JPH0950779A - 荷電粒子ビーム装置 - Google Patents

荷電粒子ビーム装置

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JPH0950779A
JPH0950779A JP7203074A JP20307495A JPH0950779A JP H0950779 A JPH0950779 A JP H0950779A JP 7203074 A JP7203074 A JP 7203074A JP 20307495 A JP20307495 A JP 20307495A JP H0950779 A JPH0950779 A JP H0950779A
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JP
Japan
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sample
marker
signal
charged particle
particle beam
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Application number
JP7203074A
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English (en)
Inventor
Toshinori Goto
俊徳 後藤
Kiyoto Kumagai
清人 熊谷
Kiyoshi Sakaguchi
清志 坂口
Takahide Sakata
隆英 坂田
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Jeol Ltd
Original Assignee
Jeol Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 試料が傾斜していても、傾斜に応じた試料上
の長さに応じたマーカや、その長さを直接的に表示する
ことができる荷電粒子ビーム装置を実現する。 【解決手段】 試料8を傾斜させて観察する場合、操作
パネル14の傾斜角設定摘み15を用い、任意の角度θ
を設定する。この角度θの信号はステージ制御回路13
に供給され、ステージ制御回路13は試料を角度θ傾斜
させる。この角度信号θは、倍率信号mと共にマーカ・
カーソル・文字信号発生回路17に供給される。マーカ
・カーソル・文字信号発生回路17は、角度信号θと倍
率信号mとに基づいて、角度θ傾斜させた場合の試料の
高さ方向の基準長さを演算し、マーカ信号を発生する。
マーカ信号は、信号処理回路18を介して陰極線管19
に供給され、陰極線管19上には、試料の高さ方向の基
準長さHが表示される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、電子ビームやイオ
ンビームのような荷電粒子ビームを用いた荷電粒子ビー
ム装置に関し、更に詳しくは、試料を傾斜させた場合で
も試料上の長さや寸法を正確に知ることができる荷電粒
子ビーム装置に関する。
【0002】
【従来の技術】荷電粒子ビーム装置のひとつである走査
電子顕微鏡においては、陰極線管上に2次電子像や反射
電子像を表示している。この際、表示された像の倍率な
どと共に、基準となる長さのマーカを表示している。
【0003】最近、立体的な構造を有した試料を傾斜観
察することが頻繁に行われており、その際、立体的構造
部分の高さ寸法を概略知りたいという要求がある。例え
ば、集束イオンビーム装置により、ICデバイスのよう
な試料に直方体形の穴を穿ち、試料の深さ方向の構造を
傾斜観察する場合に、高さ寸法を正確に知ることは重要
である。
【0004】図1は傾斜された試料に対して電子ビーム
を照射し、走査像を得るケースの概略を示す図であり、
1は試料である。試料1の所望部分にはあらかじめ集束
イオンビーム装置によって直方体形の穴2が穿たれてい
る。このような試料1を走査電子顕微鏡の試料室内に配
置し、試料1を適宜な角度θに傾斜させる。この傾斜試
料1に対して電子ビームEBを2次元的に走査し、この
走査に基づく、例えば、2次電子を検出して電子ビーム
の走査と同期した陰極線管に検出信号を供給する。な
お、この図で電子ビームの水平方向(X方向)の走査
は、紙面に対して垂直方向に行われている。
【0005】図2はこのようにして陰極線管上に表示さ
れた試料1の2次電子像Iを示している。この2次電子
像I中には、穴2の部分2iも表示されており、そのう
ち、図1の穴2の壁3の部分は、図2の像中には3iと
して表示されている。また、2次電子像Iに重畳して、
観察倍率mと、像の単位長さを示すマーカMと、そのマ
ーカMの長さに対応した試料上の長さ寸法s(1μm)
も表示されている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】上記した従来技術で、
穴2の高さに対応する陰極線管上の2次電子像3iの長
さLは、マークMとその寸法表示sによっては直ちには
知ることができない。すなわち、マーカMとその寸法s
は、あくまでも試料2が水平方向(電子ビーム光軸Oに
対して垂直方向)に配置されている場合の表示であり、
試料1が傾斜していると、その傾斜角度に応じて画面上
の表示と実際の試料上の長さとは相違するためである。
なお、図1で電子ビームの水平方向(X方向)の走査
は、紙面に対して垂直方向に行われており、この電子ビ
ームの水平方向(X方向)の走査は、試料1の傾斜には
影響されない。
【0007】その結果、観察者は、陰極線管上に表示さ
れている水平寸法用のマーカMを基準にして測定した寸
法Lと、試料ステージの傾斜角θとによって、計算を行
い、穴2の側壁3の実際の高さHを求めるようにしてい
る。このような処理は甚だ面倒である。なお、計算は、
H=L/sinθによって行う。
【0008】図3は試料1に凸部4が設けられているケ
ースであり、この凸部4の実際の高さHは、陰極線管画
面上の水平方向の長Lによって計算により求めなければ
ならない。
【0009】本発明は、このような点に鑑みてなされた
もので、その目的は、試料が傾斜していても、この傾斜
に応じた試料上の長さに応じたマーカや、その長さを直
接的に表示することができる荷電粒子ビーム装置を実現
するにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】請求項1の発明に基づく
荷電粒子ビーム装置は、荷電粒子ビームを試料上に集束
するためのレンズと、試料上の荷電粒子ビームの照射位
置を走査するための走査手段と、試料への荷電粒子ビー
ムの照射によって得られた信号を検出する検出器と、検
出器からの信号が供給され、試料像が表示される表示手
段と、試料を傾斜させるための試料傾斜手段とを備えて
おり、表示手段上に試料像と共に試料上の長さに対応す
るマーカを表示し、試料の傾斜角度に応じマーカの長さ
を変化させるようにしたことを特徴としている。
【0011】請求項2の発明に基づく荷電粒子ビーム装
置は、請求項1の手段に加えて、マーカの長さHは、試
料の傾斜角度をθとして、荷電粒子ビームの走査幅に対
応した基準長さをLとした場合、H=L/sinθとし
たことを特徴としている。
【0012】請求項3の発明に基づく荷電粒子ビーム装
置は、請求項1の手段に加えて、マーカの長さYは、試
料の傾斜角度をθとして、荷電粒子ビームの走査幅に対
応した基準長さをLとした場合、Y=L/cosθとし
たことを特徴としている。
【0013】請求項4の発明に基づく荷電粒子ビーム装
置は、荷電粒子ビームを試料上に集束するためのレンズ
と、試料上の荷電粒子ビームの照射位置を走査するため
の走査手段と、試料への荷電粒子ビームの照射によって
得られた信号を検出する検出器と、検出器からの信号が
供給され、試料像が表示される表示手段と、試料を傾斜
させるための試料傾斜手段とを備えており、表示手段上
に試料像と共に2本の線を表示し、2本の線の間の荷電
粒子ビームの走査幅と試料の傾斜角度とに基づいて、線
の間の試料上の寸法を求めるようにしたことを特徴とし
ている。
【0014】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態を詳細に説明する。図4は本発明に基づく走査
電子顕微鏡の一例を示している。5は電子銃であり、電
子銃5から発生した一次電子ビームEBは、集束レンズ
6と対物レンズ7によって試料8上に細く集束される。
試料8と対物レンズ7との間には、2次電子検出器9が
配置され、また、一次電子ビームEBは、走査コイル1
0によって偏向され、試料8上の電子ビームの所望の大
きさの2次元領域は走査される。走査コイル10には、
走査信号発生回路11から走査信号が供給される。
【0015】試料8は任意に傾斜角度が変えられる試料
ステージ12上に配置されている。この試料ステージ1
2の傾斜角度θは、ステージ制御回路13によって変え
られるが、ステージ制御回路13には、操作パネル14
の傾斜角設定摘み15によって設定された角度θに対応
した信号が供給される。操作パネル14には、倍率設定
摘み17も設けられている。この倍率設定摘み17によ
って設定された倍率信号mは、マーカ・カーソル・文字
信号発生回路17と走査信号発生回路11に供給され
る。走査信号発生回路11は、供給された倍率信号mに
基づいて試料8上の電子ビームの走査範囲を制御する。
【0016】2次電子検出器9によって検出された信号
は、信号処理回路18を介して陰極線管19に供給され
る。陰極線管19には走査信号発生回路11からの走査
信号も供給されている。また、信号処理回路18には、
マーカ・カーソル・文字信号発生回路17から、マーカ
信号と、倍率や基準長さを示す文字信号などが供給さ
れ、信号処理回路18は、2次電子検出信号にマーカ信
号や倍率,基準長さ文字信号を重畳して陰極線管19に
供給する。このような構成の動作を次に説明する。
【0017】2次電子像を観察する場合、試料8上で電
子ビームEBの2次元走査が行われる。試料8への電子
ビームの照射に基づいて発生した2次電子は、2次電子
検出器9によって検出される。検出信号は信号処理回路
18を介して、走査信号が供給されている陰極線管19
に供給されることから、陰極線管19には試料の2次電
子像が表示される。
【0018】ここで、試料8を傾斜させて観察する場
合、操作パネル14の傾斜角設定摘み15を用い、任意
の角度θを設定する。この角度θの信号はステージ制御
回路13に供給され、その結果、ステージ制御回路13
は試料ステージ12を傾斜させ、試料を角度θ傾斜させ
る。この時、角度信号θは、倍率信号mと共にマーカ・
カーソル・文字信号発生回路17に供給される。
【0019】マーカ・カーソル・文字信号発生回路17
は、倍率信号mに基づいて傾斜のない方向(X方向)の
マーカ信号と、角度信号θと倍率信号mとに基づいて、
角度θ傾斜させた場合の試料の高さ方向の基準長さを演
算し、マーカ信号を発生する。また、基準長さの寸法
と、倍率を表す文字信号を発生する。この時、試料の高
さ方向の基準長さを示すマーカの長さHは、電子ビーム
の走査幅に基づく基準長さLと角度θから、H=L/s
inθによって求められる。
【0020】このようにして求められた傾斜のない方向
(X方向)のマーカ信号と、角度θ傾斜させた場合の試
料の高さ方向の基準長さのマーカ信号とは、信号処理回
路18を介して陰極線管19に供給される。その結果、
陰極線管18上には、図5に示すように、倍率の表示m
と、傾斜のない方向(X方向)のマーカXと、試料の高
さ方向の基準長さHとが表示され、更に、基準長さs
(1μm)が表示される。この陰極線管画面により、観
察者は、試料の高さ方向の長さを直接的に知ることが可
能となる。
【0021】図6は本発明の他の実施の形態の要部を示
している。この図で、操作パネル14には倍率設定摘み
14と傾斜角度設定摘み15以外に、マーカ選択スイッ
チ20,21が設けられている。マーカ選択スイッチ2
0は、試料の高さ方向のマーカの表示を選択するスイッ
チであり、マーカ選択スイッチ21は、試料のY方向の
寸法を示すマーカを選択するスイッチである。ここで、
マーカ選択スイッチ20をオンすると、試料の高さ方向
のマーカを表示するための選択信号Sが、操作パネル1
4からマーカ・カーソル・文字信号発生回路17に供給
される。
【0022】この結果、マーカ・カーソル・文字信号発
生回路17は、操作パネル14から供給される角度信号
θと倍率信号mとに基づいて、角度θ傾斜させた場合の
試料の高さ方向の基準長さを演算し、マーカ信号を発生
する。この角度θ傾斜させた場合の試料の高さ方向の基
準長さのマーカ信号とは、信号処理回路18を介して陰
極線管19に供給される。その結果、陰極線管18上に
は、図5に示すように、倍率の表示mと、傾斜のない方
向(X方向)のマーカXと、試料の高さ方向の基準長さ
を示すマーカHとが表示され、更に、基準長さsが表示
される。
【0023】次に、マーカ選択スイッチ21をオンする
と、試料の傾斜のあるY方向のマーカを表示するための
選択信号Sが、操作パネル14からマーカ・カーソル・
文字信号発生回路17に供給される。
【0024】この結果、マーカ・カーソル・文字信号発
生回路17は、操作パネル14から供給される角度信号
θと倍率信号mとに基づいて、角度θ傾斜させた場合の
試料のY方向の基準長さを演算し、マーカ信号を発生す
る。この角度θ傾斜させた場合の試料のY方向の基準長
さのマーカ信号とは、信号処理回路18を介して陰極線
管19に供給される。その結果、図7に示すように、陰
極線管18上には、傾斜を考慮した試料のY方向の基準
長さを示すマーカYが表示される。なお、図7では、便
宜上高さ方向の基準長さを示すマーカHと、Y方向の基
準長さを示すマーカYとを同時に表示したが、実際に
は、上記実施の形態では、そのいずれかが表示される。
また、選択スイッチ20,21を同時にオンすれば、図
7に示すように2つのマーカH,Yが同時に表示され
る。
【0025】図8は本発明の更に他の実施の形態の要部
を示しているが、この実施の形態では、陰極線管画面上
の特定部分の長さや高さの直接的な表示を行うことがで
きる。この図で、操作パネル14には倍率設定摘み14
と傾斜角度設定摘み15以外に、試料の高さとY方向の
長さを選択する選択スイッチ22,23と、カーソル位
置設定摘み24,25,26,27が設けられている。
選択スイッチ22は、試料の高さ方向の寸法の表示を選
択するスイッチであり、選択スイッチ23は、試料のY
方向の寸法の表示を選択するスイッチである。
【0026】まず、試料の傾斜のないX方向の寸法の表
示について述べる。図9は陰極線管画面Iを示してお
り、陰極線管画面Iの特定部分RのX方向の寸法を直接
的に表示する場合、X方向のカーソル位置設定摘み2
4,25を操作し、特定部分Rの両端にX方向のカーソ
ルCx1,Cx2を合わせる。この状態で、マーカ・カ
ーソル・文字信号発生回路17は、2本のカーソルCx
1,Cx2の位置と倍率mとから、X方向の寸法X=1
0.1μmを演算し、その値を陰極線管画面I上に表示
する。
【0027】次に、試料の高さ方向の寸法を表示する場
合、選択スイッチ22をオンすると、試料の高さ方向の
寸法を表示するための選択信号Sが、操作パネル14か
らマーカ・カーソル・文字信号発生回路17に供給され
る。更に、Y方向のカーソル位置設定摘み26,27を
操作し、特定部分Rの両端にY方向のカーソルCy1,
Cy2を合わせる。この状態で、マーカ・カーソル・文
字信号発生回路17は、2本のカーソルCy1,Cy2
の位置と倍率mと傾斜角度θとから、試料の高さ方向の
寸法H=5.3μmを演算し、その値を陰極線管画面I
上に表示する。
【0028】次に、傾斜のある試料のY方向の寸法を表
示する場合、選択スイッチ23をオンすると、試料のY
方向の寸法を表示するための選択信号Sが、操作パネル
14からマーカ・カーソル・文字信号発生回路17に供
給される。更に、図10に示すように、Y方向のカーソ
ル位置設定摘み26,27を操作し、図形2iの両端に
Y方向のカーソルCy1,Cy2を合わせる。この状態
で、マーカ・カーソル・文字信号発生回路17は、2本
のカーソルCy1,Cy2の位置と倍率mと傾斜角度θ
とから、試料のY方向の寸法Y=15.5μmを演算
し、その値を陰極線管画面I上に表示する。
【0029】以上本発明の実施の形態を詳述したが、本
発明はこの形態に限定されない。例えば、2次電子を検
出したが、反射電子を検出し反射電子像を表示する場合
にも、また、電子ビームに代えてイオンビームを用いる
装置にも、本発明を適用することができる。
【0030】
【発明の効果】本発明によれば、試料が傾斜していて
も、この傾斜に応じた試料上の長さに応じたマーカや、
その長さを直接的に表示することが可能な荷電粒子ビー
ム装置を実現できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】傾斜した試料への電子ビームの走査の様子を示
す図である。
【図2】陰極線管上に表示された傾斜試料の走査像を示
す図である。
【図3】傾斜した試料への電子ビームの走査の様子を示
す図である。
【図4】本発明に基づく走査電子顕微鏡を示す図であ
る。
【図5】図4の走査電子顕微鏡により陰極線管上に表示
された像を示す図である。
【図6】本発明に基づく走査電子顕微鏡の他の実施の形
態の要部を示す図である。
【図7】図6の走査電子顕微鏡により陰極線管上に表示
された像を示す図である。
【図8】本発明に基づく走査電子顕微鏡の他の実施の形
態の要部を示す図である。
【図9】図8の走査電子顕微鏡により陰極線管上に表示
された像を示す図である。
【図10】図8の走査電子顕微鏡により陰極線管上に表
示された像を示す図である。
【符号の説明】
5 電子銃 6 集束レンズ 7 対物レンズ 8 試料 9 2次電子検出器 10 走査コイル 11 走査信号発生回路 12 試料ステージ 13 ステージ制御回路 14 操作パネル 15 傾斜角設定摘み 16 倍率設定摘み 17 マーカ・カーソル文字信号発生回路 18 信号処理回路 19 陰極線管
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 坂田 隆英 東京都昭島市武蔵野三丁目1番2号 日本 電子株式会社内

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 荷電粒子ビームを試料上に集束するため
    のレンズと、試料上の荷電粒子ビームの照射位置を走査
    するための走査手段と、試料への荷電粒子ビームの照射
    によって得られた信号を検出する検出器と、検出器から
    の信号が供給され、試料像が表示される表示手段と、試
    料を傾斜させるための試料傾斜手段とを備えており、表
    示手段上に試料像と共に試料上の長さに対応するマーカ
    を表示し、試料の傾斜角度に応じマーカの長さを変化さ
    せるようにした荷電粒子ビーム装置。
  2. 【請求項2】 マーカの長さHは、試料の傾斜角度をθ
    として、荷電粒子ビームの走査幅に対応した基準長さを
    Lとした場合、H=L/sinθとした請求項1記載の
    荷電粒子ビーム装置。
  3. 【請求項3】 マーカの長さYは、試料の傾斜角度をθ
    として、荷電粒子ビームの走査幅に対応した基準長さを
    Lとした場合、Y=L/cosθとした請求項1記載の
    荷電粒子ビーム装置。
  4. 【請求項4】 荷電粒子ビームを試料上に集束するため
    のレンズと、試料上の荷電粒子ビームの照射位置を走査
    するための走査手段と、試料への荷電粒子ビームの照射
    によって得られた信号を検出する検出器と、検出器から
    の信号が供給され、試料像が表示される表示手段と、試
    料を傾斜させるための試料傾斜手段とを備えており、表
    示手段上に試料像と共に2本の線を表示し、2本の線の
    間の荷電粒子ビームの走査幅と試料の傾斜角度とに基づ
    いて、線の間の試料上の寸法を求めるようにした荷電粒
    子ビーム装置。
JP7203074A 1995-08-09 1995-08-09 荷電粒子ビーム装置 Pending JPH0950779A (ja)

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Effective date: 20030121