JPH03204877A - ピラゾロ［１，５―ａ］ピリミジン誘導体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は医薬として有用な新規ピラゾロ［１，５ａ］ピ
リミジン誘導体、さらに詳しくは一般式；Ｒ３ １式中、Ｒｏ、Ｒ１、Ｒ３、Ｒ４は同一または異なって
水素原子、カルボキシル基、低級アルコキシカルボニル
基、フェニル基、置換基としてヒドロキシル基、カルボ
キシル基、低級アルコキシカルボニル基を有することの
ある低級アルキル基、シクロアルキル基を示し、またＲ
１およびＲ，は互いに結合して低級アルキレン基を形成
してもよい。Ｒ６は基−ＳＲ，または−ＮＲ７Ｒ，を示
し、Ｒ８はピリジニル基または置換基としてヒドロキシ
ル基、低級アルキル基から選ばれる基の１〜３個を有す
ることのあるフェニル基を示し、Ｒ７およびＲ８は水素
原子、置換基としてヒドロキシル基、低級アルキル基、
低級アルコキシカルボニル基、カルボキシル基から選ば
れる基の１〜３個を有することのあるフェニル基を示す
か、あるいはＲ７とＲ８が互いに結合して、これらが結
合している窒素原子と共に１−ピロリジニル基、２−オ
キソ−１−ピロリジニル基、または置換基としてハロゲ
ン原子もしくはトリへロメチル基を有することのあるフ
ェニル基、ヒドロキシ低級アルキル基あるいはジフェニ
ル低級アルキル基を有するｌ−ピペラジニル基を形成す
る基を示す］ で表されるピラゾロ［１，５−ａ］ピリミジン誘導体ま
たはその塩に関する。

発明の構成および効果 本発明の新規ピラゾロ［１，５〜ａ］ピリミジン誘導体
は前記−形成（１）で示され、動物、特に哺乳動物に対
して、例えば虚血−再痺流障害改善作用、抗炎症、抗リ
ウマチ、抗喘息、抗アレルギー、解熱、鎮痛等の薬理作
用を示し、例えば虚血−再痺流障害改善剤、抗炎症剤、
抗リウマチ剤、抗喘息剤、抗アレルギー剤、解熱剤、鎮
痛剤等の医薬品として有用である。

上記−形成（１）において示される各基としては具体的
にはそれぞれ以下の各基を例示できる。

低級アルキル基としては、例えばメチル、エチル、プロ
ピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｔ−ブチル
、ペンチル、ヘキシル等の炭素数１〜６個の直鎖または
分枝鎖アルキルが挙げられる。

低級アルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボ
ニル、エトキシカルボニル、プロポキンカルボニル、イ
ソプロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、ｔ−ブ
トキシカルボニル、ペンチルオキシカルボニル、ヘキシ
ルオキシカルボニル基等の炭素数２−７の直鎖または分
枝鎖状アルコキシカルボニル基を例示できる。

置換基としてヒドロキシル基、カルボキシル基または低
級アルコキシカルボニル基を有することのある低級アル
キル基としては先に掲げた低級アルキル基の他、例えば
ヒドロキシメチル、２−ヒドロキシエチル、３−ヒドロ
キシプロピル、２ヒドロキシプロピル、２−ヒドロキン
イソプロピル、カルボキンメチル、２−カルボキシエチ
ル、３−カルボキンプロピル、４−カルボキンブチル、
メトキシカルボニルメチル、エトキシカルボニルメチル
、プロポキシカルボニルメチル、ブトキシカルボニルメ
チル、２−メトキシカルボニルエチル、２−エトキシカ
ルボニルエチル等が挙げられる。

シクロアルキル基としては、例えばシクロプロピル、シ
クロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロ
ヘプチル、シクロオクチル基等の炭素数３〜８のシクロ
アルキル基を例示できる。

低級アルキレン基としては、例えばメチレン、エチレン
、トリメチレン、テトラメチレン、ペンタメチレン、ヘ
キサメチレン基等が挙げられる。

置換基としてヒドロキシル基、低級アルキル基、低級ア
ルコキシカルボニル基、カルボキシル基から選ばれる基
の１〜３個を有することのあるフェニル基としてはフェ
ニル基の他、例えば２−ヒドロキソフェニル、３−ヒド
ロキシフェニル、４ヒドロキシフエニル、２，３−ジヒ
ドロキシフェニル、２４−ジヒドロキシフェニル、３，
４−ジヒドロキシフェニル、２−メチルフェニル、■。

３−ジメチルフェニル、３，４．５−１リメチルフエニ
ル、３−エチルフェニル、２，３−ジエチルフェニル、
２，４．６−ドリエチルフエニル、４−プロピルフェニ
ル、２，４−ジプロピルフェニル、ｌ。

２．３−トリプロピルフェニル、４−ｔ−ブチルフェニ
ル、２．４−ジー【−ブチルフェニル、２，４．６トリ
ーｔ−ブチルフェニル、３．５−ジ−ｔ−ブチル−４−
ヒドロキシフェニル、２−メトキシカルボニルフェニル
、３−メトキシカルボニル−４ヒドロキシフエニル、２
−カルボキシフェニル、３−カルボキシフェニル、４−
カルボキシフェニル、２．４−ジカルボキシフェニル、
２，４．６トリカルポキシフエニル、３−カルボキシ−
４ヒドロキシフエニル等が挙げられる。

ハロゲン原子またはトリハロメチル基を有することのあ
るフェニル基としては、フェニル基の他に、例えば、２
−フルオロフェニル、３−フルオロフェニル、４−フル
オロフェニル、２−クロロフェニル、３−クロロフェニ
）Ｉｉ、４−’）ロロフェニル、２−ブロモフェニル、
３−ブロモフェニル、４−ブロモフェニル、２−ヨード
フェニル、３−ヨードフェニル、４−ヨードフェニル、
２−フルオロ−３−クロロフェニル、２−トリフルオロ
メチルフェニル、３−トリクロロメチルフェニル、４−
トリブロモメチルフェニル、２−トリヨードメチルフェ
ニル、３−ジフルオロモノクロロメチルフェニル、４−
モノクロロジブロモメチルフェニル、２−ジクロロモノ
ヨードメチルフェニル基等が挙げられる。

ジフェニル低級アルキル基としては、例えば、ジフェニ
ルメチル、２．２−ジフェニルエチル、２．３−ジフェ
ニルプロピル基等が挙げられる。

本発明のピラゾロ［１，５−ａ］ピリミジン誘導体は下
記の反応工程式により製造することができる。

［反応工程式−１〕 ［式中、Ｘはハロゲン原子を示し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ８、
Ｒ４、Ｒ５、Ｒ８、Ｒ７およびＲ８は前記と同じ。コ反
応工程式−１に示すように、ピラゾロ［１，５−ａ］ピ
リミジンハライド誘導体（ｎ）とチオール類（Ｉ）また
はアミン類（ＴＶ）とを縮合させることにより、本発明
化合物（１）を得ることができる。

上記反応は一般に適当な溶媒中、脱酸剤の存在下または
非存在下で実施される。ここで用いられる脱酸剤として
は、Ｎ　ａ　ＯＨｓ　Ｋ　ＯＨｓ　Ｎ　ａ　ＨＣ０３、
Ｋ　ｔ　ＣＯ３等のアルカリ金属水酸化物、重炭酸塩ま
た炭酸塩などの無機塩基、またはトリエチルアミン、ジ
メチルアニリン、ノエチルアニリン、Ｎ−メチルモルホ
リン、ピリジン、４−ツメチルアミノピリジン等の第三
級アミン類を例示できる。また溶媒としては、メタノー
ル、エタノール等の低級アルコール類、テトラハイドロ
フラン（ＴＨＦ）、ジオキサン等のエーテル類などの不
活性有機溶媒が挙げられる。脱酸剤として無機塩基を使
う場合にはこれら不活性有機溶媒と水との混合溶媒を用
いるのが好ましい。またベンゼン、トルエン、キシレン
等の芳香族炭化水素も溶媒として使用し得る。

上記反応におけるピラゾロ［１，５−ａ］ピリミジンハ
ライド誘導体（ＩＩ）とチオール類（ＩＩＩ）またはア
ミン類（ＩＶ）との使用割合は特に限定されないが、通
常前者に対して後者を等モル量〜過剰量用いるのがよい
。また上記脱酸剤は通常ピラゾｏ［ｌ、５ａ］ピリミジ
ンハライド誘導体に対して等モル量〜過剰量用いるのが
好適である。反応は冷却下、室温下および加熱下のいず
れでも進行するが、通常θ℃〜溶媒の還流温度範囲の温
度条件を採用して行なわれ、一般に０．５〜１５時間程
時間路了する。

［反応工程式−２］ ［式中、Ｘ、〜Ｘ７およびＸ’＋〜Ｘ’７はそれぞれ前
記−形成（Ｄ中の対応する基に相当し、すなわち、Ｘ、
とＸ゛１、Ｘ、とＸ゛２、Ｘ３とＸ″３およびＸ４とＸ
°４はそれぞれＲ１１Ｒ７、Ｒ３およびＲ４に相当し、
Ｘ、とＸ’５、Ｘ、とＸ　’　ｅおよびＸ７とＸ°７は
水素原子、ヒドロキシル基、低級アルキル基、低級アル
コキンカルボニル基またはカルボキシ基から選ばれる基
である。ただし、Ｘ、、Ｘ、、Ｘ３、Ｘ４、Ｘ５、Ｘ８
、Ｘ７のうち少なくとも一つの基は低級アルコキシカル
ボニル基または低級アルコキンカルボニル低級アルキル
基であり、Ｘ′１、Ｘ’２、Ｘ’３、Ｘ″４、Ｘ’ｓ、
Ｘ゛６、Ｘ　’　７のうち上記の基に対応する位置の基
はカルボキシル基またはカルボキシ低級アルキル基であ
る］ 反応工程式−２に示すように、反応工程式−１の方法で
合成される本発明化合物（Ｉ）のうち、置換基として低
級アルコキシカルボニル基および／または低級アルコキ
シカルボニル低級アルキル基を有する化合物（Ｉ　ａ）
を加水分解して別の本発明化合物（Ｉ　ｂ）を得ること
かできる。上記反応は、例えばメタノール、エタノール
等の低級アルコール類、ＴＨＦ、ジオキサン等のエーテ
ル類などの適当な不活性有機溶媒と水との混合溶媒中、
化合物（Ｉａ）に対して１〜３０倍モル量のＮａ０ＨＳ
ＫＯＨ等のアルカリ金属水酸化物およびハイドロサルフ
ァイドナトリウム（ＮａｘＳｘｏ＊）の存在下または非
存在下で実施される。置換基ｘ５、Ｘ８、Ｘ７のいずれ
かがｐ位のＯＨ基である場合、加水分解反応中、酸化さ
れるおそれがあるので、Ｎａ、５ｚＯ４の存在下で反応
させるのが好ましい。反応は冷却下、室温下、および加
熱下のいずれでも進行するが通常０℃〜溶媒の還流温度
範囲の温度条件を採用して行なわれる。

［反応工程式−３コ ［Ｙ、〜Ｙ７およびＹ°１〜Ｙ°７はそれぞれ前記−形
成（１）中の対応する基に相当し、すなわち、Ｙ。

とＹ゛１、Ｙ２とＹ’２、Ｙ３とＹ°３およびＹ４とＹ
４はそれぞれＲ１、Ｒ７、Ｒ３およびＲ４に相当し、Ｙ
５とＹ′５、Ｙ８とＹ’ｓおよびＹ７とＹ゛７は水素原
子、ヒドロキシル基、低級アルキル基、低級アルコキン
カルボニル基またはカルボキン基から選ばれる基である
。たたし、Ｙｌ、Ｙ７、Ｙ３、Ｙ４、Ｙ５、Ｙ８、Ｙ７
のうち少なくとも一つの基がカルボキシル基、低級アル
コキンカルボニル基またはカルボキシ低級アルキル基を
示し、Ｙ°３、Ｙ“２、Ｙ°３、Ｙ″４、Ｙ°５、Ｙ’
ｅ、Ｙ’７のうち上記の基に対応する位置の基は対応す
るヒドロキシル基またはヒドロキシ低級アルキル基を示
す］ 反応工程式−３に示すように、反応工程式−■で合成さ
れる本発明化合物（１）のうち、置換基としてカルボキ
シル基、低級アルコキシカルボニル基および／またはカ
ルボキシ低級アルキル基を有する化合物（ＩＣ）を還元
して別の本発明化合物（■ｄ）を得ることができる。上
記還元反応は、例えばジエチルエーテル、ＴＨＦ１ジオ
キサン等の不活性有機溶媒中、化合物（Ｔｃ）に対して
１〜１０倍モル量の水素化アルミニウムリチウム、水素
化アルミニウム、ノボラン等の適当な還元剤を用いて実
施できる。反応は約０〜５０℃の温度条件、好ましくは
約０°Ｃ〜室温付近の温度条件を採用して行なわれる。

前記反応工程式−■において、出発原料として使用され
る化合物（ｎ）は、公知化合物および新規化合物の両者
を包含しており、これら各化合物は、例えば下記反応工
程式−４に示す方法に従って、製造することができる。

［反応工程式−４］ バ３ ［式中、Ｙは低級アルキル基を示し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３
、Ｒ４およびＸは前記に同じ］ 上記反応工程式−４に示す化合物（Ｖ）と化合物（ＶＩ
）との縮合反応は、酢酸、エタノール等の溶媒中、室温
〜溶媒の沸点の温度条件下で処理することにより行なわ
れる。

化合物（Ｖ）と化合物（Ｖｆ）との使用割合は、一般に
ほぼ等モル量とするのがよく、また反応は２〜５時間程
度を要して完了し、かくして化合物（■）か得られる。

次に、化合物（■）をハロゲン化することにより、本発
明化合物の原料である化合物（ＩＩ）を得ることができ
る。

該ハロゲン化は、Ｎ、Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ、Ｎ−
ジエチルアニリン、トリエチルアミン等の脱酸剤の存在
下、オキシ塩化リン、オキシ臭化リン等のハロゲン化剤
と処理することにより実施される。なお、上記ハロゲン
化剤は溶媒も兼ねるので特に溶媒を必要としないが、別
の不活性溶媒中でも実施でき、その場合は例えばベンゼ
ン、トルエン、キシレン等を例示できる。

また、脱酸剤の使用量は、化合物（■）に対して１−１
ｏ倍程度が採用できる。

反応は、室温〜１００℃の温度条件で０．５〜２時間程
度を要して行なわれる。

上記反応工程式−１〜４に示す方法により得られる化合
物は、慣用される分離手段により反応系内より単離され
得、また精製され得る。上記単離・精製手段としては溶
媒抽出、蒸留、再結晶、カラムクロマトグラフィー、プ
レバラテイブ薄層クロマトグラフィー等を採用すること
ができる。また、得られる本発明化合物は、必要により
遊離の形態で、または医薬的に許容される酸、例えば塩
酸、臭化水素酸、硫酸、硝酸等の無機酸、シュウ酸、フ
マル酸、マレイン酸、酒石酸、クエン酸等の有機酸との
酸付加塩の形態で、または医薬的に許容されるアルカリ
金属またはアルカリ土類金属（例えばナトリウム、カリ
ウム、カルシウム等）の金属塩の形態で単離してもよい
。

［実施例］ 以下、実施例を挙げて本発明の化合物をさらに具体的に
説明する。

実施例１ ７−（３，５−ジーＬ−ブチルー４−ヒドロキシフェニ
ル）アミノ−ピラゾロ［１，５−ａ］ピリミジンの合成 ７−クロロピラゾロ［１，５−ａＥピリミジンｌｏｇと
３．５−ノーｔ−ブチル−４−ヒドロキシアニリン塩酸
塩１．８ｇおよびジエチルアニリン２゜３ｍｌのトルエ
ン５０＋ｎｌ懸濁液を１２０℃で３０分間加熱した。冷
浸、溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー（溶出溶媒：ＣＨＣｌ３）で精製し、７−（３
，５−ジ−ｔ−ブチル−４ヒドロキシフエニル）アミノ
ピラゾロ［１，５−ａ］ピリミジン８９０ｍｇを無色結
晶として得た。

融点：　２６４〜２６６（分解） ’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ２）＋　　６ １．４８（ｓ、１８Ｈ）、５．６３（ｓ、ＩＨ）、５゜
９２（ｓ、ＩＨ）、６．５５（ｄ、Ｊ＝２．３Ｈｚ、Ｉ
Ｈ）、７．４７（ｓ、２Ｈ）、８．１４（ｄ、Ｊ＝２゜
３　Ｈｚ、　Ｉ　Ｈ） 実施例２〜２６ 実施例１と同様にして、下記第１表に示す各化合物を得
た。

実施例２７ ７−（２−カルボキシフェニル）アミノ−５−メチルピ
ラゾロ［１，５−ａ］ピリミノンの合成実施例３で合成
した７−（２−メトキシカルボニルフェニル）アミノ−
５−メチルピラゾロ［１゜５−ａ］ピリミンン１．０ｇ
のエタノール２０ｍ１溶液に５％水酸化ナトリウム溶液
３０ｍ１を加え、１００°Ｃで１時間加熱撹拌した。冷
浸、エタノールを留去し、残渣に１０％塩酸を加えて中
和し、さらに飽和クエン酸水溶液でＩ）Ｈ４とした。析
出した結晶を濾取し、水、エタノール、エチルエーテル
で洗浄後、乾燥し、７−（２−カルボキシフェニル）ア
ミノ−５−メチルピラゾロ［１，５−ａ］ピリミノン９
７０ｍｇを無色結晶として得た。

融点、２６１〜２６２°Ｃ（分解） ’Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ８）・　δ２．４７（ｓ、
３Ｈ）、６．４７（ｄ、Ｊ＝１．２Ｈｚ。

ＩＨ）　　６．７６（ｓ、ＩＨ）、７．２７（ｔ、Ｊ７
．６Ｈｚ、ＩＨ）、７．７２（ｔ、Ｊ＝７．６Ｈｚ。

ＩＨ）、７．８６（ｄ、Ｊ＝７．６Ｈｚ、ＩＨ）、８゜
０７（ｄ、Ｊ＝７．６Ｈｚ、ＩＨ）、８．１６（ｄ、Ｊ
ｌ、２Ｈｚ、ＩＨ） 実施例２８〜３５ 実施例２７と同様にして、下記第２表に示す各化合物を
得た。

実施例３６ ７−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキソフェニ
ル）アミノ−３−ヒドロキシメチル−５メチルピラゾロ
［１，５−ａ］ピリミジンの合成ＬｉＡｌＨ４８４０ｍ
ｇの無水エーテル５０ｍ１懸濁液に実施例ＩＯで合成し
た７−（３，５−ジー上ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）アミノ−３エトキシカルボニル−５−メチルピラゾ
ロ［１，５ａ］ピリミジン３．５ｇの無水ＴＨＦ　　５
０ｍ１溶液を水冷下で滴下し、同温度にて３０分間撹拌
、さらに室温で１時間撹拌した。酢酸エチルおよび水を
加えて過剰のＬｉＡＩＨ，を分解後、セライトで濾過し
た。濾液を酢酸エチルで希釈し、Ｎａ２ｓｔ０４飽和水
溶液および飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウム
で乾燥した。溶媒を留去し、残渣をシリカゲルクロマト
グラフィー（溶出溶媒：酢酸エチル／ジクロロエタン＝
２／ｌ→クロロホルム／メタノール＝８／１）で精製し
た。こうして得た結晶をエチルエーテルで洗浄し、７−
（３５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）ア
ミノ−３−ヒドロキシメチル−５−メチルピラゾロ［Ｉ
、５−ａ］ピリミノン２．３ｇを無色結晶として得た。

融点　１９４〜１９６℃ ’Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、）：　　δ１．４１（ｓ
、１８Ｈ）、２．３６（ｓ、３Ｈ）、４６０（ｄ、Ｊ＝
５．２Ｈｚ、２Ｈ）、４．７９（ｔ　Ｊ＝５．２Ｈｚ、
ＩＨ）、６．０４（ｓ、ＩＨ）、７゜１０（ｂｒｓ、ｆ
Ｈ）、７．１７（ｓ、２Ｈ）、８．０６　（ｓ、　Ｉ　
Ｈ）、　　９　、４４　（ｂｒｓ、　Ｉ　Ｈ）実施例３
７ ６．７−シヒドロー８−（３５−ジ−ｔ−ブチル−４−
ヒドロキシフェニル）アミノ−５Ｈ−シクロペンタ［ｄ
］ピラゾロ［１，５−ａ］ピリミノンの合成 ２−オキソソクロペンタンカルポン酸エチルの３１９と
３−アミノピラゾール１７．４９を酢酸３００杼に溶か
し、１００℃で３時間加熱した。放冷後、生じた結晶を
濾取し、水、次いでジエチルエーテルで洗浄し、さらに
ンクロロメタンーノエチルエーテルで再結晶して、融点
２８０℃以上の結晶２２．３ｇを得た。

次に、上記で得られた結晶９．０ｇとＮ、Ｎ−ジエチル
アニリン１５ｚＣをオキシ塩化リン９０ｉρ中に加え、
８０℃で３時間加熱した。反応終了後、減圧５縮し、残
渣を氷水中に注ぎ込み、ノクロロメタンで抽出した。有
機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥
させた後、溶媒を留去した。残渣をｎ−ヘキサンで結晶
化して、９．９９の結晶を得た。

上記結晶３．９ｇと３．５−ジ−ｔ−ブチル−４ヒドロ
キノアニリン塩酸塩５．２ｇおよびＮ、Ｎジエチルアニ
リン５ｍａをトルエン６０ｍ１ｉ中に加え、１００°Ｃ
で３時間加熱した。実施例１と同様に後処理し、粗生成
物をノリカゲルカラムクロマトグラフィ−（溶出溶媒・
ジクロロメタン→ノクロロメタンーメタノール−５０：
Ｉ）で精製し、更にノクロロメタンーンエチルエーテル
で再結晶して、目的化合物３．８ｇを得た。

融点２５５〜２５７℃（分解） ’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ２）：　　δ １．４５（ｓ、　Ｉ　８　Ｈ）、　　１．９６（ｑｕｉ
ｎｔｅｔ、Ｊ　＝７．３Ｈｚ、２Ｈ）、２．２２（ｔ、
Ｊ＝７．３Ｈｚ。

２Ｈ）、２．８９（ｔ、Ｊ＝７．３Ｈｚ、２Ｈ）、５゜
３０（ｓ、ＩＨ）、６．４０（ｄ、Ｊ＝２．３Ｈｚ、Ｉ
Ｈ）、７．０７（ｓ、２Ｈ）、７．９７（ｄ、Ｊ＝２゜
３　Ｈｚ、　Ｉ　Ｈ）、　　７　、９７　（ｂｒｓ、　
１．　Ｈ）実施例３８〜４８ 実施例３７と同様にして、下記第３表に示す各化合物を
得た。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 一般式； ▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中、Ｒ＿１、Ｒ＿２、Ｒ＿３、Ｒ＿４は同一または
   異なって水素原子、カルボキシル基、低級アルコキシカ
   ルボニル基、フェニル基、置換基としてヒドロキシル基
   、カルボキシル基、低級アルコキシカルボニル基を有す
   ることのある低級アルキル基、シクロアルキル基を示し
   、またＲ＿１およびＲ＿２は互いに結合して低級アルキ
   レン基を形成してもよい。Ｒ＿５は基−ＳＲ＿６または
   −ＮＲ＿７Ｒ＿８を示し、Ｒ＿６はピリジニル基または
   置換基としてヒドロキシル基、低級アルキル基から選ば
   れる基の１〜３個を有することのあるフェニル基を示し
   、Ｒ＿７およびＲ＿８は水素原子、置換基としてヒドロ
   キシル基、低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル
   基、カルボキシル基から選ばれる基の１〜３個を有する
   ことのあるフェニル基を示すか、あるいはＲ＿７とＲ＿
   ８が互いに結合して、これらが結合している窒素原子と
   共に１−ピロリジニル基、２−オキソ−１−ピロリジニ
   ル基、または置換基としてハロゲン原子もしくはトリハ
   ロメチル基を有することのあるフェニル基、ヒドロキシ
   低級アルキル基あるいはジフェニル低級アルキル基を有
   する１−ピペラジニル基を形成する基を示す］ で表されるピラゾロ［１，５−ａ］ピリミジン誘導体お
   よびそれらの塩。