JPH09504044A - チタン、ジルコニウム或はハフニウムの存在における脱水素縮合による不飽和機能を含有するポリオルガノシロキサンの製造方法 - Google Patents
チタン、ジルコニウム或はハフニウムの存在における脱水素縮合による不飽和機能を含有するポリオルガノシロキサンの製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】
ケイ素に直接に結合された水素原子(「SiH」)を少なくとも0.1モル%含有するポリオルガノヒドロゲノシロキサン(A)を、少なくとも1化学量論量の少なくとも1つのエチレン性又はアセチレン性不飽和を呈する炭化水素性化合物(B)と、下記の(I)式:LnMRxYy(式中、Mは第IV族(IUPAC)の金属であり、記号Lは、金属Mの炭化水素性リガンドを表わし、該リガンドは該金属の価電子層上へのπ電子3〜8の供与体であり;nは0〜3の整数であり;記号Rは、金属Mの炭化水素性又はオルガノシリケーティドリガンドを表わし、該リガンドはσ電子供与体であり;記号Yは、金属Mと共に共有結合を形成するリガンドを表わし;xは0〜4の整数であり;yは0〜4の整数であり;数n、X及びyのそれぞれの値は、錯化される金属の価電子層の電子の数が18に等しく又はそれより小さくなるようにする)を有する第IV族金属複合体の存在において反応させることによって不飽和機能を含有するポリオルガノシロキサンを製造する方法。
Description
【発明の詳細な説明】
チタン、ジルコニウム或はハフニウムの存在
における脱水素縮合による不飽和機能を含有
するポリオルガノシロキサンの製造方法
本発明は、チタン、ジルコニウム或はハフニウム複合体の存在において、ポリ
オルガノヒドロゲノシロキサン並びにエチレン性及び/又はアセチレン性不飽和
の炭化水素化合物を脱水素縮合させることにより、不飽和機能を含有するポリオ
ルガノシロキサンを製造する方法に関する。
GB−A−1,365,431から、ニッケル錯体の存在において、ポリオル
ガノヒドロゲノシロキサン及びエチレン性不飽和化合物を脱水素縮合させること
により不飽和機能を含有するポリオルガノシロキサンを製造することは、知られ
ている。ニッケルは、錯体をもたらす遷移金属であり、反応の後に得られるそれ
らの触媒残渣は、毒性及び循環の問題を持ち出し得る。
US−A−5,087,119文献は、水素化シラン上で(及びポリシロキサ
ン上ででなく)、ジルコニウム或はハフニウム錯体の存在において、行う脱水素
縮合反応を用いる重合プロセスを記載している。この反応は、不飽和炭化水素化
合物を必要とせず、また不飽和機能を含有するポリオルガノシロキサンの製造も
伴わない。
発明に従えば、これは、ケイ素に直接に結合された水素原子(「SiH」)を
少なくとも0.1モル%、好ましくは約1〜20モル%含有するポリオルガノヒ
ドロゲノシロキサン(A)を、少なくとも化学量論量の少なくとも1つのエチレ
ン性又はアセチレン性不飽和を有する炭化水素化合物(B)と、下記の(I)式
の金属複合体からなる脱水素縮合触媒を触媒的に有効な量で存在させて反応させ
ることを特徴とする不飽和機能を含有するポリオルガノシロキサンの製造方法で
ある:
LnMRxYy (I)
式中、
・Mはチタン、ジルコニウム及びハフニウムから選ぶ金属を表わし;
・記号Lは同じであり又は異なり、金属Mの炭化水素リガンドを表わし、該リガ
ンドは該金属の価電子殻にπ電子3〜8を付与し;
・nは0〜3の範囲の整数であり;
・記号Rは同じであり又は異なり、金属Mの炭化水素又はオルガノケイ素リガン
ドを表わし、該リガンドはσ電子供与体であり;
・記号Yは同じであり又は異なり、金属Mと共に共有結合を形成するリガンドを
表わし;
・xは0〜4の範囲の整数であり;
・yは0〜4の範囲の整数であり;
数n、x及びyのそれぞれの値は、錯化される金属Mの
価電子殻における電子の数が18に等しく又はそれより小さく、好ましくは8に
等しく又はそれより大きくなるようにする。
挙げることができるリガンドLの中に、置換されても或は置換されなくてもよ
いη3−アリル、η5−シクロペンタジエニル及びη7−シクロヘプタトリエニル
、並びに置換されたもしくは未置換のη6ベンゼンのようなη6芳香族がある。
挙げることができるリガンドRの中に、例えばC1〜C8アルキル基及びC6〜
C12アリール基がある。
挙げることができるリガンドYの中に、例えば、水素原子、ハロゲン原子(塩
素、弗素、臭素及び沃素)並びにC1〜C4アルコキシ基がある。
複合体の例として、下記を挙げることができる:
・ビス(シクロペンタジエニル)ジ−1−ブチルジルコニウム
・テトラベンジルジルコニウム
・テトラネオペンチルジルコニウム
・ブトキシトリス((トリメチルシリル)メチル)ジルコニウム
・ジノルボルニルジメチルチタン
・ビス(シクロペンタジエニル)ジメチルジルコニウム
・シクロペンタジエニルトリベンジルジルコニウム
・シクロペンタジエニルトリメチルチタン
・シクロペンタジエニルトリメチルジルコニウム
・ビス(シクロペンタジエニル)ジネオペンチルチタン
・シクロペンタジエニルジフェニルイソプロポキシジルコニウム
・((トリメチルシリル)シクロペンタジエニル)トリメチルジルコニウム
・ビス(シクロペンタジエニル)ビス(トリメチルシリル)ジルコニウム
・ビス(シクロペンタジエニル)ジヒドロゲノジルコニウム
・ビス(シクロペンタジエニル)ジヒドロゲノチタン
・ビス(シクロペンタジエニル)クロロヒドロゲノジルコニウム
・ビス(シクロペンタジエニル)ブチルヒドロゲノジルコニウム
・ビス(シクロペンタジエニル)メチルヒドロゲノジルコニウム
使用するポリオルガノヒドロゲノシロキサン(A)は線状でも、環状でも或は
三次元でもよく、下記の(II)式の同じである又は異なる単位を含有する:
R’aHbSiO(4-a-b)/2 (II)
式中、
・記号R’は同じであり又は異なり、C1〜C18アルキル基、ビニル基或はC6〜
C12アリールもしくはアラルキル基を表わし、これらの基は随意にハロゲン原子
(特に弗素)で置換され、好ましくは該Rラジカルの少なく
とも60モル%はメチル基を表わし;
・aは0、1、2、又は3に等しく;
・bは0又は1に等しく;
・a+b=0、1、2、又は3;
SiO4/2単位の含量は30モル%より少なく、bが0と異なる(II)式の単
位の数は、該ポリオルガノヒドロゲノシロキサン(A)が、ケイ素に直接結合さ
れた水素原子(「SiH」)を少なくとも0.1モル%、好ましくは約1〜20
モル%含有するようにする。
このポリオルガノヒドロゲノシロキサンは、液体であるのが好ましく、その2
5℃における動的粘度は1,000,000mPa sまでであるのがよく、この粘
度は、大概約1〜10,000mPa sである。
シリコーンポリマーの25℃における動的粘度は、1992年2月のAFNO
R基準NFT 76 102に従ってブルックフィールド粘度計を使用して測定
することができる。
用いることができる不飽和炭化水素化合物(B)の中で、例えば下記を挙げる
ことができる:随意に1つ又はそれ以上のハロゲン原子で及び/又は1つ又はそ
れ以上のC6〜C12アリール基で置換される、線状もしくは枝分れしたC2〜C24
アルケン、C6〜C12シクロアルケン、線状もしくは枝分れしたC2〜C24アルキ
ン、エチレン性不飽和カルボン酸の飽和エステル、飽和カルボン酸の不飽和エス
テル、及びエチレン性もしくはアセチレ
ン性不飽和基を有するオルガノシランもしくはオルガノシロキサン。
例として、下記を挙げることができる:エチレン、1−オクテン、1,4−ブ
タジエン、1,5−ヘキサジエン、1,9−デカジエン、CF3−(CF2)0-6
(CH2)0-6−CH=CH2式のペルフルオロオレフィン、1,5−シクロオク
タジエン、アセチレン、1−ヘキシン、スチレン、エチルアクリレート、ビニル
トリメチルシラン、1,3−ジビニルテトラメチルジシロキサン、並びにシクロ
ロペンタジエン及びダイマー。
ポリオルガノヒドロゲノシロキサン(A)のモルの定義において、ケイ素に直
接に結合された水素原子(「SiH」)は元素種と考えることにする。
不飽和炭化水素化合物(B)のモルの定義において、(A)の「SiH」機能
と共に、脱水素カップリングを形成することができるエチレン性又はアセチレン
性不飽和は元素種と考えることにする。
例として、脱水素縮合についての反応スキームは、不飽和炭化水素化合物(B
)がアルファ−オレフィンである場合、下記の通りである:
Si−H[(A)の]+H2C=CH−R”[(B)の]→Si−HC=CH−
R”+H2
発明の主題を形成する該プロセスは、構成成分(B)を化学量論量に対して過
剰に用いて行うのが好都合である。この過剰は、(B)/(A)モル比約1.1
〜
100、好ましくは約1.1〜10に相当するのが好ましい。
触媒的に有効な量の脱水素縮合触媒なる表現は、適した脱水素縮合反応を確実
にする程の量を言うものと理解される。
該触媒は、ポリオルガノヒドロゲノシロキサン(A)100モル当り、大概約
1 10-5〜0.5モル、好ましくは約1 10-4〜0.1モルの量で用いる。
(I)式の触媒或は複合体の調製は、(I)式の複合体の適したプリカーサー
を、THF(テトラヒドロフラン)の存在におけるマグネシウムにより或は飽和
炭化水素中に溶解しているアルキルリチウムにより化学的に還元することに基づ
き、このプリカーサーそれ自体は、ハロゲン化金属複合体の形態である。Li−
、Na−或はK−M(M=ナフタレン)、M’BH4(M’=Li、Na或はK
)、アルキル−Mg−ハロゲン化合物、NaAlH2(OCH2 CH2 OCH3)2
、LiAlH4、LiAlH(アルコキシ)3、LiHBR3、MgH2、Al、
Zn或はAlCl3-z(R)z(zは0〜2の範囲の整数である)のようなその他
の還元剤を用いてもよい。
脱水素縮合作業は、温度約0〜200℃、好ましくは約20〜150℃におい
て行うことができる。
媒体の粘度を下げるために、溶媒を存在させてよく、挙げることができる例は
、トルエン、ヘキサン或はシク
ロヘキサンのような芳香族、脂肪族或は脂環式炭化水素である。
下記の例を例示として挙げる。例1
:
下記を250cm3三ツ口丸底フラスコに室温において導入する:
・Cp2ZrCl2 2 10-4モル
(Cp=η5−シクロペンタジエニル)
・アルゴン下で脱気したトルエン15ml
・リチウムを1.6モル/リットル含有するヘキサン中の溶液の形態のブチ
ルリチウム3.8 10-4モル、
これは、BuLi/Cp2ZrCl2モル比1.9に相当する。
触媒媒体を室温において磁気撹拌しながら20分間放置する。次いで、分子量
(Mn=1022)のα,ω−ジメチルヒドロゲノシリルポリジメチルシロキサ
ン4.1g、すなわちヒドロゲノシリル機能8 10-3モルを極めて急速に加え
る。
次いで、エチレン230cm3、すなわち9.5 10-3モルを大気圧におい
て加える。
媒体を100℃に7時間保ち、透明な反応媒体が回収される。トルエンを30
Pa下で75℃において除く。次いで、得られたポリマーを1H NMRによっ
て分析する。
SiH単位の転化度100%、並びにα,ω−ジメチルビニルポリジメチルシ
ロキサン構造のポリマーの形成が観測される。水素化ビニル単位の割合は、5モ
ル%より小さい。例2
:
例1に記載する作業を、触媒含量2.3 10-4モルを用い、BuLi/Cp2
ZrCl2比を依然1.9にして、90℃において5時間にわたって繰り返す。
SiH単位の転化度は81%である。29
Si NMR分析は、下記を示す:
SiVi単位75モル%
Si−CH2−CH3単位15モル%
Si−CH2−CH3−Si単位10モル%例3
:
Cp2ZrCl22.36 10-4モル、トルエン5ml及びブチルリチウム4
.48 10-4モルを、25mlフラスコに導入する。混合物を20℃において
25分間撹拌したままにする。新たに蒸留したスチレン1.98 10-2モル及
びヒドロゲノシリル機能9 10-3モルに相当する量の例1のα,ω−ジメチル
ヒドロゲノシリルポリジメチルシロキサンを加える。媒体を95〜100℃にお
いて7時間加熱する。蒸発した後に得られる油を1H NMRによって分析する
。
ヒドロゲノシリル機能の転化度は100%である。下記の平均構造に一致する
油が90モル%より多い量で得
られる:
トランスPh−CH=CH−Si(Me)2−O−[Si(Me)2−O]12−S
i(Me)2−CH=CH−Ph
(Ph=フェニル;Me=メチル)例4
:
下記を25ml三ツ口丸底フラスコに導入する:
・Cp2ZrCl2 2.4 10-4モル
・トルエン15ml
・ブチルリチウム4.6 10-3モル
触媒媒体をアルゴン下で室温において1時間撹拌したままにする。
次いで、例1に記載するα,ω−ジメチルヒドロゲノシリルポリジメチルシロ
キサン3g(すなわちヒドロゲノシリル機能6 103モル)及び1−オクテン
13.5g(すなわち0.12 10-1モル)を含有する混合物を加える。
媒体を90℃に7時間保つ。過剰のオクテン及びトルエンを500Paの減圧
下で50℃において除く。
1H NMR及び29Si NMRによる油の分析は、α,ω−オクテニルポリ
メチルシロキサン油が支配的に形成されていることを示す。
ヒドロゲノシリル単位の転化度は95%より大きい。
溶媒としての(CH3)4Siにおける29Si NMR分析は、下記の化学シフ
トδをppm(百万当り
の部)で示す:
例5:
Cp2ZrCl2(0.150g、5.13 10-4モル)及びMg(0.05
2g、2.14 10-3モル)のTHF6ml中のストック溶液からスチレンP
hCH=CH21.3g(すなわち1.25 10-2モル)の存在において、触
媒を調製する。溶液を室温において3時間撹拌し、最終の溶液は、色が赤色にな
る。
a)
上記のストック溶液1.5ml、すなわちCp2ZrCl21.03 10-4モル
(0.030g)、THF5ml、スチレン2.42g(2.32 10-2モル
、すなわち合計で2.58 10-2モル)及び例1のシロキサン化合物5.16
g(5.16g、すなわちSiH1.03 10-2モル)を連続して50ml
Schlenkチューブに導入する。溶液を90℃において10時間加熱する。
透明な溶液が回収される。溶液からTHFを蒸発させた後に、シロキサン油のC
DCl3における 1H NMRは、脱水素縮合により出発油のSi−H結合にス
チレンがトランスグラフトす
ることに相当するプロトン、及び出発油のSi−Hに関係するピークの消失を示
す。下記の平均式のポリジメチルシロキサン油が得られる:
Ph−CH=CH−SiMe2−[SiMe2O]12−SiMe2−CH=CH−
Ph
Si−H結合の転化度は、[Si−H]/[触媒]比=100、[スチレン]/
[SiH]比=2.74について100%である。
b)
同じ実験プロセスを、スチレン5.20g(5 10-2モル、すなわち合計で5
.25 10-2モル)、例1のα,ω−ヒドロゲノジメチルシリルポリジメチル
シロキサン10.2g(SiH2.04 10-2モル)及びTHF15mlの添
加について用いた。
Si−H結合の転化度は、[Si−H]/[触媒]比=198、[スチレン]
/[SiH]比=2.7について100%である。
c)
同じ実験プロセスを、スチレン4.23g(4.07 10-2モル、すなわち
合計で4.33 10-2モル)、平均式:Me3SiO−[SiMe2O]9.1−
[SiMe(H)O]4−SiMe3のα,ω−ポリジメチルメチルヒドロゲノシ
ロキサン油2.88g(すなわちSiH1.07 10-2モル)及びTHF5m
lの添加について用いた。
Si−H結合の転化度は、[SiH]/[触媒]比=103、[スチレン]/
[SiH]比=4.29について100%である。平均式:Me3SiO−[S
iMe2O]9.1−[Si(Me)(−CH=CH−Ph)−O]4−SiMe3の
油が得られる。
d)
同じ実験プロセスを、スチレン8.34g(8 10-2モル、すなわち合計で
8.27 10-2モル)、例5−c)に記載するポリメチルヒドロゲノシロキサ
ン5.56g(すなわちSiH2.06 10-2モル)及びTHF5mlの添加
について用いた。
Si−H結合の転化度は、[SiH]/[触媒]比=200、[スチレン]/
[SiH]比=4.13について100%であり、例5−cに記載するのと同じ
ポリマーが得られる。例6
:
Cp2ZrCl2(0.230g、7.87 10-4モル)及びMg(0.09
9g、4.07 10-3モル)のTHF20ml中のストック溶液から、触媒を
調製する。溶液を室温において24時間撹拌し、最終の溶液は、色が赤色になる
。
次いで、実験プロセスは例5と同じにするが、90℃において反応時間48時
間にする。
a)
ストック溶液2ml(すなわち触媒7.86 10-5
モル)、スチレン1.18g(1.13 10-3モル)、例1に記載するヒドロ
ゲノシリコーン1.86g(SiH3.72 10-3モル)及びTHF5mlを
用いた。
Si−H結合の転化度は、Si−[H]/[触媒]比=47、[スチレン]/
[SiH]比=3について100%である。下記の平均式のポリマーが、実際に
得られる:
Ph−CH=CH−SiMe2−[SiMe2O]12−SiMe2−CH=CH−
Ph
b)
ストック溶液3ml(すなわち触媒1.18 10-4モル)、スチレン17.
8g(0.171モル)、平均式:Me3SiO−[SiMe2O]9.1−[Si
Me(H)O]4−SiMe3のポリジメチルメチルヒドロゲノシロキサン油9.
26g(すなわちSiH3.43 10-2モル)及びTHF15mlを用いた。
Si−H結合の転化度は、[Si−H]/[触媒]比=290、[スチレン]
/[SiH]比=4.98について94%である。
c)
ストック溶液1.5ml(すなわち触媒5.9 10-5モル)、スチレン5.
6g(5.36 10-2モル)、例1に記載するシリコーン9.16(すなわち
SiH1.83 10-2モル)及びTHF10mlを用いた。
Si−H結合の転化度は、[Si−H]/[触媒]比=350、[スチレン]
/[Si−H]比=2.93について100%である。下記の平均式の油が、実
際に選択的に得られる:
Ph−CH=CH−SiMe2−[SiMe2O]12−SiMe2−CH=CH−
Ph例7
:
Cp2ZrCl2(0.105g、3.59 10-4モル)及びMg(0.06
5g、2.67 10-3モル)のTHF5ml中のストック溶液から、触媒を調
製する。溶液を室温において24時間撹拌し、最終の溶液は、色が赤色になる。
THF7ml及び例1に記載するシロキサン油(2.6g、SiH5.2 10-3
モル)をこの溶液2mlに加える。この赤色混合物を、予備乾燥したオートク
レーブ中に減圧下で導入し、エチレン雰囲気下で温度90℃にもたらす。圧力調
節器を装着したエチレンC2H4供給管路は、反応装置内のエチレン圧力を設定し
かつ一定に保つのを可能にする。次いで、この圧力をC2H4 5バールに設定し
、90℃において反応時間12時間にする。
出発油のSi−H結合の転化度は、[Si−H]/
[触媒]比=36について100%である。得られた油の1H NMR及び29S
i NMR分析は、下記の平均式の油が得られることを示す:
H2C=CH−SiMe2−[SiMe2O]12−SiMe2−CH=CH2
SiVi機能のモルパーセンテージは、95%より大きい。例8
:
下記を連続して100ml Schlenkチューブにアルゴン下で導入する
:Cp2ZrCl2 0.048g(1.64 10-4モル);マグネシウム0.
022g(9.5 10-4モル);テトラヒドロフラン10ml;スチレン3.
4g(すなわち3.27 10-2モル);下記の平均式のポリジメチルメチルヒ
ドロゲノシロキサン水素化シリコーン油:
Me3SiO−[SiMe2O]9.1−[SiMe(H)O]4−SiMe3
2.2g(すなわちSiH8.15 10-3モル)。混合物を90℃において1
5時間加熱する。反応混合物を室温に冷却させてNMRによって分析する。得ら
れた油は、ヒドロゲノシリル機能SiHの転化度100%に相当し、下記の平均
式を有する:
Me3SiO−[SiMe2O]9.1−[Si(Me)(−CH=CH−Ph)O
]4−SiMe3。
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フロントページの続き
(51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI
C08G 77/12 C08G 77/12
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1.ケイ素に直接に結合された水素原子(「SiH」)を少なくとも0.1モ ル%含有するポリオルガノヒドロゲノシロキサン(A)を、少なくとも化学量論 量の少なくとも1つのエチレン性又はアセチレン性不飽和を有する炭化水素化合 物(B)と、下記の(I)式の金属複合体からなる脱水素縮合触媒を触媒的に有 効な量で存在させて反応させることを特徴とする不飽和機能を含有するポリオル ガノシロキサンの製造方法: LnMRxYy (I) 式中、 ・Mはチタン、ジルコニウム及びハフニウムから選ぶ金属を表わし; ・記号Lは同じであり又は異なり、金属Mの炭化水素リガンドを表わし、該リガ ンドは該金属の価電子殻にπ電子3〜8を与え; ・nは0〜3の範囲の整数であり; ・記号Rは同じであり又は異なり、金属Mの炭化水素又はオルガノケイ素リガン ドを表わし、該リガンドはσ電子供与体であり; ・記号Yは同じであり又は異なり、金属Mと共に共有結合を形成するリガンドを 表わし; ・xは0〜4の範囲の整数であり; ・yは0〜4の範囲の整数であり; 数n、x及びyのそれぞれの値は、錯化される金属Mの価電子殻における電子の 数が18に等しく又はそれより小さくなるようにする。 2.(B)/(A)モル比が約1.1〜100であることを特徴とする請求項 1の方法。 3.ポリオルガノヒドロゲノシロキサン(A)が、線状、環状或は三次元であ り、かつ下記の(II)式の同じである又は異なる単位を含有することを特徴と する請求項1又は2の方法: R’aHbSiO(4-a-b)/2 (II) 式中、 ・記号R’は同じであり又は異なり、C1〜C18アルキル基、ビニル基或はC6〜 C12アリールもしくはアラルキル基を表わし、これらの基は随意にハロゲン原子 で置換され; ・aは0、1、2、又は3に等しく; ・bは0又は1に等しく; ・a+b=0、1、2、又は3; SiO4/2単位の含量は30モル%より少なく、bが0と異なる(II)式の単 位の数は、該ポリオルガノヒドロゲノシロキサン(A)が、ケイ素に直接に結合 された水素原子(「SiH」)を少なくとも0.1モル%含有するようにする。 4.ラジカルR’の少なくとも60モル%がメチル基 を表わすことを特徴とする請求項3の方法。 5.不飽和炭化水素化合物(B)が、随意に1つ又はそれ以上のハロゲン原子 で及び/又は1つ又はそれ以上のC6〜C12アリール基で置換される、線状もし くは枝分れしたC2〜C24アルケン、C6〜C12シクロアルケン、線状もしくは枝 分れしたC2〜C24アルキン、エチレン性不飽和カルボン酸の飽和エステル、飽 和カルボン酸の不飽和エステル、或はエチレン性もしくはアセチレン性不飽和基 を有するオルガノシランもしくはオルガノシロキサンであることを特徴とする請 求項1〜4のいずれか一の方法。 6.不飽和炭化水素化合物(B)が、エチレン、1−オクテン、1,4−ブタ ジエン、1,5−ヘキサジエン、1,9−デカジエン、CF3−(CF2)0-6( CH2)0-6−CH=CH2式のペルフルオロオレフィン、1,5−シクロオクタ ジエン、アセチレン、1−ヘキシン、スチレン、エチルアクリレート、ビニルト リメチルシラン或は1,3−ジビニルテトラメチルジシロキサンであることを特 徴とする請求項5の方法。 7.(I)式の複合体におけるn、x及びyのそれぞれの値が、錯化される金 属Mの価電子殻における電子の数が8に等しく又はそれより大きくなるようにす ることを特徴とする請求項1〜6いずれか一の方法。 8.(I)式の複合体のリガンドLが、置換されても或は置換されなくてもよ いη3−アリル、η5−シクロ ペンタジエニル或はη7−シクロヘプタトリエニル、及び置換されたもしくは未 置換のη6−芳香族であることを特徴とする請求項1〜7のいずれか一の方法。 9.(I)式の複合体のリガンドRが、C1〜C8アルキル基或はC6〜C12ア リール基であることを特徴とする請求項1〜8のいずれか一の方法。 10.(I)式の複合体のリガンドYが、水素原子、ハロゲン原子或はC1〜C4 アルコキシ基であることを特徴とする請求項1〜9のいずれか一の方法。 11.(I)式の前記複合体が、 ・ビス(シクロペンタジエニル)ジ−1−ブチルジルコニウム ・テトラベンジルジルコニウム ・テトラネオペンチルジルコニウム ・ブトキシトリス((トリメチルシリル)メチル)ジルコニウム ・ジノルボルニルジメチルチタン ・ビス(シクロペンタジエニル)ジメチルジルコニウム ・シクロペンタジエニルトリベンジルジルコニウム ・シクロペンタジエニルトリメチルチタン ・シクロペンタジエニルトリメチルジルコニウム ・ビス(シクロペンタジエニル)ジネオペンチルチタン ・シクロペンタジエニルジフェニルイソプロポキシジルコニウム ・((トリメチルシリル)シクロペンタジエニル)トリ メチルジルコニウム ・ビス(シクロペンタジエニル)ビス(トリメチルシリル)ジルコニウム ・ビス(シクロペンタジエニル)ジヒドロゲノジルコニウム ・ビス(シクロペンタジエニル)ジヒドロゲノチタン ・ビス(シクロペンタジエニル)クロロヒドロゲノジルコニウム ・ビス(シクロペンタジエニル)ブチルヒドロゲノジルコニウム ・ビス(シクロペンタジエニル)メチルヒドロゲノジルコニウム であることを特徴とする請求項8〜10のいずれか一の方法。 12.(I)式の前記複合体を、ポリオルガノヒドロゲノシロキサン(A)10 0モル当り約1 10-5〜0.5モルの量で用いることを特徴とする請求項1〜 11のいずれか一の方法。 13.(I)式の前記複合体を、ポリオルガノヒドロゲノシロキサン(A)10 0モル当り約1 10-4〜0.1モルの量で用いることを特徴とする請求項12 の方法。 14.(I)式の複合体を、下記:THF(テトラヒドロフラン)の存在におけ るマグネシウム;飽和炭化水素中に溶解しているアルキルリチウム;Li−、N a−或 はK−M(M=ナフタレン);M’BH4 (M’=Li、Na或はK);アル キル−Mg−ハロゲン化合物;NaAlH2(OCH2CH2OCH3)2;LiA lH4、LiAlH(アルコキシ)3;LiHBR3;MgH2;Al;Zn;Al Cl3-z(R)z(zは0〜2の範囲の整数である)から形成される群から選ぶ還 元剤を用いて適したプリカーサーを化学的に還元することによって調製すること を特徴とする請求項1〜13のいずれか一の方法。
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