JPH09266327A - 3族窒化物化合物半導体発光素子 - Google Patents
3族窒化物化合物半導体発光素子Info
- Publication number
- JPH09266327A JPH09266327A JP9909596A JP9909596A JPH09266327A JP H09266327 A JPH09266327 A JP H09266327A JP 9909596 A JP9909596 A JP 9909596A JP 9909596 A JP9909596 A JP 9909596A JP H09266327 A JPH09266327 A JP H09266327A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- light emitting
- emitting layer
- intermediate layer
- composition ratio
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Abstract
長期化 【解決手段】p伝導型のクラッド層61とn+ 層3との
間に発光層5が形成されている。発光層5とn+ 層3と
の間にそれらの格子不整合を緩和する中間層4が形成さ
れている。中間層4の存在により発光層5の結晶性が改
善され、発光強度が増加した。
Description
用いた半導体素子に関する。特に、素子特性や信頼性に
優れた半導体素子に関する。
料としてAlGaInN 系の化合物半導体を用いたものが知ら
れている。その化合物半導体は直接遷移型であることか
ら発光効率が高いこと、光の3原色の1つである青色及
び緑色を発光色とすること等から注目されている。
して電子線を照射したり、熱処理によりp型化できる。
この結果、AlGaN のp層と、ZnとSiドープのInGaN の発
光層と、GaN のn層とを用いたダブルヘテロ構造を有す
る発光ダイオード(LED)が提案されている。
では、InGaN から成る発光層がGaN から成るn層の上に
直接積層されているため、両層の構成材料の組成比の違
いから格子不整合が起こり、発光層に結晶欠陥が生じ
る。この結果、発光層からの発光の発光効率は低下す
る。更に、素子の劣化を引き起こして素子寿命は短くな
り、信頼性に欠ける。
を減少させることで、発光強度を増加させると共に素子
寿命を長期化することである。
めの請求項1の発明は、3族窒化物半導体から成る発光
層と発光層に接合するn層とp層とを有する発光素子に
おいて、発光層とn層との間に、発光層とn層との間の
格子定数の変化を緩和する組成比のn伝導型の中間層を
設けたことである。
層にかけて、格子定数を段階的に変化させる組成比の複
層で形成したことを特徴とし、請求項3の発明は、中間
層をn層から発光層にかけて、格子定数を連続して変化
させる組成比分布で形成したことを特徴とする。
4元系のAlxGayIn1-X-YN(0≦x ≦1,0≦y ≦1, 0≦x+y
≦1)で形成し、中間層の組成比を発光層のバンド幅より
も広く、発光層の格子定数とほぼ一致させた格子定数を
有する組成比に選択したことを特徴とする。又、請求項
5の発明は、発光層を3元系のInx1Ga1-x1N (0≦x1≦1)
とし、n層はGaN であり、中間層は3元系のInx2Ga1-x2
N (0≦x2≦x1≦1)であることを特徴とする。さらに、請
求項6の発明は、発光層は3元系のInxGa1-xN (0≦x ≦
1)であり、n層はGaN であり中間層のインジウム(In)の
組成比を発光層に近づくに連れて発光層のインジウム(I
n)の組成比に近くなるように段階的又は連続的に変化さ
せたことを特徴とする。
格子定数の変化を緩和するための中間層を設けたため
に、発光層の結晶性が向上した。この結果、発光強度が
増加し、素子の劣化が防止され素子寿命が長くなった。
基づいて説明する。なお本発明は下記実施例に限定され
るものではない。第1実施例 図1は本願実施例の発光素子100 全体図を示す。図2
は、中間層41,42の詳細を示す。発光素子100 は、
サファイア基板1を有しており、そのサファイア基板1
上に0.05μmのAlN バッファ層2が形成されている。
4.0 μm、電子濃度2 ×1018/cm3のシリコン(Si)ドープ
GaN から成る高キャリア濃度n+ 層3、膜厚約10nm,
電子濃度 5×1017/cm3のシリコン(Si)ドープのIn0.08Ga
0.92N から成る第1中間層41、膜厚約10nm,電子濃
度 5×1017/cm3のシリコン(Si)ドープのIn0.15Ga0.85N
から成る第2中間層42、膜厚約100 nm,亜鉛(Zn)と
シリコン(Si)が、それぞれ、 5×1018/cm3にドープされ
たIn0.20Ga0.80N から成る発光層5,膜厚約100 nm,
ホール濃度 2×1017/cm3, マグネシウム(Mg) 濃度 5×
1019/cm3ドープのAl0.09Ga0.92N から成るp伝導型のク
ラッド層61、膜厚約200 nm,ホール濃度 3×1017/c
m3のマグネシウム(Mg) 濃度 5×1019/cm3ドープのGaN
から成る第1コンタクト層62、膜厚約50nm,ホール
濃度 6×1017/cm3のマグネシウム(Mg) 濃度 1×1020/c
m3ドープのGaN から成るp+ の第2コンタクト層63が
形成されている。そして、第2コンタクト層63の上面
全体にNi/Au の2重層からなる透明電極9が形成されそ
の透明電極9の隅の部分にNi/Au の2重層からなるボン
ディングのためのパッド10が形成されている。又、n
+ 層3上にはAlから成る電極8が形成されている。
ついて説明する。上記発光素子100 は、有機金属気相成
長法(以下MOVPE)による気相成長により製造され
た。用いられたガスは、アンモニア(NH3) 、キャリアガ
ス(H2)、トリメチルガリウム(Ga(CH3)3)(以下「TMG
」と記す) 、トリメチルアルミニウム(Al(CH3)3)(以
下「TMA 」と記す) 、トリメチルインジウム(In(CH3)3)
(以下「TMI 」と記す) 、シラン(SiH4)とシクロペンタ
ジエニルマグネシウム(Mg(C5H5)2)(以下「CP2Mg 」と記
す)である。
a面を主面とし、単結晶のサファイア基板1をM0VPE 装
置の反応室に載置されたサセプタに装着する。次に、常
圧でH2を流速2 liter/分で約30分間反応室に流しながら
温度1100℃でサファイア基板1をベーキングした。
20 liter/分、NH3 を10 liter/分、TMA を 1.8×10-5
モル/分で約90秒間供給してAlN のバッファ層2を約0.
05μmの厚さに形成した。次に、サファイア基板1の温
度を1150℃に保持し、H2を20liter/分、NH3 を10 lite
r/分、TMG を 1.7×10-4モル/分、H2ガスにより0.86p
pm に希釈されたシランを20×10-8モル/分で40分導入
し、膜厚約4.0 μm、電子濃度 1×1018/cm3、シリコン
濃度 4×1018/cm3のシリコン(Si)ドープGaN から成る高
キャリア濃度n+ 層3を形成した。
後、続いて温度を900 °C に保持し、N2又はH2を20 lit
er/分、NH3 を10 liter/分、TMG を0.2 ×10-4モル/
分、TMI を1.0 ×10-4モル/分、H2ガスで0.86ppm に希
釈されたシランを 2×10-8モル/分で 3分導入し、膜厚
約10nm、濃度5 ×1017/cm3のシリコンドープのIn0.08
Ga0.92N から成る第1中間層41を形成した。
を20 liter/分、NH3 を10 liter/分、TMG を0.2 ×10
-4モル/分、TMI を1.5 ×10-4モル/分、H2ガスで0.86
ppmに希釈されたシランを 2×10-8モル/分で 3分導入
し、膜厚約10nm、濃度5 ×1017/cm3のシリコンドープ
のIn0.15Ga0.85N から成る第2中間層42を形成した。
を20 liter/分、NH3 を10 liter/分、TMG を0.2 ×10
-4モル/分、TMI を1.6 ×10-4モル/分、H2ガスにより
0.86ppm に希釈されたシランを10×10-8mol/分で、DEZ
を 2×10-4モル/ 分で、30分間供給して厚さ100nm のシ
リコンと亜鉛が、それぞれ、 5×1018/cm3にドープさた
In0.20Ga0.80N から成る発光層5を形成した。
を20 liter/分、NH3 を10 liter/分、TMG を1.12×10
-4モル/分、TMA を0.47×10-4モル/分、及び、CP2Mg
を2×10-5モル/分で 6分間導入し、膜厚約100 nmの
マグネシウム(Mg)ドープのAl0.08Ga0.92N から成るクラ
ッド層61を形成した。クラッド層61のマグネシウム
濃度は 5×1019/cm3である。この状態では、クラッド層
61は、まだ、抵抗率108 Ωcm以上の絶縁体である。
20 liter/分、NH3 を10 liter/分、TMG を1.12×10-4
モル/分、及び、CP2Mg を 2×10-5モル/分で 1分間導
入し、膜厚約200 nmのマグネシウム(Mg)ドープのGaN
から成る第1コンタクト層62を形成した。第1コンタ
クト層62のマグネシウム濃度は 5×1019/cm3である。
この状態では、第1コンタクト層62は、まだ、抵抗率
108 Ωcm以上の絶縁体である。
20 liter/分、NH3 を10 liter/分、TMG を1.12×10-4
モル/分、及び、CP2Mg を 4×10-5モル/分で3 分間導
入し、膜厚約50nmのマグネシウム(Mg)ドープのGaN か
ら成るp+ の第2コンタクト層63を形成した。第2コ
ンタクト層63のマグネシウム濃度は 1×1020/cm3であ
る。この状態では、第2コンタクト層63は、まだ、抵
抗率108 Ωcm以上の絶縁体である。
コンタクト層63,第1コンタクト層62,クラッド層
61に一様に電子線を照射した。電子線の照射条件は、
加速電圧約10KV、資料電流1μA、ビームの移動速度0.
2mm/sec 、ビーム径60μmφ、真空度5.0 ×10-5Torrで
ある。この電子線の照射により、第2コンタクト層6
3,第1コンタクト層62,クラッド層61は、それぞ
れ、ホール濃度 6×1017/cm3,3×1017/cm3,2×1017/c
m3、抵抗率 2Ωcm, 1Ωcm,0.7Ωcmのp伝導型半導体と
なった。このようにして、図2に示すような多層構造の
ウエハが得られた。
の電極8を形成するために、第2コンタクト層63,第
1コンタクト層62,クラッド層61,発光層5,第2
中間層42,第1中間層41の一部を、エッチングによ
り除去した。次に、一様にNi/Au の2層を蒸着し、フォ
トレジストの塗布、フォトリソグラフィー工程、エッチ
ング工程を経て、第2コンタクト層63の上に透明電極
9を形成した。そして、その透明電極9の一部にNi/Au
の2層を蒸着してパッド10を形成した。一方、n+ 層
3に対しては、アルミニウムを蒸着して電極8を形成し
た。その後、上記のごとく処理されたウエハは、各素子
毎に切断され、図1に示す構造の発光ダイオードを得
た。この発光素子は駆動電流20mAで発光ピーク波長43
0 nm、発光強度2000mCdであった。従来構造のLE
Dに比べて発光強度は2 倍になった。
ム(In)の組成比を0.08とし、第2中間層42のインジウ
ム(In)の組成比を0.15としたが、n+ 層3から発光層5
に近づくに連れて、中間層4のインジウム(In)の組成比
を0 から0.20に順次、増加ささせても良い。この時、2
段以上の複層でも、連続的に組成比を変化させても良
い。さらに、4元系の化合物半導体を用いると、バンド
ギャップと格子定数とをそれぞれ独立に変化させること
ができる。よって、InGaN の発光層5に対して、InGaN
よりもバンドギャップが広く、格子定数を発光層5の格
子定数にほぼ一致させた組成比のAlxGayIn1-X-YN(0≦x
≦1, 0≦y ≦1, 0≦x+y ≦1)を中間層4として用いても
良い。又、この中間層4を、n+ 層3の格子定数に等し
い格子定数とする組成比のAlxGayIn1-X-YN(0≦x ≦1, 0
≦y ≦1, 0≦x+y ≦1)から成る第1中間層と、発光層5
の格子定数に等しい格子定数とする組成比のAlxGayIn
1-X-YN(0≦x ≦1, 0≦y ≦1, 0≦x+y ≦1)から成る第2
中間層との2層構造としても良い。さらに、第1中間層
から第2中間層の間に、格子定数を第2中間層に順次接
近させる1層以上の層を介在させても良い。又、n+ 層
3から発光層5に向けて、格子定数が連続的に変化する
ように4元系化合物の組成比を連続的に変化させても良
い。発光層5はInGaN 、n+ 層3はGaN としたが、これ
らの層も、4元系のAlxGayIn1-X-YN(0≦x ≦1, 0≦y ≦
1, 0≦x+y ≦1)とし、それらの層の間に上述した構成の
4元系のAlxGayIn1-X-YN(0≦x ≦1, 0≦y ≦1, 0≦x+y
≦1)から成る中間層を設けても良い。
は、1 ×1017/cm3〜1 ×1020/cm3が望ましい。1 ×1017
/cm3以下であると高抵抗となり、1 ×1020/cm3以上であ
ると結晶性が低下し望ましくない。中間層4の厚さは0.
5nm 〜50nmが望ましい。0.5nm 以下であると層を均一に
形成できなくなり、50nm以上であると発光効率が低下し
望ましくない。又、n+ 層3の厚さは、0.5 μm〜10μ
mが望ましい。0.5 μm以下であると、エッチングして
n+ 層3を露出させて、n+ 層3に対する電極の形成が
困難となり、10μm以上であるとクラックが入り望まし
くない。又、発光層5のシリコン濃度及び亜鉛濃度は、
それぞれ、1 ×1017〜1 ×1020/cm3が望ましい。濃度が
1 ×1017/cm3より低下すると発光強度が低下し、濃度が
1 ×1020/cm3以上となると結晶性が低下するために望ま
しくない。
いたが、単一量子井戸構造(QW)や多重量子井戸構造
(MQW)を用いても良い。
の構成を示した構成図。
した断面図。
断面図。
断面図。
断面図。
Claims (6)
- 【請求項1】3族窒化物半導体から成る発光層と発光層
に接合するn層とp層とを有する発光素子において、 前記発光層と前記n層との間に、前記発光層と前記n層
との間の格子定数の変化を緩和する組成比のn伝導型の
中間層を設けたことを特徴とする3族窒化物化合物半導
体発光素子。 - 【請求項2】前記中間層は、前記n層から前記発光層に
かけて、格子定数を段階的に変化させる組成比の複層で
形成されていることを特徴とする請求項1に記載の3族
窒化物化合物半導体発光素子。 - 【請求項3】前記中間層は、前記n層から前記発光層に
かけて、格子定数を連続して変化させる組成比分布で形
成されていることを特徴とする請求項1に記載の3族窒
化物化合物半導体発光素子。 - 【請求項4】前記発光層と前記中間層は4元系のAlxGay
In1-X-YN(0≦x ≦1, 0≦y ≦1, 0≦x+y ≦1)であり、前
記中間層の組成比は前記発光層のバンド幅よりも広く、
前記発光層の格子定数とほぼ一致させた格子定数を有す
る組成比に選択されていることを特徴とする請求項1に
記載の3族窒化物化合物半導体発光素子。 - 【請求項5】前記発光層は3元系のInx1Ga1-x1N (0≦x1
≦1)であり、前記n層はGaN であり、前記中間層は3元
系のInx2Ga1-x2N (0≦x2≦x1≦1)であることを特徴とす
る請求項1に記載の3族窒化物化合物半導体発光素子。 - 【請求項6】前記発光層は3元系のInxGa1-xN (0≦x ≦
1)であり、前記n層はGaN であり、前記中間層のインジ
ウム(In)の組成比を発光層に近づくに連れて発光層のイ
ンジウム(In)の組成比に近くなるように段階的又は連続
的に変化させたことを特徴とする請求項1に記載の3族
窒化物化合物半導体発光素子。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9909596A JP3341576B2 (ja) | 1996-03-27 | 1996-03-27 | 3族窒化物化合物半導体発光素子 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9909596A JP3341576B2 (ja) | 1996-03-27 | 1996-03-27 | 3族窒化物化合物半導体発光素子 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH09266327A true JPH09266327A (ja) | 1997-10-07 |
JP3341576B2 JP3341576B2 (ja) | 2002-11-05 |
Family
ID=14238325
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9909596A Expired - Lifetime JP3341576B2 (ja) | 1996-03-27 | 1996-03-27 | 3族窒化物化合物半導体発光素子 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3341576B2 (ja) |
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1999009602A1 (fr) * | 1997-08-20 | 1999-02-25 | Sanyo Electric Co., Ltd. | Dispositif de semi-conducteur compose, a base de nitrure de gallium |
US6822270B2 (en) * | 2002-02-12 | 2004-11-23 | Sharp Kabushiki Kaisha | Semiconductor light emitting device having gallium nitride based compound semiconductor layer |
US6897484B2 (en) | 2002-09-20 | 2005-05-24 | Sharp Kabushiki Kaisha | Nitride semiconductor light emitting element and manufacturing method thereof |
WO2005078813A1 (en) * | 2004-02-13 | 2005-08-25 | Epivalley Co., Ltd. | Iii-nitride compound semiconductor light emitting device |
JP2007194410A (ja) * | 2006-01-19 | 2007-08-02 | Rohm Co Ltd | 窒化物系半導体素子の製造方法 |
US7547909B2 (en) | 2004-02-05 | 2009-06-16 | Epivalley Co., Ltd. | III-nitride compound semiconductor light emitting device |
WO2009107516A1 (ja) | 2008-02-25 | 2009-09-03 | 住友電気工業株式会社 | Iii族窒化物半導体レーザ |
US7884388B2 (en) | 2003-07-18 | 2011-02-08 | Lg Innotek Co., Ltd | Light emitting diode having a first GaN layer and a first semiconductor layer each having a predetermined thickness and fabrication method therof |
US7923749B2 (en) | 2004-03-25 | 2011-04-12 | EipValley Co., Ltd. | III-nitride compound semiconductor light emitting device |
KR101039968B1 (ko) * | 2010-05-20 | 2011-06-09 | 엘지이노텍 주식회사 | 발광 다이오드 및 그 제조방법 |
US8426881B2 (en) | 2001-02-01 | 2013-04-23 | Cree, Inc. | Light emitting diodes including two reflector layers |
-
1996
- 1996-03-27 JP JP9909596A patent/JP3341576B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1999009602A1 (fr) * | 1997-08-20 | 1999-02-25 | Sanyo Electric Co., Ltd. | Dispositif de semi-conducteur compose, a base de nitrure de gallium |
US6388275B1 (en) | 1997-08-20 | 2002-05-14 | Sanyo Electric Co., Ltd. | Compound semiconductor device based on gallium nitride |
US8426881B2 (en) | 2001-02-01 | 2013-04-23 | Cree, Inc. | Light emitting diodes including two reflector layers |
US8692277B2 (en) | 2001-02-01 | 2014-04-08 | Cree, Inc. | Light emitting diodes including optically matched substrates |
US6822270B2 (en) * | 2002-02-12 | 2004-11-23 | Sharp Kabushiki Kaisha | Semiconductor light emitting device having gallium nitride based compound semiconductor layer |
US6897484B2 (en) | 2002-09-20 | 2005-05-24 | Sharp Kabushiki Kaisha | Nitride semiconductor light emitting element and manufacturing method thereof |
US8927960B2 (en) | 2003-07-18 | 2015-01-06 | Lg Innotek Co., Ltd. | Gallium nitride based light emitting diode |
US8674337B2 (en) | 2003-07-18 | 2014-03-18 | Lg Innotek Co., Ltd. | Gallium nitride based light emitting diode and fabrication method thereof |
US7884388B2 (en) | 2003-07-18 | 2011-02-08 | Lg Innotek Co., Ltd | Light emitting diode having a first GaN layer and a first semiconductor layer each having a predetermined thickness and fabrication method therof |
KR101034055B1 (ko) * | 2003-07-18 | 2011-05-12 | 엘지이노텍 주식회사 | 발광 다이오드 및 그 제조방법 |
US9362454B2 (en) | 2003-07-18 | 2016-06-07 | Lg Innotek Co., Ltd. | Gallium nitride based light emitting diode |
US8680571B2 (en) | 2003-07-18 | 2014-03-25 | Lg Innotek Co., Ltd. | Gallium nitride based light emitting diode |
US7989235B2 (en) | 2003-07-18 | 2011-08-02 | Lg Innotek Co., Ltd | Light emitting diode and fabrication method thereof |
US7547909B2 (en) | 2004-02-05 | 2009-06-16 | Epivalley Co., Ltd. | III-nitride compound semiconductor light emitting device |
US7501664B2 (en) | 2004-02-13 | 2009-03-10 | Epivalley Co., Ltd. | III-Nitride compound semiconductor light emitting device |
WO2005078813A1 (en) * | 2004-02-13 | 2005-08-25 | Epivalley Co., Ltd. | Iii-nitride compound semiconductor light emitting device |
US7923749B2 (en) | 2004-03-25 | 2011-04-12 | EipValley Co., Ltd. | III-nitride compound semiconductor light emitting device |
JP2007194410A (ja) * | 2006-01-19 | 2007-08-02 | Rohm Co Ltd | 窒化物系半導体素子の製造方法 |
US7949026B2 (en) | 2008-02-25 | 2011-05-24 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Group III nitride semiconductor laser |
WO2009107516A1 (ja) | 2008-02-25 | 2009-09-03 | 住友電気工業株式会社 | Iii族窒化物半導体レーザ |
KR101039968B1 (ko) * | 2010-05-20 | 2011-06-09 | 엘지이노텍 주식회사 | 발광 다이오드 및 그 제조방법 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP3341576B2 (ja) | 2002-11-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US8513694B2 (en) | Nitride semiconductor device and manufacturing method of the device | |
JP3209096B2 (ja) | 3族窒化物化合物半導体発光素子 | |
US6853009B2 (en) | Light-emitting semiconductor device using gallium nitride compound semiconductor | |
JP3304787B2 (ja) | 半導体発光素子及びその製造方法 | |
US20100133506A1 (en) | Nitride semiconductor light emitting element and method for manufacturing nitride semiconductor | |
US6861663B2 (en) | Group III nitride compound semiconductor light-emitting device | |
JP3753793B2 (ja) | 3族窒化物化合物半導体発光素子 | |
US8716048B2 (en) | Light emitting device and method for manufacturing the same | |
JP4260276B2 (ja) | 半導体素子及びその製造方法 | |
US6365923B1 (en) | Nitride semiconductor light-emitting element and process for production thereof | |
JP3772707B2 (ja) | 3族窒化物化合物半導体発光素子の製造方法 | |
JP3341576B2 (ja) | 3族窒化物化合物半導体発光素子 | |
JP3336855B2 (ja) | 3族窒化物化合物半導体発光素子 | |
JP3836245B2 (ja) | 窒化ガリウム系化合物半導体素子 | |
JP3646502B2 (ja) | 3族窒化物半導体素子の製造方法 | |
JP3637662B2 (ja) | 3族窒化物半導体発光素子 | |
JPH10289877A (ja) | 化合物半導体の形成方法及び半導体装置 | |
JP2003017741A (ja) | GaN系発光素子 | |
JP3712789B2 (ja) | 3族窒化物半導体基板及び素子の製造方法 | |
JP2000058916A (ja) | 窒化ガリウム系化合物半導体発光素子 | |
JP3620923B2 (ja) | 3族窒化物半導体発光素子 | |
JP3717255B2 (ja) | 3族窒化物半導体レーザ素子 | |
JP2000091630A (ja) | 窒化ガリウム系化合物半導体発光素子 | |
JP3481305B2 (ja) | 3族窒化物半導体発光素子 | |
JPH1027923A (ja) | 3族窒化物半導体発光素子 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080823 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080823 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090823 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100823 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100823 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110823 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110823 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120823 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130823 Year of fee payment: 11 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |