JPH09263660A - 釉薬分散用即溶性カルボキシメチルセルロース - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 添加時においてママコが発生せず、短時間で
溶解が完了する釉薬分散用即溶性カルボキシメチルセル
ロースを提供すること。 【解決手段】 下記要件を備えたカルボキシメチルセル
ロースを使用する。 （１）グリオキサール処理されている。 （２）１％水溶液のｐＨが７．０〜９．５の範囲にあ
る。 （３）４０メッシュの篩を全てが通過し、４０メッシュ
より細かく２００メッシュより粗い篩に１０％以上が残
る。 （４）エーテル化度が０．５〜１．２の範囲にある。 （５）１％水溶液の粘度が５０〜４，０００ｍｐａ・ｓ
の範囲にある。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、陶器釉薬用即溶性
カルボキシメチルセルロース（以下「カルボキシメチル
セルロース」を「ＣＭＣ」という）に関する。

【０００２】

【従来の技術】釉薬はこれに含まれる成分（長石、石
灰、粘土、亜鉛華、炭酸バリウム等）が沈殿しやすく、
粘度が変化するという性質を持っている。従って、釉薬
の各成分を均一に分散させるため、あるいは釉薬の粘度
を調整するため、フノリ、塩化マグネシウム、ＣＭＣ等
が添加されていた。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな従来の釉薬用分散剤を用いても、なおも次のような
問題があった。

【０００４】すなわち、一般に分散剤は、約７０％とい
った高濃度水溶液である釉薬に対し約０．３％といった
ごくわずかな量が添加されるだけであるので、強力な撹
拌を加えないと分散剤自身が素早く分散せず、均一スラ
リーはできなかった。

【０００５】分散性をよくするために、粒子径を１８〜
８０メッシュに調整した粗粒品を用いることもあるが、
粗粒子であるため溶解が完了するまでに相当の時間を要
し、延いては均一分散するのに要する時間が多くかかっ
た。なお、溶解が完了するまでの間、分散剤はママコ
（継粉）として残った。

【０００６】また、分散性を良くするために撹拌を強力
にする、あるいは温度を高めるという方法もあるが、こ
の場合にあっては、ＣＭＣと釉薬組成物中の２価以上の
金属イオンとの置換反応が生じて粘度が高くなり（増粘
し）、これにより粘度が不安定となって、施釉時、スプ
レー掛けやカーテンウォール式で行なうときにムラが発
生するといった問題があった。また、再粘度調整という
煩わしい作業を強いられた。

【０００７】［発明の目的］本発明は上記の実情に鑑み
てなされたものであり、その目的は、添加時においてマ
マコが発生せず、短時間で溶解が完了する釉薬分散用即
溶性カルボキシメチルセルロースを提供するところにあ
る。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明の釉薬分散用即溶
性ＣＭＣは、下記の要件を備えたものである。 （１）グリオキサール処理されていること。 （２）１％水溶液のｐＨが７．０〜９．５の範囲にある
こと。 （３）４０メッシュの篩をすべてが通過し、４０メッシ
ュより細かく２００メッシュより粗い篩に１０％以上が
残ること。 （４）エーテル化度が０．５〜１．２の範囲にあるこ
と。 （５）１％水溶液の粘度が５０〜４，０００ｍｐａ・ｓ
の範囲にあること。

【０００９】

【発明の実施の形態】グリオキサール処理を施すことに
より、ＣＭＣを釉薬に添加したときママコの発生を抑え
ることができる。グリオキサール処理は従来公知の方法
で行なえば良い。その一例を下記に示す。すなわち、エ
ーテル化度０．５〜１．２、１％水溶液粘度５０〜４，
０００ｍｐａ・ｓのＣＭＣ１００重量部、グリオキサー
ル１〜２０重量部、及びギ酸０．１〜５重量部を混合
し、この混合物に水を１〜２０重量部を入れ（この水は
予めグリオキサール、ギ酸を水溶液状態にして加えても
よい）、これによりスラリー状とし、８０〜１００℃で
１〜２時間反応させる。

【００１０】１％水溶液のｐＨは７．０〜９．５である
が、このｐＨ調整にはアルカリ剤が用いられる。アルカ
リ剤としては、重曹、ソーダ灰、カセイソーダ等が挙げ
られる。

【００１１】［作用］グリオキサール処理したＣＭＣ
は、架橋不溶化されていることより、釉薬に添加したと
きにおいて、ママコが生じず（ママコが生じると、この
ママコの破壊に要する時間が別途必要となる）、完全か
つ均一に分散できる。

【００１２】ｐＨ７．０〜９．５といったアルカリ性に
仕上げていることより、釉薬溶液中でグリオキサールに
よって架橋処理されている架橋構造が加水分解される。

【００１３】さらに、粉末粒径を４０メッシュ全通（４
０メッシュの篩に全てが通過する）４０〜２００メッシ
ュ１０％以上（４０メッシュより細かく２００メッシュ
より粗い篩に１０％以上が残る（通過しない））とする
ことで、上記の効果をより高め、溶解時間を早めること
ができる。

【００１４】用いるＣＭＣの粘度（１％水溶液粘度）
は、５０〜４，０００ｍｐａ・ｓである。５０ｍｐａ・
ｓ未満では粘度が低過ぎて釉薬の分散安定性が不足し、
４，０００ｍｐａ・ｓを超える場合には、粘度が高過ぎ
てスプレー塗付しにくいといった欠点を有する。なお、
１％粘度の好ましい範囲は、１００〜８００ｍｐａ・ｓ
である。

【００１５】エーテル化度は０．５〜１．２であること
が必要である。１．２０を超えるとコスト高となり、
０．５未満では充分なＣＭＣ化ができておらず、粘性が
不足する。なお、好ましい範囲は０．６〜０．９であ
る。

【００１６】本発明のＣＭＣは釉薬１００重量部に対
し、０．１〜２重量部配合される。

【００１７】

【実施例】実施例１（ＣＭＣ−Ａの製造） （１）グリオキサール処理 ＣＭＣ（エーテル化度０．６５、１％粘度３５０ｍｐａ
・ｓ）１００重量部、４０％グリオキサール１０重量
部、及び８８％ギ酸０．５重量部を混合し均一に撹拌し
た。その後、８０〜１００℃で２時間、撹拌しながら加
熱乾燥した。

【００１８】（２）ｐＨと粒径の調整 グリオキサール処理を施した後、ソーダ灰を全体の４％
の割合で添加し、１％水溶液のｐＨを９とした。

【００１９】その後、均一粉体として篩で粒度を調整し
た（４０メッシュの篩をすべてが通過。４０より細かく
２００メッシュより粗い篩に１００％が残る）。なお、
粒度の調整は２００メッシュの篩をも通過するような微
小粒子の除去量によって目的の％とした。

【００２０】実施例２（ＣＭＣ−Ｂの製造） 使用するＣＭＣのエーテル化度を０．９、また１％粘度
を３０００ｍｐａ・ｓとした以外は全て上記の製造例１
と同様にしてＣＭＣ−Ｂを製造した。

【００２１】評価試験例

【表１】 上記［表１］よりなる組成物に対して上記したＣＭＣ−
Ａ，Ｂを配合し、当該ＣＭＣの溶解時間の測定をそれぞ
れ行なった。測定方法は次の通りである。なお、釉薬は
透明溶液ではないので、ＣＭＣの溶解状態が目視により
確認できない。従って、溶液の粘度を１０分毎に測定
し、粘度発現状態によって溶解時間を判断した。

【００２２】（溶解測定方法）［表１］に記載の釉薬組
成物の３００ｇをビーカーに採取し、スリーワンモータ
ーで撹拌した（５００ｒｐｍ、２５℃）。次いで、ＣＭ
Ｃ（Ａ又はＢ）０．９ｇを添加し、添加時点から粘度
（ｍｐａ・ｓ）の変化を１０分毎に測定した。粘度の測
定は、ＢＭ型粘度計ローターＮｏ．４（回転数６０ｒｐ
ｍ、２５℃）を使用し、回転１分後の測定値を採用し
た。

【００２３】結果を下記［表２］［表３］に示す。

【００２４】なお、比較ＣＭＣを用いて同じ試験を行な
った。比較ＣＭＣの性質と結果を下記［表２］［表３］
に併記する。

【００２５】

【表２】 １８００（ｍｐａ・ｓ）を溶解の基準とすれば、実施例
では所要時間１０分であるのに対し、比較例は所要時間
４０〜６０分であった。

【００２６】

【表３】 ５９００（ｍｐａ・ｓ）を溶解の基準とすれば、実施例
では所要時間１０分であるのに対し、比較例は、上記と
同様、所要時間４０〜６０分であった。

【００２７】また、ＣＭＣ無添加の場合は、釉薬スラリ
ーが均一状態となっていないために経時粘度は変動が大
きい。

【００２８】したがって、粘度が安定した場合は分散が
よく、均一スラリーができていると判断できる。

【００２９】

【発明の効果】陶器釉薬に即溶性ＣＭＣを使用すると、
添加時ママコが生じず短時間に溶解が完了する。

【００３０】早く溶解するＣＭＣが釉薬の粘度を安定化
させ、陶器に釉薬を均一に塗付することができる。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】下記の要件を備えた釉薬分散用即溶性カル
   ボキシメチルセルロース。 （１）グリオキサール処理されていること。 （２）１％水溶液のｐＨが７．０〜９．５の範囲にある
   こと。 （３）４０メッシュの篩をすべてが通過し、４０メッシ
   ュより細かく２００メッシュより粗い篩に１０％以上が
   残ること。 （４）エーテル化度が０．５〜１．２の範囲にあるこ
   と。 （５）１％水溶液の粘度が５０〜４，０００ｍｐａ・ｓ
   の範囲にあること。