JP4805674B2 - パターン化及び非パターン化物体を光学的に検査する方法及びシステム - Google Patents
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Claims (22)
- パターン化された物体を光学的に検査する方法において、
上記パターン化された物体の繰返しピッチを有する非欠陥パターンにより、上記パターンにより偏光シフトされる偏光を有する入射光ビームに導入される偏光シフトを決定するステップと、
上記決定に応答して、光ビームの偏光状態を確立して、偏光された入射光ビームを与えるステップであって、上記偏光された入射光ビームは、上記パターンの繰返しピッチより大きな直径を有するスポットで上記パターン化された物体に当たり、上記偏光された入射光ビームの波長は、上記パターン化された物体の上記パターンの上記繰返しピッチより大きい、ステップと、
上記決定に応答して、上記パターン化された物体からの反射光ビームをフィルタするステップであって、該フィルタするステップは、上記非欠陥パターンにより導入された上記偏光シフトを打ち消して、偏光シフトされた反射光ビームの残留量のみを検出器に与える、ステップと、
上記フィルタされた偏光シフトされた反射光ビームの検出に応答して検出信号を発生するステップと、を備えた方法。 - 上記決定するステップは、上記パターンの通常軸及び異常軸を決定する段階を含む、請求項1に記載の方法。
- 上記決定するステップは、異常成分及び通常成分を含むように上記入射光ビームの偏光を定義する段階を含む、請求項2に記載の方法。
- 光ビームの偏光状態を確立する上記ステップは、円偏光入射光ビームを発生する段階を含む、請求項1に記載の方法。
- 上記入射光ビームは、上記パターン化された物体に垂直な光学軸に沿って伝播する、請求項1に記載の方法。
- 上記入射光ビームは、上記パターン化された物体に対して斜めに配向された光学軸に沿って伝播する、請求項1に記載の方法。
- プロセス変動の存在を指示するように複数の検出信号を処理するステップを更に備えた、請求項1に記載の方法。
- 欠陥の存在を指示するように少なくとも1つの検出信号を処理するステップを更に備えた、請求項1に記載の方法。
- 物体を光学的に検査するシステムにおいて、
上記物体の繰返しピッチを有する非欠陥パターンによって導入される入射光の偏光シフトの決定に応じて、上記物体に向けられた光ビームの偏光状態を確立し、上記物体の上記パターンの繰返しピッチより大きな直径を有するスポットで上記光ビームが上記物体に当たるようにするための入射光光学系であって、上記物体に向けられた光ビームの偏光は上記物体のパターンによって偏光シフトされ、上記物体に向けられた光ビームの波長は上記物体の上記パターンの繰返しピッチより大きい、入射光学系と、
上記非欠陥パターンにより導入される上記偏光シフトの決定に応答して、上記パターン化された物体からの反射光ビームをフィルタするための反射光光学系であって、該フィルタすることは、上記非欠陥パターンにより導入された上記偏光シフトを打ち消して、偏光シフトされた反射光ビームの残留量のみを検出器に与える、反射光光学系と、
コントローラに結合されて、上記フィルタされた偏光シフトされた反射光ビームの検出に応答して検出信号を発生するための検出器と、
を備えたシステム。 - 上記検出器は像形成検出器であり、更に、上記反射光光学系は、上記物体のエリアの像を上記検出器に与えることができる、請求項9に記載のシステム。
- 上記検出器は非像形成検出器であり、更に、上記反射光光学系は、上記検出器における瞳孔を形成する、請求項9に記載のシステム。
- 上記入射光光学系は、上記物体に垂直な光学軸に沿って上記入射光ビームを向ける、請求項9に記載のシステム。
- 上記入射光光学系は、上記物体に対して斜めに配向された光学軸に沿って上記入射光ビームを向ける、請求項9に記載のシステム。
- 上記入射光光学系は、上記物体の平面内の配向に沿って直線偏光状態を確立することができる、請求項9に記載のシステム。
- 上記入射光光学系は、上記物体の平面内に円偏光状態を確立することができる、請求項9に記載のシステム。
- 上記入射光光学系は、上記物体の平面内に楕円偏光状態を確立することができる、請求項9に記載のシステム。
- 上記物体に向けられた光ビームの偏光状態を確立する役目を果たす遅延装置が反射光ビームの経路にも存在する、請求項9に記載のシステム。
- 上記物体に向けられた光ビームの偏光状態を確立する役目を果たす遅延装置は、反射光ビームを偏光によりフィルタするのに使用されるものとは個別である、請求項9に記載のシステム。
- 偏光ビームスプリッタを更に備えており、
上記偏光ビームスプリッタは、a)上記物体に向けられた光ビームを伝送すると共に、反射光ビームを上記検出器に向けて反射し、更に、b)その反射光ビームを偏光によりフィルタする、請求項9に記載のシステム。 - 非偏光ビームスプリッタを更に備えており、
上記非偏光ビームスプリッタは、上記検査される物体に向けられた光ビームを伝送すると共に、反射光ビームを上記検出器に向けて反射し、独立した偏光フィルタがその反射光ビームを偏光によりフィルタする、請求項9に記載のシステム。 - 上記検出器に結合され、プロセス変動の存在を指示するように複数の検出信号を処理できるプロセッサを更に備えた、請求項9に記載のシステム。
- 上記検出器に結合され、欠陥の存在を指示するように少なくとも1つの検出信号を処理できるプロセッサを更に備えた、請求項9に記載のシステム。
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