JPH09281053A - パターン検査装置 - Google Patents

パターン検査装置

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Publication number
JPH09281053A
JPH09281053A JP9656996A JP9656996A JPH09281053A JP H09281053 A JPH09281053 A JP H09281053A JP 9656996 A JP9656996 A JP 9656996A JP 9656996 A JP9656996 A JP 9656996A JP H09281053 A JPH09281053 A JP H09281053A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pattern
light
camera
reflected light
inspection apparatus
Prior art date
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Pending
Application number
JP9656996A
Other languages
English (en)
Inventor
Shuzo Matsuno
修三 松野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Avionics Co Ltd
Original Assignee
Nippon Avionics Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Avionics Co Ltd filed Critical Nippon Avionics Co Ltd
Priority to JP9656996A priority Critical patent/JPH09281053A/ja
Publication of JPH09281053A publication Critical patent/JPH09281053A/ja
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 パターンの欠落が生じることのない正しい2
値画像を得る。 【解決手段】 ハロゲンランプから発せられた光は、光
ガイド2a、2b、シリンドリカルレンズ3a、3b、
偏光フィルタ4a、4bを通過する。偏光フィルタ4
a、4bを通過する光は一定方向の偏光のみとなる。グ
リーンシート7の反射光は散乱光となり、パターン8の
反射光は偏光となる。この偏光が最も除去されるように
偏光フィルタ5の回転位置を調整することにより、パタ
ーン8からの反射光をカットする。シート7からの反射
光のみをカメラ1に入射させるため、パターン8の一部
で強い反射が生じても、濃淡画像を2値化処理する際に
パターンが欠落することがなくなる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、グリーンシート等
に形成されたパターンを検査するパターン検査装置に関
するものである。
【0002】
【従来の技術】従来より、IC、LSIの多ピン化要求
に適した実装技術として、PGA(Pin Grid Array)が
知られている。PGAは、チップを付けるパッケージの
ベースとしてセラミック基板を用い、リード線の取り出
し位置まで配線を行っている。このセラミック基板を作
るために、アルミナ粉末を液状のバインダで練り合わせ
てシート状にしたグリーンシートと呼ばれるものが使用
され、このグリーンシート上に高融点の金属を含むペー
ストがスクリーン印刷される。そして、このようなシー
トを必要枚数積み重ねて焼成することにより、グリーン
シートを焼結させると共にペーストを金属化させる、い
わゆる同時焼成が行われる。
【0003】この工程の終了後、顕微鏡を用いて人間に
より目視でパターンの検査が行われる。ところが、微細
なパターンを目視で検査するには、熟練を要すると共
に、目を酷使するという問題点があった。そこで、目視
検査に代わるものとして、パターンをTVカメラで撮像
して自動的に検査する技術が提案されている(例えば、
特開平6−342472号公報)。図2は特開平6−3
42472号公報に記載された従来のパターン検査装置
のブロック図である。
【0004】カメラ11によって撮像された被測定パタ
ーンの濃淡画像は、A/D変換器12でディジタル化さ
れて、画像メモリ13にいったん記憶される。画像メモ
リ13から読み出された画像データは、2値化処理回路
14によって2値化処理されて2値画像のデータに変換
される。そして、この2値画像データが図示しない判定
手段によって基準となるマスタパターンデータと比較さ
れることにより、パターン検査が実施される。しかし、
このようなパターン検査装置をグリーンシートに印刷さ
れたパターンの検査に適用しようとすると、以下のよう
な問題があった。
【0005】2値化処理回路14は、画像メモリ13に
格納された濃淡画像データから図3に示すような濃度ヒ
ストグラムを作成し、その濃度ヒストグラムの2峰の谷
点aをしきい値として2値化処理を実施する。ところ
が、上述したペーストに銀などの白く反射する成分が含
まれていることと、その表面形状が曲面となっているこ
とから、パターンの一部が明るく光ることがある。そし
て、このような反射が生じた部分は、図3のヒストグラ
ム上で本来、グリーンシート(背景)であるべき峰に含
まれてしまう。したがって、このような濃淡画像データ
を2値化処理すると、強い反射が生じた部分が欠落し
(つまり、パターンを示す値に変換されるべき部分が背
景を示す値に変換されてしまう)、パターン検査装置が
パターンの欠陥と誤認識してしまう結果となる。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】以上のように従来のパ
ターン検査装置では、パターンの一部で強い反射が生じ
ると、カメラで撮像した濃淡画像を2値化処理する際
に、この部分が欠落し、パターンの欠陥と誤認識してし
まうという問題点があった。本発明は、上記課題を解決
するためになされたもので、パターンの一部で強い反射
が生じても、正しい2値画像を得ることができるパター
ン検査装置を提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明は、基材と基材上
に形成された被測定パターンを照らすための照明手段
と、基材及び被測定パターンを撮像するカメラと、照明
手段からの光のうち一定方向の偏光のみを透過させて基
材及び被測定パターンに入射させる第1の偏光フィルタ
と、カメラに入射する基材及び被測定パターンからの反
射光のうち特定方向の偏光のみを除去する第2の偏光フ
ィルタとを有するものである。このように、第1の偏光
フィルタによって一定方向の偏光を基材及び被測定パタ
ーンに入射させると、基材からの反射光は散乱光、被測
定パターンからの反射光は偏光となり、この偏光を第2
の偏光フィルタで除去することにより、基材からの反射
光のみをカメラに入射させることができる。
【0008】
【発明の実施の形態】図1は本発明の第1の実施の形態
を示すパターン検査装置の撮像系のブロック図である。
1はカメラ、2a、2bは図示しないハロゲンランプか
ら放出された光を伝搬させる光ファイバからなる光ガイ
ド、3a、3bはその先端が円柱の一部のような形状を
したシリンドリカルレンズ、4a、4bはシリンドリカ
ルレンズ3a、3bからの光のうち一定方向の偏光のみ
を透過させる第1の偏光フィルタ、5はカメラ1に入射
する光のうち特定方向の偏光のみを除去する第2の偏光
フィルタ、6a、6bはレンズ3a、3b、偏光フィル
タ4a、4bを固定するための保持アーム、7は基材と
なるグリーンシート、8はグリーンシート7上に印刷さ
れたパターンである。
【0009】そして、光ガイド2a、2b、シリンドリ
カルレンズ3a、3b、図示しないハロゲンランプが照
明手段を構成している。次に、このようなパターン検査
装置の撮像系の動作を説明する。ハロゲンランプから発
せられた光は、光ガイド2a、2b、シリンドリカルレ
ンズ3a、3b、第1の偏光フィルタ4a、4bを通っ
て、グリーンシート7及びパターン8に照射される。
【0010】光路上に第1の偏光フィルタ4a、4bを
設けたことにより、この偏光フィルタ4a、4bを通過
する光は一定方向の偏光のみとなる。こうして、一定方
向の偏光のみがグリーンシート7及びパターン8に照射
される。ここで、2組の光ガイド2a、2b、シリンド
リカルレンズ3a、3b、偏光フィルタ4a、4bを使
って2方向から斜方照射するのは、曲面状の突起物とな
るパターン8によって陰ができないようにするためであ
る。
【0011】また、シリンドリカルレンズ3a、3b、
偏光フィルタ4a、4bは保持アーム6a、6bに取り
付けられ、保持アーム6a、6bは図示しない支持機構
によって支えられている。この保持アーム6a、6bと
支持機構との間の相対位置は動かすことが可能であり、
これにより照射角度をシート7の垂直方向に対して例え
ば30〜60°の範囲で変化させることができるように
なっている。
【0012】次に、グリーンシート7は、小さな凹凸の
ある表面形状をしており、入射光を散乱させる。一方、
パターン8は、グリーンシート7よりも滑らかな表面形
状をしており、入射光を正反射する。これにより、グリ
ーンシート7からの反射光は散乱光、パターン8からの
反射光は特定方向の偏光となる。そして、カメラ1に取
り付けられた第2の偏光フィルタ5は、軸10を中心と
して回転することができる。
【0013】したがって、上記特定方向の偏光が最も除
去されるように偏光フィルタ5の回転位置を調整するこ
とにより、パターン8からの反射光をカットし、グリー
ンシート7からの反射光のみをカメラ1に入射させるこ
とができる。本実施の形態においても、カメラ1以降の
構成については図2の例と同様である。つまり、カメラ
1によって撮像された濃淡画像が、A/D変換器でディ
ジタル化され、2値化処理回路によって2値化処理さ
れ、判定手段によってマスタパターンデータと比較され
ることにより、パターン検査が実施される。
【0014】こうして、グリーンシート7からの反射光
のみをカメラ1に入射させることにより、シート7とパ
ターン8の明暗の差を大きくすることができる。また、
パターン8の一部で強い反射が生じても、この反射光が
カメラ1に入射することはないので、濃淡画像を2値化
処理する際に、パターンが欠落することがなくなる。な
お、本実施の形態では、グリーンシート7上に印刷され
たパターン8を例にとって説明したが、パターンが
「暗」、基材が「明」となる図3のような濃度ヒストグ
ラムが得られるものであれば、他の基材上に形成された
パターンであってもよい。
【0015】
【発明の効果】本発明によれば、第1、第2の偏光フィ
ルタを設けることにより、基材からの反射光のみをカメ
ラに入射させることができるので、コントラストのよい
濃淡画像を得ることができる。また、被測定パターンの
一部で強い反射が生じても、パターンが欠落することの
ない正しい2値画像を得ることができ、パターンの欠陥
と誤認識することがなくなる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の第1の実施の形態を示すパターン検
査装置の撮像系のブロック図である。
【図2】 従来のパターン検査装置のブロック図であ
る。
【図3】 カメラによって撮像された濃淡画像の濃度ヒ
ストグラムの一例を示す図である。
【符号の説明】
1…カメラ、2a、2b…光ガイド、3a、3b…シリ
ンドリカルレンズ、4a、4b…第1の偏光フィルタ、
5…第2の偏光フィルタ、6a、6b…保持アーム、7
…グリーンシート、8…パターン。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 基材と基材上に形成された被測定パター
    ンを照らすための照明手段と、 前記基材及び被測定パターンを撮像するカメラと、 照明手段からの光のうち一定方向の偏光のみを透過させ
    て基材及び被測定パターンに入射させる第1の偏光フィ
    ルタと、 カメラに入射する基材及び被測定パターンからの反射光
    のうち特定方向の偏光のみを除去する第2の偏光フィル
    タとを有することを特徴とするパターン検査装置。
JP9656996A 1996-04-18 1996-04-18 パターン検査装置 Pending JPH09281053A (ja)

Priority Applications (1)

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JP9656996A JPH09281053A (ja) 1996-04-18 1996-04-18 パターン検査装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9656996A JPH09281053A (ja) 1996-04-18 1996-04-18 パターン検査装置

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JPH09281053A true JPH09281053A (ja) 1997-10-31

Family

ID=14168646

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JP9656996A Pending JPH09281053A (ja) 1996-04-18 1996-04-18 パターン検査装置

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JP (1) JPH09281053A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002139440A (ja) * 2000-11-06 2002-05-17 Ibiden Co Ltd パターン検査用照明装置
JP2006512588A (ja) * 2002-12-30 2006-04-13 アプライド マテリアルズ イスラエル リミテッド パターン化及び非パターン化物体を光学的に検査する方法及びシステム

Cited By (4)

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