JPH09255726A - アクリロイルジメチルナフタレン化合物及びその中間体並びに製造方法及びそれを含有する重合体。 - Google Patents
アクリロイルジメチルナフタレン化合物及びその中間体並びに製造方法及びそれを含有する重合体。Info
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F16/00—Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an alcohol, ether, aldehydo, ketonic, acetal or ketal radical
- C08F16/36—Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an alcohol, ether, aldehydo, ketonic, acetal or ketal radical by a ketonic radical
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 高い耐熱性と汎用有機溶媒に対する易溶性を
有し、電子線やX線やイオンビームでのパターン作成が
でき、高密度化・高集積化の要求に合った微細加工用レ
ジスト剤ポリマーとして使用可能な新規なポリマー及び
そのモノマーならびにその製法と中間原料の提供。 【解決手段】 アクリロイルジメチルナフタレン化合物
を重合またはMMAと共重合することにより上記特性を
有するポリマーが得られる。アクリロイルジメチルナフ
タレン化合物はジメチルナフタレンとハロプロピオニル
ハライドとのフリーデル−クラフツ反応により得られる
ハロプロピオニルジメチルナフタレン化合物を相間移動
触媒の存在下に、アルカリを用い、脱ハロゲン化水素を
行なうことにより得られる。
有し、電子線やX線やイオンビームでのパターン作成が
でき、高密度化・高集積化の要求に合った微細加工用レ
ジスト剤ポリマーとして使用可能な新規なポリマー及び
そのモノマーならびにその製法と中間原料の提供。 【解決手段】 アクリロイルジメチルナフタレン化合物
を重合またはMMAと共重合することにより上記特性を
有するポリマーが得られる。アクリロイルジメチルナフ
タレン化合物はジメチルナフタレンとハロプロピオニル
ハライドとのフリーデル−クラフツ反応により得られる
ハロプロピオニルジメチルナフタレン化合物を相間移動
触媒の存在下に、アルカリを用い、脱ハロゲン化水素を
行なうことにより得られる。
Description
【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、耐熱性、易溶性に
優れたジメチルナフタレン骨格を有する新規ポリマー及
びそれを製造するための新規なモノマーであるアクリロ
イルジメチルナフタレン化合物及びその中間体であるハ
ロプロピオニルジメチルナフタレン化合物並びにそれら
の製造方法に関する。
優れたジメチルナフタレン骨格を有する新規ポリマー及
びそれを製造するための新規なモノマーであるアクリロ
イルジメチルナフタレン化合物及びその中間体であるハ
ロプロピオニルジメチルナフタレン化合物並びにそれら
の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】ナフタレンを骨格中に含むポリマーは大
きく分けて次の2つの特徴からなる物性が期待されてい
ることが多い。それは、ナフタレン環の高い平面性がも
たらす高次の対称要素と長い共役波長がもたらす機械、
光などのさまざまな物理特性である。しかしながら反
面、これらの特徴は難溶性、難成型性などの面で、樹脂
のハンドリングを難しくしており、この点での改良が望
まれている。
きく分けて次の2つの特徴からなる物性が期待されてい
ることが多い。それは、ナフタレン環の高い平面性がも
たらす高次の対称要素と長い共役波長がもたらす機械、
光などのさまざまな物理特性である。しかしながら反
面、これらの特徴は難溶性、難成型性などの面で、樹脂
のハンドリングを難しくしており、この点での改良が望
まれている。
【0003】本発明者は、ナフチレン骨格とナフタレン
から張り出したメチル基が高い耐熱性と易溶性に重要な
役割を担っているという知見に基づき、ジメチルナフタ
レン骨格そのものを生かした、ベンゾイルナフタレン誘
導体を含む新規な重合体を提案した(特開平6−234
848号公報)。このポリマーは主鎖にナフタレン骨格
を有する全芳香族系ポリアリーレンエーテルケトンであ
り、高融点、高ガラス点移転で機械的強度に優れ、また
加工性も比較的良好なので、スーパーエンプラとしての
用途が期待される。
から張り出したメチル基が高い耐熱性と易溶性に重要な
役割を担っているという知見に基づき、ジメチルナフタ
レン骨格そのものを生かした、ベンゾイルナフタレン誘
導体を含む新規な重合体を提案した(特開平6−234
848号公報)。このポリマーは主鎖にナフタレン骨格
を有する全芳香族系ポリアリーレンエーテルケトンであ
り、高融点、高ガラス点移転で機械的強度に優れ、また
加工性も比較的良好なので、スーパーエンプラとしての
用途が期待される。
【0004】一方、フェニルイソプロペニルケトンのメ
チルメタクリレートとの共重合体は側鎖にフェニル基を
有し、deep UV領域に強い吸収を持つ光崩壊性ポ
リマーで、UV照射により側鎖カルボニルのα位で開裂
後、つづいて主鎖のポリマーラジカルのβ切断により主
鎖の分解が起こることが知られ、梱包材や微細加工用レ
ジストへの応用が考えられている。(高分子予稿集vo
l.43,No.2(1940年),III −6−0
5)。
チルメタクリレートとの共重合体は側鎖にフェニル基を
有し、deep UV領域に強い吸収を持つ光崩壊性ポ
リマーで、UV照射により側鎖カルボニルのα位で開裂
後、つづいて主鎖のポリマーラジカルのβ切断により主
鎖の分解が起こることが知られ、梱包材や微細加工用レ
ジストへの応用が考えられている。(高分子予稿集vo
l.43,No.2(1940年),III −6−0
5)。
【0005】ところで、半導体素子や集積回路のさらな
る高密度化・高集積化の要求に応え、幅1mm以下のパ
ターンが要求されている。このためには、従来のUVや
可視光を用いた写真食刻法では限界があり、電子線やX
線やイオンビームでのパターン作成が検討されている。
通常ポジ型の方がより高い解像度を望めるが、感度が低
下する上に、エッチング液による剥離あるいは溶出の危
険性が増す。
る高密度化・高集積化の要求に応え、幅1mm以下のパ
ターンが要求されている。このためには、従来のUVや
可視光を用いた写真食刻法では限界があり、電子線やX
線やイオンビームでのパターン作成が検討されている。
通常ポジ型の方がより高い解像度を望めるが、感度が低
下する上に、エッチング液による剥離あるいは溶出の危
険性が増す。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記課題を
解決するために、高い耐熱性と汎用有機溶媒に対する易
溶性を有し、電子線やX線やイオンビームでのパターン
作成が可能で、高い解像度と感度を有し、高密度化・高
集積化の要求に応じることができる微細加工用レジスト
剤ポリマーとして使用可能な新規なポリマーの探索を検
討した。またこのような高機能ポリマーを、単独重合ま
たは、メチルメタクリレート等のラジカル重合用モノマ
ーとの共重合によって製造するための原料であるモノマ
ー及びその製造方法についても検討した。
解決するために、高い耐熱性と汎用有機溶媒に対する易
溶性を有し、電子線やX線やイオンビームでのパターン
作成が可能で、高い解像度と感度を有し、高密度化・高
集積化の要求に応じることができる微細加工用レジスト
剤ポリマーとして使用可能な新規なポリマーの探索を検
討した。またこのような高機能ポリマーを、単独重合ま
たは、メチルメタクリレート等のラジカル重合用モノマ
ーとの共重合によって製造するための原料であるモノマ
ー及びその製造方法についても検討した。
【0007】その結果、新規化合物であるアクリロイル
ジメチルナフタレン化合物から得られる重合体が側鎖に
ナフタレン核を含み、ユニークな性質を有する新規な高
機能ポリマーであることを見いだし、更に上記モノマー
の製造方法並びにその製造方法における中間体で新規化
合物であるハロプロピオニルジメチルナフタレン化合物
を見いだした。従って本発明の目的は高密度化・高集積
化の半導体素子や集積回路に使用できる電子線やX線や
イオンビームでのパターン作成が可能なレジスト剤ポリ
マー用及びそのモノマー、その中間体ならびにその製造
方法を提供することにある。
ジメチルナフタレン化合物から得られる重合体が側鎖に
ナフタレン核を含み、ユニークな性質を有する新規な高
機能ポリマーであることを見いだし、更に上記モノマー
の製造方法並びにその製造方法における中間体で新規化
合物であるハロプロピオニルジメチルナフタレン化合物
を見いだした。従って本発明の目的は高密度化・高集積
化の半導体素子や集積回路に使用できる電子線やX線や
イオンビームでのパターン作成が可能なレジスト剤ポリ
マー用及びそのモノマー、その中間体ならびにその製造
方法を提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明は、下記一般式
(I)
(I)
【化5】 で表されるアクリロイルジメチルナフタレン化合物、及
び下記一般式(II)または(III)
び下記一般式(II)または(III)
【化6】 (上記式中、Xはハロゲン原子を示す)で表されるハロ
プロピオニルジメチルナフタレン化合物に関する。
プロピオニルジメチルナフタレン化合物に関する。
【0009】本発明はまた、ジメチルナフタレンをハロ
プロピオニルハライドとを、フリーデル−クラフツ反応
により、上記一般式(II)または(III) のハロプロピオ
ニルジメチルナフタレンとし、次いで、これをアルカリ
の存在下に、相間移動触媒を用い、脱ハロゲン化水素を
行なうことからなる上記一般式(I)のアクリロイルジ
メチルナフタレン化合物の製造方法である。
プロピオニルハライドとを、フリーデル−クラフツ反応
により、上記一般式(II)または(III) のハロプロピオ
ニルジメチルナフタレンとし、次いで、これをアルカリ
の存在下に、相間移動触媒を用い、脱ハロゲン化水素を
行なうことからなる上記一般式(I)のアクリロイルジ
メチルナフタレン化合物の製造方法である。
【0010】更に本発明は上記アクリロイルジメチルナ
フタレンを重合して得られ、下記一般式(IV)
フタレンを重合して得られ、下記一般式(IV)
【化7】 で表される繰り返し単位を有するポリアクリロイルジメ
チルナフタレン及び、アクリロイルジメチルナフタレン
とメタクリル酸メチルとを重合して得られ、上記一般式
(IV)と下記一般式(V)
チルナフタレン及び、アクリロイルジメチルナフタレン
とメタクリル酸メチルとを重合して得られ、上記一般式
(IV)と下記一般式(V)
【化8】 で表される繰り返し単位を有する、アクリロイルジメチ
ルナフタレン・メタクリル酸メチル共重合体に関する。
ルナフタレン・メタクリル酸メチル共重合体に関する。
【0011】
【発明の実施の態様】本発明における重合用モノマー成
分であるアクリロイルジメチルナフタレン化合物はジメ
チルナフタレン(以下、「ジメチルナフタレン」を「D
MN」と呼ぶことがある。)にアクリロイル基が任意の
位置に置換したもので、前記一般式(I)で表される化
合物であり、特に、1−アクリロイル−2,6−DM
N、1−アクリロイル−3,7−DMN、1−アクリロ
イル−2,7−DMN、および1−アクリロイル−3,
6−DMN等を例示することができる。
分であるアクリロイルジメチルナフタレン化合物はジメ
チルナフタレン(以下、「ジメチルナフタレン」を「D
MN」と呼ぶことがある。)にアクリロイル基が任意の
位置に置換したもので、前記一般式(I)で表される化
合物であり、特に、1−アクリロイル−2,6−DM
N、1−アクリロイル−3,7−DMN、1−アクリロ
イル−2,7−DMN、および1−アクリロイル−3,
6−DMN等を例示することができる。
【0012】また、上記アクリロイルDMN化合物製造
の中間原料となるハロプロピオニルDMN化合物は上記
一般式(II)で表される3−ハロプロピオニルDMN化合
物、または上記一般式(III) で表される2−ハロプロピ
オニルDMN化合物(III) であり、ハロプロピオニル基
の種類及び、ハロプロピオニル基とメチル基の置換位置
により、各種の異性体が存在するが、1−(3−ハロプ
ロピオニル)−2,6−DMN、4−(3−ハロプロピ
オニル)−3,7−DMN、1−(2−ハロプロピオニ
ル)−2,6−DMN、1−(2−ハロプロピオニル)
−3,7−DMN、1−(3−ハロプロピオニル)−
2,7−DMN、1−(3−ハロプロピオニル)−3,
6−DMN、1−(2−ハロプロピオニル)−2,7−
DMN、および1−(2−ハロプロピオニル)−3,6
−DMN等を例示することができるが、特にハロプロピ
オニル−2,6−DMNが好ましい。
の中間原料となるハロプロピオニルDMN化合物は上記
一般式(II)で表される3−ハロプロピオニルDMN化合
物、または上記一般式(III) で表される2−ハロプロピ
オニルDMN化合物(III) であり、ハロプロピオニル基
の種類及び、ハロプロピオニル基とメチル基の置換位置
により、各種の異性体が存在するが、1−(3−ハロプ
ロピオニル)−2,6−DMN、4−(3−ハロプロピ
オニル)−3,7−DMN、1−(2−ハロプロピオニ
ル)−2,6−DMN、1−(2−ハロプロピオニル)
−3,7−DMN、1−(3−ハロプロピオニル)−
2,7−DMN、1−(3−ハロプロピオニル)−3,
6−DMN、1−(2−ハロプロピオニル)−2,7−
DMN、および1−(2−ハロプロピオニル)−3,6
−DMN等を例示することができるが、特にハロプロピ
オニル−2,6−DMNが好ましい。
【0013】尚、ハロプロピオニルDMN化合物中のハ
ロゲン原子としては、脱ハロゲン化水素反応を容易に行
うことができるという観点から、塩素、臭素、フッ素が
好適である。
ロゲン原子としては、脱ハロゲン化水素反応を容易に行
うことができるという観点から、塩素、臭素、フッ素が
好適である。
【0014】上記のハロプロピオニルDMN化合物を相
間移動触媒の存在下に、アルカリにより、脱ハロゲン化
水素を行うことにより、アクリロイルDMN化合物を得
ることができる。
間移動触媒の存在下に、アルカリにより、脱ハロゲン化
水素を行うことにより、アクリロイルDMN化合物を得
ることができる。
【0015】上記脱ハロゲン化水素反応におけるアルカ
リとしては、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、水酸化カ
リウム、水酸化ナトリウム等を用いることができるが、
特に、炭酸カリウムを用いることが好ましい。このアル
カリは、ハロプロピオニルDMN化合物1モルに対し
て、多ければ多いほど収率が増大するが、2〜20モル
の範囲で適宜、選定して用いるとよい。
リとしては、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、水酸化カ
リウム、水酸化ナトリウム等を用いることができるが、
特に、炭酸カリウムを用いることが好ましい。このアル
カリは、ハロプロピオニルDMN化合物1モルに対し
て、多ければ多いほど収率が増大するが、2〜20モル
の範囲で適宜、選定して用いるとよい。
【0016】一方、相間移動触媒としては、t−ブチル
アンモニウムクロリド、t−ブチルアンモニウムブロミ
ド、ジt−ブチルアンモニウムクロリド、ジt−ブチル
アンモニウムブロミド等を用いることができる。この相
間移動触媒は、上記アルカリ1モルに対して1〜100
倍モルの範囲で適宜、選定して用いるとよい。
アンモニウムクロリド、t−ブチルアンモニウムブロミ
ド、ジt−ブチルアンモニウムクロリド、ジt−ブチル
アンモニウムブロミド等を用いることができる。この相
間移動触媒は、上記アルカリ1モルに対して1〜100
倍モルの範囲で適宜、選定して用いるとよい。
【0017】この脱ハロゲン化水素は、水、塩化メチレ
ン、クロロホルム、或いはこれらの混合溶媒等の極性溶
媒中、室温で、30分〜6時間反応させることにより行
うことができる。
ン、クロロホルム、或いはこれらの混合溶媒等の極性溶
媒中、室温で、30分〜6時間反応させることにより行
うことができる。
【0018】また上記アクリロイルDMN化合物製造反
応の中間原料であるハロプロピオニルDMNは、DMN
とハロプロピオニルハライドとを、塩化アルミニウム、
塩化アンチモン、塩化鉄等、ルイス酸の存在下にアシル
化させる、いわゆるフリーデル−クラフツ反応を行なう
ことにより得ることができる。この場合、通常のフリー
デル−クラフツ反応と同様の条件、例えば、反応原料
は、DMN1モルに対しハロプロピオニルハライド1〜
16モルを用い、ルイス酸をハロプロピオニルハライド
の1〜16倍モル、また、クロロホルム、二硫化炭素、
ニトロベンゼン等の極性溶媒中、或いはこれらの混合溶
媒中で、−10℃〜室温で反応させると良い。
応の中間原料であるハロプロピオニルDMNは、DMN
とハロプロピオニルハライドとを、塩化アルミニウム、
塩化アンチモン、塩化鉄等、ルイス酸の存在下にアシル
化させる、いわゆるフリーデル−クラフツ反応を行なう
ことにより得ることができる。この場合、通常のフリー
デル−クラフツ反応と同様の条件、例えば、反応原料
は、DMN1モルに対しハロプロピオニルハライド1〜
16モルを用い、ルイス酸をハロプロピオニルハライド
の1〜16倍モル、また、クロロホルム、二硫化炭素、
ニトロベンゼン等の極性溶媒中、或いはこれらの混合溶
媒中で、−10℃〜室温で反応させると良い。
【0019】この反応において、ハロプロピオニルハラ
イドとして3−ハロプロピオニルハライドを用いると、
一般式(II)で表される(3−ハロプロピオニル)DMN
が得られる。従ってDMNとして2,6−DMNもしく
は2,7−DMNを用いることにより、1−(3−ハロ
プロピオニル)−2,6−DMNもしくは1−(3−ハ
ロプロピオニル)−3,7−DMN、または1−(3−
ハロプロピオニル)−2,7−DMNもしくは1−(3
−ハロプロピオニル)−3,6−DMNを得ることがで
きる。
イドとして3−ハロプロピオニルハライドを用いると、
一般式(II)で表される(3−ハロプロピオニル)DMN
が得られる。従ってDMNとして2,6−DMNもしく
は2,7−DMNを用いることにより、1−(3−ハロ
プロピオニル)−2,6−DMNもしくは1−(3−ハ
ロプロピオニル)−3,7−DMN、または1−(3−
ハロプロピオニル)−2,7−DMNもしくは1−(3
−ハロプロピオニル)−3,6−DMNを得ることがで
きる。
【0020】またハロプロピオニルハライドとして2−
ハロプロピオニルハライドを用いた場合は、一般式(II
I) で表される(2−ハロプロピオニル)DMNが得ら
れるので、DMNとして2,6−DMNもしくは2,7
−DMNを用いることにより、1−(2−ハロプロピオ
ニル)−2,6−DMNもしくは1−(2−ハロプロピ
オニル)−3,7−DMN、または1−(2−ハロプロ
ピオニル)−2,7−DMNもしくは1−(2−ハロプ
ロピオニル)−3,6−DMNを得ることができる。
ハロプロピオニルハライドを用いた場合は、一般式(II
I) で表される(2−ハロプロピオニル)DMNが得ら
れるので、DMNとして2,6−DMNもしくは2,7
−DMNを用いることにより、1−(2−ハロプロピオ
ニル)−2,6−DMNもしくは1−(2−ハロプロピ
オニル)−3,7−DMN、または1−(2−ハロプロ
ピオニル)−2,7−DMNもしくは1−(2−ハロプ
ロピオニル)−3,6−DMNを得ることができる。
【0021】ハロプロピオニルDMN生成反応におい
て、DMNへのハロプロピオニル基の置換位置の異なる
異性体(1位及び4位)生成の選択率、即ち上記DMN
に対して1位置換体と4位置換体との間の選択性は、温
度、溶媒等の反応条件を選定することにより調整でき、
例えば、より高温とすると、前者の1−置換化合物が、
逆に、より低温とすると後者の4−置換化合物がより多
く得られる。また、これらの二つの化合物間は、常法で
あるカラムクロマトグラフィー等により、簡便に分離す
ることができる。
て、DMNへのハロプロピオニル基の置換位置の異なる
異性体(1位及び4位)生成の選択率、即ち上記DMN
に対して1位置換体と4位置換体との間の選択性は、温
度、溶媒等の反応条件を選定することにより調整でき、
例えば、より高温とすると、前者の1−置換化合物が、
逆に、より低温とすると後者の4−置換化合物がより多
く得られる。また、これらの二つの化合物間は、常法で
あるカラムクロマトグラフィー等により、簡便に分離す
ることができる。
【0022】なお、ハロプロピオニルDMNの製造原料
である上記2,6−DMNまたは2,7−DMNは石油
留分やコールタール中に含まれ、これらから回収するこ
とにより、安価に得ることができる。また、ハロプロピ
オニルハライドは、ハロプロピオン酸をハロゲン化する
ことで容易に得ることができる。
である上記2,6−DMNまたは2,7−DMNは石油
留分やコールタール中に含まれ、これらから回収するこ
とにより、安価に得ることができる。また、ハロプロピ
オニルハライドは、ハロプロピオン酸をハロゲン化する
ことで容易に得ることができる。
【0023】本発明のアクリロイルDMN化合物は、ア
ゾビスイソブチロニトリル等のラジカル重合開始剤を用
いた熱あるいは光重合を行わせることによって、ポリア
クリロイルDMNを得ることができる。また、これをメ
チルメタクリレート等と共重合させることにより、アク
リロイルDMN・メチルメタクリレート共重合体等の各
種重合体を得ることができる。
ゾビスイソブチロニトリル等のラジカル重合開始剤を用
いた熱あるいは光重合を行わせることによって、ポリア
クリロイルDMNを得ることができる。また、これをメ
チルメタクリレート等と共重合させることにより、アク
リロイルDMN・メチルメタクリレート共重合体等の各
種重合体を得ることができる。
【0024】得られた重合体または共重合体は分子量及
びモノマー組成にもよるが、一般的に耐熱性で、かつ多
くの有機溶媒に対する溶解性が大きく、そのため、易溶
性の梱包材を得ることができる。またこれらの重合体ま
たは共重合体は光崩壊性のポリマーで、電子線やX線や
イオンビームでのパターン作成が可能で、高い解像度と
感度を有し、高密度化・高集積化の要求に応じることが
できる微細加工用レジスト剤として利用できる。
びモノマー組成にもよるが、一般的に耐熱性で、かつ多
くの有機溶媒に対する溶解性が大きく、そのため、易溶
性の梱包材を得ることができる。またこれらの重合体ま
たは共重合体は光崩壊性のポリマーで、電子線やX線や
イオンビームでのパターン作成が可能で、高い解像度と
感度を有し、高密度化・高集積化の要求に応じることが
できる微細加工用レジスト剤として利用できる。
【0025】
[実施例1](3−クロロプロピオニル−2,6−DM
Nの合成) 不活性ガスで置換した容器に2,6−DMN20gを秤
り取り、無水のクロロホルム200ml中に溶解させた
後、2,6−DMNに対して1.5モル倍の1−クロロ
プロピオニルクロライドを加え、反応溶液を氷水浴につ
けて冷却した。ここに、2,6−DMNに対して1.8
モル倍の無水塩化アルミニウムを、反応溶液温度が10
℃以上にならないよう注意しながら、少量ずつ添加し
た。この際、反応溶液は無色から黄色、橙色を経て、赤
色へと変化した。全量添加後、そのまま3時間氷水浴中
で撹拌し、その後、室温まで反応溶液の温度を上昇させ
た後、1時間撹拌した。この際、反応容液は赤色から暗
緑色へと変化した。反応溶液を塩酸水層に注いで反応を
停止し、デカンテーションによりクロロホルム層を取り
出し、溶媒を留去した。
Nの合成) 不活性ガスで置換した容器に2,6−DMN20gを秤
り取り、無水のクロロホルム200ml中に溶解させた
後、2,6−DMNに対して1.5モル倍の1−クロロ
プロピオニルクロライドを加え、反応溶液を氷水浴につ
けて冷却した。ここに、2,6−DMNに対して1.8
モル倍の無水塩化アルミニウムを、反応溶液温度が10
℃以上にならないよう注意しながら、少量ずつ添加し
た。この際、反応溶液は無色から黄色、橙色を経て、赤
色へと変化した。全量添加後、そのまま3時間氷水浴中
で撹拌し、その後、室温まで反応溶液の温度を上昇させ
た後、1時間撹拌した。この際、反応容液は赤色から暗
緑色へと変化した。反応溶液を塩酸水層に注いで反応を
停止し、デカンテーションによりクロロホルム層を取り
出し、溶媒を留去した。
【0026】得られた粗生成物をカラムクロマトグラフ
ィー(展開溶媒:n−ヘキサン95%、酢酸エチル5
%)により2つの画分に分離採取し、それぞれ溶媒を留
去した後、得られた粗黄色固体をn−ヘキサンを用いて
再結晶を行ない、第1の画分として黄色針状晶20.9
g(収率66%)及び第2の画分として黄色針状晶1
0.4g(収率33%)を得た。
ィー(展開溶媒:n−ヘキサン95%、酢酸エチル5
%)により2つの画分に分離採取し、それぞれ溶媒を留
去した後、得られた粗黄色固体をn−ヘキサンを用いて
再結晶を行ない、第1の画分として黄色針状晶20.9
g(収率66%)及び第2の画分として黄色針状晶1
0.4g(収率33%)を得た。
【0027】この化合物についてそれぞれ元素分析、 1
H−NMR(溶媒;CDCl3 、TMS基準)及びIR
(KBr法)の各種分析方法により同定をおこなった。
分析結果は表1の通りである。
H−NMR(溶媒;CDCl3 、TMS基準)及びIR
(KBr法)の各種分析方法により同定をおこなった。
分析結果は表1の通りである。
【0028】
【表1】
【0029】上記数値及びスペクトルを解析した結果、 (1)元素分析の結果は両者とも、クロロプロピオニル
DMN(分子式C15H15OCl)の元素含有量と一致し
た。
DMN(分子式C15H15OCl)の元素含有量と一致し
た。
【0030】(2) 1H−NMR(溶媒;CDCl3 、
TMS基準)1 H−NMRチャートは図1及び図3のとおりである。
この反応で生成したクロロプロピオニルDMNにおける
2,6−DMNに対するクロロプロピオニル基の置換位
置はα位、すなわち1または4であるが、図3において
メチル基に基づくシグナルfが2本に分かれていること
から、第2の画分のクロロプロピオニル−2,6−DM
Nでは隣にカルボニル基の存在が示唆され、またナフタ
レン環上のプロトンカップリングは、1位置換がシング
レット1プロトン、ダブレット2組で4プロトンであ
り、4位置換ではシングレット3プロトン、ダブレット
1組で2プロトンとなり、カップリングのしかた及び積
分値から、図1のもの(第1画分)が4位置換であり、
図3のもの(第2画分)が1位置換であることがわか
る。
TMS基準)1 H−NMRチャートは図1及び図3のとおりである。
この反応で生成したクロロプロピオニルDMNにおける
2,6−DMNに対するクロロプロピオニル基の置換位
置はα位、すなわち1または4であるが、図3において
メチル基に基づくシグナルfが2本に分かれていること
から、第2の画分のクロロプロピオニル−2,6−DM
Nでは隣にカルボニル基の存在が示唆され、またナフタ
レン環上のプロトンカップリングは、1位置換がシング
レット1プロトン、ダブレット2組で4プロトンであ
り、4位置換ではシングレット3プロトン、ダブレット
1組で2プロトンとなり、カップリングのしかた及び積
分値から、図1のもの(第1画分)が4位置換であり、
図3のもの(第2画分)が1位置換であることがわか
る。
【0031】(3)IR分析 図2の赤外線吸収スペクトルにおいて、C−Clに基づ
く吸収(665cm-1 )及びカルボニル、芳香族に基づく吸
収(1661cm-1)が確認された。
く吸収(665cm-1 )及びカルボニル、芳香族に基づく吸
収(1661cm-1)が確認された。
【0032】以上の結果、得られた化合物は、1−(3
−クロロプロピオニル)−3,7−DMN及び1−(3
−クロロプロピオニル)−2,6−DMNであることが
同定された。
−クロロプロピオニル)−3,7−DMN及び1−(3
−クロロプロピオニル)−2,6−DMNであることが
同定された。
【0033】[実施例2〜9](クロロプロピオニル−
2,6−DMNの合成) 実施例1の反応方法において、アシル化剤の種類、ルイ
ス酸の種類、溶媒の種類、反応温度、反応時間等を表2
に示す反応条件に変えて、実施例1と同様にして(3−
クロロプロピオニル)−2,6−DMN及び(2−クロ
ロプロピオニル)−2,6−DMNの合成を行なった。
ルイス酸触媒の量はいずれも2,6−DMNに対して
1.2モル倍とした。この結果を前記の実施例1の結果
とともに表1に示した。
2,6−DMNの合成) 実施例1の反応方法において、アシル化剤の種類、ルイ
ス酸の種類、溶媒の種類、反応温度、反応時間等を表2
に示す反応条件に変えて、実施例1と同様にして(3−
クロロプロピオニル)−2,6−DMN及び(2−クロ
ロプロピオニル)−2,6−DMNの合成を行なった。
ルイス酸触媒の量はいずれも2,6−DMNに対して
1.2モル倍とした。この結果を前記の実施例1の結果
とともに表1に示した。
【0034】
【表2】 ただし表中、 3-Chloro:3−クロロプロピオニルクロリド 2-Chloro:2−クロロプロピオニルクロリド 選択性: 1-(3-CP)-3,7-DMNの収率:1-(3-CP)-2,6-DMNの収率(実
施例1〜8)または 1-(2-CP)-3,7-DMNの収率:1-(2-CP)-2,6-DMNの収率(実
施例9) (ただしCPはクロロプロピオニル)を示す。
施例1〜8)または 1-(2-CP)-3,7-DMNの収率:1-(2-CP)-2,6-DMNの収率(実
施例9) (ただしCPはクロロプロピオニル)を示す。
【0035】[実施例10](1−アクリロイル−3,
7−DMNの製造) 上記実施例1で合成した1−(3−クロロプロピオニ
ル)−3,7−DMN0.5gを塩化メチレン100m
lに溶解した溶液に、炭酸カリウム10gとt−ブチル
アンモニウム10gとを水100mlに溶解した溶液を
容器に入れ、室温で3時間撹拌することにより反応させ
た。その後、水溶液層を分離除去し、塩化メチレン溶液
中の溶媒を留去し、粗生成物を得た。これを、ゲル濾過
後、ヘキサン低温再結晶法により精製し、淡黄色の固体
が0.43g(収率100%)得られた。この化合物を
下記の各種分析方法により同定をおこなった。
7−DMNの製造) 上記実施例1で合成した1−(3−クロロプロピオニ
ル)−3,7−DMN0.5gを塩化メチレン100m
lに溶解した溶液に、炭酸カリウム10gとt−ブチル
アンモニウム10gとを水100mlに溶解した溶液を
容器に入れ、室温で3時間撹拌することにより反応させ
た。その後、水溶液層を分離除去し、塩化メチレン溶液
中の溶媒を留去し、粗生成物を得た。これを、ゲル濾過
後、ヘキサン低温再結晶法により精製し、淡黄色の固体
が0.43g(収率100%)得られた。この化合物を
下記の各種分析方法により同定をおこなった。
【0036】(1)元素分析 C:85.8%、H:6.7%、O:7.6%であり、
これはアクリロイルDMN(C15H14O)の元素含有量
と一致した。
これはアクリロイルDMN(C15H14O)の元素含有量
と一致した。
【0037】(2) 1H−NMR(溶媒;CDCl3 、
TMS基準) 結果を図4に示す。図4において2.50(s,メチル基),
6.00(d, ビニル基),6.25(d, ビニル基)6.96(dd,ビニ
ル基),7.25-8.05 (ナフタレン環)(いずれもppm )
におけるケミカルシフトを示した。
TMS基準) 結果を図4に示す。図4において2.50(s,メチル基),
6.00(d, ビニル基),6.25(d, ビニル基)6.96(dd,ビニ
ル基),7.25-8.05 (ナフタレン環)(いずれもppm )
におけるケミカルシフトを示した。
【0038】(3)IR(KBr法) 赤外線吸収スペクトルを図5に示す。図5において、C
=Cに基づく吸収(878,988,1611cm-1)及びカルボニ
ル、芳香族に基づく吸収(1646cm-1)が認められた。
=Cに基づく吸収(878,988,1611cm-1)及びカルボニ
ル、芳香族に基づく吸収(1646cm-1)が認められた。
【0039】以上の結果より、得られた化合物は、1−
アクリロイル−3,7−DMNであることが同定され
た。尚、この化合物の融点は、47〜49℃であった。
アクリロイル−3,7−DMNであることが同定され
た。尚、この化合物の融点は、47〜49℃であった。
【0040】[実施例11](1−アクリロイル−2,
6−DMNの製造) また、実施例1で得られた1−(3−クロロプロピオニ
ル)−2,6−DMNについても、上記と同様の方法で
脱塩酸反応を行い、次いで精製した。得られた化合物に
ついて実施例10と同様にして分析し、下記の結果を得
た。
6−DMNの製造) また、実施例1で得られた1−(3−クロロプロピオニ
ル)−2,6−DMNについても、上記と同様の方法で
脱塩酸反応を行い、次いで精製した。得られた化合物に
ついて実施例10と同様にして分析し、下記の結果を得
た。
【0041】(1)元素分析 C:85.7%、H:6.7%、O:7.6%でアクリ
ロイルDMN(C15H14O)の元素含有量と一致した。
ロイルDMN(C15H14O)の元素含有量と一致した。
【0042】(2) 1H−NMR(溶媒;CDCl3 、
TMS基準)スペクトルのチャートを図6に示した。図
6において2.33(s,メチル基),2.48(s, メチル基)
(d, ビニル基),5.84(d, ビニル基)6.07(d, ビニル
基),6.71(dd,ビニル基),7.20-7.72 (ナフタレン
環)(いずれもppm )におけるシグナルを示した。
TMS基準)スペクトルのチャートを図6に示した。図
6において2.33(s,メチル基),2.48(s, メチル基)
(d, ビニル基),5.84(d, ビニル基)6.07(d, ビニル
基),6.71(dd,ビニル基),7.20-7.72 (ナフタレン
環)(いずれもppm )におけるシグナルを示した。
【0043】(3)IR(KBr法) 赤外線吸収スペクトルを図7に示す。図7において、C
=Cに基づく吸収(879,988,1610cm-1)及びカルボニ
ル、芳香族に基づく吸収(1646cm-1)が認められた。
=Cに基づく吸収(879,988,1610cm-1)及びカルボニ
ル、芳香族に基づく吸収(1646cm-1)が認められた。
【0044】以上の結果から、得られた化合物は、1−
アクリロイル−2,6−DMNであることが同定され
た。尚、この化合物の融点は、45〜46.5℃であっ
た。
アクリロイル−2,6−DMNであることが同定され
た。尚、この化合物の融点は、45〜46.5℃であっ
た。
【0045】[実施例12](アクリロイルDMNの単
独重合) 実施例10で得られた4−アクリロイル−2,6−DM
N1.05gに、ラジカル開始剤としてのアゾビスイソ
ブチロニトリル24.6mg及び反応溶媒としてフェニ
ルクロライド1.67mlを加え、温度60℃で、24
時間反応させた。淡褐色、粉末状のポリマー1.05g
が得られた。ポリマーの組成を分析した結果は以下の通
りである。
独重合) 実施例10で得られた4−アクリロイル−2,6−DM
N1.05gに、ラジカル開始剤としてのアゾビスイソ
ブチロニトリル24.6mg及び反応溶媒としてフェニ
ルクロライド1.67mlを加え、温度60℃で、24
時間反応させた。淡褐色、粉末状のポリマー1.05g
が得られた。ポリマーの組成を分析した結果は以下の通
りである。
【0046】(1)元素分析 C:85.7%、H:6.8%、O:7.6%であり、
アクリロイルDMN(C15H14O)n の元素含有量と一
致し、アクリロイルDMNの重合体であることが確認さ
れた。 (2)分子量 85000(ゲルろ過クロマトグラフィ
ー(展開溶媒:THF)法による)
アクリロイルDMN(C15H14O)n の元素含有量と一
致し、アクリロイルDMNの重合体であることが確認さ
れた。 (2)分子量 85000(ゲルろ過クロマトグラフィ
ー(展開溶媒:THF)法による)
【0047】(3)ポリマーの赤外線吸収スペクトル
(図8)にはモノマーと同じカルボニルの吸収が見られ
(1673cm-1) 、またポリマーの 1H−NMRスペクトル
(溶媒:CDCl3 、TMS基準)(図9)には、6.
5−8.5ppm において、芳香族プロトンのシグナルが
見られる。この重合体を有機溶媒に溶解し、紫外線吸収
スペクトルを測定したところ図10)に示す吸収スペク
トルが得られた。図10によればピークトップは230
nmに現れ、そのモル吸収度は1.343×108 と非
常に高い値を示した。以上の結果から、得られた化合物
は、1−アクリロイル−2,6−DMNの高分子量重合
体(分子量85000)であることが確認された。
(図8)にはモノマーと同じカルボニルの吸収が見られ
(1673cm-1) 、またポリマーの 1H−NMRスペクトル
(溶媒:CDCl3 、TMS基準)(図9)には、6.
5−8.5ppm において、芳香族プロトンのシグナルが
見られる。この重合体を有機溶媒に溶解し、紫外線吸収
スペクトルを測定したところ図10)に示す吸収スペク
トルが得られた。図10によればピークトップは230
nmに現れ、そのモル吸収度は1.343×108 と非
常に高い値を示した。以上の結果から、得られた化合物
は、1−アクリロイル−2,6−DMNの高分子量重合
体(分子量85000)であることが確認された。
【0048】またこのポリマーの諸物性を測定した結果
は下記のとおりである。 (1)ガラス転移温度 138℃ (2)溶媒に対する溶解性 クロロホルム、DMAc、
NMP、THF等に可溶。
は下記のとおりである。 (1)ガラス転移温度 138℃ (2)溶媒に対する溶解性 クロロホルム、DMAc、
NMP、THF等に可溶。
【0049】以上のとおりこの新規ポリマーは耐熱性で
あり、しかも汎用の有機溶媒に対して可溶性のポリマー
である。また、後記するアクリロイルDMN・メチルメ
タクリレート共重合体と同様、ポリマーの紫外線吸収特
性も優れ、電子線やX線やイオンビームでのパターン作
成が可能で、微細加工用レジスト剤として有用である。
あり、しかも汎用の有機溶媒に対して可溶性のポリマー
である。また、後記するアクリロイルDMN・メチルメ
タクリレート共重合体と同様、ポリマーの紫外線吸収特
性も優れ、電子線やX線やイオンビームでのパターン作
成が可能で、微細加工用レジスト剤として有用である。
【0050】[実施例13](アクリロイルDMNとメ
チルメタクリレートとの共重合) 実施例10で得られた4−(3−クロロプロピオニル)
−2,6−DMN8mmol、メチルメタクリレート
(以下MMAという)4mmol(市販物から重合禁止
剤をアルカリで除いた後、蒸留精製して使用した)、ア
ゾビスイソブチロニトリル3mol%及びクロロベンゼ
ン1mlを加え、温度60℃で、24時間反応させた。
反応終了後、反応混合物をクロロホルムで適当な濃度ま
で希釈し、大量のヘキサン中に再沈殿させ、ヘキサン不
溶部を回収したところ、ほぼ定量的な収率で白色粉末の
固体が得られた。得られた共重合体の組成、物性等を測
定した結果は以下の通りである。
チルメタクリレートとの共重合) 実施例10で得られた4−(3−クロロプロピオニル)
−2,6−DMN8mmol、メチルメタクリレート
(以下MMAという)4mmol(市販物から重合禁止
剤をアルカリで除いた後、蒸留精製して使用した)、ア
ゾビスイソブチロニトリル3mol%及びクロロベンゼ
ン1mlを加え、温度60℃で、24時間反応させた。
反応終了後、反応混合物をクロロホルムで適当な濃度ま
で希釈し、大量のヘキサン中に再沈殿させ、ヘキサン不
溶部を回収したところ、ほぼ定量的な収率で白色粉末の
固体が得られた。得られた共重合体の組成、物性等を測
定した結果は以下の通りである。
【0051】(1)分子量 共重合体をゲル浸透クロマトグラフィー(展開溶媒:ク
ロロホルム)による分子量測定を行なったところ、数平
均分子量はポリスチレン換算で2〜3万程度、分子量分
布は1.5〜3程度であった。
ロロホルム)による分子量測定を行なったところ、数平
均分子量はポリスチレン換算で2〜3万程度、分子量分
布は1.5〜3程度であった。
【0052】(2)IR、 1H−NMR及びUV分析 実施例12の単独重合体と同様に共重合体について、赤
外線吸収スペクトル(図11)、 1H−NMR(図1
2)及び紫外線吸収スペクトル分析(図13)を行った
結果、単独重合体と同様に、C=O基、2,6−DMN
構造等の存在が確認され、また0.8ppm 付近及び3.
5ppm 付近のピーク等によりMMA重合体の存在も確認
されたので、アクリロイルDMN・MMA共重合体であ
ることがわかった。また、元素分析の結果(C:80.
7%、H:6.9%、O:12.2%)、及びNMRの
結果から共重合体中のアクリロイルDMN含有量は19
%(重量)であった。
外線吸収スペクトル(図11)、 1H−NMR(図1
2)及び紫外線吸収スペクトル分析(図13)を行った
結果、単独重合体と同様に、C=O基、2,6−DMN
構造等の存在が確認され、また0.8ppm 付近及び3.
5ppm 付近のピーク等によりMMA重合体の存在も確認
されたので、アクリロイルDMN・MMA共重合体であ
ることがわかった。また、元素分析の結果(C:80.
7%、H:6.9%、O:12.2%)、及びNMRの
結果から共重合体中のアクリロイルDMN含有量は19
%(重量)であった。
【0053】(3)有機溶剤に対する溶解性 塩化メチル、クロロホルムなどの塩素系有機溶剤、トル
エン、キシレンなどの芳香族炭化水素溶剤によく溶解す
ることがわかった。一方、ノルマルパラフィン、低級ア
ルコール、アセトニトリル、ジメチルスルホキシドなど
には溶解せず、酢酸エチルでは膨潤した。 (4)TGAによる5%重量減少温度:283.1℃
エン、キシレンなどの芳香族炭化水素溶剤によく溶解す
ることがわかった。一方、ノルマルパラフィン、低級ア
ルコール、アセトニトリル、ジメチルスルホキシドなど
には溶解せず、酢酸エチルでは膨潤した。 (4)TGAによる5%重量減少温度:283.1℃
【0054】(5)ポリマーの紫外線吸収特性 この共重合体を有機溶媒に溶解し、紫外線吸収スペクト
ルを測定したところ、図13に示す吸収スペクトルが得
られた。図13によれば、ピークトップは230nmに
現れ、そのモル吸収度は非常に高い。このことは、この
モノマーユニットの高い光吸収能を示すものであり、こ
の共重合物が電子線やX線やイオンビームでのパターン
作成が可能で、高い解像度と感度を有する微細加工用レ
ジスト剤として使用できることは容易に予測できる。
ルを測定したところ、図13に示す吸収スペクトルが得
られた。図13によれば、ピークトップは230nmに
現れ、そのモル吸収度は非常に高い。このことは、この
モノマーユニットの高い光吸収能を示すものであり、こ
の共重合物が電子線やX線やイオンビームでのパターン
作成が可能で、高い解像度と感度を有する微細加工用レ
ジスト剤として使用できることは容易に予測できる。
【0055】
【発明の効果】本発明のアクリロイルジメチルナフタレ
ン化合物は、単独重合またはメチルメタクリレート等と
共重合することにより、高い耐熱性と易溶性を有するポ
リマーが得られ、得られたポリマーは電子線やX線やイ
オンビームでのパターン作成が可能で、高い解像度と感
度を有し、高密度化・高集積化の要求に応じることがで
きる微細加工用レジスト剤とすることができる等の効果
を奏する。
ン化合物は、単独重合またはメチルメタクリレート等と
共重合することにより、高い耐熱性と易溶性を有するポ
リマーが得られ、得られたポリマーは電子線やX線やイ
オンビームでのパターン作成が可能で、高い解像度と感
度を有し、高密度化・高集積化の要求に応じることがで
きる微細加工用レジスト剤とすることができる等の効果
を奏する。
【図1】4−(3−クロロプロピオニル)−2,6−D
MNの 1H−NMRのチャート。
MNの 1H−NMRのチャート。
【図2】4−(3−クロロプロピオニル)−2,6−D
MNの赤外線吸収スペクトルチャート。
MNの赤外線吸収スペクトルチャート。
【図3】1−(3−クロロプロピオニル)−2,6−D
MNの 1H−NMRのチャート。
MNの 1H−NMRのチャート。
【図4】4−アクリロイル−2,6−DMNの 1H−N
MRのチャート。
MRのチャート。
【図5】4−アクリロイル−2,6−DMNの赤外線吸
収スペクトルチャート。
収スペクトルチャート。
【図6】1−アクリロイル−2,6−DMNの 1H−N
MRのチャート。
MRのチャート。
【図7】1−アクリロイル−2,6−DMNの赤外線吸
収スペクトルのチャート。
収スペクトルのチャート。
【図8】1−アクリロイル−2,6−DMN重合体の赤
外線吸収スペクトルチャート。
外線吸収スペクトルチャート。
【図9】1−アクリロイル−2,6−DMN重合体の 1
H−NMRのチャート。
H−NMRのチャート。
【図10】1−アクリロイル−2,6−DMN重合体の
紫外線吸収スペクトル。
紫外線吸収スペクトル。
【図11】1−アクリロイル−2,6−DMN・MMA
共重合体の赤外線吸収スペクトルチャート。
共重合体の赤外線吸収スペクトルチャート。
【図12】1−アクリロイル−2,6−DMN・MMA
共重合体の 1H−NMRのチャート。
共重合体の 1H−NMRのチャート。
【図13】1−アクリロイル−2,6−DMN・MMA
共重合体の紫外線吸収スペクトル。
共重合体の紫外線吸収スペクトル。
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C07C 49/796 9049−4H C07C 49/796 // C07B 61/00 300 C07B 61/00 300
Claims (6)
- 【請求項1】 下記一般式(I) 【化1】 で表されるアクリロイルジメチルナフタレン化合物。
- 【請求項2】 下記一般式(II)または(III ) 【化2】 (上記式中、Xはハロゲン原子を示す)で表されるハロ
プロピオニルジメチルナフタレン化合物。 - 【請求項3】 請求項2記載のハロプロピオニルジメチ
ルナフタレンをアルカリの存在下に、相間移動触媒を用
い、脱ハロゲン化水素を行なうことを特徴とする請求項
1記載のアクリロイルジメチルナフタレン化合物の製造
方法。 - 【請求項4】 ジメチルナフタレンとハロプロピオニル
ハライドとを、フリーデル−クラフツ触媒を用いて反応
させることを特徴とする請求項2記載のハロプロピオニ
ルジメチルナフタレンの製造方法。 - 【請求項5】 請求項1記載のアクリロイルジメチルナ
フタレンを重合して得られ、下記一般式(IV) 【化3】 で表される繰り返し単位を有するポリアクリロイルジメ
チルナフタレン。 - 【請求項6】 請求項1記載のアクリロイルジメチルナ
フタレンとメタクリル酸メチルとを重合して得られ、上
記一般式(IV)と下記一般式(V) 【化4】 で表される繰り返し単位を有する、ポリアクリロイルジ
メチルナフタレン・メタクリル酸メチル共重合体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6563796A JPH09255726A (ja) | 1996-03-22 | 1996-03-22 | アクリロイルジメチルナフタレン化合物及びその中間体並びに製造方法及びそれを含有する重合体。 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6563796A JPH09255726A (ja) | 1996-03-22 | 1996-03-22 | アクリロイルジメチルナフタレン化合物及びその中間体並びに製造方法及びそれを含有する重合体。 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH09255726A true JPH09255726A (ja) | 1997-09-30 |
Family
ID=13292748
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6563796A Pending JPH09255726A (ja) | 1996-03-22 | 1996-03-22 | アクリロイルジメチルナフタレン化合物及びその中間体並びに製造方法及びそれを含有する重合体。 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH09255726A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010195768A (ja) * | 2009-01-27 | 2010-09-09 | Japan Science & Technology Agency | 蛋白質架橋阻害剤およびその用途 |
WO2011055561A1 (ja) * | 2009-11-06 | 2011-05-12 | 独立行政法人科学技術振興機構 | 蛋白質架橋阻害剤およびその用途 |
-
1996
- 1996-03-22 JP JP6563796A patent/JPH09255726A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010195768A (ja) * | 2009-01-27 | 2010-09-09 | Japan Science & Technology Agency | 蛋白質架橋阻害剤およびその用途 |
US8937091B2 (en) | 2009-01-27 | 2015-01-20 | Japan Science And Technology Agency | Inhibitor of protein crosslinking and use of the same |
WO2011055561A1 (ja) * | 2009-11-06 | 2011-05-12 | 独立行政法人科学技術振興機構 | 蛋白質架橋阻害剤およびその用途 |
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