JPH0948757A - トリスアゾ化合物 - Google Patents
トリスアゾ化合物Info
- Publication number
- JPH0948757A JPH0948757A JP34917995A JP34917995A JPH0948757A JP H0948757 A JPH0948757 A JP H0948757A JP 34917995 A JP34917995 A JP 34917995A JP 34917995 A JP34917995 A JP 34917995A JP H0948757 A JPH0948757 A JP H0948757A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- formula
- group
- compound
- trisazo compound
- embedded image
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Abstract
(57)【要約】
【課題】 電子写真感光体における、有機光導電体、電
荷発生物質として有用な、新規なトリスアゾ化合物を提
供する。 【解決手段】 下記一般式で表されるトリスアゾ化合
物。 【化１】 （式中、Ａｒ1、Ａｒ2は置換もしくは無置換のアリール
基を表し、各々同一でも異なっていてもよく、Ｒ1は水
素原子、アルキル基、アルコキシ基もしくはハロゲン原
子を、Ｙは−ＣＨ2ＣＨ2−又は−ＣＨ＝ＣＨ−を表
す。）
荷発生物質として有用な、新規なトリスアゾ化合物を提
供する。 【解決手段】 下記一般式で表されるトリスアゾ化合
物。 【化１】 （式中、Ａｒ1、Ａｒ2は置換もしくは無置換のアリール
基を表し、各々同一でも異なっていてもよく、Ｒ1は水
素原子、アルキル基、アルコキシ基もしくはハロゲン原
子を、Ｙは−ＣＨ2ＣＨ2−又は−ＣＨ＝ＣＨ−を表
す。）
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、新規トリスアゾ化
合物に関し、更に詳しくは、電子写真感光体における有
機光導電体、電荷発生物質として有用な新規トリスアゾ
化合物に関する。
合物に関し、更に詳しくは、電子写真感光体における有
機光導電体、電荷発生物質として有用な新規トリスアゾ
化合物に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来から、ある種のアゾ化合物が、電子
写真感光体の一つの形態である積層型感光体の電荷発生
層に用いられる電荷発生顔料として、有効であることが
知られている。ここでいう積層型感光体とは、導電性支
持体上に、光によって電荷担体を生成する能力を有する
電荷発生顔料を、適切な方法、例えば真空蒸着、顔料溶
液の塗布、あるいは樹脂溶液に顔料の微細粒子を分散し
た分散液の塗布などにより薄層として電荷発生層を形成
し、その上に電荷発生層で生成した電荷担体が効率良く
注入され、しかもその移動を行うところの電荷輸送層
（通常この電荷輸送層は、電荷輸送物質と結着樹脂から
なる。）を形成せしめた感光体である。従来、この種の
感光体に使用されるアゾ化合物として、例えば、特開昭
４７−３７５４３号公報、及び特開昭５２−５５６４３
号公報などに記載されているベンジジン系ビスアゾ化合
物、あるいは特開昭５２−８８３２号公報に記載されて
いるスチルベン系ビスアゾ化合物などが知られている。
しかしながら、従来のアゾ化合物を用いた積層型の感光
体は一般に感度が低いため高速複写機用の感光体として
は不十分である。
写真感光体の一つの形態である積層型感光体の電荷発生
層に用いられる電荷発生顔料として、有効であることが
知られている。ここでいう積層型感光体とは、導電性支
持体上に、光によって電荷担体を生成する能力を有する
電荷発生顔料を、適切な方法、例えば真空蒸着、顔料溶
液の塗布、あるいは樹脂溶液に顔料の微細粒子を分散し
た分散液の塗布などにより薄層として電荷発生層を形成
し、その上に電荷発生層で生成した電荷担体が効率良く
注入され、しかもその移動を行うところの電荷輸送層
（通常この電荷輸送層は、電荷輸送物質と結着樹脂から
なる。）を形成せしめた感光体である。従来、この種の
感光体に使用されるアゾ化合物として、例えば、特開昭
４７−３７５４３号公報、及び特開昭５２−５５６４３
号公報などに記載されているベンジジン系ビスアゾ化合
物、あるいは特開昭５２−８８３２号公報に記載されて
いるスチルベン系ビスアゾ化合物などが知られている。
しかしながら、従来のアゾ化合物を用いた積層型の感光
体は一般に感度が低いため高速複写機用の感光体として
は不十分である。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は電子写
真感光体において、有効な、特に先に述べたような積層
型感光体における電荷発生物質として、有用な新規トリ
スアゾ化合物を提供することにある。
真感光体において、有効な、特に先に述べたような積層
型感光体における電荷発生物質として、有用な新規トリ
スアゾ化合物を提供することにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、下記一
般式化（Ｉ）、（II）、（III）、（IV）、（Ｖ）及び
（VI）で表されるトリスアゾ化合物が提供される。
般式化（Ｉ）、（II）、（III）、（IV）、（Ｖ）及び
（VI）で表されるトリスアゾ化合物が提供される。
【化１】 （式中、Ａｒ1、Ａｒ2は置換もしくは無置換のアリール
基を表し、各々同一でも異なっていてもよく、Ｒ1は水
素原子、アルキル基、アルコキシ基もしくはハロゲン原
子を、Ｙは−ＣＨ2ＣＨ2−又は−ＣＨ＝ＣＨ−を表
す。）
基を表し、各々同一でも異なっていてもよく、Ｒ1は水
素原子、アルキル基、アルコキシ基もしくはハロゲン原
子を、Ｙは−ＣＨ2ＣＨ2−又は−ＣＨ＝ＣＨ−を表
す。）
【化２】 （式中、Ｒ2は水素原子もしくはアルキル基を、Ｙは−
ＣＨ2ＣＨ2−又は−ＣＨ＝ＣＨ−を表す。）
ＣＨ2ＣＨ2−又は−ＣＨ＝ＣＨ−を表す。）
【化３】 （式中、Ａｒ1、Ａｒ2は置換もしくは無置換のアリール
基を表し、各々同一でも異なっていてもよく、Ｒ1は水
素原子、アルキル基、アルコキシ基もしくはハロゲン原
子を表し、Ｒ3は水素原子、アルキル基、アルコキシ
基、ハロゲン原子、ニトロ基もしくはジアルキルアミノ
基を、Ｙは−ＣＨ2ＣＨ2−又は−ＣＨ＝ＣＨ−を表す。
ｎは１〜３の整数を表し、ｎが複数の場合Ｒ3はそれぞ
れ同一でも異なっていてもよい。）
基を表し、各々同一でも異なっていてもよく、Ｒ1は水
素原子、アルキル基、アルコキシ基もしくはハロゲン原
子を表し、Ｒ3は水素原子、アルキル基、アルコキシ
基、ハロゲン原子、ニトロ基もしくはジアルキルアミノ
基を、Ｙは−ＣＨ2ＣＨ2−又は−ＣＨ＝ＣＨ−を表す。
ｎは１〜３の整数を表し、ｎが複数の場合Ｒ3はそれぞ
れ同一でも異なっていてもよい。）
【化４】 （式中、Ｒ2は水素原子もしくはアルキル基を、Ｙは−
ＣＨ2ＣＨ2−又は−ＣＨ＝ＣＨ−を表す。）
ＣＨ2ＣＨ2−又は−ＣＨ＝ＣＨ−を表す。）
【化５】 （式中、Ａｒ1、Ａｒ2は置換もしくは無置換のアリール
基を表し、各々同一でも異なっていてもよく、Ｒ1は水
素原子、アルキル基、アルコキシ基もしくはハロゲン原
子を表し、Ｒ3は水素原子、アルキル基、アルコキシ
基、ハロゲン原子、ニトロ基もしくはジアルキルアミノ
基を、Ｙは−ＣＨ2ＣＨ2−又は−ＣＨ＝ＣＨ−を表す。
ｎは１〜３の整数を表し、ｎが複数の場合Ｒ3はそれぞ
れ同一でも異なっていてもよい。）
基を表し、各々同一でも異なっていてもよく、Ｒ1は水
素原子、アルキル基、アルコキシ基もしくはハロゲン原
子を表し、Ｒ3は水素原子、アルキル基、アルコキシ
基、ハロゲン原子、ニトロ基もしくはジアルキルアミノ
基を、Ｙは−ＣＨ2ＣＨ2−又は−ＣＨ＝ＣＨ−を表す。
ｎは１〜３の整数を表し、ｎが複数の場合Ｒ3はそれぞ
れ同一でも異なっていてもよい。）
【化６】 （式中、Ｒ2は水素原子もしくはアルキル基を、Ｙは−
ＣＨ2ＣＨ2−又は−ＣＨ＝ＣＨ−を表す。）
ＣＨ2ＣＨ2−又は−ＣＨ＝ＣＨ−を表す。）
【０００５】本発明の一般式（Ｉ）、（II）、（II
I）、（IV）、（Ｖ）及び（VI）で表されるトリスアゾ
化合物は、前述のように、積層型の電子写真感光体の電
荷発生物質として有用であるが、更に樹脂中に電荷発生
物質と電荷輸送物質とを分散させた単層型の感光層を有
する電子写真感光体における電荷発生物質として、又樹
脂中に光導電性物質を分散させた感光層を有する電子写
真感光体における光導電性物質としても有用である。
I）、（IV）、（Ｖ）及び（VI）で表されるトリスアゾ
化合物は、前述のように、積層型の電子写真感光体の電
荷発生物質として有用であるが、更に樹脂中に電荷発生
物質と電荷輸送物質とを分散させた単層型の感光層を有
する電子写真感光体における電荷発生物質として、又樹
脂中に光導電性物質を分散させた感光層を有する電子写
真感光体における光導電性物質としても有用である。
【０００６】本発明の前記一般式（Ｉ）で表されるトリ
スアゾ化合物は、下記一般式（VII）で表されるトリス
（ジアゾニウム塩）化合物と、下記一般式（VIII）で表
されるカップラーとを反応させることによって得られ
る。
スアゾ化合物は、下記一般式（VII）で表されるトリス
（ジアゾニウム塩）化合物と、下記一般式（VIII）で表
されるカップラーとを反応させることによって得られ
る。
【化７】 （式中、Ｘはアニオン官能基を表す。）
【化８】 （式中、Ａｒ1、Ａｒ2は置換もしくは無置換のアリール
基を表し、各々同一でも異なっていてもよく、Ｒ1は水
素原子、アルキル基、アルコキシ基もしくはハロゲン原
子を、Ｙは−ＣＨ2ＣＨ2−又は−ＣＨ＝ＣＨ−を表
す。）
基を表し、各々同一でも異なっていてもよく、Ｒ1は水
素原子、アルキル基、アルコキシ基もしくはハロゲン原
子を、Ｙは−ＣＨ2ＣＨ2−又は−ＣＨ＝ＣＨ−を表
す。）
【０００７】又、本発明の前記一般式（III）もしくは
（Ｖ）で表されるトリスアゾ化合物は、前記一般式（VI
I）で表されるトリス（ジアゾニウム塩）化合物と前記
一般式（VIII）または下記一般式（IX）で表されるカッ
プラーとを２段階に順次反応させるか、あるいは最初の
カップリング反応によって得られる下記一般式（Ｘ）ま
たは（XI）のジアゾニウム塩化合物を単離した後、更に
それぞれに対応するカップラーを反応させることによっ
て得ることができる。
（Ｖ）で表されるトリスアゾ化合物は、前記一般式（VI
I）で表されるトリス（ジアゾニウム塩）化合物と前記
一般式（VIII）または下記一般式（IX）で表されるカッ
プラーとを２段階に順次反応させるか、あるいは最初の
カップリング反応によって得られる下記一般式（Ｘ）ま
たは（XI）のジアゾニウム塩化合物を単離した後、更に
それぞれに対応するカップラーを反応させることによっ
て得ることができる。
【化９】 （式中、Ｒ1は水素原子、アルキル基、アルコキシ基も
しくはハロゲン原子を表し、Ｒ3は水素原子、アルキル
基、アルコキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基もしくはジ
アルキルアミノ基を表す。ｎは１〜３の整数を表し、ｎ
が複数の場合Ｒ3はそれぞれ同一でも異なっていてもよ
い。）
しくはハロゲン原子を表し、Ｒ3は水素原子、アルキル
基、アルコキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基もしくはジ
アルキルアミノ基を表す。ｎは１〜３の整数を表し、ｎ
が複数の場合Ｒ3はそれぞれ同一でも異なっていてもよ
い。）
【化１０】 （式中、Ａｒ1、Ａｒ2は置換もしくは無置換のアリール
基を表し、各々同一でも異なっていてもよく、Ｒ1は水
素原子、アルキル基、アルコキシ基もしくはハロゲン原
子を表し、Ｘはアニオン官能基を、Ｙは−ＣＨ2ＣＨ2−
又は−ＣＨ＝ＣＨ−を表す。ｍは１もしくは２の整数を
表す。）
基を表し、各々同一でも異なっていてもよく、Ｒ1は水
素原子、アルキル基、アルコキシ基もしくはハロゲン原
子を表し、Ｘはアニオン官能基を、Ｙは−ＣＨ2ＣＨ2−
又は−ＣＨ＝ＣＨ−を表す。ｍは１もしくは２の整数を
表す。）
【化１１】 （式中、Ｒ1は水素原子、アルキル基、アルコキシ基も
しくはハロゲン原子を表し、Ｒ3は水素原子、アルキル
基、アルコキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基もしくはジ
アルキルアミノ基を表し、Ｘはアニオン官能基を表す。
ｎは１〜３の整数を表し、ｎが複数の場合Ｒ3はそれぞ
れ同一でも異なっていてもよい。又、ｍは１もしくは２
の整数を表す。）
しくはハロゲン原子を表し、Ｒ3は水素原子、アルキル
基、アルコキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基もしくはジ
アルキルアミノ基を表し、Ｘはアニオン官能基を表す。
ｎは１〜３の整数を表し、ｎが複数の場合Ｒ3はそれぞ
れ同一でも異なっていてもよい。又、ｍは１もしくは２
の整数を表す。）
【０００８】実際には、前記一般式（Ｉ）で表されるト
リスアゾ化合物の製造は、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド（ＤＭＦ）やジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）など
の有機溶媒に、前記一般式（VIII）で表されるカップラ
ーを溶解しておき、これに前記一般式（VII）で表され
るトリス（ジアゾニウム塩）化合物を添加し、酢酸ナト
リウム水溶液や、有機アミンのような塩基性物質を添加
することによりカップリング反応を終了させる。この時
の反応温度としては、約−２０℃から約４０℃が好まし
い。
リスアゾ化合物の製造は、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド（ＤＭＦ）やジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）など
の有機溶媒に、前記一般式（VIII）で表されるカップラ
ーを溶解しておき、これに前記一般式（VII）で表され
るトリス（ジアゾニウム塩）化合物を添加し、酢酸ナト
リウム水溶液や、有機アミンのような塩基性物質を添加
することによりカップリング反応を終了させる。この時
の反応温度としては、約−２０℃から約４０℃が好まし
い。
【０００９】また、前記一般式（III）もしくは（Ｖ）
で表されるトリスアゾ化合物は、Ｎ，Ｎ−ジメチルホル
ムアミド（ＤＭＦ）やジメチルスルホキシド（ＤＭＳ
Ｏ）などの有機溶媒に、第１段階のカップリング反応に
用いる前記一般式（VIII）または（IX）で表されるカッ
プラーを溶解しておき、これに一般式（VII）で表され
るトリス（ジアゾニウム塩）化合物を添加し、必要によ
って酢酸ナトリウム水溶液や、有機アミンのような塩基
性物質を添加することにより、第１段階のカップリング
反応は終了する。この時の反応温度としては、約−２０
℃から約４０℃が好ましい。第２段階のカップリング反
応は、上記で得られた反応混合物に、更に第１段階のカ
ップリング反応で用いたカップラーとは異なる前記一般
式（VIII）または（IX）のカップラーを更に添加し、第
１段階のカップリング反応と同様に、必要によって酢酸
ナトリウム水溶液や、有機アミンのような塩基性物質を
添加することにより完了させるか、あるいは第１段階の
カップリング反応混合物を必要によって水やあるいは希
塩酸などの酸性水溶液を添加し（この際には、十分な冷
却を行い、反応によって生成している前記一般式（Ｘ）
または（XI）のジアゾニウム塩化合物を分解させないよ
うにする必要がある。好ましくは１０℃以下で処理する
ことが望ましい。）、一般式（Ｘ）または（XI）のジア
ゾニウム塩化合物を瀘別して単離し、更にこのジアゾニ
ウム塩化合物と、第１段階のカップリング反応で用いた
カップラーとは異なる一般式（VIII）または（IX）のカ
ップラーとを、第１段階のカップリング反応と同様に反
応させることによって完了する。
で表されるトリスアゾ化合物は、Ｎ，Ｎ−ジメチルホル
ムアミド（ＤＭＦ）やジメチルスルホキシド（ＤＭＳ
Ｏ）などの有機溶媒に、第１段階のカップリング反応に
用いる前記一般式（VIII）または（IX）で表されるカッ
プラーを溶解しておき、これに一般式（VII）で表され
るトリス（ジアゾニウム塩）化合物を添加し、必要によ
って酢酸ナトリウム水溶液や、有機アミンのような塩基
性物質を添加することにより、第１段階のカップリング
反応は終了する。この時の反応温度としては、約−２０
℃から約４０℃が好ましい。第２段階のカップリング反
応は、上記で得られた反応混合物に、更に第１段階のカ
ップリング反応で用いたカップラーとは異なる前記一般
式（VIII）または（IX）のカップラーを更に添加し、第
１段階のカップリング反応と同様に、必要によって酢酸
ナトリウム水溶液や、有機アミンのような塩基性物質を
添加することにより完了させるか、あるいは第１段階の
カップリング反応混合物を必要によって水やあるいは希
塩酸などの酸性水溶液を添加し（この際には、十分な冷
却を行い、反応によって生成している前記一般式（Ｘ）
または（XI）のジアゾニウム塩化合物を分解させないよ
うにする必要がある。好ましくは１０℃以下で処理する
ことが望ましい。）、一般式（Ｘ）または（XI）のジア
ゾニウム塩化合物を瀘別して単離し、更にこのジアゾニ
ウム塩化合物と、第１段階のカップリング反応で用いた
カップラーとは異なる一般式（VIII）または（IX）のカ
ップラーとを、第１段階のカップリング反応と同様に反
応させることによって完了する。
【００１０】いずれの方法によって行った反応混合物に
おいても、反応終了後析出している結晶を瀘取し、適切
な方法により精製（例えば水及び／あるいは有機溶剤に
よる洗浄、再結晶法など）することにより前記一般式
（Ｉ）、（III）または（Ｖ）で表されるトリスアゾ化
合物の製造は完了する。
おいても、反応終了後析出している結晶を瀘取し、適切
な方法により精製（例えば水及び／あるいは有機溶剤に
よる洗浄、再結晶法など）することにより前記一般式
（Ｉ）、（III）または（Ｖ）で表されるトリスアゾ化
合物の製造は完了する。
【００１１】前記一般式（Ｉ）〜（VI）および（VIII）
〜（XI）におけるＲ1、Ｒ2、Ｒ3、Ａｒ1及びＡｒ2ある
いはそれらの置換基の具体例を以下に示す。アルキル基
としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基
などを、アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ
基、プロポキシ基、ブトキシ基などを、ハロゲン原子と
しては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素を、アリール基と
しては、フェニル基、ビフェニリル基、ナフチル基、ア
ントリル基、ピレニル基などを挙げることができる。ま
た、前記一般式（VII）、（Ｘ）及び（XI）におけるＸ
はアニオン官能基を表すが、例えばテトラフルオロボレ
ート、パークロレート、ヨーデイド、クロライド、プロ
マイド、サルフェート、ヘキサフルオロホスフェート、
ヘキサフルオロアンチモネート、パーヨーデイド、ｐ−
トルエンスルホネート等が好ましい。
〜（XI）におけるＲ1、Ｒ2、Ｒ3、Ａｒ1及びＡｒ2ある
いはそれらの置換基の具体例を以下に示す。アルキル基
としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基
などを、アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ
基、プロポキシ基、ブトキシ基などを、ハロゲン原子と
しては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素を、アリール基と
しては、フェニル基、ビフェニリル基、ナフチル基、ア
ントリル基、ピレニル基などを挙げることができる。ま
た、前記一般式（VII）、（Ｘ）及び（XI）におけるＸ
はアニオン官能基を表すが、例えばテトラフルオロボレ
ート、パークロレート、ヨーデイド、クロライド、プロ
マイド、サルフェート、ヘキサフルオロホスフェート、
ヘキサフルオロアンチモネート、パーヨーデイド、ｐ−
トルエンスルホネート等が好ましい。
【００１２】
【実施例】以下に、実施例及び応用例に基づいて本発明
を更に詳細に説明するが、本発明はこれに限定されるも
のではない。
を更に詳細に説明するが、本発明はこれに限定されるも
のではない。
【００１３】実施例１ ２−ヒドロキシ−３−〔４−（４−ジ−ｐ−トリルアミ
ノフェネチル）フェニル〕カルバモイル−１１Ｈ−ベン
ゾ〔ａ〕カルバゾール２．９３ｇ（４．５ｍｍｏｌ）を
ＤＭＦ１５０ｍｌに溶解し、室温にてトリフェニルアミ
ン−４，４'，４''−トリス（ジアゾニウムテトラフル
オロボレート）０．８８ｇ（１．５ｍｍｏｌ）を加え
た。次いで、酢酸ナトリウム三水和物１．２２ｇ（９ｍ
ｍｏｌ）を水６ｍｌに溶解させたものを２０分間かけ滴
下し、３時間室温にて攪拌した。生成した沈殿を瀘別
し、８０℃に加熱したＤＭＦ１５０ｍｌで３回洗浄し、
次に水１５０ｍｌで２回洗浄した。１２０℃で減圧下に
乾燥して、下記構造式（XII）で表されるのトリスアゾ
化合物１．３１ｇ（収率３８．３％）を得た。融点は２
８０℃以上であった。このトリスアゾ化合物の赤外吸収
スペクトル（ＫＢｒ錠剤法）を図１に示す。
ノフェネチル）フェニル〕カルバモイル−１１Ｈ−ベン
ゾ〔ａ〕カルバゾール２．９３ｇ（４．５ｍｍｏｌ）を
ＤＭＦ１５０ｍｌに溶解し、室温にてトリフェニルアミ
ン−４，４'，４''−トリス（ジアゾニウムテトラフル
オロボレート）０．８８ｇ（１．５ｍｍｏｌ）を加え
た。次いで、酢酸ナトリウム三水和物１．２２ｇ（９ｍ
ｍｏｌ）を水６ｍｌに溶解させたものを２０分間かけ滴
下し、３時間室温にて攪拌した。生成した沈殿を瀘別
し、８０℃に加熱したＤＭＦ１５０ｍｌで３回洗浄し、
次に水１５０ｍｌで２回洗浄した。１２０℃で減圧下に
乾燥して、下記構造式（XII）で表されるのトリスアゾ
化合物１．３１ｇ（収率３８．３％）を得た。融点は２
８０℃以上であった。このトリスアゾ化合物の赤外吸収
スペクトル（ＫＢｒ錠剤法）を図１に示す。
【化１２】
【００１４】実施例２ ２−ヒドロキシ−３−（２−エチルフェニル）カルバモ
イル−１１Ｈ−ベンゾ〔ａ〕カルバゾール０．５７ｇ
（１．５ｍｍｏｌ）をＤＭＦ５０ｍｌに溶解し、室温に
てトリフェニルアミン−４，４'，４''−トリス（ジア
ゾニウムテトラフルオロボレート）０．８８ｇ（１．５
ｍｍｏｌ）を加えた。室温にて１０分間攪拌した後、２
−ヒドロキシ−３−〔４−（４−ジ−ｐ−トリルアミノ
フェネチル）フェニル〕カルバモイル−１１Ｈ−ベンゾ
〔ａ〕カルバゾール１．９６ｇ（３ｍｍｏｌ）とＤＭＦ
１００ｍｌの溶液を加え、次いで、酢酸ナトリウム三水
和物１．２２ｇ（９ｍｍｏｌ）を水６ｍｌに溶解させた
ものを２０分間かけ滴下し、３時間室温にて攪拌した。
生成した沈殿を瀘別し、８０℃に加熱したＤＭＦ１５０
ｍｌで３回洗浄し、次に水１５０ｍｌで２回洗浄した。
１２０℃で減圧下に乾燥して、下記構造式（XIII）で表
されるトリスアゾ化合物０．６５ｇ（収率２２％）を得
た。融点は２８０℃であった。このトリスアゾ化合物の
赤外吸収スペクトル（ＫＢｒ錠剤法）を図２に示す。
イル−１１Ｈ−ベンゾ〔ａ〕カルバゾール０．５７ｇ
（１．５ｍｍｏｌ）をＤＭＦ５０ｍｌに溶解し、室温に
てトリフェニルアミン−４，４'，４''−トリス（ジア
ゾニウムテトラフルオロボレート）０．８８ｇ（１．５
ｍｍｏｌ）を加えた。室温にて１０分間攪拌した後、２
−ヒドロキシ−３−〔４−（４−ジ−ｐ−トリルアミノ
フェネチル）フェニル〕カルバモイル−１１Ｈ−ベンゾ
〔ａ〕カルバゾール１．９６ｇ（３ｍｍｏｌ）とＤＭＦ
１００ｍｌの溶液を加え、次いで、酢酸ナトリウム三水
和物１．２２ｇ（９ｍｍｏｌ）を水６ｍｌに溶解させた
ものを２０分間かけ滴下し、３時間室温にて攪拌した。
生成した沈殿を瀘別し、８０℃に加熱したＤＭＦ１５０
ｍｌで３回洗浄し、次に水１５０ｍｌで２回洗浄した。
１２０℃で減圧下に乾燥して、下記構造式（XIII）で表
されるトリスアゾ化合物０．６５ｇ（収率２２％）を得
た。融点は２８０℃であった。このトリスアゾ化合物の
赤外吸収スペクトル（ＫＢｒ錠剤法）を図２に示す。
【化１３】
【００１５】実施例３ ２−ヒドロキシ−３−（２−エチルフェニル）カルバモ
イル−１１Ｈ−ベンゾ〔ａ〕カルバゾール１．１４ｇ
（３ｍｍｏｌ）をＤＭＦ１００ｍｌに溶解し、室温にて
トリフェニルアミン−４，４'，４''−トリス（ジアゾ
ニウムテトラフルオロボレート）０．８８ｇ（１．５ｍ
ｍｏｌ）を加えた。室温にて１０分間攪拌した後、２−
ヒドロキシ−３−〔４−（４−ジ−ｐ−トリルアミノフ
ェネチル）フェニル〕カルバモイル−１１Ｈ−ベンゾ
〔ａ〕カルバゾール０．９８ｇ（１．５ｍｍｏｌ）とＤ
ＭＦ５０ｍｌの溶液を加え、次いで、酢酸ナトリウム三
水和物１．２２ｇ（９ｍｍｏｌ）を水６ｍｌに溶解させ
たものを２０分間かけ滴下し、３時間室温にて攪拌し
た。生成した沈殿を瀘別し、８０℃に加熱したＤＭＦ１
５０ｍｌで３回洗浄し、次に水１５０ｍｌで２回洗浄し
た。１２０℃で減圧下に乾燥して、下記構造式（XIV）
で表されるトリスアゾ化合物０．９９ｇ（収率３８％）
を得た。融点は２８０℃以上であった。このトリスアゾ
化合物の赤外吸収スペクトル（ＫＢｒ錠剤法）を図３に
示す。
イル−１１Ｈ−ベンゾ〔ａ〕カルバゾール１．１４ｇ
（３ｍｍｏｌ）をＤＭＦ１００ｍｌに溶解し、室温にて
トリフェニルアミン−４，４'，４''−トリス（ジアゾ
ニウムテトラフルオロボレート）０．８８ｇ（１．５ｍ
ｍｏｌ）を加えた。室温にて１０分間攪拌した後、２−
ヒドロキシ−３−〔４−（４−ジ−ｐ−トリルアミノフ
ェネチル）フェニル〕カルバモイル−１１Ｈ−ベンゾ
〔ａ〕カルバゾール０．９８ｇ（１．５ｍｍｏｌ）とＤ
ＭＦ５０ｍｌの溶液を加え、次いで、酢酸ナトリウム三
水和物１．２２ｇ（９ｍｍｏｌ）を水６ｍｌに溶解させ
たものを２０分間かけ滴下し、３時間室温にて攪拌し
た。生成した沈殿を瀘別し、８０℃に加熱したＤＭＦ１
５０ｍｌで３回洗浄し、次に水１５０ｍｌで２回洗浄し
た。１２０℃で減圧下に乾燥して、下記構造式（XIV）
で表されるトリスアゾ化合物０．９９ｇ（収率３８％）
を得た。融点は２８０℃以上であった。このトリスアゾ
化合物の赤外吸収スペクトル（ＫＢｒ錠剤法）を図３に
示す。
【化１４】
【００１６】実施例４〜１８ 実施例１〜３と同様な条件で、各々下記の構造式で示さ
れるトリスアゾ化合物を得た〔［化１５］（実施例
４）、［化１６］（実施例５）、［化１７］（実施例
６）、［化１８］（実施例７）、［化１９］（実施例
８）、［化２０］（実施例９）、［化２１］（実施例１
０）、［化２２］（実施例１１）、［化２３］（実施例
１２）、［化２４］（実施例１３）、［化２５］（実施
例１４）、［化２６］（実施例１５）、［化２７］（実
施例１６）、［化２８］（実施例１７）、［化２９］
（実施例１８）〕。得られた化合物の融点、元素分析値
を表１に示す。また得られたトリスアゾ化合物のそれぞ
れの赤外吸収スペクトル図（ＫＢｒ錠剤法）を各々図４
〜１８に示す。
れるトリスアゾ化合物を得た〔［化１５］（実施例
４）、［化１６］（実施例５）、［化１７］（実施例
６）、［化１８］（実施例７）、［化１９］（実施例
８）、［化２０］（実施例９）、［化２１］（実施例１
０）、［化２２］（実施例１１）、［化２３］（実施例
１２）、［化２４］（実施例１３）、［化２５］（実施
例１４）、［化２６］（実施例１５）、［化２７］（実
施例１６）、［化２８］（実施例１７）、［化２９］
（実施例１８）〕。得られた化合物の融点、元素分析値
を表１に示す。また得られたトリスアゾ化合物のそれぞ
れの赤外吸収スペクトル図（ＫＢｒ錠剤法）を各々図４
〜１８に示す。
【化１５】
【化１６】
【化１７】
【化１８】
【化１９】
【化２０】
【化２１】
【化２２】
【化２３】
【化２４】
【化２５】
【化２６】
【化２７】
【化２８】
【化２９】
【００１７】
【表１】
【００１８】応用例１ 実施例１で得られた前記構造式（XII）で表されるトリ
スアゾ化合物７．５重量部及びポリエステル樹脂（東洋
紡績社製バイロン２００）のテトラヒドロフラン溶液
（固形分濃度０．５重量％）５００重量部をボールミル
中で粉砕混合し、得られた分散液をアルミニウム蒸着し
たポリエステルベース（導電性支持体）のアルミニウム
面上にドクターブレードを用いて塗布し、自然乾燥し
て、厚さ約１μｍの電荷発生層を形成した。この電荷発
生層上に、電荷輸送物質として４’−ビス（４−メチル
フェニル）アミノ−α−フェニルスチルベン１重量部、
ポリカーボネート樹脂（帝人社製パンライトＫ−１３０
０）１重量部及びテトラヒドロフラン８重量部を混合溶
解した溶液をドクターブレードを用いて塗布し、８０℃
で２分間、次いで１２０℃で５分間乾燥して厚さ約２０
μｍの電荷輸送層を形成して積層型の感光体を作成し
た。このようにして作製した積層型の感光体について、
静電複写紙試験装置（（株）川口電気製作所製ＳＰ４２
８型）を用いて−６ＫＶのコロナ放電を２０秒間行って
負に帯電せしめた後、２０秒間暗所に放置し、その時の
表面電位Ｖｐｏ（Ｖ）を測定し、次いでタングステンラ
ンプによってその表面が照度４．５ｌｕｘになるように
光を照射し、光減衰によってＶｐｏが１／２になるまで
の時間（ｓｅｃ）を求め、感光体の感度として半減露光
量Ｅ１／２（ｌｕｘ・ｓｅｃ）を算出した。Ｖｐｏは−
１１４４（Ｖ）、Ｅ１／２は２．５１（ｌｕｘ・ｓｅ
ｃ）であり、高感度な感光体であることがわかる。
スアゾ化合物７．５重量部及びポリエステル樹脂（東洋
紡績社製バイロン２００）のテトラヒドロフラン溶液
（固形分濃度０．５重量％）５００重量部をボールミル
中で粉砕混合し、得られた分散液をアルミニウム蒸着し
たポリエステルベース（導電性支持体）のアルミニウム
面上にドクターブレードを用いて塗布し、自然乾燥し
て、厚さ約１μｍの電荷発生層を形成した。この電荷発
生層上に、電荷輸送物質として４’−ビス（４−メチル
フェニル）アミノ−α−フェニルスチルベン１重量部、
ポリカーボネート樹脂（帝人社製パンライトＫ−１３０
０）１重量部及びテトラヒドロフラン８重量部を混合溶
解した溶液をドクターブレードを用いて塗布し、８０℃
で２分間、次いで１２０℃で５分間乾燥して厚さ約２０
μｍの電荷輸送層を形成して積層型の感光体を作成し
た。このようにして作製した積層型の感光体について、
静電複写紙試験装置（（株）川口電気製作所製ＳＰ４２
８型）を用いて−６ＫＶのコロナ放電を２０秒間行って
負に帯電せしめた後、２０秒間暗所に放置し、その時の
表面電位Ｖｐｏ（Ｖ）を測定し、次いでタングステンラ
ンプによってその表面が照度４．５ｌｕｘになるように
光を照射し、光減衰によってＶｐｏが１／２になるまで
の時間（ｓｅｃ）を求め、感光体の感度として半減露光
量Ｅ１／２（ｌｕｘ・ｓｅｃ）を算出した。Ｖｐｏは−
１１４４（Ｖ）、Ｅ１／２は２．５１（ｌｕｘ・ｓｅ
ｃ）であり、高感度な感光体であることがわかる。
【００１９】応用例２ 実施例２で得られた前記構造式（XIII）で表されるトリ
スアゾ化合物を用い、電荷輸送物質として１−フェニル
−３−（４−ジエチルアミノスチリル）−５−（４−ジ
エチルアミノフェニル）ピラゾリンに変えた以外は、応
用例１と同様にして感光体を作成し、測定を行った。Ｖ
ｐｏは−７４９（Ｖ）、Ｅ１／２は１．６８（ｌｕｘ・
ｓｅｃ）であり、高感度な感光体であることがわかる。
スアゾ化合物を用い、電荷輸送物質として１−フェニル
−３−（４−ジエチルアミノスチリル）−５−（４−ジ
エチルアミノフェニル）ピラゾリンに変えた以外は、応
用例１と同様にして感光体を作成し、測定を行った。Ｖ
ｐｏは−７４９（Ｖ）、Ｅ１／２は１．６８（ｌｕｘ・
ｓｅｃ）であり、高感度な感光体であることがわかる。
【００２０】応用例３ 実施例３で得られた前記構造式（XIV）で表されるトリ
スアゾ化合物を用い、電荷輸送物質として４’−ビス
（４−メチルフェニル）アミノ−α−フェニルスチルベ
ンに変えた以外は、応用例１と同様にして感光体を作成
し、測定を行った。Ｖｐｏは−８４２（Ｖ）、Ｅ１／２
は０．３４（ｌｕｘ・ｓｅｃ）であり、高感度な感光体
であることがわかる。
スアゾ化合物を用い、電荷輸送物質として４’−ビス
（４−メチルフェニル）アミノ−α−フェニルスチルベ
ンに変えた以外は、応用例１と同様にして感光体を作成
し、測定を行った。Ｖｐｏは−８４２（Ｖ）、Ｅ１／２
は０．３４（ｌｕｘ・ｓｅｃ）であり、高感度な感光体
であることがわかる。
【００２１】
【発明の効果】以上の説明からわかるように、本発明の
トリスアゾ化合物は容易に製造できる上、応用例からも
明らかなように、電子写真感光体、特に高速度複写機な
どに実用的な高感度電子写真感光体における高感度な電
荷発生物質として極めて有用である。
トリスアゾ化合物は容易に製造できる上、応用例からも
明らかなように、電子写真感光体、特に高速度複写機な
どに実用的な高感度電子写真感光体における高感度な電
荷発生物質として極めて有用である。
【図１】実施例１で得られた本発明のトリスアゾ化合物
の赤外吸収スペクトル図（ＫＢｒ錠剤法）である。
の赤外吸収スペクトル図（ＫＢｒ錠剤法）である。
【図２】実施例２で得られた本発明のトリスアゾ化合物
の赤外吸収スペクトル図（ＫＢｒ錠剤法）である。
の赤外吸収スペクトル図（ＫＢｒ錠剤法）である。
【図３】実施例３で得られた本発明のトリスアゾ化合物
の赤外吸収スペクトル図（ＫＢｒ錠剤法）である。
の赤外吸収スペクトル図（ＫＢｒ錠剤法）である。
【図４】実施例４で得られた本発明のトリスアゾ化合物
の赤外吸収スペクトル図（ＫＢｒ錠剤法）である。
の赤外吸収スペクトル図（ＫＢｒ錠剤法）である。
【図５】実施例５で得られた本発明のトリスアゾ化合物
の赤外吸収スペクトル図（ＫＢｒ錠剤法）である。
の赤外吸収スペクトル図（ＫＢｒ錠剤法）である。
【図６】実施例６で得られた本発明のトリスアゾ化合物
の赤外吸収スペクトル図（ＫＢｒ錠剤法）である。
の赤外吸収スペクトル図（ＫＢｒ錠剤法）である。
【図７】実施例７で得られた本発明のトリスアゾ化合物
の赤外吸収スペクトル図（ＫＢｒ錠剤法）である。
の赤外吸収スペクトル図（ＫＢｒ錠剤法）である。
【図８】実施例８で得られた本発明のトリスアゾ化合物
の赤外吸収スペクトル図（ＫＢｒ錠剤法）である。
の赤外吸収スペクトル図（ＫＢｒ錠剤法）である。
【図９】実施例９で得られた本発明のトリスアゾ化合物
の赤外吸収スペクトル図（ＫＢｒ錠剤法）である。
の赤外吸収スペクトル図（ＫＢｒ錠剤法）である。
【図１０】実施例１０で得られた本発明のトリスアゾ化
合物の赤外吸収スペクトル図（ＫＢｒ錠剤法）である。
合物の赤外吸収スペクトル図（ＫＢｒ錠剤法）である。
【図１１】実施例１１で得られた本発明のトリスアゾ化
合物の赤外吸収スペクトル図（ＫＢｒ錠剤法）である。
合物の赤外吸収スペクトル図（ＫＢｒ錠剤法）である。
【図１２】実施例１２で得られた本発明のトリスアゾ化
合物の赤外吸収スペクトル図（ＫＢｒ錠剤法）である。
合物の赤外吸収スペクトル図（ＫＢｒ錠剤法）である。
【図１３】実施例１３で得られた本発明のトリスアゾ化
合物の赤外吸収スペクトル図（ＫＢｒ錠剤法）である。
合物の赤外吸収スペクトル図（ＫＢｒ錠剤法）である。
【図１４】実施例１４で得られた本発明のトリスアゾ化
合物の赤外吸収スペクトル図（ＫＢｒ錠剤法）である。
合物の赤外吸収スペクトル図（ＫＢｒ錠剤法）である。
【図１５】実施例１５で得られた本発明のトリスアゾ化
合物の赤外吸収スペクトル図（ＫＢｒ錠剤法）である。
合物の赤外吸収スペクトル図（ＫＢｒ錠剤法）である。
【図１６】実施例１６で得られた本発明のトリスアゾ化
合物の赤外吸収スペクトル図（ＫＢｒ錠剤法）である。
合物の赤外吸収スペクトル図（ＫＢｒ錠剤法）である。
【図１７】実施例１７で得られた本発明のトリスアゾ化
合物の赤外吸収スペクトル図（ＫＢｒ錠剤法）である。
合物の赤外吸収スペクトル図（ＫＢｒ錠剤法）である。
【図１８】実施例１８で得られた本発明のトリスアゾ化
合物の赤外吸収スペクトル図（ＫＢｒ錠剤法）である。
合物の赤外吸収スペクトル図（ＫＢｒ錠剤法）である。
Claims (6)
- 【請求項１】 下記一般式（Ｉ）で表されるトリスアゾ
化合物。 【化１】 （式中、Ａｒ1、Ａｒ2は置換もしくは無置換のアリール
基を表し、各々同一でも異なっていてもよく、Ｒ1は水
素原子、アルキル基、アルコキシ基もしくはハロゲン原
子を、Ｙは−ＣＨ2ＣＨ2−又は−ＣＨ＝ＣＨ−を表
す。） - 【請求項２】 下記一般式（II）で表されるトリスアゾ
化合物。 【化２】 （式中、Ｒ2は水素原子もしくはアルキル基を、Ｙは−
ＣＨ2ＣＨ2−又は−ＣＨ＝ＣＨ−を表す。） - 【請求項３】 下記一般式（III）で表されるトリスア
ゾ化合物。 【化３】 （式中、Ａｒ1、Ａｒ2は置換もしくは無置換のアリール
基を表し、各々同一でも異なっていてもよく、Ｒ1は水
素原子、アルキル基、アルコキシ基もしくはハロゲン原
子を表し、Ｒ3は水素原子、アルキル基、アルコキシ
基、ハロゲン原子、ニトロ基もしくはジアルキルアミノ
基を、Ｙは−ＣＨ2ＣＨ2−又は−ＣＨ＝ＣＨ−を表す。
ｎは１〜３の整数を表し、ｎが複数の場合Ｒ3はそれぞ
れ同一でも異なっていてもよい。） - 【請求項４】 下記一般式（IV）で表されるトリスアゾ
化合物。 【化４】 （式中、Ｒ2は水素原子もしくはアルキル基を、Ｙは−
ＣＨ2ＣＨ2−又は−ＣＨ＝ＣＨ−を表す。） - 【請求項５】 下記一般式（Ｖ）で表されるトリスアゾ
化合物。 【化５】 （式中、Ａｒ1、Ａｒ2は置換もしくは無置換のアリール
基を表し、各々同一でも異なっていてもよく、Ｒ1は水
素原子、アルキル基、アルコキシ基もしくはハロゲン原
子を表し、Ｒ3は水素原子、アルキル基、アルコキシ
基、ハロゲン原子、ニトロ基もしくはジアルキルアミノ
基を、Ｙは−ＣＨ2ＣＨ2−又は−ＣＨ＝ＣＨ−を表す。
ｎは１〜３の整数を表し、ｎが複数の場合Ｒ3はそれぞ
れ同一でも異なっていてもよい。） - 【請求項６】 下記一般式（VI）で表されるトリスアゾ
化合物。 【化６】 （式中、Ｒ2は水素原子もしくはアルキル基を、Ｙは−
ＣＨ2ＣＨ2−又は−ＣＨ＝ＣＨ−を表す。）
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34917995A JP3358017B2 (ja) | 1995-01-19 | 1995-12-20 | トリスアゾ化合物 |
Applications Claiming Priority (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2467995 | 1995-01-19 | ||
| JP7-153954 | 1995-05-29 | ||
| JP7-24679 | 1995-05-29 | ||
| JP15395495 | 1995-05-29 | ||
| JP34917995A JP3358017B2 (ja) | 1995-01-19 | 1995-12-20 | トリスアゾ化合物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0948757A true JPH0948757A (ja) | 1997-02-18 |
| JP3358017B2 JP3358017B2 (ja) | 2002-12-16 |
Family
ID=27284745
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP34917995A Expired - Lifetime JP3358017B2 (ja) | 1995-01-19 | 1995-12-20 | トリスアゾ化合物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3358017B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000305289A (ja) * | 1999-02-16 | 2000-11-02 | Ricoh Co Ltd | 電子写真用感光体と、それを用いた画像形成方法及び装置 |
| JP2010102318A (ja) * | 2008-09-25 | 2010-05-06 | Canon Inc | アゾ顔料、電子写真感光体、プロセスカートリッジおよび電子写真装置 |
-
1995
- 1995-12-20 JP JP34917995A patent/JP3358017B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000305289A (ja) * | 1999-02-16 | 2000-11-02 | Ricoh Co Ltd | 電子写真用感光体と、それを用いた画像形成方法及び装置 |
| JP2010102318A (ja) * | 2008-09-25 | 2010-05-06 | Canon Inc | アゾ顔料、電子写真感光体、プロセスカートリッジおよび電子写真装置 |
| EP2184327A2 (en) | 2008-09-25 | 2010-05-12 | Canon Kabushiki Kaisha | Azo pigment, electrophotographic photosensitive member, process cartridge, and electrophotographic apparatus |
| EP2184327A3 (en) * | 2008-09-25 | 2011-06-15 | Canon Kabushiki Kaisha | Azo pigment, electrophotographic photosensitive member, process cartridge, and electrophotographic apparatus |
| US8309696B2 (en) | 2008-09-25 | 2012-11-13 | Canon Kabushiki Kaisha | AZO pigment, electrophotographic photosensitive member, process cartridge, and electrophotographic apparatus |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3358017B2 (ja) | 2002-12-16 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3026645B2 (ja) | ビスアゾ化合物 | |
| JP3358017B2 (ja) | トリスアゾ化合物 | |
| JP5046628B2 (ja) | ビスアゾ化合物、２−ヒドロキシ−３−フェニルカルバモイルナフタレン化合物、ビスアゾ化合物の製造方法、電子写真方式の感光体、画像形成装置およびプロセスカートリッジ | |
| JP3611370B2 (ja) | ビスアゾ化合物及びその製造用の中間体 | |
| JP3486296B2 (ja) | ビスアゾ化合物 | |
| JP3018299B2 (ja) | ビスアゾ化合物 | |
| JPS5935935B2 (ja) | 新規なジスアゾ化合物およびその製造方法 | |
| JP2941932B2 (ja) | ビスアゾ化合物 | |
| JP2883933B2 (ja) | ビスアゾ化合物およびその製造方法 | |
| JP2612169B2 (ja) | アゾ化合物およびその製造方法 | |
| JP3358016B2 (ja) | ２−ヒドロキシ−３−フェニルカルバモイル−１１Ｈ−ベンゾ〔ａ〕カルバゾール化合物 | |
| JP3096074B2 (ja) | ビスアゾ化合物 | |
| JP2968977B2 (ja) | １，３―ジアミノピレン化合物 | |
| JP3026622B2 (ja) | ビスアゾ化合物 | |
| JP2941928B2 (ja) | ビスアゾ化合物 | |
| JP5052844B2 (ja) | ビスアゾ化合物、２−ヒドロキシ−３−フェニルカルバモイルナフタレン化合物、アニリン化合物、ビスアゾ化合物の製造方法、感光体、画像形成装置およびプロセスカートリッジ | |
| JP3026625B2 (ja) | ビスアゾ化合物 | |
| JP2897133B2 (ja) | ビスアゾ化合物およびその製造方法 | |
| JP2847195B2 (ja) | ビスアゾ化合物およびその製造方法 | |
| JPH0723453B2 (ja) | ジスアゾ化合物 | |
| JPH0553836B2 (ja) | ||
| JPH0447714B2 (ja) | ||
| JPH061922A (ja) | ビスアゾ化合物 | |
| JP2000086921A (ja) | ビスアゾ化合物およびその製造法 | |
| JPH0684478B2 (ja) | ジスアゾ化合物 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20071011 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081011 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 6 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081011 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091011 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 8 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101011 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111011 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 10 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121011 |