JPH11513999A - 再分配反応を実施するオルガノシランの改良製造法 - Google Patents

再分配反応を実施するオルガノシランの改良製造法

Info

Publication number
JPH11513999A
JPH11513999A JP10501298A JP50129898A JPH11513999A JP H11513999 A JPH11513999 A JP H11513999A JP 10501298 A JP10501298 A JP 10501298A JP 50129898 A JP50129898 A JP 50129898A JP H11513999 A JPH11513999 A JP H11513999A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
redistribution
formula
chlorinated
catalyst
group
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP10501298A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3182154B2 (ja
Inventor
カタラ,マクス
コラン,パスカル
ダルダル,ミシェル
イゲルシェイム,フランソワーズ
Original Assignee
ロディア シミ
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by ロディア シミ filed Critical ロディア シミ
Publication of JPH11513999A publication Critical patent/JPH11513999A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3182154B2 publication Critical patent/JP3182154B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F7/00Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
    • C07F7/02Silicon compounds
    • C07F7/08Compounds having one or more C—Si linkages
    • C07F7/20Purification, separation
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F7/00Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
    • C07F7/02Silicon compounds
    • C07F7/08Compounds having one or more C—Si linkages
    • C07F7/12Organo silicon halides
    • C07F7/121Preparation or treatment not provided for in C07F7/14, C07F7/16 or C07F7/20
    • C07F7/125Preparation or treatment not provided for in C07F7/14, C07F7/16 or C07F7/20 by reactions involving both Si-C and Si-halogen linkages, the Si-C and Si-halogen linkages can be to the same or to different Si atoms, e.g. redistribution reactions

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Silicon Compounds (AREA)
  • Silicon Polymers (AREA)

Abstract

(57)【要約】 式(1)(R)a(H)bSiCl4-a-bの塩素化オルガノヒドロシランと、式(2)(R’)cSiCl4-cの有機置換されそして随意に塩素化されたシランとの間の再分配反応(前記式において、a=1又は2、b=1又は2、a+b=3、c=1、2、3又は4、そして記号R及びR’は同種又は異種であって、それぞれ、線状若しくは分岐状C1〜C6アルキル基又はC2〜C12アリール基を表す)を、式(3)M(X)dのルイス酸(ここで、MはTi、Fe、Cu、Ag、Zn、Cd、Hg、Al、Ga、In、B、Sn、Pb、Sb及びBiから選択される金属を表し、Xはハロゲン原子を表し、そしてdは金属Mの原子価である)よりなる触媒の有効量の存在下に行ない、そして再分配によって生成された塩素化オルガノヒドロシランを蒸留によって分離することを含むオルガノシロキサンの製造法において、再分配後に、再分配触媒を抑制する少なくとも1種の化合物を導入し、この化合物は、次の規定:それは、25℃においてせいぜい5000mPa.s の粘度を有する流体ポリオルガノシロキサン(略語POS)から選択されること、及びそれは、比率r=触媒によって与えられ金属Mのグラム原子の数/抑制剤によって与えられる酸素のグラム原子の数が0.9を越えないこと、を満たすことを特徴とするオルガノシロキサンの改良製造法。

Description

【発明の詳細な説明】 再分配反応を実施するオルガノシランの改良製造法発明の分野 本発明の課題はオルガノシランの改良製造法であり、そして特に、本発明は、 いわゆる再分配反応がかかわるところのオルガノシランの改良取得法に関するも のである。より具体的に言えば、本発明は、再分配された塩素化オルガノヒドロ シラン(これは、反応混合物から蒸留によって抽出される)を含む生成物をもた らすために塩素化オルガノヒドロシランと有機置換されそして随意に塩素化され たシランとの間の再分配反応がかかわるところのオルガノシランの改良取得法に 関する。 限定されるものではないが、本発明は、特には、再分配されたジアルキルヒド ロクロルシランを含む生成物をもたらすためにアルキルヒドロジクロルシランと トリアルキルクロルシランとの間の再分配反応を目的とするものである。この再 分配されたジアルキルヒドロクロルシランは、多くの様々な用途、例えば、オル ガノシラン単量体又はより凝縮されたベース化合物の製造において特に価値を有 する合成剤である。 ジアルキルヒドロクロルシランは、銅触媒の存在下にアルキルクロリドを珪素 と反応させてアルキルクロルシランを生成することよりなる慣用の周知法に従っ たアルキルクロルシランの合成からの副生物のうちの1つである。この合成では 、ジアルキルジクロルシランが主生成物である。上記の目的とするジアルキルヒ ドロクロルシラン副生物の他に、トリアルキルクロルシラン、アルキルトリクロ ルシラン及びアルキルヒドロジクロルシランタイプの化合物も得られる。 シリコーン特にジメチルヒドロクロルシランの如きジアルキルヒドロクロルシ ランの化学におけるこれらの副生物の産業的興味の故に、これらの副生物を得る ための方法に対して多数の提案がなされてきた。これに関して有効であることが 実証された数少ないもののうちの1つは、例えば、アルキルヒドロジクロルシラ ンとトリアルキルクロルシランとの間、又はアルキルヒドロジクロルシランとテ トラアルキルシランとの間の再分配反応を実施することよりなるものである。こ の再分配は、目的とするジアルキルヒドロクロルシラン(これらは、反応混合物 から蒸留によって抽出される)をもたらす。 これに関連して、ルイス酸のような種々の触媒の存在下に珪素−アルキル、珪 素−塩素又は珪素−水素結合を切断して再分配するオルガノシランの多数の再分 配反応が知られている。フランス特許FR−A−2119477は、この技術を 再分配/蒸留によるジアルキルヒドロクロルシランの製造について明確に例証し ている。この特許の教示に従えば、AlCl3によって形成される触媒の存在下 にメチルヒドロジクロルシラン及びトリメチルクロルシランが0.5程度のメチ ルヒドロジクロルシラン/トリメチルクロルシランモル比で反応される。反応混 合物は、3〜5×105Pa程度の自然圧下に反応器に入れられそして85〜1 70℃程度の温度で数時間維持される。本件出願人等はこの従来技術の方法を反 復し、そして再分配されたジメチルヒドロクロルシランを反応混合物から分離す るためにプロセスの終わりに実施される蒸留の収率が通常は低くそしてほぼ71 %でピークになることを観察した。 この現状の知識において、本発明の主要目的のうちの1つは、再分配された塩 素化オルガノヒドロシロキサン(これは、蒸留によって反応混合物から抽出され る)を含む生成物をもたらすために塩素化オルガノヒドロシロキサンと有機置換 されそして随意に塩素化されたシランとの間の再分配反応がかかわるオルガノシ ロキサンの改良取得法を開発することよりなり、しかして、この方法は、公知の 再分配/蒸留法の蒸留収率よりも著しく優れた、最終目的生成物である再分配さ れた塩素化オルガノヒドロシランの蒸留収率によって特徴づけられる。 本発明の他の主要目的は、上記の目的とするタイプの方法であって、しかも実 施するのが特に簡単であり且つ経済的でもある方法を提供することである。 これらの目的及びその他の目的をすべて達成することができるようにするため に、本件出願人等は、蒸留の間に触媒によって誘発される副反応現象を実証する 功績を立てた。これは、例えばAlCl3のような従来の再分配反応触媒が再分 配によって生成される塩素化オルガノヒドロシランの不均化反応を触媒すること を実証することができたためである。このような不均化は、かかる再分配生成物 を、一方において、随意に塩素化されたオルガノヒドロシランタイプの副生物に 、そして他方において、塩素化されたオルガノシランタイプの副生物に転化する 。それは、例えば Me2HSiClがこの不均化副反応によってどのようにして Me2SiH2及びMe2SiCl2に転化されるかを示す(記号Meは一価CH3 基を表す)。 このような現象は、例えば Me2HSiClのような再分配された塩素化オル ガノヒドロシランの収率に完全に有害になることが明らかである。 本件出願人等の功績は、公知の再分配/蒸留反応に存在する技術上の問題につ いてのこの発見に限定されなかった。これは、全く驚いたことに且つ予想外にも 、再分配触媒が一旦その役割をかかる方法の最初の段階で果たした後に、かかる 再分配触媒を抑制することによって不均化副反応を減少しそして実際には排除す る手段も見い出したためである。 従って、本発明は、 ・式(1)(R)a(H)bSiCl4-a-bの塩素化オルガノヒドロシランと、式 (2)(R’)cSiCl4-cの有機置換されそして随意に塩素化されたシランと の間の再分配反応(前記式において、a=1又は2、b=1又は2、a+b=3 、c=1、2、3又は4、そして記号R及びR’は同種又は異種であって、それ ぞれ、線状若しくは分岐状C1〜C6アルキル基又はC2〜C12アリール基を表す )を、式(3)M(X)dのルイス酸(ここで、Mは、Ti、Fe、Cu、Ag 、Zn、Cd、Hg、Al、Ga、In、B、Sn、Pb、Sb及びBiから選 択される金属を表し、Xはハロゲン原子を表し、そしてdは金属Mの原子価であ る)よりなる触媒の有効量の存在下に行ない、そして ・再分配によって生成された塩素化オルガノヒドロシランを蒸留によって分離す る、 ことを含むオルガノシロキサンの製造法において、 再分配後に、再分配触媒を抑制する少なくとも1種の化合物を導入し、この化 合物は、次の規定、 ・それは、25℃においてせいぜい5000mPa.s の粘度を有する流体ポリオル ガノシロキサン(略語POS)から選択されること、 ・それは、比率r が0.9以下になるような割合で使用されること、 を満たすことを特徴とするオルガノシロキサンの改良製造法に関するものである 。 本発明に従えば、再分配触媒が一旦その機能を果たした後に、その抑制が利用 される。この触媒活性の中和は、蒸留の間に通常起こる不均化副反応をできるだ け減少し、そして実際には排除することを可能にする。かくして、目的とする再 分配された塩素化オルガノヒドロシランが蒸留の終わりに従来よりも良好な収率 で生成される。 上記の比率rが特に0.6〜0.9の範囲内にあるような割合で抑制剤化合物 が使用されるときに他の極めて有益な作用効果を認めることができ、そしてこれ が本発明の好ましい具体例を構成する。 この他の極めて有益な作用効果は、蒸留残留物中における固体物質(これらは 、均質な外観を有する)の出現及び付着の排除よりなる。抑制剤化合物の不在の 場合、又は抑制剤化合物の不十分な割合(0.9よりも大きいrの値に相当する )の使用の場合、或いは抑制剤化合物の過度に高い割合(0.6よりも小さいr の値に相当する)の使用の場合には、その結果は、固体物質の出現及び付着によ って二相外観を有する蒸留残留物の生成である。本件出願人等は、これらの固体 物質は、抑制剤化合物の不十分な割合の使用の場合には触媒粒子であり、そして 抑制剤化合物の過度に高い割合の使用の場合には触媒及び抑制剤シリコーン化合 物から形成された錯体の非晶質結晶になる可能性があると信じる。 抑制剤シリコーン化合物は、 (i)下記の式(4)の単位よりなる線状又は実質上線状のPOSであって、 鎖の一端が式(5)の単位によってそして他端が式(6)の単位によって停止さ れたPOS、 (2i)式(4)の単位よりなる環状POS、 (3i)幾つかの種(i)又は(2i)の互いの混合物 (4i)1つ以上の種(i)と1つ以上の種(2i)との混合物 であってよく、そして上記式において、 ・記号R1は同種又は異種であって、それぞれ、1個又はそれ以上のハロゲンに よって随意に置換される線状若しくは分岐状C1〜C8アルキル基、例えば、メチ ル、エチル、プロピル、オクチル若しくは3,3,3−トリフルオルプロピル、 C5〜C8アルキル基、例えば、シクロヘキシル若しくはシクロヘプチル、又は、 C6〜C12アリール部分及びC1〜C4アルキル部分を有しそして芳香族部分で1 個又はそれ以上のハロゲン、C1〜C3アルキル及び/又はC1〜C3アルコキシに よって随意に置換されるC6〜C12アリール基若しくはアルカリール基、例えば 、フェニル、キシリル、トリル、ベンジル、フェニルエチル、クロルフェニル又 はジクロルフェニルを表し、 ・記号Yは同種又は異種であって、それぞれ、R1基又はOR2基(ここで、R2 は水素原子又は線状若しくは分岐状C1〜C3アルキル基である)のどちらかを表 す。 線状POS(i)は、式(4)、(5)及び(6)の単位以外の単位、例えば 式R1SiO3/2(T)及び/又はSiO2(Q)の単位を3%よりも多く有しな いPOSを意味するものと理解されたい。示される%は、100個の珪素原子当 たりのT及び/又はQ単位の数を表す。 抑制剤シリコーン化合物は、せいぜい1000 mPa.sの25℃での粘度を有し そしてその記号R1の数の少なくとも60%がメチル基を表すところのタイプ( i)、(2i)、(3i)又は(4i)の流体よりなるのが好ましい。 極めて好適な抑制剤シリコーン化合物の例は、 ・線状POS(i)として、鎖端の各々がトリメチルシロキシ単位[式(4)、 (5)及び(6)において、R1=Y=CH3]によって又はヒドロキシル基[式 (4)、(5)及び(6)において、R1=CH3、Y=OH]によってブロック されそして5〜300 mPa.sの25℃での粘度を有するポリジメチルシロキサン 、 ・環状POS(2i)として、式(4)(R1=CH3)の3〜9個の単位を示す 還式ポリジメチルシロキサン、及び ・(3i)又は(4i)タイプのそれらの種々の可能な混合物、 である。 本発明の方法において触媒として使用されるルイス酸は、好ましくは、塩化物 及び臭化物である。 極めて好適な触媒の例は、TiCl4、FeCl3、CuCl、AgCl、Zn Cl2、AlCl3、SnCl2、BiCl3及びそれらの種々の混合物である。特 によく適合する触媒はAlCl3である。 触媒は、出発時に仕込まれる式(1)及び(2)のシリコーンの総重量に対し て一般には0.1〜10重量%そして好ましくは0.5〜5重量%の範囲内の重 量割合で使用される。特に好ましい重量割合は、同じ基準に関して1〜4重量% の範囲内のものである。 本発明に従った方法の他の重要なパラメーターは、抑制剤シリコーン化合物が 導入される時にかかわる。いずれにしても、それは、再分配が完了しているとき に導入されるのが好ましい。 更に、再分配反応は一般には50℃〜200℃の温度で実施されること(有益 には、自然圧下に)、及び反応混合物は続いて蒸留前に冷却されることが知られ ているが、 ・冷却前に再分配温度において、又は ・反応混合物をこの冷却温度に戻した後に、又は ・かかる冷却の前後、 のどちらかで抑制剤化合物の導入を行うことが可能である。 これに関連して、本発明に従った方法の2つの好ましい具体例を以下に記載す る。 第一の具体例に従えば、 ・再分配反応が、50〜200℃好ましくは80〜150℃の温度においてそし て有益下には自然圧下に実施され、 ・続いて、反応混合物が、40℃未満、好ましくは30℃未満、そしてより好ま しくは10〜30℃の温度に冷却され、 ・次いで、抑制剤シリコーン化合物が導入され、そして ・最後に、再分配によって生成された目的とする塩素化オルガノヒドロシロキサ ンが蒸留によって分離される。 第二の具体例に従えば、 ・再分配反応が、50〜200℃好ましくは80〜150℃の温度においてそし て有益下には自然圧下に実施され、 ・抑制剤シリコーン化合物が導入されて再分配が停止され、 ・続いて、反応混合物が、40℃未満、好ましくは30℃未満、そしてより好ま しくは10〜30℃の温度に冷却され、 そして ・最後に、目的とする塩素化オルガノヒドロシロキサンが蒸留によって分離され る。 方法のパラメーター(時間、温度、圧力)に関して言えば、本発明の意図を明 確にするために、再分配温度は例えば90〜120℃程度であるのが極めて有益 でありそして理想圧は3〜5×105Pa前後であることが特定化されよう。再分 配反応の時間は、反応の化学量論及び温度に左右される。一例として、それは1 〜3時間程度であると記載することが可能である。 再分配後の反応混合物の冷却は15℃程度の温度に相当することが特に好まし い。 抑制剤を導入する前に、反応混合物は、必要ならば、例えば、ガス抜きによっ て大気圧に戻される。 抑制剤シリコーン化合物は、例えば1分又は数十分間にわたって、例えば20 〜30分間にわたって徐々に導入されるのが有益である。抑制剤化合物の添加は 、一般には、温度の僅かな上昇、並びにかなりのガス発生そして場合によっては 白色沈殿の生成をもたらす。 かくして、次の段階は、好ましくは大気圧での蒸留であり、これは、抑制剤シ リコーン化合物の使用量に依存して所望の再分配塩素化オルガノヒドロシラン及 び二相又は均質蒸留残留物を含む蒸留物をもたらす。 反応させられる2種のシラン、即ち、式(1)の塩素化オルガノヒドロシラン 及び式(2)の有機置換されそして随意に塩素化されたシランに関して言えば、 記号R及びR’は、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル 、ヘキシル、フェニル、ナフチル及びジフェニル基から選択されることができる ことが理解されよう。 記号R及びR’は好ましくは同種又は異種であって、それぞれ、線状若しくは 分岐状C1〜C3アルキル基又はフェニル基を表す。 いずれにしても、特に好ましい記号R及びR’は同種又は異種であって、それ ぞれ、メチル又はフェニルを表す。 本発明に従った方法は、式RHSiCl2の塩素化オルガノヒドロシラン(1 )と式 R’3SiCl(この場合には、a=1、b=1及びc=3)の有機置換 塩素化シラン(2)との間の再分配反応の実施によく適合し、しかしてこれらの 式において記号R及びR’は、本発明の記載では、式(1)及び(2)に関して 先に記載した一般的な意味を有する。 本発明に従った方法は、記号R及びR’が同種又は異種であって、それぞれ、 線状若しくは分岐状C1〜C3アルキル基又はフェニル基を表す式RHSiCl2 の塩素化オルガノヒドロシラン(1)と式 R’3SiCl(この場合には、a= 1、b=1及びc=3)の有機置換塩素化シラン(2)との間の再分配反応の実 施に特によく適合する。 本発明に従った方法は、記号R及びR’が同種又は異種であって、それぞれ、 メチル又はフェニル基を表す式RHSiCl2の塩素化オルガノヒドロシラン( 1)と式 R’3SiClの有機置換塩素化シラン(2)との間の再分配反応の実 施に特によく適合する。 一般には、本発明に従った方法を実施するに際しては、式(1)の塩素化オル ガノヒドロシラン型の反応体は、式(1)の塩素化オルガノヒドロシラン型の反 応体+式(2)の有機置換され随意に塩素化されたシランの混合物に関して少な くとも10モル%の割合で再分配反応の媒体中に存在させることができる。 好ましくは、モル比 は0.1〜2である。より好ましくは、このモル比は0.3〜0.7である。 再分配反応に関連して、本発明に従った方法は、例えば出発シランとしてMe HSiCl2及びMe3SiClが関与しそして最後に、再分配によって生成され そしてMe2HSiClよりなる塩素化オルガノヒドロシラン及び化合物Me2S iCl2が回収されるところの再分配反応の実施に特によく適合する。このシラ ンMe2SiCl2は本質的には再分配反応の生成物であるが、しかしそれは、先 に記載した不均化副反応が起こり、ここで再分配されたシラン Me2HSiCl の一部分がMe2SiH2及びMe2SiCl2に転化された場合にはかかる不均化 反応から生じることもできることを理解されたい。 本発明に従った方法は、合成操作手順(再分配/蒸留)を簡素化しながら再分 配された塩素化オルガノヒドロシラン(例えば、Me2HSiCl)の収率を有 意に向上させることを可能にする。 本発明の方法の実施に使用される装置は、当業者の範囲内に完全に入る慣用の 化学エンジニアリング装置である。 以下の実施例は、得られる収率の向上を比較試験によって強調することによっ て本発明の方法の別の具体例及び利益(加工性)をすべてよりよく理解するのを 可能にするであろう。実施例 (A)使用した抑制剤シリコーン化合物: ・POS 1:25℃で50mPa.sの粘度を有し、式 を有し、そして次の特性:実測分子量=283.3g;油1モル 当たりの酸素原子の数=4.59を有するα,ω−ジヒドロキシ ル化線状ポリジメチルシロキサン油 ・POS 2:4個のジメチルシロキシ単位を含み、25℃で2 mPa.s の粘度 を有し、そして次の特性:実測分子量296g;油1モル当たり の酸素原子の数=4を有する環式ポリジメチルシロキサン油 ・POS 3:5個のジメチルシロキシ単位を含み、25℃で2.5 mPa.sの 粘度を有し、そして次の特性:実測分子量=370g;油1モル 当たりの酸素原子の数=5を有する環式ポリジメチルシロキサン 油 (B)手順: (I)触媒を抑制しない試験: 比較例1 窒素で前もってパージした2リットルのステンレス鋼製反応器に、0.5のM eH/Me3モル比を得るために913gのMe3SiCl及び483gのMeH SiCl2を仕込む。この混合物に触媒、即ち、42gの無水塩化アルミニウム を添加する。反応器を閉じ、そして圧力を窒素で10×105Paにそして大気 圧の値に調節する。ラッシュトン(Rushton)タービンによって撹拌を行う。撹 拌速度は、1000回転/分に設定される。加熱を100℃まで実施すると、圧 力は4.5×105Paに低下する。温度を100℃で2時間維持する。反応器 を20℃に冷却し、そしてガス抜きによって1.5〜2×105Paの残留圧を 除去する。大気圧での蒸留によって、193gのMe2HSiCl及び3重量% の塩化アルミニウムを含む1387gの反応混合物を分離する。ジメチルヒドロ クロルシランを含む蒸留物、及びAlCl3が懸濁した不均質蒸留残留物が得ら れる。 蒸留物及び残留物を気相クロマトグラフィーによって分析する。蒸留物中のM e2HSiCl:136g。 (II)触媒を抑制する試験: 例1 窒素で前もってパージした2リットルのステンレス鋼製反応器に、0.5の MeH/Me3モル比を得るために915gのMe3SiCl及び483gのMe HSiCl2を仕込む。 この混合物に触媒、即ち、42gの無水塩化アルミニウムを添加する。反応器 を閉じ、そして圧力を窒素で10×105Paに次いで大気圧の値に調節する。 ラッシュトンタービンによって撹拌を行う。撹拌速度は、1000回転/分に設 定される。加熱を100℃まで実施すると、圧力は4.5×105Paに低下す る。温度を100℃で2時間維持する。反応器を20℃に冷却する。ガス抜きに よって1.5〜2×105Paの残留圧を除去する。反応器に149gの抑制剤 化合物POS1を20分間にわたって導入する。温度が18.5℃に上昇する。 かなりのガス発生及び白色沈殿の形成が認められる。大気圧での蒸留によって、 185.7gのMe2HSiCl及び不活性触媒を含む1557gの反応混合物 を分離する。ジメチルヒドロクロルシランを含む蒸留物及び二相蒸留残留物が得 られる。 蒸留物及び残留物を気相クロマトグラフィーによって分析する。蒸留物中のM e2HSiCl:185g。 例2 窒素で前もってパージした2リットルのステンレス鋼製反応器に、0.5の MeH/Me3モル比を得るために915gのMe3SiCl及び483gのMe HSiCl2を仕込む。 この混合物に触媒、即ち、42gの無水塩化アルミニウムを添加する。反応器 を閉じ、そして圧力を窒素で10×105Paに次いで大気圧の値に調節する。 ラッシュトンタービンによって撹拌を行う。撹拌速度は、1000回転/分に設 定される。加熱を100℃まで実施すると、圧力は4.5×105Paに低下す る。温度を100℃で2時間維持する。反応器を15℃に冷却する。ガス抜きに よって1.5×105Paの残留圧を除去する。反応器に66gの抑制剤化合物 POS1を20分間にわたって導入する。温度が18.5℃に上昇する。かなり のガス発生及び白色沈殿の形成が認められる。大気圧での蒸留によって、199 .6gの Me2HSiCl及び不活性触媒を含む1476gの反応混合物を分離 する。ジメチルヒドロクロルシランを含む蒸留物及び二相蒸留残留物が得られる 。 蒸留物及び残留物を気相クロマトグラフィーによって分析する。蒸留物中のM e2HSiCl:199g。 例3 窒素で前もってパージした2リットルのステンレス鋼製反応器に、0.5の MeH/Me3モル比を得るために915gのMe3SiCl及び483gのMe HSiCl2を仕込む。 この混合物に触媒、即ち、42gの無水塩化アルミニウムを添加する。反応器 を閉じ、そして圧力を窒素で10×105Paに次いで大気圧の値に調節する。 ラッシュトンタービンによって撹拌を行う。撹拌速度は、1000回転/分に設 定される。加熱を100℃まで実施すると、圧力は4.5×105Paに低下す る。温度を100℃で2時間維持する。反応器に58.5gの抑制剤化合物PO S3を10分間にわたって導入する。圧力の上昇は全く記録されない。しかる後 に、反応器を20℃に冷却する。ガス抜きによって1.5〜2×105Paの残 留圧を除去する。大気圧での蒸留によって、196.8gの Me2HSiCl及 び不活性触媒を含む1462gの反応混合物を分離する。ジメチルヒドロクロル シランを含む蒸留物及び二相蒸留残留物が得られる。 蒸留物及び残留物を気相クロマトグラフィーによって分析する。蒸留物中のM e2HSiCl:196.4g。 例4 窒素で前もってパージした2リットルのステンレス鋼製反応器に、0.5の MeH/Me3モル比を得るために915gのMe3SiCl及び483gのMe HSiCl2を仕込む。 この混合物に触媒、即ち、42gの無水塩化アルミニウムを添加する。反応器 を閉じ、そして圧力を窒素で10×105Paに次いで大気圧の値に調節する。 ラッシュトンタービンによって撹拌を行う。撹拌速度は、1000回転/分に設 定される。加熱を100℃まで実施すると、圧力は4.5×105Paに低下す る。温度を100℃で2時間維持する。反応器を20℃に冷却する。ガス抜きに よって1.5×105Paの残留圧を除去する。反応器に46.2gの抑制剤化 合物POS2を10分間にわたって導入する。ガスの発生なしに僅かな発熱が認 められる。大気圧での蒸留によって、206gの Me2HSiCl及び不活性触 媒を含む1416gの反応混合物を分離する。ジメチルヒドロクロルシランを含 む蒸留物及び二相蒸留残留物が得られる。 蒸留物及び残留物を気相クロマトグラフィーによって分析する。蒸留物中のM e2HSiCl:200g。 例5 窒素で前もってパージした2リットルのステンレス鋼製反応器に、0.5の MeH/Me3モル比を得るために915gのMe3SiCl及び483gのMe HSiCl2を仕込む。 この混合物に触媒、即ち、42gの無水塩化アルミニウムを添加する。反応器 を閉じ、そして圧力を窒素で10×105Paに次いで大気圧の値に調節する。 ラッシュトンタービンによって撹拌を行う。撹拌速度は、1000回転/分に設 定される。加熱を100℃まで実施すると、圧力は5×105Paに低下する。 温度を100℃で2時間維持する。反応器に45gの抑制剤化合物POS3を1 0分間にわたって導入する。しかる後に、反応器を20℃に冷却する。ガス抜き によって1.5〜2×105Paの残留圧を除去する。大気圧での蒸留によって 、194.3gの Me2HSiCl及び不活性触媒を含む1424gの反応混合 物を分離する。ジメチルヒドロクロルシランを含む蒸留物及び二相蒸留残留物が 得られる。 蒸留物及び残留物を気相クロマトグラフィーによって分析する。蒸留物中のM e2HSiCl:190.4g。 例6 窒素で前もってパージした2リットルのステンレス鋼製反応器に、0.5の MeH/Me3モル比を得るために915gのMe3SiCl及び491gのMe HSiCl2を仕込む。 この混合物に触媒、即ち、42gの無水塩化アルミニウムを添加する。反応器 を閉じ、そして圧力を窒素で10×105Paに次いで大気圧の値に調節する。 ラッシュトンタービンによって撹拌を行う。撹拌速度は、1000回転/分に設 定される。加熱を100℃まで実施すると、圧力は5×105Paに低下する。 温度を100℃で2時間維持する。反応器に36gの抑制剤化合物POS3を1 0分間にわたって導入する。しかる後に、反応器を20℃に冷却する。ガス抜き によって1.5〜2×105Paの残留圧を除去する。大気圧での蒸留によって 、71gの Me2HSiCl及び不活性触媒を含む543gの反応混合物を分離 する。ジメチルヒドロクロルシランを含む蒸留物及び不均質蒸留残留物が得られ る。 蒸留物及び残留物を気相クロマトグラフィーによって分析する。蒸留物中のM e2HSiCl:69.3g。 比較例2 窒素で前もってパージした2リットルのステンレス鋼製反応器に、0.5の MeH/Me3モル比を得るために909gのMe3SiCl及び476gのMe HSiCl2を仕込む。 この混合物に触媒、即ち、42gの無水塩化アルミニウムを添加する。反応器 を閉じ、そして圧力を窒素で10×105Paに次いで大気圧の値に調節する。 ラッシュトンタービンによって撹拌を行う。撹拌速度は、1000回転/分に設 定される。加熱を100℃まで実施すると、圧力は5×105Paに低下する。 温度を100℃で2時間維持する。反応器に23.7gの抑制剤化合物POS3 を10分間にわたって導入する。しかる後に、反応器を20℃に冷却する。ガス 抜きによって1.5〜2×105Paの残留圧を除去する。大気圧での蒸留によ って、73.5gの Me2HSiCl及び不活性触媒を含む518gの反応混合 物を分離する。ジメチルヒドロクロルシランを含む蒸留物及び二相蒸留残留物が 得られる。 蒸留物及び残留物を気相クロマトグラフィーによって分析する。蒸留物中のM e2HSiCl:41.2g。 得られた結果を次の表1に要約する。RVは蒸留収率を表す。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 EP(AT,BE,CH,DE, DK,ES,FI,FR,GB,GR,IE,IT,L U,MC,NL,PT,SE),OA(BF,BJ,CF ,CG,CI,CM,GA,GN,ML,MR,NE, SN,TD,TG),AP(GH,KE,LS,MW,S D,SZ,UG,ZW),UA(AM,AZ,BY,KG ,KZ,MD,RU,TJ,TM),AL,AU,BA ,BB,BG,BR,CA,CN,CU,CZ,EE, GE,HU,IL,IS,JP,KP,KR,LC,L K,LR,LT,LV,MG,MK,MN,MX,NO ,NZ,PL,RO,SG,SI,SK,TR,TT, UA,US,UZ,VN (72)発明者 イゲルシェイム,フランソワーズ フランス国 エフ69003 リヨン,リュ ムワソニエ,7

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1. ・式(1)(R)a(H)bSiCl4-a-bの塩素化オルガノヒドロシラ ンと、式(2)(R’)cSiCl4-cの有機置換されそして随意に塩素化された シランとの間の再分配反応(前記式において、a=1又は2、b=1又は2、a +b=3、c=1、2、3又は4、そして記号R及びR’は同種又は異種であっ て、それぞれ、線状若しくは分岐状C1〜C6アルキル基又はC2〜C12アリール 基を表す)を、式(3)M(X)dのルイス酸(ここで、MはTi、Fe、Cu 、Ag、Zn、Cd、Hg、Al、Ga、In、B、Sn、Pb、Sb及びBi から選択される金属を表し、Xはハロゲン原子を表し、そしてdは金属Mの原子 価である)よりなる触媒の有効量の存在下に行ない、そして ・再分配によって生成された塩素化オルガノヒドロシランを蒸留によって分離す る、 ことを含むオルガノシロキサンの製造法において、 再分配後に、再分配触媒を抑制する少なくとも1種の化合物を導入し、この化 合物は、次の規定、 ・それは、25℃においてせいぜい5000mPa.s の粘度を有する流体ポリオル ガノシロキサン(略語POS)から選択されること、 ・それは、比率r が0.9以下になるような割合で使用されること、 を満たすことを特徴とするオルガノシロキサンの改良製造法。 2. 抑制剤シリコーン化合物は、比率rが0.6〜0.9の範囲内にあるよ うな割合で使用されることを特徴とする請求項1記載の方法。 3. 抑制剤シリコーン化合物が、 (i)下記の式(4)の単位よりなる線状又は実質上線状のPOSであって、 鎖の一端が式(5)の単位によってそして他端が式(6)の単位によって停止さ れたPOS、 (2i)式(4)の単位よりなる環状POS、 (3i)幾つかの種(i)又は(2i)の互いの混合物 (4i)1種以上の種(i)と1種以上の種(2i)との混合物 であってよく、そして上記式において、 ・記号R1は同種又は異種であって、それぞれ、1個又はそれ以上のハロゲンに よって随意に置換される線状若しくは分岐状C1〜C8アルキル基、C5〜C8アル キル基、又は、C6〜C12アリール部分及びC1〜C4アルキル部分を有しそして 芳香族部分で1個又はそれ以上のハロゲン、C1〜C3アルキル及び/又はC1〜 C3アルコキシによって随意に置換されるC6〜C12アリール基若しくはアルカリ ール基を表し、 ・記号Yは同種又は異種であって、それぞれ、R1基又はOR2基(ここで、R2 は水素原子又は線状若しくは分岐状C1〜C3アルキル基である)のどちらかを表 す、 であってよいことを特徴とする請求項1又は2記載の方法。 4. 抑制剤シリコーン化合物が、せいぜい1000 mPa.sの25℃での粘度 を有しそしてその記号R1の数の少なくとも60%がメチル基を表すところのタ イプ(i)、(2i)、(3i)又は(4i)の流体よりなることを特徴とする 請求項3記載の方法。 5. 触媒として使用されるルイス酸が塩化物及び臭化物であることを特徴と する請求項1〜4のいずれか一項記載の方法。 6. 触媒が、TiCl4、FeCl3、CuCl、AgCl、ZnCl2、A lCl3、SnCl2、BiCl3及びそれらの種々の混合物によって形成される 群 から選択されることを特徴とする請求項5記載の方法。 7. 触媒が、出発時に仕込まれる式(1)及び(2)のシランの総重量に対 して0.1〜10重量%の範囲内の重量割合で使用されることを特徴とする請求 項1〜6のいずれか一項記載の方法。 8. ・再分配反応が50〜200℃の温度においてそして有益下には自然圧 下に実施され、 ・続いて、反応混合物が40℃未満の温度に冷却され、 ・次いで、抑制剤シリコーン化合物が導入され、そして ・最後に、再分配によって生成された目的とする塩素化オルガノヒドロシロキサ ンが蒸留によって分離される、 ことを特徴とする請求項1〜7のいずれか一項記載の方法。 9.・再分配反応が50〜200℃の温度においてそして有益下には自然圧下 に実施され、 ・抑制剤シリコーン化合物が導入されて再分配が停止され、 ・続いて、反応混合物が40℃未満の温度に冷却され、そして ・最後に、目的とする塩素化オルガノヒドロシロキサンが蒸留によって分離され る、 ことを特徴とする請求項1〜7のいずれか一項記載の方法。 10. 反応させられる2種のシラン、即ち、式(1)の塩素化オルガノヒド ロシラン及び式(2)の随意に塩素化されたシランに関して、記号R及びR’は 同種又は異種であって、それぞれ、線状若しくは分岐状C1〜C3アルキル基又は フェニル基を表すことを特徴とする請求項1〜9のいずれか一項記載の方法。 11. 再分配反応が、式RHSiCl2の塩素化オルガノヒドロシラン(1 )と式 R’3SiClの有機置換塩素化シラン(2)(この場合に、a=1、b =1及びc=3)との間で実施されることを特徴とする請求項1〜10のいずれ か一項記載の方法。
JP50129898A 1996-06-12 1997-06-11 再分配反応を実施するオルガノシランの改良製造法 Expired - Lifetime JP3182154B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FR9607569A FR2749848B1 (fr) 1996-06-12 1996-06-12 Procede ameliore d'obtention d'organosilanes mettant en oeuvre une reaction de redistribution
FR96/07569 1996-06-12

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH11513999A true JPH11513999A (ja) 1999-11-30
JP3182154B2 JP3182154B2 (ja) 2001-07-03

Family

ID=9493165

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP50129898A Expired - Lifetime JP3182154B2 (ja) 1996-06-12 1997-06-11 再分配反応を実施するオルガノシランの改良製造法

Country Status (13)

Country Link
US (1) US6140526A (ja)
EP (1) EP0906320B1 (ja)
JP (1) JP3182154B2 (ja)
CN (1) CN1085670C (ja)
AT (1) ATE215544T1 (ja)
AU (1) AU3266397A (ja)
DE (1) DE69711625T2 (ja)
DK (1) DK0906320T3 (ja)
EA (1) EA001709B1 (ja)
ES (1) ES2171953T3 (ja)
FR (1) FR2749848B1 (ja)
PT (1) PT906320E (ja)
WO (1) WO1997047629A1 (ja)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2761360B1 (fr) * 1997-03-27 1999-05-21 Rhodia Chimie Sa Procede ameliore d'obtention d'organosilanes mettant en oeuvre une reaction de redistribution
DE10157198C2 (de) * 2001-11-22 2002-11-14 Wacker Chemie Gmbh Ligandentausch an Organochlorsilanen in ionischen Flüssigkeiten
DE102013200675A1 (de) * 2013-01-17 2014-07-17 Wacker Chemie Ag Verfahren zur Herstellung von Alkylchlorsilanen durch Umlagerungsreaktionen
CN113651844B (zh) * 2021-08-20 2023-09-12 唐山偶联硅业有限公司 连续法制备二甲基氢氯硅烷的工艺
CN113480567B (zh) * 2021-08-20 2022-11-22 唐山偶联硅业有限公司 均相歧化反应制备二甲基氢氯硅烷的方法

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CA977769A (en) * 1970-12-21 1975-11-11 General Electric Company Redistribution of alkylhydrosilanes
FR2279755A1 (fr) * 1974-07-26 1976-02-20 Rhone Poulenc Ind Procede de preparation de chlorosilanes et emploi des chlorosilanes ainsi obtenus
FR2552436B1 (fr) * 1983-09-28 1985-10-25 Rhone Poulenc Spec Chim Nouveau procede de fabrication d'hydrogeno-silanes par reaction de redistribution
DE19520737C2 (de) * 1995-06-07 2003-04-24 Degussa Verfahren zur Herstellung von Alkylhydrogenchlorsilanen
DE19718470A1 (de) * 1997-04-30 1998-11-05 Wacker Chemie Gmbh Verfahren zur Herstellung von Si-gebundene Wasserstoffatome aufweisenden Organosiliciumverbindungen

Also Published As

Publication number Publication date
JP3182154B2 (ja) 2001-07-03
FR2749848B1 (fr) 1998-08-21
CN1222156A (zh) 1999-07-07
FR2749848A1 (fr) 1997-12-19
CN1085670C (zh) 2002-05-29
EA199900018A1 (ru) 1999-06-24
DK0906320T3 (da) 2002-07-01
AU3266397A (en) 1998-01-07
EP0906320A1 (fr) 1999-04-07
EP0906320B1 (fr) 2002-04-03
DE69711625T2 (de) 2002-09-12
PT906320E (pt) 2002-08-30
ATE215544T1 (de) 2002-04-15
WO1997047629A1 (fr) 1997-12-18
EA001709B1 (ru) 2001-06-25
US6140526A (en) 2000-10-31
ES2171953T3 (es) 2002-09-16
DE69711625D1 (de) 2002-05-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH0718077A (ja) カルビノール・官能シロキサンの製造法
US5384383A (en) Pristine phenylpropylalkylsiloxanes
DE4316101A1 (de) Organosiliciumverbindungen mit käfigartiger Struktur
US20080234441A1 (en) Process for producing bis-(aminoalkyl)-polysiloxanes
JP2695751B2 (ja) 有機珪素基を有する酸素含有クロルホスファゼン、その製法及び有機珪素化合物の縮合法及び平衡化法
US3083219A (en) Intercondensation of tetrahydrofuran with organohalosilanes
JPH11513999A (ja) 再分配反応を実施するオルガノシランの改良製造法
JP3288722B2 (ja) 再分配反応を利用するオルガノシランの取得法
EP1241171B1 (en) Preparation of branched siloxanes
JPH06248084A (ja) エチニル基含有有機ケイ素化合物
US6153781A (en) Silacyclobutene compounds, methods of preparing same, and polymers formed therefrom
JP7416927B2 (ja) ヒドリドシリコン化合物からのシロキサンの調製方法
US4816541A (en) Method for the preparation of SiH-containing organopolysiloxanes
JP3606613B2 (ja) 低重合度オルガノポリシロキサンの製造方法
JP5675581B2 (ja) 有機珪素化合物の製造方法
EP1671977B1 (en) Process for production of trialkoxyhalosilanes and process for production of alkoxy(dialkylamino)silanes
JP2613111B2 (ja) α―ハイドロジエンオルガノポリシロキサンの製造法
JPS6228956B2 (ja)
JP4603635B2 (ja) ジハロシランからオルガノシロキサンを製造する方法
JPS6155516B2 (ja)
JP3131216B2 (ja) オルガノポリシロキサンおよびその製造方法
US6136940A (en) Silacyclobutane compounds, methods of preparing same, and polymers formed therefrom
JP2585099B2 (ja) α,ω―ジハイドロジェンオルガノポリシロキサンの製造法
JP2024510117A (ja) シロキサン-(メタ)アクリレートマクロモノマーの製造方法
JPS62263189A (ja) ジアリ−ルジハロシランの製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090420

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090420

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100420

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110420

Year of fee payment: 10

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110420

Year of fee payment: 10

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120420

Year of fee payment: 11

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120420

Year of fee payment: 11

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130420

Year of fee payment: 12

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130420

Year of fee payment: 12

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140420

Year of fee payment: 13

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

EXPY Cancellation because of completion of term