又はハロゲン原子を、Ｒ2 は低級アルキル基、フ
ェニル低級アルキル基、カルボキシ低級アルキル基など
を、Ｒ3 はジ低級アルキルホスホロ低級アルキル基、カ
ルボキシ低級アルキル基などを示すか、あるいはＲ2 及
びＲ3 は互いに結合してそれらが結合する硫黄原子と共
に２Ｈ−１，４−ベンゾチアジン−３（４Ｈ）−オン
環、４−メチル−２Ｈ−１，４−ベンゾチアジン−３
（４Ｈ）−オン環、１，４−チオキサン環、４−ベンゾ
イル−４Ｈ−１，４−チアジン環、ジヒドロ−３（２
Ｈ）−チオフェノン環、１，４−ジチアン環又は２−メ
チルテトラヒドロチオフェン環を形成してもよい。〕で
表わされるクマリン誘導体。 【効果】上記クマリン誘導体は、優れた血糖降下作用を
有しており、血糖降下剤として糖尿病の治療及び予防に
有用である。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は新規なクマリン誘導体に
関する。
関する。
【０００２】
【従来の技術】本発明のクマリン誘導体は文献未載の新
規化合物である。
規化合物である。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明は後記するよう
に医薬品として有用な化合物の提供を目的とする。
に医薬品として有用な化合物の提供を目的とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、下記一
般式（１）で表わされる新規なクマリン誘導体が提供さ
れる。
般式（１）で表わされる新規なクマリン誘導体が提供さ
れる。
【０００５】
【化２】
【０００６】〔式中、Ｒ1は水素原子、低級アルキル
基、低級アルコキシ基又はハロゲン原子を、Ｒ2は低級
アルキル基、フェニル低級アルキル基、カルボキシ低級
アルキル基、低級アルコキシカルボニル低級アルキル
基、ヒドロキシ低級アルキル基、シクロアルキル基又は
置換基としてハロゲン原子、ヒドロキシル基及び低級ア
ルキル基から選ばれる基の１〜２個を有することのある
フェニル基を、Ｒ3はジ低級アルキルホスホロ低級アル
キル基、カルボキシ低級アルキル基、低級アルコキシカ
ルボニル低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル
基、Ｎ−低級アルキルカルバモイル低級アルキル基、Ｎ
−シクロアルキルカルバモイル低級アルキル基、Ｎ−低
級アルキル−Ｎ−フェニルカルバモイル低級アルキル
基、Ｎ，Ｎ−ジ低級アルキルカルバモイル低級アルキル
基、カルボキシ−Ｎ−低級アルカノイルアミノ低級アル
キル基、１−ピロリジニルカルボニル低級アルキル基、
ピペリジノカルボニル低級アルキル基、４−メチル−１
−ピペラジニルカルボニル低級アルキル基、ヒドロキシ
低級アルキル基、ジヒドロキシ低級アルキル基、オキソ
低級アルキル基、フェニル低級アルキル基、ジヒドロ−
２（３Ｈ）−フラノン−３−イル基又は置換基としてジ
低級アルキルホスホロアミノ基、低級アルキル基、ヒド
ロキシル基、ヒドロキシ低級アルキル基、ニトロ基、低
級アルカノイルアミノ基、低級アルキルスルホニルアミ
ノ基、低級アルコキシ基及びカルボキシル基から選ばれ
る基の１〜３個を有することのあるフェニル基を示す
か、あるいはＲ2及びＲ3は互いに結合してそれらが結合
する硫黄原子と共に２Ｈ−１，４−ベンゾチアジン−３
（４Ｈ）−オン環、４−メチル−２Ｈ−１，４−ベンゾ
チアジン−３（４）−オン環、１，４−チオキサン環、
４−ベンゾイル−４Ｈ−１，４−チアジン環、ジヒドロ
−３（２Ｈ）−チオフェノン環、１，４−ジチアン環又
は２−メチルテトラヒドロチオフェン環を形成してもよ
い。〕 上記一般式（１）中の各基としては、例えば次の各基を
例示できる。
基、低級アルコキシ基又はハロゲン原子を、Ｒ2は低級
アルキル基、フェニル低級アルキル基、カルボキシ低級
アルキル基、低級アルコキシカルボニル低級アルキル
基、ヒドロキシ低級アルキル基、シクロアルキル基又は
置換基としてハロゲン原子、ヒドロキシル基及び低級ア
ルキル基から選ばれる基の１〜２個を有することのある
フェニル基を、Ｒ3はジ低級アルキルホスホロ低級アル
キル基、カルボキシ低級アルキル基、低級アルコキシカ
ルボニル低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル
基、Ｎ−低級アルキルカルバモイル低級アルキル基、Ｎ
−シクロアルキルカルバモイル低級アルキル基、Ｎ−低
級アルキル−Ｎ−フェニルカルバモイル低級アルキル
基、Ｎ，Ｎ−ジ低級アルキルカルバモイル低級アルキル
基、カルボキシ−Ｎ−低級アルカノイルアミノ低級アル
キル基、１−ピロリジニルカルボニル低級アルキル基、
ピペリジノカルボニル低級アルキル基、４−メチル−１
−ピペラジニルカルボニル低級アルキル基、ヒドロキシ
低級アルキル基、ジヒドロキシ低級アルキル基、オキソ
低級アルキル基、フェニル低級アルキル基、ジヒドロ−
２（３Ｈ）−フラノン−３−イル基又は置換基としてジ
低級アルキルホスホロアミノ基、低級アルキル基、ヒド
ロキシル基、ヒドロキシ低級アルキル基、ニトロ基、低
級アルカノイルアミノ基、低級アルキルスルホニルアミ
ノ基、低級アルコキシ基及びカルボキシル基から選ばれ
る基の１〜３個を有することのあるフェニル基を示す
か、あるいはＲ2及びＲ3は互いに結合してそれらが結合
する硫黄原子と共に２Ｈ−１，４−ベンゾチアジン−３
（４Ｈ）−オン環、４−メチル−２Ｈ−１，４−ベンゾ
チアジン−３（４）−オン環、１，４−チオキサン環、
４−ベンゾイル−４Ｈ−１，４−チアジン環、ジヒドロ
−３（２Ｈ）−チオフェノン環、１，４−ジチアン環又
は２−メチルテトラヒドロチオフェン環を形成してもよ
い。〕 上記一般式（１）中の各基としては、例えば次の各基を
例示できる。
【０００７】即ち、低級アルキル基としては、例えばメ
チル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソ
ブチル、tert−ブチル、ペンチル、ヘキシル基等の直鎖
又は分枝鎖状低級アルキル基を例示できる。
チル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソ
ブチル、tert−ブチル、ペンチル、ヘキシル基等の直鎖
又は分枝鎖状低級アルキル基を例示できる。
【０００８】シクロアルキル基としては、例えばシクロ
プロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキ
シル、シクロヘプチル、シクロオクチル基等を例示でき
る。
プロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキ
シル、シクロヘプチル、シクロオクチル基等を例示でき
る。
【０００９】低級アルコキシ基としては、例えばメトキ
シ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキ
シ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ基等を例示でき
る。
シ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキ
シ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ基等を例示でき
る。
【００１０】ハロゲン原子としては、弗素原子、塩素原
子、臭素原子、ヨウ素原子を例示できる。
子、臭素原子、ヨウ素原子を例示できる。
【００１１】フェニル低級アルキル基としては、例えば
ベンジル、１−フェニルエチル、２−フェニルエチル、
３−フェニルプロピル、４−フェニルブチル、５−フェ
ニルペンチル、６−フェニルヘキシル基等を例示でき
る。
ベンジル、１−フェニルエチル、２−フェニルエチル、
３−フェニルプロピル、４−フェニルブチル、５−フェ
ニルペンチル、６−フェニルヘキシル基等を例示でき
る。
【００１２】カルボキシ低級アルキル基としては、例え
ばカルボキシメチル、１−カルボキシエチル、２−カル
ボキシエチル、３−カルボキシプロピル、４−カルボキ
シブチル、５−カルボキシペンチル、６−カルボキシヘ
キシル基等を例示できる。
ばカルボキシメチル、１−カルボキシエチル、２−カル
ボキシエチル、３−カルボキシプロピル、４−カルボキ
シブチル、５−カルボキシペンチル、６−カルボキシヘ
キシル基等を例示できる。
【００１３】低級アルキルホスホロ低級アルキル基とし
ては、例えばジメチルホスホロメチル、ジエチルホスホ
ロメチル、ジプロピルホスホロメチル、ジイソプロピル
ホスホロメチル、ジブチルホスホロメチル、ジペンチル
ホスホロメチル、ジヘキシルホスホロメチル、２−（ジ
メチルホスホロ）エチル、２−（ジエチルホスホロ）エ
チル、３−（ジエチルホスホロ）プロピル基等を例示で
きる。
ては、例えばジメチルホスホロメチル、ジエチルホスホ
ロメチル、ジプロピルホスホロメチル、ジイソプロピル
ホスホロメチル、ジブチルホスホロメチル、ジペンチル
ホスホロメチル、ジヘキシルホスホロメチル、２−（ジ
メチルホスホロ）エチル、２−（ジエチルホスホロ）エ
チル、３−（ジエチルホスホロ）プロピル基等を例示で
きる。
【００１４】低級アルコキシカルボニル低級アルキル基
としては、例えばメトキシカルボニルメチル、エトキシ
カルボニルメチル、１−エトキシカルボニルエチル、２
−エトキシカルボニルエチル、３−エトキシカルボニル
プロピル、４−エトキシカルボニルブチル、５−エトキ
シカルボニルペンチル、６−エトキシカルボニルヘキシ
ル、２−ブトキシカルボニルエチル、ヘキシルオキシカ
ルボニルメチル基等を例示できる。
としては、例えばメトキシカルボニルメチル、エトキシ
カルボニルメチル、１−エトキシカルボニルエチル、２
−エトキシカルボニルエチル、３−エトキシカルボニル
プロピル、４−エトキシカルボニルブチル、５−エトキ
シカルボニルペンチル、６−エトキシカルボニルヘキシ
ル、２−ブトキシカルボニルエチル、ヘキシルオキシカ
ルボニルメチル基等を例示できる。
【００１５】カルバモイル低級アルキル基としては、例
えばカルバモイルメチル、１−カルバモイルエチル、２
−カルバモイルエチル、３−カルバモイルプロピル、４
−カルバモイルブチル、５−カルバモイルペンチル、６
−カルバモイルヘキシル基等を例示できる。
えばカルバモイルメチル、１−カルバモイルエチル、２
−カルバモイルエチル、３−カルバモイルプロピル、４
−カルバモイルブチル、５−カルバモイルペンチル、６
−カルバモイルヘキシル基等を例示できる。
【００１６】Ｎ−低級アルキルカルバモイル低級アルキ
ル基としては、例えばＮ−メチルカルバモイルメチル、
Ｎ−エチルカルバモイルメチル、Ｎ−プロピルカルバモ
イルメチル、Ｎ−ブチルカルバモイルメチル、Ｎ−ペン
チルカルバモイルメチル、Ｎ−ヘキシルカルバモイルメ
チル、２−（Ｎ−メチルカルバモイル）エチル、２−
（Ｎ−エチルカルバモイル）エチル、３−（Ｎ−メチル
カルバモイル）プロピル、４−（Ｎ−メチルカルバモイ
ル）ブチル、５−（Ｎ−メチルカルバモイル）−ペンチ
ル、６−（Ｎ−メチルカルバモイル）ヘキシル基等を例
示できる。
ル基としては、例えばＮ−メチルカルバモイルメチル、
Ｎ−エチルカルバモイルメチル、Ｎ−プロピルカルバモ
イルメチル、Ｎ−ブチルカルバモイルメチル、Ｎ−ペン
チルカルバモイルメチル、Ｎ−ヘキシルカルバモイルメ
チル、２−（Ｎ−メチルカルバモイル）エチル、２−
（Ｎ−エチルカルバモイル）エチル、３−（Ｎ−メチル
カルバモイル）プロピル、４−（Ｎ−メチルカルバモイ
ル）ブチル、５−（Ｎ−メチルカルバモイル）−ペンチ
ル、６−（Ｎ−メチルカルバモイル）ヘキシル基等を例
示できる。
【００１７】Ｎ−シクロアルキルカルバモイル低級アル
キル基としては、例えばＮ−シクロプロピルカルバモイ
ルメチル、Ｎ−シクロブチルカルバモイルメチル、Ｎ−
シクロペンチルカルバモイルメチル、Ｎ−シクロヘキシ
ルカルバモイルメチル、Ｎ−シクロヘプチルカルバモイ
ルメチル、Ｎ−シクロオクチルカルバモイルメチル、２
−（Ｎ−シクロヘキシルカルバモイル）エチル、３−
（Ｎ−シクロヘキシルカルバモイル）プロピル、４−
（Ｎ−シクロヘキシルカルバモイル）ブチル、５−（Ｎ
−シクロヘキシルカルバモイル）−ペンチル、６−（Ｎ
−シクロヘキシルカルバモイル）ヘキシル基等を例示で
きる。
キル基としては、例えばＮ−シクロプロピルカルバモイ
ルメチル、Ｎ−シクロブチルカルバモイルメチル、Ｎ−
シクロペンチルカルバモイルメチル、Ｎ−シクロヘキシ
ルカルバモイルメチル、Ｎ−シクロヘプチルカルバモイ
ルメチル、Ｎ−シクロオクチルカルバモイルメチル、２
−（Ｎ−シクロヘキシルカルバモイル）エチル、３−
（Ｎ−シクロヘキシルカルバモイル）プロピル、４−
（Ｎ−シクロヘキシルカルバモイル）ブチル、５−（Ｎ
−シクロヘキシルカルバモイル）−ペンチル、６−（Ｎ
−シクロヘキシルカルバモイル）ヘキシル基等を例示で
きる。
【００１８】Ｎ−低級アルキル−Ｎ−フェニルカルバモ
イル低級アルキル基としては、例えばＮ−メチル−Ｎ−
フェニルカルバモイルメチル、Ｎ−エチル−Ｎ−フェニ
ルカルバモイルメチル、Ｎ−フェニル−Ｎ−プロピルカ
ルバモイルメチル、Ｎ−ブチル−Ｎ−フェニルカルバモ
イルメチル、Ｎ−ペンチル−Ｎ−フェニルカルバモイル
メチル、Ｎ−ヘキシル−Ｎ−フェニルカルバモイルメチ
ル、２−（Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルカルバモイル）エ
チル、３−（Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルカルバモイル）
プロピル、４−（Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルカルバモイ
ル）ブチル、５−（Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルカルバモ
イル）ペンチル、６−（Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルカル
バモイル）ヘキシル基等を例示できる。
イル低級アルキル基としては、例えばＮ−メチル−Ｎ−
フェニルカルバモイルメチル、Ｎ−エチル−Ｎ−フェニ
ルカルバモイルメチル、Ｎ−フェニル−Ｎ−プロピルカ
ルバモイルメチル、Ｎ−ブチル−Ｎ−フェニルカルバモ
イルメチル、Ｎ−ペンチル−Ｎ−フェニルカルバモイル
メチル、Ｎ−ヘキシル−Ｎ−フェニルカルバモイルメチ
ル、２−（Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルカルバモイル）エ
チル、３−（Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルカルバモイル）
プロピル、４−（Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルカルバモイ
ル）ブチル、５−（Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルカルバモ
イル）ペンチル、６−（Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルカル
バモイル）ヘキシル基等を例示できる。
【００１９】Ｎ，Ｎ−ジ低級アルキルカルバモイル低級
アルキル基としては、例えばＮ，Ｎ−ジメチルカルバモ
イルメチル、Ｎ−エチル−Ｎ−メチルカルバモイルメチ
ル、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイルメチル、Ｎ，Ｎ−ジ
プロピルカルバモイルメチル、Ｎ，Ｎ−ジブチルカルバ
モイルメチル、Ｎ，Ｎ−ジペンチルカルバモイルメチ
ル、Ｎ，Ｎ−ジヘキシルカルバモイルメチル、１−
（Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル）エチル、２−（Ｎ，
Ｎ−ジメチルカルバモイル）エチル、３−（Ｎ，Ｎ−ジ
メチルカルバモイル）プロピル、４−（Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルカルバモイル）ブチル、５−（Ｎ，Ｎ−ジメチルカル
バモイル）−ペンチル、６−（Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバ
モイル）へキシル基等を例示できる。
アルキル基としては、例えばＮ，Ｎ−ジメチルカルバモ
イルメチル、Ｎ−エチル−Ｎ−メチルカルバモイルメチ
ル、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイルメチル、Ｎ，Ｎ−ジ
プロピルカルバモイルメチル、Ｎ，Ｎ−ジブチルカルバ
モイルメチル、Ｎ，Ｎ−ジペンチルカルバモイルメチ
ル、Ｎ，Ｎ−ジヘキシルカルバモイルメチル、１−
（Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル）エチル、２−（Ｎ，
Ｎ−ジメチルカルバモイル）エチル、３−（Ｎ，Ｎ−ジ
メチルカルバモイル）プロピル、４−（Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルカルバモイル）ブチル、５−（Ｎ，Ｎ−ジメチルカル
バモイル）−ペンチル、６−（Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバ
モイル）へキシル基等を例示できる。
【００２０】カルボキシ−Ｎ−低級アルカノイルアミノ
低級アルキル基としては、例えばカルボキシ−Ｎ−アセ
チルアミノメチル、２−（Ｎ−アセチルアミノ）−２−
カルボキシエチル、３−（Ｎ−アセチルアミノ）−３−
カルボキシプロピル、４−（Ｎ−アセチルアミノ）−４
−カルボキシブチル、５−（Ｎ−アセチルアミノ）−５
−カルボキシペンチル、６−（Ｎ−アセチルアミノ）−
６−カルボキシヘキシル、３−カルボキシ−３−（Ｎ−
プロピオニルアミノ）プロピル、３−（Ｎ−ブチリルア
ミノ）−３−カルボキシプロピル、３−カルボキシ−３
−（Ｎ−ペンタノイルアミノ）プロピル、３−カルボキ
シ−３−（Ｎ−ヘキサノイルアミノ）プロピル、３−カ
ルボキシ−３−（Ｎ−ヘプタノイルアミノ）プロピル基
等を例示できる。
低級アルキル基としては、例えばカルボキシ−Ｎ−アセ
チルアミノメチル、２−（Ｎ−アセチルアミノ）−２−
カルボキシエチル、３−（Ｎ−アセチルアミノ）−３−
カルボキシプロピル、４−（Ｎ−アセチルアミノ）−４
−カルボキシブチル、５−（Ｎ−アセチルアミノ）−５
−カルボキシペンチル、６−（Ｎ−アセチルアミノ）−
６−カルボキシヘキシル、３−カルボキシ−３−（Ｎ−
プロピオニルアミノ）プロピル、３−（Ｎ−ブチリルア
ミノ）−３−カルボキシプロピル、３−カルボキシ−３
−（Ｎ−ペンタノイルアミノ）プロピル、３−カルボキ
シ−３−（Ｎ−ヘキサノイルアミノ）プロピル、３−カ
ルボキシ−３−（Ｎ−ヘプタノイルアミノ）プロピル基
等を例示できる。
【００２１】（１−ピロリジニル）カルボニル低級アル
キル基としては、例えば１−ピロリジニルカルボニルメ
チル、２−（１−ピロリジニル）カルボニルエチル、３
−（１−ピロリジニル）カルボニルプロピル、４−（１
−ピロリジニル）カルボニルブチル、５−（１−ピロリ
ジニル）カルボニルペンチル、６−（１−ピロリジニ
ル）カルボニルへキシル基等を例示できる。
キル基としては、例えば１−ピロリジニルカルボニルメ
チル、２−（１−ピロリジニル）カルボニルエチル、３
−（１−ピロリジニル）カルボニルプロピル、４−（１
−ピロリジニル）カルボニルブチル、５−（１−ピロリ
ジニル）カルボニルペンチル、６−（１−ピロリジニ
ル）カルボニルへキシル基等を例示できる。
【００２２】ピペリジノカルボニル低級アルキル基とし
ては、例えばピペリジノカルボニルメチル、２−ピペリ
ジノカルボニルエチル、３−ピペリジノカルボニルプロ
ピル、４−ピペリジノカルボニルブチル、５−ピペリジ
ノカルボニルペンチル、６−ピペリジノカルボニルヘキ
シル基等を例示できる。
ては、例えばピペリジノカルボニルメチル、２−ピペリ
ジノカルボニルエチル、３−ピペリジノカルボニルプロ
ピル、４−ピペリジノカルボニルブチル、５−ピペリジ
ノカルボニルペンチル、６−ピペリジノカルボニルヘキ
シル基等を例示できる。
【００２３】４−メチル−１−ピペラジニルカルボニル
低級アルキル基としては、例えば４−メチル−１−ピペ
ラジニルカルボニルメチル、２−（４−メチル−１−ピ
ペラジニル）カルボニルエチル、３−（４−メチル−１
−ピペラジニル）カルボニルプロピル、４−（４−メチ
ル−１−ピペラジニル）カルボニルブチル、５−（４−
メチル−１−ピペラジニル）カルボニルペンチル、６−
（４−メチル−１−ピペラジニル）カルボニルヘキシル
基等を例示できる。
低級アルキル基としては、例えば４−メチル−１−ピペ
ラジニルカルボニルメチル、２−（４−メチル−１−ピ
ペラジニル）カルボニルエチル、３−（４−メチル−１
−ピペラジニル）カルボニルプロピル、４−（４−メチ
ル−１−ピペラジニル）カルボニルブチル、５−（４−
メチル−１−ピペラジニル）カルボニルペンチル、６−
（４−メチル−１−ピペラジニル）カルボニルヘキシル
基等を例示できる。
【００２４】ヒドロキシ低級アルキル基としては、例え
ばヒドロキシメチル、２−ヒドロキシエチル、３−ヒド
ロキシプロピル、４−ヒドロキシブチル、５−ヒドロキ
シペンチル、６−ヒドロキシヘキシル基等を例示でき
る。
ばヒドロキシメチル、２−ヒドロキシエチル、３−ヒド
ロキシプロピル、４−ヒドロキシブチル、５−ヒドロキ
シペンチル、６−ヒドロキシヘキシル基等を例示でき
る。
【００２５】ジヒドロキシ低級アルキル基としては、例
えば１，２−ジヒドロキシエチル、２，３−ジヒドロキ
シプロピル、３，４−ジヒドロキシブチル、４，５−ジ
ヒドロキシペンチル、５，６−ジヒドロキシヘキシル基
等を例示できる。
えば１，２−ジヒドロキシエチル、２，３−ジヒドロキ
シプロピル、３，４−ジヒドロキシブチル、４，５−ジ
ヒドロキシペンチル、５，６−ジヒドロキシヘキシル基
等を例示できる。
【００２６】オキソ低級アルキル基としては、例えばホ
ルミル、アセチル、２−オキソエチル、プロピオニル、
２−オキソプロピル、３−オキソプロピル、ブチリル、
２−オキソブチル、３−オキソブチル、４−オキソブチ
ル、ペンタノイル、２−オキソペンチル、３−オキソペ
ンチル、４−オキソペンチル、５−オキソペンチル、ヘ
キサノイル、２−オキソヘキシル、３−オキソヘキシ
ル、４−オキソヘキシル、５−オキソヘキシル、６−オ
キソヘキシル基等を例示できる。
ルミル、アセチル、２−オキソエチル、プロピオニル、
２−オキソプロピル、３−オキソプロピル、ブチリル、
２−オキソブチル、３−オキソブチル、４−オキソブチ
ル、ペンタノイル、２−オキソペンチル、３−オキソペ
ンチル、４−オキソペンチル、５−オキソペンチル、ヘ
キサノイル、２−オキソヘキシル、３−オキソヘキシ
ル、４−オキソヘキシル、５−オキソヘキシル、６−オ
キソヘキシル基等を例示できる。
【００２７】ジ低級アルキルホスホロアミノ基として
は、例えばジメチルホスホロアミノ、ジエチルホスホロ
アミノ、ジプロピルホスホロアミノ、ジイソプロピルホ
スホロアミノ、ジブチルホスホロアミノ、ジペンチルホ
スホロアミノ、ジヘキシルホスホロアミノ基等を例示で
きる。
は、例えばジメチルホスホロアミノ、ジエチルホスホロ
アミノ、ジプロピルホスホロアミノ、ジイソプロピルホ
スホロアミノ、ジブチルホスホロアミノ、ジペンチルホ
スホロアミノ、ジヘキシルホスホロアミノ基等を例示で
きる。
【００２８】低級アルカノイルアミノ基としては、例え
ばアセチルアミノ、プロピオニルアミノ、ブチリルアミ
ノ、バレリルアミノ、ピバロイルアミノ、ヘキサノイル
アミノ、ヘプタノイルアミノ基等を例示できる。
ばアセチルアミノ、プロピオニルアミノ、ブチリルアミ
ノ、バレリルアミノ、ピバロイルアミノ、ヘキサノイル
アミノ、ヘプタノイルアミノ基等を例示できる。
【００２９】低級アルキルスルホニルアミノ基として
は、例えばメチルスルホニルアミノ、エチルスルホニル
アミノ、プロピルスルホニルアミノ、ブチルスルホニル
アミノ、ペンチルスルホニルアミノ、ヘキシルスルホニ
ルアミノ基等を例示できる。
は、例えばメチルスルホニルアミノ、エチルスルホニル
アミノ、プロピルスルホニルアミノ、ブチルスルホニル
アミノ、ペンチルスルホニルアミノ、ヘキシルスルホニ
ルアミノ基等を例示できる。
【００３０】置換基としてハロゲン原子、ヒドロキシル
基及び低級アルキル基から選ばれる基の１〜２個を有す
ることのあるフェニル基としては、フェニル基に加え
て、例えば２−クロロフェニル、３−クロロフェニル、
４−クロロフェニル、２−ブロモフェニル、３−ブロモ
フェニル、４−ブロモフェニル、４−ヨードフェニル、
４−フルオロフェニル、２−ヒドロキシフェニル、３−
ヒドロキシフェニル、４−ヒドロキシフェニル、２−メ
チルフェニル、３−メチルフェニル、４−メチルフェニ
ル、４−エチルフェニル、４−プロピルフェニル、４−
ブチルフェニル、４−ペンチルフェニル、４−ヘキシル
フェニル、３，４−ジクロロフェニル、３，４−ジヒド
ロキシフェニル、３，４−ジメチルフェニル、３−クロ
ロ−４−ヒドロキシフェニル、３−クロロ−４−メチル
フェニル、４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル基等を
例示できる。
基及び低級アルキル基から選ばれる基の１〜２個を有す
ることのあるフェニル基としては、フェニル基に加え
て、例えば２−クロロフェニル、３−クロロフェニル、
４−クロロフェニル、２−ブロモフェニル、３−ブロモ
フェニル、４−ブロモフェニル、４−ヨードフェニル、
４−フルオロフェニル、２−ヒドロキシフェニル、３−
ヒドロキシフェニル、４−ヒドロキシフェニル、２−メ
チルフェニル、３−メチルフェニル、４−メチルフェニ
ル、４−エチルフェニル、４−プロピルフェニル、４−
ブチルフェニル、４−ペンチルフェニル、４−ヘキシル
フェニル、３，４−ジクロロフェニル、３，４−ジヒド
ロキシフェニル、３，４−ジメチルフェニル、３−クロ
ロ−４−ヒドロキシフェニル、３−クロロ−４−メチル
フェニル、４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル基等を
例示できる。
【００３１】置換基としてジ低級アルキルホスホロアミ
ノ基、低級アルキル基、ヒドロキシル基、ヒドロキシ低
級アルキル基、ニトロ基、低級アルカノイルアミノ基、
低級アルキルスルホニルアミノ基、低級アルコキシ基及
びカルボキシル基から選ばれる基の１〜３個を有するこ
とのあるフェニル基としては、フェニル基に加えて、例
えば２−ジエチルホスホロアミノフェニル、３−ジエチ
ルホスホロアミノフェニル、４−ジエチルホスホロアミ
ノフェニル、２−メチルフェニル、３−メチルフェニ
ル、４−メチルフェニル、４−エチルフェニル、４−プ
ロピルフェニル、４−ブチルフェニル、４−ペンチルフ
ェニル、４−ヘキシルフェニル、２−ヒドロキシフェニ
ル、３−ヒドロキシフェニル、４−ヒドロキシフェニ
ル、２−ヒドロキシメチルフェニル、３−ヒドロキシメ
チルフェニル、４−ヒドロキシメチルフェニル、２−ニ
トロフェニル、３−ニトロフェニル、４−ニトロフェニ
ル、２−アセチルアミノフェニル、３−アセチルアミノ
フェニル、４−アセチルアミノフェニル、４−プロピオ
ニルアミノフェニル、４−ブチリルアミノフェニル、４
−バレリルアミノフェニル、４−ピバロイルアミノフェ
ニル、４−ヘキサノイルアミノフェニル、４−ヘプタノ
イルアミノフェニル、２−メチルスルホニルアミノフェ
ニル、３−メチルスルホニルアミノフェニル、４−メチ
ルスルホニルアミノフェニル、４−エチルスルホニルア
ミノフェニル、４−プロピルスルホニルアミノフェニ
ル、４−ブチルスルホニルアミノフェニル、４−ペンチ
ルスルホニルアミノフェニル、４−ヘキシルスルホニル
アミノフェニル、２−メトキシフェニル、３−メトキシ
フェニル、４−メトキシフェニル、４−エトキシフェニ
ル、４−プロポキシフェニル、４−ブトキシフェニル、
４−ペンチルオキシフェニル、４−ヘキシルオキシフェ
ニル、２−カルボキシフェニル、３−カルボキシフェニ
ル、４−カルボキシフェニル、４−カルボキシ−３−メ
トキシフェニル、２−カルボキシ−３−メトキシフェニ
ル、３−カルボキシ−２−メトキシフェニル、３−カル
ボキシ−４−メトキシフェニル基、３，４−ジメチルフ
ェニル、３，４−ジヒドロキシフェニル、３，４−ビス
（ヒドロキシメチル）フェニル、２，４−ジニトロフェ
ニル、３，４−ジメトキシフェニル、３，４−ジカルボ
キシフェニル、４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル、
３−ヒドロキシ−４−メチルフェニル、４−ヒドロキシ
メチル−３−メチルフェニル、４−カルボキシ−３−ヒ
ドロキシフェニル、３−カルボキシ−４−ヒドロキシフ
ェニル、４−メチル−２−ニトロフェニル、４−メトキ
シ−２−ニトロフェニル、３−ヒドロキシメチル−４−
メトキシフェニル、２−アセチルアミノ−４−メトキシ
フェニル、２−アセチルアミノ−４−メチルフェニル、
３，５−ビス（ジエチルホスホロアミノ）フェニル、
３，５−ビス（アセチルアミノ）フェニル、３，５−ビ
ス（メチルホスホニルアミノ）フェニル、３，４，５−
トリメチルフェニル、３，４，５−トリエチルフェニ
ル、３，４，５−トリヒドロキシフェニル、２，４，６
−トリニトロフェニル、３，４，５−トリメトキシフェ
ニル、３，４，５−トリエトキシフェニル、４−ヒドロ
キシ−３，５−ジメトキシフェニル、４−ヒドロキシ−
３，５−ジメチルフェニル、３，５−ジメチル−４−メ
トキシフェニル基等を例示できる。
ノ基、低級アルキル基、ヒドロキシル基、ヒドロキシ低
級アルキル基、ニトロ基、低級アルカノイルアミノ基、
低級アルキルスルホニルアミノ基、低級アルコキシ基及
びカルボキシル基から選ばれる基の１〜３個を有するこ
とのあるフェニル基としては、フェニル基に加えて、例
えば２−ジエチルホスホロアミノフェニル、３−ジエチ
ルホスホロアミノフェニル、４−ジエチルホスホロアミ
ノフェニル、２−メチルフェニル、３−メチルフェニ
ル、４−メチルフェニル、４−エチルフェニル、４−プ
ロピルフェニル、４−ブチルフェニル、４−ペンチルフ
ェニル、４−ヘキシルフェニル、２−ヒドロキシフェニ
ル、３−ヒドロキシフェニル、４−ヒドロキシフェニ
ル、２−ヒドロキシメチルフェニル、３−ヒドロキシメ
チルフェニル、４−ヒドロキシメチルフェニル、２−ニ
トロフェニル、３−ニトロフェニル、４−ニトロフェニ
ル、２−アセチルアミノフェニル、３−アセチルアミノ
フェニル、４−アセチルアミノフェニル、４−プロピオ
ニルアミノフェニル、４−ブチリルアミノフェニル、４
−バレリルアミノフェニル、４−ピバロイルアミノフェ
ニル、４−ヘキサノイルアミノフェニル、４−ヘプタノ
イルアミノフェニル、２−メチルスルホニルアミノフェ
ニル、３−メチルスルホニルアミノフェニル、４−メチ
ルスルホニルアミノフェニル、４−エチルスルホニルア
ミノフェニル、４−プロピルスルホニルアミノフェニ
ル、４−ブチルスルホニルアミノフェニル、４−ペンチ
ルスルホニルアミノフェニル、４−ヘキシルスルホニル
アミノフェニル、２−メトキシフェニル、３−メトキシ
フェニル、４−メトキシフェニル、４−エトキシフェニ
ル、４−プロポキシフェニル、４−ブトキシフェニル、
４−ペンチルオキシフェニル、４−ヘキシルオキシフェ
ニル、２−カルボキシフェニル、３−カルボキシフェニ
ル、４−カルボキシフェニル、４−カルボキシ−３−メ
トキシフェニル、２−カルボキシ−３−メトキシフェニ
ル、３−カルボキシ−２−メトキシフェニル、３−カル
ボキシ−４−メトキシフェニル基、３，４−ジメチルフ
ェニル、３，４−ジヒドロキシフェニル、３，４−ビス
（ヒドロキシメチル）フェニル、２，４−ジニトロフェ
ニル、３，４−ジメトキシフェニル、３，４−ジカルボ
キシフェニル、４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル、
３−ヒドロキシ−４−メチルフェニル、４−ヒドロキシ
メチル−３−メチルフェニル、４−カルボキシ−３−ヒ
ドロキシフェニル、３−カルボキシ−４−ヒドロキシフ
ェニル、４−メチル−２−ニトロフェニル、４−メトキ
シ−２−ニトロフェニル、３−ヒドロキシメチル−４−
メトキシフェニル、２−アセチルアミノ−４−メトキシ
フェニル、２−アセチルアミノ−４−メチルフェニル、
３，５−ビス（ジエチルホスホロアミノ）フェニル、
３，５−ビス（アセチルアミノ）フェニル、３，５−ビ
ス（メチルホスホニルアミノ）フェニル、３，４，５−
トリメチルフェニル、３，４，５−トリエチルフェニ
ル、３，４，５−トリヒドロキシフェニル、２，４，６
−トリニトロフェニル、３，４，５−トリメトキシフェ
ニル、３，４，５−トリエトキシフェニル、４−ヒドロ
キシ−３，５−ジメトキシフェニル、４−ヒドロキシ−
３，５−ジメチルフェニル、３，５−ジメチル−４−メ
トキシフェニル基等を例示できる。
【００３２】上記一般式（１）で表わされる本発明クマ
リン誘導体は、優れた血糖降下作用を有しており、血糖
降下剤として糖尿病の治療及び予防に有用である。
リン誘導体は、優れた血糖降下作用を有しており、血糖
降下剤として糖尿病の治療及び予防に有用である。
【００３３】以下、本発明クマリン誘導体の製造方法の
一例につき、反応工程式を挙げて説明する。
一例につき、反応工程式を挙げて説明する。
【００３４】
【化３】
【００３５】〔式中、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は前記に同
じ。〕 上記工程式によれば、まず化合物（２）を、アルカリの
存在下に、ヨードベンゼンジアセテートと反応させるこ
とにより、化合物（３）を得る。該反応においては、溶
媒として水を好適に使用でき、アルカリとしては炭酸ナ
トリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水
素カリウム等を例示できる。上記アルカリ及びヨードベ
ンゼンジアセテートの使用量は、それぞれ原料化合物を
基準として等モル量〜少過剰量とするのが好ましい、反
応は、０℃〜室温付近の温度で約１〜１０時間を要して
行なわれる。
じ。〕 上記工程式によれば、まず化合物（２）を、アルカリの
存在下に、ヨードベンゼンジアセテートと反応させるこ
とにより、化合物（３）を得る。該反応においては、溶
媒として水を好適に使用でき、アルカリとしては炭酸ナ
トリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水
素カリウム等を例示できる。上記アルカリ及びヨードベ
ンゼンジアセテートの使用量は、それぞれ原料化合物を
基準として等モル量〜少過剰量とするのが好ましい、反
応は、０℃〜室温付近の温度で約１〜１０時間を要して
行なわれる。
【００３６】次に、上記で得られる化合物（３）をチオ
エーテル誘導体（４）と反応させることにより本発明化
合物（１）を得ることができる。該反応は、メタノー
ル、エタノール等の低級アルコールを溶媒として用い、
ｐ−トルエンスルホン酸、酢酸等の酸触媒を適量添加し
て行なうことができる。チオエーテル誘導体（４）の使
用量は、化合物（３）に対して１〜１０倍モル量程度と
するのがよく、反応は室温〜還流温度にて１０分〜２４
時間程度で完了する。
エーテル誘導体（４）と反応させることにより本発明化
合物（１）を得ることができる。該反応は、メタノー
ル、エタノール等の低級アルコールを溶媒として用い、
ｐ−トルエンスルホン酸、酢酸等の酸触媒を適量添加し
て行なうことができる。チオエーテル誘導体（４）の使
用量は、化合物（３）に対して１〜１０倍モル量程度と
するのがよく、反応は室温〜還流温度にて１０分〜２４
時間程度で完了する。
【００３７】上記のごとくして得られる本発明化合物
（１）は、下記に示す共鳴構造を取ると考えられ、従っ
て、それらのいずれの構造式でも表わし得る。
（１）は、下記に示す共鳴構造を取ると考えられ、従っ
て、それらのいずれの構造式でも表わし得る。
【００３８】
【化４】
【００３９】かくして得られる本発明化合物は、通常の
分離手段により容易に単離精製できる。該手段としては
例えば吸着クロマトグラフィー、プレパラティブ薄層ク
ロマトグラフィー、再結晶、溶媒抽出等を例示できる。
分離手段により容易に単離精製できる。該手段としては
例えば吸着クロマトグラフィー、プレパラティブ薄層ク
ロマトグラフィー、再結晶、溶媒抽出等を例示できる。
【００４０】尚、本発明化合物の一部には、硫黄原子及
び／又は炭素原子を不斉中心とする光学異性体が存在す
るものがあり、本発明は当然ラセミ体、光学活性体の両
方を包含する。上記光学異性体は、慣用の分割法、例え
ば光学分割剤を使用する方法等で分離することができ
る。
び／又は炭素原子を不斉中心とする光学異性体が存在す
るものがあり、本発明は当然ラセミ体、光学活性体の両
方を包含する。上記光学異性体は、慣用の分割法、例え
ば光学分割剤を使用する方法等で分離することができ
る。
【００４１】
【実施例】以下、本発明を更に詳しく説明するため、本
発明化合物の原料化合物の製造例を参考例として挙げ、
次いで本発明化合物の製造例を実施例として挙げる。
発明化合物の原料化合物の製造例を参考例として挙げ、
次いで本発明化合物の製造例を実施例として挙げる。
【００４２】また、各例で得られた化合物の構造、融点
及び1Ｈ−ＮＭＲスペクトルデータを第１表に記載す
る。尚、1Ｈ−ＮＭＲスペクトルは、内部基準としてＴ
ＭＳを用いて測定した。
及び1Ｈ−ＮＭＲスペクトルデータを第１表に記載す
る。尚、1Ｈ−ＮＭＲスペクトルは、内部基準としてＴ
ＭＳを用いて測定した。
【００４３】
【参考例１】７−クロロ−３−（フェニルヨードニウ
ム）クマリン−４−オラートの製造 １．９ｇの炭酸ナトリウムを水１２０ｍｌに溶解し、こ
の水溶液に３．５ｇの７−クロロ−４−ヒドロキシクマ
リンを溶かし、更に室温下、ヨードベンゼンジアセテー
ト５．８ｇを加え、室温で３時間攪拌した。反応終了
後、析出した結晶を濾取し、メタノールで洗浄した後、
６０℃で５時間減圧乾燥して目的化合物の結晶６．６ｇ
（融点：１６４〜１６５℃）を得た。1 Ｈ−ＮＭＲ（δ：ｐｐｍ）〔ＤＭＳＯ−ｄ6〕；7.39(1
H,dd,J=2.0,8.4),7.48-7.64(4H,m),7.93-7.99(3H,m) 更に同様にして、下記の各化合物を製造した。
ム）クマリン−４−オラートの製造 １．９ｇの炭酸ナトリウムを水１２０ｍｌに溶解し、こ
の水溶液に３．５ｇの７−クロロ−４−ヒドロキシクマ
リンを溶かし、更に室温下、ヨードベンゼンジアセテー
ト５．８ｇを加え、室温で３時間攪拌した。反応終了
後、析出した結晶を濾取し、メタノールで洗浄した後、
６０℃で５時間減圧乾燥して目的化合物の結晶６．６ｇ
（融点：１６４〜１６５℃）を得た。1 Ｈ−ＮＭＲ（δ：ｐｐｍ）〔ＤＭＳＯ−ｄ6〕；7.39(1
H,dd,J=2.0,8.4),7.48-7.64(4H,m),7.93-7.99(3H,m) 更に同様にして、下記の各化合物を製造した。
【００４４】・３−（フェニルヨードニウム）クマリン
−４−オラート 融点：１４１〜１４２℃1 Ｈ−ＮＭＲ（δ：ｐｐｍ）〔ＣＤＣｌ3〕；7.15-7.56
(6H,m),7.95(2H,d,J=8.4),8.02(1H,d,J=7.9) ・６−フルオロ−３−（フェニルヨードニウム）クマリ
ン−４−オラート 融点：１１５〜１１８℃1 Ｈ−ＮＭＲ（δ：ｐｐｍ）〔ＤＭＳＯ−ｄ6〕；7.33-
7.49(4H,m),7.52-7.60(2H,m),7.87(2H,d,J=8.4) ・６−メチル−３−（フェニルヨードニウム）クマリン
−４−オラート 融点：１４８〜１４９℃1 Ｈ−ＮＭＲ（δ：ｐｐｍ）〔ＤＭＳＯ−ｄ6〕；2.37(3
H,s),7.10(1H,d,J=8.4),7.27-7.40(3H,m),7.53(1H,dd,J
=7.4,7.4),7.77(1H,d,J=2.0),7.94(2H,d,J=7.4) ・５−メトキシ−３−（フェニルヨードニウム）クマリ
ン−４−オラート 融点：１８０〜１８１℃1 Ｈ−ＮＭＲ（δ：ｐｐｍ）〔ＤＭＳＯ−ｄ6〕；3.86(3
H,s),6.90(1H,dd,J=3.0,8.4),7.47-7.63(4H,m),7.91(2
H,d,J=8.4) ・７−メトキシ−３−（フェニルヨードニウム）クマリ
ン−４−オラート 融点：１５４〜１５５℃1 Ｈ−ＮＭＲ（δ：ｐｐｍ）〔ＤＭＳＯ−ｄ6〕；3.85(3
H,s),6.71(1H,d,J=2.5),6.78(1H,dd,J=2.5,8.9),7.37(2
H,dd,J=7.9,7.9),,7.51(1H,dd,J=7.4,7.4),7.93-8.01(3
H,m) ・６−クロロ−３−（フェニルヨードニウム）クマリン
−４−オラート 融点：１２９〜１３０℃1 Ｈ−ＮＭＲ（δ：ｐｐｍ）〔ＤＭＳＯ−ｄ6〕；7.41-
7.54(3H,m),7.59-7.65(1H,m),7.69(1H,dd,J=2.7,8.7),
7.90(1H,d,J=2.7),7.95(2H,d,J=7.4)
−４−オラート 融点：１４１〜１４２℃1 Ｈ−ＮＭＲ（δ：ｐｐｍ）〔ＣＤＣｌ3〕；7.15-7.56
(6H,m),7.95(2H,d,J=8.4),8.02(1H,d,J=7.9) ・６−フルオロ−３−（フェニルヨードニウム）クマリ
ン−４−オラート 融点：１１５〜１１８℃1 Ｈ−ＮＭＲ（δ：ｐｐｍ）〔ＤＭＳＯ−ｄ6〕；7.33-
7.49(4H,m),7.52-7.60(2H,m),7.87(2H,d,J=8.4) ・６−メチル−３−（フェニルヨードニウム）クマリン
−４−オラート 融点：１４８〜１４９℃1 Ｈ−ＮＭＲ（δ：ｐｐｍ）〔ＤＭＳＯ−ｄ6〕；2.37(3
H,s),7.10(1H,d,J=8.4),7.27-7.40(3H,m),7.53(1H,dd,J
=7.4,7.4),7.77(1H,d,J=2.0),7.94(2H,d,J=7.4) ・５−メトキシ−３−（フェニルヨードニウム）クマリ
ン−４−オラート 融点：１８０〜１８１℃1 Ｈ−ＮＭＲ（δ：ｐｐｍ）〔ＤＭＳＯ−ｄ6〕；3.86(3
H,s),6.90(1H,dd,J=3.0,8.4),7.47-7.63(4H,m),7.91(2
H,d,J=8.4) ・７−メトキシ−３−（フェニルヨードニウム）クマリ
ン−４−オラート 融点：１５４〜１５５℃1 Ｈ−ＮＭＲ（δ：ｐｐｍ）〔ＤＭＳＯ−ｄ6〕；3.85(3
H,s),6.71(1H,d,J=2.5),6.78(1H,dd,J=2.5,8.9),7.37(2
H,dd,J=7.9,7.9),,7.51(1H,dd,J=7.4,7.4),7.93-8.01(3
H,m) ・６−クロロ−３−（フェニルヨードニウム）クマリン
−４−オラート 融点：１２９〜１３０℃1 Ｈ−ＮＭＲ（δ：ｐｐｍ）〔ＤＭＳＯ−ｄ6〕；7.41-
7.54(3H,m),7.59-7.65(1H,m),7.69(1H,dd,J=2.7,8.7),
7.90(1H,d,J=2.7),7.95(2H,d,J=7.4)
【００４５】
【実施例１】３−〔メチル（ジエチルホスホロメチル）
スルホニオ〕クマリン−４−オラートの製造 メタノール２０ｍｌに３−（フェニルヨードニウム）ク
マリン−４−オラート１．５ｇ、ジエチルメチルチオメ
チルホスホナート１．６ｇ及びｐ−トルエンスルホン酸
１００ｍｇを溶かし、５０℃で３０分攪拌した。反応終
了後メタノールを留去し、残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー（展開溶媒…メタノール：クロロホルム
＝１：２０）で精製して結晶を得、これを更にジエチル
エーテルで洗浄して目的化合物の結晶１．０ｇを得た。
スルホニオ〕クマリン−４−オラートの製造 メタノール２０ｍｌに３−（フェニルヨードニウム）ク
マリン−４−オラート１．５ｇ、ジエチルメチルチオメ
チルホスホナート１．６ｇ及びｐ−トルエンスルホン酸
１００ｍｇを溶かし、５０℃で３０分攪拌した。反応終
了後メタノールを留去し、残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー（展開溶媒…メタノール：クロロホルム
＝１：２０）で精製して結晶を得、これを更にジエチル
エーテルで洗浄して目的化合物の結晶１．０ｇを得た。
【００４６】
【実施例２〜８３】実施例１と同様にして、第１表に記
載の各化合物を合成した。
載の各化合物を合成した。
【００４７】更に、実施例１と同様にして、下記の各化
合物を合成することができる。
合物を合成することができる。
【００４８】・３−〔メチル（ジメチルホスホロメチ
ル）スルホニオ〕クマリン−４−オラート ・３−〔エチル（ジメチルホスホロメチル）スルホニ
オ〕クマリン−４−オラート ・７−クロロ−３−〔メチル（ジメチルホスホロメチ
ル）スルホニオ〕クマリン−４−オラート ・７−クロロ−３−〔エチル（ジメチルホスホロメチ
ル）スルホニオ〕クマリン−４−オラート ・３−〔メチル（ジイソプロピルホスホロメチル）スル
ホニオ〕クマリン−４−オラート ・３−〔エチル（ジイソプロピルホスホロメチル）スル
ホニオ〕クマリン−４−オラート ・７−クロロ−３−〔メチル（ジイソプロピルホスホロ
メチル）スルホニオ〕クマリン−４−オラート ・７−クロロ−３−〔エチル（ジイソプロピルホスホロ
メチル）スルホニオ〕クマリン−４−オラート ・７−クロロ−３−〔エチル（メトキシカルボニルメチ
ル）スルホニオ〕クマリン−４−オラート ・７−クロロ−３−〔エチル（エトキシカルボニルメチ
ル）スルホニオ〕クマリン−４−オラート ・３−〔メチル（イソプロポキシカルボニルメチル）ス
ルホニオ〕クマリン−４−オラート ・３−〔エチル（イソプロポキシカルボニルメチル）ス
ルホニオ〕クマリン−４−オラート ・７−クロロ−３−〔メチル（イソプロポキシカルボニ
ルメチル）スルホニオ〕クマリン−４−オラート ・７−クロロ−３−〔エチル（イソプロポキシカルボニ
ルメチル）スルホニオ〕クマリン−４−オラート ・３−〔エチル（ピペリジノカルボニルメチル）スルホ
ニオ〕クマリン−４−オラート ・７−クロロ−３−〔エチル（１−ピロリジニルカルボ
ニルメチル）スルホニオ〕クマリン−４−オラート ・７−クロロ−３−〔メチル（ピペリジノカルボニルメ
チル）スルホニオ〕クマリン−４−オラート ・７−クロロ−３−〔エチル（ピペリジノカルボニルメ
チル）スルホニオ〕クマリン−４−オラート
ル）スルホニオ〕クマリン−４−オラート ・３−〔エチル（ジメチルホスホロメチル）スルホニ
オ〕クマリン−４−オラート ・７−クロロ−３−〔メチル（ジメチルホスホロメチ
ル）スルホニオ〕クマリン−４−オラート ・７−クロロ−３−〔エチル（ジメチルホスホロメチ
ル）スルホニオ〕クマリン−４−オラート ・３−〔メチル（ジイソプロピルホスホロメチル）スル
ホニオ〕クマリン−４−オラート ・３−〔エチル（ジイソプロピルホスホロメチル）スル
ホニオ〕クマリン−４−オラート ・７−クロロ−３−〔メチル（ジイソプロピルホスホロ
メチル）スルホニオ〕クマリン−４−オラート ・７−クロロ−３−〔エチル（ジイソプロピルホスホロ
メチル）スルホニオ〕クマリン−４−オラート ・７−クロロ−３−〔エチル（メトキシカルボニルメチ
ル）スルホニオ〕クマリン−４−オラート ・７−クロロ−３−〔エチル（エトキシカルボニルメチ
ル）スルホニオ〕クマリン−４−オラート ・３−〔メチル（イソプロポキシカルボニルメチル）ス
ルホニオ〕クマリン−４−オラート ・３−〔エチル（イソプロポキシカルボニルメチル）ス
ルホニオ〕クマリン−４−オラート ・７−クロロ−３−〔メチル（イソプロポキシカルボニ
ルメチル）スルホニオ〕クマリン−４−オラート ・７−クロロ−３−〔エチル（イソプロポキシカルボニ
ルメチル）スルホニオ〕クマリン−４−オラート ・３−〔エチル（ピペリジノカルボニルメチル）スルホ
ニオ〕クマリン−４−オラート ・７−クロロ−３−〔エチル（１−ピロリジニルカルボ
ニルメチル）スルホニオ〕クマリン−４−オラート ・７−クロロ−３−〔メチル（ピペリジノカルボニルメ
チル）スルホニオ〕クマリン−４−オラート ・７−クロロ−３−〔エチル（ピペリジノカルボニルメ
チル）スルホニオ〕クマリン−４−オラート
【００４９】
【表１】
【００５０】
【表２】
【００５１】
【表３】
【００５２】
【表４】
【００５３】
【表５】
【００５４】
【表６】
【００５５】
【表７】
【００５６】
【表８】
【００５７】
【表９】
【００５８】
【表１０】
【００５９】
【表１１】
【００６０】
【表１２】
【００６１】
【表１３】
【００６２】
【表１４】
【００６３】
【表１５】
【００６４】
【表１６】
【００６５】
【表１７】
【００６６】
【表１８】
【００６７】
【表１９】
【００６８】
【表２０】
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成８年１１月１３日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項３
【補正方法】変更
【補正内容】
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項４
【補正方法】変更
【補正内容】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ａ６１Ｋ 31/38 Ａ６１Ｋ 31/38 31/395 31/395 31/40 31/40 31/445 31/445 31/495 31/495 31/54 31/54 31/665 31/665
Claims (5)
- 【請求項１】 一般式 【化１】 〔式中、Ｒ1は水素原子、低級アルキル基、低級アルコ
キシ基又はハロゲン原子を、Ｒ2は低級アルキル基、フ
ェニル低級アルキル基、カルボキシ低級アルキル基、低
級アルコキシカルボニル低級アルキル基、ヒドロキシ低
級アルキル基、シクロアルキル基又は置換基としてハロ
ゲン原子、ヒドロキシル基及び低級アルキル基から選ば
れる基の１〜２個を有することのあるフェニル基を、Ｒ
3はジ低級アルキルホスホロ低級アルキル基、カルボキ
シ低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル低級アル
キル基、カルバモイル低級アルキル基、Ｎ−低級アルキ
ルカルバモイル低級アルキル基、Ｎ−シクロアルキルカ
ルバモイル低級アルキル基、Ｎ−低級アルキル−Ｎ−フ
ェニルカルバモイル低級アルキル基、Ｎ，Ｎ−ジ低級ア
ルキルカルバモイル低級アルキル基、カルボキシ−Ｎ−
低級アルカノイルアミノ低級アルキル基、１−ピロリジ
ニルカルボニル低級アルキル基、ピペリジノカルボニル
低級アルキル基、４−メチル−１−ピペラジニルカルボ
ニル低級アルキル基、ヒドロキシ低級アルキル基、ジヒ
ドロキシ低級アルキル基、オキソ低級アルキル基、フェ
ニル低級アルキル基、ジヒドロ−２（３Ｈ）−フラノン
−３−イル基又は置換基としてジ低級アルキルホスホロ
アミノ基、低級アルキル基、ヒドロキシル基、ヒドロキ
シ低級アルキル基、ニトロ基、低級アルカノイルアミノ
基、低級アルキルスルホニルアミノ基、低級アルコキシ
基及びカルボキシル基から選ばれる基の１〜３個を有す
ることのあるフェニル基を示すか、あるいはＲ2及びＲ3
は互いに結合してそれらが結合する硫黄原子と共に２Ｈ
−１，４−ベンゾチアジン−３（４Ｈ）−オン環、４−
メチル−２Ｈ−１，４−ベンゾチアジン−３（４Ｈ）−
オン環、１，４−チオキサン環、４−ベンゾイル−４Ｈ
−１，４−チアジン環、ジヒドロ−３（２Ｈ）−チオフ
ェノン環、１，４−ジチアン環又は２−メチルテトラヒ
ドロチオフェン環を形成してもよい。〕で表わされるク
マリン誘導体。 - 【請求項２】 Ｒ1が水素原子又はハロゲン原子である
請求項１に記載のクマリン誘導体。 - 【請求項３】 Ｒ2が低級アルキル基又はヒドロキシフ
ェニル基であるか、あるいはＲ3と互いに結合してそれ
らが結合する硫黄原子と共にテトラヒドロチオフェン環
を形成する請求項２に記載のクマリン誘導体。 - 【請求項４】 Ｒ3がジ低級アルキルホスホロ低級アル
キル基、低級アルコキシカルボニル低級アルキル基、１
−ピロリジニルカルボニル低級アルキル基又はヒドロキ
シフェニル基であるか、あるいはＲ2と互いに結合して
それらが結合する硫黄原子と共にテトラヒドロチオフェ
ン環を形成する請求項３に記載のクマリン誘導体。 - 【請求項５】 ３−〔メチル（ジエチルホスホロメチ
ル）スルホニオ〕クマリン−４−オラート、３−〔エチ
ル（ジエチルホスホロメチル）スルホニオ〕クマリン−
４−オラート、３−〔メチル（エトキシカルボニルメチ
ル）スルホニオ〕クマリン−４−オラート及び３−〔メ
チル（メトキシカルボニルメチル）スルホニオ〕クマリ
ン−４−オラートから選ばれる請求項４記載のクマリン
誘導体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12549896A JPH0952891A (ja) | 1995-06-08 | 1996-05-21 | クマリン誘導体 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14205695 | 1995-06-08 | ||
| JP7-142056 | 1995-06-08 | ||
| JP12549896A JPH0952891A (ja) | 1995-06-08 | 1996-05-21 | クマリン誘導体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0952891A true JPH0952891A (ja) | 1997-02-25 |
Family
ID=26461930
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12549896A Pending JPH0952891A (ja) | 1995-06-08 | 1996-05-21 | クマリン誘導体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0952891A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1151021A4 (en) * | 1998-12-08 | 2002-10-02 | James V Crivello | INITIATOR PREPARATIONS AND METHODS FOR THEIR PRODUCTION AND USE |
| WO2005112963A3 (en) * | 2004-05-12 | 2006-03-09 | Phytomedics Inc | Phytomedicinal compositions for the control of lipid accumulation and metabolism in mammals |
| US10131646B2 (en) | 2015-03-18 | 2018-11-20 | Adeka Corporation | Aromatic sulfonium salt compound, photoacid generator, resist composition, cationic polymerization initiator, and cationically polymerizable composition |
| CN108864020A (zh) * | 2018-09-28 | 2018-11-23 | 中国药科大学 | 7－取代氨基－4－甲基香豆素衍生物、其制备方法及医药用途 |
-
1996
- 1996-05-21 JP JP12549896A patent/JPH0952891A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1151021A4 (en) * | 1998-12-08 | 2002-10-02 | James V Crivello | INITIATOR PREPARATIONS AND METHODS FOR THEIR PRODUCTION AND USE |
| WO2005112963A3 (en) * | 2004-05-12 | 2006-03-09 | Phytomedics Inc | Phytomedicinal compositions for the control of lipid accumulation and metabolism in mammals |
| US10131646B2 (en) | 2015-03-18 | 2018-11-20 | Adeka Corporation | Aromatic sulfonium salt compound, photoacid generator, resist composition, cationic polymerization initiator, and cationically polymerizable composition |
| CN108864020A (zh) * | 2018-09-28 | 2018-11-23 | 中国药科大学 | 7－取代氨基－4－甲基香豆素衍生物、其制备方法及医药用途 |
| CN108864020B (zh) * | 2018-09-28 | 2022-02-11 | 中国药科大学 | 7-取代氨基-4-甲基香豆素衍生物、其制备方法及医药用途 |
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Legal Events
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|---|---|---|---|
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050601 |
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| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20051019 |