JPH09314746A - 薄膜被覆を施した透明基材 - Google Patents
薄膜被覆を施した透明基材Info
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- JPH09314746A JPH09314746A JP9038102A JP3810297A JPH09314746A JP H09314746 A JPH09314746 A JP H09314746A JP 9038102 A JP9038102 A JP 9038102A JP 3810297 A JP3810297 A JP 3810297A JP H09314746 A JPH09314746 A JP H09314746A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 表面の少なくとも一つに１以上の薄膜の被覆
を含む透明基材、特にガラス基材を提供する。 【解決手段】 本発明の透明基材（１）は、フッ化アル
ミニウム又は酸フッ化アルミニウムＡｌx Ｏy Ｆz （こ
の式のｙ≧０）を含有するＡフィルムを少なくとも一つ
含む被覆（６）を含む。
を含む透明基材、特にガラス基材を提供する。 【解決手段】 本発明の透明基材（１）は、フッ化アル
ミニウム又は酸フッ化アルミニウムＡｌx Ｏy Ｆz （こ
の式のｙ≧０）を含有するＡフィルムを少なくとも一つ
含む被覆（６）を含む。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、透明基材、特にガ
ラス基材であって、干渉スケールの厚さを有しそして当
該基材に例えば熱的、光学的又は電気的性質をもたらす
特定の性質を与えるように設計される１以上の薄膜から
構成された被覆を備えている基材に関する。
ラス基材であって、干渉スケールの厚さを有しそして当
該基材に例えば熱的、光学的又は電気的性質をもたらす
特定の性質を与えるように設計される１以上の薄膜から
構成された被覆を備えている基材に関する。
【０００２】本発明はまた、これらの被覆された基材
を、特にグレージング（ｇｌａｚｉｎｇ）を製造するた
めに、使用することにも、またそれらを得る方法にも関
する。
を、特にグレージング（ｇｌａｚｉｎｇ）を製造するた
めに、使用することにも、またそれらを得る方法にも関
する。
【０００３】
【従来の技術】従って、上述の被覆（コーティング）は
組成と性質がいろいろの膜（フィルム）の積重体からな
る。それらは、もっとも普通には、例えば金属酸化物も
しくは窒化物もしくは酸窒化物タイプの、誘電性膜であ
り、及び／又は伝導性膜、例えば銀のような金属のもし
くはドープされた金属酸化物の膜である。光学的理由か
ら、多くの場合においてこれらの被覆は屈折率を注意深
く選ばれた膜を含む。
組成と性質がいろいろの膜（フィルム）の積重体からな
る。それらは、もっとも普通には、例えば金属酸化物も
しくは窒化物もしくは酸窒化物タイプの、誘電性膜であ
り、及び／又は伝導性膜、例えば銀のような金属のもし
くはドープされた金属酸化物の膜である。光学的理由か
ら、多くの場合においてこれらの被覆は屈折率を注意深
く選ばれた膜を含む。
【０００４】例えば、屈折率が高い誘電性膜と低い誘電
性膜が交互に連続したものから通常なる、反射防止被覆
と称されるタイプの被覆が知られている。透明基材上に
付着させると、このタイプの被覆はこの基材の光反射率
を低下させ、従ってその光透過率を上昇させる機能をも
つ。それゆえ、このように被覆された基材はその透過光
／反射光比が上昇して、これはその背後にある対象物の
可視性を向上させる。そのとき、それは多くの用途にお
いて、例えば鑑賞者の背後に置かれたライトにより照ら
された絵画を保護するため、あるいはショーウインドー
の一部を構成又は形成して、内部の照明が外部の照明に
比べて弱い場合にも、ショーウインドー内に入れられて
いるものをよりはっきりと見分けるために使用すること
ができ、あるいは室内調度で、又はコンピュータスクリ
ーンの前面に配置された防眩スクリーンとして使用する
ことができる。
性膜が交互に連続したものから通常なる、反射防止被覆
と称されるタイプの被覆が知られている。透明基材上に
付着させると、このタイプの被覆はこの基材の光反射率
を低下させ、従ってその光透過率を上昇させる機能をも
つ。それゆえ、このように被覆された基材はその透過光
／反射光比が上昇して、これはその背後にある対象物の
可視性を向上させる。そのとき、それは多くの用途にお
いて、例えば鑑賞者の背後に置かれたライトにより照ら
された絵画を保護するため、あるいはショーウインドー
の一部を構成又は形成して、内部の照明が外部の照明に
比べて弱い場合にも、ショーウインドー内に入れられて
いるものをよりはっきりと見分けるために使用すること
ができ、あるいは室内調度で、又はコンピュータスクリ
ーンの前面に配置された防眩スクリーンとして使用する
ことができる。
【０００５】反射防止被覆の性能は、いろいろな基準に
基づいて測定あるいは評価することができる。第一は、
もちろん、光学的な基準である。「良好」な反射防止被
覆は標準の透明ガラス基材の光の反射率を所定の値ま
で、例えば２％、あるいは１％以下まで、低下させるこ
とができるべきであると考えることができる。同様に、
この被覆は基材にとって申し分ない測色値を、特に反射
におけるそれを、例えば被覆なしの基材のそれに非常に
近い極めて中性のものを、保持することが重要であるこ
とがある。想定される用途に応じて、ほかの基準が、特
に被覆の化学的及び／又は機械的な耐久性、用いられる
材料の経費、製造時間、及びその製造に用いられる技術
が、考慮に入れられることもある。
基づいて測定あるいは評価することができる。第一は、
もちろん、光学的な基準である。「良好」な反射防止被
覆は標準の透明ガラス基材の光の反射率を所定の値ま
で、例えば２％、あるいは１％以下まで、低下させるこ
とができるべきであると考えることができる。同様に、
この被覆は基材にとって申し分ない測色値を、特に反射
におけるそれを、例えば被覆なしの基材のそれに非常に
近い極めて中性のものを、保持することが重要であるこ
とがある。想定される用途に応じて、ほかの基準が、特
に被覆の化学的及び／又は機械的な耐久性、用いられる
材料の経費、製造時間、及びその製造に用いられる技術
が、考慮に入れられることもある。
【０００６】従って、このタイプの反射防止積重体で
は、そのほかのものにおけるように、屈折率が低い材
料、例えば１．６５未満の屈折率の材料の膜を製造する
ことが可能でなくてはならない。
は、そのほかのものにおけるように、屈折率が低い材
料、例えば１．６５未満の屈折率の材料の膜を製造する
ことが可能でなくてはならない。
【０００７】現在、種々の材料がこの基準を満たしてい
る。屈折率が約１．３８のフッ化マグネシウムＭｇＦ2
を挙げることができ、そしてそれは真空蒸着タイプの手
法により薄膜の形で堆積させることができる。これは、
小さな表面、例えば眼鏡あるいはレンズの表面への堆積
にとって信頼できるものであるが、もっと大きな表面へ
の、例えばグレージングへの堆積が必要とされる場合に
は、費用がかかり且つ複雑になる。
る。屈折率が約１．３８のフッ化マグネシウムＭｇＦ2
を挙げることができ、そしてそれは真空蒸着タイプの手
法により薄膜の形で堆積させることができる。これは、
小さな表面、例えば眼鏡あるいはレンズの表面への堆積
にとって信頼できるものであるが、もっと大きな表面へ
の、例えばグレージングへの堆積が必要とされる場合に
は、費用がかかり且つ複雑になる。
【０００８】屈折率が約１．４５の酸化ケイ素ＳｉＯ2
を挙げることもできる。この物質は陰極スパッタリング
の手法を使って堆積させることができ、この手法は窓ガ
ラスのタイプの大きな表面への堆積に完全に適してい
る。ところが、酸素の存在下での反応性スパッタリング
によりＳｉＯ2 を堆積させることはそれほど容易ではな
い。ケイ素ターゲットに別の元素、特にホウ素又はアル
ミニウム、をドープすることが必要であるという事実に
加えて、この手法を使用する場合のＳｉＯ2 膜の堆積速
度は遅く、そして堆積条件は時として安定させるのと制
御するのが難しい。
を挙げることもできる。この物質は陰極スパッタリング
の手法を使って堆積させることができ、この手法は窓ガ
ラスのタイプの大きな表面への堆積に完全に適してい
る。ところが、酸素の存在下での反応性スパッタリング
によりＳｉＯ2 を堆積させることはそれほど容易ではな
い。ケイ素ターゲットに別の元素、特にホウ素又はアル
ミニウム、をドープすることが必要であるという事実に
加えて、この手法を使用する場合のＳｉＯ2 膜の堆積速
度は遅く、そして堆積条件は時として安定させるのと制
御するのが難しい。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、これらの欠点を、特に経費、使用の容易さ及び／又
は効率の点から申し分のない製造方法で、高品質の薄膜
の形にして工業的規模で堆積（成長）させることができ
る、低屈折率の新しいタイプの物質を探すことにより克
服することである。
は、これらの欠点を、特に経費、使用の容易さ及び／又
は効率の点から申し分のない製造方法で、高品質の薄膜
の形にして工業的規模で堆積（成長）させることができ
る、低屈折率の新しいタイプの物質を探すことにより克
服することである。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明の主題は、表面の
少なくとも一つに１以上の薄膜の被覆を含む透明基材、
特にガラス基材、である。この被覆は、フッ化アルミニ
ウム又は酸フッ化アルミニウムＡｌx Ｏy Ｆz （ここで
はｙ≧０）を含有している膜を少なくとも一つ含み、こ
の膜は以下において、慣例によりそして便宜のために、
「Ａフィルム」なる用語で表される。この物質には、主
としてその製造法の点で、現実にいくつかの利点があ
り、すなわちフッ化アルミニウムあるいは酸フッ化アル
ミニウムは実際のところ、陰極スパッタリングタイプの
真空技術を使い、任意的に磁場に支援される陰極スパタ
ッリングを使用して、薄膜で堆積させることができる。
少なくとも一つに１以上の薄膜の被覆を含む透明基材、
特にガラス基材、である。この被覆は、フッ化アルミニ
ウム又は酸フッ化アルミニウムＡｌx Ｏy Ｆz （ここで
はｙ≧０）を含有している膜を少なくとも一つ含み、こ
の膜は以下において、慣例によりそして便宜のために、
「Ａフィルム」なる用語で表される。この物質には、主
としてその製造法の点で、現実にいくつかの利点があ
り、すなわちフッ化アルミニウムあるいは酸フッ化アル
ミニウムは実際のところ、陰極スパッタリングタイプの
真空技術を使い、任意的に磁場に支援される陰極スパタ
ッリングを使用して、薄膜で堆積させることができる。
【００１１】熱蒸着タイプの技術と対照的に、陰極スパ
ッタリング技術は大変有益なものであり、すなわちそれ
は同じ生産ラインでの次々の堆積により複雑な薄膜積重
体を量産するのを可能にし、また幅広く変わる基材寸
法、特に大きな寸法に対して適合させることができ、そ
れゆえ建築あるいは自動車産業向けの窓ガラス用の被覆
を製造するのに完全に適している。
ッタリング技術は大変有益なものであり、すなわちそれ
は同じ生産ラインでの次々の堆積により複雑な薄膜積重
体を量産するのを可能にし、また幅広く変わる基材寸
法、特に大きな寸法に対して適合させることができ、そ
れゆえ建築あるいは自動車産業向けの窓ガラス用の被覆
を製造するのに完全に適している。
【００１２】更に、この種の技術を酸フッ化アルミニウ
ムを堆積させるために用いることに問題が伴うことはな
く、すなわち、ドープしなくてはならない低導電率のケ
イ素ターゲットを使用する酸化ケイ素の堆積と対比し
て、この場合にはアルミニウム製の標準的な金属ターゲ
ットが用いられる（「標準的な」という用語は、回転す
る円筒状のターゲットに対して、ターゲットのための平
坦な幾何学的形状を意味しようとするものであるが、回
転する円筒状のターゲットも明らかに使用することがで
きる）。この場合、例えば酸素といったような酸化性ガ
スと、フッ素化されたガスとを含む反応性雰囲気中で、
標準の直流電源を用いてＡフィルムを堆積させる。こう
して製造される堆積物は、大変に再現性がよく、且つ制
御するのが容易である。更に、このタイプの膜の堆積速
度はスパッタリングにより堆積させるＳｉＯ2 膜のそれ
よりはるかに速く、且つ、それを被覆の、より詳しく言
えばグレージング用のものの、量産に関連する短い製造
時間の要件と完全に合致させるのに十分速い。
ムを堆積させるために用いることに問題が伴うことはな
く、すなわち、ドープしなくてはならない低導電率のケ
イ素ターゲットを使用する酸化ケイ素の堆積と対比し
て、この場合にはアルミニウム製の標準的な金属ターゲ
ットが用いられる（「標準的な」という用語は、回転す
る円筒状のターゲットに対して、ターゲットのための平
坦な幾何学的形状を意味しようとするものであるが、回
転する円筒状のターゲットも明らかに使用することがで
きる）。この場合、例えば酸素といったような酸化性ガ
スと、フッ素化されたガスとを含む反応性雰囲気中で、
標準の直流電源を用いてＡフィルムを堆積させる。こう
して製造される堆積物は、大変に再現性がよく、且つ制
御するのが容易である。更に、このタイプの膜の堆積速
度はスパッタリングにより堆積させるＳｉＯ2 膜のそれ
よりはるかに速く、且つ、それを被覆の、より詳しく言
えばグレージング用のものの、量産に関連する短い製造
時間の要件と完全に合致させるのに十分速い。
【００１３】更に、このようにして製造される、高品質
のＡフィルムは、その光学的性質の点でも有利である。
純粋な酸化アルミニウムＡｌ2 Ｏ3 の屈折率は約１．６
５である。酸フッ化物を得るためフッ素を導入すること
により、あるいはフッ化物を得るため酸素をフッ素で完
全に置換することによっても、膜の屈折率を制御した様
式で低下させることができる。と言うのは、膜の屈折率
はそのフッ素含有量が増加するにつれて低下するからで
ある。堆積条件を適合させることにより、特に、陰極ス
パッタリング堆積雰囲気中の酸化性ガスに関してフッ素
化したガスの量を変更することにより、酸化性ガスの不
存在下での完全なフッ素の飽和に至るまで、フッ素レベ
ルが可変のＡフィルムを得ることができ、そのフィルム
の屈折率は広い値の範囲内で非常に精密に設定すること
ができる。例えば、Ａフィルムの屈折率は１．６３未満
になるように選ばれ、好ましくは１．６０と１．３２の
間、特に１．３５と１．４５の間になるように選ばれ
る。屈折率の選定に関するこの柔軟性は、Ａフィルムを
非常に有益なものにする。と言うのは、それは、所定の
薄膜積重体の中で果たそうとする光学的役割が変わると
ともに変化するものとして適合させることができるから
である。Ａｌx Ｏy Ｆz の式においては、３ｘ＝２ｙ＋
ｚの式が満足され、ｙは０より大きいかそれと等しくて
よいものと理解される。
のＡフィルムは、その光学的性質の点でも有利である。
純粋な酸化アルミニウムＡｌ2 Ｏ3 の屈折率は約１．６
５である。酸フッ化物を得るためフッ素を導入すること
により、あるいはフッ化物を得るため酸素をフッ素で完
全に置換することによっても、膜の屈折率を制御した様
式で低下させることができる。と言うのは、膜の屈折率
はそのフッ素含有量が増加するにつれて低下するからで
ある。堆積条件を適合させることにより、特に、陰極ス
パッタリング堆積雰囲気中の酸化性ガスに関してフッ素
化したガスの量を変更することにより、酸化性ガスの不
存在下での完全なフッ素の飽和に至るまで、フッ素レベ
ルが可変のＡフィルムを得ることができ、そのフィルム
の屈折率は広い値の範囲内で非常に精密に設定すること
ができる。例えば、Ａフィルムの屈折率は１．６３未満
になるように選ばれ、好ましくは１．６０と１．３２の
間、特に１．３５と１．４５の間になるように選ばれ
る。屈折率の選定に関するこの柔軟性は、Ａフィルムを
非常に有益なものにする。と言うのは、それは、所定の
薄膜積重体の中で果たそうとする光学的役割が変わると
ともに変化するものとして適合させることができるから
である。Ａｌx Ｏy Ｆz の式においては、３ｘ＝２ｙ＋
ｚの式が満足され、ｙは０より大きいかそれと等しくて
よいものと理解される。
【００１４】このように、Ａフィルムにおけるフッ素の
量は、膜中のＦ／Ａｌ原子比が０．１と３．０の間、特
に０．１０と２．５０の間、好ましくは０．１６と２．
４５の間になるように都合よく選ぶことができる。同様
に、Ｏ／Ｆ比はそれが０と１０の間、特に０．１と１０
の間、好ましくは０．１５と９の間になるように調節す
ることができる。
量は、膜中のＦ／Ａｌ原子比が０．１と３．０の間、特
に０．１０と２．５０の間、好ましくは０．１６と２．
４５の間になるように都合よく選ぶことができる。同様
に、Ｏ／Ｆ比はそれが０と１０の間、特に０．１と１０
の間、好ましくは０．１５と９の間になるように調節す
ることができる。
【００１５】様々な検討から、Ａフィルムに導入される
酸素、フッ素及びアルミニウム以外の元素を考えること
もできる。これは、特に、好ましくは次の群、すなわち
酸化ケイ素ＳｉＯ2 、酸化スズＳｎＯ2 、酸化ニッケル
ＮｉＯの群に属する、酸化物又は酸化物の混合物を包含
することができる。
酸素、フッ素及びアルミニウム以外の元素を考えること
もできる。これは、特に、好ましくは次の群、すなわち
酸化ケイ素ＳｉＯ2 、酸化スズＳｎＯ2 、酸化ニッケル
ＮｉＯの群に属する、酸化物又は酸化物の混合物を包含
することができる。
【００１６】これらの全ての酸化物は屈折率が最高で
１．９であるので、それらを膜に加えることは、そのフ
ッ素含有量を不適当な比率で増加させることなしにその
フッ素含有量につれて変わるものとして、膜の屈折率を
調節する追加の手段となることができる。それらは更
に、膜の機械的又は化学的耐久性によい影響を及ぼすこ
とができ、そしてそれはＡフィルムがその一部を形成す
る膜積重体において一番外側の膜である場合に、それゆ
え、実際のところ、それが例えば機械的摩滅とか、腐食
性の化学製品あるいは好ましくない気象条件とかの攻撃
に直接さらされかねない場合に、重要であることが分か
ろう。
１．９であるので、それらを膜に加えることは、そのフ
ッ素含有量を不適当な比率で増加させることなしにその
フッ素含有量につれて変わるものとして、膜の屈折率を
調節する追加の手段となることができる。それらは更
に、膜の機械的又は化学的耐久性によい影響を及ぼすこ
とができ、そしてそれはＡフィルムがその一部を形成す
る膜積重体において一番外側の膜である場合に、それゆ
え、実際のところ、それが例えば機械的摩滅とか、腐食
性の化学製品あるいは好ましくない気象条件とかの攻撃
に直接さらされかねない場合に、重要であることが分か
ろう。
【００１７】例えば、低含有量の酸化ケイ素はＡフィル
ムの化学的耐久性の向上を、特にそれの湿分に対する耐
性の上昇をもたらす。Ａフィルムは、有利には、フッ化
アルミニウム又は酸フッ化アルミニウム／酸化ケイ素の
混合物を含む。この場合、０．０５〜１．００の、好ま
しくは０．０６〜０．１０のＳｉ／Ａｌ原子比、０．２
〜１０の、好ましくは０．２５〜８．７０のＯ／Ｆ原子
比、そして０．１〜２．５の、好ましくは０．１８〜
２．４０のＦ／Ａｌ原子比を選ぶのが好ましい。
ムの化学的耐久性の向上を、特にそれの湿分に対する耐
性の上昇をもたらす。Ａフィルムは、有利には、フッ化
アルミニウム又は酸フッ化アルミニウム／酸化ケイ素の
混合物を含む。この場合、０．０５〜１．００の、好ま
しくは０．０６〜０．１０のＳｉ／Ａｌ原子比、０．２
〜１０の、好ましくは０．２５〜８．７０のＯ／Ｆ原子
比、そして０．１〜２．５の、好ましくは０．１８〜
２．４０のＦ／Ａｌ原子比を選ぶのが好ましい。
【００１８】第一の限定しない態様によれば、Ａフィル
ムは赤外線及び／又は太陽放射線の範囲に反射特性のあ
る薄膜積重体の、特に二つの誘電性被覆の間に配置され
た、銀タイプの、少なくとも一つの金属膜を含む積重体
の、一部を形成する。その低い屈折率のために、それ
は、ヨーロッパ特許第０７４５５６９号明細書に記載さ
れたように基材と積重体との間に配置される、基材より
低屈折率の中間膜として働くのに特によく適している。
ムは赤外線及び／又は太陽放射線の範囲に反射特性のあ
る薄膜積重体の、特に二つの誘電性被覆の間に配置され
た、銀タイプの、少なくとも一つの金属膜を含む積重体
の、一部を形成する。その低い屈折率のために、それ
は、ヨーロッパ特許第０７４５５６９号明細書に記載さ
れたように基材と積重体との間に配置される、基材より
低屈折率の中間膜として働くのに特によく適している。
【００１９】本発明のもう一つの限定しない態様によれ
ば、Ａフィルムは交互に並んだ高屈折率と低屈折率の誘
電性膜を含む反射防止被覆の一部を形成し、積重体の低
屈折率膜のうちの少なくとも一つがＡフィルムからな
る。これは、反射防止被覆の最後の膜でもよく、あるい
はその全ての低屈折率膜でもよい。
ば、Ａフィルムは交互に並んだ高屈折率と低屈折率の誘
電性膜を含む反射防止被覆の一部を形成し、積重体の低
屈折率膜のうちの少なくとも一つがＡフィルムからな
る。これは、反射防止被覆の最後の膜でもよく、あるい
はその全ての低屈折率膜でもよい。
【００２０】本発明に関連して言えば、「低屈折率」と
いう用語は１．６５と１．３２の間、特に１．６０未満
の屈折率を意味しようとし、「高屈折率」という用語は
少なくとも１．８０の、特に１．９と２．４５の間の屈
折率を意味しようとするものである。
いう用語は１．６５と１．３２の間、特に１．６０未満
の屈折率を意味しようとし、「高屈折率」という用語は
少なくとも１．８０の、特に１．９と２．４５の間の屈
折率を意味しようとするものである。
【００２１】反射防止被覆においてＡタイプの膜を低屈
折率膜として使用することは、実際に全く有利であり、
このタイプの被覆で通常使用されるシリカ膜の代わりに
用いることができる。この場合、二つの別の選択をする
ことが可能である。すなわち、Ａフィルムは、シリカの
屈折率に近い、すなわち１．４５に近い屈折率を持つよ
うに選ばれたフッ素レベルを持ち、この場合には、一つ
の材料が陰極スパッタリングにより堆積するのがより容
易であるが光学的には反射防止積重体において同等であ
る別の材料で「置換」されており、あるいは、Ａフィル
ムはシリカより実質的に低い、詳しく言えば１．４０未
満の、例えば１．３７〜１．３８程度の屈折率を持つよ
うに選ばれ、この場合には可能性のある高屈折率の材料
をはるかに幅広く選定するのが可能である。反射防止被
覆の性能を評価する方法をおおまかに検討すると、その
ような被覆がそれを支持する基材の光反射率の値を低下
させる能力は、積重体を形成する高屈折率膜と低屈折率
膜の屈折率差に、より詳しく言えばその最後の高屈折率
と低屈折率の二つの膜の屈折率差に、関連づけられると
言うことができる。これまでは、酸化チタンタイプの、
高屈折率膜、すなわち少なくとも２．２５の屈折率を有
するものを、低屈折率のシリカ膜と組み合わせることが
慣例であった。屈折率がより低い材料がシリカより好ま
しくなると直ちに、使用される高屈折率の膜が、反射防
止被覆の光学的性能を犠牲とせずに、相対的により低い
屈折率の、例えば単純に少なくとも１．９〜２．２の、
材料の膜であることが容認可能になる。
折率膜として使用することは、実際に全く有利であり、
このタイプの被覆で通常使用されるシリカ膜の代わりに
用いることができる。この場合、二つの別の選択をする
ことが可能である。すなわち、Ａフィルムは、シリカの
屈折率に近い、すなわち１．４５に近い屈折率を持つよ
うに選ばれたフッ素レベルを持ち、この場合には、一つ
の材料が陰極スパッタリングにより堆積するのがより容
易であるが光学的には反射防止積重体において同等であ
る別の材料で「置換」されており、あるいは、Ａフィル
ムはシリカより実質的に低い、詳しく言えば１．４０未
満の、例えば１．３７〜１．３８程度の屈折率を持つよ
うに選ばれ、この場合には可能性のある高屈折率の材料
をはるかに幅広く選定するのが可能である。反射防止被
覆の性能を評価する方法をおおまかに検討すると、その
ような被覆がそれを支持する基材の光反射率の値を低下
させる能力は、積重体を形成する高屈折率膜と低屈折率
膜の屈折率差に、より詳しく言えばその最後の高屈折率
と低屈折率の二つの膜の屈折率差に、関連づけられると
言うことができる。これまでは、酸化チタンタイプの、
高屈折率膜、すなわち少なくとも２．２５の屈折率を有
するものを、低屈折率のシリカ膜と組み合わせることが
慣例であった。屈折率がより低い材料がシリカより好ま
しくなると直ちに、使用される高屈折率の膜が、反射防
止被覆の光学的性能を犠牲とせずに、相対的により低い
屈折率の、例えば単純に少なくとも１．９〜２．２の、
材料の膜であることが容認可能になる。
【００２２】例えば、低屈折率膜としてタイプＡの膜を
少なくとも一つ含む反射防止被覆は、少なくとも２．２
５という、現実に非常に高い屈折率の、例えば酸化ニオ
ブＮｂ2 Ｏ5 、酸化ジルコニウムＺｒＯ2 、酸化チタン
ＴｉＯ2 、酸化ビスマスＢｉ 2 Ｏ3 又は酸化セリウムＣ
ｅＯ2 といった高屈折率膜を使用してもよい。しかし、
それにもかかわらず、それよりわずかに低い屈折率を持
つ、詳しく言えば１．９０〜２．２０程度の屈折率を持
つ高屈折率膜、例えば酸化タングステンＷＯ3、酸化ス
ズＳｎＯ2 、酸化亜鉛ＺｎＯ、窒化アルミニウムＡｌ
Ｎ、窒化ケイ素Ｓｉ3 Ｎ4 又は酸化タンタルＴａ2 Ｏ5
を、使用することが可能である。このタイプの材料を使
っても、高屈折率膜と低屈折率膜との間には少なくとも
０．５の、とりわけ約０．８の、屈折率差を実際に維持
することができる。例えば、高屈折率膜としてＮｂ2 Ｏ
5 又はＴｉＯ2 よりもむしろＷＯ3 又はＳｎＯ2 を使用
することが、特に後者の膜は前者よりも陰極スパタッリ
ング堆積速度がはるかに大きいことから、工業的に有益
であることもある。
少なくとも一つ含む反射防止被覆は、少なくとも２．２
５という、現実に非常に高い屈折率の、例えば酸化ニオ
ブＮｂ2 Ｏ5 、酸化ジルコニウムＺｒＯ2 、酸化チタン
ＴｉＯ2 、酸化ビスマスＢｉ 2 Ｏ3 又は酸化セリウムＣ
ｅＯ2 といった高屈折率膜を使用してもよい。しかし、
それにもかかわらず、それよりわずかに低い屈折率を持
つ、詳しく言えば１．９０〜２．２０程度の屈折率を持
つ高屈折率膜、例えば酸化タングステンＷＯ3、酸化ス
ズＳｎＯ2 、酸化亜鉛ＺｎＯ、窒化アルミニウムＡｌ
Ｎ、窒化ケイ素Ｓｉ3 Ｎ4 又は酸化タンタルＴａ2 Ｏ5
を、使用することが可能である。このタイプの材料を使
っても、高屈折率膜と低屈折率膜との間には少なくとも
０．５の、とりわけ約０．８の、屈折率差を実際に維持
することができる。例えば、高屈折率膜としてＮｂ2 Ｏ
5 又はＴｉＯ2 よりもむしろＷＯ3 又はＳｎＯ2 を使用
することが、特に後者の膜は前者よりも陰極スパタッリ
ング堆積速度がはるかに大きいことから、工業的に有益
であることもある。
【００２３】更に、反射防止積重体においてシリカより
も屈折率が低いＡフィルムを使用することは、光学の見
地から、より詳しく言うと反射の測色上の見かけの見地
から、二つの追加の利点を提供し、被覆した基材の反射
の残留色がより中性になり、そして被覆した基材を観測
する入射角の関数としての色の変動がはるかに少なくな
ることが認められる。
も屈折率が低いＡフィルムを使用することは、光学の見
地から、より詳しく言うと反射の測色上の見かけの見地
から、二つの追加の利点を提供し、被覆した基材の反射
の残留色がより中性になり、そして被覆した基材を観測
する入射角の関数としての色の変動がはるかに少なくな
ることが認められる。
【００２４】少なくとも一つのＡフィルムを含む、本発
明による反射防止被覆は、高屈折率膜と低屈折率膜との
並びを二つだけ含んでもよい。四つの膜は、事実上、顕
著な反射防止効果を得るのに十分であろう。
明による反射防止被覆は、高屈折率膜と低屈折率膜との
並びを二つだけ含んでもよい。四つの膜は、事実上、顕
著な反射防止効果を得るのに十分であろう。
【００２５】この構成を持つ反射防止被覆の例は、例え
ば次のタイプの積重体でよい。
ば次のタイプの積重体でよい。
【００２６】
【化１】
【００２７】Ｎｂ2 Ｏ5 膜は、ＳｎＯ2 、ＷＯ3 、Ｂｉ
2 Ｏ3 又はＴｉＯ2 膜と都合よく交換することもでき
る。
2 Ｏ3 又はＴｉＯ2 膜と都合よく交換することもでき
る。
【００２８】もう一つの構成によれば、反射防止積重体
は高屈折率膜と低屈折率膜との並びを二つではなく三つ
含むことができる。この場合、反射防止効果は一層大き
くなることができ、且つより中性の反射残留色と組み合
わせることができるが、積重体を製造するのはやや長く
なり、そしてわずかに費用がかかる。
は高屈折率膜と低屈折率膜との並びを二つではなく三つ
含むことができる。この場合、反射防止効果は一層大き
くなることができ、且つより中性の反射残留色と組み合
わせることができるが、積重体を製造するのはやや長く
なり、そしてわずかに費用がかかる。
【００２９】別の構成によれば、反射防止被覆の高屈折
率膜と低屈折率膜の第一の並び（「第一の並び」という
用語は被覆を支持する基材の表面に一番近い並び（組）
を表すのに使用される）を、１．６５〜１．８０という
中間の屈折率を持つ単一の膜と取り替える。このタイプ
の中間屈折率膜は高屈折率膜／低屈折率膜の並びの光学
的効果と同様の光学的効果を有し、そして積重体の膜の
総数を減らす利点を持つ。
率膜と低屈折率膜の第一の並び（「第一の並び」という
用語は被覆を支持する基材の表面に一番近い並び（組）
を表すのに使用される）を、１．６５〜１．８０という
中間の屈折率を持つ単一の膜と取り替える。このタイプ
の中間屈折率膜は高屈折率膜／低屈折率膜の並びの光学
的効果と同様の光学的効果を有し、そして積重体の膜の
総数を減らす利点を持つ。
【００３０】更にもう一つの構成によれば、反射防止積
重体のいわゆる高屈折率膜のうちの少なくとも一つ、特
に二番目の並びにおける膜は、高屈折率の「総合（ｏｖ
ｅｒａｌｌ）」膜でよく、「総合」という用語はそれが
実際上複数の、特に２又は３の、高屈折率膜の重ね合わ
せであることを表す。光学の見地からは、この「総合」
膜は、大まかに言えば、それを形成している種々の膜の
屈折率の中間の屈折率を持つ単一膜の役割を果たす。
重体のいわゆる高屈折率膜のうちの少なくとも一つ、特
に二番目の並びにおける膜は、高屈折率の「総合（ｏｖ
ｅｒａｌｌ）」膜でよく、「総合」という用語はそれが
実際上複数の、特に２又は３の、高屈折率膜の重ね合わ
せであることを表す。光学の見地からは、この「総合」
膜は、大まかに言えば、それを形成している種々の膜の
屈折率の中間の屈折率を持つ単一膜の役割を果たす。
【００３１】例えば、次のタイプの積重体を有すること
が可能である。
が可能である。
【００３２】
【化２】
【００３３】こうして、反射防止積重体には、伝導性材
料の、詳しくはドープされた金属酸化物タイプの、例え
ばスズをドープされた酸化インジウムＩＴＯのようなも
のの、膜を積重体に取り入れることで、追加の静電気防
止機能を与えることができる。
料の、詳しくはドープされた金属酸化物タイプの、例え
ばスズをドープされた酸化インジウムＩＴＯのようなも
のの、膜を積重体に取り入れることで、追加の静電気防
止機能を与えることができる。
【００３４】最大限の反射防止効果を得るためには、好
ましくは、基材の表面のおのおのをこのタイプの反射防
止積重体で被覆する。
ましくは、基材の表面のおのおのをこのタイプの反射防
止積重体で被覆する。
【００３５】上述の反射防止積重体を用いれば、基材の
光反射率の値ＲL は最大で２％の値まで、特に最大で１
％あるいは最大で０．５％の値まで低下する。これは、
反射の美的及び快い測色上の外観をもたらし、詳しく言
うと薄い青又は青緑の色合いをもたらし、そしてそれは
（Ｌ* ，ａ* ，ｂ* ）測色系で、ａ* について絶対値で
最大３．５そしてｂ* について絶対値で最大１．５の負
のａ* 値とｂ* 値とによって表される。
光反射率の値ＲL は最大で２％の値まで、特に最大で１
％あるいは最大で０．５％の値まで低下する。これは、
反射の美的及び快い測色上の外観をもたらし、詳しく言
うと薄い青又は青緑の色合いをもたらし、そしてそれは
（Ｌ* ，ａ* ，ｂ* ）測色系で、ａ* について絶対値で
最大３．５そしてｂ* について絶対値で最大１．５の負
のａ* 値とｂ* 値とによって表される。
【００３６】本発明の更に別の主題は、タイプＡの少な
くとも一つの膜のほかに、所定の熱的性質を持つ、詳し
く言えば日光防護（ｓｕｎ−ｐｒｏｔｅｃｔｉｏｎ）特
性あるいは低放射率を持つ、例えば銀もしくはアルミニ
ウムといった、金属タイプの、あるいはドープされた金
属酸化物タイプの、例えばフッ素をドープされた酸化ス
ズＳｎＯ2 ：Ｆもしくはスズをドープされた酸化インジ
ウムＩＴＯの、膜を少なくとも一つ含む被覆である。
くとも一つの膜のほかに、所定の熱的性質を持つ、詳し
く言えば日光防護（ｓｕｎ−ｐｒｏｔｅｃｔｉｏｎ）特
性あるいは低放射率を持つ、例えば銀もしくはアルミニ
ウムといった、金属タイプの、あるいはドープされた金
属酸化物タイプの、例えばフッ素をドープされた酸化ス
ズＳｎＯ2 ：Ｆもしくはスズをドープされた酸化インジ
ウムＩＴＯの、膜を少なくとも一つ含む被覆である。
【００３７】本発明の更に別の主題は、一体式である
か、積層されているか、あるいは１以上の中間ガス層を
有する多重式であるかに関係なく、被覆された基材を取
り入れたグレージングである。
か、積層されているか、あるいは１以上の中間ガス層を
有する多重式であるかに関係なく、被覆された基材を取
り入れたグレージングである。
【００３８】この窓ガラスは、建築物の内装もしくは外
装窓ガラスとして、あるいは絵画といったような対象物
を保護するためのガラスとして、ショーウインドーや、
例えばカウンターもしくは冷凍陳列ウィンドーといった
ガラスをはめた備品として、あるいは自動車の窓ガラ
ス、例えば積層フロントガラスとして、鏡、コンピュー
タ用の防眩スクリーン、もしくは装飾ガラスとして、使
用することができる。
装窓ガラスとして、あるいは絵画といったような対象物
を保護するためのガラスとして、ショーウインドーや、
例えばカウンターもしくは冷凍陳列ウィンドーといった
ガラスをはめた備品として、あるいは自動車の窓ガラ
ス、例えば積層フロントガラスとして、鏡、コンピュー
タ用の防眩スクリーン、もしくは装飾ガラスとして、使
用することができる。
【００３９】本発明の更に別の主題は、Ａフィルムを含
む被覆を備えた透明基材、特にガラス基材を製造するた
めの方法である。一つの方法は、真空技術を利用して、
特に磁場に支援される陰極スパッタリングによって、全
ての膜を連続して次々に堆積させるものである。例え
ば、酸素の存在下での金属の反応性スパッタリングによ
り酸化物の膜を堆積させ、窒素の存在下で窒化物の膜を
堆積させ、そしてアルミニウムを含有しているターゲッ
トからの反応性スパッタリングにより、フッ化物を得る
ためにはフッ素化したガスの存在下で、また酸フッ化物
を得るためにはフッ素化したガスと例えば酸素のような
酸化性ガスの存在下で、Ａフィルムを堆積させることが
可能である。
む被覆を備えた透明基材、特にガラス基材を製造するた
めの方法である。一つの方法は、真空技術を利用して、
特に磁場に支援される陰極スパッタリングによって、全
ての膜を連続して次々に堆積させるものである。例え
ば、酸素の存在下での金属の反応性スパッタリングによ
り酸化物の膜を堆積させ、窒素の存在下で窒化物の膜を
堆積させ、そしてアルミニウムを含有しているターゲッ
トからの反応性スパッタリングにより、フッ化物を得る
ためにはフッ素化したガスの存在下で、また酸フッ化物
を得るためにはフッ素化したガスと例えば酸素のような
酸化性ガスの存在下で、Ａフィルムを堆積させることが
可能である。
【００４０】とは言え、Ａフィルムを除いて、積重体の
膜の一部は真空を使用する別の技術により、あるいは、
特に被覆を支持する基材と直接接する積重体の第一の膜
（又は最初の二つ）は、この基材がガラス製である場合
には、熱分解タイプの技術により、堆積させることを妨
げられない。
膜の一部は真空を使用する別の技術により、あるいは、
特に被覆を支持する基材と直接接する積重体の第一の膜
（又は最初の二つ）は、この基材がガラス製である場合
には、熱分解タイプの技術により、堆積させることを妨
げられない。
【００４１】本発明は、被覆を支持する透明基材の性質
に関しては制限を設けず、従ってそれはガラス製でもプ
ラスチック製でもよい。
に関しては制限を設けず、従ってそれはガラス製でもプ
ラスチック製でもよい。
【００４２】
【実施例】本発明の有利な特徴と詳しいことは、図１を
参照して、以下に掲げる限定しない例から必然的に明ら
かになろう。
参照して、以下に掲げる限定しない例から必然的に明ら
かになろう。
【００４３】この図は、本発明によりＡフィルムを少な
くとも一つ使用する反射防止積重体で覆われた基材の断
面を非常に模式的に表している（明瞭にするため、基材
と膜の厚さの相対的な比率は考慮されていない）。実際
には、基材の表面のおのおのに同一の積重体が備えられ
るが、簡単にするため単一の積重体だけが表示されてい
る。下記の例を通じて、基材の表面のそれぞれで被覆を
使用した。
くとも一つ使用する反射防止積重体で覆われた基材の断
面を非常に模式的に表している（明瞭にするため、基材
と膜の厚さの相対的な比率は考慮されていない）。実際
には、基材の表面のおのおのに同一の積重体が備えられ
るが、簡単にするため単一の積重体だけが表示されてい
る。下記の例を通じて、基材の表面のそれぞれで被覆を
使用した。
【００４４】これらの例では、磁場に支援される反応性
陰極スパッタリングにより連続して薄膜の堆積を行った
ことを指摘すべきである。
陰極スパッタリングにより連続して薄膜の堆積を行った
ことを指摘すべきである。
【００４５】反射防止被覆を堆積させる基材は、サン−
ゴバン・ビトラージュにより販売されている、厚さが３
〜６ｍｍ、特に４ｍｍの、Ｐｌａｎｉｌｕｘタイプの透
明なシリカ−ソーダ−石灰基材である。
ゴバン・ビトラージュにより販売されている、厚さが３
〜６ｍｍ、特に４ｍｍの、Ｐｌａｎｉｌｕｘタイプの透
明なシリカ−ソーダ−石灰基材である。
【００４６】図１は、第一の態様による、二つの表面を
高屈折率の薄膜２、４と低屈折率の薄膜３、５が交互に
並んだものを含む四つの膜の積重体６で被覆したガラス
基材１を表している。
高屈折率の薄膜２、４と低屈折率の薄膜３、５が交互に
並んだものを含む四つの膜の積重体６で被覆したガラス
基材１を表している。
【００４７】最初の一連の例は、高屈折率膜として膜４
では酸化ニオブを、膜２では酸化スズを用いて実施し
た。
では酸化ニオブを、膜２では酸化スズを用いて実施し
た。
【００４８】〔例１〕この例は、次の並びの順番で構成
された四つの膜の被覆を使用する（これらの膜のナノメ
ートルで表した幾何学的厚みはそれらのおのおのの下に
指示されている）。
された四つの膜の被覆を使用する（これらの膜のナノメ
ートルで表した幾何学的厚みはそれらのおのおのの下に
指示されている）。
【００４９】
【化３】
【００５０】膜２、３、４は、酸素の存在下においてそ
れぞれスズターゲット、ドープされたケイ素ターゲット
及びニオブターゲットから得られる。
れぞれスズターゲット、ドープされたケイ素ターゲット
及びニオブターゲットから得られる。
【００５１】式Ａｌx Ｏy Ｆz を持つＡフィルムは、酸
素とＣＦ4 の存在化でアルミニウムターゲットから得ら
れる（ＣＦ4 と一緒にしてあるいはその代わりに、ほか
のフッ素化されたガス、例えばＣ2 Ｆ6 を使用してもよ
い）。ＣＦ4 レベルを調節して屈折率が約１．３７の膜
を得る。被覆した基材で測定した、光源Ｄ65に基づく光
の反射率ＲL は０．８０％である。（Ｌ* ，ａ* ，
ｂ* ）測色系による反射光のａ* (R) とｂ* (R) の値
は、それぞれ約−３と−１である。Ａフィルムの堆積速
度はシリカ膜３のそれよりはるかに大きい。
素とＣＦ4 の存在化でアルミニウムターゲットから得ら
れる（ＣＦ4 と一緒にしてあるいはその代わりに、ほか
のフッ素化されたガス、例えばＣ2 Ｆ6 を使用してもよ
い）。ＣＦ4 レベルを調節して屈折率が約１．３７の膜
を得る。被覆した基材で測定した、光源Ｄ65に基づく光
の反射率ＲL は０．８０％である。（Ｌ* ，ａ* ，
ｂ* ）測色系による反射光のａ* (R) とｂ* (R) の値
は、それぞれ約−３と−１である。Ａフィルムの堆積速
度はシリカ膜３のそれよりはるかに大きい。
【００５２】〔例２〕この例は、下記の並びの順番（全
ての例において同じ表し方をする）で、今回は二つのＡ
フィルムを使用する四つの膜の被覆を使用する。
ての例において同じ表し方をする）で、今回は二つのＡ
フィルムを使用する四つの膜の被覆を使用する。
【００５３】
【化４】
【００５４】これらの膜は先の例のようにして得られ、
Ａフィルムの屈折率は約１．３７である。被覆した基材
のＲL 値は０．９６％であり、ａ* とｂ* の値はそれぞ
れ約−３と−１である。
Ａフィルムの屈折率は約１．３７である。被覆した基材
のＲL 値は０．９６％であり、ａ* とｂ* の値はそれぞ
れ約−３と−１である。
【００５５】〔例３〕例２と同様の積重体を使用する
が、図において番号５をつけた「外側」のＡフィルム
は、今回は屈折率を約１．４２とする条件下で堆積さ
せ、他方のフィルムの屈折率はやはり約１．３７であ
る。
が、図において番号５をつけた「外側」のＡフィルム
は、今回は屈折率を約１．４２とする条件下で堆積さ
せ、他方のフィルムの屈折率はやはり約１．３７であ
る。
【００５６】屈折率１．３７のＡフィルムは前のとおり
に得られ、従ってこの膜は式ＡｌxＯy Ｆz に対応して
いる。
に得られ、従ってこの膜は式ＡｌxＯy Ｆz に対応して
いる。
【００５７】屈折率１．４２のＡフィルムは、もはや純
粋なアルミニウム製ではなく、低ケイ素含有量のアルミ
ニウム−ケイ素合金製のターゲットを使って得られる。
従って、この膜は式Ａｌx Ｏy Ｆz Ｓｉt に対応してい
る。並びの順番は次のとおりである。
粋なアルミニウム製ではなく、低ケイ素含有量のアルミ
ニウム−ケイ素合金製のターゲットを使って得られる。
従って、この膜は式Ａｌx Ｏy Ｆz Ｓｉt に対応してい
る。並びの順番は次のとおりである。
【００５８】
【化５】
【００５９】被覆した基材のＲL 値は０．８０％であ
り、ａ* とｂ* の値はそれぞれ約−３と−１である。
り、ａ* とｂ* の値はそれぞれ約−３と−１である。
【００６０】二番目の一連の例は、膜４で酸化タングス
テンを、そして膜２で酸化スズを用いて実施した。膜は
前のとおりに製作し、酸化タングステンは酸素の存在下
での金属タングステンターゲットの反応性スパッタリン
グにより堆積させる。
テンを、そして膜２で酸化スズを用いて実施した。膜は
前のとおりに製作し、酸化タングステンは酸素の存在下
での金属タングステンターゲットの反応性スパッタリン
グにより堆積させる。
【００６１】〔例４〕下記の並びの順番の積重体を使用
する。
する。
【００６２】
【化６】
【００６３】最初のＡフィルム(3) は屈折率が約１．３
７であり、二番目のものは約１．４２である。それらは
例３におけるように得られる。被覆した基材のＲL 値は
約０．３３％であり、反射光のａ* とｂ* の値はそれぞ
れ約−３と−１である。
７であり、二番目のものは約１．４２である。それらは
例３におけるように得られる。被覆した基材のＲL 値は
約０．３３％であり、反射光のａ* とｂ* の値はそれぞ
れ約−３と−１である。
【００６４】〔例５〕下記の並びの順番の積重体を使用
する。
する。
【００６５】
【化７】
【００６６】Ａフィルムは屈折率が約１．４２であり、
例３におけるようにＡｌ／Ｓｉ金属合金ターゲットから
得られる。被覆した基材のＲL 値は約０．３５％であ
り、ａ * とｂ* の値はそれぞれ約−３と−１である。
例３におけるようにＡｌ／Ｓｉ金属合金ターゲットから
得られる。被覆した基材のＲL 値は約０．３５％であ
り、ａ * とｂ* の値はそれぞれ約−３と−１である。
【００６７】次に、膜４について酸化チタンを用いそし
て膜２について酸化スズを用いた一つの例を実施した。
て膜２について酸化スズを用いた一つの例を実施した。
【００６８】〔例６〕下記の並びの順番の積重体を使用
する。
する。
【００６９】
【化８】
【００７０】ここでは、Ａフィルムは屈折率が１．３７
であり、例１におけるように得られる。被覆した基材の
ＲL 値は約０．９０％であり、ａ* とｂ* の値はやはり
それぞれ約−３と−１である。
であり、例１におけるように得られる。被覆した基材の
ＲL 値は約０．９０％であり、ａ* とｂ* の値はやはり
それぞれ約−３と−１である。
【００７１】第二の態様に従い、本発明により少なくと
も一つのＡフィルムを含む反射防止被覆を、実際のとこ
ろ高屈折率酸化物膜４が２又は３の高屈折率酸化物膜の
重なり合ったものからなる「総合」膜となるように設計
する。
も一つのＡフィルムを含む反射防止被覆を、実際のとこ
ろ高屈折率酸化物膜４が２又は３の高屈折率酸化物膜の
重なり合ったものからなる「総合」膜となるように設計
する。
【００７２】〔例７〕下記の並びの順番で五つの膜を備
えた積重体を使用する。
えた積重体を使用する。
【００７３】
【化９】
【００７４】最初のＡフィルム(3) の屈折率は約１．３
７であり、二番目のＡフィルム(5)の屈折率は約１．４
２である。それらは例３におけるようにして得られる。
７であり、二番目のＡフィルム(5)の屈折率は約１．４
２である。それらは例３におけるようにして得られる。
【００７５】被覆した基材のＲL 値は約０．５０％であ
り、反射光のａ* とｂ* の値はそれぞれ約−３と−１で
ある。
り、反射光のａ* とｂ* の値はそれぞれ約−３と−１で
ある。
【００７６】この積重体のＮｂ2 Ｏ5 の代わりに、特に
ＴｉＯ2 又はＢｉ2 Ｏ3 膜を用いることも可能である。
ＴｉＯ2 又はＢｉ2 Ｏ3 膜を用いることも可能である。
【００７７】〔例８〕下記の並びの順番で六つの膜を備
えた積重体を使用する。
えた積重体を使用する。
【００７８】
【化１０】
【００７９】二つのＡフィルム(3) と(5) は屈折率が
１．３７であり、例４におけるように得られる。
１．３７であり、例４におけるように得られる。
【００８０】被覆した基材のＲL 値は約０．５２％であ
り、反射光のａ* とｂ* の値はそれぞれ約−３．１と−
１．２である。
り、反射光のａ* とｂ* の値はそれぞれ約−３．１と−
１．２である。
【００８１】ここでもやはり、〔Ｎｂ2 Ｏ5 ／ＳｎＯ2
／Ｎｂ2 Ｏ5 〕の代わりに〔Ｂｉ2Ｏ3 ／ＳｎＯ2 ／Ｂ
ｉ2 Ｏ3 〕又は〔ＴｉＯ2 ／ＳｎＯ2 ／ＴｉＯ2 〕を使
用してもよい。
／Ｎｂ2 Ｏ5 〕の代わりに〔Ｂｉ2Ｏ3 ／ＳｎＯ2 ／Ｂ
ｉ2 Ｏ3 〕又は〔ＴｉＯ2 ／ＳｎＯ2 ／ＴｉＯ2 〕を使
用してもよい。
【００８２】最後に、低屈折率膜としてＳｉＯ2 膜だけ
を用いた反射防止膜を使って、比較例を実施した。ま
た、本発明による最後の例を、最初の高屈折率膜と低屈
折率膜（２、３）の並びを中間屈折率膜（７）と取り替
えた反射防止膜を使って実施した。
を用いた反射防止膜を使って、比較例を実施した。ま
た、本発明による最後の例を、最初の高屈折率膜と低屈
折率膜（２、３）の並びを中間屈折率膜（７）と取り替
えた反射防止膜を使って実施した。
【００８３】〔例９〕下記の並びの順番で三つの膜を持
つ積重体を使用する。
つ積重体を使用する。
【００８４】
【化１１】
【００８５】混合酸化物膜(7) は、Ａｌ／Ｓｎターゲッ
トから酸素の存在下での反応性スパッタリングにより得
られる。Ａフィルム(5) は例４におけるとおりに得られ
る。
トから酸素の存在下での反応性スパッタリングにより得
られる。Ａフィルム(5) は例４におけるとおりに得られ
る。
【００８６】被覆した基材のＲL 値は０．６６％であ
り、反射光のａ* とｂ* の値はそれぞれ約−３．１と−
１．１である。
り、反射光のａ* とｂ* の値はそれぞれ約−３．１と−
１．１である。
【００８７】〔比較例１０〕これは、膜５をシリカ膜に
取り替えて同じ並びの順番を使用することから、例１に
匹敵する。従って積重体は次のとおりである。
取り替えて同じ並びの順番を使用することから、例１に
匹敵する。従って積重体は次のとおりである。
【００８８】
【化１２】
【００８９】被覆した基材のＲL の値は０．５５％であ
る。
る。
【００９０】この一組の結果から次の結論を引き出すこ
とができる。すなわち、反射防止積重体にＡタイプの膜
を取り入れるのは有利であり、シリカ膜よりもこれらの
フッ素化した膜を使用することにより製造サイクル時間
を非常に大幅に減少させることができる。
とができる。すなわち、反射防止積重体にＡタイプの膜
を取り入れるのは有利であり、シリカ膜よりもこれらの
フッ素化した膜を使用することにより製造サイクル時間
を非常に大幅に減少させることができる。
【００９１】この置換は、積重体の性質、より詳しく言
えば光学的性質の見地から少しも欠点を伴わず、屈折率
が調節可能なＡフィルムは、非常に低い、少なくともシ
リカ膜と同じほど低い、ＲL の値を得るのを可能にす
る。それらはまた、非常に薄い緑−青の反射の外観を得
るのを可能にし、この色合いは現在大変に望ましいもの
である。
えば光学的性質の見地から少しも欠点を伴わず、屈折率
が調節可能なＡフィルムは、非常に低い、少なくともシ
リカ膜と同じほど低い、ＲL の値を得るのを可能にす
る。それらはまた、非常に薄い緑−青の反射の外観を得
るのを可能にし、この色合いは現在大変に望ましいもの
である。
【００９２】実際には、低い光反射率の値とともにこの
測色の結果を得るために、各膜の厚みを、より詳しく言
うとＡフィルムの厚みを、選択した。これらの膜の厚み
を、特に反射光のわずかに異なる測色の結果を得ること
を目的として、特に指示された厚みに関して±２０％だ
け変更することは、本発明の範囲から逸脱しないであろ
うということは明らかである。
測色の結果を得るために、各膜の厚みを、より詳しく言
うとＡフィルムの厚みを、選択した。これらの膜の厚み
を、特に反射光のわずかに異なる測色の結果を得ること
を目的として、特に指示された厚みに関して±２０％だ
け変更することは、本発明の範囲から逸脱しないであろ
うということは明らかである。
【００９３】更に、例３におけるように、少量のシリカ
を追加して含有しているフッ素化したアルミナから作ら
れた「外側」Ａフィルムを使用することは、二つの利点
をもたらし、すなわちこれは膜の屈折率のより細かい調
節を可能にし、そしてシリカだけから又はフッ素化した
アルミナだけからなる膜と比べて膜の化学的な耐性を増
加させる。
を追加して含有しているフッ素化したアルミナから作ら
れた「外側」Ａフィルムを使用することは、二つの利点
をもたらし、すなわちこれは膜の屈折率のより細かい調
節を可能にし、そしてシリカだけから又はフッ素化した
アルミナだけからなる膜と比べて膜の化学的な耐性を増
加させる。
【００９４】これは、膜の積重体が外部に面する（天候
により損傷を被る）又は内部に面する（摩擦を受ける清
掃により損傷を被る）窓ガラスに基材を取り入れる場合
に有益である。
により損傷を被る）又は内部に面する（摩擦を受ける清
掃により損傷を被る）窓ガラスに基材を取り入れる場合
に有益である。
【００９５】更に、試験から、良好な機械的耐久性が証
明された。酸フッ化アルミニウムとシリカの混合物から
なり、屈折率が１．４２、そして厚さが１００ｎｍであ
る、本発明によるＡフィルムを、ガラス基材の上に直接
堆積させた。この基材を、研磨材をエラストマーに埋め
込んだ砥石車を使用して行ういわゆるテーバー（Ｔａｂ
ｅｒ）摩耗試験にかけた。この機械は、米国の会社Ｔａ
ｂｅｒ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏ
ｎ製である。それはモデル１７４の「標準摩耗試験機」
であり、砥石車は５００ｇを負荷されるＣＳ１０Ｆタイ
プのものである。光源Ｄ65を基にした光の透過率Ｔ
L と、曇り（ｂｌｕｒｒｉｎｇ）レベルＦ（拡散光透過
率）を、開始時に測定し、次いで１５０回転後、３５０
回転後、及び６５０回転後に測定した。結果を下記の表
に示す。
明された。酸フッ化アルミニウムとシリカの混合物から
なり、屈折率が１．４２、そして厚さが１００ｎｍであ
る、本発明によるＡフィルムを、ガラス基材の上に直接
堆積させた。この基材を、研磨材をエラストマーに埋め
込んだ砥石車を使用して行ういわゆるテーバー（Ｔａｂ
ｅｒ）摩耗試験にかけた。この機械は、米国の会社Ｔａ
ｂｅｒ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏ
ｎ製である。それはモデル１７４の「標準摩耗試験機」
であり、砥石車は５００ｇを負荷されるＣＳ１０Ｆタイ
プのものである。光源Ｄ65を基にした光の透過率Ｔ
L と、曇り（ｂｌｕｒｒｉｎｇ）レベルＦ（拡散光透過
率）を、開始時に測定し、次いで１５０回転後、３５０
回転後、及び６５０回転後に測定した。結果を下記の表
に示す。
【００９６】
【表１】
【００９７】実際、ＴL と曇りＦの変動は小さいことが
認められる。
認められる。
【図１】本発明の態様を模式的に示す図である。
１…ガラス基材 ２、４…高屈折率の薄膜 ３、５…低屈折率の薄膜 ６…薄膜積重体
Claims (21)
- 【請求項１】 １以上の薄膜の被覆（６）を表面の少な
くとも一つに含む透明基材（１）、特にガラス基材、で
あって、当該被覆がフッ化アルミニウム又は酸フッ化ア
ルミニウムＡｌx Ｏy Ｆz （この式のｙ≧０）を含有す
るＡフィルムを少なくとも一つ含むことを特徴とする透
明基材。 - 【請求項２】 前記Ａフィルムの屈折率が１．６３未
満、特に１．６０と１．３２の間、好ましくは１．４５
と１．３５の間であることを特徴とする、請求項１記載
の基材。 - 【請求項３】 前記ＡフィルムにおけるＦ／Ａｌ原子比
が０．１０〜３、特に０．１０〜２．５０、好ましくは
０．１６〜２．４５であることを特徴とする、請求項１
又は２記載の基材。 - 【請求項４】 前記ＡフィルムにおけるＯ／Ｆ原子比が
０〜１０、特に０．１〜１０、好ましくは０．１５〜９
であることを特徴とする、請求項１から３までの一つに
記載の基材。 - 【請求項５】 前記Ａフィルムが、酸フッ化アルミニウ
ムのほかに、少なくとも一つのほかの化合物を、特に酸
化ケイ素ＳｉＯ2 、酸化スズＴｉＯ2 、酸化ニッケルＮ
ｉＯの群に属する酸化物又は酸化物の混合物の形でもっ
て、含むことを特徴とする、請求項１又は２記載の基
材。 - 【請求項６】 前記Ａフィルムがフッ化アルミニウム又
は酸フッ化アルミニウムと酸化ケイ素との混合物、特に
Ｓｉ／Ａｌ原子比が０．０５〜１．００、好ましくは
０．０６〜０．１０、Ｏ／Ｆ原子比が０．２〜１０、好
ましくは０．２５〜８．７０、Ｆ／Ａｌ原子比が０．１
〜２．５、好ましくは０．１８〜２．４０である混合物
を含むことを特徴とする、請求項５記載の基材。 - 【請求項７】 前記Ａフィルムが、陰極スパッタリング
技術により、特にそれが酸フッ化アルミニウムを含む場
合には酸素とフッ素化したガスとの存在下での反応性陰
極スパッタリングにより、また特にそれがフッ化アルミ
ニウムを含む場合にはフッ素化したガスの存在下での反
応性陰極スパッタリングにより、堆積させられているこ
とを特徴とする、請求項１から６までの一つに記載の基
材。 - 【請求項８】 前記被覆（６）が高屈折率の誘電性膜
（２、４）と低屈折率の誘電性膜（３、５）が交互に並
んだものを含む反射防止被覆であり、当該低屈折率の膜
（３、５）のうちの少なくとも一方がＡフィルムからな
ることを特徴とする、請求項１から７までのいずれか一
つに記載の基材。 - 【請求項９】 前記反射防止被覆（６）の最後の膜
（５）がＡフィルムであることを特徴とする、請求項８
記載の基材。 - 【請求項１０】 前記反射防止被覆（６）における全部
の低屈折率膜（３、５）がＡフィルムであることを特徴
とする、請求項８又は９記載の基材。 - 【請求項１１】 前記高屈折率膜（２、４）の屈折率
が、少なくとも１．８０、特に、例えば酸化タングステ
ンＷＯ3 、酸化スズＳｎＯ2 、酸化亜鉛ＺｎＯ、窒化ア
ルミニウムＡｌＮ、窒化ケイ素Ｓｉ3 Ｎ4 、酸化タンタ
ルＴａ2 Ｏ5 といったように、１．９０〜２．２０であ
り、あるいは、例えば酸化ニオブＮｂ2Ｏ5 、酸化チタ
ンＴｉＯ2 、酸化ビスマスＢｉ2 Ｏ3 、酸化ジルコニウ
ムＺｒＯ 2 、酸化セリウムＣｅＯ2 といったように、少
なくとも２．２５であることを特徴とする、請求項８か
ら１０までの一つに記載の基材。 - 【請求項１２】 高屈折率と低屈折率の二つの隣合う膜
の、特に最後の二つの膜の、屈折率の差が少なくとも
０．５、特に約０．８であることを特徴とする、請求項
８から１１までの一つに記載の基材。 - 【請求項１３】 前記反射防止被覆（６）が、ＳｎＯ2
／ＳｉＯ2 ／Ｎｂ2Ｏ5 （又はＳｎＯ2 又はＷＯ3 又は
Ｂｉ2 Ｏ3 又はＴｉＯ2 ）／Ａフィルム積重体、あるい
はＳｎＯ2 ／Ａフィルム／Ｎｂ2 Ｏ5 （又はＳｎＯ2 又
はＷＯ3 又はＢｉ2 Ｏ3 又はＴｉＯ2 ）／Ａフィルム積
重体を含むことを特徴とする、請求項８から１２までの
一つに記載の基材。 - 【請求項１４】 高屈折率膜と低屈折率膜の最初の並び
（２、３）が１．６５〜１．８０という中間の屈折率を
有する単一の膜（７）で置き換えられていることを特徴
とする、請求項８から１２までの一つに記載の基材。 - 【請求項１５】 高屈折率膜と低屈折率膜の二番目の並
び（４、５）が、複数の高屈折率膜の、特に２又は３の
膜の、重なり合ったもの、特に少なくとも一つは酸化ニ
オブ、酸化ビスマス又は酸化タングステン膜であるも
の、から構成された高屈折率の「総合」膜（４）を含む
ことを特徴とする、請求項８から１２までの一つ又は請
求項１４記載の基材。 - 【請求項１６】 前記反射防止被覆（６）が、ドープさ
れた金属酸化物タイプの、例えばスズをドープした酸化
インジウムＩＴＯの、伝導性材料の膜を備えた静電気防
止被覆でもあることを特徴とする、請求項８から１５ま
での一つに記載の基材。 - 【請求項１７】 表面のおのおのに反射防止被覆（６）
を含むことを特徴とする、請求項８から１５までの一つ
に記載の基材。 - 【請求項１８】 最高で２％、特に最高で１％又は最高
で０．６％の視感反射率ＲL と、青又は青−緑色の反射
光、特に絶対値で最高が３．５の負のａ* 値と絶対値で
最高が１．５である負のｂ* 値を持つものとを有するこ
とを特徴とする、請求項８から１７までの一つに記載の
基材。 - 【請求項１９】 前記被覆が熱的性質を持つ膜を、特
に、銀もしくはアルミニウムタイプ、又はＳｎＯ2 ：Ｆ
もしくはスズをドープされた酸化インジウムＩＴＯタイ
プのドープされた金属酸化物タイプの、低放射率膜を含
むことを特徴とする、請求項１から７までの一つに記載
の基材。 - 【請求項２０】 請求項１から１９までの一つに記載の
基材を取り入れていることを特徴とする、一体式グレー
ジング、積層グレージング、又は中間ガス層を有する多
重グレージング。 - 【請求項２１】 建築物の内装もしくは外装窓ガラス、
自動車窓ガラス、例えば絵画といったような対象物を保
護するためのグレージング、ショーウインドーあるいは
カウンター、コンピュータ用の防眩スクリーン、鏡の製
造への、請求項１から１９までの一つに記載された基材
又は請求項２０記載のグレージングの利用。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR9602194A FR2745284B1 (fr) | 1996-02-22 | 1996-02-22 | Substrat transparent muni d'un revetement de couches minces |
| FR9602194 | 1996-02-22 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09314746A true JPH09314746A (ja) | 1997-12-09 |
Family
ID=9489471
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9038102A Withdrawn JPH09314746A (ja) | 1996-02-22 | 1997-02-21 | 薄膜被覆を施した透明基材 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5952084A (ja) |
| EP (1) | EP0791562B1 (ja) |
| JP (1) | JPH09314746A (ja) |
| AT (1) | ATE193001T1 (ja) |
| DE (1) | DE69702011T2 (ja) |
| ES (1) | ES2149555T3 (ja) |
| FR (1) | FR2745284B1 (ja) |
Cited By (1)
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