JPH09304958A

JPH09304958A - 電子写真用感光体

Info

Publication number: JPH09304958A
Application number: JP11590696A
Authority: JP
Inventors: Kenichi Okura; 健一大倉; Shinichiro Nishimaki; 慎一郎西牧
Original assignee: Fuji Electric Co Ltd
Current assignee: Fuji Electric Co Ltd
Priority date: 1996-05-10
Filing date: 1996-05-10
Publication date: 1997-11-28

Abstract

(57)【要約】（修正有）【課題】下引き層の金属酸化物と感光層の電荷輸送物質
の組み合わせを最適化して、十分な感度と高い電荷保持
能力を有するとともに残留電位が低く、繰り返し使用に
おいても安定な電子写真用感光体を得る。【解決手段】導電性基体上の下引き層の金属酸化物にア
ミノシラン処理されたアナターゼ型酸化チタン微粒子を
用い、感光層の電荷輸送物質に一般式Ｉのヒドラゾン系
化合物と一般式IIのアミノスチリル系化合物のうちの少
なくとも一つを用いる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は電子写真用感光体
に係り、特に下引き層中の金属酸化物と感光層中の電荷
輸送物質に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来より電子写真用感光体（以下感光体
とも称する）の感光物質としてセレンまたはセレン合金
などの無機光導電性物質、酸化亜鉛あるいは硫化カドミ
ウムなどの無機光導電性物質を樹脂結着剤中に分散させ
たもの、ポリ‐Ｎ‐ビニルカルバゾールまたはポリビニ
ルアントラセンなどの有機光導電性物質、フタロシアニ
ン化合物あるいはビスアゾ化合物などの有機光導電性物
質を樹脂結着剤中に分散させたものや真空蒸着させたも
のなどが利用されている。

【０００３】感光体は暗所で表面電荷を保持する機能、
光を受容して電荷を発生する機能、同じく光を受容して
電荷を輸送する機能が必要であるが、一つの層でこれら
の機能を併せ持ったいわゆる単層型感光体、主として電
荷発生に寄与する層と暗所での表面電荷の保持と光受容
時の電荷輸送に寄与する層とに機能分離したいわゆる積
層型感光体がある。

【０００４】これらの感光体を用いた電子写真法による
画像形成は例えばカールソン方式が適用される。この方
式での画像形成は暗所での感光体へのコロナ放電による
帯電、帯電された感光体表面上への原稿の文字や絵など
の静電潜像の形成、形成された静電潜像のトナーによる
現像、現像されたトナー像の紙などの支持体への定着に
より行われ、トナー像転写後の感光体は除電、残留トナ
ーの除去、光除電などを行った後、再使用に供される。

【０００５】近年、可とう性．熱安定性．膜形成性など
の利点により、有機物質を用いた電子写真用感光体が実
用化されてきている。例えば、ポリ‐Ｎ‐ビニルカルバ
ゾールと２，４，７‐トリニトロフルオレン‐９‐オン
とからなる感光体（米国特許第３４８４２３７号明細書
に記載）、有機顔料を主成分とする感光体（特開昭４７
−３７５４３号公報に記載）、染料と樹脂とからなる共
晶錯体を主成分とする感光体（特開昭４７−１０７８５
号公報に記載）などである。

【０００６】現在実用化されている電子写真用感光体は
導電性支持基体上に感光層を形成して構成されている
が、以下の要求を満たすために導電性支持基体と感光層
との間に樹脂を主成分とする下引き層やアルマイト層を
設けることが行われている。（１）導電性支持基体から感光層への不要な電荷が注入
して感光層の表面電位が低下する事を防止し、または現
像による画像欠陥の発生を防止すること。（２）導電性支持基体表面の欠陥を被覆すること。（３）帯電性を改善すること。（４）感光層の接着性の向上。（５）塗工性を改善すること。

【０００７】下引き層として用いられる樹脂としては、
例えばポリエチレン，ポリプロピレン，ポリスチレン，
アクリル樹脂，塩化ビニル樹脂，酢酸ビニル樹脂，ポリ
ウレタン樹脂，エポキシ樹脂，ポリエステル樹脂，メラ
ミン樹脂，シリコン樹脂，ポリブチラール樹脂，ポリア
ミド樹脂等の樹脂やこれらの繰り返し単位のうち二つ以
上を含む共重合樹脂、例えば塩化ビニル―酢酸ビニル共
重合体樹脂、アクリロニトリル―スチレン共重合体樹脂
等、さらにはガゼイン，ゼラチン，ポリビニルアルコー
ル，エチルセルロース等が用いられる。これらの樹脂の
うち特にポリアミド樹脂が好ましいとされている（特開
昭４８−４７３４４号公報、特開昭５２−２５６３８号
公報、特開昭５８−９５３５１号公報）。

【０００８】しかしながら上記のように下引き層にポリ
アミド樹脂等を使用した電子写真用感光体において、樹
脂の体積抵抗値が１０¹²〜１０¹⁵Ω・ｃｍ程度であるた
めに、下引き層の膜厚としては０．３μｍ程度以下に薄
くしなければ、感光体に残留電位が蓄積され、画像にカ
ブリを生じる。一方、下引き層の膜厚を薄膜化すると、
塗工時に膜厚の制御が難しくなり、導電性支持基体上の
欠陥を覆いきれなくなるばかりか、感光体の帯電性の改
善が認められなくなるという問題があった。

【０００９】そこで画像欠陥の防止及び残留電位の改善
のために、酸化チタンと酸化スズとの混合物１〜１０重
量部を、１００重量部の８―ナイロンに分散させて下引
き層を形成した電子写真用感光体が特開昭６２−２８０
８６４号公報に、また酸化チタンの分散性を改善するた
めにアルミナ被覆酸化チタン微粒子を用いたものが特開
平２−１８１１５８号公報に開示されている。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】このように下引き層に
酸化チタンを混合することで下引き層の厚膜化を可能に
し且つ残留電位を改善することができたが、感光層との
組み合わせによっては常にそのような良好な特性が得ら
れるとは限らず、良好な特性を有する感光体を得るため
には、下引き層と感光層の組み合わせを最適化する必要
がある。例えば不適当な組み合わせでは、感度が十分で
なかったり電荷保持能力が悪かったり、繰り返し使用時
の帯電能や電位安定性が悪かったり、実用上問題となる
点がいくつか生じる。従って下引き層と感光層の組合
せは非常に重要であるが、最適な組み合わせを選ぶ明確
な理論が存在せず、最適な下引き層と感光層の組み合わ
せを発見することは容易ではない。

【００１１】また感光層中に含有する電荷輸送物質は、
光受容時の電荷輸送に大きく寄与し、電子写真法による
画像形成に大きく寄与している。この発明は上述の点に
鑑みてなされその目的は、下引き層の金属酸化物と感光
層の電荷輸送物質の組み合わせを最適化することによ
り、十分な感度と高い電荷保持能力を有するとともに残
留電位が低く、繰り返し使用においても安定な特性を有
する電子写真用感光体を提供することにある。

【００１２】

【課題を解決するための手段】上述の目的はこの発明に
よれば、導電性基体上に下引き層と感光層を順次積層
し、前記下引き層が金属酸化物微粒子を樹脂中に分散し
てなり、感光層が電荷発生物質と電荷輸送物質を含む電
子写真用感光体において、前記金属酸化物が酸化チタン
であり、電荷輸送物質が下記一般式Ｉのヒドラゾン系化
合物と下記一般式IIのアミノスチリル系化合物のうちの
少なくとも一つであるとすることにより達成される。

【００１３】

【化３】〔一般式Ｉにおいて、Ｒ¹，Ｒ²はそれぞれ置換されて
もよいアルキル基，アリール基またはベンジル基、Ｒ³
は水素原子，アルキル基またはアルコキシ基、Ｒ ⁴は置
換されてもよいアルキル基，アリール基，ベンジル基ま
たはチエニル基を表す。〕

【００１４】

【化４】〔一般式IIにおいて、Ａは置換基Ｒを有してもよい芳香
族炭化水素基または芳香族複素環基を表す。Ｒは水素原
子，アルキル基またはアリール基で各Ｒ毎にそれぞれ異
なっていてもよい。ｎは２ないし４の整数を表す。〕上述の発明において下引き層の樹脂が、可溶性ナイロン
を含むこと，下引き層の酸化チタンが、アミノシラン処
理されたアナターゼ型酸化チタンを含むこと，または感
光層の電荷発生物質が、ＣｕＫαＸ線回折における回折
角（２θ±０．２°）９．６０度に強いピークを示すチ
タニルオキシフタロシアニンを含むことが有効である。

【００１５】本発明における特定の下引き層と特定の電
荷輸送物質の組合せは、組み合わせに係る物質相互のイ
オン化ポテンシャルの適合性良好等の理由により、電荷
発生物質により発生した正電荷と負電荷の移動及び電荷
の打ち消し等のバランスが良好に行われ、十分な感度，
高い電荷保持能力，低い残留電位，繰り返し使用時の電
位安定性をもたらすと考えられるがこのイオン化ポテン
シャル以外の他の要因の存在も考えられる。

【００１６】

【発明の実施の形態】図１はこの発明の実施の形態に係
る負帯電の機能分離型電子写真用感光体を示す断面図で
ある。図２はこの発明の実施の形態に係る正帯電の機能
分離型電子写真用感光体を示す断面図である。

【００１７】図３はこの発明の実施の形態に係る正帯電
の単層型電子写真用感光体を示す断面図である。導電性
基体１の上に下引き層２と感光層６が積層される。感光
層は単層型または機能分離型があり、機能分離型は電荷
発生層３と電荷輸送層４からなる。導電性基体は、アル
ミニウム，銅，ニッケル，鉄などの金属または合金、導
電性樹脂からなるドラムやシート、紙，プラスチック，
ガラスなどからなるドラムやシートの表面に導電性のシ
ートをラミネートしたり、金属を蒸着したり，あるいは
導電性塗料を塗布して導電性を付与したもの等が使用で
きる。これらの表面には必要に応じて、酸化処理，薬品
処理，オゾン処理，紫外線処理，プラズマ処理などを行
ってもよい。

【００１８】下引き層は結着樹脂と酸化チタン微粒子か
らなる分散溶液を塗布することにより形成される。結着
樹脂としてはポリエチレン，ポリプロピレン，ポリスチ
レン，アクリル樹脂，塩化ビニル樹脂，酢酸ビニル樹
脂，ポリウレタン樹脂，エポキシ樹脂，ポリエステル樹
脂，メラミン樹脂，シリコン樹脂，ポリブチラール樹
脂，ポリアミド樹脂等の樹脂材料やこれらの繰り返し単
位のうち二つ以上を含む共重合樹脂、例えば塩化ビニル
―酢酸ビニル共重合体樹脂、アクリロニトリル―スチレ
ン共重合体樹脂等、さらにはガゼイン，ゼラチン，ポリ
ビニルアルコール，エチルセルロースなどが使用できる
が、塗液の安定性，感光層塗工溶剤（塩化メチレン，Ｔ
ＨＦ等）に対する不溶性から選択される。特に可溶性ナ
イロン即ち共重合ポリアミドを含有することが好まし
い。

【００１９】酸化チタン微粒子としては、アナターゼ型
結晶，ルチル型結晶，アナターゼ・ルチル型混晶のいず
れを用いてもよい。また表面処理された酸化チタンを用
いてもよく、表面処理の方法としては、アルミナ処理，
アミノ酸処理，レシチン処理，ポリエチレン処理，シリ
コン処理等がある。特にアミノシラン処理されたアナタ
ーゼ型が好ましい。

【００２０】下引き層形成用の塗布液を得るために用い
る溶剤としては、上記結着樹脂を溶解するものであれば
良く、塗液の安定性，塗布，乾燥後の下引き層の外観に
対する影響などから選択される。樹脂として、可溶性ナ
イロンを選択した場合は、メタノール，エタノール，ｎ
−ブタノールなどのアルコール溶剤が好ましい。下引き
層用塗布液の分散方法としては、ボールミル，サンドミ
ル，振動ミル，超音波分散機等がある。塗布手段として
は、ディップコーター，ブレードコーター，アプリケー
タ，ロッドコーター，ナイフコーター，キャスティング
及びスプレー等が用いられる。

【００２１】下引き層は塗布後に室温あるいは２００℃
くらいまでの温度で加熱乾燥するのが好ましい。下引き
層の膜厚は、０．０５μｍ〜１０μｍが好ましい。感光
層としては、電荷発生物質と電荷輸送物質を同一層中に
含有する単層型感光層、電荷発生層と電荷輸送層を主た
る層とする機能分離積層型感光層が挙げられる。

【００２２】これらのうちでも機能分離積層型の感光層
は、各層をその機能に最適な材料で形成して組み合わせ
ることにより特性の優れた感光体が得られる可能性が高
く、また使用する露光光に応じて高感度の感光体を得る
ことができるなどの利点を有し好適である。機能分離積
層型感光体の電荷発生層は、電荷発生物質として、フタ
ロシアニン系顔料，アゾ顔料，アントアントロン顔料，
ペリレン顔料，ペリノン顔料，スクアリリウム顔料，チ
アピリリウム顔料，キナクリドン顔料などを結着樹脂で
あるポリビニルブチラール，塩ビ系共重合体，アクリル
樹脂，ポリエステル，ポリカーボネート等を含む溶液に
分散し、この分散液を下引き層上に塗布して形成する。
電荷発生層の膜厚は０．１μｍ〜２μｍが好ましい。

【００２３】この発明において電荷輸送層は、電荷輸送
物質として前記一般式Ｉに示されるヒドラゾン系化合物
または一般式IIに示されるアミノスチリル系化合物のう
ちの少なくとも一つを相溶性のある結着樹脂、例えばポ
リエステル，ポリカーボネート，ポリメタクリル酸エス
テル，ポリスチレンなどと共に溶液とし、この溶液を電
荷発生層上に塗布して形成する。電荷輸送層の膜厚は１
０μｍ〜４０μｍが好ましい。

【００２４】なお電荷発生層と電荷輸送層との積層順は
この逆でもよく、その場合は帯電も逆極性となる。また
単層型感光体の場合は、電荷輸送物質として、前記一般
式Ｉに示されるヒドラゾン系化合物または一般式IIに示
されるアミノスチリル系化合物のうちの少なくとも一つ
と上記結着樹脂との溶液に上記電荷発生物質を分散し、
この分散液を下引き層上に塗布して形成する。この感光
層の膜厚は１０μｍ〜４０μｍが好ましい。

【００２５】上記感光層には感度の向上や残留電位の減
少、あるいは繰り返し使用時の特性の変動を低減する目
的で、必要に応じて電子受容性物質を含有させることが
できる。このような電子受容性物質としては例えば無水
琥珀酸，無水マレイン酸，ジブロム無水琥珀酸，無水フ
タル酸，３‐ニトロ無水フタル酸，４‐ニトロ無水フタ
ル酸，無水ピロメリット酸，ピロメリット酸，トリメリ
ット酸，無水トリメリット酸，フタルイミド，４‐ニト
ロフタルイミド，テトラシアノエチレン，テトラシアノ
キノジメタン，クロラニル，ブロマニル，ｏ−ニトロ安
息香酸などの電子親和力の大きな化合物を挙げることが
できる。

【００２６】また上記感光層中には、耐環境性や有害な
光に対する安定性を向上させる目的で、酸化防止剤や光
安定剤などの劣化防止剤を含有させることもできる。こ
のような目的に用いられる化合物としては、トコフェロ
ールなどのクロマノール誘導体およびそのエーテル化化
合物もしくはエステル化化合物，ポリアリールアルカン
化合物，ハイドロキノン誘導体およびそのモノエーテル
化化合物もしくはジエーテル化化合物，ベンゾフェノン
誘導体，ベンゾトリアゾール誘導体，チオエーテル化合
物，フェニレンジアミン誘導体，ホスホン酸エステル，
亜リン酸エステル，フェノール化合物，ヒンダードフェ
ノール化合物，直鎖アミン化合物，環状アミン化合物，
ヒンダードアミン化合物などが挙げられる。

【００２７】また必要に応じて上記感光層上に、耐環境
性や機械的強度を向上させる目的で、表面保護層を形成
しても良い。表面保護層は、結着樹脂と導電性物質から
なり、光の透過を著しく妨げないものが好ましい。次に
本発明で用いられるヒドラゾン系化合物の具体例が化学
式（Ｉ―１）ないし化学式（Ｉ―２０）に示される。

【００２８】

【化５】

【００２９】

【化６】

【００３０】

【化７】

【００３１】

【化８】

【００３２】

【化９】また本発明で用いられるアミノスチリル系化合物の具体
例が化学式（II―１）ないし化学式（II―１８）に示さ
れる。

【００３３】

【化１０】

【００３４】

【化１１】

【００３５】

【化１２】

【００３６】

【化１３】

【００３７】

【化１４】

【００３８】

【化１５】

【００３９】

【化１６】

【００４０】

【実施例】以下にこの発明の実施例について説明する。
実施例において、部は重量部、％は重量％をそれぞれ表
わす。実施例に用いたチタニルオキシフタロシアニンの
製造法を以下に示す。〔チタニルオキシフタロシアニンの製造法〕フタロジニ
トリル１２８部とキノリン１０００部中に、窒素雰囲気
下で四塩化チタン４７．５部を滴下した。滴下終了後、
昇温し、加熱しながら２００℃で８時間反応させ、放冷
し、１３０℃で熱時濾過し、１３０℃に加熱したキノリ
ン５００部、さらに１３０℃に加熱したＮ‐メチル‐２
‐ピロリドンで洗浄した。次にメタノール、水の順に洗
浄した。得られたウェットケーキを３％苛性ソーダ水溶
液１０００部に分散し、４時間加熱後、濾液が中性にな
るまで濾過水洗する。次に、このケーキを３％の塩酸水
溶液１０００部に分散し、４時間加熱後、濾液が中性に
なるまで水洗、メタノールおよびアセトンで洗浄する。
このアルカリ、酸、メタノール、アセトンの精製の操作
を数回繰り返した後乾燥する。収量は１０１．２部であ
った。

【００４１】次にこのチタニルオキシフタロシアニン５
０部を−１０℃以下の濃硫酸７５０部に液温が−５℃以
下で冷却攪拌しながら徐々に加えた。この液をさらに２
時間攪拌した後、０℃の氷水中に滴下した。析出した青
色物質を濾過水洗した後、このケーキを２％苛性ソーダ
水溶液５００部に分散後加熱し、ろ過後水洗し乾燥し
た。得られたチタニルオキシフタロシアニンの収量は４
７部であった。

【００４２】次にこのチタニルオキシフタロシアニン４
０部、食塩１００部，水４００部の混合物をジルコニア
ビーズが充填されたサンドミル（シンマルエンタプライ
ゼス社製：商品名「ダイノミル」）中で、室温下、３時
間分散し微粒子化した。次にジクロロトルエン２００部
を加え、さらにサンドミルの稼働を続ける。次に内容物
を取り出し、水蒸気蒸留でジクロロトルエンを留出させ
た後、残っているチタニルオキシフタロシアニンを水で
ろ過し、その後乾燥する。得られたチタニルオキシフタ
ロシアニンのＣｕＫαによるＸ線回折スペクトルはブラ
ッグ角（２θ±０．２゜）７．２２°，９．６０°，１
１．６０°，１３．４０°，１４．８８°，１８．３４
°，２３．６２°，２４．１４°，２７．３２゜に明瞭
な回折ピークを有した。回折ピークのうち９．６０゜の
回折ピークが最大であった。実施例１電気特性を評価するために以下のようにして直径３０ｍ
ｍのドラム感光体を作製した。アルミニウム素管上に下
記組成の分散液を浸漬塗工し、１００℃で３０分乾燥し
て膜厚３μｍの下引き層を形成した。

【００４３】アルコール可溶性ナイロン（東レ：ＣＭ−８０００）５部アミノシラン処理されたアナターゼ型酸化チタン（富士チタン工業：TAF-510T）微粒子５部メタノール，塩化メチレン混合溶媒６／４）９０部次に以下の組成の分散液を浸漬塗工し、１００℃で３０
分乾燥して膜厚０．３μｍの電荷発生層を形成した。チタニルオキシフタロシアニン１部ポリビニルブチラール（積水化学工業：ＢＭ−２）１部テトラヒドロフラン９８部次に、以下の組成の溶液を浸漬塗工し、１００℃で３０
分乾燥して膜厚２０μｍの電荷輸送層を形成した。ヒドラゾン系化合物（Ｉ‐８）１０部ポリカーボネート樹脂（帝人化成：L-1225）１０部ジクロロメタン９０部実施例２実施例１で使用したヒドラゾン系化合物に替えて、化学
式（Ｉ−１４）に示すヒドラゾン系化合物を用いる以外
は実施例１と同様に感光体を作製した。実施例３実施例１で使用したヒドラゾン系化合物に替えて、化学
式（Ｉ−１５）に示すヒドラゾン系化合物を用いる以外
は実施例１と同様に感光体を作製した。実施例４実施例１で使用したヒドラゾン系化合物に替えて、化学
式（Ｉ−１）のヒドラゾン化合物５部と化学式（Ｉ−１
６）のヒドラゾン系化合物５部の混合物を用いる以外は
実施例１と同様に感光体を作製した。実施例５実施例１で使用したヒドラゾン系化合物に替えて、化学
式（Ｉ−８）のヒドラゾン化合物７部と化学式III に示
すブタジエン化合物３部の混合物を用いる以外は実施例
１と同様に感光体を作製した。

【００４４】

【化１７】実施例６実施例１で使用したヒドラゾン系化合物に替えて、化学
式（Ｉ−８）のヒドラゾン化合物７部と化学式（II−
３）に示すアミノジスチリル化合物３部の混合物を用い
る以外は実施例１と同様に感光体を作製した。

【００４５】

【化１８】実施例７実施例１で使用したチタニルオキシフタロシアニンに替
えて、無金属フタロシアニン（大日本インキ製）を用い
る以外は実施例１と同様に感光体を作製した。比較例１実施例１で使用したヒドラゾン系化合物に代えて、化学
式IVに示すベンジジン化合物１０部を用いる以外は実施
例１と同様に感光体を作製した。

【００４６】

【化１９】比較例２実施例１で使用したヒドラゾン系化合物に替えて、化学
式（Ｖ）に示すスチルベン化合物１０部を用いる以外は
実施例１と同様に感光体を作製した。

【００４７】

【化２０】比較例３実施例７のヒドラゾン系化合物に替えて、化学式（IV）
に示すベンジジン化合物１０部を用いる以外は実施例７
と同様に感光体を作製した。

【００４８】

【化２１】比較例４実施例１で使用したアルミニウム素管に代えて、アルミ
ニウムの表面をアルマイト処理し、約５μｍのアルマイ
ト層を形成した素管を用い実施例１と同様に、電荷発生
層および電荷輸送層を形成し感光体を作製した。

【００４９】電気特性の測定はＥＤＡ測定装置を用いて
行った。暗所でコロトロン方式のコロナ帯電で、感光体
表面を帯電位Ｖ₀が約−６５０Ｖになるよう帯電して帯
電位Ｖ₀を測定し、続いてコロナ放電を中止し暗所で５
秒間放置後、表面電位Ｖ_Dを測定し、下記の数式により
電位保持率Ｖ_K5（％）を求めた。

【００５０】

【数１】電位保持率Ｖ_K5（％）＝〔（Ｖ₀−Ｖ_D）／
Ｖ₀〕×１００また同様にＶ₀を約−６５０Ｖに帯電させ、７８０ｎ
ｍ，１μＷ／ｃｍ²の光を照射し、電位が−６００Ｖか
ら−１００Ｖに減衰するのに必要な露光量Ｅ₁₀₀を測定
した。さらに照射５秒後の残留電位Ｖ_R5を測定した。

【００５１】またコロナ放電電圧を上記設定電圧に維持
し、上記帯電露光の操作を連続して１００００回繰り返
した後、Ｖ_K5，Ｅ₁₀₀およびＶ_R5を同様に測定して感光
体の疲労特性を評価した。実施例１〜７および比較例１
〜４で作製した感光体の電気特性を表１に示す。

【００５２】

【表１】表１からわかるようにこの発明の下引き層と電荷輸送物
質を組み合わせた実施例１ないし７の感光体が、比較例
１ないし４の感光体に比して感度，保持率に優れ、低い
残留電位を示し、繰り返し疲労特性も良好である。この
発明の酸化チタン含有下引き層とヒドラゾン系化合物を
含有する感光層を組み合わせた感光体の優位性は明らか
である。実施例８電気特性を評価するために以下のようにして直径３０ｍ
ｍのドラム感光体を作製した。アルミニウム素管上に下
記組成の分散液を浸漬塗工し、１００℃で３０分乾燥し
て膜厚３μｍの下引き層を形成した。

【００５３】アルコール可溶性ナイロン（東レ：ＣＭ−８０００）５部アミノシラン処理されたアナターゼ型酸化チタン（富士チタン工業：TAF-510T）微粒子５部メタノール，塩化メチレン混合溶媒６／４）９０部次に以下の組成の分散液を浸漬塗工し、１００℃で３０
分乾燥して膜厚０．３μｍの電荷発生層を形成した。チタニルオキシフタロシアニン１部ポリビニルブチラール（積水化学工業：ＢＭ−２）１部テトラヒドロフラン９８部次に、以下の組成の溶液を浸漬塗工し、１００℃で３０
分乾燥して膜厚２０μｍの電荷輸送層を形成した。アミノスチリル系化合物（II‐９）１０部ポリカーボネート樹脂（帝人化成：L-1225）１０部ジクロロメタン９０部実施例９実施例８で使用したアミノスチリル系化合物に替えて、
化学式（II−６）に示すアミノスチリル系化合物を用い
る以外は実施例８と同様に感光体を作製した。実施例１０実施例８で使用したアミノスチリル系化合物に替えて、
化学式（II−１２）に示すアミノスチリル系化合物を用
いる以外は実施例８と同様に感光体を作製した。実施例１１実施例８で使用したアミノスチリル系化合物に替えて、
化学式（II−１７）のアミノスチリル系化合物を用いる
以外は実施例８と同様に感光体を作製した。実施例１２実施例８で使用したアミノスチリル系化合物に替えて、
化学式（II−９）のアミノスチリル系化合物７部と化学
式（II―３）に示すアミノスチリル系化合物３部の混合
物を用いる以外は実施例８と同様に感光体を作製した。実施例１３実施例８で使用したアミノスチリル系化合物に替えて、
化学式（II−９）のアミノスチリル系化合物９部と化学
式（III ）に示すブタジエン化合物２部の混合物を用い
る以外は実施例８と同様に感光体を作製した。

【００５４】

【化２２】実施例１４実施例８で使用したアミノスチリル系化合物に替えて、
化学式（II−５）のアミノスチリル系化合物７部と化学
式（Ｉ−１５）に示すヒドラゾン化合物３部の混合物を
用いる以外は実施例８と同様に感光体を作製した。

【００５５】

【化２３】実施例１５実施例８で使用したチタニルオキシフタロシアニンに替
えて、無金属フタロシアニン（大日本インキ製）を用い
る以外は実施例８と同様に感光体を作製した。比較例５実施例８で使用したアミノスチリル系化合物に替えて、
化学式（IV）に示すベンジジン化合物１０部を用いる以
外は実施例８と同様に感光体を作製した。

【００５６】

【化２４】比較例６実施例８で使用したアミノスチリル系化合物に替えて、
化学式（Ｖ）に示すスチルベン化合物１０部を用いる以
外は実施例８と同様に感光体を作製した。

【００５７】

【化２５】比較例７実施例１５のアミノスチリル系化合物に替えて、化学式
（IV）に示すベンジジン化合物１０部を用いる以外は実
施例１５と同様に感光体を作製した。

【００５８】

【化２６】比較例８実施例８で使用したアルミニウム素管に替えて、アルミ
ニウムの表面をアルマイト処理し、約５μｍのアルマイ
ト層を形成した素管を用い実施例８と同様に、電荷発生
層および電荷輸送層を形成し感光体を作製した。

【００５９】電気特性の測定はＥＤＡ測定装置を用いて
行った。暗所でコロトロン方式のコロナ帯電で、感光体
表面を帯電位Ｖ₀が約−６５０Ｖになるよう帯電して帯
電位Ｖ₀を測定し、続いてコロナ放電を中止し暗所で５
秒間放置後、表面電位Ｖ_Dを測定し、下記の数式により
電位保持率Ｖ_K5（％）を求めた。

【００６０】

【数２】電位保持率Ｖ_K5（％）＝〔（Ｖ₀−Ｖ_D）／
Ｖ₀〕×１００また同様にＶ₀を約−６５０Ｖに帯電させ、７８０ｎ
ｍ，１μＷ／ｃｍ²の光を照射し、電位が−６００Ｖか
ら−１００Ｖに減衰するのに必要な露光量Ｅ₁₀₀を測定
した。さらに照射５秒後の残留電位Ｖ_R5を測定した。

【００６１】またコロナ放電電圧を上記設定電圧に維持
し、上記帯電露光の操作を連続して１００００回繰り返
した後、Ｖ_K5，Ｅ₁₀₀およびＶ_R5を同様に測定して感光
体の疲労特性を評価した。実施例８〜１５および比較例
５〜８で作製した感光体の電気特性を表２に示す。

【００６２】

【表２】表２からわかるようにこの発明の下引き層と電荷輸送物
質を組み合わせた実施例８ないし１５の感光体が、比較
例５ないし８の感光体に比し感度，保持率に優れ、低い
残留電位を示し、繰り返し疲労特性も良好である。この
発明の酸化チタン含有下引き層とアミノスチリル系化合
物を含有する感光層を組み合わせた感光体の優位性は明
らかである。

【００６３】

【発明の効果】この発明によれば、下引き層に酸化チタ
ン微粒子を用い、且つ感光層中の電荷輸送物質が一般式
Ｉのヒドラゾン系化合物または一般式IIのアミノスチリ
ル系化合物のうちの少なくとも一つであるので、十分な
感度，高い電荷保持能力，低い残留電位，繰り返し使用
時の電位の安定性した電子写真用感光体が得られる。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明の実施の形態に係る負帯電の機能分離
型電子写真用感光体を示す断面図

【図２】この発明の実施の形態に係る正帯電の機能分離
型電子写真用感光体を示す断面図

【図３】この発明の実施の形態に係る正帯電の単層型電
子写真用感光体を示す断面図

【符号の説明】

１導電性基体２下引き層３電荷発生層４電荷輸送層５表面保護層６感光層

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】導電性基体上に下引き層と感光層を順次積
層し、前記下引き層が金属酸化物微粒子を樹脂中に分散
してなり、感光層が電荷発生物質と電荷輸送物質を含む
電子写真用感光体において、前記金属酸化物がアミノシ
ラン処理されたアナターゼ型酸化チタンであり、電荷輸
送物質が下記一般式Ｉのヒドラゾン系化合物と下記一般
式IIのアミノスチリル系化合物のうちの少なくとも一つ
であることを特徴とする電子写真用感光体。【化１】〔一般式Ｉにおいて、Ｒ¹，Ｒ²はそれぞれ置換されて
もよいアルキル基，アリール基またはベンジル基、Ｒ³
は水素原子，アルキル基またはアルコキシ基、Ｒ ⁴は置
換されてもよいアルキル基，アリール基，ベンジル基ま
たはチエニル基を表す。〕【化２】〔一般式IIにおいて、Ａは置換基Ｒを有してもよい芳香
族炭化水素基または芳香族複素環基を表す。Ｒは水素原
子，アルキル基またはアリール基で各Ｒ毎にそれぞれ異
なっていてもよい。ｎは２ないし４の整数を表す。〕
【請求項２】下引き層の樹脂が、可溶性ナイロンを含む
ことを特徴とする請求項１に記載の電子写真用感光体。
【請求項３】感光層の電荷発生物質が、ＣｕＫαＸ線回
折における回折角（２θ±０．２°）９．６０度近傍に
強いピークを示すチタニルオキシフタロシアニンを含む
ことを特徴とする請求項１に記載の電子写真用感光体。