JPH0950947A - ウエハ処理方法 - Google Patents

ウエハ処理方法

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Publication number
JPH0950947A
JPH0950947A JP21945995A JP21945995A JPH0950947A JP H0950947 A JPH0950947 A JP H0950947A JP 21945995 A JP21945995 A JP 21945995A JP 21945995 A JP21945995 A JP 21945995A JP H0950947 A JPH0950947 A JP H0950947A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wafer
wax
jig
robot
wafers
Prior art date
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Pending
Application number
JP21945995A
Other languages
English (en)
Inventor
Haruki Sonoda
治毅 園田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
SPC Electronics Corp
Original Assignee
SPC Electronics Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by SPC Electronics Corp filed Critical SPC Electronics Corp
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  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ウエハに傷をつけること及び1枚ずつの処理
で長時間を要する。 【解決手段】 ワックスで治具に取付けられたウエハを
ウエハ吸着ロボットで保持し、このウエハ吸着ロボット
を昇降させてワックス除去用溶剤入りのワックス槽に浸
漬させ、ワックスを溶解させて治具を分離してウエハの
みをワックス除去槽から取り出す。この際、ウエハ吸着
ロボットを超音波振動子で振動させながらワックスを溶
解させ、ワックス除去槽を超音波振動子により振動させ
てワックスを溶解させるウエハ処理方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は集積回路用材料とし
て、多用されているシリコン及びカリウムヒ素等の標準
600μmの厚さのウエハを加工処理により100μm
〜200μmの厚さに処理する際のウエハを加工治具か
ら分離させるウエハ処理方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】集積回路用材料として、多用されている
シリコン及びカリウムヒ素等の標準600μmの厚さの
ウエハを、加工処理により100μm〜200μmの厚
さに処理する際のウエハと加工用治具を分離させる従来
の装置は下記のように構成されていた。
【0003】即ち、図6(a)に示すように、ウエハ1
を治具2にワックスを塗布して固定し、固定台3に設け
た真空用通路4で治具2を吸着保持するようになってい
る。600μmの厚さ有するウエハ1を100μm〜2
00μmの厚さに加工した後に、治具2を固定台3で吸
着保持し、真空用通路5を有する移動台6でウエハ1を
吸着保持できるようになっている。
【0004】こ移動台6はワックスの溶け出し温度以上
に昇温可能なヒータが内蔵されており、このヒータの電
源を入れてワックスが溶け出したことを確認した後に図
6(b)に示すように、移動台6を平行移動させること
により、ウエハ1と治具2とを分離していた。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】前記従来の装置にあっ
ては、ウエハと治具とを平行移動させて分離しているた
め、移動の際にウエハに傷を付けたり割るようなことが
あった。又、ウエハ1枚ずつの処理の為に、複数枚の処
理に、非常に時間を要する問題があった。そこで、本発
明においては複数枚のウエハを同時に処理することがで
きる装置を提供しようとするものである。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明は前記課題を解決
するために、ワックスで治具に取付けられたウエハをウ
エハ吸着ロボットで保持し、このウエハ吸着ロボットを
昇降させてワックス除去用溶剤入りのワックス除去槽に
浸漬させ、ワックスを溶解させて治具を分離してウエハ
のみをワックス除去槽から取り出すウエハ処理方法を構
成する。
【0007】又、ウエハ吸着ロボットを超音波振動子で
振動させながらワックスを溶解させ、更に、ワックス除
去槽を超音波振動子により振動させてワックスを溶解さ
せるウエハ処理方法を構成する。
【0008】
【発明の実施の形態】本発明方法を説明する前に、これ
に用いる装置の1例を図1に基いて詳細に説明する。ワ
ックス除去用溶剤入り、ワックス除去槽7の底面に超音
波振動子8を固定し、槽内に溶液昇温風ヒータ9を設け
る。一方、ワックス除去槽7の一方に治具用収納容器1
0を設置し、他方にウエハ用収納容器11を設ける。更
に、振動機構を有し、昇降可能なウエハ吸着ロボット1
2と治具用収納容器10を移動させる槽間移動ロボット
13を設けている。
【0009】前記ウエハ吸着ロボット12の1例を図
2、3に基いて説明すると、ガラスで形成した治具2に
ウエハ1をワックスで取付け、このウエハ1を吸着保持
板14に吸着する。吸着保持板14には真空通路15を
設け、吸引側の吸着穴16でウエハ1を吸着し、排気側
口17を真空ポンプ(図示省略)に接続して吸引するよ
うになっている。又、吸着保持板14の上端に超音波振
動子18を固定して全体を振動させるようになってい
る。これにより超音波の振動を吸着保持板14から直接
ウエハ1に伝えることができる。
【0010】尚、図4、5に示す他の例は超音波振動子
18を吸着保持板14の途中に固定したもので、他は図
2、3と同様なので、同一符号を付し説明を省略する。
【0011】前記装置の1例を用いて本発明方法を説明
すると、ウエハ1をワックスで取付けられた治具2と共
にウエハ吸着ロボット12で治具用収納容器10内に収
納し、治具用収納容器10を槽間移動ロボット13でワ
ックス除去槽7内に収納する[図1(b)参照]
【0012】そして、ワックス除去槽7内のワックス除
去用溶剤を溶液昇温用ヒータ9で加熱し、あらかじめ設
定したワックス溶け出し時間浸漬させたのち、超音波振
動子8による超音波振動と、ウエハ吸着ロボッ12の超
音波振動子18とにより、ワックスを溶解させ、ウエハ
吸着ロボット12を2mm毎秒程度の低速にて上昇させ
る。これにより治具2からウエハ1を剥がし、ウエハ1
のみをウエハ吸着ロボット12の吸着保持板14により
治具用収納容器10から上昇させて取出し、水平移動及
び下降させて隣接位置に設置しているウエハ用収納容器
11内に収納[図2(d)参照]する。
【0013】一方、ワックス除去槽7内に残っている治
具用収納容器10[図1(c)参照]は槽間移動ロボッ
ト13により、ワックス除去槽7から上昇と水平移動及
び下降運動を行ってワックス除去槽7とウエハ収納容器
11間の床面に載置される。
【0014】
【発明の効果】本発明は前記のように構成したもので、
薄くて割れやすいウエハを昇降機構の振動と槽内の溶液
の超音波振動により、容易に人手を介さずに複数枚を同
時に処理することができる。
【0015】
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明方法の作業順序を示す説明図で、(a)
はワックス除去槽への浸漬前の状態、(b)はウエハを
ワックス除去槽へ浸漬させた状態、(c)は治具とウエ
ハを分離した状態、(d)はウエハ及び治具をワックス
除去槽から取り出した状態を夫々示す。
【図2】ウエハ吸着ロボットの一例を示す側面図。
【図3】その正面図。
【図4】ウエハ吸着ロボットの他の例を示す側面図。
【図5】その正面図。
【図6】従来装置の作業順序を示す断面図で、(a)は
ウエハと治具が一体化されている状態、(b)はウエハ
と治具が分離された状態を示す。
【符号の説明】
1 ウエハ 2 治具 3 固定台 4 真空用通路 5 真空用通路 6 移動台 7 ワックス除去槽 8 超音波振動子 9 溶液昇温用ヒータ 10 治具用収納容器 11 ウエハ収納用容器 12 ウエハ吸着ロボット 13 槽間移動ロボット 14 吸着保持板 15 真空通路 16 吸着穴 17 排気側口 18 超音波振動子

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ワックスで治具に取付けられたウエハを
    ウエハ吸着用槽間移動ロボットで保持し、このウエハ吸
    着ロボットを昇降させてワックス除去用溶剤入りのワッ
    クス除去槽に浸漬させ、ワックスを溶解させて治具を分
    離してウエハのみをワックス除去槽から取り出すことを
    特徴とするウエハ処理方法。
  2. 【請求項2】 ウエハ吸着ロボットを超音波振動子で振
    動させながらワックスを溶解させることを特徴とする請
    求項1記載のウエハ処理方法。
  3. 【請求項3】 ワックス除去槽を超音波振動子により振
    動させてワックスを溶解させることを特徴とする請求項
    1、2のいずれかに記載されたウエハ処理方法。
JP21945995A 1995-08-07 1995-08-07 ウエハ処理方法 Pending JPH0950947A (ja)

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JP21945995A JPH0950947A (ja) 1995-08-07 1995-08-07 ウエハ処理方法

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN100401494C (zh) * 2005-02-28 2008-07-09 大日本网目版制造株式会社 晶片处理装置
JP2011233680A (ja) * 2010-04-27 2011-11-17 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd 剥離装置及び剥離方法
BE1019301A5 (nl) * 2011-08-31 2012-05-08 Develop Mechanics Nv Inrichting voor het hanteren van halfgeleiderwafers.
JP2014222758A (ja) * 2009-03-18 2014-11-27 エーファウ・グループ・ゲーエムベーハー キャリアとウエハとの間の相互連結層を取り去るためのデバイス

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JP2014222758A (ja) * 2009-03-18 2014-11-27 エーファウ・グループ・ゲーエムベーハー キャリアとウエハとの間の相互連結層を取り去るためのデバイス
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