JPH0944897A

JPH0944897A - 光学記録媒体

Info

Publication number: JPH0944897A
Application number: JP7192144A
Authority: JP
Inventors: Minoru Kikuchi; 稔菊地
Original assignee: Sony Corp
Current assignee: Sony Corp
Priority date: 1995-07-27
Filing date: 1995-07-27
Publication date: 1997-02-14

Abstract

(57)【要約】【課題】２層以上の記録層を有する光学記録媒体にお
いて、２層目以降の記録層を再生する場合にも、良好な
再生特性を得る。【解決手段】少なくとも第１の記録層と、第１の記録
層上に表面が平坦化された透明樹脂層３と、透明樹脂層
３の平坦面上に形成された第２の記録層２４を有し、第
２の記録層２４は少なくともＰｔＣｏ膜１２を有してな
る光学記録媒体を構成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、基板上に情報の記
録がなされる記録層が２層以上形成された光学記録媒体
に係わる。

【０００２】

【従来の技術】従来、レーザ光の照射により情報の記録
・再生を行う光学ディスクには、デジタルオーディオデ
ィスク（いわゆるコンパクトディスク）、光学式ビデオ
ディスク（いわゆるレーザーディスク）、光磁気ディス
ク、各種追記型ディスク、もしくは各カード等の光学記
録媒体が実用化されている。これら光学ディスクは、い
ずれもポリカーボネート樹脂などの透明基板上に、記録
層や反射膜等の機能膜が形成された構成とされる。

【０００３】このような光学記録媒体の利用法として
は、コンパクトディスク（ＣＤ）やレーザーディスク
（ＬＤ）のように再生専用の記録媒体（ＲＯＭ：Read O
nly Memory）として利用する場合と、光磁気ディスクの
ように情報の記録、追加書き込み、書き換え等が可能な
記録媒体（ＲＡＭ：Random Access Memory）として利用
する場合がある。

【０００４】また、光学ディスクの再生方法は、例えば
次のように行われる。再生専用ディスクでは、ディスク
の透明基板上にレーザ光の波長の１／４程度の深さの凹
凸状プリピットが形成され、その上を覆うように反射膜
が形成され、このプリピットにおいて生じる光の干渉に
よる反射率の変化を検出して、記録が再生される。

【０００５】一方、書き換え可能なディスク、例えば光
磁気ディスクでは、記録情報に応じて磁性膜からなる記
録層の磁化方向が上向きあるいは下向きに揃っている領
域、すなわち記録ピットを形成し、その部分で反射した
直線偏光の磁気光学効果による回転角θ_k（カー回転
角）を検出して、記録の再生を行っている。

【０００６】従来の光磁気ディスクの記録層は、磁性膜
であるＴｂＦｅＣｏ膜の両側を、磁性膜の酸化防止およ
び多重干渉による光磁気信号のエンハンス効果のために
設ける透明な誘電体膜、例えばＳｉＮ膜で覆い、さらに
Ａｌ反射膜で覆った４層構造で記録層を構成している。

【０００７】現在の光学ディスクは、上述の再生専用デ
ィスクまたは書き換え可能なディスクのいずれか一方の
機能を有するものであり、この両方の機能を実現する光
学ディスクは、いくつか提案されているものの実用化に
は至っていない。

【０００８】例えば、特開平２−９１８４１号公報や特
開平４−１４７４４９号公報において提案されているよ
うに、基板のグルーブ上にあらかじめ凹凸状のプリピッ
トが形成され、その上に光磁気記録層が形成された構造
の光学ディスクにおいて、凹凸状プリピットを再生専用
として用い、光磁気記録層に後から記録され、記録ピッ
トを書き換え可能な領域として用いる方法がある。

【０００９】しかし、この方法では、プリピットの上に
光磁気記録ピットを書き込んだ場合に、プリピットで光
の干渉が生じるために、光磁気記録層から光が戻らず、
光磁気信号の再生は不可能になる。そこで、プリピット
の深さを波長の１／４からずらして、かつ、プリピット
の上に、光磁気信号の再生時に再生信号の増幅器の利得
の向上を図るための、特殊な再生回路を設けた構成を採
る必要が生じる。

【００１０】これらの問題は、再生専用の記録層と書き
込みを行う記録層とが同じ深さ位置にあるために生じて
おり、これらの記録層を異なる深さ位置、すなわち独立
した２層構造にして、それぞれの記録層にレーザ光を目
的とする記録層にフォーカスさせることにより、前述の
ような特殊な回路を用いないで光磁気記録層等書き換え
可能な記録層の再生が可能となる。

【００１１】ところで、最近新たな光学ディスクとし
て、コンパクトディスク（ＣＤ）と同じ直径１２０ｍｍ
のディスクに、現行のテレビジョン並の画質で映画１本
分の映像・音声を記録するデジタル・ビデオ・ディスク
（ＤＶＤ）の開発が進められている。ＤＶＤは記録容量
をＣＤの６〜８倍に高める必要があるので、基板の片面
に情報を記録する記録層を２層設けた構造の厚さ１．２
ｍｍの光学ディスクや、厚さ０．６ｍｍの単板ディスク
の記録層の側同士を２枚貼り合わせた構造の光学ディス
クが提案されている（日経エレクトロニクス１９９５年
２月２７日号参照）。

【００１２】記録層を２層とした構造の光学ディスク
は、図４に記録層を２層とした構造の光学ディスクの断
面構成図を示すように、ポリカーボネート樹脂等からな
る透明基板１上に、第１の反射膜２による第１の記録層
と、さらに透明樹脂層として平均厚さ３０〜５０μｍを
有する中間層となる紫外線硬化樹脂層（以下中間ＵＶ層
という）３が形成されて、これの上に第２の反射膜４に
よる第２の記録層とが形成され、さらにこれの上に保護
膜５が形成されてなる。

【００１３】この光学ディスクでは、第１の反射膜２に
より構成される第１の記録層または第２の反射膜４によ
り構成される第２の記録層にそれぞれフォーカスをかけ
ることにより、それぞれの記録層から情報を読みとるこ
とが可能になり、記録容量を２倍とすることができるも
のである。そして、この第１の記録層および第２の記録
層を、用途に応じて、再生専用＋再生専用型、再生専用
＋書き換え可能型、書き換え可能型＋書き換え可能型と
する光学ディスクがそれぞれ提案されている。

【００１４】このうち、第１の記録層を再生専用型と
し、第２の記録層を書き換え可能型とする構造の光学デ
ィスクの製造は、次のような工程を採って行われる。ま
ず通常のＣＤの場合と同様に、射出成形により片面に凹
凸記録ピットを有する円盤状の透明樹脂製の透明基板１
を作製し、その記録ピットが形成されている面に、誘電
体からなる半透明の第１の反射膜２を成膜して第１の記
録層を形成する。

【００１５】次にいわゆる２Ｐ（Ｐｈｏｔｏ−ｐｏｌｙ
ｍｅｒｉｚａｔｉｏｎ：光重合法）法により、中間ＵＶ
層１３を平均３０〜５０μｍ厚さに塗布形成し、グルー
ブを形成するためにスタンパーで押圧しながら紫外線を
照射して樹脂を硬化させる。

【００１６】そして、その後はこの通常の光磁気ディス
クと同様に磁性膜を有する第２の記録層を構成し、さら
にこれの上に紫外線硬化樹脂からなる保護膜５を形成さ
せて、光学ディスクを得る。

【００１７】この光学ディスクの再生原理を図５を参照
して説明する。図５は、図４に示した構造の光学ディス
クの要部の拡大図で、ピットが形成されていない箇所に
ついて示したものである。

【００１８】透明基板１の上から入射した強度Ｔ₀の光
が、膜厚ｄ₁の第１の記録層を構成する第１の反射膜２
で反射したときの反射強度をＲ₁とする。一方、第１の
反射膜２を透過し、中間ＵＶ層３に入射した光の強度を
Ｔ₁とする。これが第２の記録層を構成する第２の反射
膜４で反射したときの光の強度をＲ₂とする。ただし、
第２の反射膜４は充分厚く、光は透過しないものとす
る。

【００１９】第２の反射膜４で反射した光が、再び第１
の反射膜２を透過し、透明基板１に入射する光の強度を
Ｒ₃とすると、Ｒ₃は次の数１で表される。

【００２０】

【数１】Ｒ₃＝Ｒ₂×Ｔ₁／Ｔ₀

【００２１】すなわち、第１の反射膜２を再生するとき
は、レンズによって絞られた光のフォーカスを反射膜２
に合わせ、このとき反射率はＲ₁である。また第２の反
射膜４を再生するときは、光のフォーカスを第２の反射
膜４に合わせ、このとき反射率はＲ₃である。

【００２２】ここで、第１の反射膜２の記録ピットが形
成されていない部分にフォーカスが合ったときの反射率
はＲ₁である。第１の反射膜２の記録ピットが形成され
ている部分にフォーカスが合ったときには、反射光は干
渉し、反射率は０となる。従って、ピットの有無による
反射率の差ΔＲ₁は、ΔＲ₁＝Ｒ₁−０＝Ｒ₁である。
このＲ₁が大きいほど、第１の反射膜２を再生する際の
再生信号特性が向上する。しかし、あまりＲ₁を大きく
し過ぎると、第２の記録層に到達する光Ｔ₁が少なくな
り、第２の記録層の記録および再生が困難になる。そこ
で、ΔＲ₁＝Ｒ₁は０．２程度が好ましい。

【００２３】同様に、第２の反射膜４の光磁気記録ピッ
トが書き込まれる面にフォーカスが合ったときの反射率
はＲ₃である。ここで、光磁気記録ピットによるレーザ
光のカー回転角θ_kと反射率Ｒ₃の積であるＲ₃θ_kが
大きいほど再生特性が向上する。また検出素子の性質上
Ｒ₃は０．２以上が望ましいとされる。

【００２４】以上のように、記録層が２層構造の光学デ
ィスクでは、ΔＲ₁＝０．２、Ｒ₃は０．２以上、かつ
Ｒ₃θ_kが充分大きくなるように、第１の記録層および
第２の記録層の材料や膜厚等の構成を最適化する。

【００２５】

【発明が解決しようとする課題】上述の記録層を２層と
した構造で再生専用型（ＲＯＭ型）と書き換え可能型
（ＲＡＭ型）を併用する光学ディスクでは、波長６３０
ｎｍのレーザ光を用いて情報の記録や再生を行い、半透
明の第１の反射膜２の上に透明な中間ＵＶ層３が形成さ
れ、その上に第２の記録層を構成する光磁気記録層が形
成される。そして各層からの反射率は０．２以上必要で
ある。この光磁気記録層に、従来の光磁気ディスクと同
様に、ＴｂＦｅＣｏ磁性膜およびその両側の誘電体膜を
含む４層構造を用いると、光磁気記録層における反射率
が小さく、またカー回転角θ_kも小さくなり、第２の記
録層を再生するときに、安定した再生特性が得られない
問題がある。

【００２６】上述した問題の解決のために、本発明にお
いては、第２の記録層を再生する場合に、良好な再生特
性を有する光学ディスクを提供するものである。

【００２７】

【課題を解決するための手段】本発明による光学記録媒
体は、少なくとも第１の記録層と、第１の記録層上に表
面が平坦化された透明樹脂層と、透明樹脂層の平坦面上
に形成された第２の記録層を有し、第２の記録層は少な
くともＰｔＣｏ膜を有する構成とする。

【００２８】上述の本発明の構成によれば、第２の記録
層に波長６３０ｎｍのレーザ光に対する反射率が高く、
カー回転角が大きいＰｔＣｏ膜を用いることにより、第
２の記録層からの反射率が高くなり、また再生特性が向
上する。

【００２９】

【発明の実施の形態】本発明による光学記録媒体は、基
板上に第１の記録層と第２の記録層とが透明樹脂層を介
して積層形成されてなる光学記録媒体例えば光学ディス
クやカード等において、第２の記録層を少なくともＰｔ
Ｃｏ膜を含んで構成する。

【００３０】ＰｔＣｏ膜は波長６３０ｎｍのレーザ光に
対する反射率が高く、カー回転角が大きいので、これに
より第２の記録層からの反射率が高くなり、また再生特
性が向上するものである。

【００３１】このＰｔＣｏ膜を含む第２の記録層として
は、ＰｔＣｏ膜および反射膜の２層構造、透明な誘電体
膜・ＰｔＣｏ膜・反射膜の３層構造、透明な誘電体膜・
ＰｔＣｏ膜・透明な誘電体膜・反射膜の４層構造等を用
いて構成することができる。

【００３２】続いて、本発明による光学記録媒体の具体
例について説明する。

【００３３】図１に本発明の光学記録媒体、この例では
光学ディスクの一例（以下実施例１とする）の断面構成
図を示す。この例では、記録層を２層とし、そのうち第
２の記録層２４をＰｔＣｏ膜１２を含んで構成し、第２
の記録層２４をＰｔＣｏ膜１２と第２の反射膜１４との
２層構造とする場合の例である。

【００３４】この光学ディスクは、記録情報に応じた凹
凸記録ピットを形成した透明基板１上に第１の反射膜２
を形成して第１の記録層を構成し、透明樹脂層として紫
外線硬化樹脂からなる中間層すなわち中間ＵＶ層３を介
して、ＰｔＣｏ膜１２および第２の反射膜１４を形成し
て第２の記録層２４を構成し、これの上に保護膜５が積
層形成されてなる。

【００３５】この光学ディスクの製造は例えば次のよう
にして行う。まず、第１の記録層を構成する凹凸ピット
が形成された、厚さが１．２ｍｍ、半径が６０ｍｍの円
盤状のポリカーボネート樹脂からなる透明基板１を射出
成形等の方法により形成する。この凹凸ピット上に、ス
パッタリングによりシリコンからなる第１の反射膜２
を、１５ｎｍの厚さに被着形成させる。このとき、図５
における透明基板１の上から入射した光の強度Ｔ₀を
１．０とすると、第１の反射膜２において多重干渉して
反射してくる光の反射率Ｒ₁は０．２１、第１の反射膜
２を透過し中間ＵＶ層３に入射する光の強度Ｔ₁は０．
７２となる。

【００３６】続いて第１の反射膜２の上に、中間ＵＶ層
３を厚さが３０〜５０μｍとなるように形成する。この
中間ＵＶ層３の形成には、例えば２Ｐ法を用いる。そし
て、この塗膜に紫外線を照射し硬化させることで、中間
ＵＶ層３を形成することができる。

【００３７】この中間ＵＶ層３の上に第２の記録層２４
を構成するＰｔＣｏ膜１２を形成する。ＰｔＣｏ膜１２
は、厚さ１．１ｎｍのＰｔ膜と、厚さ０．６４ｎｍのＣ
ｏ膜とを交互に重ねた積層構造として、スパッタ法、蒸
着等により形成する。そして積層構造の全膜厚は垂直磁
化膜が得られる１０〜２０ｎｍとする。

【００３８】次にこの上にスパッタ法により、第２の反
射膜１４としてＡｌ膜を６０ｎｍの厚さに形成する。そ
の後に、紫外線硬化樹脂からなる保護膜５をスピンコー
ト法により約１０μｍの厚さに形成し、光学ディスク１
０を構成する。

【００３９】この実施例１の光学ディスク１０に対し
て、波長６３０ｎｍのレーザ光により第２の記録層２４
を再生したときの、第１の記録層を透過して透明基板１
表面で観察される反射率Ｒ₃およびカー回転角θ_kを計
算により求めた。図６にＰｔＣｏ膜１２の膜厚とこの反
射率Ｒ₃およびカー回転角θ_kとの関係を示す。

【００４０】図６より、ＰｔＣｏ膜１２の膜厚が１０〜
２０ｎｍの範囲では、反射率Ｒ₃は０．３２以上とな
り、光検出素子に戻る反射強度として充分な光が得られ
ることがわかる。

【００４１】また図７に、ＰｔＣｏ膜１２の膜厚と、反
射率Ｒ₃およびカー回転角θ_kの積から得られた性能指
数Ｒ₃θ_kとの関係を示す。図７よりＰｔＣｏ膜１２の
膜厚が２０ｎｍのとき、性能指数Ｒ₃θ_kは最大値０．
０９５［°］をとることがわかる。

【００４２】図２に本発明の光学記録媒体、この例では
光学ディスクの他の例（以下実施例２とする）の断面構
成図を示す。この例では、第２の記録層２４をＰｔＣｏ
膜１２を含んで構成し、この第２の記録層２４を透明な
誘電体膜１１とＰｔＣｏ膜１２と第２の反射膜１４との
３層構造とする場合の例である。透明基板１と第１の反
射膜２は、図示を省略しているが図１と同じである。

【００４３】この光学ディスクは、記録情報に応じた凹
凸記録ピットを形成した透明基板１上に第１の反射膜２
を形成して第１の記録層を構成し、紫外線硬化樹脂から
なる中間ＵＶ層３を介して、透明な誘電体膜１１、Ｐｔ
Ｃｏ膜１２および第２の反射膜１４を形成して第２の記
録層２４を構成し、これの上に保護膜５が積層形成され
てなる。

【００４４】この光学ディスクの製造は、実施例１の光
学ディスクと同様に透明基板１、第１の反射膜２、中間
ＵＶ層３を積層形成した後に、中間ＵＶ層３の上に第２
の記録層２４を構成する誘電体膜１１を形成する。この
誘電体膜１１は例えばＳｉＮからなり、スパッタ法によ
り形成する。膜厚は１２０ｎｍ以下とする。

【００４５】続いてＰｔＣｏ膜１２を形成する。ＰｔＣ
ｏ膜１２は、厚さ１．１ｎｍのＰｔ膜と、厚さ０．６４
ｎｍのＣｏ膜とを交互に重ねた積層構造として、スパッ
タ法、蒸着等により形成する。そして積層構造の全膜厚
は垂直磁化膜が得られる１０ｎｍ、１５ｎｍ、２０ｎｍ
とする。

【００４６】次に、この上にスパッタ法により第２の反
射膜１４としてＡｌ膜を６０ｎｍの厚さに形成する。そ
の後に、紫外線硬化樹脂からなる保護膜５をスピンコー
ト法により約１０μｍの厚さに形成し、光学ディスク２
０を構成する。

【００４７】この実施例２の光学ディスク２０に対し
て、波長６３０ｎｍのレーザ光により第２の記録層２４
を再生したときの第１の記録層を透過して基板１表面で
観察される反射率Ｒ₃およびカー回転角θ_kを（計算に
より）求めた。図８に、ＰｔＣｏ膜１２の膜厚をそれぞ
れ１０ｎｍ、１５ｎｍ、２０ｎｍとしたときにおける、
誘電体膜１１のＳｉＮ膜の膜厚（０〜１２０ｎｍ）と、
この反射率Ｒ₃およびカー回転角θ_kとの関係を示す。

【００４８】図８より、ＰｔＣｏ膜１２の膜厚が１０〜
２０ｎｍ、ＳｉＮ膜の膜厚が１２０ｎｍ以下の範囲で
は、反射率Ｒ₃は０．２３以上となり、光検出素子に戻
る反射強度として充分な光が得られることがわかる。

【００４９】また図９に、ＰｔＣｏ膜１２の膜厚をそれ
ぞれ１０ｎｍ、１５ｎｍ、２０ｎｍとしたときにおけ
る、ＳｉＮ膜の膜厚と、反射率Ｒ₃およびカー回転角θ
_kの積から得られた性能指数Ｒ₃θ_kとの関係を示す。
図９よりＰｔＣｏ膜の膜厚が１０ｎｍ、ＳｉＮ膜の膜厚
が７０ｎｍのときのとき、性能指数Ｒ₃θ_kは最大値
０．１２５［°］をとることがわかる。

【００５０】図３に本発明の光学記録媒体、この例では
光学ディスクのさらに他の例（以下実施例３とする）の
断面構成図を示す。この例では、記録層を２層とし、第
２の記録層２４をＰｔＣｏ膜１２を含んで構成し、この
第２の記録層２４を透明な誘電体膜１１・ＰｔＣｏ膜１
２・透明な誘電体膜１３・第２の反射膜１４との４層構
造とする場合の例である。透明基板１と第１の反射膜２
は、図示を省略しているが図１と同じである。

【００５１】この光学ディスクは、記録情報に応じた凹
凸記録ピットを形成した透明基板１上に第１の反射膜２
を形成して第１の記録層を構成し、紫外線硬化樹脂から
なる中間ＵＶ層３を介して、透明な第１の誘電体膜１
１、ＰｔＣｏ膜１２、透明な第２の誘電体膜１３および
第２の反射膜１４を形成して第２の記録層２４を構成
し、これの上に保護膜５が積層形成されてなる。

【００５２】この光学ディスクの製造は、実施例１の光
学ディスクと同様に透明基板１、第１の反射膜２、中間
ＵＶ層３を積層形成した後に、中間ＵＶ層３の上に第２
の記録層２４を構成する第１の誘電体膜１１を形成す
る。第１の誘電体膜１１は例えばＳｉＮからなり、スパ
ッタ法により８０ｎｍの厚さに形成する。

【００５３】続いてＰｔＣｏ膜１２を形成する。ＰｔＣ
ｏ膜１２は、厚さ１．１ｎｍのＰｔ膜と、厚さ０．６４
ｎｍのＣｏ膜とを交互に重ねた積層構造として、スパッ
タ法、蒸着等により形成する。そして積層構造の全膜厚
は垂直磁化膜が得られる１０ｎｍ〜２０ｎｍとする。

【００５４】ＰｔＣｏ膜の上にＳｉＮからなる第２の誘
電体膜１３をスパッタ法により形成する。膜厚は６０ｎ
ｍ以下とした。

【００５５】次に、この上にスパッタ法により第２の反
射膜１４としてＡｌ膜を６０ｎｍの厚さに形成する。そ
の後に、紫外線硬化樹脂からなる保護膜５をスピンコー
ト法により約１０μｍの厚さに形成し、光学ディスク３
０を構成する。

【００５６】この実施例３の光学ディスク３０に対し
て、波長６３０ｎｍのレーザ光により第２の記録層２４
を再生したときの第１の記録層を透過して基板１表面で
観察される反射率Ｒ₃およびカー回転角θ_kを（計算に
より）求めた。図１０に、ＰｔＣｏ膜１２の膜厚をそれ
ぞれ１０ｎｍ、１５ｎｍ、２０ｎｍとしたときにおけ
る、ＳｉＮ膜（第２の誘電体膜１３）の膜厚（０〜６０
ｎｍ）と、この反射率Ｒ₃およびカー回転角θ_kとの関
係を示す。

【００５７】図１０より、ＰｔＣｏ膜１２の膜厚が１０
〜２０ｎｍ、ＳｉＮ膜（第２の誘電体膜１３）の膜厚が
６０ｎｍ以下の範囲では、反射率Ｒ₃は０．２以上とな
り、光検出素子に戻る反射強度として充分な光が得られ
ることがわかる。

【００５８】また図１１に、ＰｔＣｏ膜１２の膜厚をそ
れぞれ１０ｎｍ、１５ｎｍ、２０ｎｍとしたときにおけ
る、ＳｉＮ膜（第２の誘電体膜１３）の膜厚と、反射率
Ｒ₃およびカー回転角θ_kの積から得られた性能指数Ｒ
₃θ_kとの関係を示す。図１１よりＰｔＣｏ膜１２の膜
厚が１０ｎｍ、ＳｉＮ膜（第２の誘電体膜１３）の膜厚
が１５ｎｍのとき、性能指数Ｒ₃θ_kは最大値０．１４
５［°］をとることがわかる。

【００５９】次に本発明の光学ディスクと比較を行う光
学ディスクの一例を示す。この例では第２の記録層２４
が４層構造からなる、図３に示した実施例３の光学ディ
スクの構成において、ＰｔＣｏ膜１２の代わりに、従来
の光磁気ディスクの磁性膜として用いられているＴｂＦ
ｅＣｏ膜を用いる光学ディスク（以下比較例とする）の
例である。

【００６０】現行の記録層が１つである光磁気ディスク
においては通常、第１の誘電体膜（ＳｉＮ膜）を１１０
ｎｍ、ＴｂＦｅＣｏ膜を１３ｎｍ、第２の誘電体膜（Ｓ
ｉＮ膜）を３５ｎｍ、Ａｌ膜を６０ｎｍの厚さに形成し
ている。

【００６１】第１および第２の誘電体膜は、膜厚が極端
に薄くなるとＴｂＦｅＣｏ膜の耐腐食性能が低下するの
で、最低でも１５ｎｍ以上の膜厚が必要である。従っ
て、第２の記録層２４にＴｂＦｅＣｏ膜を用いる場合に
は、図１や図２に示したような第２の記録層２４の構造
をとることはできず、図３と同様に第１の誘電体膜およ
び第２の誘電体膜を必要とする。また、ＴｂＦｅＣｏ膜
は、磁気特性や繰り返し記録の安定性から２０ｎｍ以上
の膜厚を有することが望ましい。

【００６２】この例では、ＳｉＮからなる第１の誘電体
膜１１を１１０ｎｍ、ＴｂＦｅＣｏ膜を２０ｎｍ、Ａｌ
からなる第２の反射膜１４を６０ｎｍの膜厚でそれぞれ
形成し、ＳｉＮからなる第２の誘電体膜１３の膜厚を６
０ｎｍ以下とする。

【００６３】この比較例の光学ディスクに対して、波長
６３０ｎｍのレーザ光により第２の記録層２４を再生し
たときの第１の記録層を透過して基板１表面で観察され
る反射率Ｒ₃およびカー回転角θ_kを（計算により）求
めた。図１２に、第２の誘電体膜１３の膜厚（０〜６０
ｎｍ）と、反射率Ｒ₃およびカー回転角θ_kとの関係を
示す。

【００６４】図１２より、第２の誘電体膜１３の膜厚が
１５〜６０ｎｍの範囲では、反射率Ｒ₃は０．１７以下
となり、光検出素子に戻る反射強度として充分ではない
ことがわかる。

【００６５】また図１３に、第２の誘電体膜１３の膜厚
と、反射率Ｒ₃およびカー回転角θ _kの積から得られた
性能指数Ｒ₃θ_kとの関係を示す。図１３より、第２の
誘電体膜１３の膜厚が１０ｎｍのとき、性能指数Ｒ₃θ
_kは最大値０．０９４［°］をとることがわかる。

【００６６】このように、比較例の光学ディスクでは反
射率Ｒ₃および性能指数Ｒ₃θ_kが小さく、充分な再生
特性が得られない。

【００６７】実施例１の第２の記録層４を２層構造とし
た場合には、比較例に比して反射率Ｒ₃は充分大きい
が、性能指数Ｒ₃θ_kはあまり差がない。実施例２のよ
うに誘電体膜１１を形成して３層構造により第２の記録
層を構成すると、光学的に信号のエンハンスが図られ性
能指数を向上することができる。またこのとき誘電体膜
１１によって、中間ＵＶ層３を記録の際に生じる熱から
保護することができる。

【００６８】また、実施例３のように、ＰｔＣｏ膜１２
と第２の反射膜１４との間にさらに第２の誘電体膜１３
を挟む構造とすると、第２の誘電体膜１３の熱伝導率が
低いため、ＰｔＣｏ膜１２から第２の反射膜１４へ熱が
逃げにくくなり、効率よくＰｔＣｏ膜１２へ記録を行う
ことができる。

【００６９】また第２の記録層２４を４層構造とした、
この実施例３の場合、比較例のＴｂＦｅＣｏ膜により構
成した場合の１．５倍以上の性能指数Ｒ₃θ_kが得られ
ることがわかる。

【００７０】尚、これらの反射率の値は本例で使用した
上記成膜条件で行った場合の値であり、成膜条件を変更
することで、反射率なども調整することが可能である。

【００７１】上述の実施例においては、本発明を光学デ
ィスクに適用したが、カード等の他の光学記録媒体にも
同様に本発明を適用できる。

【００７２】また上述の実施例では透明基板１としてポ
リカーボネート樹脂を用いたが、ポリオレフィン樹脂や
ガラス上に、２Ｐ法による凹凸記録ピットが形成された
基板、ガラスエッチング基板等を用いることもできる。

【００７３】また上述の例では、記録層を２層として、
第１の記録層を凹凸記録ピットにより構成し、第２の記
録層をＰｔＣｏ膜を有する記録層（光磁気記録層）によ
り構成した例であったが、記録層を３層以上として透明
基板と反対の側（保護膜側）の記録層をＰｔＣｏ膜を有
する記録層とする構成の光学記録媒体においても、本発
明を適用することができる。

【００７４】本発明の光学記録媒体は、上述の例に限定
されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲で
その他様々な構成が取り得る。

【００７５】

【発明の効果】本発明の光学記録媒体によれば、あらか
じめデータが記録されている再生専用型の記録層すなわ
ちＲＯＭ型の記録層と、ユーザーが書き換えを行うこと
ができる書き換え型の記録層すなわちＲＡＭ型の記録層
とを有する光学記録媒体において、書き換え型の記録層
を波長６３０ｎｍのレーザ光に対する反射率が高くカー
回転角が大きいＰｔＣｏ膜を用いて光磁気記録層を構成
することにより、この記録層において反射して光検出素
子に戻る反射光が充分な強度の光として得られる。

【００７６】従って、この書き換え型の記録層を再生す
る場合にも、良好な再生特性を有する光学記録媒体を構
成することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の光学ディスクの一例の断面構成図であ
る。

【図２】本発明の光学ディスクの他の例の断面構成図で
ある。

【図３】本発明の光学ディスクのさらに他の例の断面構
成図である。

【図４】記録層を２層とした構造の光学ディスクの断面
構成図である。

【図５】図４の光学ディスクの要部の拡大図である。

【図６】実施例１の光学ディスクにおけるＰｔＣｏ膜の
膜厚と反射率Ｒ₃およびカー回転角θ_kとの関係を示す
図である。

【図７】実施例１の光学ディスクにおけるＰｔＣｏ膜の
膜厚と、性能指数Ｒ₃θ_kとの関係を示す図である。

【図８】実施例２の光学ディスクにおけるＰｔＣｏ膜の
膜厚およびＳｉＮ膜の膜厚と反射率Ｒ₃およびカー回転
角θ_kとの関係を示す図である。

【図９】実施例２の光学ディスクにおけるＰｔＣｏ膜の
膜厚およびＳｉＮ膜の膜厚と性能指数Ｒ₃θ_kとの関係
を示す図である。

【図１０】実施例３の光学ディスクにおけるＰｔＣｏ膜
の膜厚および第２の誘電体膜のＳｉＮ膜の膜厚と反射率
Ｒ₃およびカー回転角θ_kとの関係を示す図である。

【図１１】実施例３の光学ディスクにおけるＰｔＣｏ膜
の膜厚および第２の誘電体膜のＳｉＮ膜の膜厚と性能指
数Ｒ₃θ_kとの関係を示す図である。

【図１２】比較例の光学ディスクにおける第２の誘電体
膜のＳｉＮ膜の膜厚と反射率Ｒ₃およびカー回転角θ_k
との関係を示す図である。

【図１３】比較例の光学ディスクにおける第２の誘電体
膜のＳｉＮ膜の膜厚と性能指数Ｒ ₃θ_kとの関係を示す
図である。

【符号の説明】

１透明基板２第１の反射膜３中間ＵＶ層４第２の反射膜５保護膜１０、２０、３０光学ディスク１１（第１の）誘電体膜１２ＰｔＣｏ膜１３第２の誘電体膜１４第２の反射膜２４第２の記録層

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】少なくとも第１の記録層と、該第１の記録層上に表面が平坦化された透明樹脂層と、該透明樹脂層の平坦面上に形成された第２の記録層を有
し、上記第２の記録層は少なくともＰｔＣｏ膜を有してなる
ことを特徴とした光学記録媒体。
【請求項２】上記ＰｔＣｏ膜の厚さを１０〜２０ｎｍ
としたことを特徴とする請求項１に記載の光学記録媒
体。
【請求項３】上記第２の記録層が、ＰｔＣｏ膜と反射
膜の２層構造よりなることを特徴とした請求項１に記載
の光学記録媒体。
【請求項４】上記第２の記録層が、透明な誘電体膜、
ＰｔＣｏ膜および反射膜の３層構造よりなることを特徴
とした請求項１に記載の光学記録媒体。
【請求項５】上記第２の記録層が、透明な誘電体膜、
ＰｔＣｏ膜、透明な誘電体膜および反射膜の４層構造よ
りなることを特徴とした請求項１に記載の光学記録媒
体。
【請求項６】上記透明樹脂層の厚さを３０〜５０μｍ
としたことを特徴とする請求項１に記載の光学記録媒
体。