JPH09512042A - 衛生処理を伴ったすすぎ方法 - Google Patents

衛生処理を伴ったすすぎ方法

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Abstract

(57)【要約】 本発明は、銀製品を含むウェア製品の衛生処理及び着色除去の方法である。最も好ましい形態では、本方法は、100ppmから2000ppmの割合で衛生処理濃縮構成物を銀製品に使用する工程を含む。この衛生処理濃縮構成物は、約1重量%から約20重量%のペルオキシカルボン酸と、酢酸及びオクチル酸の混合物類を含む約10重量%から50重量%のカルボン酸と、約3重量%から35重量%の過酸化水素と、バランスをとるための担体とを含み、前記酢酸と前記オクチル酸は、約10対1から約1対1の範囲の比率でそれぞれ存在し、前記ペルオキシカルボン酸は、前記担体中で前記酢酸、オクチル酸、及び過酸化水素の反応生成物を含有する。

Description

【発明の詳細な説明】 発明の名称 衛生処理を伴ったすすぎ方法 発明の属する技術分野 本発明は、一般に、スチール、銀、銀メッキウェア製品といった金属合金から 作られるものを含んだウェア製品を衛生処理し、着色を除去する方法に関するも のである。特に本発明は、ペルオキシ酸構成物でウェア製品をすすいで衛生処理 する方法に関するものである。この方法は、その腐食性が低いので、特に銀を含 むウェア製品に衛生処理を施して着色を除去する際に使用される。本発明の構成 物は、一般に、商業的な環境や非商業的な環境下で操作が行われるすすぎサイク ルに使用されるのはもちろん、手動及び自動のすすぎ操作にも使用される。本発 明の方法を使用できるような場所とは、例えば、病院、レストラン、託児所、ホ テル、カフェテリア、お持ち帰り用の食品サービス業、その他に、食事の際にテ ーブルウェアやディッシュウェア(dishware)はもちろん、調理器具を頻繁に使 用し、再利用するような設備が挙げられる。 従来の技術 商業とは関係なく大量の食品を提供しサービスする設備では、自動式あるいは 手動式のウェア製品洗浄にしばしば化学衛生処理構成物を使用して、すすぎ操作 をしている間に細菌を殺し、最低限、公衆衛生基準を満たすようにしている。多 くの設備では、非常に高温の(180°〜195°F)すすぎ水を使用して、公 衆衛生基準に応じている。このような温度に届かない場合は、キッチンウェアや テーブルウェアと接触させる1種類以上の水性材料に化学衛生処理剤を加え、約 120〜140°Fの低温度条件下で殺菌効果が出るようにすることがよくある 。本明細書中で「高温」と「低温」という言葉が使用されるときは、以上の温度 範 囲にほぼ関連している。 低温度での方法及び装置は、次に示す特許で例を挙げて説明されている:フォ ックス等による米国特許第2,592,884号、第2,592,885号、第2,592,886号、第3,0 44,092号、第3,146,718号、同様にフォックスによる米国特許第3,370,597号。以 上のような機械類を使用するときはほとんどの場合、汚れたキッチンウェアやテ ーブルウェアを手動で、あるいは水のスプレーを含む自動機械のスクラップ工程 で汚れを前もって砕き、大きい汚れを取り除いて洗浄する方法に従う。次のゾー ンに進んで、このウェア製品を水性アルカリ性洗浄構成物に接触させる。この水 性アルカリ性洗浄構成物の作用は、蛋白質や脂肪、炭化水素の汚れを化学的に攻 撃して、汚れを取り除くことである。次に、洗浄したウェア製品を衛生処理剤材 料に接触させる衛生処理工程に、あるいはすすぎ剤と消毒剤の配合物と接触させ るすすぎと衛生処理が組み合わさった工程に進む。最後に、ウェア製品を乾燥さ せる工程に進む。ここでは、加熱して積極的に乾燥させる方法か、周囲への蒸発 によって乾燥させる受動的な方法によって乾燥が行われる。 衛生処理をする必要性があるため、様々な薬剤を考慮することになる。ウェア 製品洗浄に最も一般的に用いられる消毒剤の一つは次亜塩素酸ナトリウム(Na OCl)水である。次亜塩素酸ナトリウムは、効果的で、安価で、一般に入手し 易いものであるが、一方では欠点もいくつかある。まず、次亜塩素酸塩は、カル シウム、マグネシウム、鉄、マンガンなどを含む水道水中の硬度イオンと反応で きることが挙げられる。この化学反応が原因で、機械部品に石灰やミネラルの沈 殿物が生じる。このような沈殿物はウェア製品洗浄機の水の通り道の内部やその 上に現れる傾向が見られ、この機械を通って流れる様々な水性材料の流量を実質 的に変えてしまう。以上のような変化が生じると、機械操作の効果が著しい程度 にまで減る可能性がある。また、非イオン界面活性剤のように望ましいシーティ ング(sheeting)やすすぎを促進する特性を有する別の化学物質を併用する場合 、次亜塩素酸ナトリウムの成分としての塩素には、相溶性という問題が生じる。 さらに、次亜塩素酸ナトリウムと水道水中の様々なミネラルとの相互作用によっ て、ウェア製品にスポットやフィルム状のしみが生じる結果になる可能性もある 。 また、次亜塩素酸ナトリウムは酸化作用の強い化学物質であり、実際、機械製 品に使用される様々な材料や、商業とは関係のない環境で日常に使用するテーブ ルウェアやキッチンウェアに使用される様々な材料を腐食させる。また、塩素は 、銀や銀メッキによる仕上げを含むテーブルウェアとも反応し、分解や腐食を起 こす。分解生成物は、金属である銀に接触する他の成分イオンと銀イオンとの反 応による生成物である。銀は即時に結合して、例えば、酸化銀やハロゲン銀など を形成し、特に塩素にさらされた場合、例えば次亜塩素酸ナトリウムから生じる 塩素にさらされた場合、塩化銀を形成する。 一方、低温及び高温の洗浄系で使用される様々なすすぎ促進剤構成物が開発さ れてきた。例えば、フローラ等による米国特許第4,147,559号、米国再発行特許 第30,537号では、フードウェア製品をすすいで化学的に衛生処理する装置及び方 法が教示されている。この開示の第一の目的は、適切な洗浄と衛生処理を確立す るための構成に関与する機械に向けられている。 さらに、ほとんどが非イオン界面活性剤を基剤とし、消毒剤を使用しないすす ぎ促進剤構成物も多く知られている。アルテンショップファー(Altenschopfer )による米国特許第3,592,774号では、サッカリドをベースとする非イオンすす ぎ剤が教示されている。リュー等による米国特許第3,625,901号では、泡立ちが 少ないという特性を有するすすぎ剤に使用される界面活性剤が教示されている。 ドーソン等による米国特許第3,941,713号では、アルミニウムやその他の金属製 キッチンウェアといったその他の製品を処理するための再汚染防止あるいは非粘 着性の添加剤を含む機械製品洗浄のすすぎ剤が教示されている。ロドリゲズ(Ro driguez)等による米国特許第4,005,024号では、すすぎ剤として作用する有機シ ラン及び一官能基の有機酸を含むすすぎ剤構成物が教示されている。ヘロルド等 による米国特許第4,187,121号では、サッカリドグリコールエーテルを基剤とし たすすぎ剤濃縮物の技術が教示されている。 さらに、モルガンソン等による米国特許第4,624,713号では、非イオンすすぎ 剤と尿素、水、その他の成分を含む凝固したすすぎ剤構成物が教示されている。 非イオン界面活性剤、及び非イオン界面活性剤を含むすすぎ添加剤に関しては、 マーセル デッカー(Marcel Dekker)によって出版されたシック(Schick)に よる“非イオン界面活性剤”と、ジョン エル.ウィルソンによる「石鹸と化学 特 性(Soap and Chemical Specialties)」、1958年2月、48〜52頁と1 70〜171頁とに記述されている。 しかし、以上のようなすすぎ促進剤には、効果的なシーティングとすすぎ作用 を衛生処理効果と結びつけて、銀を含むウェア製品に対して好ましい衛生処理構 成物を作り出すことができるものがない。したがって、シーティングを促すこと ができ、スポットの除去を促すことができ、実質上衛生処理作用を提供すること ができ、ウェア製品や皿用の機械類に沈殿物を形成させることなく、機械構成要 素やキッチンウェア、テーブルウェアを腐食させることなく、あるいは、銀を含 むウェア製品をくもらせて変色させることなく操作できるすすぎ衛生処理剤が、 従来から強く必要とされてきた。 課題を解決するための手段 本発明の第一の特徴によると、ウェア製品に衛生処理のすすぎ剤を適用する工 程を含むウェア製品の衛生処理及び着色の除去方法が提供されている。この衛生 処理のすすぎ構成物は、通常、ペルオキシカルボン酸、カルボン酸、過酸化水素 、及びバランスをとるための水性担体を含む。 本発明のさらに好ましい特徴によると、銀製品の衛生処理と着色の除去方法が 提供されている。この方法は、銀製品を自動ウェア洗浄機で洗浄し、約100p pmから2000ppmの衛生処理濃縮構成物を使用する工程を含む。この衛生 処理濃縮構成物は、酢酸とオクチル酸とを含む約5重量%から75重量%のカル ボン酸混合物と、約1重量%から40重量%の過酸化水素と、カルボン酸と過酸 化水素の反応によって生じた約0.5重量%から25重量%のペルオキシカルボ ン酸と、任意のカルボン酸可溶化剤と、バランスをとるための水性担体とを含む 。すすぎは高温あるいは低温の水で仕上げることができる。 本発明は、ウェア製品の着色除去と衛生処理の方法である。概略すれば、本発 明は向上した着色除去と衛生処理を提供するが、ウェア製品や機械部品が著しい 程度にまで腐食する原因となるものではない。我々は、本材料を効果的な濃度で 処方すれば全体的な固形物の量が低くなり、このことがスポット状のしみを抑え る結果となることを見出した。最後に、ペルオキシ酸材料が分解したカルボン酸 は、フィルム状のしみを形成しないのはもちろん、無毒であり、腐食性がない。 また、ディッシュマシーンや、キッチンウェア、テーブルウェア、ガラス製品と いった製品に通常使用できる材料と適合性がある。 本発明の趣旨から、「シーティングあるいはすすぎ剤」という言葉は、すすぎ 水がシート状になる原因となる化学物質に関するものである。「すすぎ促進剤」 とは、水性の希釈剤によって希釈され、すすぎ水を形成する濃縮材料を表す。「 ウェア製品、テーブルウェア、キッチンウェア、あるいはディッシュウェア」は 、曇りや変色、あるいは変質を受けやすい様々なタイプの製品に関するもので、 ポット、平鍋、焼き皿、処理装置、トレイ、ピッチャー、ボウル、プレート、ソ ーサー、カップ、グラス、フォーク、ナイフ、スプーン、ナイフ状の薄いへら( スパチュラ)、グリル、丸いフライパン状の鉄板(グリドル)、バーナーを含む 食料品の準備、給仕、及び消費に使用される製品に関し、また、熱硬化性のある いは熱可塑性のポリマーから作られるものすなわち加工品や、吹いたり火を当て て製造されるガラスやプレートなどのセラミックの加工品、他の材料の中でも特 に、銀や銅、青銅、スチールなどの元素金属や合金金属の加工品に使用される製 品に関するものである。「銀製品」は、銀、あるいは銀の塩(えん)や酸化銀な どを含む銀化合物を含む「ウェア製品、テーブルウェア、キッチンウェア、ある いはディッシュウェア」をどれでも含む。「すすぎ」あるいは「シーティング」 という言葉は、すすぎ水とテーブルウェアが接触したときに、すすぎ水がほぼ連 続した薄いシートを形成し、水が蒸発したときにウェア製品から水が一様にきれ てスポット状のしみがほとんど残らないというすすぎ水の能力に関するものであ る。 本発明は、第一に、製品を洗浄して衛生処理を施す際の低温用装置に関するも のであるが、高温用機械に利用しても、確実にレベルを上げて、適切にウェア製 品の着色を除去し衛生処理を施すことができる。 発明の実施の形態 本発明は、銀製品を含むウェア製品の衛生処理及び着色除去の方法に関するも のである。本発明の方法は、1種類以上のカルボン酸と酸化剤とによるペルオキ シカルボン酸反応生成物を含む衛生処理構成物を使用することを含む。任意では あるが、本発明の構成物は、酸化剤の存在下でも安定性を示す担体やシーティン グ剤などといった他の補助剤と同様に、酸化剤に対して安定な金属イオン封鎖剤 や可溶化剤も含むことができる。 衛生処理、着色除去構成物は、一般的に、濃縮系あるいは希釈系に存在するど のすすぎ促進剤に対しても相溶性のある液体希釈剤によって処方される。本発明 の特色は、本活性構成物が、(1)希釈していない濃縮物と同程度の濃度におい て安定であり、(2)すすぎ水中に次亜塩素酸ナトリウムを使用した場合よりも かなりの改善がみられ、(3)効果的な衛生処理を提供し、ウェアに対しても改 善された外観を提供できるという事実に関する。最後に、本発明の構成物は、自 動皿洗い器やウェア製品、特に銀製品において一般的な材料と接触しても、腐食 作用を示さず、フィルム状のしみを形成することもない。 A.衛生処理及び着色除去濃縮物 本発明の構成物は、ペルオキシカルボン酸衛生処理構成物を含む。このペルオ キシカルボキシル基の消毒剤材料は、通常、少なくとも2つのモノカルボン酸を 含み、それぞれ2から約18の炭素原子を有する。ペルオキシカルボキシル基を 有する材料の製造は、モノカルボン酸を酸化して直接ペルオキシカルボキシル基 を有する材料を作り、次に本発明の構成物中に溶解するのが一般的である。さら に、脂肪過酸を添加成分のいずれかと混合する前に、あるいは添加成分を調製し た後に、酸化されていない酸と過酸化水素とを化合させ、その場で酸を生成させ て本材料を製造することもできる。 通常、ペルオキシカルボン酸を本発明に従って処方するときは、酢酸などのモ ノカルボン酸を過酸化水素などの酸化剤と化合させる。この化合の結果、過酢酸 のようなペルオキシカルボン酸と水とが生じる反応が起こる。この反応は以下の 式による平衡に従う。 H22+RCOOH======RCOOOH+H2O ここでKeqは2.0である。 この平衡において重量なことは、過酸化水素、カルボン酸、ペルオキシカルボ ン酸が同じ構成物中に同時に存在するということである。この配合物によって衛 生処理は向上し、同時に他のすすぎ剤、添加剤、あるいは構成物による有害な腐 食作用やフィルム状のしみを形成する作用が抑えられる。 平衡混合物の第1成分は、1種類以上のカルボン酸を含む。カルボン酸は反応 生成物ペルオキシカルボン酸の前駆体として機能する一方で、酸性の原因と抗微 生物効果を提供する。この酸性物質は安定で、その他に、ペルオキシカルボン酸 の平衡濃度の維持を促す物質である。 特に例を挙げると、過酸材料を作るために、あるいは過酸化水素と化合して過 酸材料を形成するために使用される適切なC2〜C18カルボン酸は、酢酸といっ た脂肪酸とオクチル酸とを含む。これらの酸は、天然源あるいは合成源のどちら からでも得られる。天然原料には動物性及び植物性油脂があり、これらは水素で 完全に処理することが必要である。合成による酸は、石蝋の酸化によって製造さ れる。我々は、クレームした方法によって、どのカルボン酸を使用した場合でも 衛生処理及びすすぎ処理は好ましい結果となることを見出した。一方で、本発明 のさらに好ましい実施形態は、酢酸及びオクチル酸、あるいはこれらの誘導体を 組み合わせて使用することを含む。これらの酸の誘導体は、例えばトレース(tra ce)濃度の短鎖及び長鎖の脂肪酸及び脂肪酸誘導体のような、商業的に調製できる 脂肪酸から無理なく生じる全ての誘導体を含むのと同様、酸−塩(えん)、酸− エステルも含む。配合物を使用する場合、酢酸対オクチル酸の比は、各々約20 対1から約1対2の範囲であり、さらに好ましくは10対1から約1対1である 。 本発明の構成物は酸化剤も含む。どの酸化剤もペルオキシカルボン酸形成の前 駆体として使用することができる。一般に、本発明の抗微生物性構成物は過酸化 水素を含む。過酸化水素をカルボン酸及びペルオキシカルボン酸と配合すると、 有機沈殿物が多く存在する場合でさえ、微生物に対する抗微生物活性が驚くほど のレベルで提供される。 過酸化水素を添加する利点は、使用中及び分解中でもこの構成物が無毒性を示 すことである。例えば、過酢酸と過酸化水素を配合すると、分解されて酢酸、水 、 酸素が生じる。以上の構成成分は食品と接触する表面に使用されることが承認さ れている。 過酸化水素(H22)は、分子量が34.014で、弱酸であり、透き通った 無色の液体である。4つの元素がH−O−O−Hという構造で共有結合している 。一般に、過酸化水素の融点は−0.41℃、沸点が150.2℃、密度が25℃ で1.4425グラム/cm3、粘度が20℃で1.245センチポイズである。 本発明の工程で使用される濃縮構成物内の過酸化水素の濃度は、通常約1重量 %から約40重量%、好ましくは約3重量%から約35重量%、最も好ましいの は約5重量%から約30重量%の範囲にある。過酸化水素をこの濃度にすると、 平衡濃縮混合物に最適の抗微生物効果を提供できるので、これが最も好ましい濃 度である。 本発明の抗微生物構成物である別の主要な成分は、酸化カルボン酸である。こ の酸化カルボン酸つまりペルオキシカルボン酸を平衡反応混合物中で過酸化水素 及びモノカルボン酸と配合すると、より高い抗微生物効果が得られる。通常、ど のペルオキシカルボン酸も、本発明の方法に従って使用できる。 ペルカルボン酸は、一般的に式R(CO3H)Nを有し、Rはアルキル基、アリ ールアルキル基、シクロアルキル芳香族基、あるいは複素環式をもつ基であり、 Nは1以上である。 特に、本発明の構成物及び方法に使用される好ましいペルオキシ酸は、ペルオ キシオクチル酸と配合して使用する場合は過酢酸を含む。 過酢酸は、式CH3COOOHを有するペルオキシカルボン酸である。 一般に、過酢酸は刺激臭を有する液体で、水やアルコール、エーテル、硫酸に 豊富に溶ける。過酢酸は、先行技術をもつ当業者に知られているどの手段を利用 しても製造することができる。先行技術には酢酸コバルトの存在を条件としてア セトアルデヒドと酸素から作る方法が含まれている。無水酢酸と過酸化水素と硫 酸とを配合すると、過酢酸50%溶液が得られる。過酢酸を調製する他の方法に は、米国特許第2,833,813号に開示されている方法が含まれ、これは本明細書中 で参照として取り入れている。 次に、ペルオキシオクチル酸もまたペルオキシカルボン酸であり、式CH3(C H26COOOHを有する。ペルオキシオクチル酸もまた、先行技術をもつ当業 者に知られている方法によって製造される。 材料の衛生処理効果を高めるために、本発明においてより好ましい過酢酸とペ ルオキシオクチル酸材料を使用することができる。過酢酸を混合する割合は、ペ ルオキシオクチル酸の各部に対して約20から約1部の範囲である。好ましくは 、ペルオキシオクチル酸に対して、比率約10部で過酢酸を使用する。 上述の消毒剤材料によって、本発明のすすぎ衛生処理剤は非常に多様な微生物 に対して抗菌性活性を有することができる。微生物は、例えば、グラム陽性微生 物(例えば黄色ブドウ球菌)、グラム陰性微生物(例えば大腸菌)、酵母、かび 、バクテリア胞子、ウィルスなどがある。消毒剤材料を配合すると、上述のペル オキシ酸によって、活性が低分子分量のペルオキシ酸だけのときよりも向上する 。 本発明の構成物は担体も含む。この担体の機能は、酸化剤、ペルオキシカルボ ン酸、及びカルボン酸の平衡混合物を進展させる媒体を提供するのと同様に、成 分を溶解し、ペルオキシカルボン酸製品を溶解する反応媒体を提供することであ る。またこの担体は、本発明の抗微生物性構成物を目的の基質まで移動させて湿 潤させる機能も有する。 この目的のため、担体は以上の機能を促進する水性あるいは有機性の成分を1 種類以上含む。通常担体は、優れた可溶化剤であって反応及び平衡媒体でもある 水を含む。水はまた、ウェア製品を洗浄する環境にすぐになじむ。また担体は、 上述した機能を促進する様々な有機化合物をどれでも別の成分として含むことが できる。使用できる有機物質は、エタノール、イソプロパノール、n−プロパノ ールなど単純なアルキルアルコールを含む。ポリオール(polyols)も、本発明 に従う担体に利用することができる。このポリオールは、プロピレングリコール 、ポリエチレングリコール、グリセロール、ソルビトールなどが含まれる。以上 の化合物のうちどれを使用してもよく、単独物質として、あるいは他の有機成分 や無機成分と配合して、あるいは水や以上の物質を選択的に組み合わせた混合物 と配合して使用することができる。 通常、担体は本発明の混合物の大部分を包含し、本質的には構成物のバランス をとるものであって、活性のある抗微生物性構成物や補佐剤などとは別のもので ある。ここで再び、担体濃度と担体のタイプは、他の要因の中でも特に構成物全 体の性質、貯蔵環境、抗微生物剤の濃度を含めた使用方法に依存するだろう。特 に、担体濃度は、本発明の構成物の抗微生物活性の効果を阻害しないものを選択 し、使用する必要がある。 B.補佐剤 酸化されるような条件において安定であって、銀製品にフィルム状のしみをつ けず、安定性や金属イオン封鎖、シーティング、すすぎなどの有益な特性を加え るような補佐剤のうち、どれでも本発明の構成物に含ませることができる。 キレート剤 本発明の構成物は、多価金属錯体を作る薬剤すなわちキレート剤を含むことも できる。この薬剤は、硬度を示す成分や水道水による有害な影響を減少させるの に役立つ。水道水中に存在するカルシウムやマグネシウム、鉄、マンガンなどの イオンによる典型的な悪影響によって、洗浄構成物あるいは衛生処理構成物の作 用が妨げられたり、活性ペルオキシジェン衛生処理材料が分解する傾向を示す可 能性もある。キレート剤すなわち金属イオン封鎖剤は効果的に錯体を作り、活性 成分との不適当な相互作用をしないようにこれらのイオンを取り除き、これによ って本発明の構成物の効能を上げることができる。 キレート剤は有機物でも無機物でも使用することができる。無機キレート剤は 、トリポリリン酸ナトリウムを含み、その他に、リン酸の数がより多い直鎖状及 び環状のポリリン酸塩類といった化合物を含む。有機キレート剤は重合体のキレ ート剤も低分子キレート剤も含む。重合体のキレート剤は、通常、ポリアクリル 酸化合物のようなポリ陰イオン構成物を含む。低分子の有機キレート剤は、エチ レンジアミン四酢酸及びヒドロキシエチレンジアミン四酢酸の塩類、ジエチレン トリアミン五酢酸、ニトリロ三酢酸、エチレンジアミン四プロピオン酸塩(ethylen e diamine tetrapropionates)、トリエチレンテトラアミンヘキサアセタート(t riethylene tetraamine hexacetates)、及び以上の物質の各々についてのアル カリ金属塩やアンモニウム塩、あるいは置換アンモニウム塩を含む。アミノリン 酸塩(ホスフェート)及びホスホネートを本発明の構成物にキレート剤として 使用することも適切である。これらの物質は、エチレンジアミン(テトラメチレ ンホスホネート)(ethylene diamine(tetrametylene phosphonates))、ニトリ ロトリスメチレンホスフェート、ジエチレントリアミン(ペンタメチレンホスホ ネート)(diethylenetriamine(pentamethylene phosphonates))を含む。以上 のアミノホスホネートは、通常8未満の炭素原子を有するアルキル基を含む。 本発明に使用される好ましいキレート剤は、改良された食品添加キレート剤を 含み、エチレンジアミン四酢酸の二ナトリウム塩や、商標DEQUEST材料として販 売されてよく知られているホスホネートなどがある。例えば1−ヒドロキシエチ リデン−1、1−ジホスホン酸(diphosphonic acid)などがある。ホスホン酸 は、約2〜4のカルボン酸部分と約1〜3のホスホン酸基を有する物質のように 低分子量のホスホノポリカルボン酸(phosphonopolycarboxylic acid)を含むこ ともできる。以上の酸は、1−ホスホノ−1−メチルこはく酸、ホスホノこはく 酸、2−ホスホノブタン−1、2、4−トリカルボン酸を含む。ホスホン酸源は 有機ホスホン酸を含み、例えば、モンサント インダストリアル ケミカル カ ンパニー、セント.ルイス、ミズーリ州から商標DEQUEST 2010として入手できる 58〜62%水溶液の(CH3C(PO322OH)や、モンサントから商標DE QUEST 2000として入手できる50%水溶液のアミノ[トリ(メチレンホスホン酸 )](N[CH2PO323)、モンサントから商標DEQUEST 2041として入手で きる90%固体酸生成品のエチレンジアミン[テトラ(メチレンホスホン酸)]、 モーベイケミカルコーポレーション、インオーガニック ケミカルズ ディヴィ ジョン、ピッツバーグ、ペンシルバニア州からベイヒビット(Bayhibit)AMと して入手できる45〜50%水溶液の2−ホスホノブタン−1、2、4−トリカ ルボン酸などがある。 上述のホスホン酸を水溶性の酸塩という形態で使用することも可能で、特にナ トリウムやカリウムといったアルカリ金属塩、アンモニウム塩、アルキロールア ミン塩を使用することもできる。ここでアルキロールアミンは2から3の炭素原 子を有し、モノ−、ジ−、トリ−エタノールアミン塩などがある。もし要望があ るのなら、各ホスホン酸あるいはこれらの酸塩の混合物を使用することもできる 。 すすぎ剤 本発明の構成物に添加あるいは使用することができる成分には、シーティング を促すために使用される界面活性剤あるいは界面活性剤系がある。通常、どの界 面活性剤もこの成分の目的と調和させて使用される。例えば、界面活性剤のすす ぎ剤は、非イオン、陰イオン、陽イオン、両性界面活性剤を含む。界面活性剤の すすぎ促進剤は、本発明で処方される衛生処理、着色除去濃縮物中に存在するこ とが可能である。あるいは、ウェア製品に使用する間にこれらのすすぎ剤を導入 することもできる。このような実例では、自動と手動のどちらにも関わらず、使 用する前にすすぎ剤を本発明の濃縮物と配合することができる。あるいは、使用 中に別々の物質として同時に分配することもできる。 本発明に使用する陰イオン界面活性剤は、アルキルカルボン酸塩、直鎖アルキ ルベンゼンスルホン酸塩、パラフィンスルホン酸塩、第二n−アルカンスルホン 酸塩、スルホこはく酸エステル、硫酸で処理した直鎖アルコールを含む。 本発明に使用する両性イオンの界面活性剤つまり両性界面活性剤は、β−N− アルキルアミノプロピオン酸、n−アルキル−β−イミノジプロピオン酸、イミ ダゾリンカルボン酸塩、n−アルキルベタイン、アミンオキシド、スルホベタイ ン(sulfobetaines)、サルタイン(sultaines)を含む。 通常、これらの界面活性剤は手作業で使用するのが好ましいことが見出されて いる。界面活性剤の選択は、個々のあるいは配合した界面活性剤が本発明の構成 物にもたらす泡立ちに関する性質に依存する。 本発明の状況で使用する非イオン界面活性剤は、通常、ポリエーテル(ポリア ルキレンオキシドや、ポリオキシアルキレン、ポリアルキレングリコール)化合 物である。特にこのポリエーテル化合物は、通常、ポリオキシプロピレンやポリ オキシエチレングリコール化合物をいう。本発明の状況で使用する典型的な界面 活性剤は、合成有機ポリオキシプロピレン(PO)−ポリオキシエチレン(EO )ブロック共重合体である。以上の界面活性剤は、EOブロックとPOブロック を含むジブロックポリマー、センターブロックがポリオキシプロピレンユニット( PO)であるもの、ポリオキシプロピレンユニット上にグラフト重合させたポリ オキシエチレンブロックを有するもの、あるいはEOのセンターブロックにPO ブロックを接触させたものを含む。さらに、この界面活性剤は分子内にポリオキ シ エチレンあるいはポリオキシプロピレンのブロックを複数含むこともできる。使 用する界面活性剤の平均分子量は、約1000から約40,000の範囲にあり、 エチレンオキシドが含まれる重量パーセントは約10〜80重量%の範囲である 。 また、EO、PO、BOブロックを有するアルコールアルコキシラートを含む 界面活性剤を本発明の状況下で使用できる。直鎖第一脂肪族アルコールアルコキ シラートは、特にシーティング剤として使用することができる。このようなアル コキシラートの入手先は、BASFワイアンドットを含めて何カ所かあり、BA SFワイアンドットでは、「プルラファック(Plurafac)」界面活性剤として知 られている。使用できることが明らかな特定のアルコールアルコキシラートの種 類は、一般式R−(EO)m−(PO)nを有し、mは約2〜10の整数で、nは 約2〜20の整数である。Rは、約6〜20の炭素原子を有する直鎖アルキル基 といった適切な基であるならどれでもよい。 本発明で使用できる別の非イオン界面活性剤はキャップされた(capped)脂肪 族アルコールアルコキシラートを含む。これらのエンドキャップ(end caps)は、 メチル、エチル、プロピル、ブチル、ベンジル、塩素を含むが、以上の物質に限 定されるものではない。好ましくは、以上の界面活性剤は、約400から10, 000の分子量を有する。キャップをすることによって、単一の構成物を調製す るときに、非イオン界面活性剤と、酸化剤である過酸化水素とペルカルボン酸と の間の相溶性が向上する。特に好ましい非イオン界面活性剤はBASFワイアン ドット社のプルラファックLF131で、構造は C12-7(EO)7(BO)1.7R であり、RはC1-6アルキル部であり、好ましくは60%がメチルキャップをし た構造で、RはCH3を含む。他に使用できる非イオン界面活性剤は、アルキル ポリグリコシドがある。 本発明に使用できる別の非イオン界面活性剤は、脂肪酸アルコキシラートを含 み、この界面活性剤はエステル基を有する脂肪酸部分を含み、EOブロック、P Oブロック、あるいは混合ブロックすなわちヘテリックグループ(heteric group )を含む。このような界面活性剤の分子量は約400から約10,000の範囲に わたり、好ましい界面活性剤は含有量が約30〜50重量%のEOを含み、この と きの脂肪酸部分は約8から約18の炭素原子を含む。 同様に、アルキルフェノールアルコキシラートも、本発明のすすぎ剤製品に使 用されることが見出された。このような界面活性剤は、4から約18の炭素原子 をもつアルキル基を有するアルキルフェノール部から作られ、エチレンオキシド ブロック、プロピレンオキシドブロック、あるいは混合エチレンオキシド、プロ ピレンオキシドブロック(a mixed ethylene oxide,propylene oxide block) すなわちヘテリックポリマー部を含む。好ましくはこのような界面活性剤が、分 子量約400から約10,000を有し、約5から約20ユニットのエチレンオキ シドや、プロピレンオキシド、あるいはこれらの物質を選択的に組み合わせた混 合物を含む。 可溶化剤 本発明の構成物はヒドロトロープ性(hydrotrope)のカップラーあるいは可溶 化剤を含むこともできる。このような材料を使用すれば、確実に本構成物を安定 した相にして、高活性を有する単一形態にできる。可溶化剤は特に、本発明のす すぎ促進剤中のカルボン酸とペルオキシカルボン酸成分を溶解するときに利用で きる。以上のようなヒドロトロープ性の可溶化剤あるいはカップラーは、相の安 定を維持できるような濃度で使用することができる。 ヒドロトロープ性可溶化剤あるいは結合剤(coupling agents)の代表的な種 類は、陰イオン界面活性剤を含み、アルキル硫酸塩、アルキルあるいはアルカン スルホン酸塩、直鎖アルキルベンゼンあるいはナフタレンスルホン酸塩、第2ア ルカンスルホン酸塩、アルキルエーテル硫酸塩あるいはスルホン酸塩、アルキル リン酸塩あるいはホスホネート、ジアルキルスルホこはく酸エステル、糖エステ ル(例えば、ソルビタンエステル)、及びC8-10アルキルグルコシドなどがある 。 本発明のすすぎ剤に使用される好ましい結合剤は、n−アルキルスホン酸塩、 n−オクタンスルホン酸塩といったスルホン酸塩、及びアルキルベンゼンスルホ ン酸塩(例えば、キシレンスルホン酸ナトリウム、ジアルキル-エーテル-ジフェ ニル-エーテル-スルホン酸塩、あるいはナフタレンスルホン酸塩)のような芳香 族スルホン酸塩を含む。ヒドロトロープ性可溶化剤には、それ自身、ある程度の 抗微生物活性を低pHで示すものが多くある。このような作用は本発明の効果を 増すことになるが、適切な可溶化剤を選択する場合に用いる第1の基準にはなら ない。陽子を付加した中性状態でペルオキシ酸材料が存在すると有益な殺傷性あ るいは衛生処理活性が得られるので、独自に抗微生物活性を有する結合剤を選択 する必要はなく、実質上不溶の過酸(peracid)材料の存在下で単一相の構成物 が効果的に安定する状態を提供できて、本発明の構成物をより溶解できる能力を 基に、結合剤を選択する必要がある。 C.処方 本発明の構成物の処方は、非イオン界面活性剤のシーティング剤とその他の構 成物を、衛生処理と着色除去の構成物を形成する材料や、カルボン酸混合物、過 酸化水素、任意ではあるがヒドロトロープ性可溶化剤に配合して行う。前もって ペルオキシ酸を作ってから本構成物を処方することもできる。本発明の好ましい 構成物の製造は、カルボン酸あるいはこれらの物質の混合物を、任意のヒドロト ロープ性可溶化剤あるいはカップラーと混合し、過酸化水素とこの混合物を反応 させ、次に、得られた材料にバランスをとる物質を加えることによって行われ、 着色除去及び衛生処理作用が提供される。 製造された安定な平衡混合物は、過酸化水素を伴ってカルボン酸あるいは混合 物を含み、この混合物を1〜7日間、15℃以上で放置することができる。以上 の準備方法で処方すると、ある量の過酸化水素、未酸化の酸、酸化された物質す なわちペルオキシ酸、及び、変質していない典型的なカップラー、可溶化剤、あ るいは安定剤を含む平衡混合物が形成される。 D.濃縮使用構成物 本発明は、消毒剤として使用する前に希釈されて使用溶液になる濃縮構成物を 目的とする。第1に経済的理由から、濃縮構成物が一般に販売されていて、最終 的な利用者がこの濃縮物を水あるいは水性の希釈剤で希釈して使用溶液とするの が好ましい。 本発明に従って処方される衛生処理と着色除去の濃縮物の通常の成分濃度を以 下の表に示す。 E.使用溶液 濃縮構成物の活性成分のレベルは、意図する希釈要因、所望するペルオキシ脂 肪酸化合物の活性、及び所望する使用溶液の酸性度に依存する。通常、濃縮物中 の全過酸濃度が2から約20重量%であるものを使用して、約1〜15ガロンに 対して約1液量オンスの希釈物、すなわち、125体積部の水道水に対して約1 部の希釈物から、2000体積部の水道水に対して約1部の希釈物を得ることが できる。使用温度を上げたり、さらす時間を延長して(30秒よりも長く)使用 できる場合は、希釈率を高くすることも可能である。典型的な利用場所では、か なりの割合の水で本濃縮物を希釈して着色除去と衛生処理に利用し、通常は入手 しやすい水道から出たままの水つまり水道水を用い、8ガロンの水それぞれに対 して約0.5から約10オンスの濃縮物という希釈比率で材料を混合して用いる 。 平衡状態では抗微生物性衛生処理の使用水溶液は、少なくとも約100万分の 1、好ましくは約100万分の10から100万分の400、最も好ましくは約 100万分の10から100万分の200の過脂肪酸材料と、少なくとも約10 0万分の10、通常は約100万分の300に至るまで、好ましくは約100万 分の15から100万分の200、最も好ましくは約100万分の40から10 0万分の160のシーティング剤あるいはすすぎ剤と、約100万分の20から 100万分の650、好ましくは約100万分の20から100万分の400の カルボン酸と、約100万分の20から100万分の1200、好ましくは約1 00万分の20から約100万分の500の過酸化水素を含む。さらに、使用水 溶液は、少なくとも約10〜200ppm、好ましくは約10から約50ppm のヒドロトロープ性可溶化剤を含み、使用溶液中でのpHは約2から約9の範囲 、好ましくは約3から約8の範囲にある。 使用するときに、衛生処理構成物を界面活性剤のすすぎ促進剤とともに使用す ることができる。使用する場合のすすぎ促進剤は以下の濃度(重量%)を有する 。 F.使用方法 上述したように、本発明の構成物は、製造業において手作業でもできるすすぎ 工程で利用できる。手作業は、タブ(tub)での洗浄、すすぎ、衛生処理の3つ の工程を含み、先行技術において当業者に公知である。これらの工程は、一般に 約20℃から35℃の間で実施される衛生処理工程を含む。ウェア製品の洗浄機 の形状及び構造は、高温用から低温用まで多様であって、製造業者によっても異 なる。しかし、全ての機械では、すすぎ工程において通常温度を固定し、また通 常時間を固定して水性すすぎ構成物を皿類に噴霧するという点で、共通した操作 上のパラメーターを共有する。以上のような機械では、すすぎ剤を適切な割合の 水で希釈し、水性すすぎ液を集水孔(sump)あるいは他の容器に入れ、集水孔か らその液体を汲んで噴霧することによって、水性すすぎ構成物を提供する。水性 すすぎ液とウェア製品とが最善の状態で接触できるようにウェア製品洗浄機に取 り付けられた回転バー(rotating bars)のノズルや固定噴霧ノズルを通して、 以上 の水性すすぎ液を噴霧することがよくある。 噴霧パターンを改善した形態にノズルを製造して、全適用範囲に対して噴霧で きるようにすることもよくある。全範囲に対して完全な適用が行えるように機械 内でスプレーアームを固定したり、あるいは往復運動や回転させることもできる 。本発明の濃縮物の希釈したものを1分間あたり約20から100、好ましくは 40から80ガロンの割合でポンプにより汲み出すことができ、通常、120か ら140°Fの間の温度で低温度用機械内の皿類に接触させる。高温用機械では 、約150から190°Fの温度範囲で水性すすぎ液を揺れに対して(per rock )1.0〜2.5ガロンの割合で噴霧する。すすぎサイクルの時間を約9秒から約 60秒にまで、好ましくは約9秒から30秒の範囲に広げて、すすぎ工程中で皿 類のすすぎと衛生処理の両方を完全に行うことができる。 本発明中の記載及び方法で使用されている「衛生処理」という言葉は、すすぎ 液に浸けて30秒後に望ましくない微生物の個体数が次数5以上の量で減少(9 9.999%減少)することを示す。つまり、テストをした場所に存在する微生 物の99.999%が、本発明の構成物の使用により排除されたことになる。以 上の測定方法は、消毒作用をもつ物質の殺菌作用及び洗浄衛生処理作用(Germic idal and Detergent Sanitizing Action of Disinfectants)、公認分析化学者 協会の公認分析方法(Official Methods of Analysis of the Association of O fficial Analytical Chemists)、パラグラフ960.09、及び該当するサブパ ラグラフ、第15版、によって行った。 実施例 以下の例は、本発明の例証を目的とし、本発明の範囲を狭くするために解釈さ れるべきものではない。先行技術をもつ当業者は、本発明を実施する他の方法が これらの例によって多く示唆されるものであることを容易に理解するであろう。 実施例1 過酸を基剤とするすすぎ剤を以下の処方によって製造した。 原材料 重量% 酢酸 30.0 過酸化水素(30重量%活性) 26 商標DEQUEST 2010 1.5 (1−ヒドロキシエチリジン(hydroxyethylidine)−1、1−ジホスホン酸) アルキルスルホン酸ナトリウム(30%w/v) 16.67 プルラファック LF131 非イオン 15.0 (C12.7(EO)7(BO)1.7) オクチル酸 4.0 水 6.83 2週間おいて平衡に達した後、処方された物質は、約5.6重量%過酸化水素(1 00重量%を活性基準(active basis)として算出した)と、合計5.3%の過酸 (過酢酸とペルオクチル酸を合わせて)を含んだ。この処方ではウェア製品のラ ックにつき4ミリリットルのレベルですすぎ剤を使用した。この濃度では、衛生 処理作用とシーティング作用が十分に提供された。過酸材料から作られた処方物 質はほとんど腐食現象を示さなかったが、ある環境条件下ではわずかに黄色い変 色が見られた。 同様に、過酸の前駆体材料を用いずにすすぎ剤を処方し、活性塩素濃度に10 0万分の50と100万分の100を用いて、活性塩素源として次亜塩素酸を使 用した場合、1回使用した後ではうす黒い目立つ変色が見られ、5回行った後で は灰色がかった黒が均一に見られた。100ppm活性塩素では、灰色及び黒色 の変化がより早く見られた。 実施例2 実施例1で処方された構成物を使用して腐食テストを試みた。3つの銀メッキ スプーンを低温度用皿洗い器に設置した。すすぎのために機械を満たしている間 、衛生処理すすぎ促進剤を4ml加えた。各サイクルの終わりに銀製品をやさし く拭き、乾燥させた。各サイクルはディタージェント(Detergent)(ウルトラ クレン プラス(Ultra Klene Plus))と水道水を使用して行った。 5回実施した後、銀メッキスプーンに著しい影響は見られなかった。 実施例3 次に銀メッキに対する塩素の影響を本発明の構成物の効果と比較して調べるテ ストを行った。次に以下の構成物を処方した。 構成物 3A(コントロール) コントロール−塩素なし、過酸なし 3B(比較) 塩素−100ppm+ウルトラ-ドライ(Ultra-Dry) 3C(比較) 塩素−50ppm+ウルトラ-ドライ 3D(実施例) 例1で処方した衛生処理すすぎ促進剤4ml 分析条件には、低温度用機械で102〜110ppmの硬度を示す水道水を使 用することが含まれる。洗浄剤(エコラボ社のウルトラ クレン プラス)をラ ックにつき6mlの割合で使用し、自動注入器で加えた。塩素化すすぎ促進剤(エ コラボ社のウルトラ ドライ)をラックにつき1mlの割合で使用し、自動注入 器で加えた。使用した銀メッキは商標Oneida Brandのナイフとブイヨンスプーン である。 塩素源(エコ-サン(Eco-San))は8.3%の活性塩素を有するものであった 。使用した衛生処理すすぎ促進剤は、5.94%H22、5.25%過酢酸、合計 パーセントが3.90%の活性酸素を有するもので、すすぎのために機械を満たし ている間に手動で加えた(4ml)。 結果 塩素処理を10回行った後、銀製品の形状は劇的に変化し、腐食を受けた。過 酸系は10回実施した後、ウェア製品に対してほとんど変化を示さなかった。 実施例4 消毒作用をもつ物質の殺菌作用及び洗浄衛生処理作用(Germicidal and Deter gent Sanitizing Action of Disinfectants)(A.O.A.C.公認分析方法 、第15版、1990年)を利用して、本発明の構成物の抗微生物性の分析を試 みた。テスト温度は、120°F±0.4°F(黄色ブドウ球菌(S. aureus用) 、120°F±0.3°F(大腸菌(E. coli))を使用した。 テストの前に、フラスコを少なくとも10分間焼き入れして、テスト物質に3 0秒間テスト物質にテスト系をさらした。その後、テストインキュベーションを 48時間、37℃±0.5℃で行った。 実施例4Aから4Cのテスト溶液は以下の成分を含む。成分 重量%22 6.90 過酢酸 4.40 オクチル酸(ペルオキシオクチル酸を含む) 3.90 不活性成分(担体を含む) 84.80 テスト物質の各希釈物を3通りテストした。99mlの使用溶液を殺菌フラス コに分配し、午前9時35分に120°Fで焼き入れをした。20分後の午前9 時55分に1.0mlのテスト溶液を各フラスコに注いだ。30秒間さらした後 、1.0mlのテスト系/物質を9.0mlの中和剤に移した。連続希釈及び注入 プレート技術を使用してチューブに薄くかぶせた。テスト系の残存数は、3つの フラスコの結果を平均したものである。 結果 減少パーセントを算出したものを以下に示す。 黄色ブドウ球菌(Staphylococcus aureus)(ATCC6538) 大腸菌(Escherichia coli)(ATCC11229) 本発明の構成物は、120°Fの下で、500ppmの合成硬水(炭酸カルシ ウムのような)14ガロンに対して1オンス、すなわち0.056%濃度に希釈し て、120°F±0.4°Fで30秒間さらすと、テストを行った系の菌体数の >99.999%に対して食品接触衛生処理効果を示した。 上述した例とデータは、本発明の構成物の製造と使用に関する完全な記載を提 供する。本発明の多くの実施形態が本発明の趣旨と範囲から離れずに実施される ので、本発明は以下に添付した請求項内に存在する。
【手続補正書】特許法第184条の8 【提出日】1996年2月20日 【補正内容】 請求の範囲 1.ウェア製品の衛生処理と着色除去の方法であって、前記方法は、すすぎ工程 中に少なくとも約100ppmの衛生処理及び着色除去濃縮構成物を使用する工 程を含み、前記衛生処理及び着色除去濃縮構成物は、 (a)約0.5重量%から25重量%のペルオキシカルボン酸と、 (b)約5重量%から75重量%のカルボン酸であって、オクチル酸と酢 酸の混合物を含む前記カルボン酸と (c)約1重量%から40重量%の過酸化水素と、 (d)バランスをとる担体 とを含み、 前記衛生処理及び着色除去濃縮構成物は、前記ウェア製品に対して、非腐食性で あり、フィルムを形成しないことを特徴とするウェア製品の衛生処理と着色除去 の方法。 2.前記衛生処理及び着色除去濃縮構成物は、約100ppmから2000pp mの範囲の濃度で前記ウェア製品に使用されることを特徴とする請求項1に記載 のウェア製品の衛生処理と着色除去の方法。 3.前記衛生処理及び着色除去濃縮構成物は、自動ウェア製品洗浄機で使用され ることを特徴とする請求項1に記載のウェア製品の衛生処理と着色除去の方法。 4.前記自動ウェア製品洗浄機は、約120°Fから140°Fの温度範囲で前 記濃縮構成物を使用することを特徴とする請求項3に記載のウェア製品の衛生処 理と着色除去の方法。 5.前記自動ウェア製品洗浄機は、約180°Fから195°Fの温度で前記濃 縮構成物を使用することを特徴とする請求項3に記載のウェア製品の衛生処理と 着色除去の方法。 6.前記衛生処理及び着色除去濃縮構成物は、手作業において使用されることを 特徴とする請求項1に記載のウェア製品の衛生処理と着色除去の方法。 7.前記手作業は、約20℃から35℃の温度範囲で前記衛生処理及び着色除去 濃縮構成物を使用することを特徴とする請求項6に記載のウェア製品の衛生処理 と着色除去の方法。 8.前記衛生処理及び着色除去濃縮構成物は、界面活性剤のすすぎ促進剤と配合 して使用されることを特徴とする請求項1に記載のウェア製品の衛生処理と着色 除去の方法。 9.前記衛生処理及び着色除去濃縮構成物及び前記すすぎ促進剤は、使用前に混 合されることを特徴とする請求項8に記載のウェア製品の衛生処理と着色除去の 方法。 10.前記衛生処理及び着色除去濃縮構成物及び前記すすぎ促進剤は、単独で使 用され、同時に使用されることを特徴とする請求項8に記載のウェア製品の衛生 処理と着色除去の方法。 11.前記酢酸は、前記オクチル酸に対して約20対1から約1対2の範囲の比 率で存在することを特徴とする請求項1に記載のウェア製品の衛生処理と着色除 去の方法。 12.前記ペルオキシカルボン酸は、前記カルボン酸と過酸化水素の反応生成物 を含むことを特徴とする請求項1に記載のウェア製品の衛生処理と着色除去の方 法。 13.前記ペルオキシカルボン酸は、前記カルボン酸と過酸化水素の反応生成物 を含み、前記酢酸は、オクチル酸に対して約10対1から約1対1の範囲の比率 で存在することを特徴とする請求項1に記載のウェア製品の衛生処理と着色除去 の方法。 14.前記衛生処理及び着色除去のすすぎ構成物は、さらに可溶化剤を含むこと を特徴とする請求項1に記載のウェア製品の衛生処理と着色除去の方法。 15.前記可溶化剤は、n−アルキルスルホン酸塩を含むことを特徴とする請求 項14に記載のウェア製品の衛生処理と着色除去の方法。 16.前記衛生処理及び着色除去のすすぎ濃縮構成物は、金属イオン封鎖剤を含 むことを特徴とする請求項1に記載のウェア製品の衛生処理と着色除去の方法。 17.銀製品の衛生処理及び着色除去の方法であって、前記方法は、すすぎ工程 中に100ppmから2000ppmの割合の衛生処理及び着色除去濃縮構成物 を銀製品に対して使用する工程を含み、前記衛生処理及び着色除去濃縮構成物は 、 (a)約1重量%から20重量%のC1-6ペルオキシカルボン酸と、 (b)オクチル酸と酢酸とを含む約10重量%から50重量%のカルボン 酸混合物と、 (c)約3重量%から35重量%の過酸化水素と、 (d)バランスをとる担体 とを含み、 前記衛生処理及び着色除去濃縮構成物は、前記ウェア製品に対して、非腐食性で あり、フィルムを形成しないことを特徴とするウェア製品の衛生処理と着色除去 の方法。 18.前記衛生処理及び着色除去濃縮構成物は、自動ウェア製品洗浄機で使用さ れることを特徴とする請求項17に記載の銀製品の衛生処理と着色除去の方法。 19.前記衛生処理及び着色除去濃縮構成物は、約120°Fから140°Fの 温度範囲で使用されることを特徴とする請求項18に記載の銀製品の衛生処理と 着色除去の方法。 20.前記衛生処理及び着色除去濃縮構成物は、約180°Fから195°Fの 温度で使用されることを特徴とする請求項18に記載の銀製品の衛生処理と着色 除去の方法。 21.前記衛生処理及び着色除去濃縮構成物は、約20℃から35℃の温度範囲 で手作業で前記銀製品に使用されることを特徴とする請求項17に記載の銀製品 の衛生処理と着色除去の方法。 22.前記衛生処理及び着色除去濃縮構成物は、界面活性剤のすすぎ促進剤と配 合して使用されることを特徴とする請求項17に記載の銀製品の衛生処理と着色 除去の方法。 23.前記界面活性剤のすすぎ促進剤は、前記衛生処理及び着色除去濃縮構成物 と分けて同時に分配されることを特徴とする請求項22に記載の銀製品の衛生処 理と着色除去の方法。 24.前記界面活性剤のすすぎ促進剤は、分配前に前記衛生処理及び着色除去濃 縮構成物と混合されることを特徴とする請求項22に記載の銀製品の衛生処理と 着色除去の方法。 25.前記銀製品は、衛生処理及び着色除去濃縮構成物が施される前に、洗浄さ れることを特徴とする請求項17に記載の銀製品の衛生処理と着色除去の方法。 26.前記衛生処理及び着色除去濃縮構成物は、n−アルキルスルホン酸塩可溶 化剤を含むことを特徴とする請求項17に記載の銀製品の衛生処理と着色除去の 方法。 27.前記衛生処理及び着色除去濃縮構成物は、金属イオン封鎖剤を含むことを 特徴とする請求項17に記載の銀製品の衛生処理と着色除去の方法。 28.銀製品の衛生処理及び着色除去の方法であって、前記方法は、すすぎ工程 中に100ppmから2000ppmの割合の衛生処理及び着色除去濃縮構成物 を銀製品に対して使用する工程を含み、前記衛生処理及び着色除去濃縮構成物は 、 (a)過酢酸とペルオキシオクチル酸とを含む約1重量%から20重量% の混合物と、 (b)酢酸とオクチル酸の混合物を含む約10重量%から50重量%のカ ルボン酸であって、前記酢酸と前記オクチル酸はそれぞれ約10対1から約1対 1の範囲比率で存在することを特徴とする前記カルボン酸と、 (c)約3重量%から35重量%の過酸化水素と (d)約1から20重量%の可溶化剤と、 (e)バランスをとる担体とを含み、前記担体中では前記ペルオキシカル ボン酸が前記酢酸、オクチル酸、及び過酸化水素の反応生成物を含み、 前記衛生処理及び着色除去濃縮構成物は、前記ウェア製品に対して、非腐食性で あり、フィルムを形成しないことを特徴とするウェア製品の衛生処理と着色除去 の方法。 29.前記衛生処理及び着色除去すすぎ構成物は、自動ウェア製品洗浄機で使用 されることを特徴とする請求項28に記載の銀製品の衛生処理と着色除去の方法 。 30.前記衛生処理及び着色除去すすぎ構成物は、約120°Fから140°F の温度範囲で使用されることを特徴とする請求項29に記載の銀製品の衛生処理 と着色除去の方法。 31.前記衛生処理及び着色除去濃縮構成物は、約180°Fから195°Fの 温度で使用されることを特徴とする請求項29に記載の銀製品の衛生処理と着色 除去の方法。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI D06F 39/04 7716−3B D06F 39/04 Z D06L 1/12 7633−3B D06L 1/12 3/00 7633−3B 3/00 (81)指定国 EP(AT,BE,CH,DE, DK,ES,FR,GB,GR,IE,IT,LU,M C,NL,PT,SE),OA(BF,BJ,CF,CG ,CI,CM,GA,GN,ML,MR,NE,SN, TD,TG),AP(KE,MW,SD,SZ,UG), AM,AT,AU,BB,BG,BR,BY,CA,C H,CN,CZ,DE,DK,EE,ES,FI,GB ,GE,HU,JP,KE,KG,KP,KR,KZ, LK,LR,LT,LU,LV,MD,MG,MN,M W,MX,NL,NO,NZ,PL,PT,RO,RU ,SD,SE,SG,SI,SK,TJ,TT,UA, UG,UZ,VN (72)発明者 オークス, トーマス, アール. アメリカ合衆国 ミネソタ州 55042 レ イク エルモ デモントレヴィレ トレイ ル エヌ. 7816 (72)発明者 バウム, バートン, エム. アメリカ合衆国 ミネソタ州 55118 メ ンドータ ハイツ ランスフォード レー ン 1742

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1.ウェア製品の衛生処理と着色除去の方法であって、前記方法は、ウェア製品 に対して効果的に衛生処理する量の衛生処理濃縮構成物を使用する工程を含み、 前記衛生処理濃縮構成物は、 (a)約0.5重量%から25重量%のペルオキシカルボン酸と、 (b)約5重量%から75重量%のカルボン酸であって、オクチル酸と酢 酸の混合物を含む前記カルボン酸と (c)約1重量%から40重量%の過酸化水素と、 (d)バランスをとる担体 とを含むことを特徴とするウェア製品の衛生処理と着色除去の方法。 2.前記衛生処理濃縮構成物は、約100ppmから2000ppmの範囲の濃 度で前記ウェアに使用されることを特徴とする請求項1に記載のウェア製品の衛 生処理と着色除去の方法。 3.前記衛生処理濃縮構成物は、自動ウェア製品洗浄機で使用されることを特徴 とする請求項1に記載のウェア製品の衛生処理と着色除去の方法。 4.前記洗浄機は、約120°Fから140°Fの温度範囲で前記濃縮構成物を 使用することを特徴とする請求項3に記載のウェア製品の衛生処理と着色除去の 方法。 5.前記洗浄機は、約180°Fから195°Fの温度で前記濃縮構成物を使用 することを特徴とする請求項3に記載のウェア製品の衛生処理と着色除去の方法 。 6.前記衛生処理、着色除去濃縮物は、手作業において使用されることを特徴と する請求項1に記載のウェア製品の衛生処理と着色除去の方法。 7.前記手作業は、約20℃から35℃の温度範囲で前記衛生処理、着色除去濃 縮物を使用することを特徴とする請求項6に記載のウェア製品の衛生処理と着色 除去の方法。 8.前記衛生処理、着色除去濃縮物は、界面活性剤のすすぎ促進剤と配合して使 用されることを特徴とする請求項1に記載のウェア製品の衛生処理と着色除去の 方法。 9.前記衛生処理、着色除去濃縮物及び前記すすぎ促進剤は、使用前に混合され ることを特徴とする請求項8に記載のウェア製品の衛生処理と着色除去の方法。 10.前記衛生処理、着色除去濃縮物及び前記すすぎ促進剤は、単独で使用され 、同時に使用されることを特徴とする請求項8に記載のウェア製品の衛生処理と 着色除去の方法。 11.前記酢酸は、前記オクチル酸に対して約20対1から約1対2の範囲の比 率で存在することを特徴とする請求項1に記載のウェア製品の衛生処理と着色除 去の方法。 12.前記ペルオキシカルボン酸は、前記カルボン酸と過酸化水素の反応生成物 を含むことを特徴とする請求項1に記載のウェア製品の衛生処理と着色除去の方 法。 13.前記ペルオキシカルボン酸は、前記カルボン酸と過酸化水素の反応生成物 を含み、前記酢酸は、オクチル酸に対して約10対1から約1対1の範囲の比率 で存在することを特徴とする請求項1に記載のウェア製品の衛生処理と着色除去 の方法。 14.前記衛生処理すすぎ構成物は、さらに可溶化剤を含むことを特徴とする請 求項1に記載のウェア製品の衛生処理と着色除去の方法。 15.前記可溶化剤は、n−アルキルスルホン酸塩を含むことを特徴とする請求 項14に記載のウェア製品の衛生処理と着色除去の方法。 16.前記衛生処理すすぎ濃縮構成物は、金属イオン封鎖剤を含むことを特徴と する請求項1に記載のウェア製品の衛生処理と着色除去の方法。 17.銀製品の衛生処理及び着色除去の方法であって、前記方法は銀製品に対し て衛生処理濃縮構成物を100ppmから2000ppmの割合で使用する工程 を含み、前記衛生処理濃縮構成物は、 (a)約1重量%から20重量%のC1-6ペルオキシカルボン酸と、 (b)オクチル酸と酢酸を含む約10重量%から50重量%のカルボン酸 混合物と、 (c)約3重量%から35重量%の過酸化水素と、 (d)バランスをとる担体 とを含むことを特徴とする銀製品の衛生処理と着色除去の方法。 18.前記衛生処理濃縮構成物は、自動ウェア製品洗浄機で使用されることを特 徴とする請求項17に記載の銀製品の衛生処理と着色除去の方法。 19.前記衛生処理濃縮構成物は、約120°Fから140°Fの温度範囲で使 用されることを特徴とする請求項18に記載の銀製品の衛生処理と着色除去の方 法。 20.前記衛生処理濃縮構成物は、約180°Fから195°Fの温度で使用さ れることを特徴とする請求項18に記載の銀製品の衛生処理と着色除去の方法。 21.前記衛生処理濃縮物は、約20℃から35℃の温度範囲で手作業で前記銀 製品に使用されることを特徴とする請求項17に記載の銀製品の衛生処理と着色 除去の方法。 22.前記衛生処理剤は、界面活性剤のすすぎ促進剤と配合して使用されること を特徴とする請求項17に記載の銀製品の衛生処理と着色除去の方法。 23.前記界面活性剤のすすぎ促進剤は、前記衛生処理剤と別々に同時に分配さ れることを特徴とする請求項22に記載の銀製品の衛生処理と着色除去の方法。 24.前記界面活性剤のすすぎ促進剤は、分配前に前記衛生処理濃縮物と混合さ れることを特徴とする請求項22に記載の銀製品の衛生処理と着色除去の方法。 25.前記銀製品は、衛生処理濃縮構成物が施される前に、洗浄されることを特 徴とする請求項17に記載の銀製品の衛生処理と着色除去の方法。 26.前記ペルオキシカルボン酸は、酢酸とオクチル酸と過酸化水素の反応生成 物を含むことを特徴とする請求項17に記載の銀製品の衛生処理と着色除去の方 法。 27.前記ペルオキシカルボン酸は、前記カルボン酸と過酸化水素の反応生成物 を含み、前記酢酸は、前記オクチル酸に対して約10対1から約1対1の範囲の 比率で存在することを特徴とする請求項26に記載の銀製品の衛生処理と着色除 去の方法。 28.前記ペルオキシカルボン酸は、過酸化水素とオクチル酸と酢酸の反応生成 物であり、オクチル酸対酢酸の比率は約1対10から約1対1の範囲にあること を特徴とする請求項26に記載の銀製品の衛生処理と着色除去の方法。 29.前記衛生処理濃縮構成物は、n−アルキルスルホン酸塩可溶化剤を含むこ とを特徴とする請求項17に記載の銀製品の衛生処理と着色除去の方法。 30.前記衛生処理濃縮構成物は、金属イオン封鎖剤を含むことを特徴とする請 求項17に記載の銀製品の衛生処理と着色除去の方法。 31.銀製品の衛生処理及び着色除去の方法であって、前記方法は銀製品に対し て衛生処理濃縮構成物を100ppmから2000ppmの割合で使用する工程 を含み、前記衛生処理濃縮構成物は、 (a)過酢酸とペルオキシオクチル酸とを含む約1重量%から20重量% の混合物と、 (b)酢酸とオクチル酸の混合物を含む約10重量%から50重量%のカ ルボン酸であって、前記酢酸と前記オクチル酸はそれぞれ約10対1から約1対 1の範囲比率で存在することを特徴とする前記カルボン酸と、 (c)約3重量%から35重量%の過酸化水素と (d)約1から20重量%の可溶化剤と、 (e)バランスをとる担体であって、前記ペルオキシカルボン酸が前記酢 酸、オクチル酸、及び過酸化水素の反応生成物を前記担体中で含むことを特徴と する前記担体 とを含むことを特徴とする銀製品の衛生処理と着色除去の方法。 32.前記衛生処理すすぎ構成物は、自動ウェア製品洗浄機で使用されることを 特徴とする請求項31に記載の銀製品の衛生処理と着色除去の方法。 33.前記衛生処理すすぎ構成物は、約120°Fから140°Fの温度範囲で 使用されることを特徴とする請求項32に記載の銀製品の衛生処理と着色除去の 方法。 34.前記衛生処理濃縮構成物は、約180°Fから195°Fの温度で使用さ れることを特徴とする請求項32に記載の銀製品の衛生処理と着色除去の方法。 35.前記銀製品は、前記衛生処理すすぎ構成物が施される前に洗浄されること を特徴とする請求項32に記載の銀製品の衛生処理と着色除去の方法。
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