JPH0925129A - 光学素子成形型の浄化方法及び装置 - Google Patents
光学素子成形型の浄化方法及び装置Info
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- JPH0925129A JPH0925129A JP17222395A JP17222395A JPH0925129A JP H0925129 A JPH0925129 A JP H0925129A JP 17222395 A JP17222395 A JP 17222395A JP 17222395 A JP17222395 A JP 17222395A JP H0925129 A JPH0925129 A JP H0925129A
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- C03B11/00—Pressing molten glass or performed glass reheated to equivalent low viscosity without blowing
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- C03B11/06—Construction of plunger or mould
- C03B11/08—Construction of plunger or mould for making solid articles, e.g. lenses
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- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2215/00—Press-moulding glass
- C03B2215/66—Means for providing special atmospheres, e.g. reduced pressure, inert gas, reducing gas, clean room
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 金型成形面を浄化した後に、微細異物が金型
成形面に再付着するのを防ぐ。 【解決手段】 光学素子成形素材６を上型１と下型２
の間に搬送供給し、押圧成形した後、成形した光学素子
６ａを上下型１，２の間から搬送排出する。そして、上
下型成形面にノズル３から非酸化性ガスをを吹き付けて
上下型成形面１ａ，２ａを浄化すると同時または浄化後
に、シリンダ５によりカバー４を上下型１，２の間に搬
送し、次の光学素子成形素材６ａが上下型１，２間に搬
送供給されるまでの間、カバー４により下型成形面２ａ
を覆う。
成形面に再付着するのを防ぐ。 【解決手段】 光学素子成形素材６を上型１と下型２
の間に搬送供給し、押圧成形した後、成形した光学素子
６ａを上下型１，２の間から搬送排出する。そして、上
下型成形面にノズル３から非酸化性ガスをを吹き付けて
上下型成形面１ａ，２ａを浄化すると同時または浄化後
に、シリンダ５によりカバー４を上下型１，２の間に搬
送し、次の光学素子成形素材６ａが上下型１，２間に搬
送供給されるまでの間、カバー４により下型成形面２ａ
を覆う。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光学素子成形装置
における光学素子成形型の浄化方法及び装置に関するも
のである。
における光学素子成形型の浄化方法及び装置に関するも
のである。
【０００２】
【従来の技術】従来、光学素子成形型の浄化方法や装置
としては、図７（Ａ）に示すように成形室内２９ａに非
酸化性ガスが供給された状態において、図７（Ｂ）に示
すように所定の温度まで加熱された成形素材３０、この
例においてはガラスを、成形室２９に設けられた図示し
ない窓から下型２７の成形面２７ａ上に載置する。しか
る後、上型２６を図示しない移動機構でもって下型２７
側に向けて降下させると、図７（Ｃ）に示すように上型
２６の成形面２６ａと下型２７の成形面２７ａにより所
望形状のレンズ３１が成形加工される。そして同レンズ
３１が硬化するまで、この状態を保った後、上型２６を
上方へ引き上げ、離型を行い成形室２９に設けられた図
示しない取り出し窓からレンズ３１を取り出す。このと
きには、図７（Ｄ）に示すように異物３２が成形面２６
ａ，２７ａや成形室２９の底面に付着した状態になる。
そして、ノズル２８ａ，２８ｂのそれぞれから非酸化性
ガスを数秒間吐出させると、成形面２６ａ，２７ａに付
着した異物３２がノズル２８ａ，２８ｂからの吐出ガス
により吹き飛ばされる。このとき、成形室内２９ａには
供給口３３から流入し、流通孔３４から外部に放出する
ガス流３４ａ，３４ｂがあるので、ノズル２８ａ，２８
ｂにより吹き飛ばされた異物３２、並びにノズル２８
ａ，２８ｂによって撹乱され、成形室２９の底部に付着
した異物が流通孔３４より外部に放出される。という方
法が、当社技術、特公平４−８０８５７号公報において
提案されている。
としては、図７（Ａ）に示すように成形室内２９ａに非
酸化性ガスが供給された状態において、図７（Ｂ）に示
すように所定の温度まで加熱された成形素材３０、この
例においてはガラスを、成形室２９に設けられた図示し
ない窓から下型２７の成形面２７ａ上に載置する。しか
る後、上型２６を図示しない移動機構でもって下型２７
側に向けて降下させると、図７（Ｃ）に示すように上型
２６の成形面２６ａと下型２７の成形面２７ａにより所
望形状のレンズ３１が成形加工される。そして同レンズ
３１が硬化するまで、この状態を保った後、上型２６を
上方へ引き上げ、離型を行い成形室２９に設けられた図
示しない取り出し窓からレンズ３１を取り出す。このと
きには、図７（Ｄ）に示すように異物３２が成形面２６
ａ，２７ａや成形室２９の底面に付着した状態になる。
そして、ノズル２８ａ，２８ｂのそれぞれから非酸化性
ガスを数秒間吐出させると、成形面２６ａ，２７ａに付
着した異物３２がノズル２８ａ，２８ｂからの吐出ガス
により吹き飛ばされる。このとき、成形室内２９ａには
供給口３３から流入し、流通孔３４から外部に放出する
ガス流３４ａ，３４ｂがあるので、ノズル２８ａ，２８
ｂにより吹き飛ばされた異物３２、並びにノズル２８
ａ，２８ｂによって撹乱され、成形室２９の底部に付着
した異物が流通孔３４より外部に放出される。という方
法が、当社技術、特公平４−８０８５７号公報において
提案されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、特公平
４−８０８５７号公報に示されるような従来技術では、
成形面２６ａ，２７ａを浄化した後、特に下型の成形面
２７ａにおいて微細な異物３２が再付着するという欠点
があり光学素子成形品に表面・外観不良等の品質に大き
な問題があった。
４−８０８５７号公報に示されるような従来技術では、
成形面２６ａ，２７ａを浄化した後、特に下型の成形面
２７ａにおいて微細な異物３２が再付着するという欠点
があり光学素子成形品に表面・外観不良等の品質に大き
な問題があった。
【０００４】本発明は、上記従来技術の問題点に鑑みて
なされたものであって、請求項１の発明の目的は、成形
後に次の光学素子成形素材が搬入供給されるまでの間
に、金型成形面を浄化し、金型成形面または金型を覆う
ことを可能とする光学素子成形方法を提供することによ
り、成形型成形面への微細異物の再付着を防止すること
である。また、請求項２，３の発明の目的は、成形後に
次の光学素子成形素材が搬入供給されるまでの間に、金
型成形面を浄化し、金型成形面または金型を覆うことを
可能とし、金型成形面への微細異物の再付着を防止する
ことが可能な光学素子成形装置を提供することである。
なされたものであって、請求項１の発明の目的は、成形
後に次の光学素子成形素材が搬入供給されるまでの間
に、金型成形面を浄化し、金型成形面または金型を覆う
ことを可能とする光学素子成形方法を提供することによ
り、成形型成形面への微細異物の再付着を防止すること
である。また、請求項２，３の発明の目的は、成形後に
次の光学素子成形素材が搬入供給されるまでの間に、金
型成形面を浄化し、金型成形面または金型を覆うことを
可能とし、金型成形面への微細異物の再付着を防止する
ことが可能な光学素子成形装置を提供することである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明は以下のように構成した。請求項１の発明
は、光学素子素材を押圧成形する工程にあって、光学素
子成形素材を上下一対の金型間に搬送供給し、押圧成形
した後、成形した光学素子を金型間から搬送排出し、次
の光学素子成形素材が金型間に搬送供給されるまでの間
に、金型成形面に気体を吹き付けて金型成形面を浄化す
ると同時または浄化後に、保護手段により金型成形面ま
たは金型を覆い保護するように光学素子成形型の浄化方
法を構成した。
に、本発明は以下のように構成した。請求項１の発明
は、光学素子素材を押圧成形する工程にあって、光学素
子成形素材を上下一対の金型間に搬送供給し、押圧成形
した後、成形した光学素子を金型間から搬送排出し、次
の光学素子成形素材が金型間に搬送供給されるまでの間
に、金型成形面に気体を吹き付けて金型成形面を浄化す
ると同時または浄化後に、保護手段により金型成形面ま
たは金型を覆い保護するように光学素子成形型の浄化方
法を構成した。
【０００６】請求項２の発明は、光学素子成形素材を押
圧成形する上下一対の金型を成形動作可能に包囲した成
形室内に設けた光学素子成形装置にあって、気体を吹き
付けて金型成形面を浄化する手段と、非成形時に金型成
形面または金型を覆い保護する手段を具備して光学素子
成形型の浄化装置を構成した。
圧成形する上下一対の金型を成形動作可能に包囲した成
形室内に設けた光学素子成形装置にあって、気体を吹き
付けて金型成形面を浄化する手段と、非成形時に金型成
形面または金型を覆い保護する手段を具備して光学素子
成形型の浄化装置を構成した。
【０００７】請求項３の発明は、請求項２の光学素子成
形型の浄化装置構成において、非成形時に金型成形面を
保護する手段を、金型成形面または金型を覆い保護する
カバーと、そのカバーを金型間に対して搬送、搬出する
カバー駆動手段とから構成した。
形型の浄化装置構成において、非成形時に金型成形面を
保護する手段を、金型成形面または金型を覆い保護する
カバーと、そのカバーを金型間に対して搬送、搬出する
カバー駆動手段とから構成した。
【０００８】以下に図１を用いて、請求項１，２，３に
関する作用を説明する。図１（Ｂ）に示すように、非酸
化性ガス供給口３６より成形室７内に非酸化性ガスが供
給された状態において、光学素子成形素材６、例えば、
ガラスを成形室７に設けられた図示しない供給窓から下
型２の成形面２ａ上に載置する。その後、例えば、上型
１を図示しない駆動装置により下型２に向けて降下させ
ると、図１（Ｃ）に示すように、所定温度まで加熱され
た光学素子成形素材６が上型成形面１ａと下型成形面２
ａにより押圧成形され、所望の光学素子６ａ、この場合
は、レンズが成形される。そして同レンズが硬化するま
で、この状態を保った後、上型１を上方へ引き上げ、離
型を行い成形室７に設けられた図示しない取り出し窓か
らレンズを取り出す。このとき、図１（Ｄ）に示すよう
に、微細異物８が上下型成形面１ａ，２ａに付着した状
態になる。そして、上下型成形面１ａ，２ａの浄化手段
３、例えばノズルより非酸化性ガスを数秒間吐出させ、
上下型成形面１ａ，２ａに付着した微細異物８を除去す
る。その後、図１（Ａ）に示すように、下型成形面２ａ
の上部を覆うような保護手段４、例えばカバー等を架台
３５に載置した駆動手段５を用いて配置する。そして、
次の光学素子成形素材６が、搬送供給される前に、駆動
手段５により保護手段４が成形を妨げない位置に退避さ
れる。
関する作用を説明する。図１（Ｂ）に示すように、非酸
化性ガス供給口３６より成形室７内に非酸化性ガスが供
給された状態において、光学素子成形素材６、例えば、
ガラスを成形室７に設けられた図示しない供給窓から下
型２の成形面２ａ上に載置する。その後、例えば、上型
１を図示しない駆動装置により下型２に向けて降下させ
ると、図１（Ｃ）に示すように、所定温度まで加熱され
た光学素子成形素材６が上型成形面１ａと下型成形面２
ａにより押圧成形され、所望の光学素子６ａ、この場合
は、レンズが成形される。そして同レンズが硬化するま
で、この状態を保った後、上型１を上方へ引き上げ、離
型を行い成形室７に設けられた図示しない取り出し窓か
らレンズを取り出す。このとき、図１（Ｄ）に示すよう
に、微細異物８が上下型成形面１ａ，２ａに付着した状
態になる。そして、上下型成形面１ａ，２ａの浄化手段
３、例えばノズルより非酸化性ガスを数秒間吐出させ、
上下型成形面１ａ，２ａに付着した微細異物８を除去す
る。その後、図１（Ａ）に示すように、下型成形面２ａ
の上部を覆うような保護手段４、例えばカバー等を架台
３５に載置した駆動手段５を用いて配置する。そして、
次の光学素子成形素材６が、搬送供給される前に、駆動
手段５により保護手段４が成形を妨げない位置に退避さ
れる。
【０００９】
（発明の第１の実施の形態）図２を用いて、本発明の請
求項１，２，３に関する発明の第１の実施の形態を説明
する。なお、以下の説明にあって、図１と同じ構成要素
には同様の番号を付した。発明の第１の実施の形態の構
成は、成形用型である上型１、下型２が上下方向に対向
配置されており、この型（当例では上型１）に図示しな
い移動機構が取り付けられている。そして、上型１及び
下型２の周りは、非酸化性ガス供給口３６をもつ成形室
７で囲われており、成形室７の上壁を貫通した上型１の
外周面と成形室７の上壁の間にわずかな隙間を有し、成
形室７外に設けた上記移動機構により上型１が下型２に
対して接近・離反し得るように移動可能となっている。
この成形室内７ａは、上記非酸化性ガス供給口３６から
供給されるガスにより、例えば、非酸化性雰囲気に保た
れている。また、成形室７には、上型成形面１ａ及び下
型成形面２ａの洗浄用非酸化性ガスの吐出ノズル３がそ
の吐出口をそれぞれ上下成形面１ａ，２ａに向けて設け
られており、図２（Ｄ）に示す微細異物８を上下成形面
１ａ，２ａから除去可能となっている。さらに、成形室
７には、上下型１，２の間に光学素子成形素材６を供給
し、上下型１，２により押圧成形した光学素子６ａを排
出するための供給・排出用の窓（図示省略）が１箇所ま
たは復数箇所設けられている。
求項１，２，３に関する発明の第１の実施の形態を説明
する。なお、以下の説明にあって、図１と同じ構成要素
には同様の番号を付した。発明の第１の実施の形態の構
成は、成形用型である上型１、下型２が上下方向に対向
配置されており、この型（当例では上型１）に図示しな
い移動機構が取り付けられている。そして、上型１及び
下型２の周りは、非酸化性ガス供給口３６をもつ成形室
７で囲われており、成形室７の上壁を貫通した上型１の
外周面と成形室７の上壁の間にわずかな隙間を有し、成
形室７外に設けた上記移動機構により上型１が下型２に
対して接近・離反し得るように移動可能となっている。
この成形室内７ａは、上記非酸化性ガス供給口３６から
供給されるガスにより、例えば、非酸化性雰囲気に保た
れている。また、成形室７には、上型成形面１ａ及び下
型成形面２ａの洗浄用非酸化性ガスの吐出ノズル３がそ
の吐出口をそれぞれ上下成形面１ａ，２ａに向けて設け
られており、図２（Ｄ）に示す微細異物８を上下成形面
１ａ，２ａから除去可能となっている。さらに、成形室
７には、上下型１，２の間に光学素子成形素材６を供給
し、上下型１，２により押圧成形した光学素子６ａを排
出するための供給・排出用の窓（図示省略）が１箇所ま
たは復数箇所設けられている。
【００１０】また、成形室７の外側には、カバー駆動手
段として、例えば、シリンダ５が架台３５に載置されて
設けられており、シリンダ５の駆動ロッド５ａはわずか
な隙間を有して成形室７の側壁を貫通し成形室内７ａに
導入されている。駆動ロッド５ａの先端には、上下成形
面１ａ，２ａまたは金型１，２と同等かそれより大きな
カバー４が取り付けられており、このカバー４はシリン
ダ５の駆動により上下型１，２間に進入し、下型成形面
２ａを覆い得るようになっている。
段として、例えば、シリンダ５が架台３５に載置されて
設けられており、シリンダ５の駆動ロッド５ａはわずか
な隙間を有して成形室７の側壁を貫通し成形室内７ａに
導入されている。駆動ロッド５ａの先端には、上下成形
面１ａ，２ａまたは金型１，２と同等かそれより大きな
カバー４が取り付けられており、このカバー４はシリン
ダ５の駆動により上下型１，２間に進入し、下型成形面
２ａを覆い得るようになっている。
【００１１】次に、本発明の実施の形態の作用を、本発
明の実施の形態の浄化装置を用いて成形型を浄化する方
法とともに説明する。まず、非酸化性ガス供給口３６よ
り非酸化性ガスを供給することにより、非酸化性雰囲気
に保たれた成形室内７ａにおいて、成形室７に設けられ
た図示されない供給窓より、図示されない光学素子成形
素材６の供給装置によって、成形用金型である下型２の
下型成形面２ａ上に光学素子成形素材６を載置する（図
２（Ｂ）参照）。次に、図示されない移動装置により上
型１を降下させることにより、成形室供給前または成形
室供給後に、所定温度まで加熱軟化させられた光学素子
成形素材６を上下成形面１ａ，２ａ間で押圧成形するこ
とで、所望の形状の光学素子６ａ、例えばレンズが成形
される（図２（Ｃ）参照）。その後、同光学素子６ａが
硬化するまで、この状態を保った後、上型１を上方へ上
記移動装置により引き上げ、離型を行い、成形室７に設
けられた図示しない取り出し窓から光学素子６ａを取り
出す。この際、図２（Ｄ）に示すように、微細異物８が
上下成形面１ａ，２ａに付着した状態になる。そして、
上下成形面１ａ，２ａに吐出ノズル３より非酸化性ガス
を数秒間吹き付けることにより微細異物８を吹き飛ば
し、微細異物８を上下成形面１ａ，２ａから除去する。
明の実施の形態の浄化装置を用いて成形型を浄化する方
法とともに説明する。まず、非酸化性ガス供給口３６よ
り非酸化性ガスを供給することにより、非酸化性雰囲気
に保たれた成形室内７ａにおいて、成形室７に設けられ
た図示されない供給窓より、図示されない光学素子成形
素材６の供給装置によって、成形用金型である下型２の
下型成形面２ａ上に光学素子成形素材６を載置する（図
２（Ｂ）参照）。次に、図示されない移動装置により上
型１を降下させることにより、成形室供給前または成形
室供給後に、所定温度まで加熱軟化させられた光学素子
成形素材６を上下成形面１ａ，２ａ間で押圧成形するこ
とで、所望の形状の光学素子６ａ、例えばレンズが成形
される（図２（Ｃ）参照）。その後、同光学素子６ａが
硬化するまで、この状態を保った後、上型１を上方へ上
記移動装置により引き上げ、離型を行い、成形室７に設
けられた図示しない取り出し窓から光学素子６ａを取り
出す。この際、図２（Ｄ）に示すように、微細異物８が
上下成形面１ａ，２ａに付着した状態になる。そして、
上下成形面１ａ，２ａに吐出ノズル３より非酸化性ガス
を数秒間吹き付けることにより微細異物８を吹き飛ば
し、微細異物８を上下成形面１ａ，２ａから除去する。
【００１２】微細異物８を除去した後、シリンダ５を駆
動し、図２（Ａ）に示すように、次の光学素子成形素材
６が搬送供給されるまでの間、カバー４がシリンダ５に
より下型成形面２ａ上部に配置され、下型成形面２ａを
覆い、成形室内７ａに浮遊残留し、経時的に落下する微
細異物８が下型成形面２ａ上に再付着しないようにす
る。そして、次の光学素子６ａを押圧成形する際に、カ
バー４は、光学素子成形素材６の搬送供給を妨げない時
期に、成形動作の妨げにならない場所にシリンダ５によ
り退避される。
動し、図２（Ａ）に示すように、次の光学素子成形素材
６が搬送供給されるまでの間、カバー４がシリンダ５に
より下型成形面２ａ上部に配置され、下型成形面２ａを
覆い、成形室内７ａに浮遊残留し、経時的に落下する微
細異物８が下型成形面２ａ上に再付着しないようにす
る。そして、次の光学素子６ａを押圧成形する際に、カ
バー４は、光学素子成形素材６の搬送供給を妨げない時
期に、成形動作の妨げにならない場所にシリンダ５によ
り退避される。
【００１３】本発明の実施の形態によれば、金型成形面
（上下型成形面１ａ，２ａ）に付着した微細異物８を除
去した後、カバー４により下型成形面２ａを覆うとい
う、安価かつ簡単な方法及び装置により、金型成形面の
浄化を確実に行えるとともに、浄化後に下型成形面２ａ
に特に再付着するおそれのある微細異物８等から下型成
形面２ａを保護することができ、光学素子成形品の良品
率が向上する。
（上下型成形面１ａ，２ａ）に付着した微細異物８を除
去した後、カバー４により下型成形面２ａを覆うとい
う、安価かつ簡単な方法及び装置により、金型成形面の
浄化を確実に行えるとともに、浄化後に下型成形面２ａ
に特に再付着するおそれのある微細異物８等から下型成
形面２ａを保護することができ、光学素子成形品の良品
率が向上する。
【００１４】（発明の第２の実施の形態）図３を用い
て、本発明の請求項１，２，３に関する発明の第２の実
施の形態を説明する。なお、以下の説明にあって、図１
と同じ構成要素には同様の番号を付した。発明の第２の
実施の形態の構成は、成形用型である上型１、下型２が
上下方向に対向配置されており、この型（当例では上型
１）に図示しない移動機構が取り付けられている。そし
て、上型１及び下型２の周りは、非酸化性ガス供給口３
６をもつ成形室７で囲われており、成形室７の上壁を貫
通した上型１の外周面と成形室７の上壁の間にわずかな
隙間を有し、成形室７外に設けた上記移動機構により上
型１が下型２に対して接近・離反し得るように移動可能
となっている。この成形室内７ａは、上記非酸化性ガス
供給口３６から供給されるガスにより、例えば、非酸化
性雰囲気に保たれている。また、成形室７には、上型成
形面１ａ及び下型成形面２ａの洗浄用非酸化性ガスの吐
出ノズル３がその吐出口をそれぞれ上下成形面１ａ，２
ａに向けて設けられており、図３（Ｄ）に示す微細異物
８を上下成形面１ａ，２ａから除去可能となっている。
さらに、成形室７には、上下型１，２の間に光学素子成
形素材６を供給し、上下型１，２により押圧成形した光
学素子６ａを排出するための供給・排出用の窓（図示省
略）が１箇所または復数箇所設けられている。
て、本発明の請求項１，２，３に関する発明の第２の実
施の形態を説明する。なお、以下の説明にあって、図１
と同じ構成要素には同様の番号を付した。発明の第２の
実施の形態の構成は、成形用型である上型１、下型２が
上下方向に対向配置されており、この型（当例では上型
１）に図示しない移動機構が取り付けられている。そし
て、上型１及び下型２の周りは、非酸化性ガス供給口３
６をもつ成形室７で囲われており、成形室７の上壁を貫
通した上型１の外周面と成形室７の上壁の間にわずかな
隙間を有し、成形室７外に設けた上記移動機構により上
型１が下型２に対して接近・離反し得るように移動可能
となっている。この成形室内７ａは、上記非酸化性ガス
供給口３６から供給されるガスにより、例えば、非酸化
性雰囲気に保たれている。また、成形室７には、上型成
形面１ａ及び下型成形面２ａの洗浄用非酸化性ガスの吐
出ノズル３がその吐出口をそれぞれ上下成形面１ａ，２
ａに向けて設けられており、図３（Ｄ）に示す微細異物
８を上下成形面１ａ，２ａから除去可能となっている。
さらに、成形室７には、上下型１，２の間に光学素子成
形素材６を供給し、上下型１，２により押圧成形した光
学素子６ａを排出するための供給・排出用の窓（図示省
略）が１箇所または復数箇所設けられている。
【００１５】また、成形室７の外側には、カバー駆動手
段として、例えば、シリンダ５及びシリンダ１０が配置
されている。シリンダ１０は架台３５に載置され、その
駆動ロッド１０ａが上下方向に移動配置されており、こ
の駆動ロッド１０ａの先端にシリンダ５が設けられてい
る。シリンダ５の駆動ロッド５ａは発明の第１の実施の
形態と同様に成形室７の側壁を貫通して成形室内７ａに
導入されており、駆動ロッド５ａの先端には、上下成形
面１ａ，２ａまたは金型１，２と同等かそれより大きな
カバー９が取り付けられている。カバー９は下面全外周
に袴部９ａを設けた断面コ字状をした円盤状に形成され
ており、シリンダ５により上下型１，２の間に配置され
た後、シリンダ１０で下動させることにより、袴部９ａ
が下型２の外周面に回り込むようになっている。なお、
成形室７の側壁には、シリンダ５の駆動ロッド５ａの進
退動作及び上下動作を妨げないように形成したロッド貫
通穴７ｂが設けられており、このロッド貫通穴７ｂを通
して駆動ロッド５ａが成形室内７ａに導入されている。
段として、例えば、シリンダ５及びシリンダ１０が配置
されている。シリンダ１０は架台３５に載置され、その
駆動ロッド１０ａが上下方向に移動配置されており、こ
の駆動ロッド１０ａの先端にシリンダ５が設けられてい
る。シリンダ５の駆動ロッド５ａは発明の第１の実施の
形態と同様に成形室７の側壁を貫通して成形室内７ａに
導入されており、駆動ロッド５ａの先端には、上下成形
面１ａ，２ａまたは金型１，２と同等かそれより大きな
カバー９が取り付けられている。カバー９は下面全外周
に袴部９ａを設けた断面コ字状をした円盤状に形成され
ており、シリンダ５により上下型１，２の間に配置され
た後、シリンダ１０で下動させることにより、袴部９ａ
が下型２の外周面に回り込むようになっている。なお、
成形室７の側壁には、シリンダ５の駆動ロッド５ａの進
退動作及び上下動作を妨げないように形成したロッド貫
通穴７ｂが設けられており、このロッド貫通穴７ｂを通
して駆動ロッド５ａが成形室内７ａに導入されている。
【００１６】次に、本発明の実施の形態の作用を、本発
明の実施の形態の浄化装置を用いて成形型を浄化する方
法とともに説明する。まず、非酸化性ガス供給口３６よ
り非酸化性ガスを供給することにより、非酸化性雰囲気
に保たれた成形室内７ａにおいて、成形室７に設けられ
た図示されない供給窓より、図示されない光学素子成形
素材６の供給装置によって、成形用金型である下型２の
下型成形面２ａ上に光学素子成形素材６を載置する（図
３（Ｂ）参照）。次に、図示されない移動装置により上
型１を降下させることにより、成形室供給前または成形
室供給後に、所定温度まで加熱軟化させられた光学素子
成形素材６を上下成形面１ａ，２ａ間で押圧成形するこ
とで、所望の形状の光学素子６ａ、例えばレンズが成形
される（図３（Ｃ）参照）。その後、同光学素子６ａが
硬化するまで、この状態を保った後、上型１を上方へ上
記移動装置により引き上げ、離型を行い、成形室７に設
けられた図示しない取り出し窓から光学素子６ａを取り
出す。この際、図３（Ｄ）に示すように、微細異物８が
上下成形面１ａ，２ａに付着した状態になる。そして、
上下成形面１ａ，２ａに吐出ノズル３より非酸化性ガス
を数秒間吹き付けることにより微細異物８を吹き飛ば
し、微細異物８を上下成形面１ａ，２ａから除去する。
明の実施の形態の浄化装置を用いて成形型を浄化する方
法とともに説明する。まず、非酸化性ガス供給口３６よ
り非酸化性ガスを供給することにより、非酸化性雰囲気
に保たれた成形室内７ａにおいて、成形室７に設けられ
た図示されない供給窓より、図示されない光学素子成形
素材６の供給装置によって、成形用金型である下型２の
下型成形面２ａ上に光学素子成形素材６を載置する（図
３（Ｂ）参照）。次に、図示されない移動装置により上
型１を降下させることにより、成形室供給前または成形
室供給後に、所定温度まで加熱軟化させられた光学素子
成形素材６を上下成形面１ａ，２ａ間で押圧成形するこ
とで、所望の形状の光学素子６ａ、例えばレンズが成形
される（図３（Ｃ）参照）。その後、同光学素子６ａが
硬化するまで、この状態を保った後、上型１を上方へ上
記移動装置により引き上げ、離型を行い、成形室７に設
けられた図示しない取り出し窓から光学素子６ａを取り
出す。この際、図３（Ｄ）に示すように、微細異物８が
上下成形面１ａ，２ａに付着した状態になる。そして、
上下成形面１ａ，２ａに吐出ノズル３より非酸化性ガス
を数秒間吹き付けることにより微細異物８を吹き飛ば
し、微細異物８を上下成形面１ａ，２ａから除去する。
【００１７】微細異物８を除去した後、シリンダ５を駆
動してカバー９を下型成形面２ａの上方に配置させ、そ
の後シリンダ１０を駆動してカバー９を下降させて、図
３（Ａ）に示すように、次の光学素子成形素材６が上下
型１，２間に搬送供給されるまでの間、下型２及び下型
成形面２ａの側面に回り込むようにして下型成形面２ａ
を覆い、成形室内７ａに浮遊残留し、経時的に落下する
微細異物８が下型成形面２ａ上に再付着しないように保
護する。そして、次の光学素子６ａを押圧成形する際
に、カバー９は、光学素子成形素材６の搬送供給を妨げ
ない時期に、成形動作の妨げにならない場所にシリンダ
１０及びシリンダ５により退避される。
動してカバー９を下型成形面２ａの上方に配置させ、そ
の後シリンダ１０を駆動してカバー９を下降させて、図
３（Ａ）に示すように、次の光学素子成形素材６が上下
型１，２間に搬送供給されるまでの間、下型２及び下型
成形面２ａの側面に回り込むようにして下型成形面２ａ
を覆い、成形室内７ａに浮遊残留し、経時的に落下する
微細異物８が下型成形面２ａ上に再付着しないように保
護する。そして、次の光学素子６ａを押圧成形する際
に、カバー９は、光学素子成形素材６の搬送供給を妨げ
ない時期に、成形動作の妨げにならない場所にシリンダ
１０及びシリンダ５により退避される。
【００１８】本発明の実施の形態によれば、発明の第１
の実施の形態と同様に、金型成形面（上下型成形面１
ａ，２ａ）に付着した微細異物８を除去した後、カバー
９により下型成形面２ａを覆うという、安価かつ簡単な
方法及び装置により、金型成形面の浄化を確実に行える
とともに、浄化後に下型成形面２ａに特に再付着するお
それのある微細異物８等から下型成形面２ａを保護する
ことができ、光学素子成形品の良品率が向上する。ま
た、カバー９の下面全外周に袴部９ａを設けることによ
り、袴部９ａが下型２の側面に回り込むため、下型成形
面２ａの保護の効果が、本発明の第１の実施の形態より
も向上する。
の実施の形態と同様に、金型成形面（上下型成形面１
ａ，２ａ）に付着した微細異物８を除去した後、カバー
９により下型成形面２ａを覆うという、安価かつ簡単な
方法及び装置により、金型成形面の浄化を確実に行える
とともに、浄化後に下型成形面２ａに特に再付着するお
それのある微細異物８等から下型成形面２ａを保護する
ことができ、光学素子成形品の良品率が向上する。ま
た、カバー９の下面全外周に袴部９ａを設けることによ
り、袴部９ａが下型２の側面に回り込むため、下型成形
面２ａの保護の効果が、本発明の第１の実施の形態より
も向上する。
【００１９】（発明の第３の実施の形態）図４を用い
て、本発明の請求項１，２，３に関する発明の第３の実
施の形態を説明する。なお、以下の説明にあって、図１
と同じ構成要素には同様の番号を付した。発明の第３の
実施の形態の構成は、成形用型である上型１、下型２が
上下方向に対向配置されており、この型（当例では上型
１）に図示しない移動機構が取り付けられている。そし
て、上型１及び下型２の周りは、非酸化性ガス供給口３
６をもつ成形室７で囲われており、成形室７の上壁を貫
通した上型１の外周面と成形室７の上壁の間にわずかな
隙間を有し、成形室７外に設けた上記移動機構により上
型１が下型２に対して接近・離反し得るように移動可能
となっている。この成形室内７ａは、上記非酸化性ガス
供給口３６から供給されるガスにより、例えば、非酸化
性雰囲気に保たれている。また、成形室７には、上型成
形面１ａ及び下型成形面２ａの洗浄用非酸化性ガスの吐
出ノズル３がその吐出口をそれぞれ上下成形面１ａ，２
ａに向けて設けられており、図４（Ｄ）に示す微細異物
８を上下成形面１ａ，２ａから除去可能となっている。
さらに、成形室７には、上下型１，２の間に光学素子成
形素材６を供給し、上下型１，２により押圧成形した光
学素子６ａを排出するための供給・排出用の窓（図示省
略）が１箇所または復数箇所設けられている。
て、本発明の請求項１，２，３に関する発明の第３の実
施の形態を説明する。なお、以下の説明にあって、図１
と同じ構成要素には同様の番号を付した。発明の第３の
実施の形態の構成は、成形用型である上型１、下型２が
上下方向に対向配置されており、この型（当例では上型
１）に図示しない移動機構が取り付けられている。そし
て、上型１及び下型２の周りは、非酸化性ガス供給口３
６をもつ成形室７で囲われており、成形室７の上壁を貫
通した上型１の外周面と成形室７の上壁の間にわずかな
隙間を有し、成形室７外に設けた上記移動機構により上
型１が下型２に対して接近・離反し得るように移動可能
となっている。この成形室内７ａは、上記非酸化性ガス
供給口３６から供給されるガスにより、例えば、非酸化
性雰囲気に保たれている。また、成形室７には、上型成
形面１ａ及び下型成形面２ａの洗浄用非酸化性ガスの吐
出ノズル３がその吐出口をそれぞれ上下成形面１ａ，２
ａに向けて設けられており、図４（Ｄ）に示す微細異物
８を上下成形面１ａ，２ａから除去可能となっている。
さらに、成形室７には、上下型１，２の間に光学素子成
形素材６を供給し、上下型１，２により押圧成形した光
学素子６ａを排出するための供給・排出用の窓（図示省
略）が１箇所または復数箇所設けられている。
【００２０】また、成形室７の外側には、カバー駆動手
段として、例えば、シリンダ１３，１４，１５，１６が
配置されている。シリンダ１５はシリンダ１６の上方に
設けられ、シリンダ１５は駆動ロッド１５ａを下に向
け、シリンダ１６は駆動ロッド１６ａを上に向けて、そ
れぞれ架台３５に取り付けられており、駆動ロッド１５
ａ及び駆動ロッド１６ａの先端にシリンダ１３及びシリ
ンダ１４がそれぞれ水平方向に設けられている。シリン
ダ１３の駆動ロッド１３ａ及びシリンダ１４の駆動ロッ
ド１４ａは、発明の第２の実施の形態と同様に、成形室
７の側壁を貫通して成形室内７ａに導入されており、駆
動ロッド１３ａ及び駆動ロッド１４ａの先端には、上下
成形面１ａ，２ａまたは金型１，２と同等かそれより大
きなカバー１１及びカバー１２が取り付けられている。
カバー１１，１２は、発明の実施の形態のカバー９と同
様に全外周に袴部１１ａ，１２ａを設けた断面コ字状に
形成されており、カバー１１は袴部１１ａを上に向け、
カバー１２ａは袴部１２ａを下に向けて、駆動ロッド１
３ａ，１４ａに設けられている。これらのカバー１１，
カバー１２は、シリンダ１３，１４により上下型１，２
の間に配置された後、カバー１１をシリンダ１５で上動
及びカバー１２をシリンダ１６で下動させることによ
り、袴部１１ａが上型１の外周及び袴部１２ａが下型２
の外周面に回り込むようになっている。なお、成形室７
の側壁には、駆動ロッド１３ａ，１４ａの進退動作及び
上下動作を妨げないように形成したロッド貫通穴７ｂが
設けられており、このロッド貫通穴７ｂを通して駆動ロ
ッド１３ａ，１４ａが成形室内７ａに導入されている。
段として、例えば、シリンダ１３，１４，１５，１６が
配置されている。シリンダ１５はシリンダ１６の上方に
設けられ、シリンダ１５は駆動ロッド１５ａを下に向
け、シリンダ１６は駆動ロッド１６ａを上に向けて、そ
れぞれ架台３５に取り付けられており、駆動ロッド１５
ａ及び駆動ロッド１６ａの先端にシリンダ１３及びシリ
ンダ１４がそれぞれ水平方向に設けられている。シリン
ダ１３の駆動ロッド１３ａ及びシリンダ１４の駆動ロッ
ド１４ａは、発明の第２の実施の形態と同様に、成形室
７の側壁を貫通して成形室内７ａに導入されており、駆
動ロッド１３ａ及び駆動ロッド１４ａの先端には、上下
成形面１ａ，２ａまたは金型１，２と同等かそれより大
きなカバー１１及びカバー１２が取り付けられている。
カバー１１，１２は、発明の実施の形態のカバー９と同
様に全外周に袴部１１ａ，１２ａを設けた断面コ字状に
形成されており、カバー１１は袴部１１ａを上に向け、
カバー１２ａは袴部１２ａを下に向けて、駆動ロッド１
３ａ，１４ａに設けられている。これらのカバー１１，
カバー１２は、シリンダ１３，１４により上下型１，２
の間に配置された後、カバー１１をシリンダ１５で上動
及びカバー１２をシリンダ１６で下動させることによ
り、袴部１１ａが上型１の外周及び袴部１２ａが下型２
の外周面に回り込むようになっている。なお、成形室７
の側壁には、駆動ロッド１３ａ，１４ａの進退動作及び
上下動作を妨げないように形成したロッド貫通穴７ｂが
設けられており、このロッド貫通穴７ｂを通して駆動ロ
ッド１３ａ，１４ａが成形室内７ａに導入されている。
【００２１】次に、本発明の実施の形態の作用を、本発
明の実施の形態の浄化装置を用いて成形型を浄化する方
法とともに説明する。まず、非酸化性ガス供給口３６よ
り非酸化性ガスを供給することにより、非酸化性雰囲気
に保たれた成形室内７ａにおいて、成形室７に設けられ
た図示されない供給窓より、図示されない光学素子成形
素材６の供給装置によって、成形用金型である下型２の
下型成形面２ａ上に光学素子成形素材６を載置する（図
４（Ｂ）参照）。次に、図示されない移動装置により上
型１を降下させることにより、成形室供給前または成形
室供給後に、所定温度まで加熱軟化させられた光学素子
成形素材６を上下成形面１ａ，２ａ間で押圧成形するこ
とで、所望の形状の光学素子６ａ、例えばレンズが成形
される（図４（Ｃ）参照）。その後、同光学素子６ａが
硬化するまで、この状態を保った後、上型１を上方へ上
記移動装置により引き上げ、離型を行い、成形室７に設
けられた図示しない取り出し窓から光学素子６ａを取り
出す。この際、図４（Ｄ）に示すように、微細異物８が
上下成形面１ａ，２ａに付着した状態になる。そして、
上下成形面１ａ，２ａに吐出ノズル３から非酸化性ガス
を数秒間吹き付けることにより微細異物８を吹き飛ば
し、微細異物８を上下成形面１ａ，２ａから除去する。
明の実施の形態の浄化装置を用いて成形型を浄化する方
法とともに説明する。まず、非酸化性ガス供給口３６よ
り非酸化性ガスを供給することにより、非酸化性雰囲気
に保たれた成形室内７ａにおいて、成形室７に設けられ
た図示されない供給窓より、図示されない光学素子成形
素材６の供給装置によって、成形用金型である下型２の
下型成形面２ａ上に光学素子成形素材６を載置する（図
４（Ｂ）参照）。次に、図示されない移動装置により上
型１を降下させることにより、成形室供給前または成形
室供給後に、所定温度まで加熱軟化させられた光学素子
成形素材６を上下成形面１ａ，２ａ間で押圧成形するこ
とで、所望の形状の光学素子６ａ、例えばレンズが成形
される（図４（Ｃ）参照）。その後、同光学素子６ａが
硬化するまで、この状態を保った後、上型１を上方へ上
記移動装置により引き上げ、離型を行い、成形室７に設
けられた図示しない取り出し窓から光学素子６ａを取り
出す。この際、図４（Ｄ）に示すように、微細異物８が
上下成形面１ａ，２ａに付着した状態になる。そして、
上下成形面１ａ，２ａに吐出ノズル３から非酸化性ガス
を数秒間吹き付けることにより微細異物８を吹き飛ば
し、微細異物８を上下成形面１ａ，２ａから除去する。
【００２２】微細異物８を除去した後、シリンダ１３，
１４を駆動してカバー１１，１２を上下型１，２間に搬
送し、カバー１１を上型成形面１ａの下方及びカバー１
２を下型成形面２ａの上方に配置させ、その後シリンダ
１５を駆動してカバー１１を上昇及びシリンダ１６を駆
動してカバー１２を下降させて、図３（Ａ）に示すよう
に、次の光学素子成形素材６が上下型１，２間に搬送供
給されるまでの間、カバー１１，１２がそれぞれ上下型
１，２および上下型成形面１ａ，２ａの側面に回り込む
ようにして上下型成形面１ａ，２ａを覆い、成形室内７
ａに浮遊残留している微細異物８が上下型成形面１ａ，
２ａ上に再付着しないように保護する。そして、次の光
学素子６ａを押圧成形する際に、カバー１１，１２は、
光学素子成形素材６の搬送供給を妨げない時期に、成形
動作の妨げにならない場所にシリンダ１３，１４，１
５，１６により退避される。
１４を駆動してカバー１１，１２を上下型１，２間に搬
送し、カバー１１を上型成形面１ａの下方及びカバー１
２を下型成形面２ａの上方に配置させ、その後シリンダ
１５を駆動してカバー１１を上昇及びシリンダ１６を駆
動してカバー１２を下降させて、図３（Ａ）に示すよう
に、次の光学素子成形素材６が上下型１，２間に搬送供
給されるまでの間、カバー１１，１２がそれぞれ上下型
１，２および上下型成形面１ａ，２ａの側面に回り込む
ようにして上下型成形面１ａ，２ａを覆い、成形室内７
ａに浮遊残留している微細異物８が上下型成形面１ａ，
２ａ上に再付着しないように保護する。そして、次の光
学素子６ａを押圧成形する際に、カバー１１，１２は、
光学素子成形素材６の搬送供給を妨げない時期に、成形
動作の妨げにならない場所にシリンダ１３，１４，１
５，１６により退避される。
【００２３】本発明の実施の形態によれば、金型成形面
（上下型成形面１ａ，２ａ）に付着した微細異物８を除
去した後、カバー１１，１２により上下型成形面１ａ，
２ａを覆うという、安価かつ簡単な方法及び装置によ
り、金型成形面の浄化を確実に行えるとともに、浄化後
に上下型成形面１ａ，２ａに再付着するおそれのある微
細異物８等から上下型成形面１ａ，２ａを保護すること
ができ、光学素子成形品の良品率が向上する。また、カ
バー１２の全外周に袴部１１ａ，１２ａを設けたことに
より、袴部１１ａ，１２ａが上型１、下型２の側面に回
り込むため、成形面の保護の効果が、発明の第１の実施
の形態よりも向上し、かつ、上型１の成形面１ａを保護
するカバー１１を設けたことにより、発明の第１および
第２の実施の形態よりさらに光学素子成形品の良品率が
向上する。
（上下型成形面１ａ，２ａ）に付着した微細異物８を除
去した後、カバー１１，１２により上下型成形面１ａ，
２ａを覆うという、安価かつ簡単な方法及び装置によ
り、金型成形面の浄化を確実に行えるとともに、浄化後
に上下型成形面１ａ，２ａに再付着するおそれのある微
細異物８等から上下型成形面１ａ，２ａを保護すること
ができ、光学素子成形品の良品率が向上する。また、カ
バー１２の全外周に袴部１１ａ，１２ａを設けたことに
より、袴部１１ａ，１２ａが上型１、下型２の側面に回
り込むため、成形面の保護の効果が、発明の第１の実施
の形態よりも向上し、かつ、上型１の成形面１ａを保護
するカバー１１を設けたことにより、発明の第１および
第２の実施の形態よりさらに光学素子成形品の良品率が
向上する。
【００２４】（発明の第４の実施の形態）図５を用い
て、本発明の請求項１，２，３に関する発明の第４の実
施の形態を説明する。なお、以下の説明にあって、図１
と同じ構成要素には同様の番号を付した。発明の第４の
実施の形態の構成は、成形用型である上型１、下型２が
上下方向に対向配置されており、この型（当例では上型
１）に図示しない移動機構が取り付けられている。そし
て、上型１及び下型２の周りは、非酸化性ガス供給口３
６をもつ成形室７で囲われており、成形室７の上壁を貫
通した上型１の外周面と成形室７の上壁の間にわずかな
隙間を有し、成形室７外に設けた上記移動機構により上
型１が下型２に対して接近・離反し得るように移動可能
となっている。この成形室内７ａは、上記非酸化性ガス
供給口３６から供給されるガスにより、例えば、非酸化
性雰囲気に保たれている。さらに、成形室７には、上下
型１，２の間に光学素子成形素材６を供給し、上下型
１，２により押圧成形した光学素子６ａを排出するため
の供給・排出用の窓（図示省略）が１箇所または復数箇
所設けられている。
て、本発明の請求項１，２，３に関する発明の第４の実
施の形態を説明する。なお、以下の説明にあって、図１
と同じ構成要素には同様の番号を付した。発明の第４の
実施の形態の構成は、成形用型である上型１、下型２が
上下方向に対向配置されており、この型（当例では上型
１）に図示しない移動機構が取り付けられている。そし
て、上型１及び下型２の周りは、非酸化性ガス供給口３
６をもつ成形室７で囲われており、成形室７の上壁を貫
通した上型１の外周面と成形室７の上壁の間にわずかな
隙間を有し、成形室７外に設けた上記移動機構により上
型１が下型２に対して接近・離反し得るように移動可能
となっている。この成形室内７ａは、上記非酸化性ガス
供給口３６から供給されるガスにより、例えば、非酸化
性雰囲気に保たれている。さらに、成形室７には、上下
型１，２の間に光学素子成形素材６を供給し、上下型
１，２により押圧成形した光学素子６ａを排出するため
の供給・排出用の窓（図示省略）が１箇所または復数箇
所設けられている。
【００２５】また、成形室７の外側には、カバー駆動手
段として、例えば、シリンダ２１が架台３５に載置され
て設けられている。シリンダ２１の駆動ロッド２１ａは
成形室７に向けて成形室７外に配置されており、この駆
動ロッド２１ａの先端には架台３５に設けたガイド２２
に案内保持されるブロック１９が取り付けられている。
ブロック１９にはパイプ１８が取り付けられており、パ
イプ１８はわずかな隙間を有して成形室７の側壁を貫通
し成形室内７ａに導入されている。パイプ１８の先端に
は、上下成形面１ａ，２ａまたは上下型１，２と同等か
それより大きなカバー兼ノズル１７が取り付けられてお
り、このカバー兼ノズル１７はシリンダ２１の駆動によ
り上下型１，２間に対して進退可能となっている。カバ
ー兼ノズル１７には、上下型１，２に位置した際に上下
型成形面１ａ，２ａと対向する上下面側に、パイプ１８
と連通するノズル（図示省略）がそれぞれ多数設けられ
ている。また、ブロック１９には、非酸化性ガスをパイ
プ１８に供給するチューブ２０が取り付けられ、パイプ
１８と通して非酸化性ガスをカバー兼ノズル１７のノズ
ルから噴出し、上下型成形面１ａ，２ａに付着した微細
異物８（図５（Ｄ）参照）を除去し得るようになってい
る。なお、本発明の実施の形態には、発明の第１〜第３
の実施の形態に備えた吐出ノズル３は設けられていな
い。
段として、例えば、シリンダ２１が架台３５に載置され
て設けられている。シリンダ２１の駆動ロッド２１ａは
成形室７に向けて成形室７外に配置されており、この駆
動ロッド２１ａの先端には架台３５に設けたガイド２２
に案内保持されるブロック１９が取り付けられている。
ブロック１９にはパイプ１８が取り付けられており、パ
イプ１８はわずかな隙間を有して成形室７の側壁を貫通
し成形室内７ａに導入されている。パイプ１８の先端に
は、上下成形面１ａ，２ａまたは上下型１，２と同等か
それより大きなカバー兼ノズル１７が取り付けられてお
り、このカバー兼ノズル１７はシリンダ２１の駆動によ
り上下型１，２間に対して進退可能となっている。カバ
ー兼ノズル１７には、上下型１，２に位置した際に上下
型成形面１ａ，２ａと対向する上下面側に、パイプ１８
と連通するノズル（図示省略）がそれぞれ多数設けられ
ている。また、ブロック１９には、非酸化性ガスをパイ
プ１８に供給するチューブ２０が取り付けられ、パイプ
１８と通して非酸化性ガスをカバー兼ノズル１７のノズ
ルから噴出し、上下型成形面１ａ，２ａに付着した微細
異物８（図５（Ｄ）参照）を除去し得るようになってい
る。なお、本発明の実施の形態には、発明の第１〜第３
の実施の形態に備えた吐出ノズル３は設けられていな
い。
【００２６】次に、本発明の実施の形態の作用を、本発
明の実施の形態の浄化装置を用いて成形型を浄化する方
法とともに説明する。まず、非酸化性ガス供給口３６よ
り非酸化性ガスを供給することにより、非酸化性雰囲気
に保たれた成形室内７ａにおいて、成形室７に設けられ
た図示されない供給窓より、図示されない光学素子成形
素材６の供給装置により、成形用金型である下型２の下
型成形面２ａ上に光学素子成形素材６を載置する（図５
（Ｂ）参照）。次に、図示されない移動装置により上型
１を降下させることにより、成形室供給前または成形室
供給後に、所定温度まで加熱軟化させられた光学素子成
形素材６を上下成形面１ａ，２ａ間で押圧成形すること
で、所望の形状の光学素子６ａ、例えばレンズが成形さ
れる（図５（Ｃ）参照）。その後、同光学素子６ａが硬
化するまで、この状態を保った後、上型１を上方へ上記
移動装置により引き上げ、離型を行い、成形室７に設け
られた図示しない取り出し窓から光学素子６ａを取り出
す。この際、図５（Ｄ）に示すように、微細異物８が上
下成形面１ａ，２ａに付着した状態になる。成形光学素
子６ａが取り出された後、シリンダ２１を駆動し、ガイ
ド２２でブロック１９を案内しつつ、カバー兼ノズル１
７がパイプ１８を介して上下型成形面１ａ，２ａ間に配
置され、その後、チューブ２０，ブロック１９，パイプ
１８を介して、上下型成形面１ａ，２ａにカバー兼ノズ
ル１７より非酸化性ガスを数秒間吹き付けることにより
微細異物８を吹き飛ばし、微細異物８を上下型成形面１
ａ，２ａから除去する（図５（Ｅ）参照）。
明の実施の形態の浄化装置を用いて成形型を浄化する方
法とともに説明する。まず、非酸化性ガス供給口３６よ
り非酸化性ガスを供給することにより、非酸化性雰囲気
に保たれた成形室内７ａにおいて、成形室７に設けられ
た図示されない供給窓より、図示されない光学素子成形
素材６の供給装置により、成形用金型である下型２の下
型成形面２ａ上に光学素子成形素材６を載置する（図５
（Ｂ）参照）。次に、図示されない移動装置により上型
１を降下させることにより、成形室供給前または成形室
供給後に、所定温度まで加熱軟化させられた光学素子成
形素材６を上下成形面１ａ，２ａ間で押圧成形すること
で、所望の形状の光学素子６ａ、例えばレンズが成形さ
れる（図５（Ｃ）参照）。その後、同光学素子６ａが硬
化するまで、この状態を保った後、上型１を上方へ上記
移動装置により引き上げ、離型を行い、成形室７に設け
られた図示しない取り出し窓から光学素子６ａを取り出
す。この際、図５（Ｄ）に示すように、微細異物８が上
下成形面１ａ，２ａに付着した状態になる。成形光学素
子６ａが取り出された後、シリンダ２１を駆動し、ガイ
ド２２でブロック１９を案内しつつ、カバー兼ノズル１
７がパイプ１８を介して上下型成形面１ａ，２ａ間に配
置され、その後、チューブ２０，ブロック１９，パイプ
１８を介して、上下型成形面１ａ，２ａにカバー兼ノズ
ル１７より非酸化性ガスを数秒間吹き付けることにより
微細異物８を吹き飛ばし、微細異物８を上下型成形面１
ａ，２ａから除去する（図５（Ｅ）参照）。
【００２７】微細異物８を除去した後も、次の光学素子
成形素材６が上下型１，２間に搬送供給されるまでの
間、図５（Ａ）に示すように、カバー兼ノズル１７は上
下型成形面１ａ，２ａの間に配置され、微細異物８が上
下型成形面１ａ，２ａに再付着しないように成形面１
ａ，２ａを保護する。そして、次の光学素子６ａを押圧
成形する際に、光学素子成形素材６の搬送供給を妨げな
い時期に、成形動作の妨げにならない場所にカバー兼ノ
ズル１７はシリンダ２１とガイド２２により退避され
る。
成形素材６が上下型１，２間に搬送供給されるまでの
間、図５（Ａ）に示すように、カバー兼ノズル１７は上
下型成形面１ａ，２ａの間に配置され、微細異物８が上
下型成形面１ａ，２ａに再付着しないように成形面１
ａ，２ａを保護する。そして、次の光学素子６ａを押圧
成形する際に、光学素子成形素材６の搬送供給を妨げな
い時期に、成形動作の妨げにならない場所にカバー兼ノ
ズル１７はシリンダ２１とガイド２２により退避され
る。
【００２８】本発明の実施の形態によれば、安価かつ簡
単な方法及び装置により、確実に金型成形面の浄化と浄
化後に再付着するおそれのある微細異物８等から上下型
成形面１ａ，２ａを保護することができ、光学素子成形
品の良品率が向上する。また、ノズルとカバーを一体化
したカバー兼ノズル１７を用いることにより成形室７の
形状が簡素化され、さらに、非酸化性ガスの吐出をカバ
ー兼ノズル１７により上下型成形面１ａ，２の極近傍に
おいてできるため、上下型成形面１ａ，２ａの浄化効果
が向上し、これに伴い、良品率も向上する。
単な方法及び装置により、確実に金型成形面の浄化と浄
化後に再付着するおそれのある微細異物８等から上下型
成形面１ａ，２ａを保護することができ、光学素子成形
品の良品率が向上する。また、ノズルとカバーを一体化
したカバー兼ノズル１７を用いることにより成形室７の
形状が簡素化され、さらに、非酸化性ガスの吐出をカバ
ー兼ノズル１７により上下型成形面１ａ，２の極近傍に
おいてできるため、上下型成形面１ａ，２ａの浄化効果
が向上し、これに伴い、良品率も向上する。
【００２９】（発明の第５の実施の形態）図６を用い
て、本発明の請求項１，２，３に関する発明の第５の実
施の形態を説明する。なお、以下の説明にあって、図１
と同じ構成要素には同様の番号を付した。発明の第５の
実施の形態の構成は、成形用型である上型１、下型２が
上下方向に対向配置されており、この型（当例では上型
１）に図示しない移動機構が取り付けられている。そし
て、上型１及び下型２の周りは、非酸化性ガス供給口３
６をもつ成形室７で囲われており、成形室７の上壁を貫
通した上型１の外周面と成形室７の上壁の間にわずかな
隙間を有し、成形室７外に設けた上記移動機構により上
型１が下型２に対して接近・離反し得るように移動可能
となっている。この成形室内７ａは、上記非酸化性ガス
供給口３６から供給されるガスにより、例えば、非酸化
性雰囲気に保たれている。さらに、成形室７には、上下
型１，２の間に光学素子成形素材６を供給し、上下型
１，２により押圧成形した光学素子６ａを排出するため
の供給・排出用の窓（図示省略）が１箇所または復数箇
所設けられている。
て、本発明の請求項１，２，３に関する発明の第５の実
施の形態を説明する。なお、以下の説明にあって、図１
と同じ構成要素には同様の番号を付した。発明の第５の
実施の形態の構成は、成形用型である上型１、下型２が
上下方向に対向配置されており、この型（当例では上型
１）に図示しない移動機構が取り付けられている。そし
て、上型１及び下型２の周りは、非酸化性ガス供給口３
６をもつ成形室７で囲われており、成形室７の上壁を貫
通した上型１の外周面と成形室７の上壁の間にわずかな
隙間を有し、成形室７外に設けた上記移動機構により上
型１が下型２に対して接近・離反し得るように移動可能
となっている。この成形室内７ａは、上記非酸化性ガス
供給口３６から供給されるガスにより、例えば、非酸化
性雰囲気に保たれている。さらに、成形室７には、上下
型１，２の間に光学素子成形素材６を供給し、上下型
１，２により押圧成形した光学素子６ａを排出するため
の供給・排出用の窓（図示省略）が１箇所または復数箇
所設けられている。
【００３０】また、成形室７の外側には、カバー駆動手
段として、例えば、シリンダ２１及びシリンダ２４が配
置されている。シリンダ２４は架台３５に載置され、そ
の駆動ロッド２４ａが上下方向に配置されており、この
駆動ロッド２４ａの先端にベース２５が水平方向に取り
付けられている。ベース２５上には上記シリンダ２１が
取り付けられており、シリンダ２１の駆動ロッド２１ａ
は成形室７に向けて成形室７外に配置されるとともに、
この駆動ロッド２１ａの先端にはベース２５に設けたガ
イド２２に案内保持されるブロック１９が取り付けられ
ている。ブロック１９にはパイプ１８が取り付けられて
おり、このパイプ１８は、成形室７の側壁にパイプ１８
の進退動作及び上下動作を妨げないように形成したロッ
ド貫通穴７ｂを通して、その先端が成形室内７ａに導入
されている。パイプ１８の先端には、上下型成形面１
ａ，２ａまたは上下型１，２と同等かそれより大きなカ
バー兼ノズル２３が取り付けられており、このカバー兼
ノズル２３はシリンダ２１の駆動により上下型１，２間
に対して進退可能となっている。カバー兼ノズル２３に
は、上下型１，２に位置した際に上下型成形面１ａ，２
ａと対向する上下面側に開口したノズル２６がパイプ１
８と連通するようにカバー兼ノズル２３の中央部に設け
られている。さらに、カバー兼ノズル２３の下面全外周
には袴部２３ａが設けられており、カバー兼ノズル２３
をシリンダ２１により上下型１，２の間に配置した後、
シリンダ２４で下動させることにより、袴部２３ａが下
型２の外周面に回り込むようになっている。また、ブロ
ック１９には、非酸化性ガスをパイプ１８に供給するチ
ューブ２０が取り付けられ、パイプ１８と通して非酸化
性ガスをカバー兼ノズル２３のノズル２６から噴出し、
上下型成形面１ａ，２ａに付着した微細異物８（図６
（Ｄ）参照）を除去し得るようになっている。なお、本
発明の実施の形態には、発明の第１〜第３の実施の形態
に備えた吐出ノズル３は設けられていない。
段として、例えば、シリンダ２１及びシリンダ２４が配
置されている。シリンダ２４は架台３５に載置され、そ
の駆動ロッド２４ａが上下方向に配置されており、この
駆動ロッド２４ａの先端にベース２５が水平方向に取り
付けられている。ベース２５上には上記シリンダ２１が
取り付けられており、シリンダ２１の駆動ロッド２１ａ
は成形室７に向けて成形室７外に配置されるとともに、
この駆動ロッド２１ａの先端にはベース２５に設けたガ
イド２２に案内保持されるブロック１９が取り付けられ
ている。ブロック１９にはパイプ１８が取り付けられて
おり、このパイプ１８は、成形室７の側壁にパイプ１８
の進退動作及び上下動作を妨げないように形成したロッ
ド貫通穴７ｂを通して、その先端が成形室内７ａに導入
されている。パイプ１８の先端には、上下型成形面１
ａ，２ａまたは上下型１，２と同等かそれより大きなカ
バー兼ノズル２３が取り付けられており、このカバー兼
ノズル２３はシリンダ２１の駆動により上下型１，２間
に対して進退可能となっている。カバー兼ノズル２３に
は、上下型１，２に位置した際に上下型成形面１ａ，２
ａと対向する上下面側に開口したノズル２６がパイプ１
８と連通するようにカバー兼ノズル２３の中央部に設け
られている。さらに、カバー兼ノズル２３の下面全外周
には袴部２３ａが設けられており、カバー兼ノズル２３
をシリンダ２１により上下型１，２の間に配置した後、
シリンダ２４で下動させることにより、袴部２３ａが下
型２の外周面に回り込むようになっている。また、ブロ
ック１９には、非酸化性ガスをパイプ１８に供給するチ
ューブ２０が取り付けられ、パイプ１８と通して非酸化
性ガスをカバー兼ノズル２３のノズル２６から噴出し、
上下型成形面１ａ，２ａに付着した微細異物８（図６
（Ｄ）参照）を除去し得るようになっている。なお、本
発明の実施の形態には、発明の第１〜第３の実施の形態
に備えた吐出ノズル３は設けられていない。
【００３１】次に、本発明の実施の形態の作用を、本発
明の実施の形態の浄化装置を用いて成形型を浄化する方
法とともに説明する。まず、非酸化性ガス供給口３６よ
り非酸化性ガスを供給することにより、非酸化性雰囲気
に保たれた成形室内７ａにおいて、成形室７に設けられ
た図示されない供給窓より、図示されない光学素子成形
素材６の供給装置によって、成形用金型である下型２の
下型成形面２ａ上に光学素子成形素材６を載置する（図
６（Ｂ）参照）。次に、図示されない移動装置により上
型１を降下させることにより、成形室供給前または成形
室供給後に、所定温度まで加熱軟化させられた光学素子
成形素材６を上下成形面１ａ，２ａ間で押圧成形するこ
とで、所望の形状の光学素子６ａ、例えばレンズが成形
される（図６（Ｃ）参照）。その後、同光学素子６ａが
硬化するまで、この状態を保った後、上型１を上方へ上
記移動装置により引き上げ、離型を行い、成形室７に設
けられた図示しない取り出し窓から光学素子６ａを取り
出す。この際、図６（Ｄ）に示すように、微細異物８が
上下成形面１ａ，２ａに付着した状態になる。成形光学
素子６ａが取り出された後、シリンダ２１を駆動し、ガ
イド２２でブロック１９を案内しつつ、カバー兼ノズル
２３がパイプ１８を介して上下型成形面１ａ，２ａ間に
配置され、その後、チューブ２０，ブロック１９，パイ
プ１８を介して、上下型成形面１ａ，２ａにノズル２６
から非酸化性ガスを数秒間吹き付けることにより微細異
物８を吹き飛ばし、微細異物８を上下型成形面１ａ，２
ａから除去する（図６（Ｅ）参照）。
明の実施の形態の浄化装置を用いて成形型を浄化する方
法とともに説明する。まず、非酸化性ガス供給口３６よ
り非酸化性ガスを供給することにより、非酸化性雰囲気
に保たれた成形室内７ａにおいて、成形室７に設けられ
た図示されない供給窓より、図示されない光学素子成形
素材６の供給装置によって、成形用金型である下型２の
下型成形面２ａ上に光学素子成形素材６を載置する（図
６（Ｂ）参照）。次に、図示されない移動装置により上
型１を降下させることにより、成形室供給前または成形
室供給後に、所定温度まで加熱軟化させられた光学素子
成形素材６を上下成形面１ａ，２ａ間で押圧成形するこ
とで、所望の形状の光学素子６ａ、例えばレンズが成形
される（図６（Ｃ）参照）。その後、同光学素子６ａが
硬化するまで、この状態を保った後、上型１を上方へ上
記移動装置により引き上げ、離型を行い、成形室７に設
けられた図示しない取り出し窓から光学素子６ａを取り
出す。この際、図６（Ｄ）に示すように、微細異物８が
上下成形面１ａ，２ａに付着した状態になる。成形光学
素子６ａが取り出された後、シリンダ２１を駆動し、ガ
イド２２でブロック１９を案内しつつ、カバー兼ノズル
２３がパイプ１８を介して上下型成形面１ａ，２ａ間に
配置され、その後、チューブ２０，ブロック１９，パイ
プ１８を介して、上下型成形面１ａ，２ａにノズル２６
から非酸化性ガスを数秒間吹き付けることにより微細異
物８を吹き飛ばし、微細異物８を上下型成形面１ａ，２
ａから除去する（図６（Ｅ）参照）。
【００３２】その後、シリンダ２４を駆動してカバー兼
ノズル２３を下降させ、図６（Ａ）に示すように、カバ
ー兼ノズル２３の袴部２３ａが下型２の外周に回り込む
ようにして、カバー兼ノズル２３により下型成形面２ａ
を覆い、成形室内７ａに浮遊残留している微細異物８が
下型成形面２ａ上に再付着しないように保護する。そし
て、次の光学素子６ａを押圧成形する際に、光学素子成
形素材６の搬送供給を妨げない時期に、成形動作の妨げ
にならない場所へカバー兼ノズル２３はシリンダ２１，
２４とガイド２２により退避される。
ノズル２３を下降させ、図６（Ａ）に示すように、カバ
ー兼ノズル２３の袴部２３ａが下型２の外周に回り込む
ようにして、カバー兼ノズル２３により下型成形面２ａ
を覆い、成形室内７ａに浮遊残留している微細異物８が
下型成形面２ａ上に再付着しないように保護する。そし
て、次の光学素子６ａを押圧成形する際に、光学素子成
形素材６の搬送供給を妨げない時期に、成形動作の妨げ
にならない場所へカバー兼ノズル２３はシリンダ２１，
２４とガイド２２により退避される。
【００３３】本発明の実施の形態によれば、安価かつ簡
単な方法及び装置により、確実に金型成形面の浄化と浄
化後に再付着するおそれのある微細異物８等から上下型
成形面１ａ，２ａを保護することができ、光学素子成形
品の良品率が向上する。また、ノズルとカバーを一体化
したカバー兼ノズル２３を用いることにより成形室７の
形状が簡素化され、さらに、非酸化性ガスの吐出をカバ
ー兼ノズル２３により上下型成形面１ａ，２の極近傍に
おいてできるため、上下型成形面１ａ，２ａの浄化効果
が向上し、これに伴い、良品率も向上する。
単な方法及び装置により、確実に金型成形面の浄化と浄
化後に再付着するおそれのある微細異物８等から上下型
成形面１ａ，２ａを保護することができ、光学素子成形
品の良品率が向上する。また、ノズルとカバーを一体化
したカバー兼ノズル２３を用いることにより成形室７の
形状が簡素化され、さらに、非酸化性ガスの吐出をカバ
ー兼ノズル２３により上下型成形面１ａ，２の極近傍に
おいてできるため、上下型成形面１ａ，２ａの浄化効果
が向上し、これに伴い、良品率も向上する。
【００３４】なお、上記各発明の実施の形態においてカ
バー駆動手段の駆動源としてシリンダを用いた場合を例
示したが、シリンダに限られず、モータとボールネジの
組み合わせや、カム機構等の同様の作用を生じるもので
あれば用いることができ、かかる場合にあっても、各発
明の実施の形態と同様な作用、効果を得ることができ
る。さらに、非酸化性ガスに関しても、成形室７内が耐
酸化性良好であれば、特に、非酸化性ガスに限定するも
のではない。また、各発明の実施の形態に示したよう
に、成形型成形面へのカバーは、下型もしくは上型のど
ちらかに限定するものでない。
バー駆動手段の駆動源としてシリンダを用いた場合を例
示したが、シリンダに限られず、モータとボールネジの
組み合わせや、カム機構等の同様の作用を生じるもので
あれば用いることができ、かかる場合にあっても、各発
明の実施の形態と同様な作用、効果を得ることができ
る。さらに、非酸化性ガスに関しても、成形室７内が耐
酸化性良好であれば、特に、非酸化性ガスに限定するも
のではない。また、各発明の実施の形態に示したよう
に、成形型成形面へのカバーは、下型もしくは上型のど
ちらかに限定するものでない。
【００３５】
【発明の効果】請求項１，２，３による光学素子成形方
法及び装置によれば、光学素子成形用金型の成形面に付
着した微細異物を除去するのと共に非成形時に金型成形
面または金型を覆うことができ、微細異物の再付着を確
実に防ぐことができる。これにより、容易な方法及び装
置で光学素子成形品の良品率は飛躍的に向上する。
法及び装置によれば、光学素子成形用金型の成形面に付
着した微細異物を除去するのと共に非成形時に金型成形
面または金型を覆うことができ、微細異物の再付着を確
実に防ぐことができる。これにより、容易な方法及び装
置で光学素子成形品の良品率は飛躍的に向上する。
【図１】本発明の光学素子成形型の浄化方法及び装置を
概念的に示す断面図である。
概念的に示す断面図である。
【図２】本発明の発明の第１の実施の形態を示す断面図
である。
である。
【図３】本発明の発明の第２の実施の形態を示す断面図
である。
である。
【図４】本発明の発明の第２の実施の形態を示す断面図
である。
である。
【図５】本発明の発明の第３の実施の形態を示す断面図
である。
である。
【図６】本発明の発明の第３の実施の形態を示す断面図
である。
である。
【図７】従来技術を示す断面図である。
１ 上型 １ａ 上型成形面 ２ 下型 ２ａ 下型成形面 ３ 浄化手段（ノズル） ４ カバー ５ カバー駆動手段（シリンダ） ６ 光学素子成形素材 ６ａ 光学素子 ７ 成形室
Claims (3)
- 【請求項１】 光学素子素材を押圧成形する工程にあっ
て、光学素子成形素材を上下一対の金型間に搬送供給
し、押圧成形した後、成形した光学素子を金型間から搬
送排出し、次の光学素子成形素材が金型間に搬送供給さ
れるまでの間に、金型成形面に気体を吹き付けて金型成
形面を浄化すると同時または浄化後に、保護手段により
金型成形面または金型を覆い保護することを特徴とする
光学素子成形型の浄化方法。 - 【請求項２】 光学素子成形素材を押圧成形する上下一
対の金型を成形動作可能に包囲した成形室内に設けた光
学素子成形装置にあって、気体を吹き付けて金型成形面
を浄化する手段と、非成形時に金型成形面または金型を
覆い保護する手段を具備することを特徴とする光学素子
成形型の浄化装置。 - 【請求項３】 非成形時に金型成形面を保護する手段
が、金型成形面または金型を覆い保護するカバーと、そ
のカバーを金型間に対して搬送、搬出するカバー駆動手
段とからなることを特徴とする請求項２記載の光学素子
成形型の浄化装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17222395A JPH0925129A (ja) | 1995-07-07 | 1995-07-07 | 光学素子成形型の浄化方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17222395A JPH0925129A (ja) | 1995-07-07 | 1995-07-07 | 光学素子成形型の浄化方法及び装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0925129A true JPH0925129A (ja) | 1997-01-28 |
Family
ID=15937886
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17222395A Withdrawn JPH0925129A (ja) | 1995-07-07 | 1995-07-07 | 光学素子成形型の浄化方法及び装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0925129A (ja) |
-
1995
- 1995-07-07 JP JP17222395A patent/JPH0925129A/ja not_active Withdrawn
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| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20021001 |