JPH0949821A

JPH0949821A - 液管理装置

Info

Publication number: JPH0949821A
Application number: JP7203484A
Authority: JP
Inventors: Akihiro Yoshii; 昭洋吉井
Original assignee: Tokico Ltd
Current assignee: Tokico Ltd
Priority date: 1995-08-09
Filing date: 1995-08-09
Publication date: 1997-02-18

Abstract

(57)【要約】【課題】成分濃度が確認された校正液を簡易に供給し
て、校正作業を正確にかつ効率良く行うことができる液
管理装置の提供を目的とする。【解決手段】密閉構造の貯留タンク５１・５２と液貯
留槽５０との間の接続管５３の途中に、電磁開閉弁２・
７０・６８を介して、該接続管５３と、成分分析部１０
１内の配管１とを短絡する短絡管６２・６６を設け、こ
れら短絡管６２・６６を経由して、成分濃度が既知の洗
浄液を校正液として直接、成分分析部１０１に供給す
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体製造時に使
用される洗浄液等の液体を管理する液管理装置に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】従来より、洗浄液の成分濃度を測定する
濃度分析計として、特願平５−２０６７２０号に示され
る自動液管理装置が用いられている。この自動液管理装
置は、過酸化水素、オゾン等の成分が含まれる洗浄液を
洗浄槽から供給する液供給管と、該液供給管の途中に設
けられて該液供給管によって供給された洗浄液中の成分
を分解して酸素ガスを発生させる分解手段と、該分解手
段の上流側に位置する液供給管に接続されて、該分解手
段にて発生した酸素ガスを抽出するための抽出ガスを供
給する抽出ガス供給管と、前記分解手段の下流側に位置
する液供給管に設けられて、前記抽出ガス供給管から供
給された抽出ガスによって洗浄液内の酸素ガスを気液分
離する抽出手段と、該抽出手段にて抽出された抽出ガス
中の酸素濃度を検出する酸素センサと、該酸素センサに
て検出された酸素濃度に基づいて、洗浄液中の過酸化水
素、オゾンの濃度を演算する演算手段と、を有するもの
である。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】ところで、上述したよ
うな自動液管理装置では、定期的に液供給管に校正液を
供給して酸素センサの出力を校正する必要がある。そし
て、このとき、複数の成分が混合される洗浄液（例え
ば、アンモニアー過酸化水素系の洗浄液）が使用されて
いた場合に、校正液もこれと同じ、アンモニアー過酸化
水素系のものを使用する必要がある。しかし、このよう
な複数の成分が混合される校正液の場合に、調製した校
正液を長時間放置しておくと、該校正液内で成分同士の
反応が起こって、該校正液の成分濃度が変化してしま
い、酸素センサの出力の校正を正確に行うことができな
いという問題があった。そして、このような問題を解決
するために校正作業を行う直前に校正液を作製するよう
にすれば良いが、このような場合、校正作業のたびに校
正液を作製し、かつこの校正液の濃度を確認するための
例えば滴定分析などを行う必要があり、手間がかかると
いう問題が生じていた。

【０００４】この発明は、上記の事情に鑑みてなされた
ものであって、成分濃度が確認された校正液を簡易に供
給して、校正作業を正確にかつ効率良く行うことができ
る液管理装置の提供を目的とする。

【０００５】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に第１の発明では、酸素を発生させる成分が含有された
液体が貯留される密閉構造の液貯留タンクと、該液貯留
タンクに接続管を介して接続される液貯留槽と、該液貯
留槽に液供給管を介して接続され、該液供給管を通じて
供給された液体中の成分を分解して酸素ガスを発生さ
せ、該酸素ガスの濃度に基づいて液体中の成分濃度を演
算する成分分析部と、を有する液管理装置であって、前
記液貯留タンクと液供給管との間には、流路切換手段を
介して、前記液貯留タンク内の液体を液供給管に直接供
給する短絡管が設けられていることを特徴とする。

【０００６】第２の発明では、酸素を発生させる成分を
含む複数の成分が含有された溶液が供給される液供給管
を有し、該液供給管を通じて供給された液体中の成分を
分解して酸素ガスを発生させ、該酸素ガスの濃度に基づ
いて液体中の成分濃度を演算する液管理装置において、
液供給管の途中には、溶液中の酸素を発生させる成分以
外の成分濃度を測定する濃度センサが設けられ、また、
該濃度センサの上流に位置する液供給管の途中には、該
濃度センサに対してｐＨ緩衝液を供給する緩衝液供給手
段が設けられており、この緩衝液供給手段では、溶液中
の酸素を発生させる成分以外の成分と同一の成分を有
し、かつ該成分の濃度が、校正液と同一濃度に調製され
たｐＨ緩衝液を供給することを特徴とする

【０００７】以上のように構成された第１の発明の液管
理装置では、密閉構造の液貯留タンクと液供給管との間
に、流路切換手段を介して、前記液貯留タンク内の液体
を液供給管に直接供給する短絡管を設け、この短絡管を
通じて、成分濃度が既知の液体が貯留されている液貯留
タンク内の液体を、校正液として液供給管に直接供給す
ることができるとともに、該液貯留タンクから液供給管
への液体の供給を液貯留槽を経由せずに行うことができ
る。これによって従来のように、成分が変化した校正液
を使用する必要が無く、また、校正作業のたびに校正液
を作製する作業が不要となる。

【０００８】第２の発明の液管理装置では、濃度センサ
の上流に位置する液供給管の途中に、ｐＨ緩衝液を供給
する緩衝液供給手段が設けられ、この緩衝液供給手段に
よって、溶液中の酸素を発生させる成分以外の成分と同
一の成分を有し、かつ該成分の濃度が、校正液と同一濃
度に調製されたｐＨ緩衝液を供給するようにしているの
で、このｐＨ緩衝液によって、濃度センサのｐＨ値の調
整とともに、該濃度センサのスパン校正を行うことが可
能となる。また、このとき校正液として使用されるｐＨ
緩衝液は、酸素を発生させる成分以外の成分を主な成分
とするものであるので、従来の校正液のように成分変化
が少なく、また、校正作業のたびに校正液を作製する作
業が不要となる。

【０００９】

【発明の実施の形態】本発明の第１の実施の形態を図１
及び図２を参照して説明する。まず、図１を参照して液
管理装置１００の全体概略構成を説明する。この図に符
号５０で示されるものは、半導体の製造工程時において
洗浄に使用される洗浄液が貯留される液貯留槽であっ
て、洗浄液として、ＮＨ₃−Ｈ₂Ｏ₂−Ｈ₂Ｏからなるアン
モニアー過酸化水素系の半導体用洗浄液（この洗浄液で
は、酸素を発生させる成分は過酸化水素）が貯留されて
いる。なお、洗浄液中に含有される酸素を発生させる成
分としては、例えば過酸化水素以外ではオゾンなどがあ
る。

【００１０】また、符号５１で示されるものはアンモニ
ア水が貯留される密閉構造のアンモニア水貯留タンク、
符号５２で示されるものは過酸化水素水が貯留される密
閉構造の過酸化水素水貯留タンクであって、これらアン
モニア水貯留タンク５１、過酸化水素水貯留タンク５２
と液貯留槽５０との間には、接続管５３が接続されてい
る。この接続管５３は、アンモニア水貯留タンク５１に
通じる配管５４と、過酸化水素水貯留タンク５２に通じ
る配管５５と、これら配管５４・５５を合流させる合流
管５６と、合流管５６と液貯留槽５０とを接続する配管
５７と、から構成されているものであって、配管５４、
配管５５の各途中には流量調整弁５８・５９がそれぞれ
設けられている。また、配管５７の途中には分岐管６１
を介して配管６２が接続され、更に、この配管６２は、
純水供給ラインに通じる配管６４と合流管６５を介して
合流された後、配管６６となる。また、配管６２・６４
の途中には電磁開閉弁６８・６７がそれぞれ設けられて
おり、電磁開閉弁６８によって洗浄液の供給がＯＮ
（開）／ＯＦＦ（閉）され、電磁開閉弁６７によって純
水の供給がＯＮ（開）／ＯＦＦ（閉）される。

【００１１】そして、以上のような構成によって、電磁
開閉弁６７・６８が共に閉である場合に、アンモニア水
貯留タンク５１内のアンモニア水と、過酸化水素水貯留
タンク５２内の過酸化水素水とが、合流管５６の下流側
に接続された配管５７内で混合されてアンモニアー過酸
化水素系の洗浄液となり、その後、液貯留槽５０に対し
て供給される。また、電磁開閉弁６８が操作されて、電
磁開閉弁６８となった場合（電磁開閉弁６７は閉の状
態）には、配管５７内で混合されたアンモニアー過酸化
水素系の洗浄液は、洗浄槽５０を迂回し、かつ配管６２
・６６を経由して液管理装置１００の成分分析部１０１
に供給される。なお、洗浄液中のアンモニアと過酸化水
素との成分比は流量調整弁５８・５９の開度によって決
定されるが、通常、これら流量調整弁５８・５９の開度
は一定値に保持され、これによって配管５７内にて混合
されるアンモニアと過酸化水素との成分比は一定となる
ように調製されている。

【００１２】次に、この成分分析部１０１について説明
する。洗浄液の液貯留槽５０の底部には、該液貯留槽５
０内の洗浄液をサンプリングするための配管１が接続さ
れており、この配管１の途中には、洗浄液の供給をＯＮ
（開）／ＯＦＦ（閉）するための電磁開閉弁２、洗浄液
を冷却するための冷却器３が順次設けられている。ま
た、これら電磁開閉弁２と冷却器３との間に位置する配
管１には、合流部６９を介して前述した配管６６が接続
され、合流部６９の上流側に位置する配管６６の途中に
は、洗浄液の供給をＯＮ（開）／ＯＦＦ（閉）する電磁
開閉弁７０が設けられている。

【００１３】冷却器３は、配管１がその内部に収納され
る冷却器本体４と、冷却器本体４に、冷媒となる冷却液
が供給される冷却液供給管５と、冷却器本体４内の冷却
液を排出する冷却液排出管６とから構成されたものであ
って、冷却液供給管５にて供給された冷却液は冷却器本
体４内に貯留され、この貯留された冷却液により配管１
内の洗浄液が冷却される。また、前記冷却液供給管５の
途中には冷却液の供給をＯＮ（開）／ＯＦＦ（閉）する
ための電磁開閉弁７が設けられている。なお、このよう
な冷却器３は、後述する分解装置の反応条件に対応して
設けられるものであって、不要である場合には省略して
も良い。また、このような冷却器３は水冷式のものに限
定されず、放熱により冷却する空冷式であっても良い。

【００１４】また、洗浄液が供給される配管１は冷却器
３の下流側にて分岐管８を介して配管９と配管１０に分
岐され、更に、配管９の途中には、送液方向に沿って送
液ポンプ１１とアンモニアセンサ１２とが順次設けられ
ている。なお、アンモニアセンサ１２としては、溶液中
のアンモニアイオンを検出するイオン電極が使用されて
いる。また、アンモニアセンサ１２を経た配管９はドレ
ンに至っている。

【００１５】また、前記配管１０の途中には送液方向に
沿って送液ポンプ１３、抽出ガス供給手段１４、分解装
置１５が順次設けられている。抽出ガス供給手段１４
は、窒素等の抽出ガスを供給するガス供給源（図示略）
に接続された抽出ガス供給管１６と、この抽出ガス供給
管１６のガス供給方向に沿って設けられた、抽出ガスの
供給をＯＮ（開）／ＯＦＦ（閉）する電磁開閉弁１７、
抽出ガスの流量を検出する流量計１８、抽出ガス供給管
１６内に洗浄液が流入したことを検出する静電容量式の
逆流検出センサ１９とから構成されたものであって、前
記抽出ガス供給管１６の末端部は配管１０の合流部２０
に接続されている。なお、抽出ガス供給管１６の途中に
設けられた逆流検出センサ１９は、抽出ガス供給管１６
に入った洗浄液が矢印Ａ方向に逆流したことを検出する
ものである。

【００１６】また、前述した合流部２０と分解装置１５
との間に位置する配管１０途中には、圧力センサ２１と
リリーフ弁２２とが設けられている。圧力センサ２１は
配管１０内の圧力を検出し、これにより例えば配管１０
内の圧力上昇を検出した場合に分解装置１５内に目詰ま
りが生じたと見なすものである。リリーフ弁２２は通常
は分解装置１５に対して洗浄液を供給するとともに、圧
力センサ２１により配管１０内の圧力上昇が検出された
場合に、互いに接続されていた配管１０ａと１０ｂを遮
断し、配管１０ａを配管２３に接続するものである。ま
た、分解装置１５は、洗浄液中の過酸化水素の成分を分
解して、酸素ガスを発生させるものである。なお、この
分解装置１５には、活性炭等の固体触媒を用いて過酸化
水素を分解して酸素を発生させる手段、また、電気分解
により酸素を発生させる手段等が用いられる。

【００１７】分解装置１５を経た配管１０の末端部は抽
出装置２４に接続されている。この抽出装置２４は、分
解装置１５にて得られた酸素ガスを抽出するためのもの
であって、この抽出装置２４によって抽出された酸素ガ
スは、接続管２５を経由してバッファ２６に供給され
る。また、この抽出装置２４にて、酸素ガスが抽出され
た後の洗浄液は排出管２７を通じドレンとして排出され
る。バッファ２６は、接続管２５を通じて供給された酸
素ガスを一時貯留して、酸素センサ２９（後述する）で
測定する濃度のばらつきを小さくするためのものである
が、この機能を抽出装置２４で代用できるのであれば省
略しても良い。また、バッファ２６を経由した酸素を含
む抽出ガスは配管２８に供給され、更に、この配管２８
に途中に設けられた酸素センサ２９にて該酸素濃度が測
定される。また、この液管理装置１００の成分分析部１
０１の底部にはトレイ３０が設けられ、更に、このトレ
イ３０には配管１０からの液漏れを検出する液漏れセン
サ３１が設けられている。

【００１８】そして、以上のように構成された液管理装
置１００の成分分析部１０１では、図示しない演算制御
手段に対して、抽出ガスの流量を検出する流量計１８の
検出信号、酸素センサ２９の検出信号がそれぞれ入力さ
れるようになっており、この演算制御手段において、こ
れら流量計１８及び酸素センサ２９からの検出信号に基
づいて、洗浄液に含有されている過酸化水素濃度を演算
する（このとき、洗浄液の流量は一定とする）。

【００１９】次に、上記液管理装置１００の通常測定モ
ードにおける電磁開閉弁２・７０・６７・６８の切換
と、校正運転モードにおける電磁開閉弁２・７０・６７
・６８の切換について詳細に説明する。なお、これら電
磁開閉弁２・７０・６７・６８の切換は演算制御手段
（図示略）から出力される制御信号に基づき行われる。《通常測定モード時の電磁弁の切換》通常測定モードで
は、図２（ａ）〜（ｄ）に示されるように、電磁開閉弁
２がＯＮ、電磁開閉弁７０がＯＦＦ、電磁開閉弁６７が
ＯＦＦ、電磁開閉弁６８がＯＦＦに設定され、これによ
って液貯留槽５０内の洗浄液が配管１に対して供給され
る。そして、このような電磁開閉弁２・７０・６７・６
８の切換によって、アンモニアセンサ１２にて液貯留槽
５０内の洗浄液中のアンモニア濃度が測定されるととも
に、酸素センサ２９にて、該洗浄液の分解によって発生
した酸素の濃度が測定される。そして、これらセンサ１
２・２９にて測定した測定値に基づき、洗浄液中に含有
される各成分の濃度が演算される。

【００２０】《校正運転モード時の電磁弁の切換》校正
運転モードはゼロ点校正モードとスパン校正モードとか
らなるものであって、ゼロ点校正モード、スパン校正モ
ードの順番で運転が行われる。ゼロ点校正モードはアン
モニアセンサ１２、酸素センサ２９の出力をゼロに調整
するためのモードであって、具体的には、図２に（ａ）
〜（ｄ）で示されるように、電磁開閉弁２をＯＦＦ、電
磁開閉弁７０をＯＮ、電磁開閉弁６７をＯＮ、電磁開閉
弁６８をＯＦＦにそれぞれ設定することによって、純水
供給ラインからの純水を、配管６４・６６を経由して冷
却器９・１０の上流に位置する配管１に供給する。そし
て、このような電磁開閉弁２・７０・６７・６８の切換
によって、図２（Ａ）（Ｂ）に符号ｍで示される如く、
アンモニアセンサ１２と酸素センサ２９の出力が共にゼ
ロを示すようにゼロ点調整がなされる。

【００２１】一方、スパン校正モードは、アンモニアセ
ンサ１２、酸素センサ２９のスパンを調整するためのモ
ードであって、図２に（ａ）〜（ｄ）で示されるよう
に、電磁開閉弁２をＯＦＦ、電磁開閉弁７０をＯＮ、電
磁開閉弁６７をＯＦＦ、電磁開閉弁６８をＯＮにそれぞ
れ設定することによって、アンモニア水貯留タンク５
１、過酸化水素水貯留タンク５２から供給された既知濃
度のアンモニアー過酸化水素系の洗浄液を、洗浄槽５０
を迂回させ、かつ配管６２・６６を経由させて、冷却器
３の上流に位置する配管１に対して供給する。そして、
このような電磁開閉弁２・７０・６７・６８の切換によ
って、図２（Ａ）（Ｂ）に符号ｎで示されるように、ア
ンモニアセンサ１２及び酸素センサ２９の出力が、当該
洗浄液が示す既知濃度に対応するようにスパン調整され
る。そして、以上のような校正運転モードが終了した場
合には、電磁開閉弁２をＯＮ、電磁開閉弁７０をＯＦ
Ｆ、電磁開閉弁６７をＯＦＦ、電磁開閉弁６８をＯＦＦ
に設定して、通常測定モードに移行する。

【００２２】以上詳細に説明したように本発明の実施の
形態に示される液管理装置１００では、密閉構造のアン
モニア水貯留タンク５１、過酸化水素水貯留タンク５２
と液貯留槽５０との間の接続管５３の途中に、電磁開閉
弁２・７０・６８を介して、該接続管５３と、成分分析
部１０１内の配管１とを短絡する配管６２・６６を設
け、これら配管６２・６６を経由して、成分濃度が既知
の洗浄液を、校正液として成分分析部１０１内の配管１
に直接、供給することができる。これによって従来のよ
うに、成分が変化した校正液を使用する必要が無く、ま
た、校正作業のたびに校正液を作製する作業が不要とな
って、校正作業を正確かつ効率良く行うことが可能とな
る。

【００２３】なお、上記実施の形態では、アンモニアー
過酸化水素系の洗浄液を用いたが、これに代えて、塩酸
ー過酸化水素系の洗浄液を使用する場合には、アンモニ
ア水貯留タンク５１に代えて塩酸溶液を貯留する塩酸溶
液貯留タンクを設け、かつアンモニアセンサ１２に代え
て、塩酸濃度を測定する塩酸センサを設けるようにす
る。また同様に、アンモニアー過酸化水素系の洗浄液を
用いたが、これに代えて、硫酸ー過酸化水素系の洗浄液
を使用する場合には、アンモニア水貯留タンク５１に代
えて硫酸溶液を貯留する硫酸溶液貯留タンクを設け、か
つアンモニアセンサ１２に代えて、硫酸濃度を測定する
硫酸センサを設けるようにする。また、上記実施の形態
は、複数の成分が混合された洗浄液についての例を説明
したが、これに限定されず、例えば洗浄液が過酸化水素
水又はオゾン水の単一成分である場合には、分岐管５６
を設けること無く、これら過酸化水素水又はオゾン水が
貯留される液貯留タンクを、配管５７に対して直接接続
する。

【００２４】また、上記実施の形態では、接続管５３か
ら分岐するように配管６２・６６を設けるようにした
が、これに限定されず、配管６２と、該配管６２の途中
の電磁開閉弁６８を省略して、アンモニア水貯留タンク
５１、過酸化水素水貯留タンク５２と配管１との間に専
用の配管を設けるようにしても良い。そして、ここで設
ける配管は、上述したような、配管５４・５５、流量調
整弁５８・５９、合流管５６、配管５７と同一構成と
し、更に、該配管５７は電磁開閉弁を介して配管１と合
流させるようにする。

【００２５】また、上記実施の形態では、アンモニア水
貯留タンク５１、過酸化水素水貯留タンク５２に対して
加圧した窒素ガスを供給し、これによってアンモニア水
貯留タンク５１内のアンモニア水、過酸化水素水貯留タ
ンク５２内の過酸化水素水を強制的に接続管５３に供給
すると良い。また、これに限定されず、アンモニア水貯
留タンク５１及び過酸化水素水貯留タンク５２を液貯留
槽５０に対して十分に高いところに位置できるのであれ
ば、アンモニア水貯留タンク５１内のアンモニア水、過
酸化水素水貯留タンク５２内の過酸化水素水を重力によ
って接続管５３に供給するようにし、このとき、接続管
５３を通じて液貯留槽５０に対して、アンモニア水、過
酸化水素水の供給をＯＮ（開）／ＯＦＦ（閉）できるよ
うに、該接続管５３の途中に電磁開閉弁を設けると良
い。

【００２６】また、上述した実施の形態の構成要素と、
特許請求の範囲の構成要素とは以下のような関係にあ
る。すなわち、配管１・９・１０によって特許請求の範
囲の「液供給管」が構成され、液貯留槽５０によって特
許請求の範囲の「液貯留槽」が構成され、アンモニア水
貯留タンク５１、過酸化水素水貯留タンク５２によって
特許請求の範囲の「液貯留タンク」が構成され、電磁開
閉弁２・７０・６８によって特許請求の範囲の「流路切
換手段」が構成され、配管６２・６６によって特許請求
の範囲の「短絡管」が構成される。

【００２７】次に、本発明に係る第２の実施の形態を図
３を参照して説明する。なお、この第２の実施の形態で
は、第１の実施の形態と構成を共通とする箇所に同一符
号を付して重複した説明を省略する。

【００２８】この実施の形態に示される液管理装置２０
０では、アンモニア水貯留タンク５１に代えて塩酸溶液
を貯留する塩酸溶液貯留タンク７９が設けられ、配管９
の途中に洗浄液中の塩酸濃度を測定する濃度センサ８０
が設けられている。また、図１で示される配管６２及び
電磁開閉弁６８の構成が省略されて、これら配管６２及
び電磁開閉弁６８に代えて、冷却器３の上流に位置する
配管１に対してｐＨ緩衝液を供給する緩衝液供給手段８
１が設けられている。この緩衝液供給手段８１は、冷却
器３の上流側に位置する配管１に合流管８２を介して接
続された配管８３と、該配管８３の途中に設けられてＯ
Ｎ／ＯＦＦによって緩衝液（後述する）が供給、供給断
される電磁開閉弁８４と、配管８３に連結された緩衝液
貯留タンク８５と、から構成されるものであって、この
緩衝液貯留タンク８５内には、洗浄液中の酸素を発生さ
せる成分以外の成分（本例では塩酸）を有し、かつ該成
分の濃度が校正液と同一濃度に調製されてなるｐＨ緩衝
液が、貯留されている。

【００２９】そして、以上のような実施の形態では、ス
パン校正モードにおいて、電磁開閉弁２をＯＦＦ、電磁
開閉弁７０をＯＦＦ、電磁開閉弁６７をＯＦＦ、電磁開
閉弁８４をＯＮに設定することによって、緩衝液貯留タ
ンク８５から既知濃度のｐＨ緩衝液が、冷却器３の上流
に位置する配管１に対して供給され、このｐＨ緩衝液に
よって、濃度センサ８０のｐＨ値の調整とともに、該濃
度センサ８０のスパン校正を行うことができる。また、
このとき校正液として使用されるｐＨ緩衝液は、酸素を
発生させる成分以外の成分（本例では塩酸）を主な成分
とするものであるので、従来の校正液のように成分変化
が少なく、また、校正作業のたびに校正液を作製する作
業が不要となって、校正作業を正確かつ効率良く行うこ
とが可能となる。

【００３０】なお、この第２の実施の形態では、濃度セ
ンサ８０の上流に位置する配管１に、ｐＨ緩衝液を供給
する緩衝液供給手段８１を１系統設けたが、これに限定
されず、複数の緩衝液供給手段８１を設けて、ｐＨ値の
異なる複数の緩衝液を供給するようにしても良い。ま
た、この第２の実施の形態では、塩酸ー過酸化水素系の
半導体用洗浄液を使用した場合について説明したが、こ
れに限定されず、アンモニアー過酸化水素系の半導体用
洗浄液を使用した場合（この場合、酸素を発生させる成
分以外の成分はアンモニア）、濃度センサ８０としてア
ンモニアセンサを使用し、緩衝液貯留タンク８５内にア
ンモニア系の緩衝液を貯留させるようにする。

【００３１】また、この第２の実施の形態では、通常測
定モードの際には、電磁開閉弁２をＯＮ、電磁開閉弁７
０をＯＦＦ、電磁開閉弁６７をＯＦＦ、電磁開閉弁８４
をＯＦＦに設定する。また、ゼロ点校正モードの際に
は、電磁開閉弁２をＯＦＦ、電磁開閉弁７０をＯＮ、電
磁開閉弁６７をＯＮ、電磁開閉弁８４をＯＦＦに設定す
る。また、上述した第２の実施の形態の構成要素と、特
許請求の範囲の構成要素とは以下のような関係にある。
すなわち、配管１・９・１０によって特許請求の範囲の
「液供給管」が構成され、濃度センサ８０によって特許
請求の範囲の「濃度センサ」が構成され、緩衝液供給手
段８１によって特許請求の範囲の「緩衝液供給手段」が
構成される。また、上記第１、第２の実施の形態では、
半導体の洗浄に使用する洗浄液の液管理装置１００・２
００について説明したが、管理する液体は半導体の洗浄
液に限定されるものでは無く、他の用途（例えば各種工
業製品の洗浄）に使用される洗浄液であっても良い。

【００３２】

【発明の効果】以上詳細に説明したように第１の発明の
液管理装置では、密閉構造の液貯留タンクと液供給管と
の間に、流路切換手段を介して、前記液貯留タンク内の
液体を液供給管に直接供給する短絡管を設け、この短絡
管を通じて、成分濃度が既知の液体が貯留されている液
貯留タンク内の液体を、校正液として液供給管に直接供
給することができるとともに、該液貯留タンクから液供
給管への液体の供給を液貯留槽を経由せずに行うことが
できる。これによって従来のように、成分が変化した校
正液を使用する必要が無く、また、校正作業のたびに校
正液を作製する作業が不要となって、校正作業を正確か
つ効率良く行うことが可能となる。

【００３３】第２の発明の液管理装置では、濃度センサ
の上流に位置する液供給管の途中に、ｐＨ緩衝液を供給
する緩衝液供給手段が設けられ、この緩衝液供給手段に
よって、溶液中の酸素を発生させる成分以外の成分と同
一の成分を有し、かつ該成分の濃度が、校正液と同一濃
度に調製されたｐＨ緩衝液を供給するようにしているの
で、このｐＨ緩衝液によって、濃度センサのｐＨ値の調
整とともに、該濃度センサのスパン校正を行うことが可
能となる。また、このとき校正液として使用されるｐＨ
緩衝液は、酸素を発生させる成分以外の成分を主な成分
とするものであるので、従来の校正液のように成分変化
が少なく、また、校正作業のたびに校正液を作製する作
業が不要となって、校正作業を正確かつ効率良く行うこ
とが可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】第１の実施の形態における液管理装置１００の
全体概略構成図。

【図２】液管理装置１００の通常測定モードにおける電
磁開閉弁の切換動作と、校正運転モードにおける電磁開
閉弁の切換動作を示すタイムチャート。

【図３】第２の実施の形態における液管理装置２００の
全体概略構成図。

【符号の説明】

１配管（液供給管）２電磁開閉弁（流路切換手段）９配管（液供給管）１０配管（液供給管）５０液貯留槽５１アンモニア水貯留タンク（液貯留タンク）５２過酸化水素水貯留タンク（液貯留タンク）５３接続管６２配管（短絡管）６６配管（短絡管）６８電磁開閉弁（流路切換手段）７０電磁開閉弁（流路切換手段）８０濃度センサ８１緩衝液供給手段１００液管理装置２００液管理装置

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号庁内整理番号ＦＩ技術表示箇所 // Ｇ０１Ｎ 1/00 Ｇ０１Ｎ 27/46 ３１１Ｋ３１１Ｌ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】酸素を発生させる成分が含有された液体
が貯留される密閉構造の液貯留タンクと、該液貯留タンクに接続管を介して接続される液貯留槽
と、該液貯留槽に液供給管を介して接続され、該液供給管を
通じて供給された液体中の成分を分解して酸素ガスを発
生させ、該酸素ガスの濃度に基づいて液体中の成分濃度
を演算する成分分析部と、を有する液管理装置であっ
て、前記液貯留タンクと液供給管との間には、流路切換手段
を介して、前記液貯留タンク内の液体を液供給管に直接
供給する短絡管が設けられていることを特徴とする液管
理装置。
【請求項２】酸素を発生させる成分を含む複数の成分
が含有された溶液が供給される液供給管を有し、該液供
給管を通じて供給された液体中の成分を分解して酸素ガ
スを発生させ、該酸素ガスの濃度に基づいて液体中の成
分濃度を演算する液管理装置において、液供給管の途中には、溶液中の酸素を発生させる成分以
外の成分濃度を測定する濃度センサが設けられ、また、
該濃度センサの上流に位置する液供給管の途中には、該
濃度センサに対してｐＨ緩衝液を供給する緩衝液供給手
段が設けられており、この緩衝液供給手段では、溶液中の酸素を発生させる成
分以外の成分と同一の成分を有し、かつ該成分の濃度
が、校正液と同一濃度に調製されたｐＨ緩衝液を供給す
ることを特徴とする液管理装置。