JPH09255770A - ポリカーボネート共重合体およびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 光弾性係数が小さく、色相、熱安定性に優れ
たポリカーボネートを提供する。 【解決手段】 ２０〜９０モル％の下記式（Ｉ）で表さ
れる繰り返し単位、５〜７５モル％の下記一般式（II）
で表わされる繰り返し単位、および５〜７５モル％の下
記式（III ）で表わされる繰り返し単位からなる特定粘
度の共重合ポリカーボネート。 【化１】

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はポリカーボネートの
改質に関し、詳しくは従来に比べて光学特性にすぐれた
改質ポリカーボネートおよびその製造方法に関するもの
である。

【０００２】

【従来の技術】２，２―ビス（４―ヒドロキシフェニ
ル）プロパン（通称ビスフェノールＡ）とホスゲンある
いは炭酸ジフェニルなどの炭酸エステル形成性化合物と
反応させて製造される従来のポリカーボネート樹脂は、
射出成形により成形品を得た場合応力光学歪みが大き
く、そのため複屈折が大きくなるという問題がある。

【０００３】この問題を解決する手段として、ビスフェ
ノールＡと他のモノマーとの共重合が多数報告されてい
る。例えば特開昭６３―８３１２９号公報あるいは特開
昭６３―１８９４３１号公報にビスフェノールＡと核置
換ビスフェノール類との共重合が提案されている。しか
しながらこの場合、応力光学歪みの大きさに関係する光
弾性係数の値について従来の半分程度に低減しようとす
ると、核置換ビスフェノール類が全ビスフェノール量の
８０％以上必要であり、少量共重合しただけでは効果が
小さい。

【０００４】また従来のポリカーボネート樹脂の吸水率
は０．３〜０．４％であるが、吸水時に成型品にそりが
生じるといわれており、例えば光ディスクの成形の場合
には大きな問題がある。このため従来よりも吸水率の低
い樹脂が望まれている。

【０００５】一方、ポリカーボネート樹脂をエステル交
換法により得ようとした場合、反応物は長時間の熱履歴
を受け色調の良いものが得られにくい傾向がある。得ら
れた樹脂を成形加工するために高温で再溶融すると、滞
留ヤケや重合度の低下などが生じるという問題も起こ
り、これらを解決するため重合触媒や中和剤などを工夫
する必要がある。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、特定のビス
フェノール類を使用することにより、少量の核置換ビス
フェノール類を共重合するだけで樹脂の光弾性係数が大
きく低減すると同時に、吸水率が低く、従来のポリカー
ボネート樹脂の優れた特性を維持した改質ポリカーボネ
ートを提供することを目的としたものである。このよう
な樹脂は例えば光ディスク基板用樹脂をはじめとした光
学用材料などに適するものである。また色相や熱安定性
に優れた改質ポリカーボネートの製造方法の開発を目的
とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明者は、上記問題点
を解決するために鋭意研究を重ねた結果、ビスフェノー
ルＡと核置換ビスフェノール類を共重合する際に、ある
特定のビスフェノール類を併せて共重合することによ
り、少量の核置換ビスフェノール類を使用するだけで得
られるポリマーの光弾性係数が大きく低減することを見
いだした。

【０００８】ビスフェノールＡと核置換ビスフェノール
類だけの組み合わせでは、前述の如く、光弾性係数を改
善するために多くの核置換ビスフェノール類が必要であ
り、そのため耐熱性が低下する場合がある。またビスフ
ェノールＡと環状テルペン骨格構造を有するビスフェノ
ール類だけの組み合わせでは、光弾性係数の改善には不
十分である。

【０００９】すなわち、本発明は、２０〜９０モル％の
下記式（Ｉ）で表される繰り返し単位、５〜７５モル％
の下記一般式（II）で表わされる繰り返し単位および５
〜７５モル％の下記式（III ）で表わされる繰り返し単
位からなり、

【００１０】

【化５】

【００１１】［式（II）中のＲ¹ 、Ｒ² 、Ｒ³ 、Ｒ⁴ は
それぞれ独立に、水素原子、炭素数１から２０のアルキ
ル基、炭素数１から２０のアルコキシル基、炭素数６か
ら２０のシクロアルキル基、炭素数６から２０のアリー
ル基、炭素数７から２０のアラルキル基、炭素数６から
２０のシクロアルコキシル基、炭素数６から２０のアリ
ールオキシ基および炭素数７から２０のアラルキルオキ
シ基からなる群より選ばれる。ただし、Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｒ
³ 、Ｒ⁴ がすべて水素原子である場合は除かれる。また
式中Ｘは、

【００１２】

【化６】

【００１３】ここで、Ｒ¹³、Ｒ¹⁴はそれぞれ独立に、水
素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１から６の
アルコキシル基、炭素数６から２０のシクロアルキル
基、炭素数６から２０のアリール基、炭素数７から２０
のアラルキル基、炭素数６から２０のシクロアルコキシ
ル基、炭素数６から２０のアリールオキシ基および炭素
数７から２０のアラルキルオキシ基からなる群より選ば
れる。またＲ¹⁵、Ｒ¹⁶はそれぞれ独立に、水素原子、ア
ルキル基、シクロアルキル基、アリール基およびアラル
キル基からなる群より選ばれるが、シクロ環を構成して
いる炭素原子ごとに異なっていてもよい。ｎは３〜１１
の整数を表す。

【００１４】式中のＲ⁵ 、Ｒ⁶ は水素原子、炭素数１か
ら６のアルキル基、炭素数５から１０のシクロアルキル
基、炭素数６から２０のアリール基および炭素数７から
２０のアラルキル基からなる群より選ばれる。Ｒ⁷ 、Ｒ
⁸ 、Ｒ⁹ 、Ｒ¹⁰、Ｒ¹¹、Ｒ¹²は、水素原子、炭素数１か
ら６のアルキル基および炭素数６から２０のアリール基
からなる群より選ばれる。式（III ）中のａおよびｂ
は、ａ＋ｂ＝４を満たす０〜４の整数である。式（III
）のＹは、単結合あるいは下記式（Ａ）で表されるア
ルキレン基である。

【００１５】

【化７】

【００１６】ただしＲ¹⁷およびＲ¹⁸はそれぞれ独立に、
水素原子または炭素数１から６のアルキル基を表す。］
塩化メチレンを溶媒として０．５ｇ／ｄｌ濃度の溶液の
２０℃における還元粘度（η_sp／ｃ）が０．２ｄｌ／ｇ
以上である共重合ポリカーボネートである。

【００１７】また本発明は、２０〜９０モル％の下記式
（IV）で表される化合物、５〜７５モル％の下記一般式
（Ｖ）で表される２価フェノールおよび５〜７５モル％
の下記式（VI）で表される環状テルペン骨格構造を有す
る２価フェノール類を、

【００１８】

【化８】

【００１９】［ただし、式（IV）〜（VI）中の各記号
は、式（Ｉ）〜（III ）と同じものを表す。］重合触媒
存在下、炭酸エステル形成性化合物と反応させて重合を
行い、重合終了後、末端封止剤および安定剤を添加する
ことを特徴とする、塩化メチレンを溶媒として０．５ｇ
／ｄｌ濃度の溶液の２０℃における還元粘度（η_sp／
ｃ）が０．２ｄｌ／ｇ以上である共重合ポリカーボネー
トの製造方法である。

【００２０】式（II）および（Ｖ）のＲ¹ 、Ｒ² 、
Ｒ³ 、Ｒ⁴ においてアルキル基としては、メチル基、ノ
ルマルまたはイソプロピル基、ｔｅｒｔ―ブチル基、ｔ
ｅｒｔ―アミル基、ヘキシル基、オクチル基、ノニル
基、ドデシル基、ペンタデシル基、エイコサニル基等が
挙げられるが、ｔｅｒｔ―ブチル基やｔｅｒｔ―アミル
基などの３級アルキル基が光学特性を改良する効果が大
きい点で好ましい。

【００２１】アルコキシル基としてはメトキシ基、エト
キシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基などが挙
げられるがペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基が光学
特性を改良する効果が大きい点で好ましい。シクロアル
キル基としては置換されてもよいシクロヘキシル基やシ
クロオクチル基などが挙げられるが、光学特性を改良す
る効果が大きくモノマーとしての反応性が高い点からシ
クロヘキシル基が好ましい。シクロアルコキシル基とし
てはシクロヘキシルオキシ基等が挙げられる。

【００２２】アリール基としてはフェニル基をはじめ、
メチルフェニル基、エチルフェニル基、ｔｅｒｔ―ブチ
ルフェニル基などの置換されてもよいフェニル基やトリ
ル基などが挙げられるが、このうち光学特性を改良する
効果が大きくモノマーとしての反応性が高い点からフェ
ニル基が好ましい。アラルキル基としてはベンジル基や
クミル基などが挙げられるが、光学特性を改良する効果
が非常に大きい点でクミル基が好ましい。アリールオキ
シ基としてはフェノキシ基やナフチルオキシ基などが挙
げられる。アラルキルオキシ基としてはベンジルオキシ
基などが挙げられる。

【００２３】以上のうち、光学特性を改良する効果やモ
ノマーとしての反応性などから、ｔｅｒｔ―ブチル基や
クミル基などは特に好ましいものとして挙げることがで
きる。

【００２４】式（II）および（Ｖ）のＸにおけるＲ¹³、
Ｒ¹⁴は、水素原子以外には、アルキル基としてメチル
基、エチル基、イソおよびノルマルプロピル基、イソお
よびｔｅｒｔ―ブチル基、ヘキシル基などが挙げられ
る。これらのうちエチル基やイソプロピル基、イソおよ
びｔｅｒｔ―ブチル基などの嵩高い置換基が光学特性を
改良する効果が大きくまた耐熱性を有する点で好まし
い。

【００２５】アルコキシル基としてはメトキシ基、エト
キシ基、ヘキシルオキシ基などが挙げられる。シクロア
ルキル基としてはシクロペンチル基やシクロヘキシル基
などが挙げられる。アリール基としては置換されてもよ
いフェニル基やナフチル基などが挙げられる。アラルキ
ル基としてはベンジル基などが挙げられる。シクロアル
コキシル基としてはシクロヘキシルオキシ基やシクロオ
キチルオキシ基などがあげられる。アリールオキシ基と
してはフェノキシ基やナフチルオキシ基などが挙げられ
る。アラルキルオキシ基としてはベンジルオキシ基など
が挙げられる。

【００２６】以上のうちイソプロビル基やイソおよびｔ
ｅｒｔ―ブチル基などの嵩高いアルキル基やフェニル基
などが光学特性を改良する効果が大きくまた耐熱性があ
る点でより好ましい。またコストの面からはメチル基が
好ましい。

【００２７】式（II）および（Ｖ）のＸにおけるＲ¹⁵、
Ｒ¹⁶は、水素原子以外には、アルキル基としてメチル
基、エチル基、イソプロピル基などが挙げられる。

【００２８】シクロアルキル基としてシクロペンチル基
やシクロヘキシル基などが挙げられる。アリール基とし
てはフェニル基やナフチル基などが挙げられる。アラル
キル基としてはベンジル基などが挙げられる。またこれ
らの置換基はシクロ環を構成している炭素原子ごとに異
なっていても良い。

【００２９】式（Ｖ）で表される化合物の具体例とし
て、下記の化合物が例示される。

【００３０】

【化９】

【００３１】式（III ）および（VI）のＲ⁵ 、Ｒ⁶ は、
それぞれ独立に水素原子、炭素数１から６のアルキル
基、炭素数５から１０のシクロアルキル基、炭素数６か
ら２０のアリール基および炭素数７から２０のアラルキ
ル基からなる群より選ばれる。

【００３２】アルキル基としては、メチル基、ノルマル
またはイソプロピル基、ｔｅｒｔ―ブルチ基等が挙げら
れる。シクロアルキル基としては、置換されていてもよ
いシクロヘキシル基やシクロオクチル基などが挙げられ
る。アリール基としてはフェニル基、メチルフェニル基
等が挙げられる。アラルキル基としてはベンジル基やク
ミル基が挙げられる。

【００３３】Ｒ⁷ 、Ｒ⁸ 、Ｒ⁹ 、Ｒ¹⁰、Ｒ¹¹、Ｒ¹²は、
それぞれ独立に水素原子、炭素数１から６のアルキル基
および炭素数６から２０のアリール基からなる群より選
ばれる。

【００３４】アルキル基としては、メチル基、エチル
基、ノルマルまたはイソプロピル基、ｔｅｒｔ―ブチル
基等が挙げられる。アリール基としてはフェニル基、メ
チルフェニル基等が挙げられる。

【００３５】式（Ａ）中のＲ¹⁷、Ｒ¹⁸は、水素原子また
は炭素数１から６のアルキル基を表す。アルキル基とし
ては、メチル基、エチル基、ノルマルまたはイソプロピ
ル基、ｔｅｒｔ―ブチル基等が挙げられる。

【００３６】式（III ）で表される繰返し単位は、式
（VI）で表される化合物に由来するが、式（VI）で表さ
れる化合物は、環状テルペン類とフェノール類とを反応
させて得られる化合物である。環状テルペン類としては
リモネン、テルピネン、メンタジエンなどが挙げられ
る。フェノール類としてはフェノール、クレゾール、キ
シレノール、ブチルフェノール、ノニルフェノールなど
が挙げられる。

【００３７】本発明に使用する式（VI）で表される環状
テルペン骨格構造を有するビスフェノール類としては、
下記式の化合物が例示できる。

【００３８】

【化１０】

【００３９】この中でも下記式で表されるものが、併用
する核置換ビスフェノール類の使用量が少量で光学特性
を改良することができ、また、吸水率が低くなるという
点で好ましい。

【００４０】

【化１１】

【００４１】式（VI）で表わされる環状テルペン骨格構
造を有するビスフェノール類には複数の構造異性体が存
在するが、使用する場合には単一構造を有するものを使
用しても良いし、これらの異性体の混合物を使用しても
良い。

【００４２】本発明の共重合体において式（II）および
（III ）で表される繰り返し単位それぞれについて２種
類以上を含んでいても良い。

【００４３】また式（Ｉ）、（II）および（III ）で表
される繰り返し単位の割合は、光学的性質の向上のため
には（II）および（III ）で表される繰り返し単位それ
ぞれの合計量が最低でも５モル％は必要である。またコ
ストの点から式（Ｉ）で表される繰り返し単位が２０モ
ル％以上であることが好ましい。

【００４４】光学性質や吸水率および耐熱性などのバラ
ンスを考慮すると、より好ましくは式（Ｉ）で表される
繰り返し単位が３０〜７０モル％、式（II）で表される
繰り返し単位の合計量が１０〜５０モル％および式（II
I ）で表される繰り返し単位の合計量が２０〜６０モル
％の範囲であり、さらに好ましくは式（Ｉ）で表される
繰り返し単位が４０〜７０モル％、式（II）で表される
繰り返し単位の合計量が２０〜５０モル％および式（II
I ）で表される繰り返し単位の合計量が１０〜４０モル
％の範囲である。式（Ｉ）、（II）および（III ）で表
わされる繰り返し単位の合計は１００モル％であること
は言うまでもない。

【００４５】本発明の共重合は、塩化メチレンを溶媒と
して０．５ｇ／ｄｌ濃度の溶液の２０℃における還元粘
度（η_sp／ｃ）が０．２ｄｌ／ｇ以上である。通常０．
２〜１．０ｄｌ／ｇの範囲のものが好ましい。

【００４６】本発明のポリカーボネート共重合体は、ビ
スフェノールＡ（IV）および前式（Ｖ）および（VI）の
２価フェノール類と、炭酸エステル形成性化合物とを反
応せしめることにより製造することができる。

【００４７】本発明において使用する炭酸エステル形成
性化合物の種類は、製造すべき重合体の用途に応じて適
宜選定すればよいが、一般にはジフェニルカーボネー
ト、ジ―ｐ―トリルカーボネート、フェニル―ｐ―トリ
ルカーボネート、ジ―ｐ―クロロフェニルカーボネート
あるいはジナフチルカーボネートなどのジアリルカーボ
ネート、さらにはホスゲン、ブロムホスゲンなどの炭酸
のハロゲン化物などが用いられ、そのうちジフェニルカ
ーボネートあるいはホスゲンが好ましい。

【００４８】このうちジフェニルカーボネートを用いた
エステル交換法はコスト面やプロセスが簡略であるなど
の面から好ましい製造法である。エステル交換法は前述
のように色相や熱安定性に問題があるが、適当な重合触
媒や末端封止剤および中和剤を組み合わせて使用するこ
とにより解決することができる。

【００４９】すなわち、ポリマーの色相や重合速度のバ
ランスから、重合触媒としては含窒素塩基性化合物とア
ルカリ金属化合物および／またはアルカリ土類金属化合
物とを組み合わせたものが好ましい。

【００５０】含窒素塩基性化合物としては例えば、テト
ラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアン
モニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒド
ロキシド、トリメチルベンジルアンモニウムヒドロキシ
ド、トリメチルアミン、トリエチルアミン、ジメチルベ
ンジルアミン、トリフェニルアミンなどが挙げられる。

【００５１】アルカリ金属化合物としては例えば、水酸
化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、炭酸
水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸ナトリウム、
炭酸カリウム、炭酸リチウム、酢酸ナトリウム、酢酸カ
リウム、酢酸リチウム、ステアリン酸ナトリウム、ステ
アリン酸カリウム、ステアリン酸リチウム、ビスフェノ
ールＡのナトリウム塩、カリウム塩、リチウム塩、安息
香酸ナトリウム、安息香酸カリウム、安息香酸リチウム
などが挙げられる。

【００５２】アルカリ土類金属化合物としては例えば、
水酸化カルシウム、水酸化バリウム、水酸化マグネシウ
ム、水酸化ストロンチウム、炭酸水素カルシウム、炭酸
水素バリウム、炭酸水素マグネシウム、炭酸水素ストロ
ンチウム、炭酸カルシウム、炭酸バリウム、炭酸マグネ
シウム、炭酸ストロンチウム、酢酸カルシウム、酢酸バ
リウム、酢酸マグネシウム、酢酸ストロンチウム、ステ
アリン酸カルシウム、ステアリン酸バリウム、ステアリ
ン酸マグネシウム、ステアリン酸ストロンチウムなどが
挙げられる。

【００５３】本発明におけるこれらの重合触媒の使用量
は、アルカリ金属化合物及びアルカリ土類金属化合物
は、全芳香族ジヒドロキシ化合物１モルに対し１×１０
^-7〜１×１０^-4当量、好ましくは１×１０^-6〜５×１０
^-5当量の範囲で選ばれる。また含窒素塩基性化合物を従
成分として使用する場合は全芳香族ジヒドロキシ化合物
１モルに対し１×１０^-5〜１×１０^-3当量、好ましくは
１×１０^-5〜５×１０^-4当量の範囲で選ばれる。

【００５４】末端封止剤としてはフェノール類やジアリ
ルカーボネート類などが挙げられる。このうちジアリル
カーボネート類が好ましく、さらには活性化されたジア
リルカーボネート類がより好ましい。

【００５５】フェノール類を用いた場合は、末端封止に
かなり時間を要し、またポリマーの分子量の低下を起こ
すことがある。ジフェニルカーボネートやジナフチルカ
ーボネートなどの無置換ジアリルカーボネート類を用い
た場合、反応系の水酸基末端濃度の低下に伴って反応速
度が小さくなり十分な効果が得られない。

【００５６】ここでいう活性化されたジアリルカーボネ
ート類とは、芳香環に電子吸引性基が結合し、このため
にカルボニル結合部の求電子性が増したジアリルカーボ
ネート類を意味する。

【００５７】電子吸引性基は１つないしは２つ以上あっ
ても良い。２つ以上の場合は、それぞれが異なる種類の
ものであってもかまわない。また電子吸引性基は一方の
アリル基のみについても良いし、両方についていても良
い。

【００５８】電子吸引性基としてはハロゲン原子、ハロ
アルキル基、アルコキシカルボニル基、ニトロ基、シア
ノ基、置換されても良いフェニルなどが挙げられる。

【００５９】そのなかでも置換基がカーボネート結合に
対してオルト位に位置しているものが反応性が高く好ま
しい。その例として下記式のような化合物が例示でき
る。

【００６０】

【化１２】

【００６１】

【化１３】

【００６２】

【化１４】

【００６３】

【化１５】

【００６４】

【化１６】

【００６５】本発明においては、さらに重合終了後に中
和剤を用いることが好ましい。

【００６６】中和剤を添加する方法としては、例えば、
反応生成物であるポリカーボネートが溶融状態にある間
にこれらを添加してもよいし、一旦ポリカーボネートを
ペレタイズした後、再溶融して添加しても良い。前者に
おいては、重合後に得られる溶融状態にある反応機内ま
たは押し出し機内の反応生成物であるポリカーボネート
が溶融状態にある間にこれらを添加してもよいし、また
重合後得られたポリカーボネートが反応機から押出機を
通ってペレタイズされる間に、中和剤を添加して混練す
ることもできる。

【００６７】中和剤としては、色相や耐熱性、耐沸水性
の向上に対する効果が大きい点からスルホン酸のホスホ
ニウム塩および／またはスルホン酸のアンモニウム塩を
使用することが好ましい。そのなかでも特に、ドデシル
ベンゼンスルホン酸テトラブチルホスホニウム塩やパラ
トルエンスルホン酸テトラブチルアンモニウム塩などが
好ましい例として挙げられる。

【００６８】上記の如き方法によれば、本発明の新規共
重合体が得られるが、これを用いて各種成型品を成形す
る場合に、用途に応じて酸化防止剤、紫外線吸収剤、離
型剤などの添加剤を加えてもよい。

【００６９】

【実施例】次に本発明を実施例および比較例により、さ
らに詳しく説明する。

【００７０】［実施例１］２，２―ビス（４―ヒドロキ
シフェニル）プロパン２７重量部（５０モル％相当）、
および２，２―ビス（４―ヒドロキシ―３―イソプロピ
ルフェニル）プロパン１８重量部（２５モル％相当）、
およびテルペンビス―ｏ―クレゾール２１重量部（２５
モル％相当）を、８重量％濃度の水酸化ナトリウム水溶
液５００重量部に溶解し、この溶液に塩化メチレン５５
０重量部および分子量調節剤であるＰ―ｔｅｒｔ―ブチ
ルフェノール３．０重量部および触媒であるトリエチル
アミン１０重量％濃度水溶液１重量部を加えて激しく攪
拌しながら、ホスゲンガスを３０分吹き込んだ。

【００７１】得られた反応生成物に、塩化メチレン６０
０重量部を加えて、有機層を希釈した後、水を１０００
重量部、０．０１規定濃度の水酸化ナトリウム水溶液を
５００重量部、０．０１規定濃度の希塩酸を５００重量
部および水５００重量部を各々用いてこの順序で洗浄し
た。次いで有機層をメタノール中に注入して白色沈殿重
合体を得た。得られた重合体は塩化メチレンを溶媒とす
る溶液の２０℃における還元粘度［η_sp／ｃ］が０．６
２ｄｌ／ｇであった。

【００７２】この重合体のガラス転移温度は１３５℃で
あった。さらに重合体を厚さ１００μｍのフイルムに成
形し、理研計器製の光弾性係数測定機器（ＰＡ―１５
０）で測定したところ光弾性係数は５０×１０^-13 ｃｍ
² ／ｄｙｎｅであった。またＡＳＴＭ Ｄ５７０に従い
吸水率を測定したところ、０．１７％であった。

【００７３】［実施例２］２，２―ビス（４―ヒドロキ
シフェニル）プロパン１１４重量部（５０モル％相
当）、２，２―ビス（４―ヒドロキシ―３―ｔｅｒｔ―
ブチルフェニル）プロパン１０２重量部（３５モル％相
当）、テルペンビス―ｏ―クレゾール７０重量部（１５
モル％相当）の各ビスフェノール類と、ジフェニルカー
ボネート２２５重量部およびテトラメチルアンモニウム
ヒドロキシド９．１×１０^-3重量部、水酸化ナトリウム
４．０×１０^-4重量部を、攪拌装置、蒸留器および減圧
装置を備えた反応層に仕込み、窒素置換をした後１４０
℃で溶融した。３０分攪拌後、内温を１８０℃に上昇し
つつ除々に減圧し１００ｍｍＨｇで３０分間反応させ生
成するフェノールを留去した。

【００７４】次に２００℃に昇温しつつ除々に減圧し、
５０ｍｍＨｇで３０分間フェノールを留出せしめ反応さ
せた。さらに２２０℃／３０ｍｍＨｇまで除々に昇温、
減圧し、同温、同圧で３０分、さらに２４０℃／１０ｍ
ｍＨｇ、２６０℃／１ｍｍＨｇ、２７０℃／１ｍｍＨｇ
以下にまで上記と同じ手順で昇温、減圧を繰り返して反
応を続行し、最終的に２７０℃／１ｍｍＨｇ以下で２時
間反応せしめた。

【００７５】その後装置内を窒素置換し、末端封止剤と
してビス（２―クロロフェニル）カーボネート８．８重
量部および中和剤としてドデシルベンゼンスルホン酸テ
トラブチルホスホニウム塩１．２×１０^-2重量部を添加
した。得られた重合体は、塩化メチレンを溶媒とする溶
液の２０℃における還元粘度［η_sp／ｃ］が０．５５ｄ
ｌ／ｇであった。

【００７６】得られた重合体のガラス転移温度は１４０
℃であり、光弾性係数は４８×１０^-13 ｃｍ² ／ｄｙｎ
ｅと低い値であった。吸水率は０．１６％であった。ま
た成形板を用いて耐乾熱試験（１５０℃、１０日間）を
行ったところ着色がほとんどなく良好な結果を得た。

【００７７】［実施例３］２，２―ビス（４―ヒドロキ
シフェニル）プロパン１１４重量部（５０モル％相当）
および２，２―ビス（４―ヒドロキシ―３―ｔｅｒｔ―
ブチルフェニル）プロパン１０２重量部（３５モル％相
当）およびテルペンビス―２，６―キシレノール７６重
量部（１５モル％相当）を用いた以外は、実施例２と同
様の操作を行った。

【００７８】得られた重合体は、塩化メチレンを溶媒と
する溶液の２０℃における還元粘度［η_sp／ｃ］が０．
５４ｄｌ／ｇであった。

【００７９】得られた重合体のガラス転移温度は１４９
℃であり、光弾性係数は４３×１０^-13 ｃｍ² ／ｄｙｎ
ｅと低い値であった。吸水率は０．１６％であった。

【００８０】［比較例１］２，２―ビス（４―ヒドロキ
シフェニル）プロパン１１４重量部（５０モル％相当）
および２，２―ビス（４―ヒドロキシ―３―ｔｅｒｔ―
ブチルフェニル）プロパン１７０重量部（５０モル％相
当）を用いた他は、実施例２と同様の操作を行った。得
られたポリマーの還元粘度は０．５９ｄｌ／ｇであり、
ガラス転移温度は１２６℃であった。また光弾性係数は
５１×１０^-13 ｃｍ² ／ｄｙｎｅであった。吸水率は
０．２０％であった。

【００８１】［比較例２］２，２―ビス（４―ヒドロキ
シフェニル）プロパン１１４重量部（５０モル％相当）
およびテルペンビス―ｏ―クレゾール１７６重量部（１
５モル％相当）を用いた他は、実施例２と同様の操作を
行った。得られたポリマーの還元粘土は０．５５ｄｌ／
ｇであり、ガラス転移温度は１８１℃であった。また光
弾性係数は６６×１０^-13 ｃｍ² ／ｄｙｎｅであった。
吸水率は０．１９％であった。

【００８２】［比較例３］２，２―ビス（４―ヒドロキ
シフェニル）プロパン２２８重量部（１００モル％相
当）を用いた他は、実施例２と同様の操作を行った。得
られたポリマーの還元粘度は０．５５ｄｌ／ｇであり、
ガラス転移温度は１４８℃であった。また光弾性係数は
７９×１０^-13 ｃｍ² ／ｄｙｎｅであった。吸水率は
０．２９％であった。

【００８３】

【発明の効果】本発明のポリカーボネートは、従来のポ
リカーボネート樹脂に比べて、充分な耐熱性ならびに機
械的強度を有しかつ光弾性係数が小さく、色相や熱安定
性にも優れ、光ディスクなどの光学材料基盤を適用しう
るものである。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 佐々木 勝司 山口県岩国市日の出町２番１号 帝人株式 会社岩国研究センター内

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ２０〜９０モル％の下記式（Ｉ）で表さ
   れる繰り返し単位、５〜７５モル％の下記一般式（II）
   で表わされる繰り返し単位および５〜７５モル％の下記
   式（III ）で表わされる繰り返し単位からなり、 【化１】 ［式（II）中のＲ¹ 、Ｒ² 、Ｒ³ 、Ｒ⁴ はそれぞれ独立
   に、水素原子、炭素数１から２０のアルキル基、炭素数
   １から２０のアルコキシル基、炭素数６から２０のシク
   ロアルキル基、炭素数６から２０のアリール基、炭素数
   ７から２０のアラルキル基、炭素数６から２０のシクロ
   アルコキシル基、炭素数６から２０のアリールオキシ基
   および炭素数７から２０のアラルキルオキシ基からなる
   群より選ばれる。ただし、Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｒ³ 、Ｒ⁴ がす
   べて水素原子である場合は除かれる。また式（II）中Ｘ
   は、 【化２】 ここで、Ｒ¹³、Ｒ¹⁴はそれぞれ独立に、水素原子、炭素
   数１〜６のアルキル基、炭素数１から６のアルコキシル
   基、炭素数６から２０のシクロアルキル基、炭素数６か
   ら２０のアリール基、炭素数７から２０のアラルキル
   基、炭素数６から２０のシクロアルコキシル基、炭素数
   ６から２０のアリールオキシ基および炭素数７から２０
   のアラルキルオキシ基からなる群より選ばれる。またＲ
   ¹⁵、Ｒ¹⁶はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、シ
   クロアルキル基、アリール基およびアラルキル基からな
   る群より選ばれるが、シクロ環を構成している炭素原子
   ごとに異なっていてもよい。ｎは３〜１１の整数を表
   す。式（III ）中のＲ⁵ 、Ｒ⁶ は、それぞれ独立に水素
   原子、炭素数１から６のアルキル基、炭素数５から１０
   のシクロアルキル基、炭素数６から２０のアリール基お
   よび炭素数７から２０のアラルキル基からなる群より選
   ばれる。Ｒ⁷ 、Ｒ⁸、Ｒ⁹ 、Ｒ¹⁰、Ｒ¹¹、Ｒ¹²は、それ
   ぞれ独立に水素原子、炭素数１から６のアルキル基およ
   び炭素数６から２０のアリール基からなる群より選ばれ
   る。式（III）中のａおよびｂは、ａ＋ｂ＝４を満たす
   ０〜４の整数である。式（III ）のＹは、単結合あるい
   は下記式（Ａ）で表されるアルキレン基である。 【化３】 ただしＲ¹⁷およびＲ¹⁸はそれぞれ独立に、水素原子また
   は炭素数１から６のアルキル基を表す。］塩化メチレン
   を溶媒として０．５ｇ／ｄｌ濃度の溶液の２０℃におけ
   る還元粘度（η_sp／ｃ）が０．２ｄｌ／ｇ以上である共
   重合ポリカーボネート。
2. 【請求項２】 ２０〜９０モル％の下記式（IV）で表さ
   れる化合物、５〜７５モル％の下記一般式（Ｖ）で表さ
   れる２価フェノールおよび５〜７５モル％の下記式（V
   I）で表される環状テルペン骨格構造を有する２価フェ
   ノール類を、 【化４】 ［ただし、式（IV）〜（VI）中の各記号は、式（Ｉ）〜
   （III ）と同じものを表す。］重合触媒存在下、炭酸エ
   ステル形成性化合物と反応させて重合を行い、重合終了
   後、末端封止剤および中和剤を添加することを特徴とす
   る、塩化メチレンを溶媒として０．５ｇ／ｄｌ濃度の溶
   液の２０℃における還元粘度（η_sp／ｃ）が０．２ｄｌ
   ／ｇ以上である共重合ポリカーボネートの製造方法。
3. 【請求項３】 炭酸エステル形成性化合物が、ジアリル
   カーボネートである請求項２に記載の共重合ポリカーボ
   ネートの製造方法。
4. 【請求項４】 重合触媒として、含窒素塩基性化合物と
   アルカリ金属化合物および／またはアルカリ土類金属化
   合物とからなる触媒を使用する請求項２に記載の共重合
   ポリカーボネートの製造方法。
5. 【請求項５】 末端封止剤が、活性化されたジアリルカ
   ーボネートであることを特徴とする請求項２に記載の共
   重合ポリカーボネートの製造方法。
6. 【請求項６】 中和剤が、スルホン酸ホスホニウム塩お
   よび／またはスルホン酸アンモニウム塩である請求項２
   に記載の共重合ポリカーボネートの製造方法。
7. 【請求項７】 請求項１に記載の共重合ポリカーボネー
   トからなる光学材料。