JP3711428B2 - ピラゾロ〔１，５−ａ〕ピリミジン誘導体 - Google Patents
ピラゾロ〔１，５−ａ〕ピリミジン誘導体 Download PDFInfo
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は新規なピラゾロ〔１，５−ａ〕ピリミジン誘導体に関する。
【０００２】
【従来の技術】
本発明誘導体は文献未載の新規化合物である。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は医薬品として有用な化合物を提供することを目的とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】
本発明によれば、下記一般式（１）で表される新規な誘導体が提供される。
【０００５】
一般式（１）：
【０００６】
【化３】
【０００７】
〔式中、Ｒ1及びＲ2はそれぞれ低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル低級アルキル基、１−ピロリジニルカルボニル低級アルキル基、Ｎ−低級アルキルカルバモイル低級アルキル基、ヒドロキシ低級アルキル基、ジ低級アルキルホスホロ低級アルキル基、Ｎ−（トリ低級アルコキシフェニル）カルバモイル低級アルキル基、オキソアルキル基又は置換基として低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルカノイルアミノ基、低級アルキルスルホニルアミノ基、ヒドロキシル基及びハロゲン原子から選ばれる基の１〜３個を有することのあるフェニル基を示すか、あるいはＲ1及びＲ2は互いに結合してそれらが結合する硫黄原子と共に１，４−チオキサン環、１，４−ジチアン環、２Ｈ−１，４−ベンゾチアジン−３（４Ｈ）−オン環、テトラヒドロチオピラン環又は４位に２−フロイル基もしくは置換基として低級アルコキシ基の１〜３個を有することのあるベンゾイル基を有する１，４−チアザン環を形成する基を示す。Ｒ3は水素原子、低級アルキル基又は置換基として低級アルコキシ基の１〜３個を有することのあるフェニル低級アルキル基を示す。〕
【０００８】
【発明の実施の形態】
本発明誘導体を表わす上記一般式（１）において、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3で示される各基としては、次のものを例示することができる。
【０００９】
即ち、低級アルキル基としては、例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、tert−ブチル、ペンチル、ヘキシル基等の炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状低級アルキル基を例示できる。
【００１０】
低級アルコキシカルボニル低級アルキル基としては、例えばメトキシカルボニルメチル、エトキシカルボニルメチル、１−エトキシカルボニルエチル、２−エトキシカルボニルエチル、３−エトキシカルボニルプロピル、４−エトキシカルボニルブチル、５−エトキシカルボニルペンチル、６−エトキシカルボニルヘキシル、２−ブトキシカルボニルエチル、ヘキシルオキシカルボニルメチル基等を例示できる。
【００１１】
１−ピロリジニルカルボニル低級アルキル基としては、例えば１−ピロリジニルカルボニルメチル、２−（１−ピロリジニル）カルボニルエチル、３−（１−ピロリジニル）カルボニルプロピル、４−（１−ピロリジニル）カルボニルブチル、５−（１−ピロリジニル）カルボニルペンチル、６−（１−ピロリジニル）カルボニルヘキシル基等を例示できる。
【００１２】
Ｎ−低級アルキルカルバモイル低級アルキル基としては、例えばＮ−メチルカルバモイルメチル、Ｎ−エチルカルバモイルメチル、Ｎ−プロピルカルバモイルメチル、Ｎ−ブチルカルバモイルメチル、Ｎ−ペンチルカルバモイルメチル、Ｎ−ヘキシルカルバモイルメチル、２−（Ｎ−メチルカルバモイル）エチル、２−（Ｎ−エチルカルバモイル）エチル、３−（Ｎ−メチルカルバモイル）プロピル、４−（Ｎ−メチルカルバモイル）ブチル、５−（Ｎ−メチルカルバモイル）−ペンチル、６−（Ｎ−メチルカルバモイル）ヘキシル基等を例示できる。
【００１３】
ヒドロキシ低級アルキル基としては、例えばヒドロキシメチル、２−ヒドロキシエチル、３−ヒドロキシプロピル、４−ヒドロキシブチル、５−ヒドロキシペンチル、６−ヒドロキシヘキシル基等を例示できる。
【００１４】
ジ低級アルキルホスホロ低級アルキル基としては、例えばジメチルホスホロメチル、ジエチルホスホロメチル、ジプロピルホスホロメチル、ジイソプロピルホスホロメチル、ジブチルホスホロメチル、ジペンチルホスホロメチル、ジヘキシルホスホロメチル、２−（ジメチルホスホロ）エチル、２−（ジエチルホスホロ）エチル、３−（ジエチルホスホロ）プロピル基等を例示できる。
【００１５】
Ｎ−（トリ低級アルコキシフェニル）カルバモイル低級アルキル基としては、例えばＮ−（３，４，５−トリメトキシフェニル）カルバモイルメチル、２−〔Ｎ−（３，４，５−トリメトキシフェニル）カルバモイル〕エチル、３−〔Ｎ−（３，４，５−トリメトキシフェニル）カルバモイル〕プロピル、４−〔Ｎ−（３，４，５−トリメトキシフェニル）カルバモイル〕ブチル、５−〔Ｎ−（３，４，５−トリメトキシフェニル）カルバモイル〕ペンチル、６−〔Ｎ−（３，４，５−トリメトキシフェニル）カルバモイル〕ヘキシル、２−〔Ｎ−（２，３，４−トリメトキシフェニル）カルバモイル〕エチル、２−〔Ｎ−（２，３，５−トリメトキシフェニル）カルバモイル〕エチル、２−〔Ｎ−（３，４，５−トリメトキシフェニル）カルバモイル〕エチル、２−〔Ｎ−（２，３，６−トリメトキシフェニル）カルバモイル〕エチル、２−〔Ｎ−（２，４，５−トリメトキシフェニル）カルバモイル〕エチル、２−〔Ｎ−（２，４，６−トリメトキシフェニル）カルバモイル〕エチル、２−〔Ｎ−（３，４，５−トリエトキシフェニル）カルバモイル〕エチル基等を例示できる。
【００１６】
オキソアルキル基としては、例えば２−オキソプロピル、２−オキソブチル、３−オキソブチル、２−オキソペンチル、３−オキソペンチル、４−オキソペンチル、５−オキソヘキシル、６−オキソヘプチル、７−オキソオクチル基等の炭素数３〜８のオキソアルキル基を例示できる。
【００１７】
低級アルコキシ基としては、例えばメトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ基等を例示できる。
【００１８】
低級アルカノイルアミノ基としては、例えばアセチルアミノ、プロピオニルアミノ、ブチリルアミノ、バレリルアミノ、ピバロイルアミノ、ヘキサノイルアミノ、ヘプタノイルアミノ基等を例示できる。
【００１９】
低級アルキルスルホニルアミノ基としては、例えばメチルスルホニルアミノ、エチルスルホニルアミノ、プロピルスルホニルアミノ、ブチルスルホニルアミノ、ペンチルスルホニルアミノ、ヘキシルスルホニルアミノ基等を例示できる。
【００２０】
ハロゲン原子には、弗素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が包含される。
【００２１】
置換基として低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルカノイルアミノ基、低級アルキルスルホニルアミノ基、ヒドロキシル基及びハロゲン原子から選ばれる基の１〜３個を有することのあるフェニル基としては、フェニル基に加えて、２−メチルフェニル、３−メチルフェニル、４−メチルフェニル、４−エチルフェニル、４−プロピルフェニル、４−ブチルフェニル、４−ペンチルフェニル、４−ヘキシルフェニル、２，４−ジメチルフェニル、３，４−ジメチルフェニル、３，５−ジメチルフェニル、３，４，５−トリメチルフェニル、２−メトキシフェニル、３−メトキシフェニル、４−メトキシフェニル、４−エトキシフェニル、４−プロポキシフェニル、４−ブトキシフェニル、４−ペンチルオキシフェニル、４−ヘキシルオキシフェニル、２，４−ジメトキシフェニル、３，４−ジメトキシフェニル、３，５−ジメトキシフェニル、３，４，５−トリメトキシフェニル、２，４，５−トリメトキシフェニル、２，３，５−トリメトキシフェニル、２−アセチルアミノフェニル、３−アセチルアミノフェニル、４−アセチルアミノフェニル、４−プロピオニルアミノフェニル、４−ブチリルアミノフェニル、４−バレリルアミノフェニル、４−ピバロイルアミノフェニル、４−ヘキサノイルアミノフェニル、４−ヘプタノイルアミノフェニル、２，４−ジアセチルアミノフェニル、３，５−ジアセチルアミノフェニル、２−メチルスルホニルアミノフェニル、３−メチルスルホニルアミノフェニル、４−メチルスルホニルアミノフェニル、４−エチルスルホニルアミノフェニル、４−プロピルスルホニルアミノフェニル、４−ブチルスルホニルアミノフェニル、４−ペンチルスルホニルアミノフェニル、４−ヘキシルスルホニルアミノフェニル、２，４−ジメチルスルホニルアミノフェニル、３，５−ジメチルスルホニルアミノフェニル、２−ヒドロキシフェニル、３−ヒドロキシフェニル、４−ヒドロキシフェニル、２，４−ジヒドロキシフェニル、３，５−ジヒドロキシフェニル、３，４，５−トリヒドロキシフェニル、２−クロロフェニル、３−クロロフェニル、４−クロロフェニル、４−フルオロフェニル、４−ブロモフェニル、４−ヨードフェニル、２，４−ジクロロフェニル、３，４−ジクロロフェニル、３，５−ジクロロフェニル、４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル、３−ヒドロキシ−４−メチルフェニル、４−ヒドロキシ−３，５−ジメトキシフェニル、４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル、３，５−ジメチル−４−メトキシフェニル、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−メトキシフェニル基等を例示できる。
【００２２】
４位に２−フロイル基もしくは置換基として低級アルコキシ基の１〜３個を有することのあるベンゾイル基を有する１，４−チアザン環としては、例えば４−（２−フロイル）−１，４−チアザン、４−ベンゾイル−１，４−チアザン、４−（２−メトキシベンゾイル）−１，４−チアザン、４−（３−メトキシベンゾイル）−１，４−チアザン、４−（４−メトキシベンゾイル）−１，４−チアザン、４−（４−エトキシベンゾイル）−１，４−チアザン、４−（４−プロポキシベンゾイル）−１，４−チアザン、４−（４−ブトキシベンゾイル）−１，４−チアザン、４−（４−ペンチルオキシベンゾイル）−１，４−チアザン、４−（４−ヘキシルオキシベンゾイル）−１，４−チアザン、４−（２，３−ジメトキシベンゾイル）−１，４−チアザン、４−（２，４−ジメトキシベンゾイル）−１，４−チアザン、４−（３，４−ジメトキシベンゾイル）−１，４−チアザン、４−（３，５−ジメトキシベンゾイル）−１，４−チアザン、４−（２，３，５−トリメトキシベンゾイル）−１，４−チアザン、４−（２，４，５−トリメトキシベンゾイル）−１，４−チアザン、４−（３，４，５−トリメトキシベンゾイル）−１，４−チアザン、４−（３，４，５−トリエトキシベンゾイル）−１，４−チアザン等を例示できる。
【００２３】
置換基として低級アルコキシ基の１〜３個を有することのあるフェニル低級アルキル基としては、例えばベンジル、１−フェニルエチル、２−フェニルエチル、３−フェニルプロピル、４−フェニルブチル、５−フェニルペンチル、６−フェニルヘキシル、２−メトキシベンジル、３−メトキシベンジル、４−メトキシベンジル、４−エトキシベンジル、４−プロポキシベンジル、４−ブトキシベンジル、４−ペンチルオキシベンジル、４−ヘキシルオキシベンジル、２−（４−メトキシフェニル）エチル、３−（４−メトキシフェニル）プロピル、４−（４−メトキシフェニル）ブチル、５−（４−メトキシフェニル）ペンチル、６−（４−メトキシフェニル）ヘキシル、２，３−ジメトキシベンジル、２，４−ジメトキシベンジル、３，４−ジメトキシベンジル、３，５−ジメトキシベンジル、２，３，５−トリメトキシベンジル、２，４，５−トリメトキシベンジル、３，４，５−トリメトキシベンジル、３，４，５−トリエトキシベンジル基等を例示できる。
【００２４】
本発明のピラゾロ〔１，５−ａ〕ピリミジン誘導体は、医薬として有用である。特に、本発明誘導体は、鎮痛剤（術後疼痛、偏頭痛、痛風、慢性疼痛、神経因性疼痛、癌性疼痛等）、抗炎症剤、鎮静剤、抗菌剤、抗ウイルス剤、血糖降下剤、脂質低下剤、血圧低下剤、制癌剤等として有用であり、なかでも、鎮痛剤として好ましく用いられ、これは従来の鎮痛剤に見られる副作用を示さない特徴を有している。
【００２５】
上記各種医薬用途に好適な本発明誘導体としては、次の一般式（２）で表わされるものを例示できる。
【００２６】
一般式（２）：
【００２７】
【化４】
【００２８】
〔式中、Ｒ1aは低級アルキル基、フェニル基又はヒドロキシ低級アルキル基を、Ｒ2aは低級アルキル基、オキソアルキル基、低級アルコキシカルボニル低級アルキル基、１−ピロリジニルカルボニル低級アルキル基、Ｎ−低級アルキルカルバモイル低級アルキル基、ヒドロキシ低級アルキル基、ジ低級アルキルホスホロ低級アルキル基、Ｎ−（トリ低級アルコキシフェニル）カルバモイル低級アルキル基又は置換基として低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルカノイルアミノ基、低級アルキルスルホニルアミノ基、ヒドロキシル基及びハロゲン原子から選ばれる基の１〜３個を有することのあるフェニル基を示すか、あるいはＲ1a及びＲ2aは互いに結合してそれらが結合する硫黄原子と共に１，４−チオキサン環、１，４−ジチアン環、２Ｈ−１，４−ベンゾチアジン−３（４Ｈ）−オン環、テトラヒドロチオピラン環又は４位に２−フロイル基もしくは置換基として低級アルコキシ基の１〜３個を有することのあるベンゾイル基を有する１，４−チアザン環を形成する基を示す。Ｒ3は前記に同じ。〕
上記一般式（２）の中でも、Ｒ1aが低級アルキル基であるピラゾロ〔１，５−ａ〕ピリミジン誘導体は、より好ましく、該誘導体中でも、Ｒ2aが置換基として低級アルコキシ基及びヒドロキシル基から選ばれる基の１〜３個を有するフェニル基であるものは更に好ましい。
【００２９】
本発明ピラゾロ〔１，５−ａ〕ピリミジン誘導体中、特に前記した医薬用途に好適なものは、一般式（２）中、Ｒ1aがメチル基又はエチル基で、Ｒ2aが２−ヒドロキシフェニル基、４−ヒドロキシフェニル基又は３，４，５−トリメトキシフェニル基で且つＲ3が水素原子であるもの、並びにＲ1a及びＲ2aが共に低級アルキル基で且つＲ3が置換基として低級アルコキシ基の１〜３個を有することのあるフェニル低級アルキル基であるものを挙げることができる。
【００３０】
之等の本発明誘導体は、種々の方法により製造することができる。その一例を下記反応工程式−１に示す。
【００３１】
【化５】
【００３２】
〔式中、Ｒ1及びＲ2は前記に同じ。Ａは低級アルキル基を示す。〕
上記反応工程式−１においては、まず３−アミノピラゾール（３）とマロン酸ジエステル（４）とを反応させることにより化合物（５）を収得できる。該反応は、メタノール、エタノール、プロパノール等の不活性溶媒中、塩基の存在下に行われる。ここで、塩基としては、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド等のアルカリ金属アルコキシドを好適に使用し得、その使用量は、過剰当量とするのが好ましい。また３−アミノピラゾール（３）とマロン酸ジエステル（４）との使用量は、それぞれほぼ等モル量ずつとするのが一般的である。反応は、還流温度程度の温度条件にて、５〜１００時間程度を要して行なわれる。
次に、化合物（５）を、アルカリの存在下に、ヨードベンゼンジアセテートと反応させることにより、化合物（６）を得る。該反応においては、溶媒として水を好適に使用でき、アルカリとしては炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を使用できる。上記アルカリ及びヨードベンゼンジアセテートの使用量は、それぞれ原料化合物を基準として等モル量〜少過剰量とするのが好ましい、反応は、０℃〜室温付近の温度で約１〜１０時間を要して行ない得る。
【００３３】
続いて、上記で得られる化合物（６）をチオエーテル誘導体（７）と反応させることにより、本発明化合物（１ａ）を得ることができる。該反応は、メタノール、エタノール、２，２，２−トリフルオロエタノール等の低級アルコールを溶媒として用い、ｐ−トルエンスルホン酸、酢酸等の酸触媒を適量添加して行なうことができる。チオエーテル誘導体（７）の使用量は、化合物（６）に対して１〜１０倍モル量程度とするのがよく、反応は室温〜還流温度にて１０分〜２４時間程度で完了する。
【００３４】
【化６】
【００３５】
〔式中、Ｒ1及びＲ2は前記に同じ。Ｒ3aは低級アルキル基又は置換基として低級アルコキシ基の１〜３個を有することのあるフェニル低級アルキル基を、Ｘはハロゲン原子をそれぞれ示す。〕
反応工程式−２に従えば、本発明化合物（１ａ）は、これをハロゲン化物（８）と反応させることにより、本発明化合物（１ｂ）に変換できる。該反応は、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡ）等の不活性溶媒中、脱酸剤の存在下に行なわれる。脱酸剤としては、水素化ナトリウム、水素化カリウム等のアルカリ金属水酸化物や、ナトリウムエトキシドを好適に用いることができる。之等は化合物（７）に対して１〜１．５当量程度用いられるのが好ましい。また、ハロゲン化物（８）の使用量は、化合物（７）に対して１〜１．５当量とするのが好適である。反応は一般に０℃〜室温の温度範囲において、２０分〜５時間程度で完了する。
【００３６】
上記のごとくして得られる本発明化合物（１）は、下記に示す共鳴構造をとると考えられ、従って、それらのいずれの構造式でも表わし得る。
【００３７】
【化７】
【００３８】
かくして得られる本発明化合物は、通常の分離手段により容易に単離精製できる。該手段としては例えば吸着クロマトグラフィー、プレパラティブ薄層クロマトグラフィー、再結晶、溶媒抽出等を例示できる。
【００３９】
尚、本発明化合物の一部には、硫黄原子及び／又は炭素原子を不斉中心とする光学異性体の存在するものがあり、本発明化合物は当然セラミ体、光学活性体の両方を包含する。上記光学異性体は、慣用の分割法、例えば光学分割剤を使用する方法等で分離することができる。
【００４０】
【実施例】
以下、本発明を更に詳しく説明するため、本発明化合物の原料化合物の製造例を参考例として挙げ、次いで本発明化合物の製造例を実施例として挙げる。
【００４１】
また、各実施例で得られた化合物の構造、融点及び1Ｈ−ＮＭＲスペクトルデータを第１〜３表に記載する。尚、1Ｈ−ＮＭＲスペクトルは、内部基準としてＴＭＳを用いて、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）−ｄ6溶媒中で測定した。
【００４２】
【参考例１】
５−オキソ−６−（フェニルヨードニウム）−４Ｈ−ピラゾロ〔１，５−ａ〕ピリミジン−７−オラートの製造
９．０ｇの金属ナトリウムをエタノール２００ｍｌに溶解し、この溶液に１６．０ｇの３−アミノピラゾールと３２．０ｇのマロン酸ジエチルを溶かし、２日間加熱還流した。反応終了後、エタノールを減圧下留去した後、水３００ｍｌを加え、クエン酸で水溶液を酸性にした。析出した結晶を瀘取し、エタノール及びジエチルエーテルで順次洗浄し、６０℃で５時間減圧乾燥して、７−ヒドロキシ−４Ｈ−ピラゾロ〔１，５−ａ〕ピリミジン−５−オンの結晶（融点：３００℃以上）２２．８ｇを得た。
【００４３】
1Ｈ−ＮＭＲ（δ：ｐｐｍ）〔ＤＭＳＯ−ｄ6〕
４．１７（１Ｈ，ｓ），５．５３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．０），７．４１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．０），１０．３５（１Ｈ，ｂｒｓ）。
【００４４】
次に、７．３ｇの炭酸ナトリウムを水３００ｍｌに溶解し、この水溶液に、上記で得られた結晶１０．０ｇを溶かし、更に室温下、ヨードベンゼンジアセテート２１．３ｇを加え、室温で１時間撹拌した。反応終了後、析出した結晶を瀘取し、水及びジエチルエーテルで順次洗浄し、室温で２０時間減圧乾燥して、目的化合物の結晶（融点：３００℃以上）２０．０ｇを得た。
【００４５】
1Ｈ−ＮＭＲ（δ：ｐｐｍ）〔ＤＭＳＯ−ｄ6〕
５．６５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．０），７．３５−７．５９（４Ｈ，ｍ），７．８３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４），１１．１４（１Ｈ，ｂｒｓ）。
【００４６】
【実施例１】
６−（メチル−４−メチルフェニルスルホニウム）−５−オキソ−４Ｈ−ピラゾロ〔１，５−ａ〕ピリミジン−７−オラートの製造
２，２，２−トリフルオロエタノール２０ｍｌに、参考例１で得られた化合物２．０ｇ、メチル−４−メチルフェニルスルフィド０．９８ｇ及びｐ−トルエンスルホン酸１００ｍｇを溶かし、室温で３０分撹拌した。反応終了後、溶媒を減圧留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒…メタノール：クロロホルム＝１：１０）で精製し、得られた結晶を更にジエチルエーテル−ｎ−ヘキサンで洗浄して、目的化合物の結晶１．５ｇを得た。
【００４７】
【実施例２〜２１】
実施例１と同様にして、次の第１表に記載の各化合物を合成した。
【００４８】
【表１】
【００４９】
【表２】
【００５０】
【表３】
【００５１】
【表４】
【００５２】
更に、実施例１と同様にして、下記の各化合物を合成することができる。
【００５３】
・６−（メチル−３−ヒドロキシフェニルスルホニウム）−５−オキソ−４Ｈ−ピラゾロ〔１，５−ａ〕ピリミジン−７−オラート
・６−（メチル−２−メトキシフェニルスルホニウム）−５−オキソ−４Ｈ−ピラゾロ〔１，５−ａ〕ピリミジン−７−オラート
・６−（メチル−３−メトキシフェニルスルホニウム）−５−オキソ−４Ｈ−ピラゾロ〔１，５−ａ〕ピリミジン−７−オラート
・６−（メチル−４−メトキシフェニルスルホニウム）−５−オキソ−４Ｈ−ピラゾロ〔１，５−ａ〕ピリミジン−７−オラート
・６−（エチル−４−ヒドロキシフェニルスルホニウム）−５−オキソ−４Ｈ−ピラゾロ〔１，５−ａ〕ピリミジン−７−オラート
・６−（エチル−３，４，５−トリメトキシフェニルスルホニウム）−５−オキソ−４Ｈ−ピラゾロ〔１，５−ａ〕ピリミジン−７−オラート
・６−（フェニル−４−メチルフェニルスルホニウム）−５−オキソ−４Ｈ−ピラゾロ〔１，５−ａ〕ピリミジン−７−オラート
・６−（フェニル−４−クロロフェニルスルホニウム）−５−オキソ−４Ｈ−ピラゾロ〔１，５−ａ〕ピリミジン−７−オラート
・６−（フェニル−４−ヒドロキシフェニルスルホニウム）−５−オキソ−４Ｈ−ピラゾロ〔１，５−ａ〕ピリミジン−７−オラート
・６−（フェニル−３，４，５−トリメトキシフェニルスルホニウム）−５−オキソ−４Ｈ−ピラゾロ〔１，５−ａ〕ピリミジン−７−オラート
・６−（フェニル−４−アセチルアミノフェニルスルホニウム）−５−オキソ−４Ｈ−ピラゾロ〔１，５−ａ〕ピリミジン−７−オラート
・６−（フェニル−４−メチルスルホニルアミノフェニルスルホニウム）−５−オキソ−４Ｈ−ピラゾロ〔１，５−ａ〕ピリミジン−７−オラート
・６−（フェニル−２−ヒドロキシフェニルスルホニウム）−５−オキソ−４Ｈ−ピラゾロ〔１，５−ａ〕ピリミジン−７−オラート
・６−（フェニル−メトキシカルボニルメチルスルホニウム）−５−オキソ−４Ｈ−ピラゾロ〔１，５−ａ〕ピリミジン−７−オラート
・６−（フェニル−Ｎ−メチルカルバモイルメチルスルホニウム）−５−オキソ−４Ｈ−ピラゾロ〔１，５−ａ〕ピリミジン−７−オラート
・６−（フェニル−１−ピロリジニルカルボニルメチルスルホニウム）−５−オキソ−４Ｈ−ピラゾロ〔１，５−ａ〕ピリミジン−７−オラート
・６−（フェニル−ジエチルホスホロメチルスルホニウム）−５−オキソ−４Ｈ−ピラゾロ〔１，５−ａ〕ピリミジン−７−オラート
・６−〔フェニル−２−〔Ｎ−（３，４，５−トリメトキシフェニル）カルバモイル〕エチルスルホニウム）−５−オキソ−４Ｈ−ピラゾロ〔１，５−ａ〕ピリミジン−７−オラート
【００５４】
【実施例２２〜３０】
更に実施例１と同様にして、下記第２表に記載の各化合物を合成した。
【００５５】
【表５】
【００５６】
【表６】
【００５７】
【実施例３１】
４−ベンジル−６−（メチル−ｎ−プロピルスルホニウム）−５−オキソ−４Ｈ−ピラゾロ〔１，５−ａ〕ピリミジン−７−オラートの製造
６０％水素化ナトリウム１６１ｍｇをＤＭＦ１５ｍｌに溶かし、そこに実施例３０で得た化合物８００ｍｇを０℃で加え、０℃で１０分間攪拌した。次に、臭化ベンジル６２０ｍｇを加え、室温で２時間攪拌した。反応終了後、水を加えて希釈し、３０ｍｌのクロロホルムで３回抽出した。有機層を集めて水洗し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒…メタノール：クロロホルム＝１：１５）で精製し、得られた結晶をジエチルエーテル−ｎ−ヘキサンで洗浄して、目的化合物の無色結晶１．００ｇを得た。
【００５８】
【実施例３２〜３６】
実施例３１と同様にして、下記第３表に記載の各化合物を合成した。
【００５９】
【表７】
【００６０】
更に、実施例１〜３０に記載の各化合物を用いて、実施例３１と同様にして、下記の各化合物を製造することができる。
【００６１】
・４−ベンジル−６−（メチル−４−メチルフェニルスルホニウム）−５−オキソ−４Ｈ−ピラゾロ〔１，５−ａ〕ピリミジン−７−オラート
・４−メチル−６−（メチル−４−メチルフェニルスルホニウム）−５−オキソ−４Ｈ−ピラゾロ〔１，５−ａ〕ピリミジン−７−オラート
・４−（３，４，５−トリメトキシベンジル）−６−（メチル−４−メチルフェニルスルホニウム）−５−オキソ−４Ｈ−ピラゾロ〔１，５−ａ〕ピリミジン−７−オラート
・４−ベンジル−６−〔メチル−（３，４，５−トリメトキシフェニル）スルホニウム〕−５−オキソ−４Ｈ−ピラゾロ〔１，５−ａ〕ピリミジン−７−オラート
・４−メチル−６−〔メチル−（３，４，５−トリメトキシフェニル）スルホニウム〕−５−オキソ−４Ｈ−ピラゾロ〔１，５−ａ〕ピリミジン−７−オラート
・４−（３，４，５−トリメトキシベンジル）−６−〔メチル−（３，４，５−トリメトキシフェニル）スルホニウム〕−５−オキソ−４Ｈ−ピラゾロ〔１，５−ａ〕ピリミジン−７−オラート
・４−ベンジル−６−（メチル−４−クロロフェニルスルホニウム）−５−オキソ−４Ｈ−ピラゾロ〔１，５−ａ〕ピリミジン−７−オラート
・４−メチル−６−（メチル−４−クロロフェニルスルホニウム）−５−オキソ−４Ｈ−ピラゾロ〔１，５−ａ〕ピリミジン−７−オラート
・４−（３，４，５−トリメトキシベンジル）−６−（メチル−４クロロフェニルスルホニウム）−５−オキソ−４Ｈ−ピラゾロ〔１，５−ａ〕ピリミジン−７−オラート
・４−ベンジル−６−（１−テトラヒドロチオピラニウム）−５−オキソ−４Ｈ−ピラゾロ〔１，５−ａ〕ピリミジン−７−オラート
・４−メチル−６−（１−テトラヒドロチオピラニウム）−５−オキソ−４Ｈ−ピラゾロ〔１，５−ａ〕ピリミジン−７−オラート
・４−（３，４，５−トリメトキシベンジル）−６−（１−テトラヒドロチオピラニウム）−５−オキソ−４Ｈ−ピラゾロ〔１，５−ａ〕ピリミジン−７−オラート
・４−ベンジル−６−〔４−（１，４−チオキサニウム）〕−５−オキソ−４Ｈ−ピラゾロ〔１，５−ａ〕ピリミジン−７−オラート
・４−メチル−６−〔４−（１，４−チオキサニウム）〕−５−オキソ−４Ｈ−ピラゾロ〔１，５−ａ〕ピリミジン−７−オラート
・４−（３，４，５−トリメトキシベンジル）−６−〔４−（１，４−チオキサニウム）〕−５−オキソ−４Ｈ−ピラゾロ〔１，５−ａ〕ピリミジン−７−オラート
・４−ベンジル−６−〔１−（１，４−ジチアニウム）〕−５−オキソ−４Ｈ−ピラゾロ〔１，５−ａ〕ピリミジン−７−オラート
・４−メチル−６−〔１−（１，４−ジチアニウム）〕−５−オキソ−４Ｈ−ピラゾロ〔１，５−ａ〕ピリミジン−７−オラート
・４−（３，４，５−トリメトキシベンジル）−６−〔１−（１，４−ジチアニウム）〕−５−オキソ−４Ｈ−ピラゾロ〔１，５−ａ〕ピリミジン−７−オラート
・４−メチル−６−（メチル−ｎ−プロピルスルホニウム）−５−オキソ−４Ｈ−ピラゾロ〔１，５−ａ〕ピリミジン−７−オラート
・４−（４−メトキシベンジル）−６−（メチル−ｎ−ブチルスルホニウム）−５−オキソ−４Ｈ−ピラゾロ〔１，５−ａ〕ピリミジン−７−オラート
【発明の属する技術分野】
本発明は新規なピラゾロ〔１，５−ａ〕ピリミジン誘導体に関する。
【０００２】
【従来の技術】
本発明誘導体は文献未載の新規化合物である。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は医薬品として有用な化合物を提供することを目的とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】
本発明によれば、下記一般式（１）で表される新規な誘導体が提供される。
【０００５】
一般式（１）：
【０００６】
【化３】
〔式中、Ｒ1及びＲ2はそれぞれ低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル低級アルキル基、１−ピロリジニルカルボニル低級アルキル基、Ｎ−低級アルキルカルバモイル低級アルキル基、ヒドロキシ低級アルキル基、ジ低級アルキルホスホロ低級アルキル基、Ｎ−（トリ低級アルコキシフェニル）カルバモイル低級アルキル基、オキソアルキル基又は置換基として低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルカノイルアミノ基、低級アルキルスルホニルアミノ基、ヒドロキシル基及びハロゲン原子から選ばれる基の１〜３個を有することのあるフェニル基を示すか、あるいはＲ1及びＲ2は互いに結合してそれらが結合する硫黄原子と共に１，４−チオキサン環、１，４−ジチアン環、２Ｈ−１，４−ベンゾチアジン−３（４Ｈ）−オン環、テトラヒドロチオピラン環又は４位に２−フロイル基もしくは置換基として低級アルコキシ基の１〜３個を有することのあるベンゾイル基を有する１，４−チアザン環を形成する基を示す。Ｒ3は水素原子、低級アルキル基又は置換基として低級アルコキシ基の１〜３個を有することのあるフェニル低級アルキル基を示す。〕
【０００８】
【発明の実施の形態】
本発明誘導体を表わす上記一般式（１）において、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3で示される各基としては、次のものを例示することができる。
【０００９】
即ち、低級アルキル基としては、例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、tert−ブチル、ペンチル、ヘキシル基等の炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状低級アルキル基を例示できる。
【００１０】
低級アルコキシカルボニル低級アルキル基としては、例えばメトキシカルボニルメチル、エトキシカルボニルメチル、１−エトキシカルボニルエチル、２−エトキシカルボニルエチル、３−エトキシカルボニルプロピル、４−エトキシカルボニルブチル、５−エトキシカルボニルペンチル、６−エトキシカルボニルヘキシル、２−ブトキシカルボニルエチル、ヘキシルオキシカルボニルメチル基等を例示できる。
【００１１】
１−ピロリジニルカルボニル低級アルキル基としては、例えば１−ピロリジニルカルボニルメチル、２−（１−ピロリジニル）カルボニルエチル、３−（１−ピロリジニル）カルボニルプロピル、４−（１−ピロリジニル）カルボニルブチル、５−（１−ピロリジニル）カルボニルペンチル、６−（１−ピロリジニル）カルボニルヘキシル基等を例示できる。
【００１２】
Ｎ−低級アルキルカルバモイル低級アルキル基としては、例えばＮ−メチルカルバモイルメチル、Ｎ−エチルカルバモイルメチル、Ｎ−プロピルカルバモイルメチル、Ｎ−ブチルカルバモイルメチル、Ｎ−ペンチルカルバモイルメチル、Ｎ−ヘキシルカルバモイルメチル、２−（Ｎ−メチルカルバモイル）エチル、２−（Ｎ−エチルカルバモイル）エチル、３−（Ｎ−メチルカルバモイル）プロピル、４−（Ｎ−メチルカルバモイル）ブチル、５−（Ｎ−メチルカルバモイル）−ペンチル、６−（Ｎ−メチルカルバモイル）ヘキシル基等を例示できる。
【００１３】
ヒドロキシ低級アルキル基としては、例えばヒドロキシメチル、２−ヒドロキシエチル、３−ヒドロキシプロピル、４−ヒドロキシブチル、５−ヒドロキシペンチル、６−ヒドロキシヘキシル基等を例示できる。
【００１４】
ジ低級アルキルホスホロ低級アルキル基としては、例えばジメチルホスホロメチル、ジエチルホスホロメチル、ジプロピルホスホロメチル、ジイソプロピルホスホロメチル、ジブチルホスホロメチル、ジペンチルホスホロメチル、ジヘキシルホスホロメチル、２−（ジメチルホスホロ）エチル、２−（ジエチルホスホロ）エチル、３−（ジエチルホスホロ）プロピル基等を例示できる。
【００１５】
Ｎ−（トリ低級アルコキシフェニル）カルバモイル低級アルキル基としては、例えばＮ−（３，４，５−トリメトキシフェニル）カルバモイルメチル、２−〔Ｎ−（３，４，５−トリメトキシフェニル）カルバモイル〕エチル、３−〔Ｎ−（３，４，５−トリメトキシフェニル）カルバモイル〕プロピル、４−〔Ｎ−（３，４，５−トリメトキシフェニル）カルバモイル〕ブチル、５−〔Ｎ−（３，４，５−トリメトキシフェニル）カルバモイル〕ペンチル、６−〔Ｎ−（３，４，５−トリメトキシフェニル）カルバモイル〕ヘキシル、２−〔Ｎ−（２，３，４−トリメトキシフェニル）カルバモイル〕エチル、２−〔Ｎ−（２，３，５−トリメトキシフェニル）カルバモイル〕エチル、２−〔Ｎ−（３，４，５−トリメトキシフェニル）カルバモイル〕エチル、２−〔Ｎ−（２，３，６−トリメトキシフェニル）カルバモイル〕エチル、２−〔Ｎ−（２，４，５−トリメトキシフェニル）カルバモイル〕エチル、２−〔Ｎ−（２，４，６−トリメトキシフェニル）カルバモイル〕エチル、２−〔Ｎ−（３，４，５−トリエトキシフェニル）カルバモイル〕エチル基等を例示できる。
【００１６】
オキソアルキル基としては、例えば２−オキソプロピル、２−オキソブチル、３−オキソブチル、２−オキソペンチル、３−オキソペンチル、４−オキソペンチル、５−オキソヘキシル、６−オキソヘプチル、７−オキソオクチル基等の炭素数３〜８のオキソアルキル基を例示できる。
【００１７】
低級アルコキシ基としては、例えばメトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ基等を例示できる。
【００１８】
低級アルカノイルアミノ基としては、例えばアセチルアミノ、プロピオニルアミノ、ブチリルアミノ、バレリルアミノ、ピバロイルアミノ、ヘキサノイルアミノ、ヘプタノイルアミノ基等を例示できる。
【００１９】
低級アルキルスルホニルアミノ基としては、例えばメチルスルホニルアミノ、エチルスルホニルアミノ、プロピルスルホニルアミノ、ブチルスルホニルアミノ、ペンチルスルホニルアミノ、ヘキシルスルホニルアミノ基等を例示できる。
【００２０】
ハロゲン原子には、弗素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が包含される。
【００２１】
置換基として低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルカノイルアミノ基、低級アルキルスルホニルアミノ基、ヒドロキシル基及びハロゲン原子から選ばれる基の１〜３個を有することのあるフェニル基としては、フェニル基に加えて、２−メチルフェニル、３−メチルフェニル、４−メチルフェニル、４−エチルフェニル、４−プロピルフェニル、４−ブチルフェニル、４−ペンチルフェニル、４−ヘキシルフェニル、２，４−ジメチルフェニル、３，４−ジメチルフェニル、３，５−ジメチルフェニル、３，４，５−トリメチルフェニル、２−メトキシフェニル、３−メトキシフェニル、４−メトキシフェニル、４−エトキシフェニル、４−プロポキシフェニル、４−ブトキシフェニル、４−ペンチルオキシフェニル、４−ヘキシルオキシフェニル、２，４−ジメトキシフェニル、３，４−ジメトキシフェニル、３，５−ジメトキシフェニル、３，４，５−トリメトキシフェニル、２，４，５−トリメトキシフェニル、２，３，５−トリメトキシフェニル、２−アセチルアミノフェニル、３−アセチルアミノフェニル、４−アセチルアミノフェニル、４−プロピオニルアミノフェニル、４−ブチリルアミノフェニル、４−バレリルアミノフェニル、４−ピバロイルアミノフェニル、４−ヘキサノイルアミノフェニル、４−ヘプタノイルアミノフェニル、２，４−ジアセチルアミノフェニル、３，５−ジアセチルアミノフェニル、２−メチルスルホニルアミノフェニル、３−メチルスルホニルアミノフェニル、４−メチルスルホニルアミノフェニル、４−エチルスルホニルアミノフェニル、４−プロピルスルホニルアミノフェニル、４−ブチルスルホニルアミノフェニル、４−ペンチルスルホニルアミノフェニル、４−ヘキシルスルホニルアミノフェニル、２，４−ジメチルスルホニルアミノフェニル、３，５−ジメチルスルホニルアミノフェニル、２−ヒドロキシフェニル、３−ヒドロキシフェニル、４−ヒドロキシフェニル、２，４−ジヒドロキシフェニル、３，５−ジヒドロキシフェニル、３，４，５−トリヒドロキシフェニル、２−クロロフェニル、３−クロロフェニル、４−クロロフェニル、４−フルオロフェニル、４−ブロモフェニル、４−ヨードフェニル、２，４−ジクロロフェニル、３，４−ジクロロフェニル、３，５−ジクロロフェニル、４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル、３−ヒドロキシ−４−メチルフェニル、４−ヒドロキシ−３，５−ジメトキシフェニル、４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル、３，５−ジメチル−４−メトキシフェニル、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−メトキシフェニル基等を例示できる。
【００２２】
４位に２−フロイル基もしくは置換基として低級アルコキシ基の１〜３個を有することのあるベンゾイル基を有する１，４−チアザン環としては、例えば４−（２−フロイル）−１，４−チアザン、４−ベンゾイル−１，４−チアザン、４−（２−メトキシベンゾイル）−１，４−チアザン、４−（３−メトキシベンゾイル）−１，４−チアザン、４−（４−メトキシベンゾイル）−１，４−チアザン、４−（４−エトキシベンゾイル）−１，４−チアザン、４−（４−プロポキシベンゾイル）−１，４−チアザン、４−（４−ブトキシベンゾイル）−１，４−チアザン、４−（４−ペンチルオキシベンゾイル）−１，４−チアザン、４−（４−ヘキシルオキシベンゾイル）−１，４−チアザン、４−（２，３−ジメトキシベンゾイル）−１，４−チアザン、４−（２，４−ジメトキシベンゾイル）−１，４−チアザン、４−（３，４−ジメトキシベンゾイル）−１，４−チアザン、４−（３，５−ジメトキシベンゾイル）−１，４−チアザン、４−（２，３，５−トリメトキシベンゾイル）−１，４−チアザン、４−（２，４，５−トリメトキシベンゾイル）−１，４−チアザン、４−（３，４，５−トリメトキシベンゾイル）−１，４−チアザン、４−（３，４，５−トリエトキシベンゾイル）−１，４−チアザン等を例示できる。
【００２３】
置換基として低級アルコキシ基の１〜３個を有することのあるフェニル低級アルキル基としては、例えばベンジル、１−フェニルエチル、２−フェニルエチル、３−フェニルプロピル、４−フェニルブチル、５−フェニルペンチル、６−フェニルヘキシル、２−メトキシベンジル、３−メトキシベンジル、４−メトキシベンジル、４−エトキシベンジル、４−プロポキシベンジル、４−ブトキシベンジル、４−ペンチルオキシベンジル、４−ヘキシルオキシベンジル、２−（４−メトキシフェニル）エチル、３−（４−メトキシフェニル）プロピル、４−（４−メトキシフェニル）ブチル、５−（４−メトキシフェニル）ペンチル、６−（４−メトキシフェニル）ヘキシル、２，３−ジメトキシベンジル、２，４−ジメトキシベンジル、３，４−ジメトキシベンジル、３，５−ジメトキシベンジル、２，３，５−トリメトキシベンジル、２，４，５−トリメトキシベンジル、３，４，５−トリメトキシベンジル、３，４，５−トリエトキシベンジル基等を例示できる。
【００２４】
本発明のピラゾロ〔１，５−ａ〕ピリミジン誘導体は、医薬として有用である。特に、本発明誘導体は、鎮痛剤（術後疼痛、偏頭痛、痛風、慢性疼痛、神経因性疼痛、癌性疼痛等）、抗炎症剤、鎮静剤、抗菌剤、抗ウイルス剤、血糖降下剤、脂質低下剤、血圧低下剤、制癌剤等として有用であり、なかでも、鎮痛剤として好ましく用いられ、これは従来の鎮痛剤に見られる副作用を示さない特徴を有している。
【００２５】
上記各種医薬用途に好適な本発明誘導体としては、次の一般式（２）で表わされるものを例示できる。
【００２６】
一般式（２）：
【００２７】
【化４】
〔式中、Ｒ1aは低級アルキル基、フェニル基又はヒドロキシ低級アルキル基を、Ｒ2aは低級アルキル基、オキソアルキル基、低級アルコキシカルボニル低級アルキル基、１−ピロリジニルカルボニル低級アルキル基、Ｎ−低級アルキルカルバモイル低級アルキル基、ヒドロキシ低級アルキル基、ジ低級アルキルホスホロ低級アルキル基、Ｎ−（トリ低級アルコキシフェニル）カルバモイル低級アルキル基又は置換基として低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルカノイルアミノ基、低級アルキルスルホニルアミノ基、ヒドロキシル基及びハロゲン原子から選ばれる基の１〜３個を有することのあるフェニル基を示すか、あるいはＲ1a及びＲ2aは互いに結合してそれらが結合する硫黄原子と共に１，４−チオキサン環、１，４−ジチアン環、２Ｈ−１，４−ベンゾチアジン−３（４Ｈ）−オン環、テトラヒドロチオピラン環又は４位に２−フロイル基もしくは置換基として低級アルコキシ基の１〜３個を有することのあるベンゾイル基を有する１，４−チアザン環を形成する基を示す。Ｒ3は前記に同じ。〕
上記一般式（２）の中でも、Ｒ1aが低級アルキル基であるピラゾロ〔１，５−ａ〕ピリミジン誘導体は、より好ましく、該誘導体中でも、Ｒ2aが置換基として低級アルコキシ基及びヒドロキシル基から選ばれる基の１〜３個を有するフェニル基であるものは更に好ましい。
【００２９】
本発明ピラゾロ〔１，５−ａ〕ピリミジン誘導体中、特に前記した医薬用途に好適なものは、一般式（２）中、Ｒ1aがメチル基又はエチル基で、Ｒ2aが２−ヒドロキシフェニル基、４−ヒドロキシフェニル基又は３，４，５−トリメトキシフェニル基で且つＲ3が水素原子であるもの、並びにＲ1a及びＲ2aが共に低級アルキル基で且つＲ3が置換基として低級アルコキシ基の１〜３個を有することのあるフェニル低級アルキル基であるものを挙げることができる。
【００３０】
之等の本発明誘導体は、種々の方法により製造することができる。その一例を下記反応工程式−１に示す。
【００３１】
【化５】
〔式中、Ｒ1及びＲ2は前記に同じ。Ａは低級アルキル基を示す。〕
上記反応工程式−１においては、まず３−アミノピラゾール（３）とマロン酸ジエステル（４）とを反応させることにより化合物（５）を収得できる。該反応は、メタノール、エタノール、プロパノール等の不活性溶媒中、塩基の存在下に行われる。ここで、塩基としては、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド等のアルカリ金属アルコキシドを好適に使用し得、その使用量は、過剰当量とするのが好ましい。また３−アミノピラゾール（３）とマロン酸ジエステル（４）との使用量は、それぞれほぼ等モル量ずつとするのが一般的である。反応は、還流温度程度の温度条件にて、５〜１００時間程度を要して行なわれる。
次に、化合物（５）を、アルカリの存在下に、ヨードベンゼンジアセテートと反応させることにより、化合物（６）を得る。該反応においては、溶媒として水を好適に使用でき、アルカリとしては炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を使用できる。上記アルカリ及びヨードベンゼンジアセテートの使用量は、それぞれ原料化合物を基準として等モル量〜少過剰量とするのが好ましい、反応は、０℃〜室温付近の温度で約１〜１０時間を要して行ない得る。
【００３３】
続いて、上記で得られる化合物（６）をチオエーテル誘導体（７）と反応させることにより、本発明化合物（１ａ）を得ることができる。該反応は、メタノール、エタノール、２，２，２−トリフルオロエタノール等の低級アルコールを溶媒として用い、ｐ−トルエンスルホン酸、酢酸等の酸触媒を適量添加して行なうことができる。チオエーテル誘導体（７）の使用量は、化合物（６）に対して１〜１０倍モル量程度とするのがよく、反応は室温〜還流温度にて１０分〜２４時間程度で完了する。
【００３４】
【化６】
〔式中、Ｒ1及びＲ2は前記に同じ。Ｒ3aは低級アルキル基又は置換基として低級アルコキシ基の１〜３個を有することのあるフェニル低級アルキル基を、Ｘはハロゲン原子をそれぞれ示す。〕
反応工程式−２に従えば、本発明化合物（１ａ）は、これをハロゲン化物（８）と反応させることにより、本発明化合物（１ｂ）に変換できる。該反応は、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡ）等の不活性溶媒中、脱酸剤の存在下に行なわれる。脱酸剤としては、水素化ナトリウム、水素化カリウム等のアルカリ金属水酸化物や、ナトリウムエトキシドを好適に用いることができる。之等は化合物（７）に対して１〜１．５当量程度用いられるのが好ましい。また、ハロゲン化物（８）の使用量は、化合物（７）に対して１〜１．５当量とするのが好適である。反応は一般に０℃〜室温の温度範囲において、２０分〜５時間程度で完了する。
【００３６】
上記のごとくして得られる本発明化合物（１）は、下記に示す共鳴構造をとると考えられ、従って、それらのいずれの構造式でも表わし得る。
【００３７】
【化７】
かくして得られる本発明化合物は、通常の分離手段により容易に単離精製できる。該手段としては例えば吸着クロマトグラフィー、プレパラティブ薄層クロマトグラフィー、再結晶、溶媒抽出等を例示できる。
【００３９】
尚、本発明化合物の一部には、硫黄原子及び／又は炭素原子を不斉中心とする光学異性体の存在するものがあり、本発明化合物は当然セラミ体、光学活性体の両方を包含する。上記光学異性体は、慣用の分割法、例えば光学分割剤を使用する方法等で分離することができる。
【００４０】
【実施例】
以下、本発明を更に詳しく説明するため、本発明化合物の原料化合物の製造例を参考例として挙げ、次いで本発明化合物の製造例を実施例として挙げる。
【００４１】
また、各実施例で得られた化合物の構造、融点及び1Ｈ−ＮＭＲスペクトルデータを第１〜３表に記載する。尚、1Ｈ−ＮＭＲスペクトルは、内部基準としてＴＭＳを用いて、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）−ｄ6溶媒中で測定した。
【００４２】
【参考例１】
５−オキソ−６−（フェニルヨードニウム）−４Ｈ−ピラゾロ〔１，５−ａ〕ピリミジン−７−オラートの製造
９．０ｇの金属ナトリウムをエタノール２００ｍｌに溶解し、この溶液に１６．０ｇの３−アミノピラゾールと３２．０ｇのマロン酸ジエチルを溶かし、２日間加熱還流した。反応終了後、エタノールを減圧下留去した後、水３００ｍｌを加え、クエン酸で水溶液を酸性にした。析出した結晶を瀘取し、エタノール及びジエチルエーテルで順次洗浄し、６０℃で５時間減圧乾燥して、７−ヒドロキシ−４Ｈ−ピラゾロ〔１，５−ａ〕ピリミジン−５−オンの結晶（融点：３００℃以上）２２．８ｇを得た。
【００４３】
1Ｈ−ＮＭＲ（δ：ｐｐｍ）〔ＤＭＳＯ−ｄ6〕
４．１７（１Ｈ，ｓ），５．５３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．０），７．４１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．０），１０．３５（１Ｈ，ｂｒｓ）。
【００４４】
次に、７．３ｇの炭酸ナトリウムを水３００ｍｌに溶解し、この水溶液に、上記で得られた結晶１０．０ｇを溶かし、更に室温下、ヨードベンゼンジアセテート２１．３ｇを加え、室温で１時間撹拌した。反応終了後、析出した結晶を瀘取し、水及びジエチルエーテルで順次洗浄し、室温で２０時間減圧乾燥して、目的化合物の結晶（融点：３００℃以上）２０．０ｇを得た。
【００４５】
1Ｈ−ＮＭＲ（δ：ｐｐｍ）〔ＤＭＳＯ−ｄ6〕
５．６５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．０），７．３５−７．５９（４Ｈ，ｍ），７．８３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４），１１．１４（１Ｈ，ｂｒｓ）。
【００４６】
【実施例１】
６−（メチル−４−メチルフェニルスルホニウム）−５−オキソ−４Ｈ−ピラゾロ〔１，５−ａ〕ピリミジン−７−オラートの製造
２，２，２−トリフルオロエタノール２０ｍｌに、参考例１で得られた化合物２．０ｇ、メチル−４−メチルフェニルスルフィド０．９８ｇ及びｐ−トルエンスルホン酸１００ｍｇを溶かし、室温で３０分撹拌した。反応終了後、溶媒を減圧留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒…メタノール：クロロホルム＝１：１０）で精製し、得られた結晶を更にジエチルエーテル−ｎ−ヘキサンで洗浄して、目的化合物の結晶１．５ｇを得た。
【００４７】
【実施例２〜２１】
実施例１と同様にして、次の第１表に記載の各化合物を合成した。
【００４８】
【表１】
【表２】
【表３】
【表４】
更に、実施例１と同様にして、下記の各化合物を合成することができる。
【００５３】
・６−（メチル−３−ヒドロキシフェニルスルホニウム）−５−オキソ−４Ｈ−ピラゾロ〔１，５−ａ〕ピリミジン−７−オラート
・６−（メチル−２−メトキシフェニルスルホニウム）−５−オキソ−４Ｈ−ピラゾロ〔１，５−ａ〕ピリミジン−７−オラート
・６−（メチル−３−メトキシフェニルスルホニウム）−５−オキソ−４Ｈ−ピラゾロ〔１，５−ａ〕ピリミジン−７−オラート
・６−（メチル−４−メトキシフェニルスルホニウム）−５−オキソ−４Ｈ−ピラゾロ〔１，５−ａ〕ピリミジン−７−オラート
・６−（エチル−４−ヒドロキシフェニルスルホニウム）−５−オキソ−４Ｈ−ピラゾロ〔１，５−ａ〕ピリミジン−７−オラート
・６−（エチル−３，４，５−トリメトキシフェニルスルホニウム）−５−オキソ−４Ｈ−ピラゾロ〔１，５−ａ〕ピリミジン−７−オラート
・６−（フェニル−４−メチルフェニルスルホニウム）−５−オキソ−４Ｈ−ピラゾロ〔１，５−ａ〕ピリミジン−７−オラート
・６−（フェニル−４−クロロフェニルスルホニウム）−５−オキソ−４Ｈ−ピラゾロ〔１，５−ａ〕ピリミジン−７−オラート
・６−（フェニル−４−ヒドロキシフェニルスルホニウム）−５−オキソ−４Ｈ−ピラゾロ〔１，５−ａ〕ピリミジン−７−オラート
・６−（フェニル−３，４，５−トリメトキシフェニルスルホニウム）−５−オキソ−４Ｈ−ピラゾロ〔１，５−ａ〕ピリミジン−７−オラート
・６−（フェニル−４−アセチルアミノフェニルスルホニウム）−５−オキソ−４Ｈ−ピラゾロ〔１，５−ａ〕ピリミジン−７−オラート
・６−（フェニル−４−メチルスルホニルアミノフェニルスルホニウム）−５−オキソ−４Ｈ−ピラゾロ〔１，５−ａ〕ピリミジン−７−オラート
・６−（フェニル−２−ヒドロキシフェニルスルホニウム）−５−オキソ−４Ｈ−ピラゾロ〔１，５−ａ〕ピリミジン−７−オラート
・６−（フェニル−メトキシカルボニルメチルスルホニウム）−５−オキソ−４Ｈ−ピラゾロ〔１，５−ａ〕ピリミジン−７−オラート
・６−（フェニル−Ｎ−メチルカルバモイルメチルスルホニウム）−５−オキソ−４Ｈ−ピラゾロ〔１，５−ａ〕ピリミジン−７−オラート
・６−（フェニル−１−ピロリジニルカルボニルメチルスルホニウム）−５−オキソ−４Ｈ−ピラゾロ〔１，５−ａ〕ピリミジン−７−オラート
・６−（フェニル−ジエチルホスホロメチルスルホニウム）−５−オキソ−４Ｈ−ピラゾロ〔１，５−ａ〕ピリミジン−７−オラート
・６−〔フェニル−２−〔Ｎ−（３，４，５−トリメトキシフェニル）カルバモイル〕エチルスルホニウム）−５−オキソ−４Ｈ−ピラゾロ〔１，５−ａ〕ピリミジン−７−オラート
【００５４】
【実施例２２〜３０】
更に実施例１と同様にして、下記第２表に記載の各化合物を合成した。
【００５５】
【表５】
【表６】
【実施例３１】
４−ベンジル−６−（メチル−ｎ−プロピルスルホニウム）−５−オキソ−４Ｈ−ピラゾロ〔１，５−ａ〕ピリミジン−７−オラートの製造
６０％水素化ナトリウム１６１ｍｇをＤＭＦ１５ｍｌに溶かし、そこに実施例３０で得た化合物８００ｍｇを０℃で加え、０℃で１０分間攪拌した。次に、臭化ベンジル６２０ｍｇを加え、室温で２時間攪拌した。反応終了後、水を加えて希釈し、３０ｍｌのクロロホルムで３回抽出した。有機層を集めて水洗し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒…メタノール：クロロホルム＝１：１５）で精製し、得られた結晶をジエチルエーテル−ｎ−ヘキサンで洗浄して、目的化合物の無色結晶１．００ｇを得た。
【００５８】
【実施例３２〜３６】
実施例３１と同様にして、下記第３表に記載の各化合物を合成した。
【００５９】
【表７】
更に、実施例１〜３０に記載の各化合物を用いて、実施例３１と同様にして、下記の各化合物を製造することができる。
【００６１】
・４−ベンジル−６−（メチル−４−メチルフェニルスルホニウム）−５−オキソ−４Ｈ−ピラゾロ〔１，５−ａ〕ピリミジン−７−オラート
・４−メチル−６−（メチル−４−メチルフェニルスルホニウム）−５−オキソ−４Ｈ−ピラゾロ〔１，５−ａ〕ピリミジン−７−オラート
・４−（３，４，５−トリメトキシベンジル）−６−（メチル−４−メチルフェニルスルホニウム）−５−オキソ−４Ｈ−ピラゾロ〔１，５−ａ〕ピリミジン−７−オラート
・４−ベンジル−６−〔メチル−（３，４，５−トリメトキシフェニル）スルホニウム〕−５−オキソ−４Ｈ−ピラゾロ〔１，５−ａ〕ピリミジン−７−オラート
・４−メチル−６−〔メチル−（３，４，５−トリメトキシフェニル）スルホニウム〕−５−オキソ−４Ｈ−ピラゾロ〔１，５−ａ〕ピリミジン−７−オラート
・４−（３，４，５−トリメトキシベンジル）−６−〔メチル−（３，４，５−トリメトキシフェニル）スルホニウム〕−５−オキソ−４Ｈ−ピラゾロ〔１，５−ａ〕ピリミジン−７−オラート
・４−ベンジル−６−（メチル−４−クロロフェニルスルホニウム）−５−オキソ−４Ｈ−ピラゾロ〔１，５−ａ〕ピリミジン−７−オラート
・４−メチル−６−（メチル−４−クロロフェニルスルホニウム）−５−オキソ−４Ｈ−ピラゾロ〔１，５−ａ〕ピリミジン−７−オラート
・４−（３，４，５−トリメトキシベンジル）−６−（メチル−４クロロフェニルスルホニウム）−５−オキソ−４Ｈ−ピラゾロ〔１，５−ａ〕ピリミジン−７−オラート
・４−ベンジル−６−（１−テトラヒドロチオピラニウム）−５−オキソ−４Ｈ−ピラゾロ〔１，５−ａ〕ピリミジン−７−オラート
・４−メチル−６−（１−テトラヒドロチオピラニウム）−５−オキソ−４Ｈ−ピラゾロ〔１，５−ａ〕ピリミジン−７−オラート
・４−（３，４，５−トリメトキシベンジル）−６−（１−テトラヒドロチオピラニウム）−５−オキソ−４Ｈ−ピラゾロ〔１，５−ａ〕ピリミジン−７−オラート
・４−ベンジル−６−〔４−（１，４−チオキサニウム）〕−５−オキソ−４Ｈ−ピラゾロ〔１，５−ａ〕ピリミジン−７−オラート
・４−メチル−６−〔４−（１，４−チオキサニウム）〕−５−オキソ−４Ｈ−ピラゾロ〔１，５−ａ〕ピリミジン−７−オラート
・４−（３，４，５−トリメトキシベンジル）−６−〔４−（１，４−チオキサニウム）〕−５−オキソ−４Ｈ−ピラゾロ〔１，５−ａ〕ピリミジン−７−オラート
・４−ベンジル−６−〔１−（１，４−ジチアニウム）〕−５−オキソ−４Ｈ−ピラゾロ〔１，５−ａ〕ピリミジン−７−オラート
・４−メチル−６−〔１−（１，４−ジチアニウム）〕−５−オキソ−４Ｈ−ピラゾロ〔１，５−ａ〕ピリミジン−７−オラート
・４−（３，４，５−トリメトキシベンジル）−６−〔１−（１，４−ジチアニウム）〕−５−オキソ−４Ｈ−ピラゾロ〔１，５−ａ〕ピリミジン−７−オラート
・４−メチル−６−（メチル−ｎ−プロピルスルホニウム）−５−オキソ−４Ｈ−ピラゾロ〔１，５−ａ〕ピリミジン−７−オラート
・４−（４−メトキシベンジル）−６−（メチル−ｎ−ブチルスルホニウム）−５−オキソ−４Ｈ−ピラゾロ〔１，５−ａ〕ピリミジン−７−オラート
Claims (5)
- 一般式
で表わされるピラゾロ〔１，５−ａ〕ピリミジン誘導体。 - 一般式
で表わされる請求項１に記載のピラゾロ〔１，５−ａ〕ピリミジン誘導体。 - Ｒ1aが低級アルキル基である請求項２に記載のピラゾロ〔１，５−ａ〕ピリミジン誘導体。
- Ｒ2aが置換基として低級アルコキシ基及びヒドロキシル基から選ばれる基の１〜３個を有するフェニル基である請求項３に記載のピラゾロ〔１，５−ａ〕ピリミジン誘導体。
- Ｒ1aがメチル基又はエチル基で、Ｒ2aが２−ヒドロキシフェニル基、４−ヒドロキシフェニル基又は３，４，５−トリメトキシフェニル基で且つＲ3が水素原子であるか又はＲ1a及びＲ2aが共に低級アルキル基で且つＲ3が置換基として低級アルコキシ基の１〜３個を有することのあるフェニル低級アルキル基である請求項４に記載のピラゾロ〔１，５−ａ〕ピリミジン誘導体。
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP33548497A JP3711428B2 (ja) | 1996-12-25 | 1997-12-05 | ピラゾロ〔１，５−ａ〕ピリミジン誘導体 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8-345689 | 1996-12-25 | ||
| JP34568996 | 1996-12-25 | ||
| JP33548497A JP3711428B2 (ja) | 1996-12-25 | 1997-12-05 | ピラゾロ〔１，５−ａ〕ピリミジン誘導体 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10237074A JPH10237074A (ja) | 1998-09-08 |
| JP3711428B2 true JP3711428B2 (ja) | 2005-11-02 |
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ID=26575179
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP33548497A Expired - Fee Related JP3711428B2 (ja) | 1996-12-25 | 1997-12-05 | ピラゾロ〔１，５−ａ〕ピリミジン誘導体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3711428B2 (ja) |
-
1997
- 1997-12-05 JP JP33548497A patent/JP3711428B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH10237074A (ja) | 1998-09-08 |
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