JPH09245679A

JPH09245679A - 陰極線管の偏向収差補正方法および陰極線管並びに画像表示装置

Info

Publication number: JPH09245679A
Application number: JP5621596A
Authority: JP
Inventors: Masayoshi Misono; 正義御園; Atsushi Tsuruoka; 淳寉岡
Original assignee: Hitachi Ltd; Hitachi Electronic Devices Co Ltd
Current assignee: Hitachi Ltd; Hitachi Electronic Devices Co Ltd
Priority date: 1996-03-13
Filing date: 1996-03-13
Publication date: 1997-09-19

Abstract

(57)【要約】【課題】特にダイナミックフォーカス電圧の供給を行う
ことなく画面全域、電子ビーム全電流域においてフォー
カス特性を向上させ、良好な解像度を得ると共に、小電
流域でのモアレを低減して陰極線管の偏向収差を補正す
る。【解決手段】複数の電極からなる電子銃と偏向装置およ
び蛍光面を少なくとも備える陰極線管の偏向収差補正方
法において、前記偏向装置により形成される偏向磁界６
１中に固定した不均一磁界を形成する磁石を複数の電子
ビームのそれぞれに対して設置し、前記偏向装置の偏向
磁界６１による偏向量に応じた大きさの磁界を作用させ
ることにより、電子ビーム６２の偏向収差を補正する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は陰極線管に係り、特
に蛍光面の全域でしかも電子ビームの全電流域において
フォーカス特性を向上させて良好な解像度を得ることの
できる電子銃を備えた陰極線管の偏向収差補正方法およ
び陰極線管並びに画像表示装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】テレビジョン受像管やディスプレイ管等
の陰極線管は、複数の電極から成る電子銃と蛍光面（蛍
光膜を有する画面、以下蛍光膜あるいは単にスクリーン
とも言う）を少なくとも有し、電子銃から出射する電子
ビームを蛍光面上に走査するための偏向装置を備えてい
る。

【０００３】このような陰極線管において、蛍光面の中
心部から周辺部にわたって良好な再生画像を得るための
手段としては従来から次のような技術が知られている。

【０００４】例えば、インライン配列された３電子ビー
ムを用いる電子銃のシールドカップの底面にインライン
配列方向と平行に３電子ビームの径路を挟んで上下２枚
の平行平板電極を主レンズ方向に向けて設置したもの
（特公平４−５２５８６号公報）。

【０００５】インライン配列された３電子ビームを用い
る電子銃で、インライン配列方向と平行に３電子ビーム
の径路を挟んで上下２枚の平行平板電極を主レンズ対向
部から蛍光面方向に向けて設置することにより、電子ビ
ームが偏向磁界に入る前に電子ビームを整形するもの
（米国特許第４０８６５１３号明細書、特公昭６０−７
３４５号公報）。

【０００６】電子銃の一部の電極間に静電４重極レンズ
を形成し、電子ビームの偏向に対応して静電４重極レン
ズの強度をダイナミックに変化させて画面全体で画像の
均一化を図ったもの（特開昭５１−６１７６６号公
報）。

【０００７】予備集束レンズを形成する電極（第２電極
と第３電極）の領域内に非点収差レンズを設けたもの
（特公昭５３−１８８６６号公報）。

【０００８】インライン配列の３電子ビーム電子銃の第
１電極と第２電極の電子ビーム通過孔を縦長とし、それ
ら各電極形状を異ならせたり、センター電子銃の電子ビ
ーム通過孔の縦横比をサイド電子銃のそれより小さくし
たもの（特開昭５１−６４３６８号公報）。

【０００９】インライン配列電子銃の第３電極の陰極側
に形成したスリットにより非回転対称レンズを形成し、
スリットの電子銃軸方向の深さをセンタービームの方が
サイドビームよりも深くした少なくとも１個所の非回転
対称レンズを介して蛍光面に電子ビームを射突させるも
の（特開昭６０−８１７３６号公報）。

【００１０】インライン配列電子銃を用いたカラー陰極
線管で、偏向磁界の漏れ磁界中に軟磁性材を配置して各
電子ビームのインライン配列方向と直角方向に偏向する
ピンクッション磁界を形成することにより、偏向磁界に
よるインラインと直角方向のハローを抑制するもの（特
開昭５４−１３９３７２号公報）などがある。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】陰極線管におけるフォ
ーカス特性の要求は、画面の全域でしかも電子ビームの
全電流域での解像度が良好で、かつ低電流域ではモアレ
の発生がなく、さらに全電流域での画面全体の解像度の
均一さである。このような複数の特性を同時に満足させ
る電子銃の設計は高度な技術を要する。

【００１２】本発明者等の研究によれば、陰極線管に上
記諸特性を兼備させるためには、非点収差付のレンズと
大口径主レンズの組み合わせをもった電子銃を設けるこ
とが不可欠であることが分かった。

【００１３】しかし、上記従来技術においては、電子銃
に非点収差レンズや非回転対称レンズを発生させる電極
を用いて画面全域にわたって良好な解像度を得るために
は電子銃の集束電極にダイナミックなフォーカス電圧を
印加する等の必要があった。図８１は陰極線管に用いら
れる電子銃の一例を説明する全体側面図、図８２は図８
１の矢印方向からみた要部部分断面図である。

【００１４】この形式の電子銃は、陰極Ｋ、第１電極
（Ｇ１）１、第２電極（Ｇ２）２、第３電極（Ｇ３）
３、第４電極（Ｇ４）４、第５電極（Ｇ５）５、第６電
極（Ｇ６）６および第６電極（Ｇ６）６に一体化したシ
ールドカップとを含む複数の電極から構成される。な
お、第５電極（Ｇ５）５は２つの電極５１，５２で構成
されている。

【００１５】そして、第３電極３と第５電極５にフォー
カス電圧を与え、第６電極６のみに陽極電圧を与えて、
陰極Ｋと第１電極１および第２電極２からなる所謂３極
部で生成された電子ビームを第３電極３〜第６電極６で
形成される電子レンズで加速、集束して図示しない蛍光
面方向に出射する。

【００１６】この電子銃を構成する上記した各電極の長
さ、電子ビーム通過孔の口径等による電界の電子ビーム
に与える影響は全て異なる。例えば、陰極Ｋに近い第１
電極１の電子ビーム通過孔の形状は小電流域の電子ビー
ムのスポット形状を左右するが、第２電極２の電子ビー
ム通過孔の形状は小電流域から大電流域までの電子ビー
ムのスポット形状を左右する。

【００１７】更に、第６電極６に陽極電圧を供給して第
５電極５と第６電極６の間に主レンズを形成するものに
おいては、主レンズを構成する第５電極５と第６電極６
の電子ビーム通過孔の形状は大電流域での電子ビームス
ポット形状には大きな影響を与えるが、小電流域での電
子ビームスポット形状に与える影響は上記大電流域に比
較して小さい。

【００１８】さらに、上記電子銃の第４電極４の管軸方
向の長さは最適フォーカス電圧の大きさに影響し、かつ
小電流時と大電流時での各々の最適フォーカス電圧の差
に著しい影響を与えるが、第５電極５の管軸方向の長さ
変化による影響は第４電極４に比較して著しく小さい。

【００１９】したがって、電子ビームのもつ各々の特性
値を最適化するためには、各々の特性に最も効果的に作
用する電極の構造を適正化する必要がある。

【００２０】また、陰極線管の電子ビーム走査方向と直
角方向の解像度を増すため、電子ビーム走査方向と直角
方向のシャドウマスクピッチを小さくしたり、電子ビー
ム走査線の密度を大きくした場合、特に電子ビームの小
電流域では電子ビームとシャドウマスクとの間で光学的
な干渉が生じるため、モアレコントラストを適正化する
必要がある。しかし、従来の技術では、上記した様々な
問題点を克服することができなかった。

【００２１】例えば、図８３はフォーカス電圧の与え方
による電子銃の構造比較のための要部断面模式図であっ
て、（ａ）はフォーカス電圧固定方式、（ｂ）はダイナ
ミックフォーカス電圧方式を示す。

【００２２】同図（ａ）のフォーカス電圧固定方式電子
銃の電極構成は前記図８１，図８２に示したものと同じ
であり同一作用部分は同一符号を付してある。

【００２３】同図（ａ）のフォーカス電圧固定方式電子
銃では、その第５電極５を構成する電極５１と５２には
同一電位のフォーカス電圧Ｖf1が印加される。

【００２４】一方、同図（ｂ）のダイナミックフォーカ
ス電圧方式の電子銃では、２つの電極５１，５２で構成
されている第５電極５の上記電極５１，５２のそれぞれ
に異なるフォーカス電圧が供給される。特に、片方の電
極５２にはダイナミックフォーカス電圧ｄＶｆが供給さ
れる。

【００２５】さらに、このダイナミックフォーカス電圧
方式の電子銃では、同図（ｂ）に示したように他の電極
５１内に入り組んだ部分４３もあり、同図（ａ）に示し
た電子銃に比べて構造が複雑で部品のコストが高く、か
つ電子銃として組み立てる場合の作業性が劣るという欠
点がある。

【００２６】図８４は図８３に示した各電子銃に供給す
るフォーカス電圧の説明図であって、（ａ）はフォーカ
ス電圧固定方式の電子銃におけるフォーカス電圧、
（ｂ）はダイナミックフォーカス電圧方式の電子銃にお
けるフォーカス電圧である。

【００２７】すなわち、同図（ａ）では固定のフォーカ
ス電圧Ｖｆ₁が第３電極３と第５電極５（５１，５２）
に印加され、同図（ｂ）では固定のフォーカス電圧Ｖｆ
₁が第３電極３と第５電極５の一方の電極５１に印加さ
れると共に、さらに別の固定のフォーカス電圧Ｖｆ₂に
ダイナミックフォーカス電圧ｄＶｆを重畳した波形の電
圧を第５電極５の他方の電極５２に印加している。

【００２８】このため、図８４の（ｂ）に示したダイナ
ミックフォーカス電圧方式の電子銃では陰極線管のステ
ムのフォーカス電圧供給用のステムピンが２本必要にな
り、他のステムピンからの絶縁に同図（ａ）のフォーカ
ス電圧固定方式の電子銃以上の配慮が必要になる。

【００２９】したがって、テレビジョン受像機や端末装
置に組み込むためのソケットにも特別な構造を施す必要
があると共に、２系統の固定のフォーカス電源に加え
て、更にダイナミックフォーカス電圧発生回路を必要と
し、テレビジョン受像機や端末装置の組み立てラインで
のフォーカス電圧調整に時間を要するなどの問題があ
る。

【００３０】本発明の目的は、上記従来技術の問題点を
解消し、特にダイナミックフォーカス電圧の供給を行う
ことなく画面全域でしかも電子ビーム全電流域において
フォーカス特性を向上させ、良好な解像度を得ることが
できると共に、小電流域でのモアレを低減できる構成を
有する電子銃を備えた陰極線管の偏向収差補正方法およ
びその陰極線管並びに画像表示装置を提供することにあ
る。

【００３１】本発明の他の目的は、上記従来技術の問題
点を解消し、特にダイナミックフォーカス電圧の電圧値
が低くても画面全域でしかも電子ビーム全電流域におい
てフォーカス特性を向上させ、良好な解像度を得ること
ができる構成を有する電子銃を備えた陰極線管の偏向収
差補正方法およびその陰極線管並びに画像表示装置を提
供することにある。

【００３２】陰極線管では電子ビームの最大の偏向角度
（以下、単に偏向角あるいは偏向量ともいう）はほぼ決
まっているので、蛍光面のサイズが大形化するほど蛍光
面と電子銃の主集束レンズ間の距離が伸び此の領域で作
用する電子ビ−ムの空間電荷反発によるフォーカス特性
低下を助長する。

【００３３】従って、空間電荷反発によるフォーカス特
性低下を軽減する手段があれば蛍光面のサイズを縮小し
たような細い電子ビームを得られるので陰極線管の解像
度は向上する。

【００３４】本発明の更に他の目的は、陰極線管の蛍光
面と電子銃の主集束レンズ間で作用する電子ビームの空
間電荷反発によるフォーカス特性低下を軽減する陰極線
管の偏向収差補正方法およびその陰極線管並びに画像表
示装置を提供することにある。

【００３５】本発明の更にまた他の目的は、上記フォー
カス特性を向上させると同時に、陰極線管の全長を短縮
できる電子銃を備えた陰極線管の偏向収差補正方法およ
びその陰極線管並びに画像表示装置を提供することにあ
る。

【００３６】本発明の更にまた他の目的は、陰極線管の
偏向角を広げた場合に画面全体の画像の均一性が低下し
ない電子銃を備えた陰極線管の偏向収差補正方法および
その陰極線管並びに画像表示装置を提供することにあ
る。

【００３７】偏向角を広げた場合も陰極線管の全長を短
縮できる。現行のテレビジョン受像機（以下、テレビセ
ットと言う）の奥行き寸法は陰極線管の全長に依存して
いるがテレビセットを家具と考えるとその奥行きは短い
のが好ましい。更に、テレビセットメーカなどが沢山の
テレビセットを搬送する場合セットの奥行きの短いのは
輸送効率上好ましい。

【００３８】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は前記各請求項に記載した構成とした。

【００３９】すなわち、本発明は、複数の電極から成る
電子銃と偏向装置および蛍光面を少なくとも備える陰極
線管において、偏向磁界中に磁石を設置することで不均
一磁界を形成することにより偏向収差を補正することを
特徴とする。

【００４０】上記偏向収差の補正は、偏向磁界中で非偏
向時の電子ビームの軌道を挟む位置に各々１箇所以上の
偏向磁界に対応した不均一磁界を形成する磁石を設置す
ることにより偏向量に対応して偏向収差を補正すること
を特徴とする。

【００４１】上記偏向収差の補正の別な方法は、偏向磁
界中で非偏向時の電子ビームの軌道を略中心とする偏向
磁界に対応した不均一磁界を形成する磁石を設置するこ
とにより偏向量に対応して偏向収差を補正することを特
徴とする。

【００４２】また、上記不均一磁界は電子ビームを発
散、あるいは集束する作用をもち、電子ビームの走査線
方向、あるいは走査線と直角方向の偏向量に対応して偏
向収差を補正することを特徴とする。

【００４３】さらに、本発明は、インライン配列された
３電子ビームを用いるカラー陰極線管において上記イン
ライン配列の中央電子ビームと脇電子ビームに対応する
上記偏向磁界中に設置した磁石で形成される不均一磁界
が異なる強度を持ちながら偏向量に対応して偏向収差を
補正することを特徴とする。

【００４４】さらに、本発明は、インライン配列された
３電子ビームを用いるカラー陰極線管において上記イン
ライン配列の脇（サイド）電子ビームに対応する上記偏
向磁界中に設置した磁石で形成される不均一磁界の中央
（センター）電子ビーム寄り側と中央電子ビームから離
れる側の分布が異なる状態で偏向量に対応して偏向収差
を補正することを特徴とする。

【００４５】さらに、本発明は、インライン配列された
３電子ビームを用いるカラー陰極線管において上記偏向
磁界中に設置した磁石による不均一磁界は、上記インラ
イン配列の垂直方向への偏向収差補正においては偏向磁
界に対応する発散作用をもつ不均一磁界を各電子ビーム
の非偏向時の軌道を挟んでインライン配列の垂直方向そ
れぞれの位置に一つ以上設置し、上記インライン配列方
向への偏向収差補正においては偏向磁界に対応して集束
作用をもつ不均一磁界を各電子ビームの非偏向時の軌道
をインライン配列方向に挟んでそれぞれの位置に設置す
ることにより偏向量に対応して偏向収差を補正すること
を特徴とする。

【００４６】さらにまた、本発明での上記偏向収差の補
正は、偏向磁界中に非偏向時の電子ビームの軌道を挟む
位置に各々１箇所以上の偏向磁界の変化に伴い変化する
不均一磁界を形成する磁石を設置することにより偏向量
に対応して偏向収差を補正することを特徴とする。

【００４７】さらにまた、前記不均一磁界を形成する磁
性材料がＦｅ−Ｍｎ系、Ｆｅ−Ｃｒ−Ｃｏ系、またはＦ
ｅ−Ｃｒ−Ｃｏ−Ｖ系の何れかであることを特徴とす
る。

【００４８】さらにまた、本発明での上記偏向収差の補
正を行うために偏向磁界中に形成する磁石の材料として
硬磁化特性の磁性材料を用いることを特徴とする。

【００４９】さらにまた、本発明での上記偏向収差の補
正を行うために偏向磁界中に形成する磁石の材料として
透磁率が５０以上の硬磁化特性の磁性材料を用いること
を特徴とする。

【００５０】

【発明の実施の形態】上記請求項に記載の構成とした本
発明の偏向収差補正方法および陰極線管並びにこの陰極
線管を用いた画像表示装置は、以下に記載したような形
態で実施できる。

【００５１】（１）一般に、陰極線管では偏向量が増す
に従い偏向収差量が急激に増大する。本発明では偏向磁
界中に位置して電子ビームが偏向されてその軌道が変化
するとき、電子ビームの集束又は発散作用が変化する不
均一な磁界を形成する磁石を設置することにより、偏向
収差補正が可能になる。

【００５２】（２）図６５は偏向量（偏向角度）と偏向
収差量の関係の説明図、図６６は偏向量と偏向収差補正
量の関係の説明図である。

【００５３】図６５に示したように、電子ビームは偏向
角度の増加に応じてその偏向収差量が増大する。本発明
では偏向磁界中に位置して電子ビームが偏向されてその
軌道が変化するとき、図６６に示した様に、偏向量に応
じて偏向収差補正量が増加する不均一な磁界を形成する
磁石を設置することにより、偏向量に応じて急激に増大
する偏向収差の補正が可能になる。

【００５４】（３）偏向磁界中に位置して電子ビ−ムが
偏向されてその軌道が変化するとき、偏向量に応じて適
切に電子ビームの集束又は発散作用が加速される不均一
な磁界の一つとして、非偏向時の電子ビームの軌道を挟
んだ位置への対称に分布する不均一な磁界の形成または
偏向の方向により非対称に分布する不均一な磁界の形成
が有効である。

【００５５】非偏向時の電子ビームの軌道から離れるに
従い電子ビームの集束又は発散の作用量が増す。

【００５６】なお、本発明で言う不均一な磁界とは磁束
密度又は並びに磁界の範囲に分布を持つことを意味す
る。

【００５７】非偏向時の電子ビームと、非偏向時の電子
ビームの軌道を挟んで設置されている偏向磁界に対応し
た発散作用を持つ磁界を通過する偏向された電子ビーム
の状態とを比較すると、非偏向時の電子ビームの軌道か
ら離れた部分を通過する電子ビームは磁界中を進行する
に伴い発散し、かつ全体軌道も非偏向時の電子ビームの
軌道から離れていく。

【００５８】更に、軌道の変わり方も非偏向時の電子ビ
ームの軌道から離れている部分の側が大きい。これは、
非偏向時の電子ビームの軌道からはなれるに従い鎖交す
る磁束の量が増すからである。鎖交する磁束の量が増す
のは磁力線の間隔が狭くなる（磁束密度が上がる）か又
は並びに磁界の範囲が広くなるからである。

【００５９】一般的に陰極線管では、電子銃の主レンズ
から蛍光面までの距離は蛍光面中央よりは蛍光面周辺の
方が長いので、偏向磁界に集束又は発散作用が無い場合
には蛍光面中央で電子ビームを最適集束させると蛍光面
周辺では過集束となる。

【００６０】本発明では、不均一磁界を偏向磁界中に形
成する磁石を設置することにより、偏向量が増すと該不
均一磁界による発散作用が増加して電子ビームの蛍光面
周辺での過集束を軽減できることにより、偏向量に対応
して前記図６６のような偏向収差補正が可能になる。

【００６１】本発明では、偏向磁界が電子ビームの集束
作用を持つ場合には、更に強度を増した傾向をもつ不均
一磁界を偏向磁界内に形成する磁石を設置することによ
り、偏向量が増すときの該不均一磁界による発散作用の
増加が偏向磁界による集束作用の増加を上回ることが可
能になり、前記陰極線管の構造に起因する蛍光面周辺の
電子ビームの過集束現象も含めた偏向収差の補正を可能
にする。

【００６２】（４）図６７は電子ビームの蛍光膜上の集
束状態の説明図であって、３は第３電極、４は第４電
極、１３は蛍光膜、３８は主レンズを示す。

【００６３】また、図６８は陰極線管の蛍光面（スクリ
ーン）を構成するパネル部に形成される走査線の説明図
であって、１４はパネル部、６０は走査軌跡を示す。

【００６４】陰極線管の偏向は同図に示したように電子
ビームを直線状に走査させる方法が多い。直線状の走査
軌跡６０を走査線と呼んでいる。

【００６５】偏向磁界は走査線の方向（Ｘ−Ｘ）と走査
線と直角な方向（Ｙ−Ｙ）とでは異なる場合が多い。ま
た上記偏向磁界中に形成する不均一磁界の作用を大きく
受ける前に、前記複数の電子銃電極の少なくとも一つの
作用により、電子ビームは、その走査線方向と走査線と
直角方向の集束作用とが異なる場合も多い。

【００６６】更に又、陰極線管の使途によって走査線方
向の偏向収差補正を重視するか、走査線と直角方向の偏
向収差補正を重視するかは重み付けが異なる。偏向収差
の走査線との方向対応、補正の内容、補正の量にそれぞ
れ対応する技術的手段は必ずしも同一でなく、要する価
格も異なるので、それぞれに適切に対応する手段は異な
る場合が多く、本発明ではそれらに適合する。

【００６７】（５）非偏向時の電子ビームの軌道を略中
心とする偏向磁界に対応した集束作用を持つ不均一磁界
を持つ場合、非偏向時の電子ビームと偏向されて非偏向
時の電子ビーム軌道から離れた部分を通過する電子ビー
ムとを比較すると、非偏向時の電子ビーム軌道から離れ
た部分を通過する電子ビームが進行するに伴い偏向され
ない電子ビームに比べて集束量が大きく、かつ全体軌道
も非偏向時の電子ビームの軌道から離れていく。

【００６８】更に、軌道の変わり方も非偏向時の電子ビ
ームの軌道から離れている側が小さい。これは非偏向時
の電子ビームの軌道からはなれるに従い鎖交する磁束の
量が減るからである。鎖交する磁束の量が減るのは、磁
力線の間隔が広くなる（磁束密度が下がる）又は並びに
磁界の領域が狭くなるからである。

【００６９】偏向磁界が電子ビームの発散作用をもつ場
合、偏向量が増すと集束作用が増加して電子ビームの蛍
光面周辺での過集束を軽減出来るような不均一な磁界を
偏向磁界内に形成することにより、偏向量に対応して前
記図６７で説明したような偏向収差補正が可能になる。

【００７０】偏向収差の走査線との方向対応、補正の内
容、補正の量にそれぞれ対応する技術的手段は必ずしも
同一でなく、要する価格も異なるのでそれぞれに適切に
対応する手段は異なる場合が多く、本発明ではそれらに
適合する。

【００７１】（６）３電子ビームを水平方向にインライ
ン配列したカラー陰極線管では、蛍光面上での３電子ビ
ームの集中を制御する回路の簡便化を図るため、後述す
る図７２に示したように垂直偏向磁界にはバレル形の磁
力線分布、水平偏向磁界にはピンクッション形の磁力線
分布をそれぞれ用いている。

【００７２】インライン配列の３電子ビームのうち、両
脇電子ビームが垂直偏向磁界により受ける偏向収差の量
は垂直偏向磁界の強さと水平偏向の方向により異なる。
例えば、蛍光面側から陰極線管を見て、インラインの右
側電子ビームが蛍光面の左に偏向する場合と右に偏向す
る場合では通過する偏向磁界の磁束分布が違うので偏向
収差量が異なり、蛍光面上での左右端で画質が変る。

【００７３】これを抑制するには、脇電子ビームでは電
子銃の中心から右側と左側の電子軌道を通る場合の電子
ビームの集束又は発散作用の量が異なる状態が必要であ
る。本発明の如く、インラインの脇電子ビームでは電子
銃の中心から右側と左側の磁界の分布の異なる不均一磁
界を偏向磁界中に形成することが有効である。

【００７４】非偏向時の電子ビーム軌道の位置を挟んで
異なった強度を持つ偏向磁界に対応した発散作用を持つ
不均一磁界を持つ場合、偏向された電子ビームは磁界中
を進行するに伴い非偏向時の電子ビームに比べて発散量
が大きく、かつ全体軌道も非偏向時の電子ビーム軌道か
ら離れていく。

【００７５】更に、軌道の変わり方も非偏向時の電子ビ
ーム軌道から離れている側が大きい。これは、非偏向時
の電子ビーム軌道から離れるに従い鎖交する磁束の量が
増すからである。鎖交する磁束の量が増すのは磁力線の
間隔が狭くなるか又は並びに磁界の範囲が広くなるから
である。磁力線の間隔の狭くなり方が急激な程又は並び
に磁界の範囲の広がり方が急激な程、顕著である。

【００７６】これに対して、非偏向時の電子ビーム軌道
から離れるに従い、磁力線の間隔の狭くなり方の少ない
方の又は並びに磁界の範囲の広がり方の少ない方の磁界
側では、偏向された電子ビームは磁界中を進行するに伴
い偏向されない電子ビームに比べて発散量が大きく、か
つ全体軌道も非偏向時の電子ビーム軌道から離れてい
く。

【００７７】更に、軌道の変わり方も非偏向時の電子ビ
ーム軌道から離れている側が大きいが、変化の仕方は、
前記非偏向時の電子ビーム軌道から離れるに従い、磁力
線の間隔の狭くなり方が多い又は並びに磁界の範囲の広
がり方が大きい方向の軌道変化に比べて少ない。これ
は、非偏向時の電子ビーム軌道から離れるときの鎖交す
る磁束の量の増し方が少ないからである。鎖交する磁束
の量の増し方が少ないのは、磁力線の間隔の狭くなり方
が少ない又は並びに磁界の範囲の増し方が少ないからで
ある。

【００７８】したがって、偏向量が増すと該磁界による
発散作用が偏向の方向により異なりながら増加するよう
な磁界を偏向磁界内に形成することにより、前記図６７
に示したような偏向収差補正が可能になる。

【００７９】偏向磁界が電子ビームの発散作用を持ち偏
向の方向により偏向収差が異なる場合の電子ビームは、
後述する図４に示したような傾向をもつ磁界を偏向磁界
内に形成することにより、偏向量が増すとき該磁界によ
る集束作用が偏向の方向により異なりながら増加して前
記図６５に示したような偏向収差補正が可能になる。（７）不均一な磁界を偏向磁界中に形成することにより
蛍光面全体での解像度の均一性向上を図るためには、該
磁界中でも電子ビームの軌道が偏向方向に必要量の分布
を持つ磁界の領域を通過するように偏向される必要があ
る。従って前記不均一な磁界は偏向磁界との位置関係に
制約される。

【００８０】同時に、偏向収差を補正する効果は偏向磁
界中に設置した磁石によって形成される不均一な磁界の
磁束の量に依存する。磁束の量は磁束密度と磁界の範囲
に依存する。前記磁界は少なくとも磁石の二つの磁極間
で発生させる。前記磁束密度並びに範囲は前記少なくと
も磁石の二つの磁極の構造、位置、並びに磁極内の磁束
密度の組合せにより決まるので一意的ではないが、上記
磁界中を通過するときの実用的な電子ビームの太さ、実
用的な前記磁束密度などの制約を受ける。

【００８１】前記磁界は少なくとも磁石の二つの磁極間
で発生させるが、前記偏向量に対応して偏向収差を補正
する磁石、すなわち前記不均一磁界を形成する磁石を偏
向収差補正磁石と呼ぶ（なお、前記したように、これを
単に磁石と称する）。この偏向収差補正磁石は複数あっ
てもよく、数量の制限はなく、また他の電極の一部に作
用を持たせてもよい。

【００８２】周知のように、偏向に必要な磁束の量は蛍
光面の電圧に依存し、蛍光面電圧の平方根で除すること
により正規化できる。この値を用いると前記不均一の磁
界中での電子ビームの軌道が明確になり磁界設定の精度
が向上し、適切な偏向収差補正を可能にする。

【００８３】必要な磁束は前記不均一な磁界の範囲と磁
束密度とに依存し、前記磁界の範囲が広いほど必要な磁
束密度は少なくてもよい。不均一な磁界の磁束密度は磁
石の隣接する磁極対の位置関係、磁極中での磁束密度並
びに前記不均一な磁界を形成する偏向収差補正磁石自体
の構造にも依存する。前記磁石の隣接する磁極対との位
置関係が接近するほど電子ビーム近傍の磁界は強くなる
が、距離はゼロにはできない。

【００８４】前記磁石の隣接する磁極中の磁束密度を増
すことで磁界は強くできる。しかし、該磁界の大幅な増
加は電子ビームが偏向をあまり受けない軌道、すなわち
電子ビームが該陰極線管の蛍光面の中央近傍に射突する
場合にも不均一な磁界の影響で多量に歪んでしまい、蛍
光面中央近傍の解像度低下を無視できなくなる。従って
磁石の隣接する磁極間の磁束密度には制限がある。

【００８５】前記不均一な磁界を形成する偏向収差補正
磁石の磁極対の間隔を狭めれば僅かな軌道の変化でも電
子ビームの集束又は発散が生ずるという期待もあるが、
電子ビームの太さまで考えると、実用的には前記不均一
な磁界を形成する磁石の磁極対の間隔は０．５ミリメー
トル程度が限界である。これらを考慮して、本発明で
は、該陰極線管の最大偏向角が１００度以上の場合は、
前記正規化した磁束密度が蛍光面電圧の１キロボルトの
平方根あたり０．０２ミリテスラ（ｍＴ）以上にすれば
効果を発揮できる。

【００８６】前記磁石の磁極の蛍光面側が陰極線管の管
軸方向に入り組んでいる場合は前記距離は最も長い部分
である。

【００８７】（８）該陰極線管の偏向磁界の分布は偏向
装置の構造に制約される。最大偏向角が決まれば前記蛍
光面電圧の平方根で正規化された磁束のうち、最大の磁
束密度の値もほぼ決まる。前記固定した不均一な磁界を
偏向磁界中に形成する磁石位置の設定としては、最大磁
束密度の所定のレベル以上の領域という設定方法があ
る。

【００８８】この方法は前記磁束密度の絶対値で設定す
る場合に比べ磁束密度の測定を著しく簡便化できる。即
ち、最大磁束密度との相対値比較で十分であり、実用上
大変有為である。但し、磁束密度の最大値は磁石を構成
する磁性材料の形状によって変わるのでこの部分は誤差
となるが実用上支障ない。

【００８９】本発明では、該陰極線管の最大偏向角が１
００度以上の場合は、前記（７）で述べた磁石の位置関
係の制限を考慮して、前記磁束密度のレベルは前記不均
一な磁界を形成する磁石の蛍光面側の端部で最大磁束密
度の５％以上にすれば実用上支障ない範囲で効果を発揮
できる。

【００９０】（９）磁束密度は磁路の透磁率に依存する
ため、偏向磁界を発生させるコイルのコアを形成する磁
性材料からの位置と密接に対応する。必要磁束密度の領
域を示す方法の一つは、前記不均一な磁界を形成する磁
石と前記磁性材料間の距離がある。この方法は、偏向磁
界を発生させるコイルのコア位置さえ分かれば磁束密度
の測定を省略できるので、実用上大変有為である。

【００９１】但し、磁束密度の分布は前記磁性材料の形
状によって変わるのでこの部分は誤差となるが実用上支
障ない。

【００９２】本発明では、該陰極線管の最大偏向角が１
００度以上の場合は、前記（７）で述べた磁石の位置関
係の制限を考慮して、前記磁性材料の蛍光面から離れる
側の端から前記不均一な磁界を形成する磁石の蛍光面側
の端部までの距離は５０ミリメートル以内にすれば実用
上支障ない範囲で効果を発揮できる。

【００９３】前記偏向収差補正磁石の蛍光面側が陰極線
管の管軸方向に入り組んでいる場合は前記距離は最も長
い部分である。

【００９４】（１０）同様にして、本発明では該陰極線
管の最大偏向角が１００度未満の場合は、前記（７）に
相当する正規化された磁束密度は蛍光面電圧１キロボル
トの平方根あたり０．００４ミリテスラ以上が効果を発
揮できる。前記（８）に相当する磁束密度は１０％以上
が実用上支障ない範囲で効果を発揮できる。前記（９）
に相当する距離は３５ミリメートル以内が実用上支障な
い範囲で効果を発揮できる。

【００９５】（１１）陰極線管では、陰極線管全体や使
用する電子銃の、構造、作り易さ並びに使い勝手などの
実用的なことを考えると、前記不均一な磁界はその強度
を無制限に増すことはできない。

【００９６】本発明では、使い易さも考えて比較的強度
の低い磁界でも効果を発揮するためには電子ビームは該
領域で適度な太さが必要である。一般的に陰極線管のう
ちで電子ビームの径が大きいのは主レンズ近傍である。
従って、前記不均一な磁界を形成する偏向収差補正磁石
の位置は主レンズからの距離に制約される。

【００９７】更に、これを主レンズ部より極端に陰極側
に設置すると主レンズの集束作用で非点収差が相殺され
易く、又電子銃電極の一部に電子ビームの一部が射突す
る不具合が生じやすくなる。

【００９８】該陰極線管の最大偏向角の８５度未満のも
のや電子ビームが単一なもの、更には磁界による電子ビ
ームの集束をも利用するものなどの条件を考えあわせる
と、本発明では前記不均一な磁界を形成する磁石の蛍光
面に近い側端部と該陰極線管の該電子銃陽極の主レンズ
対向面間の距離は、前記端部が前記電子銃陽極の主レン
ズ対向面間よりも蛍光面側に向けて前記電子銃陽極の集
束電極対向部の走査線と直角方向の開孔径の５倍以下か
又は１８０ミリメートル以下、陰極側に向けて前記開口
径の３倍以下又は１０８ミリ以下の範囲が効果を発揮で
きる。

【００９９】（１２）本発明では、前記不均一な磁界領
域で効果を発揮するためには偏向磁界の磁束密度が必要
量存在することが条件である。前記偏向収差補正磁石は
硬磁性材料で構成すればよいが、前記偏向収差補正磁石
の少なくとも一部を高透磁率の磁性材料で構成すれば該
磁界領域の磁束密度をより高める手段となり更に偏向収
差の補正が良好になる。

【０１００】（１３）本発明では、前記偏向収差補正磁
石の構造は電子ビーム径路への近接配置が必要である。
そのための一つの手段としては、電子ビームの径路の一
部を挟む構造の設置である。前記（３）で述べたよう
に、非偏向時の電子ビームの軌道を挟む位置への対称に
分布する偏向磁界に対応した不均一な磁界設置または偏
向の方向により非対称に分布する不均一な磁界設置があ
る。

【０１０１】前記２種類の不均一磁界の形成は前記磁石
の構造により可能である。一般的に陰極線管の電子銃電
極部品は金属板をプレス加工して製作する。

【０１０２】近年陰極線管のフォーカス特性が著しく向
上し、前記電極部品に要求される精度は高く、前記偏向
収差補正磁石も例外ではない。大量生産の場合、前記偏
向収差補正磁石をプレス部品にすることにより、加工精
度が高くコストの低い部品を製作できる。この部品材料
としては、薄板化、線材化、およびカールや絞りの加工
が容易なＦｅ−Ｍｎ系、Ｆｅ−Ｃｒ−Ｃｏ系、Ｆｅ−Ｃ
ｒ−Ｃｏ−Ｖ系が好適である。

【０１０３】陰極線管の偏向では前記のように走査線を
形成するものが多い。走査線方式の偏向を行う陰極線管
では蛍光面の形状が略矩形の場合が多く、走査も前記矩
形の辺に略平行の場合が一般的で、該陰極線管では対応
する画像表示装置ヘの組込易さもあって蛍光面を設置す
る真空外囲部の外形も蛍光面に合わせた略矩形である。

【０１０４】従って、本発明では、前記２種類の不均一
磁界は走査線に対応する構造、蛍光面の形状に対応する
構造が画像形成には都合がよい。不均一磁界は走査線と
同じ方向か走査線と直角の２方向が考えられるが、該陰
極線管の使われ方にも関係し一意的に決まるものではな
い。

【０１０５】（１４）本発明では、前記磁石の磁極の間
隔は、形成する磁界強度と当該箇所の電子ビームの軌道
に密接に関係し、間隔が極端に大きいと効果が低減す
る。

【０１０６】陰極線管を画像表示装置に用いる場合の装
置の奥行きは、該陰極線管の管軸の長さに制約されて自
由に短くすることはできない。

【０１０７】その一つの対応手段は該陰極線管の最大偏
向角の増量である。現時点で実用化されている最大偏向
角は、単電子ビームの陰極線管の場合１１４度、インラ
イン３電子ビームの陰極線管でも同程度である。

【０１０８】今後更に増加の傾向にあるが、最大偏向角
の増量は偏向磁界の最大磁束密度を加速度的に増加させ
る。実用的には陰極線管のネック部の径に制約される。

【０１０９】前記ネック部の径は偏向磁界を発生させる
電力を節約させる点、前記偏向磁界を発生させる機構部
の材料を節約させる点などで外径が最大４０ミリメート
ル程度が使いやすい。

【０１１０】一般に、電子銃の電極の最大径は該陰極線
管のネック部の内径より小さく、かつネック部の肉厚は
機械的強度、絶縁性、及びＸ線の漏洩防止などのため数
ミリメートルの厚さが必要である。

【０１１１】本発明では、前記（７）で述べた電極並び
に電界関係の制限をも考慮して、偏向磁界中に偏向磁界
に対応する不均一磁界を形成することにより偏向収差を
補正するための磁石における前記磁極間隔の走査線方向
又は走査線と直角方向の最も狭い部分の最適距離は、該
電子銃の陽極の集束電極と対向する部分の前記走査線と
直角方向の開口径の１．５倍以下か、０．５から３０ミ
リメートルの間にすることによりコストメリットが良く
かつ特性効果を発揮できる。

【０１１２】（１５）本発明では、電子ビームの径路を
挟んで対向する磁石の磁極構造によっても不均一な磁界
の形成は可能である。

【０１１３】図６９は偏向収差補正磁石の構成例の説明
図であって、（ａ）は磁石の正面図、（ｂ）はその側面
図である。

【０１１４】また、後述する図１１は不均一磁界を形成
するための磁石と非偏向時の電子ビーム軌道位置の配置
図である。

【０１１５】不均一な磁界を形成するために、例えば、
図６９の（ａ）（ｂ）に示したような磁石３９を偏向磁
界内で図１１の非偏向時の電子ビーム軌道を挟むように
配置すると、磁石３９は高透磁率なので近傍の磁力線の
磁路となり対向部間に偏向磁界の変化に伴う強さの不均
一磁界が磁石３９の間に発生する。

【０１１６】この磁石３９により偏向収差補正磁石構造
が構成され、その対向部の形状は一部平行でない部分が
あったり、一部に切欠きをもたせることにより、該陰極
線管の使途、該電子銃の他の電極の特性との組み合わせ
に応じて最適な偏向収差補正が可能になる。

【０１１７】特に、該陰極線管が多品種少量生産の場
合、高価なプレス金型を各仕様に合わせて作るのはコス
ト高となる。この磁石はプレス加工で整形するよりは、
やや精度が劣るが薄い板状材料を切断またはエッチング
することで容易に製作できる。これにより、高価なプレ
ス金型が不要なので多品種少量生産でもコストの低い部
品を製作できる。

【０１１８】本発明では、前記磁石の対向部の最適寸法
範囲は前記（１４）の磁石の磁極の間隔とほぼ同様であ
るが、対向する構造なので磁石の二つの磁極間の距離が
ゼロは含まれない。更に、対向する方向は前記（１４）
と同様に走査線方式の偏向を行う陰極線管では走査線方
向又は並びに走査線と直角方向に対応すれば具合が良
い。

【０１１９】（１６）前記偏向磁界に対応した不均一な
磁界を形成する偏向収差補正磁極が偏向量の増加に対応
して発散作用を増して偏向収差補正する場合は、前記磁
石の磁極の対向部間の磁界はその近傍の集束作用を持つ
偏向磁界よりも高磁束密度にする必要がある。

【０１２０】本発明では、前記磁石の磁極形状により対
向部間の磁界をその近傍の偏向磁界より強くすることに
より達成する。この場合上記磁極の対向部間には導電体
で形成された電極がなくともよい。

【０１２１】前記実施例十分な磁束密度をもつ偏向磁界
内に設置し、その磁極の構造、対向部間の距離を選ぶこ
とにより、前記磁極の対向部間に偏向磁界の変化に対応
した強い不均一な磁界を形成することができる。

【０１２２】前記偏向磁界に対応した不均一な磁界を形
成する手段の一つとして本発明では、陰極線管内部又は
並びに外部に硬磁化特性をもつ強磁性体からなる磁路を
形成する。

【０１２３】前記偏向磁界に対応した不均一な磁界は該
陰極線管の外部から調整可能にすると偏向収差の補正は
より精度を向上できる。

【０１２４】（１７）前記（１１）で述べたように、偏
向磁界内に偏向磁界に対応した不均一磁界を形成して偏
向収差を補正する場合、実用性から前記不均一磁界は比
較的強度の低い磁界でも効果を発揮するのが好ましく、
そのために電子ビームは該領域で適度な太さが必要であ
る。

【０１２５】一般的に、陰極線管のうちで電子ビームの
径が大きいのは主レンズ近傍である。前記偏向収差補正
磁石の位置は主レンズからの距離に制約されるが、適用
偏向磁界、電子銃の構造、広い電子ビーム電流範囲への
対応と特定電子ビーム電流域への対応では自ずと磁石の
磁極構造も異なるため上記主レンズからの距離は一意的
ではない。

【０１２６】陰極線管において、特にインライン型カラ
−受像管やカラー表示管などでは、一般にコンバーゼン
ス調整の簡便化から電子ビームの偏向磁界は非斉一であ
る。このような場合、偏向磁界による電子ビームの歪み
を抑制するために主レンズは可能な限り偏向磁界発生部
より離した方が良いため、通常、偏向磁界発生部は電子
銃の主レンズよりも蛍光面に近い位置に設置する。

【０１２７】（１８）本発明では、偏向磁界中に偏向磁
界に対応した不均一磁界を形成して偏向収差補正をする
とき、上記非斉一の偏向磁界による電子ビームの歪みを
予め見込んで上記不均一磁界を形成する磁石を設置する
ことにより偏向磁界発生部と主レンズの接近を可能にす
る。

【０１２８】本発明では、該陰極線管の最大偏向角が１
００度以上の場合は、前記偏向磁界を発生させるコイル
のコアを成す磁性材の蛍光面から離れる側の端部と電子
銃陽極の集束電極対向面との最適距離は６０ミリメート
ル以内である。

【０１２９】（１９）一方、電子銃の陰極から主レンズ
間の長さは、電子銃の像倍率を縮小して蛍光面上のビー
ムスポット径を小さくするためには、長い方が良い。

【０１３０】従ってこれらの２つの作用に対応した解像
度の良い陰極線管は必然的に管軸長が長くなる。

【０１３１】しかし、本発明により、電子銃の陰極から
主レンズまでの間の長さを変化させない状態で主集束レ
ンズの位置を蛍光面に近付けることで、電子銃の像倍率
は更に縮小して蛍光面上の電子ビームスポット径を更に
小さく出来、同時に管軸長も短縮できる。

【０１３２】（２０）主レンズの位置が蛍光面に近付く
ことにより、電子ビーム中の空間電荷の反発の持続する
時間が短縮されるので、蛍光面上のビームスポット径を
更に小さく出来る。

【０１３３】（２１）上記（１８）から（２０）と同様
な内容を更に高精度で実施するために本発明では、該陰
極線管の最大偏向角が１００度以上の場合での前記偏向
磁界と前記主レンズ間の最適距離は、前記偏向磁界のう
ち走査線方向又は並びに走査線と直角方向に偏向する磁
界の最大磁束密度の１０％以上の磁界中に前記電子銃の
主レンズ対向部が含まれる部分があることである。

【０１３４】（２２）上記（１８）から（２１）と同様
な内容を更に又高精度で実施するために本発明では、該
陰極線管の最大偏向角が１００度以上の場合での偏向磁
界と前記主レンズ間の最適距離は、前記陰極線管の蛍光
面電圧をＥボルト、電子銃陽極の主レンズ対向部で前記
偏向磁界のうち走査線方向または走査線と直角方向に偏
向する磁界の磁束密度をＢテスラとするとき、ＢをＥの
平方根で除した値が陽極電圧１キロボルトあたり０．０
０４ミリテスラ以上の部分を含むことである。（２３）上記（１８）から（２２）と同様な内容で該陰
極線管の最大偏向角が８５度以上で１００度未満の場合
での本発明における偏向磁界と該電子銃の主レンズ間の
最適距離は、上記（１８）から（２０）に相当する部分
が４０ミリメートル以内、上記（２１）に相当する部分
が１５％以上、上記（２２）に相当する部分が０．００
３ミリテスラ以上である。

【０１３５】（２４）上記（１８）から（２２）と同様
な内容で該陰極線管の最大偏向角が８５度未満の場合で
の本発明における偏向磁界と該電子銃の主レンズ間の最
適距離は、上記（１８）から（２０）に相当する部分が
１７０ミリメートル以内、上記（２１）に相当する部分
が５％以上、上記（２２）に相当する部分が０．０００
５ミリテスラ以上である。

【０１３６】（２５）上記（１８）から（２４）で見ら
れるように、従来技術と異なり本発明では偏向磁界と該
電子銃の主レンズ間の最適距離を短縮出来る。

【０１３７】本発明での該陰極線管のネック部と前記電
子銃の主レンズとの最適位置は、前記電子銃陽極の主レ
ンズ対向面の位置が前記ネック部の蛍光面側端部を基準
として蛍光面と反対側１５ミリメートルよりも蛍光面側
である。

【０１３８】従来技術では電子銃主レンズの位置を偏向
磁界から離していたため、電子銃陽極への電圧供給は該
陰極線管のネック部内壁から行っている。

【０１３９】本発明では、電子銃主レンズの位置を偏向
磁界から離す必要がなくなり蛍光面に近付けて設置でき
るため、該陰極線管のネック部内壁以外から電子銃陽極
への電圧供給が可能になる。

【０１４０】陰極線管においては、狭い空間に高電界を
形成するため品質を安定させるためには耐電圧特性の安
定化が重要技術の一つである。最大の電界強度は電子銃
主レンズ近傍である。付近の電界は電子銃陽極への電圧
を供給する該陰極線管のネック部内壁に塗布された黒鉛
膜や、陰極線管内に残留する異物のネック部内壁への付
着にも依存する。

【０１４１】本発明では、電子銃主レンズをネック部よ
り蛍光面側に設定することも可能であり耐電圧特性を著
しく安定化出来る。

【０１４２】（２６）電子ビームスポットが蛍光面の中
央に位置する時は偏向磁界の影響を受けないので、偏向
磁界による歪み対策は不要になるため電子銃のレンズ作
用は回転対称の集束系となり、蛍光面上での電子ビーム
スポット径をより小さくすることが出来る。

【０１４３】（２７）本発明では、前記偏向磁界内に偏
向磁界に対応した不均一磁界を形成する磁石を設置して
偏向収差を補正するのに加え、電子銃の一部の電極に偏
向に対応したダイナミックな電圧を印加することでより
一層螢光面の全域で適正な電子ビームの集束作用が可能
になり螢光面の全域で解像度が良好な特性を得られる。
更に必要な前記ダイナミック電圧を低くすることも可能
になる。

【０１４４】（２８）本発明では、前記偏向磁界内に偏
向磁界に対応した不均一磁界を形成する磁石を設置して
偏向収差を補正するのに加え、電子銃を構成する複数の
電極で構成される複数の静電レンズの作る電界の少なく
とも一つを非回転対称電界とすることにより、螢光面の
画面中央部の大電流域での電子ビームスポットの形状を
略円形または略矩形とし、かつ電子ビーム走査方向に作
用する適正フォーカス電圧が走査方向と直角方向に作用
する適正フォーカス電圧より高いフォーカス特性を有す
る静電レンズと、上記螢光面中央部での小電流域の電子
ビームスポットの走査方向径より走査方向と直角方向の
径を走査方向と直角方向のシャドウマスクピッチや走査
線密度に適合させ、かつ走査方向に作用する適正フォー
カス電圧が走査方向と直角方向に作用する適正フォーカ
ス電圧より高いフォーカス特性を有する静電レンズが形
成され、これらの非回転対称電界によるレンズは電子ビ
ームを螢光面の画面上の全域でしかも全電流域において
モアレのない良好なフォーカス特性をもたらす。

【０１４５】（２９）なお、本発明において使用してい
る「非回転対称」とは、円の如く回転中心から等距離の
点の軌跡で表されるもの以外を意味する。たとえば「非
回転対称」のビームスポットとは非円形のビームスポッ
トのことである。

【０１４６】（３０）前記（２５）で述べたように、本
発明では前記偏向磁界内に偏向磁界に対応した不均一磁
界を形成する磁石を設置して偏向収差を補正するため、
従来技術に比べて電子銃の主レンズを該陰極線管に用い
る偏向磁界に近接して使用出来る。

【０１４７】前記電子銃の主レンズにも前記偏向磁界が
浸透するので、前記主レンズよりも蛍光面に近い電極で
は電子ビームが射突しない構造が不可欠である。複数の
電極を持つインライン配列された３電子ビームを用いる
前記電子銃の場合における本発明の最適設計は、シール
ドカップの３電子ビームが通過する孔の仕切りのない前
記３電子ビーム共通の単一孔である。

【０１４８】同時に、前記偏向磁界内に偏向磁界に対応
した不均一磁界を形成して偏向収差を補正する磁石を前
記シールドカップの底面にある電子ビームが通過孔より
も蛍光面側に設置する場合は、前記磁石の磁極の対向部
に相当する部分が空間であることが偏向時の電子ビーム
の軌道が前記不均一磁界の中により入って行っても前記
磁極を取り付けてある電極に電子ビームが射突するポテ
ンシャルが下がり、前記偏向磁界に対応した不均一磁界
の効果を助長して蛍光面全域での解像度の均一性向上を
可能にする。

【０１４９】（３１）本発明では、複数の電極を持つ電
子銃としてインライン配列された３電子ビームを用いて
前記偏向磁界内に偏向磁界に対応した不均一磁界を形成
する磁石を設置して偏向収差を補正するために、前記偏
向磁界に対応した不均一磁界を形成する磁石の前記３電
子ビームのうち中央電子ビームに対応する部分と脇電子
ビームに対応する部分とを異なる構造にすることにより
蛍光面上での前記３電子ビーム間の解像度のバランス調
整が出来る。

【０１５０】さらに、前記偏向磁界に対応した不均一磁
界を形成する磁石の前記３電子ビームのうち前記脇電子
ビームに対応する部分をインライン方向の中央電子ビー
ム側と逆側では異なった構造にすることにより、偏向磁
界によるコマ収差を低減出来る。

【０１５１】以上、本発明の個々の技術の効果について
述べたが、前記技術を二つ以上組み合わせることによ
り、該陰極線管では更に蛍光面全域での解像度の均一化
向上、および蛍光面中央での全電流域で解像度の向上、
並びに陰極線管の管軸短縮が可能になる。

【０１５２】更に、上記陰極線管を用いることで、蛍光
面全域での解像度の均一化向上、および蛍光面中央での
全電流域で解像度の向上、並びに奥行きの短い画像標示
装置が可能になる。

【０１５３】次に、本発明による電子銃を用いたことに
よる陰極線管のフォーカス特性と解像度が向上されるメ
カニズムを説明する。

【０１５４】図７０はインライン型電子銃を備えたシャ
ドウマスク方式カラー陰極線管の断面を説明する模式図
であって、７はネック、８はファンネル、９はネック７
に収納した電子銃、１０は電子ビーム、１１は偏向ヨー
ク、１２はシャドウマスク、１３は蛍光面を構成する螢
光膜、１４はパネル（画面）である。

【０１５５】同図において、この種の陰極線管は、電子
銃９から発射された電子ビーム１０を偏向ヨーク１１で
水平と垂直の方向に偏向させながらシャドウマスク１２
を通過させて螢光膜１３を発光させ、この発光によるパ
ターンをパネル１４側から画像として観察するものであ
る。

【０１５６】また、図７１は画面の中央部で円形となる
電子ビームスポットで画面の周囲を発光させた場合の電
子ビームスポットの説明図であって、１４は画面、１５
は画面中央部でのビームスポット、１６は画面の水平方
向（Ｘ−Ｘ方向）端でのビームスポット、１７はハロ
ー、１８は画面垂直方向（Ｙ−Ｙ方向）端でのビームス
ポット、１９は画面対角方向（コーナ部）端でのビーム
スポットを示す。

【０１５７】また、図７２は陰極線管の偏向磁界分布の
説明図であって、Ｈは水平偏向磁界分布、Ｖは垂直偏向
磁界分布を示す。

【０１５８】最近のカラー陰極線管では、コンバーゼン
ス調整を簡略化するために図７２に示したように水平偏
向磁界Ｈをピンクッション形、垂直偏向磁界Ｖをバレル
形の非斉一磁界分布を用いている。

【０１５９】このような磁界分布のためと、螢光面（画
面）中央部とその周囲とでは電子ビーム１０の電子銃の
主レンズから蛍光面に至る軌道長が異なることのため
と、かつ画面周辺部では電子ビーム１０は螢光膜１３に
対して斜めに射突するために、画面の周辺部では電子ビ
ーム１０による発光スポットの形状は円形ではなくな
る。

【０１６０】前記図７１に示したように、水平方向端に
おけるビームスポット１６は中央部でのスポット１５が
円形であるのに対し横長となり、かつ主レンズと蛍光面
間の距離が画面中央より長くなるため、電子ビームは上
下に過収束となり、ビームスポツトの上下にハロー１７
が発生する。このため、水平方向端のビームスポット１
６の大きさが大となり、かつハロ−１７の発生でスポッ
ト１６の輪郭が不明瞭となって解像度が劣化し画像品質
を著しく低下させてしまう。

【０１６１】さらに、電子ビーム１０の電流が少ない場
合は、電子ビーム１０の垂直方向の径が過剰に縮小して
シャドウマスク１２の垂直方向のピッチと光学的に干渉
を起こし、モアレ現象を呈すると共に、画質の低下をも
たらす。

【０１６２】また、画面垂直方向端におけるスポット１
８は、垂直方向の偏向磁界によって電子ビーム１０が上
下方向（垂直方向）に集束されて横つぶれの形状となる
と共にハロー１７が発生して画質の低下をもたらす。

【０１６３】画面のコーナ部での電子ビームスポット１
９は、上記スポット１６のように横長となるのと、主レ
ンズと蛍光面間の距離の増加によるハローの発生、さら
に上記スポット１８のように横つぶれになるのとが相乗
的に作用するのに加え、電子ビーム１０の回転が生じ、
ハロー１７の発生はもとより、発光スポット径自身も大
きくなって、著しく画質の低下をもたらす。

【０１６４】図７３は上記した電子ビームスポット形状
の変形を説明する電子銃の電子光学系の模式図であっ
て、理解を容易にするために上記系を光学系に置き換え
てある。

【０１６５】同図では、図の上半分に画面の垂直方向
（Ｙ−Ｙ）断面、下半分に画面の水平方向（Ｘ−Ｘ）断
面を示す。

【０１６６】そして、２０，２１はプリフォーカスレン
ズ、２２は前段主レンズ、２３は主レンズであり、これ
らのレンズで前記図８０の電子銃に相当する電子光学系
を構成する。また、２４は垂直偏向磁界により生じるレ
ンズ、２５は水平偏向磁界により生じるレンズであり、
偏向による電子ビームが蛍光膜１３に対して斜めに射突
することにより見掛け上水平方向に引き延ばされるのを
等価的なレンズとして表したものである。

【０１６７】先ず、陰極Ｋから発射される画面の垂直方
向断面の電子ビーム２７はプリフォーカスレンズ２０と
２１の間で陰極Ｋから距離ｌ1 のところでクロスオーバ
Ｐを形成後、前段主レンズ２２と主レンズ２３で蛍光膜
１３に向けて集束される。

【０１６８】偏向が零である画面中央部では軌道２８を
通って蛍光膜１３に射突するが、画面周辺部では垂直偏
向磁界により生じるレンズ２４の作用で軌道２９を通っ
て横つぶれのビームスポットとなる。さらに、主レンズ
２３には球面収差があるので、一部の電子ビームは軌道
３０で示すように、蛍光膜１３に達する前に焦点を結ん
でしまう。これが前記図７１に示したような画面垂直方
向端のビームスポット１８のハロー１７やコーナ部のビ
ームスポット１９のハロー１７が発生する理由である。

【０１６９】一方、陰極Ｋから発射された画面の水平方
向断面の電子ビーム３１は上記垂直方向断面の電子ビー
ム２７と同様に、プリフォーカスレンズ２０，２１、前
段主レンズ２２，主レンズ２３により集束され、偏向磁
界の作用が零である画面中央部では軌道３２を通って蛍
光膜１３に射突する。

【０１７０】偏向磁界が作用する領域でも水平偏向磁界
によるレンズ２５の発散作用のために軌道３３を通って
横長のスポット形状となるが、水平方向にハロー１７が
発生することはない。

【０１７１】ただし、画面中央部に比較して主レンズ２
３と蛍光膜１３との間の距離が大きくなるため垂直方向
の偏向作用のない前記図７１の水平方向端部１６におい
ても垂直方向の断面では蛍光膜１３に到達する以前に一
部の電子ビームは焦点を結ぶため、ハロー１７が発生す
る。

【０１７２】このように、電子銃のレンズ系を、水平方
向，垂直方向共に同一な系となる構造とした回転対称の
レンズ系において画面中央部での電子ビームのスポット
形状を円形にすると、画面周辺部での電子ビームのスポ
ット形状は歪んでしまい、画質を著しく低下させる。

【０１７３】図７４は図７３で説明した画面周辺部での
画質の低下を抑制する手段の説明図であって、図７３と
同一符号は同一部分に対応する。

【０１７４】同図に示したように、画面の垂直方向（Ｙ
−Ｙ）断面での主レンズ２３−１の集束作用を水平方向
（Ｘ−Ｘ）断面での主レンズ２３より弱くする。これに
より、電子ビームの軌道は垂直偏向磁界により生じるレ
ンズ２４を通過した後でも図示の軌道２９に示したよう
になり、図７１で説明したような極端な横つぶれは発生
せず、またハロー１７も生じ難くなる。しかし、画面中
央部での軌道２８は電子ビームのスポット径を増す方向
にシフトする。

【０１７５】図７５は図７４に示したレンズ系を用いた
場合の螢光面１４の電子ビームスポット形状を説明する
模式図であって、水平方向端部のビームスポット１６と
垂直方向端部のビームスポット１８およびコーナ部のビ
ームスポット１９、すなわち画面周辺部でのビームスポ
ットではハロー１７が抑制されるので、これらの個所の
解像度は向上する。

【０１７６】しかし、画面中央部でのビームスポット１
５を見ると、垂直方向のスポット径ｄＹは水平方向のス
ポット径ｄＸより大きくなり、垂直方向の解像度は低下
する。

【０１７７】したがって、主レンズ２３の画面垂直方向
と水平方向の集束効果が異なった構造とした非回転対称
電界系にすることでは、画面全体の解像度を同時に向上
させるという目的からは根本的解決策とはならない。

【０１７８】図７６は主レンズ２３のレンズ強度を非回
転対称とする代わりにプリフォーカスレンズ２１の水平
方向（Ｘ−Ｘ）レンズ強度を強化した電子銃の電子光学
系の模式図であって、クロスオーバ点Ｐの像を発散させ
る水平方向プリフォーカスレンズ２１−１の強度を垂直
方向プリフォーカスレンズ２１のそれより大きくし、電
子ビーム３１の前段主レンズ２２への入射角を増し、主
レンズ２３を通過する電子ビームの径を大きくすること
によって、蛍光膜１３での水平方向での電子ビームスポ
ット径を小さくすることができる。

【０１７９】しかし、画面垂直方向の電子ビーム軌道は
前記図５２に示したものと同様であるのでハロー２８の
抑制効果はない。

【０１８０】図７７は上記図７６の構成にハローの抑制
効果を付加した電子銃の電子光学系の模式図であって、
前段主レンズを２２−１に示したように垂直方向（Ｙ−
Ｙ）のレンズ強度を増すことにより、主レンズ２３の垂
直方向の電子ビーム軌道が光軸に接近して、焦点深度の
深い結像系となり、ハロー２８は目立たなくなって解像
度が向上する。

【０１８１】図７８は上記図７７に示した構成のレンズ
系を用いたときの画面１４上での電子ビームのスポット
形状を説明する模式図であって、ビームスポット１５，
１６，１８，１９に示されたように画面全域にわたって
ハローのない良好な解像度が得られる様子が分かる。

【０１８２】以上は、電子ビームの電流量が比較的大き
な場合（大電流域）の電子ビームスポット形状の説明で
ある。しかし、電子ビームの電流量が少ない場合（小電
流域）では、電子ビームの軌道は結像系の近軸のみを通
過するので、口径の大きいレンズ２１，２２，２３の水
平方向と垂直方向のレンズ強度の差の影響は少なく、図
７９に３４，３５，３６，３７で示したように、ビーム
スポットは画面中央部では円形（３３）で、画面周辺部
では横長（３４，３５）あるいは斜長（３６）となって
モアレ発生の原因になり、ビームスポット径の横方向径
（水平方向径）の増加により解像度が低下する。

【０１８３】この対策としては、レンズ口径が小さく、
レンズ強度の非回転対称性が結像系の近軸付近まで影響
する部位のレンズでの対処が必要になる。

【０１８４】図７９は小電流時での電子ビームの軌道を
説明する電子銃光学系の模式図であって、この場合は、
陰極Ｋからクロスオーバ点Ｐまでの距離ｌ₂は、前記図
７３の同距離ｌ₁より陰極Ｋの近くになる。

【０１８５】図８０はプリフォーカスレンズの内の発散
レンズ側の画面垂直方向（Ｙ−Ｙ）のレンズ強度を大き
くした場合の電子銃の光学系を示す模式図であって、プ
リフォーカスレンズ２０を構成する発散レンズの垂直方
向強度を増すことで、クロスオーバＰの陰極Ｋからの距
離ｌ₃は前記ｌ₂よりも長くなる。

【０１８６】このため、垂直方向断面の電子ビーム２７
がプリフォーカスレンズ２１に入射する位置は図７８の
場合よりもさらに近軸となり、レンズ２１，２２−１お
よび２３のレンズ効果は小さくなって画面の垂直方向の
焦点深度が深い結像系となる。

【０１８７】ただし、大電流時と小電流時の各レンズで
の影響は完全には独立しておらず、同図の垂直方向のプ
リフォーカスレンズ２０−１のレンズ効果は大電流時の
電子ビームのスポット形状に影響するので、各レンズの
特性を活かして全体のバランスのとれた系にする必要が
ある。特に、主レンズの構造が異なったり、画質のどの
ような項目をより向上すべきか等は陰極線管の使途によ
り異なるので、非回転対称のレンズの位置および各々の
レンズ強度については一意的ではない。

【０１８８】また、上記のように、通常の陰極線管の使
途では、全電流域での解像度を向上させるためには、大
電流域と小電流域とで別の部位での非回転対称電界を形
成するレンズの設置が必要であり、また各レンズの非回
転対称性には電界強度の変化に限界があり、かつレンズ
部位に依っては非回転対称電界の強度を増すとビーム形
状が極端に歪んで、解像度の低下をもたらす原因とな
る。

【０１８９】以上は電子ビームのスポットの変形による
フォーカス特性の低下を抑制する一般的な手段である。
実際の電子銃ではこのような目的のために、前記したよ
うに、フォーカス電圧を固定の状態で用いる方式のもの
と、陰極線管の画面上で電子ビ−ムの偏向角に応じてそ
の位置での最適フォーカス電圧をダイナミックに供給す
る方式のものが有る。

【０１９０】上記２つの方式にはそれぞれ長所短所が有
る。フォーカス電圧を固定の状態で用いる方式のものは
電子銃のコストが低くかつフォーカス電圧を供給する電
源回路も簡単で、回路のコストが低い反面、非点収差補
正を行うために陰極線管の画面上での各位置でそれぞれ
最適フォーカス状態にできるわけではないので、ビーム
スポットの径は最適フォーカス状態に比べて大きくな
る。

【０１９１】一方、陰極線管の画面上で電子ビームの偏
向角に応じてその位置での最適フォーカス電圧をダイナ
ミックに供給する方式は、画面上の各点で良好なフォー
カス特性が得られる反面、電子銃の構造およびフォーカ
ス電圧を供給する電源回路も複雑になり、さらにテレビ
セットやディスプレイ端末の組立ラインでのフォーカス
電圧の設定に時間を要するのでコストも上昇する。

【０１９２】本発明では、上記２つの方式のそれぞれの
長所を併せ持ち、かつ短所を除くと共に上記２つにはな
い管軸長の短いという第３の長所をも持つ電子銃を用い
た陰極線管を提供するものである。

【０１９３】以下、本発明の実施の形態につき、具体的
な実施例の図面を参照して詳細に説明する。

【０１９４】陰極線管では偏向量が増すに従い前記図６
５で説明したように、偏向収差量が急激に増大する。

【０１９５】本発明は、偏向磁界中に位置して電子ビ−
ムが偏向されてその軌道が変化するとき、電子ビ−ムの
集束又は発散作用が変化する不均一な磁界を形成する磁
石を設置することにより、適正な電子ビームの集束作用
を可能にして螢光面上での解像度の均一性を向上させる
ものである。

【０１９６】また、本発明では、偏向磁界中に位置して
電子ビ−ムが偏向されてその軌道が変化するとき、前記
図６７で説明したように、偏向量に応じて偏向収差補正
量が加速される不均一な磁界を形成する磁石を設置する
ことにより、偏向量に応じて前記図６６のように急激に
増大する偏向収差の補正を行い、螢光面の全域で適正な
電子ビームの集束作用を可能としたものである。その結
果、螢光面の全域で解像度の均一性の向上が可能にな
る。

【０１９７】偏向磁界中に位置して、偏向された電子ビ
−ムがその軌道を変化するとき偏向量に応じて適切に電
子ビームの発散作用が加速される不均一な磁界の一つと
して、非偏向時の電子ビーム軌道位置を挟んで略対称な
位置に各々不均一な磁界を形成する磁石を設置するのが
有効である。

【０１９８】非偏向時の電子ビーム軌道を挟んで略対称
な位置に各々偏向磁界に対応する不均一な磁界を形成す
る磁石を設置することで、偏向量が増すに従い電子ビー
ムの発散の作用量が増す。

【０１９９】図１は本発明による陰極線管の偏向収差補
正方法の第１実施例を説明する模式図であって、電子ビ
ームが偏向量、すなわち偏向量は偏向磁界に対応するの
で偏向磁界に対応する発散作用を持つ不均一磁界を発生
する磁石を非偏向時の電子ビーム中心軌道Ｚ−Ｚから離
れた位置に対称にそれぞれ設置したときの磁界分布の断
面の例を示す。

【０２００】同図において、６１は磁力線、６２は偏向
されて非偏向時の電子ビーム中心軌道から離れた部分を
通過する電子ビームである。６３は非偏向時の電子ビー
ム軌道であり、この場合は偏向磁界に対応する発散作用
を持つ不均一磁界は存在しないので６２との状態が異な
り、誤解を避けるため破線で示してある。

【０２０１】偏向されて非偏向時の電子ビーム中心軌道
から離れた部分を通過する電子ビーム６２は磁界中を進
行する間に非偏向時の電子ビーム６３に比べて発散量が
大きく、かつ全体軌道も非偏向時の電子ビーム中心軌道
から離れていく。更に、軌道の変わり方も非偏向時の電
子ビーム中心軌道から離れている側が大きい。磁力線６
１の間隔が非偏向時の電子ビーム中心軌道から離れるに
従い狭くなるからである。

【０２０２】このような偏向量に対応する不均一磁界を
磁石によって偏向磁界中に形成することにより、電子ビ
ームが偏向されてその軌道が変化するとき偏向量に応じ
て電子ビームの発散作用が加速され、偏向収差が電子ビ
ームの集束を強める場合の偏向収差補正を可能にする。

【０２０３】例えば、前記図６７に示したように、陰極
線管では一般的に電子銃の主レンズから蛍光面までの距
離は蛍光面中央よりは蛍光面周辺の方が長いので、偏向
磁界に集束作用が無い場合でも蛍光面中央で電子ビーム
を最適集束させると蛍光面周辺では過集束となる。

【０２０４】本実施例では、図１に示したような偏向量
に対応した不均一磁界を磁石により偏向磁界内に形成す
ることにより、偏向量の増加に応じて発散作用が増加
し、前記図６７に示したような偏向収差補正が可能にな
る。

【０２０５】偏向磁界中に位置して、偏向された電子ビ
−ムがその軌道を変化するとき、偏向量に応じて適切に
電子ビームの集束作用が加速される不均一な磁界の一つ
として、非偏向時の電子ビームの中心軌道を中心とする
偏向量に対応した不均一な磁界を形成するのが有効であ
る。

【０２０６】非偏向時の電子ビームの中心軌道を中心と
する偏向磁界に対応する不均一な磁界を形成する磁石を
設置することで、偏向量が増すに従い電子ビームの集束
の作用量が増す。

【０２０７】本発明による陰極線管の偏向収差補正方法
の第２実施例は、図１に示したような磁石による不均一
磁界を偏向磁界中に形成し、走査線方向又は並びに走査
線とは直角方向の偏向収差補正をするものである。

【０２０８】３電子ビームを水平方向にインライン配列
したカラー陰極線管では、蛍光面上での３電子ビームの
集中を制御する回路の簡便化を図るため、前記図７２に
示したように垂直偏向磁界にはバレル形の磁界分布、水
平偏向磁界にはピンクッション形の磁界分布をそれぞれ
用いている。

【０２０９】インライン配列の３電子ビームのうち、両
脇電子ビームは垂直偏向磁界により受ける偏向収差の量
が垂直偏向磁界の強さと水平偏向の方向により異なる。
例えば、蛍光面側から陰極線管を見て、インラインの右
側電子ビームが蛍光面の左に偏向する場合と右に偏向す
る場合では、通過する偏向磁界の磁界分布が違うので偏
向収差量が異なる。蛍光面上での左右コーナで画質が変
る。

【０２１０】このような場合の脇電子ビームの偏向収差
補正には、偏向磁界中に脇電子ビーム用電子銃の中心軸
を挟んで水平偏向方向に非対称な偏向磁界に対応した不
均一磁界を発生する磁石の設置が有効である。

【０２１１】図２は本発明による陰極線管の偏向収差補
正方法の第３実施例を説明する模式図であって、電子銃
の中心軸を挟んで磁界分布の異なる電子ビームの発散作
用を持つ不均一磁界を発生する磁石をそれぞれ設置した
例である。

【０２１２】同図（ａ）（ｂ）は磁力線密度が高い側で
の電子ビームの発散を説明する模式図で、磁力線６１の
密度の高い側で電子銃の中心軸Ｚ−Ｚから離れた部分を
通過する電子ビーム６２−２では、磁界中を進行するに
伴い発散し、かつ全体軌道も中心軸Ｚ−Ｚから離れてい
く。更に、軌道の変わり方も中心軸Ｚ−Ｚから離れた側
が大きい。これは、磁力線６１の間隔が中心軸Ｚ−Ｚか
ら離れるに従い狭くなるからである。

【０２１３】また、（ｃ）（ｄ）は磁力線密度が低い側
での電子ビームの発散を説明する模式図で、中心軸Ｚ−
Ｚから離れた部分を通過する電子ビーム６２−３はやは
り電子ビーム６２−２のように磁界中を進行するに伴い
発散し、全体軌道も中心軸Ｚ−Ｚから離れていき、かつ
軌道の変わり方も中心軸Ｚ−Ｚから離れた側が大きい
が、変わり方が電子ビーム６２−２に比較して小さい。
これは、磁力線６１の間隔が中心軸Ｚ−Ｚから離れても
あまり狭くならないからである。

【０２１４】このような偏向量に対応する不均一磁界を
磁石により偏向磁界中に形成して電子ビームが偏向され
てその軌道が変化するとき、偏向量に伴う電子ビームの
発散作用の加速のされ方が偏向の方向により異なるの
で、偏向収差量が偏向の方向により異なる集束作用の場
合の偏向収差補正をする。

【０２１５】実際には、適用する最大偏向角を含む陰極
線管の構造、組み合わせる偏向磁界発生部の構造、不均
一な磁界を形成する磁石、不均一な磁界を形成する部分
以外の電子銃構造、陰極線管の駆動条件、陰極線管の使
途などに依存するので一意的ではない。

【０２１６】図３は本発明による陰極線管の偏向収差補
正方法の第４実施例を説明する模式図であって、電子銃
の中心軸近傍に非対称な電子ビームの集束作用を持つ不
均一磁界を発生する磁石を設置した例である。偏向され
て磁力線６１で形成される磁界の内で磁束密度の高い側
の中心軸Ｚ−Ｚから離れた部分を通過する電子ビーム６
２−４と、やはり偏向されて磁力線６１で形成される磁
界の内で磁束密度の低い側の中心軸Ｚ−Ｚから離れた部
分を通過する電子ビーム６２−５の状態比較である。

【０２１７】磁束密度の高い側の電子ビーム６２−４は
磁界中を進行するに伴い集束しながら、かつ全体軌道も
中心軸Ｚ−Ｚから離れていく。更に、軌道の変わり方も
中心軸Ｚ−Ｚに近い側が大きい。これは、磁力線６１の
間隔が中心軸Ｚ−Ｚから離れるに従い広くなるからであ
る。

【０２１８】磁束密度の低い側の中心軸Ｚ−Ｚから離れ
た部分を通過する電子ビーム６２−５もやはり電子ビー
ム６２−４のように磁界中を進行するに伴い集束してい
き、かつ全体軌道も中心軸Ｚ−Ｚから離れていく。かつ
軌道の変わり方も中心軸Ｚ−Ｚに近い側が大きいが、変
わり方が電子ビーム６２−４に比較して小さい。これ
は、磁力線６１の間隔変化が中心軸Ｚ−Ｚから離れても
あまり変わらないからである。

【０２１９】このような偏向量に対応する不均一磁界を
偏向磁界中に形成して電子ビームが偏向されてその軌道
が変化するとき、偏向量に伴う電子ビ−ムの集束作用の
加速のされ方が偏向の方向により異なるので、偏向収差
量が偏向の方向により異なる発散作用の場合の偏向収差
補正する。

【０２２０】実際には、適用する最大偏向角を含む陰極
線管の構造、組み合わせる偏向磁界発生部の構造、不均
一な磁界を形成する磁石、不均一な磁界を形成する個所
以外の電子銃構造、陰極線管の駆動条件、陰極線管の使
途などに依存するので一意的ではない。

【０２２１】３電子ビームを水平方向にインライン配列
したカラー陰極線管では、蛍光面上での３電子ビームの
集中を制御する回路の簡便化を図るため、前記図７２の
様に垂直偏向磁界にはバレル形の磁界分布、水平偏向磁
界にはピンクッション形の磁界分布をそれぞれ用いてい
る。

【０２２２】このようなカラー陰極線管ではインライン
配列の方向、つまり上記水平方向が走査線方向である。
インライン配列の３電子ビームのうち、両脇電子ビーム
は垂直偏向磁界により受ける偏向収差の量が垂直偏向磁
界の強さと水平偏向の方向により異なる。

【０２２３】例えば、蛍光面側から陰極線管を見て、イ
ンラインの右側電子ビームが蛍光面の左に偏向する場合
と右に偏向する場合では、通過する偏向磁界の磁界分布
が違うので偏向収差量が異なる。

【０２２４】本発明の別の実施例では、インライン配列
の３電子ビームのうち、両脇電子ビームに対応する偏向
磁界中に偏向磁界に対応した不均一磁界として上記走査
線方向に図２または図３のような中心軸に対して非対称
な磁界を磁石により形成して偏向収差補正する。

【０２２５】実際には適用する最大偏向角を含む陰極線
管の構造、組み合わせる偏向磁界発生部の構造、不均一
な磁界を形成する磁石、不均一な磁界を形成する個所以
外の電子銃構造、陰極線管の駆動条件、陰極線管の使途
などに依存するので一意的ではない。

【０２２６】図４は本発明による陰極線管の第１実施例
を説明する断面模式図であって、１は電子銃の第１電極
（Ｇ１）、２は第２電極（Ｇ２）、３は第３電極（Ｇ
３）で、この実施例ではフォーカス電極である。

【０２２７】４は第４電極（Ｇ４）でこの実施例では陽
極である。７は電子銃を収納する陰極線管のネック部、
８はファンネル部、１４はパネル部でこれら３つの組合
せにより陰極線管の真空外囲器を構成する。

【０２２８】また、１０は電子銃から発射された電子ビ
ームであり、シャドウマスク１２の開口部を通過してパ
ネル１４の内面に形成された蛍光膜１３に射突して該蛍
光膜１３を発光させ、陰極線管の画面上に表示を行う。
１１は電子ビーム１０を偏向させる偏向ヨークで、電子
ビームを制御する映像信号に同期して磁界を発生させ電
子ビーム１０の蛍光膜１３への射突位置を制御する。

【０２２９】なお、３８は電子銃の主レンズで、陰極Ｋ
から発射された電子ビーム１０が第１電極（Ｇ１）１，
第２電極（Ｇ２）２，第３電極（Ｇ３）３を通過後、陽
極４との間に形成される主レンズ３８の電界により電子
ビーム１０を蛍光面１３上に焦点を結ぶ作用をする。

【０２３０】そして、３９は偏向ヨーク１１の磁界内に
位置して偏向磁界に対応する不均一磁界を形成し、電子
ビーム１０を偏向ヨーク１１の磁界で偏向するとき、当
該偏向角に応じて電子ビーム１０の偏向収差を補正する
磁石である。

【０２３１】本実施例では、この偏向収差補正磁石３９
は陽極４に機械的に固定され、電子ビーム１０の垂直方
向上下に紙面に垂直な方向に各１個、計２個の間隙をな
す磁極で構成されて、上記２個の間隙と間隙の間を通過
する電子ビーム１０に発散作用する不均一磁界を形成す
る。なお、４０は電子銃の電極をステムピン（図示せ
ず）に接続するリードである。

【０２３２】同図では、上記偏向収差補正磁石３９を構
成する２個の間隙を作る磁極の上下間隔は、実際には上
記２個の間隙を作る磁極の取付け位置，蛍光膜１３に向
かって延びる長さ，偏向磁界の分布，上記２個の間隙間
を通過するときの電子ビームの径，陰極線管の最大偏向
角などの組合せで決まるので、その広がりの程度は一意
的ではない。

【０２３３】図示されたように、本実施例では、電子銃
の主レンズ３８は偏向ヨーク１１の偏向磁界内で、該偏
向ヨーク取付け位置より蛍光膜１３側に寄った位置にあ
るごとく示しているが、この主レンズ３８は偏向ヨーク
の磁界領域内であれば図示された位置に限るものではな
い。

【０２３４】図５は本発明による陰極線管の作用を説明
する要部断面模式図であって、前記図４の偏向ヨーク１
１の磁界内に位置して、電子ビーム１０を該偏向ヨーク
１１の磁界で偏向するとき、その偏向角に応じて電子ビ
ーム１０の偏向収差を補正する不均一磁界を形成するた
めの偏向収差補正磁石３９の作用の１例を詳細に説明す
るものである。

【０２３５】この例でも上記不均一磁界は電子ビーム１
０に発散作用する。図４と同じ機能の部分は同一符号を
付してある。

【０２３６】また、図６は本発明の実施例による陰極線
管における不均一磁界形成磁石である偏向収差補正磁石
の作用を従来技術と対比説明するために上記偏向収差補
正磁石を欠如した図５と同様の要部断面模式図である。

【０２３７】図５，図６において、電子銃の第３電極
（Ｇ３）３を通過してきた電子ビーム１０は第４電極
（Ｇ４）４との間に形成される主レンズ３８により集束
され、偏向ヨーク１１で形成される偏向磁界による偏向
を受けない場合（画面中央部）はそのまま直進して蛍光
膜１３上に径Ｄ₁のビームスポットを結ぶ。

【０２３８】ここで、蛍光膜１３の図中上側に偏向され
る場合を例にとり、偏向収差補正磁石３９の作用の有り
（図５），無し（図６）で電子ビーム１０の軌道がどの
ように変わるか定性的に説明する。

【０２３９】図６において、電子ビーム１０の外周軌道
のうち、下側外周軌道は偏向収差補正磁石３９の作用が
ないため１０Ｄのように進む。上側外周軌道も偏向収差
補正磁石３９の作用がないため１０Ｕのように進み、蛍
光膜１３に到達する前に下側外周軌道１０Ｄと交差す
る。この結果、蛍光膜１３上には図６に示した径Ｄ₂の
スポットを結ぶ。

【０２４０】これに対して、図５に示したように、偏向
収差補正磁石３９が作用すると電子ビ−ムの上側に位置
する軌道の部分は偏向収差補正磁石３９で形成される磁
力線の作用を受けて１０Ｕ’のように進み、また電子ビ
ームの下側に位置する軌道の部分は偏向収差補正磁石３
９によって形成される磁路の為該部分の偏向磁界が減少
するので１０Ｄのように進み、蛍光膜１３に到達する前
に上記上側外周軌道１０Ｕ' と交差することもなく蛍光
膜１３に到達する。

【０２４１】この結果、蛍光膜１３上には上記Ｄ₂より
小さな径Ｄ₃のスポットを結ぶ。これは、上記不均一な
磁界が図１のように形成されているからである。

【０２４２】径Ｄ₃のビームスポツトの蛍光膜１３上各
位置での分布は偏向収差補正磁石３９を構成する部品の
取付け位置、蛍光面１３に向かって延びる長さ、偏向磁
界の分布、上記２つの間隙間を通過するときの電子ビー
ムの径、陰極線管の最大偏向角などの組合せで適正化で
き、画面中央部でのビームスポツト径Ｄ₁との差を小さ
くして画面全域で一様な解像度とすることができる。

【０２４３】図７は本発明の他の実施例の陰極線管の作
用を説明する要部断面模式図であって、前記図４の偏向
ヨーク１１の磁界内に位置して、電子ビーム１０を該偏
向ヨーク１１の磁界で偏向するとき、その偏向角に応じ
て電子ビーム１０の偏向収差を補正する不均一磁界を形
成するための偏向収差補正磁石３９の作用の他の例を詳
細に説明するものである。同図において、（ａ）は上面
図、（ｂ）は側面図である。

【０２４４】この例では、上記不均一磁界は電子ビーム
１０に集束作用を与える。前記図４と同じ機能に部分に
は同一符号を付してある。

【０２４５】図８は上記本発明の他の実施例の陰極線管
における不均一磁界形成磁石である偏向収差補正磁石の
作用を従来技術と対比して説明するために上記偏向収差
補正磁石が欠如した図７と同様の要部断面模式図であ
る。

【０２４６】図７、図８において、電子銃の第３電極
（Ｇ３）３を通過してきた電子ビーム１０は第４電極
（Ｇ４）４との間に形成される主レンズ３８により集束
され、偏向ヨーク１１で形成される偏向磁界による偏向
を受けない場合（画面中央部）はそのまま直進して蛍光
膜１３上に径Ｄ₁のビームスポットを結ぶ。

【０２４７】ここで、蛍光膜１３の図中蛍光面側から見
て右側に偏向される場合を例にとり、偏向収差補正磁石
３９の作用のあり（図７）、なし（図８）で電子ビーム
１０の軌道がどのように変わるかを定性的に説明する。

【０２４８】図８において、電子ビーム１０の外周軌道
のうち、蛍光面側からみて右側外周軌道は偏向収差補正
磁石３９の作用がないため１０Ｒのように進む。左側外
周軌道も偏向収差補正磁石３９の作用がないため１０Ｌ
のように進み、蛍光膜１３に到達するときは発散して径
Ｄ₂のビームスポットを結ぶ。

【０２４９】これに対して、図７に示したように、偏向
収差補正磁石３９が作用すると、電子ビームの左側に位
置する軌道の部分は、偏向収差補正磁石３９で形成され
る磁力線の作用を受けて１０Ｌ’のように進む。

【０２５０】また、電子ビームの右側に位置する軌道の
部分は、偏向収差補正磁極３９によって形成される磁界
のため、該部分の偏向磁界が減少するので１０Ｒのよう
に進み、蛍光膜１３に到達するときは、電子ビーム１０
は集束する。

【０２５１】この結果、蛍光膜１３上には上記Ｄ₂より
小さな径の径Ｄ₃のビームスポットを結ぶ。これは、上
記不均一な磁界が前記図１のように形成されるからであ
る。径Ｄ₃のビームスポットの蛍光膜１３上各位置での
分布は、偏向収差補正磁石３９を構成する部品の取付け
位置、蛍光膜１３に向かって延びる長さ、蛍光膜１３と
略平行方向に延びる長さ、偏向磁界の分布、上記２つの
間隙間を通過するときの電子ビームの径、陰極線管の最
大偏向角などの組み合わせで適性化でき、画面中央のビ
ームスポット径Ｄ₁との差を小さくして画面全域で一様
な解像度とすることができる。

【０２５２】以上の結果、本実施例によれば、該電子銃
の一部の電極に電子ビームの偏向角に同期させてダイナ
ミックに電圧供給しなくても蛍光膜（画面）上で偏向角
に同期したフォーカス状態の制御が可能となり、安価で
かつ画面全体での表示の均一な陰極線管が提供可能とな
る。これ等の条件は、実際には適用する最大偏向角を含
む該陰極線管の構造、組み合わせる偏向磁界発生部の構
造、不均一な磁界を形成する偏向収差補正磁石、偏向収
差補正磁石以外の部分の電子銃構造、陰極線管の駆動条
件、陰極線管の使途などに依存するので一意的ではな
い。

【０２５３】偏向磁界に対応した不均一な磁界を偏向磁
界中に形成することによって蛍光面全体での解像度の均
一性向上を図るためには、該不均一磁界中でも電子ビー
ムの軌道が強度の異なった磁界領域を通過するように偏
向される必要がある。従って前記不均一な磁界は偏向磁
界との位置関係に制約される。

【０２５４】図９は偏向磁界分布の説明図であって、
（ａ）は偏向角度が１００度以上の陰極線管における偏
向磁界の管軸上での分布例の説明図、（ｂ）は（ａ）に
示した偏向磁界分布と偏向磁界発生機構の位置関係の説
明図である。

【０２５５】なお、同図において、向かって右側が蛍光
面に近い側、左側が蛍光面に遠い側である。

【０２５６】同図（ａ）および（ｂ）において、Ａは磁
界測定時に基準とした位置、ＢＨは走査線方向に偏向す
る磁界の磁束密度６４の最大値をもつ位置、ＢＶは走査
線と直角方向に偏向する磁界の磁束密度６５の最大値を
もつ位置、Ｃは偏向磁界を発生させるコイルのコアを形
成する磁性材料の陰極線管の蛍光面から離れる側の端部
である。

【０２５７】前記磁極の蛍光面側が陰極線管の管軸方向
に入り組んでいる場合は前記距離は最も長い部分であ
る。

【０２５８】図１０は偏向磁界分布の説明図であって、
（ａ）は偏向角度が１００度未満の陰極線管における偏
向磁界の管軸上での分布例の説明図、（ｂ）は（ａ）に
示した偏向磁界分布と偏向磁界発生機構の位置関係の説
明図である。

【０２５９】なお、同図において、向かって右側が蛍光
面に近い側、左側が蛍光面に遠い側である。

【０２６０】同図（ａ）および（ｂ）において、Ａは磁
界測定時に基準とした位置、ＢＨは走査線方向に偏向す
る磁界の磁束密度６４の最大値をもつ位置、ＢＶは走査
線と直角方向に偏向する磁界の磁束密度６５の最大値を
もつ位置、Ｃは偏向磁界を発生させるコイルのコアを形
成する磁性材料の陰極線管の蛍光面から離れる側の端部
である。

【０２６１】図１１は本発明の偏向磁界中に偏向磁界に
対応した不均一な磁界を形成する偏向収差補正磁石の構
造例を示す斜視図である。同図の偏向収差補正磁石３９
は４個の硬磁化特性を持つ磁石板からなり、距離Ｄだけ
離して蛍光面に面Ｅが略平行に対向する。各々上下各１
個の間隙間の中央Ｚｃ−Ｚｃ，Ｚｓ−Ｚｓを偏向磁界の
ないとき電子ビームが通過するようにする。

【０２６２】偏向収差補正磁石３９は６つの間隙Ｄが走
査線と平行になるように角度設定すると共に、電子銃の
陽極に取付け、ネック部外径２９ミリメートル、最大偏
向角１１２度で蛍光面サイズが６８センチメートルのカ
ラー陰極線管に実際に封止した。

【０２６３】この陰極線管に図９（ａ）に示した偏向磁
界を組合せ、図１１のＥ面を図９（ａ）の管軸位置９６
ミリメートルの位置に設定して、陽極電圧３０キロボル
トを用いて好結果を得た。

【０２６４】図１１のＥ面を設定した位置に磁極がない
場合の磁束密度は陽極電圧１キロボルトの平方根あたり
０．０１０４ミリテスラであり、これは最大磁束密度の
約４０％である。また、そのＥ面を設定した位置は偏向
磁界を発生させるコイルの蛍光面から遠い側のコア端部
から約１８ミリメートルである。

【０２６５】これ等の条件は適用する最大偏向角を含む
陰極線管の構造、組み合わせる偏向磁界発生部の構造、
偏向収差補正磁石、偏向収差補正磁石以外の部分の電子
銃構造、陰極線管の駆動条件、陰極線管の使途などに依
存するので一意的ではない。また、偏向磁界中に偏向磁
界に対応した不均一な磁界を形成する図１１に示した偏
向収差補正磁石を前記と同様に陰極線管に用い、電子銃
の陽極に取付けて、ネック部外径２９ミリメートル、最
大偏向角９０度で蛍光面サイズが４８センチメートルの
カラー陰極線管に封止した。

【０２６６】該陰極線管に図１０（ａ）の偏向磁界を組
合せ、図１１のＥ面を図１０（ａ）の管軸位置５８ミリ
メートルの位置に設定して、陽極電圧３０キロボルトを
用いて好結果を得た。

【０２６７】図１１のＥ面の位置に磁極がない場合の磁
束密度は陽極電圧１キロボルトの平方根あたり０．０１
６ミリテスラであり、これは最大磁束密度の約７８％で
ある。また、そのＥ面の位置は偏向磁界を発生させるコ
イルのコアから約２５ミリメートルの距離にある。

【０２６８】これ等の条件は、適用する最大偏向角を含
む陰極線管の構造、組み合わせる偏向磁界発生部の構
造、偏向収差補正磁石、偏向収差補正磁石以外の部分の
電子銃構造、陰極線管の駆動条件、陰極線管の使途など
に依存するので一意的ではない。

【０２６９】図１２は本発明による陰極線管に用いられ
る電子銃の一例を示す要部断面図であって、主レンズ３
８を挟んで陽極６が陰極線管内部では蛍光面に近く配置
され、集束電極５が蛍光面から遠く配置される。

【０２７０】同図では、偏向磁界中に偏向磁界に対応し
た不均一な磁界を形成する偏向収差補正磁石３９は、電
子銃の陽極６の主レンズ３８との対向面６ａよりも蛍光
面側に位置している。

【０２７１】図１３は本発明の陰極線管に用いる電子銃
構成の１例を説明する模式図であって、陰極線管は最大
偏向角が８５度未満の投射形陰極線管である。

【０２７２】同図においては、陽極４よりも蛍光面１３
に近い位置のネック部７の外側に電磁集束用コイル７４
が設置されている。また、陽極４の主レンズ３８との対
向面４ａから偏向磁界中に偏向磁界に対応した不均一な
磁界を形成する偏向収差補正磁石３９の蛍光面１３に近
い端部までの距離Ｌは１８０ミリメートル程度である。
陽極４は主レンズ３８との対向面４ａの開口径が３０ミ
リメートルの円筒である。

【０２７３】同図の構成は、ネック部７の内面に形成さ
れた抵抗膜７５と抵抗体７６で蛍光膜の電位を分圧して
陽極４への供給電圧を発生させている。細かい条件は、
最大偏向角を含む当該陰極線管の構造、組み合わせる偏
向磁界発生部の構造、偏向収差補正磁石、偏向収差補正
磁石以外の部分の電子銃構造、陰極線管の動作条件、陰
極線管の使途などに依存するので一意的でない。

【０２７４】図１４は本発明をインライン配列した３電
子ビームを用いるカラー陰極線管に適用した偏向収差補
正磁石の構造例を説明する要部構成図であって、（ａ）
は垂直方向の収差補正磁力線の説明図、（ｂ）は水平方
向の収差補正磁力線の説明図である。

【０２７５】同図（ａ）において、偏向収差補正磁石３
９が各電子ビーム１０のインライン方向の脇に位置し
て、各磁極の対向部を各電子ビーム１０のインラインと
直角な位置に配置して当該部分に磁束を集中させる。

【０２７６】なお、同図（ａ）における７７はインライ
ン配列と直角方向に電子ビーム１０を偏向するための磁
力線であり、この偏向収差補正磁石３９で偏向磁界中に
偏向磁界に対応した不均一な磁界を形成させることによ
り、電子ビーム１０の非偏向時の軌道位置を挟んだ付近
に磁力線７７を集めて該当部の偏向補正を行う。

【０２７７】また、同図（ｂ）における７８はインライ
ン配列方向に電子ビーム１０を偏向するための磁力線で
あり、この偏向収差補正磁石３９で偏向磁界中に偏向磁
界に対応した不均一な磁界を形成させることにより、電
子ビーム１０の非偏向時の軌道位置を挟んだ付近に磁力
線７８を集めて該当部の偏向補正を行う。

【０２７８】図１５は本発明をインライン配列した３電
子ビームを用いるカラー陰極線管に適用した偏向収差補
正磁石の別の構造例を説明する要部構成図であって、
（ａ）は垂直方向の収差補正磁力線の説明図、（ｂ）は
水平方向の収差補正磁力線の説明図である。

【０２７９】同図（ａ）において、偏向収差補正磁石３
９が各電子ビーム１０のインライン方向の脇に位置し
て、その各磁極の対向部を各電子ビーム１０のインライ
ンと直角な位置に配置して当該部に磁束を集中させる。

【０２８０】７７はインライン配列方向と直角方向に電
子ビーム１０を偏向するための磁力線であり、この偏向
収差補正磁石３９で偏向磁界中に偏向磁界に対応した不
均一な磁界を形成させることにより、電子ビーム１０の
非偏向時の軌道位置を挟んだ付近に磁力線７７を集めて
該当部の偏向補正を行う。

【０２８１】また、同図（ｂ）においては、偏向収差補
正磁石３９が各電子ビーム１０のインライン方向の脇に
位置して、その各磁極の対向部を各電子ビーム１０のイ
ンライン配列方向に配置して当該部に磁束を集中させ
る。

【０２８２】７８はインライン配列方向に電子ビーム１
０を偏向するための磁力線であり、この偏向収差補正磁
石３９で偏向磁界中に偏向磁界に対応した不均一な磁界
を形成させることにより、電子ビーム１０の非偏向時の
軌道位置を挟んだ付近に磁力線７８を集めて該当部の偏
向補正を行う。

【０２８３】この構成によれば、前記図１４の構成に比
べて、偏向収差補正磁石３９の電子ビーム１０に近い磁
極部分のがテーパ状に切り落とされているため、インラ
イン配列と直角方向への偏向磁界の磁力線７７を電子ビ
ーム１０の非偏向時の軌道位置を挟んだ付近に集める量
が少なくてもよい場合に適している。

【０２８４】図１６は本発明をインライン配列した３電
子ビームを用いるカラー陰極線管に適用した偏向収差補
正磁石のさらに別の構造例を説明する要部構成図であっ
て、（ａ）は垂直方向の収差補正磁力線の説明図、
（ｂ）は水平方向の収差補正磁力線の説明図である。

【０２８５】同図（ａ）において、偏向収差補正磁石３
９が各電子ビーム１０のインライン方向の脇に位置し
て、その各磁極の対向部を各電子ビーム１０のインライ
ンと直角な位置に配置して当該部に磁束を集中させる。

【０２８６】７７はインライン配列方向と直角方向に電
子ビーム１０を偏向するための磁力線であり、この偏向
収差補正磁石３９で偏向磁界中に偏向磁界に対応した不
均一な磁界を形成させることにより、電子ビーム１０の
非偏向時の軌道位置を挟んだ付近に磁力線７７を集めて
該当部の偏向補正を行う。

【０２８７】また、同図（ｂ）においては、偏向収差補
正磁石３９が各電子ビーム１０のインライン方向の脇に
位置して、その各磁極の対向部を各電子ビーム１０のイ
ンライン配列方向に配置して当該部に磁束を集中させ
る。

【０２８８】７８はインライン配列方向に電子ビーム１
０を偏向するための磁力線であり、この偏向収差補正磁
石３９で偏向磁界中に偏向磁界に対応した不均一な磁界
を形成させることにより、電子ビーム１０の非偏向時の
軌道位置を挟んだ付近に磁力線７８を集めて該当部の偏
向補正を行う。

【０２８９】この構成によれば、前記図１４の構成に比
べて、偏向収差補正磁石３９の電子ビーム１０に遠い部
分がテーパ状に切り落とされているため、インライン配
列と直角方向への偏向磁界の磁力線７７を電子ビーム１
０の非偏向時の軌道位置を挟んだ付近に集める量がより
多く必要な場合に適している。

【０２９０】図１７は本発明をインライン配列した３電
子ビームを用いるカラー陰極線管に適用した偏向収差補
正磁石のさらに別の構造例を説明する要部構成図であ
る。

【０２９１】同図において、偏向収差補正磁石３９が各
電子ビーム１０のインライン配列方向の脇に位置して、
その各磁極の対向部を各電子ビーム１０のインライン方
向と直角な位置に配置して当該部に磁束を集中する。

【０２９２】なお、７７はインライン配列方向と直角方
向に電子ビーム１０を偏向するための磁力線であり、こ
の偏向収差補正磁石３９で偏向磁界中に偏向磁界に対応
した不均一な磁界を形成させることにより、電子ビーム
１０の非偏向時の軌道位置を挟んだ付近に磁力線７７を
集めて該当部の偏向補正を行う。

【０２９３】さらに、同図において、インライン配列方
向に電子ビーム１０を偏向するための磁力線７８を電子
ビーム１０の非偏向時の軌道位置付近に集める量を増加
できる。

【０２９４】図１８は本発明をインライン配列した３電
子ビームを用いるカラー陰極線管に適用した偏向収差補
正磁石のさらに別の構造例を説明する要部構成図であ
る。

【０２９５】同図において、偏向収差補正磁石３９が各
電子ビーム１０のインライン配列方向の脇に位置して、
その各磁極の対向部を各電子ビーム１０のインライン方
向と直角な位置に配置して当該部に磁束を集中する。

【０２９６】なお、７７はインライン配列方向と直角方
向に電子ビーム１０を偏向するための磁力線であり、こ
の偏向収差補正磁石３９で偏向磁界中に偏向磁界に対応
した不均一な磁界を形成させることにより、電子ビーム
１０の非偏向時の軌道位置を挟んだ付近に磁力線７７を
集めて該当部の偏向補正を行う。

【０２９７】脇の電子ビームの更にネック管寄りの磁石
のインライン方向と直角方向の長さＨｓを中央の電子ビ
ーム寄りの部分の長さＨｃより伸ばすことにより、磁力
線の集中量を増すことができる。

【０２９８】図１９は本発明をインライン配列した３電
子ビームを用いるカラー陰極線管に適用した偏向収差補
正磁石のさらに別の構造例を説明する要部構成図であ
る。

【０２９９】同図において、偏向収差補正磁石３９が各
電子ビーム１０のインライン配列方向の脇に位置して、
その各磁極の対向部を各電子ビーム１０のインライン方
向と直角な位置に配置して当該部に磁束を集中する。

【０３００】なお、７７はインライン配列方向と直角方
向に電子ビーム１０を偏向するための磁力線であり、こ
の偏向収差補正磁石３９で偏向磁界中に偏向磁界に対応
した不均一な磁界を形成させることにより、電子ビーム
１０の非偏向時の軌道位置を挟んだ付近に磁力線７７を
集めて該当部の偏向補正を行う。

【０３０１】脇の電子ビームに対応する磁極の間隔Ｌｓ
と中央の電子ビームに対応する磁極の間隔Ｌｃを異なっ
た長さにすることで、中央の電子ビームに対応する磁界
と脇の電子ビームに対応する磁界の強さを異なった値に
できる。

【０３０２】図２０は本発明をインライン配列した３電
子ビームを用いるカラー陰極線管に適用した偏向収差補
正磁石のさらに別の構造例を説明する要部構成図であ
る。

【０３０３】同図において、偏向収差補正磁石３９が各
電子ビーム１０のインライン配列方向の脇に位置して、
その各磁極の対向部を各電子ビーム１０のインライン方
向と直角な位置に配置して当該部に磁束を集中する。

【０３０４】なお、７７はインライン配列方向と直角方
向に電子ビーム１０を偏向するための磁力線であり、こ
の偏向収差補正磁石３９で偏向磁界中に偏向磁界に対応
した不均一な磁界を形成させることにより、電子ビーム
１０の非偏向時の軌道位置を挟んだ付近に磁力線７７を
集めて該当部の偏向補正を行う。

【０３０５】脇の電子ビームに対応する磁極のインライ
ン方向と直角方向の長さで中央の電子ビーム寄りの長さ
Ｈｃとネック管寄りの長さＨｓを異なった長さにするこ
とで、脇の電子ビームに対応する磁界にインライン方向
の分布を持たせることができる。

【０３０６】図２１は本発明をインライン配列した３電
子ビームを用いるカラー陰極線管に適用した偏向収差補
正磁石のさらに別の構造例を説明する要部構成図であ
る。

【０３０７】同図において、偏向収差補正磁石３９が各
電子ビーム１０のインライン配列方向と直角方向の脇に
位置して、その各磁極の対向部を各電子ビーム１０のイ
ンライン方向と直角な位置に配置して当該部に磁束を集
中する。

【０３０８】なお、７７はインライン配列方向と直角方
向に電子ビーム１０を偏向するための磁力線であり、こ
の偏向収差補正磁石３９で偏向磁界中に偏向磁界に対応
した不均一な磁界を形成させることにより、電子ビーム
１０の非偏向時の軌道位置を挟んだ付近に磁力線７７を
集めて該当部の偏向補正を行う。

【０３０９】この構成は、インライン配列方向に偏向す
る磁界集中を必要としない場合に適している。

【０３１０】図２２は本発明をインライン配列した３電
子ビームを用いるカラー陰極線管に適用した偏向収差補
正磁石のさらに別の構造例を説明する要部構成図であ
る。

【０３１１】同図において、偏向収差補正磁石３９のイ
ンライン方向対向部を各電子ビーム１０のインライン方
向と直角方向の位置から若干離れた位置の２箇所に配置
する。

【０３１２】すなわち、インライン方向と直角方向に電
子ビーム１０を偏向するために２箇所に磁力線７７ａと
７７ｂを形成し、偏向磁界中に偏向磁界に対応した不均
一な磁界を形成して、電子ビーム１０の非偏向時の軌道
位置を挟んだ付近に磁力線７７ａ，７７ｂを集めて該当
部の偏向補正を行う。

【０３１３】この構成はインライン配列方向に偏向する
磁界集中を必要としない場合に適している。

【０３１４】図２３は本発明をインライン配列した３電
子ビームを用いるカラー陰極線管に適用した偏向収差補
正磁石のさらに別の構造例を説明する要部構成図であっ
て、（ａ）は正面図、（ｂ）は（ａ）のＹ−Ｙ線方向か
らみた側面図である。

【０３１５】同図において、角形断面の棒状材料からな
る偏向収差補正磁石３９のインライン配列方向の対向部
を各電子ビーム１０のインライン配列方向と直角な位置
に配置して当該部に磁束を集中する。

【０３１６】なお、７７はインライン配列方向と直角方
向に電子ビーム１０を偏向するための磁力線であり、こ
の偏向収差補正磁石３９で偏向磁界中に偏向磁界に対応
した不均一な磁界を形成させることにより、電子ビーム
１０の非偏向時の軌道位置を挟んだ付近に磁力線７７を
集めて該当部の偏向補正を行う。

【０３１７】この構成は、インライン配列方向に偏向す
る磁界集中を必要としない場合に適している。

【０３１８】図２４は本発明をインライン配列した３電
子ビームを用いるカラー陰極線管に適用した偏向収差補
正磁石のさらに別の構造例を説明する要部構成図であっ
て、（ａ）は正面図、（ｂ）は（ａ）のＹ−Ｙ線方向か
らみた側面図である。

【０３１９】同図において、円形断面の棒状材料からな
る偏向収差補正磁石３９のインライン配列方向の対向部
を各電子ビーム１０のインライン方向と直角な位置に配
置して当該部に磁束を集中する。

【０３２０】なお、７７はインライン配列方向と直角方
向に電子ビーム１０を偏向するための磁力線であり、こ
の偏向収差補正磁極３９で偏向磁界中に偏向磁界に対応
した不均一な磁界を形成させることにより、電子ビーム
１０の非偏向時の軌道位置を挟んだ付近に磁力線７７を
集めて該当部の偏向補正を行う。

【０３２１】この構成は、インライン配列方向に偏向す
る磁界集中を必要としない場合に適している。

【０３２２】図２５は本発明をインライン配列した３電
子ビームを用いるカラー陰極線管に適用した偏向収差補
正磁石のさらに別の構造例を説明する要部構成図であっ
て、（ａ）は正面図、（ｂ）は（ａ）のＹ−Ｙ線方向か
らみた側面図である。

【０３２３】同図において、棒状材料からなる偏向収差
補正磁石３９のインライン配列方向の対向部を各電子ビ
ーム１０のインライン配列方向と直角な位置に配置して
当該部に磁束を集中する。

【０３２４】なお、７７はインライン配列方向と直角方
向に電子ビーム１０を偏向するための磁力線であり、こ
の偏向収差補正磁極３９で偏向磁界中に偏向磁界に対応
した不均一な磁界を形成させることにより、電子ビーム
１０の非偏向時の軌道位置を挟んだ付近に磁力線７７を
集めて該当部の偏向補正を行う。

【０３２５】脇電子ビームよりネック管側に位置する磁
極のインライン配列方向と直角方向の長さを伸ばすこと
により、磁束の集中を高めることができる。

【０３２６】この構成は、インライン配列方向に偏向す
る磁界集中を必要としない場合に適している。

【０３２７】図２６は本発明をインライン配列した３電
子ビームを用いるカラー陰極線管に適用した偏向収差補
正磁石のさらに別の構造例を説明する要部構成図であっ
て、（ａ）は正面図、（ｂ）は（ａ）のＹ−Ｙ線方向か
らみた側面図である。

【０３２８】同図において、板状材料からなる偏向収差
補正磁石３９が各電子ビーム１０のインライン配列方向
の脇に位置して各電子ビーム１０に磁束を集中する。

【０３２９】すなわち、この偏向収差補正磁石３９で偏
向磁界中に偏向磁界に対応した不均一な磁界を形成させ
ることにより、電子ビーム１０の非偏向時の軌道位置を
挟んだ付近に電子ビーム１０をインライン配列方向と直
角方向に偏向する磁力線７７とインライン配列方向に偏
向する磁力線７８を形成する。

【０３３０】図２７は本発明をインライン配列した３電
子ビームを用いるカラー陰極線管に適用した偏向収差補
正磁石のさらに別の構造例を説明する要部構成図であっ
て、（ａ）は正面図、（ｂ）は（ａ）のＹ−Ｙ線方向か
らみた側面図である。

【０３３１】同図において、円形断面の棒状材料からな
る偏向収差補正磁石３９が各電子ビーム１０のインライ
ン配列方向の脇に位置して各電子ビーム１０に磁束を集
中する。

【０３３２】すなわち、この偏向収差補正磁石３９で偏
向磁界中に偏向磁界に対応した不均一な磁界を形成させ
ることにより、電子ビーム１０の非偏向時の軌道位置を
挟んだ付近に電子ビーム１０をインライン配列方向と直
角方向に偏向する磁力線７７とインライン配列方向に偏
向する磁力線７８を形成する。

【０３３３】図２８は本発明をインライン配列した３電
子ビームを用いるカラー陰極線管に適用した偏向収差補
正磁石のさらに別の構造例を説明する要部構成図であっ
て、（ａ）は正面図、（ｂ）は（ａ）のＹ−Ｙ線方向か
らみた側面図である。

【０３３４】同図において、陰極線管の管軸方向に長い
板状材料からなる偏向収差補正磁石３９が各電子ビーム
１０のインライン配列方向の脇に位置して各電子ビーム
１０に磁束を集中する。

【０３３５】すなわち、この偏向収差補正磁石３９で偏
向磁界中に偏向磁界に対応した不均一な磁界を形成させ
ることにより、電子ビーム１０の非偏向時の軌道位置を
挟んだ付近に電子ビーム１０をインライン配列方向と直
角方向に偏向する磁力線７７とインライン配列方向に偏
向する磁力線７８を形成する。

【０３３６】図２９は本発明をインライン配列した３電
子ビームを用いるカラー陰極線管に適用した偏向収差補
正磁石のさらに別の構造例を説明する要部構成図であ
る。

【０３３７】同図において、インライン配列方向と直角
方向に長い板状材料からなる偏向収差補正磁石３９が各
電子ビーム１０のインライン配列方向の脇に位置して各
電子ビーム１０に磁束を集中する。

【０３３８】すなわち、この偏向収差補正磁極３９で偏
向磁界中に偏向磁界に対応した不均一な磁界を形成させ
ることにより、また電子ビーム１０の非偏向時の軌道位
置を挟んだ付近の偏向磁界に対応した磁力線７７を斉一
にして該当部の偏向補正を行う。

【０３３９】なお、磁力線７８は電子ビーム１０をイン
ライン配列方向に偏向する磁力線である。

【０３４０】図３０は本発明をインライン配列した３電
子ビームを用いるカラー陰極線管に適用した偏向収差補
正磁石のさらに別の構造例を説明する要部構成図であ
る。

【０３４１】同図において、インライン配列方向と直角
方向に長い幅狭の板状材料からなる偏向収差補正磁石３
９が各電子ビーム１０のインライン配列方向の脇に位置
して各電子ビーム１０に磁束を集中する。

【０３４２】すなわち、この偏向収差補正磁石３９で偏
向磁界中に偏向磁界に対応した不均一な磁界を形成させ
ることにより、また電子ビーム１０の非偏向時の軌道位
置を挟んだ付近の偏向磁界に対応した磁力線７７を斉一
にして該当部の偏向補正を行う。

【０３４３】なお、磁力線７８は電子ビーム１０をイン
ライン配列方向に偏向する磁力線である。

【０３４４】図３１は本発明をインライン配列した３電
子ビームを用いるカラー陰極線管に適用した偏向収差補
正磁石のさらに別の構造例を説明する要部構成図であ
る。

【０３４５】同図において、インライン配列方向と直角
方向に長い板状材料からなる偏向収差補正磁石３９が各
電子ビーム１０のインライン配列方向の脇に位置すると
共に、中央電子ビームの脇に位置する偏向収差補正磁石
の幅を脇の電子ビームのネック管寄りに位置する磁石の
幅よりも幅広とすることで各電子ビーム１０に磁束を集
中する。

【０３４６】すなわち、この偏向収差補正磁極３９で偏
向磁界中に偏向磁界に対応した不均一な磁界を形成させ
ることにより、また電子ビーム１０の非偏向時の軌道位
置を挟んだ付近の偏向磁界に対応した磁力線７７の特に
中央電子ビームに作用する磁力線７７をより斉一にして
該当部の偏向補正を行う。

【０３４７】なお、磁力線７８は電子ビーム１０をイン
ライン配列方向に偏向する磁力線である。

【０３４８】また、４個の偏向収差補正磁石３９の幅の
関係を上記と逆にすることで、脇の電子ビームに対応す
る磁力線７７をより斉一にすることができる。

【０３４９】図３２は本発明をインライン配列した３電
子ビームを用いるカラー陰極線管に適用した偏向収差補
正磁極のさらに別の構造例を説明する要部構成図であ
る。

【０３５０】同図において、インライン配列方向と直角
方向に長い偏向収差補正磁石３９が各電子ビーム１０の
インライン配列方向の脇に位置して各電子ビーム１０に
磁束を集中する。

【０３５１】７７はインライン配列方向と直角方向、７
８はインライン配列方向にそれぞれ電子ビーム１０を偏
向するための磁力線である。

【０３５２】中央電子ビームの脇に位置する磁石の長さ
を脇の電子ビームのネック管寄りに位置する磁石の長さ
よりも長くする。これにより、中央の電子ビームに相当
する箇所の磁力線７７をより斉一にできる。さらに、脇
の電子ビームに対応するネック管寄りの箇所の磁力線７
７を密度の高い非斉一にすることができる。

【０３５３】また、４個の偏向収差補正磁石３９の長さ
の関係を上記と逆にすることで、脇の電子ビームに対応
する磁力線７７をより斉一にすることができる。

【０３５４】図３３は本発明をインライン配列した３電
子ビームを用いるカラー陰極線管に適用した偏向収差補
正磁石のさらに別の構造例を説明する要部構成図であ
る。

【０３５５】同図において、インライン配列方向と直角
方向に長い偏向収差補正磁石３９が各電子ビーム１０の
インライン配列方向の脇に位置して各電子ビーム１０に
磁束を集中する。

【０３５６】７７はインライン配列方向と直角方向、７
８はインライン配列方向にそれぞれ電子ビーム１０を偏
向するための磁力線である。

【０３５７】中央電子ビームの脇に位置する磁石の長さ
を脇の電子ビームのネック管寄りに位置する磁石の長さ
よりも長くし、脇の電子ビームのネック管寄りの磁石の
うち電子ビームに近い側の長さを短くする。

【０３５８】この構成により、前記図３２に示した構成
に比べて脇の電子ビームに対応する箇所の磁力線７７を
ネック管寄りで高い密度のより高い非斉一とすることが
できる。

【０３５９】また、４個の磁極の形状関係を変えること
で上記とは異なる磁界分布を得ることができる。

【０３６０】図３４は本発明をインライン配列した３電
子ビームを用いるカラー陰極線管に適用した偏向収差補
正磁石のさらに別の構造例を説明する要部構成図であ
る。

【０３６１】同図において、インライン配列方向に長い
棒状材料からなる偏向収差補正磁石３９が各電子ビーム
１０のインライン配列方向と直角方向に対向部を形成し
てインライン配列方向と直角方向に偏向する磁束を集中
する。

【０３６２】７７はインライン配列方向と直角方向に、
７８はインライン配列方向にそれぞれ電子ビーム１０を
偏向するための磁力線である。

【０３６３】脇の電子ビームのネック管寄りの磁極は、
インライン配列方向と直角方向でインライン方向の中心
軸側に伸びる部分Ｆと、逆の方向に伸びる部分Ｇとを有
している。

【０３６４】この構成において、上記部分Ｆによりイン
ライン配列方向に偏向する偏向磁界の脇の電子ビームに
対応する磁界のうちネック管寄りの磁束密度を増すこと
ができる。また、部分Ｇによりインライン配列方向と直
角方向の偏向収差補正磁界を強めることができる。

【０３６５】図３５は本発明をインライン配列した３電
子ビームを用いるカラー陰極線管に適用した偏向収差補
正磁石のさらに別の構造例を説明する要部構成図であっ
て、前記図３４で説明した偏向収差補正磁石のネック管
寄りの磁極を棒状の材料を折り曲げて形成したもので、
その作用は上記図３４の構成と同様である。

【０３６６】図３６は本発明をインライン配列した３電
子ビームを用いるカラー陰極線管に適用した偏向収差補
正磁石のさらに他の実施例を説明する要部構成図であっ
て、（ａ）は正面図、（ｂ）は（ａ）のＹ−Ｙ線方向か
らみた側面図である。

【０３６７】同図において、偏向収差補正磁石３９が各
電子ビーム１０のインライン方向の脇に位置して、その
各磁極の対向部を各電子ビーム１０のインライン方向と
直角方向の端部を陰極線管の管軸方向に突出させてい
る。

【０３６８】なお、７７はインライン配列方向と直角方
向にそれぞれ電子ビーム１０を偏向させるための磁力線
である。

【０３６９】このような構成の偏向収差補正磁石３９で
偏向磁界中に、当該偏向磁界に対応した不均一な磁界を
形成させることにより、不均一磁界の管軸方向の範囲を
広げ、偏向収差の補正感度を向上させることができる。

【０３７０】図３７は本発明をインライン配列した３電
子ビームを用いるカラー陰極線管に適用した偏向収差補
正磁石のさらに他の実施例を説明する要部構成図であっ
て、（ａ）は正面図、（ｂ）は（ａ）のＹ−Ｙ線方向か
らみた側面図である。

【０３７１】図示したように、偏向収差補正磁石３９は
インライン方向両脇に位置する電子ビーム（脇電子ビー
ム）１０ｓに対して開放先端部が当該電子ビームと中央
電子ビーム１０ｃの垂直方向斜めから挟むような先端部
を形成したそれぞれ上下一対の磁極片３９ｂ，３９ｂ’
とから構成されている。

【０３７２】すなわち、この偏向収差補正磁石３９は偏
向装置により形成される偏向磁界中に設置され、無偏向
時の電子ビーム１０’の中心軌道を略中心とする不均一
磁界を形成して電子ビームの偏向量に対応した偏向収差
を補正する。

【０３７３】この偏向収差補正磁石３９は前記３電子ビ
ームのインライン配列方向両脇に位置して前記脇電子ビ
ーム１０ｓ側の垂直方向中心からインライン方向外側に
ずれた位置に開放した断面コ字状の磁石片３９ａと、前
記脇電子ビーム１０ｓと中央電子ビーム１０ｃの間を垂
直方向から挟むように水平方向に位置して水平方向の各
先端が前記脇電子ビームおよび前記中央電子ビーム１０
ｃの各垂直方向中心から前記脇電子ビーム１０ｓ側およ
び前記中央電子ビーム１０ｃ側にずれた位置に位置した
各一対の平行磁石片３９ｂ，３９ｂ’とから構成され
る。

【０３７４】電子ビームは図面の紙面表方向から裏方向
に通過し、この電子ビームに対して上記各磁石片３９
ａ、３９ｂ，３９ｂ’には図示した極が形成され、それ
ぞれの磁石片３９ａ、３９ｂ，３９ｂ’の極間にインラ
イン方向に指向する磁界が形成される。

【０３７５】これらの磁界により、各電子ビーム１０
ｓ、１０ｃはインライン方向と直角な方向に引き寄せら
れる。

【０３７６】なお、上記の各偏向収差補正磁石の説明図
においても、その電子ビームの電流方向と各電子ビーム
を上方に偏向補正するための磁極形成はこの図３７と同
様である。

【０３７７】図３８は上記した本発明の偏向収差補正磁
石の各実施例の電子銃への設置例と電子ビームの収束状
態の説明図である。

【０３７８】同図（ａ）に示したように、偏向収差補正
磁石３９は電子銃の蛍光面１３側に固定されるシールド
カップの底面に固定され、電子ビーム通過口に近接して
設置される。

【０３７９】これにより、蛍光面上下方向（同図では上
方のみ示す）に偏向される電子ビーム１０は同図（ｂ）
の１０Ｕ’と１０Ｄに示したようにコアＣの上部に若干
のハローＨ_Oを持って蛍光面１３上に達する。これに対
し、上記偏向収差補正磁石を設けない場合の電子ビーム
は同図（ａ）の１０Ｕと１０Ｄに示したようにコアの下
部にに大きなハローＨ_iを伴って蛍光面１３上に達す
る。

【０３８０】図３９は本発明をインライン配列した３電
子ビームを用いるカラー陰極線管に適用した偏向収差補
正磁石のさらに別の構成例を説明する要部構成図であっ
て、水平方向の収差補正磁力線の説明図である。

【０３８１】同図において、偏向収差補正磁石３９の各
磁極の対向部を各電子ビーム１０のインライン方向と垂
直方向に配置して当該対向部間に磁束を集中させること
により、偏向収差を補正する。

【０３８２】図４０は本発明をインライン配列した３電
子ビームを用いるカラー陰極線管に適用した偏向収差補
正磁石のさらに別の構成例を説明する要部構成図であっ
て、水平方向の収差補正磁力線の説明図である。

【０３８３】同図において、偏向収差補正磁石３９の各
磁極の対向部を各電子ビーム１０のインライン方向と直
角方向に配置して当該対向部間に磁束を集中させること
により、偏向収差を補正する。

【０３８４】偏向収差の量がインライン配列した３電子
銃のうち中央に位置する電子銃と脇に位置する電子銃と
で異なるとき、磁極のインライン方向と直角方向の長さ
を当該電子銃に必要とする長さにすることにより、磁束
の集中量を変えてそれぞれの電子銃での補正量を適性化
することができる。

【０３８５】図４１は本発明をインライン配列した３電
子ビームを用いるカラー陰極線管に適用した偏向収差補
正磁石のさらに別の構成例を説明する要部構成図であっ
て、水平方向の収差補正磁力線の説明図である。

【０３８６】同図において、偏向収差補正磁石３９の各
磁極の対向部を各電子ビーム１０のインライン方向と直
角方向に配置して当該対向部間に磁束を集中させること
により、偏向収差を補正する。

【０３８７】インライン配列した３電子銃のうち脇に位
置する電子銃の水平方向の電子ビームの発散状態が中央
に位置する電子銃側とその反対側で異なるとき、各電子
銃間の距離と偏向収差補正磁石３９の各磁極間の距離を
変えることにより適性化することができる。

【０３８８】図４２は本発明をインライン配列した３電
子ビームを用いるカラー陰極線管に適用した偏向収差補
正磁石のさらに別の構成例を説明する要部構成図であっ
て、水平方向の収差補正磁力線の説明図である。

【０３８９】同図において、偏向収差補正磁石３９の各
磁極の対向部を各電子ビーム１０のインライン方向と直
角方向に配置して当該対向部間に磁束を集中させること
により、偏向収差を補正する。

【０３９０】インライン配列した３電子銃のうち脇に位
置する電子銃の水平方向の電子ビームの発散状態が異な
るとき、各電子銃に対応する磁極のインライン方向の長
さを変えることにより適性化することができる。

【０３９１】図４３は本発明をインライン配列した３電
子ビームを用いるカラー陰極線管に適用した偏向収差補
正磁石のさらに別の構成例を説明する要部構成図であっ
て、水平方向の収差補正磁力線の説明図である。

【０３９２】同図において、偏向収差補正磁石３９の各
磁極の対向部を各電子ビーム１０のインライン方向と直
角方向に配置して当該対向部間に磁束を集中させること
により、偏向収差を補正する。

【０３９３】インライン配列した３電子銃のうち脇に位
置する電子銃と中央に位置する電子銃の水平方向の電子
ビーム発散状態が異なるとき、各電子銃に対応する磁極
の対向部長さを変えることにより適性化することができ
る。

【０３９４】図４４は本発明をインライン配列した３電
子ビームを用いるカラー陰極線管に適用した偏向収差補
正磁石のさらに別の構成例を説明する要部構成図であっ
て、水平方向の収差補正磁力線の説明図である。

【０３９５】同図において、偏向収差補正磁石３９の各
磁極の対向部を各電子ビーム１０のインライン方向と直
角方向に配置して当該対向部間に磁束を集中させること
により、偏向収差を補正する。

【０３９６】磁極の対向部側と対向部から離れる側でイ
ンライン方向の長さを変えることで磁束の集中状態を適
性化することができる。

【０３９７】図４５は本発明をインライン配列した３電
子ビームを用いるカラー陰極線管に適用した偏向収差補
正磁石のさらに別の構成例を説明する要部構成図であっ
て、水平方向の収差補正磁力線の説明図である。

【０３９８】同図において、偏向収差補正磁石３９の各
磁極の対向部を各電子ビーム１０のインライン方向と直
角方向に配置して当該対向部間に磁束を集中させること
により、偏向収差を補正する。

【０３９９】磁極のインライン方向の長さを短くし、管
軸方向の長さを長くして電子ビームの中心近傍に密度が
高く電子ビームとの関わり合いが長い磁界を形成するこ
とにより、垂直偏向磁界への影響を抑えながら水平方向
の補正量を増加させることができる。

【０４００】図４６、図４７、図４８はそれぞれ本発明
をインライン配列した３電子ビームを用いるカラー陰極
線管に適用した偏向収差補正磁石のさらに別の構成例を
説明する要部構成図であって、水平方向の収差補正磁力
線の説明図である。

【０４０１】同各図において、偏向収差補正磁石３９の
各磁極の対向部を各電子ビーム１０のインライン方向と
直角方向に配置して当該対向部間に磁束を集中させるこ
とにより、偏向収差を補正する。

【０４０２】磁極のインライン方向の長さを短くし、磁
極の管軸方向の長さをインライン中心軸に近い位置より
インライン中心軸から離れた位置で長くして電子ビーム
の中心近傍に密度が高い磁界を形成することにより、垂
直偏向磁界への影響を抑えながら水平方向の補正量を増
加させることができる。

【０４０３】図４９は本発明をインライン配列した３電
子ビームを用いるカラー陰極線管に適用した偏向収差補
正磁石のさらに別の構成例を説明する要部構成図であっ
て、垂直方向と水平方向の収差補正磁力線の説明図であ
る。

【０４０４】同図において、偏向収差補正磁石３９ａの
各磁極の対向部を各電子ビーム１０のインライン方向と
直角方向に配置して当該対向部間に磁束を集中させるこ
とにより、偏向収差を補正する。

【０４０５】磁石のインライン方向の長さを短くし、磁
石の管軸方向の長さをインライン中心軸に近い位置より
インライン中心軸から離れた位置で長くして電子ビーム
の中心近傍に密度が高い磁界を形成することにより、垂
直偏向磁界への影響を抑えながら水平方向の補正量を増
加させることができる。

【０４０６】さらに、同図において、偏向収差補正磁石
３９ｂの各磁極の対向部間隙を各電子ビーム１０のイン
ライン方向と垂直方向に配置して、当該対向部間に磁束
を集中させることにより、垂直方向の偏向収差も補正す
ることができる。

【０４０７】偏向収差補正磁石３９ｂのインライン方向
と直角方向の長さを短くし、水平偏向磁界への影響を抑
えながら垂直方向の補正量を増加させることができる。

【０４０８】さらに、同図において、水平、垂直偏向磁
界の相互の影響をさらに減らすため、各偏向磁界に対応
する磁極の管軸方向の位置を異なる状態にする。

【０４０９】図５０は単一の電子ビームを用いる陰極線
管用電子銃に本発明を適用した主レンズ部の説明図であ
って、（ａ）は断面図、（ｂ）は（ａ）の矢印方向から
みた正面図、（ｃ）は斜視図である。

【０４１０】同図において、陽極４の径がフォーカス電
極３の径よりも大きく形成されている。このような電極
構造とすることにより、主レンズの口径を増すことが可
能となり、主レンズ通過時の電子ビーム径を大きくする
ことで、陰極線管の画面中央部でのビームスポツト径を
小さくすることができ、高解像度を得ることができる。

【０４１１】主レンズ通過時の電子ビーム径を大きくす
ることで、偏向時の主レンズから蛍光面までの距離の変
化による偏向収差の影響が増大し、画面中央部の解像度
向上と偏向収差増大の背反が生じる。

【０４１２】本発明では、偏向収差補正磁石３９を設置
して偏向量に応じて電子ビームを発散させる磁界を形成
する。同図では上下方向へ偏向させる磁界に対応する電
子ビームを上下方向へ発散させる磁界を形成している。

【０４１３】図５１は単一の電子ビームを用いる陰極線
管用電子銃に本発明を適用した他の構成例を示す主レン
ズ部の説明図であって、（ａ）は断面図、（ｂ）は
（ａ）の矢印方向からみた正面図、（ｃ）は斜視図であ
る。

【０４１４】この構成においては、主レンズを構成する
電極の構造は異なるが、基本的な作用は図４９と同様で
ある。

【０４１５】図５２、および図５３は前記図５０、図５
１の様に主レンズを構成する電極のうちの陽極の径がフ
ォーカス電極よりも大きい場合の電子銃要部と電子ビー
ムの軌道の説明図である。

【０４１６】同各図において、画面中央部では偏向磁界
がない状態で最適集束させる。偏向時は偏向収差補正磁
石がないときは１０₀で示すように画面の手前で集束す
る。また、偏向収差補正磁石３９がある場合は１０₀’
で示すように画面上で最適集束する。

【０４１７】図５４は単一の電子ビームを用いる陰極線
管用電子銃に本発明を適用した他の構成例を示す要部の
説明図であって、偏向収差補正磁石３９は４個の部分か
ら構成されており、水平方向の磁極の間隙が狭い。

【０４１８】この構成により、垂直方向に電子ビーム１
０を偏向するときの偏向収差を補正することができる。
単一の電子ビームを用いる陰極線管として、投射型陰極
線管に好適である。

【０４１９】図５５は単一の電子ビームを用いる陰極線
管用電子銃に本発明を適用した他の構成例を示す要部の
説明図であって、偏向収差補正磁石３９は４個の部分か
ら構成されており、垂直方向の磁極の間隙が狭い。

【０４２０】この構成により、電子ビーム１０を水平方
向に偏向するときの偏向収差を補正することができる。
単一の電子ビームを用いる陰極線管として、投射型陰極
線管に好適である。

【０４２１】そして、水平、垂直の磁界の分布に合わせ
て上記図５０と図５３に示した磁石を組み合わせること
もできる。

【０４２２】図５６は単一の電子ビームを用いる陰極線
管用電子銃に本発明を適用した他の構成例を示す要部の
説明図であって、偏向収差補正磁石３９は２個の部分か
ら構成されており、垂直方向の磁極の間隔が狭くされ
て、電子ビーム１０を水平方向に偏向するときの偏向収
差を補正することができ、水平方向に磁極長が長いので
図５４の構成に比べて水平方向の磁束を多量に集めるこ
とができる。

【０４２３】図５７は単一の電子ビームを用いる陰極線
管用電子銃に本発明を適用した他の構成例を示す要部の
説明図であって、偏向収差補正磁石３９は４個の部分か
ら構成されており、電子ビームを垂直並びに水平方向に
偏向するときの偏向収差を補正する。

【０４２４】図５８は本発明を適用した単一電子ビーム
を用いた投射型陰極線管用電子銃の部分断面図である。

【０４２５】この電子銃は、最終加速電極４の内部に集
束電極３の一部が入り込んだ構造を有し、最終加速電極
４の内壁と集束電極３の端縁の間に主レンズが形成され
る。偏向収差補正磁石３９は最終加速電極４の電子ビー
ム出射端に設置されている。

【０４２６】図５９は本発明を適用したインライン配列
した３電子ビームを用いた他の陰極線管用電子銃の全体
外観図である。

【０４２７】また、本発明を適用したインライン配列し
た３電子ビームを用いたさらに他の陰極線管用電子銃の
部分断面図は前記図１２に示したとおりである。

【０４２８】図６０は主レンズと蛍光面の間で電子ビー
ムに対して空間電荷の反発がどのように影響するのかを
示す説明図であって、Ｌ₂は主レンズ３８と蛍光膜１３
との間の距離である。

【０４２９】同図において、電子ビーム１０が陽極４
（第４電極）から十分離れると電子ビーム１０の周囲は
陽極電位となり、電界はほぼ無くなる。この状態では、
主レンズ３８による集束作用を受けて進んできた電子ビ
ーム１０は空間電荷の反発による軌道変化の作用が増
し、蛍光膜１３に達する前に最小径Ｄ₄となり、以後蛍
光膜１３に近づくにつれて径は増加し蛍光膜１３におい
て径Ｄ₁になる。

【０４３０】図６１は主レンズと蛍光膜間の距離と蛍光
膜上の電子ビームスポツトの大きさの関係の説明図であ
って、上記した作用は陰極線管を同一条件で駆動する場
合に主レンズ３８と蛍光膜１３間の距離Ｌ₂に依存し、
このＬ₂が増加するにつれてビームスポット径Ｄ₁も増
加する。

【０４３１】カラーテレビ等に使用する陰極線管を例に
とれば、最大偏向角が決まれば主レンズ３８と蛍光膜１
３間の距離Ｌ₂は陰極線管の画面サイズが増すにつれて
増加する。したがって、陰極線管の画面サイズが増すと
蛍光膜１３上の電子ビーム１０のスポツト径Ｄ₁が増し
て、画面サイズの増加にもかかわらず解像度はそれほど
増さない。

【０４３２】図６２は本発明による陰極線管の１実施例
における寸法例を説明する断面模式図、また図６３は本
発明による陰極線管の１実施例における寸法例と比較す
るための従来技術による陰極線管の断面模式図である。

【０４３３】図６２と図６３の何れも全く同一仕様の電
子銃を用いている。したがって、陰極線管の底部である
ステム部から主レンズ３８に至る距離Ｌ₃はどちらも等
しい。

【０４３４】しかし、図６３に示した従来技術による陰
極線管では、電子銃の主レンズ３８を通過中の電子ビー
ムが偏向磁界により乱されるのを避けるために主レンズ
３８を偏向ヨーク１１によって形成される偏向磁界領域
から離さなければならないので、電子銃は偏向ヨーク１
１よりネック部７方向に後退した位置に設置されてお
り、主レンズ３８と蛍光膜１３との間の距離Ｌ₂を偏向
ヨーク１１と蛍光膜１３間の距離より短くすることがで
きなかった。

【０４３５】陰極線管の蛍光膜中央での解像度を向上さ
せるために恒常的に上記主レンズの大口径化が進められ
ている。この大口径化の効果は上記主レンズ３８中を通
過時の電子ビームの径拡大で発揮される。偏向磁界で主
レンズ３８を通過中の電子ビームの径が大きい程乱され
方も多いため、大口径化主レンズはますます偏向磁界か
ら離さなければならなかった。

【０４３６】これに対し、図６２に示した本発明の構成
例では、偏向磁界で主レンズ３８を通過中の電子ビーム
が乱されるのを予め見込んで偏向磁界中に当該偏向磁界
に対応した不均一磁界を形成する偏向収差補正磁石３９
を設けた構造としたことにより、上記距離Ｌ₂を偏向ヨ
ーク１１と蛍光膜１３間の距離より短くすることが可能
となった。

【０４３７】したがって、上記本発明の実施例によれ
ば、陰極線管の主レンズと蛍光膜間の距離を従来技術に
よる陰極線管のそれよりも短縮可能となり、大口径化主
レンズへの適合性も相まって陰極線管の画面サイズが増
しても空間電荷の反発作用の影響を低減して蛍光膜１３
上での電子ビームのスポツト径を縮小し、高解像度の陰
極線管を提供できる。

【０４３８】このように、いままで、電子銃のフォーカ
ス特性の低下を抑制して電子銃の長さを短縮することは
難しいため、陰極線管の全長Ｌ₄を短縮することに制約
があり、困難であったが、上記図６３に示したように、
本発明の１実施例では主レンズ３８と蛍光膜１３間の距
離短縮により、陰極線管の全長Ｌ₄を電子銃の陰極から
主レンズに至る部分の偏向なしで従来例に比較して大幅
に短縮することができる。

【０４３９】本発明の１実施例では、偏向磁界中に偏向
磁界に対応した不均一磁界を形成する偏向収差補正磁石
として前記図１１で説明した部品を図１２に示したよう
に電子銃の陽極６に取付け、ネック部外径２９ミリメー
トル、最大偏向角１１２度、蛍光膜の対角径が６８セン
チメートルのインライン３電子ビームを用いるカラー陰
極線管に適用した。

【０４４０】陰極線管に前記図９（ａ）に示した偏向磁
界を組み合わせて、偏向収差補正磁石３９の蛍光面側の
面Ｅを同図上の管軸位置９６ミリメートルの位置に設定
して、陽極電圧３０キロボルトで駆動して好結果を得
た。

【０４４１】上記の箇所の磁束密度は陽極電圧１キロボ
ルトの平方根あたり０．０１０４ミリテスラである。ま
た、これは最大磁束密度の約４０％である。

【０４４２】さらに、上記偏向収差補正磁石３９の面Ｅ
を設定した個所は、偏向磁界を発生させるコイルのコア
の蛍光膜から離れる側の端部から約１８ミリメートルの
位置にある。なお、主レンズ対向面の管軸位置を図８
（ａ）上で１００ミリメートル以下の位置に設定する
と、偏向磁界による電子ビームの乱れの影響が観察さ
れ、蛍光膜周辺の解像度が低下した。

【０４４３】本発明の他の実施例では、偏向磁界中に固
定した不均一磁界を形成する偏向収差補正磁極３９とし
て前記図５６の部品を前記図１３に示したように電子銃
の陽極に取り付けて封止した。

【０４４４】この陰極線管は最大偏向角７５度の投射型
陰極線管で電子銃の主レンズ以外に電磁集束コイル７４
を用いる。図１３では電子銃の陽極電圧は蛍光面電圧を
ネック部７の内壁に形成した抵抗体膜７５と陰極線管内
部に設置した抵抗器７６で分圧して発生させている。

【０４４５】電子銃の陽極４の主レンズ側対向面４ａか
ら前記磁極３９の蛍光膜側端部までの距離は１８０ミリ
メートルである。

【０４４６】前記図６２では、偏向磁界中に固定した不
均一電界を形成する偏向収差補正磁石３９の設置によ
り、偏向磁界の影響を抑制して主レンズ３８を蛍光膜１
３に近付けることが可能となり、陽極４の主レンズ対向
面４ａをネック部７の蛍光膜側端部７−１よりも蛍光面
側に近付けて設置できる。

【０４４７】陰極線管の電子銃は狭い電極間隙に高電圧
を印加するので高電界が発生し、耐電圧特性の安定化に
は高度な設計技術を要し、製造部門での品質管理に高度
な手法が必要である。最大の高電界は主レンズ３８の近
傍である。主レンズ３８の近傍の電界はネック部内壁の
帯電並びに陰極線管内部に残留する微小な塵埃の電子銃
電極への付着にも影響される。本実施例では主レンズ３
８がネック部７と対向しないので前記不具合を避けるこ
とができる。

【０４４８】更に又、電子銃陽極４への給電をネック部
７の内壁からファンネル部８の内壁に移すことにより、
ネック部７の内壁での黒鉛膜の削れによる耐電圧特性の
低下も防ぐことができる。

【０４４９】一般に、カラーテレビセットやコンピュー
タ端末のディスプレイ装置では、キャビネットの奥行き
は陰極線管の全長Ｌ₄に依存している。特に、最近のカ
ラーテレビセットでは陰極線管の画面サイズが増す傾向
に有り、一般家庭の住居に設置する場合にキャビネット
の奥行き寸法は無視出来ない状態である。特に他の家具
と並べて設置する場合数十ミリの奥行き寸法が問題にな
るケースも有り、キャビネットの奥行き寸法の短縮は設
置効率，使い勝手の観点からみても極めて大きな効果で
あるということができる。

【０４５０】このように、本発明の上記実施例によれ
ば、陰極線管の全長短縮によりフォーカス特性を損なわ
ずにキャビネットの奥行き寸法が従来製品より格段に短
くなったカラーテレビセットやコンピュータ端末のディ
スプレイ装置を提供でき、大きなセールスポイントに成
りうる。

【０４５１】一般に、カラーテレビセットや完成した陰
極線管，並びにファンネルのような陰極線管の部品材料
は、半導体素子のような電子部品に比べて体積が著しく
大きいので単位個数当りの輸送費は高価である。特に、
海外向けなど輸送経路が長大な場合この点は無視出来な
くなる。本発明の上記実施例では、陰極線管の全長が短
く、かつキャビネットの奥行き寸法の短いカラーテレビ
セットを提供できるので輸送費の節約が可能である。

【０４５２】図６４は本発明の実施例の画像表示装置と
従来の画像表示装置の寸法比較の説明図である。

【０４５３】同図において（ａ），（ｂ）が本発明によ
る陰極線管を用いた画像表示装置の場合で、陰極線管の
全長Ｌ₄を短縮出来るので奥行きＬ₇を短く出来る。

【０４５４】これに対し、（ｃ），（ｄ）は従来技術に
よる陰極線管を用いた画像表示装置の場合であり、陰極
線管の全長を短縮出来ないので画像表示装置の奥行きも
短くできない。

【０４５５】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
特にダイナミックフォーカス電圧の供給を行うことなく
画面全域でしかも電子ビーム全電流域においてフォーカ
ス特性を向上させ、良好な解像度を得ることができると
共に、小電流域でのモアレを低減できる構成を有する電
子銃を備えた陰極線管の偏向収差補正方法およびその陰
極線管を提供することができる。

【０４５６】また、本発明によれば、上記フォーカス特
性を向上させると同時に、陰極線管の全長を短縮できる
電子銃を備えた陰極線管の偏向収差補正方法およびその
陰極線管並びにこの陰極線管を用いた画像表示装置を提
供することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明による陰極線管の偏向収差補正方法の第
１実施例を説明する模式図である。

【図２】本発明による陰極線管の偏向収差補正方法の第
３実施例を説明する模式図である。

【図３】本発明による陰極線管の偏向収差補正方法の第
４実施例を説明する模式図である。

【図４】本発明による陰極線管の第１実施例を説明する
断面模式図である。

【図５】本発明による陰極線管の作用を説明する要部断
面模式図である。

【図６】本発明の実施例による陰極線管における不均一
磁界を形成する偏向収差補正磁石の作用を従来技術と対
比説明するために上記偏向収差補正磁石を欠如した図６
と同様の要部断面模式図である。

【図７】本発明による別な陰極線管の作用を説明する要
部断面模式図である。

【図８】本発明の他の実施例による陰極線管における不
均一磁界を形成する偏向収差補正磁石の作用を従来技術
と対比説明するために上記偏向収差補正磁石を欠如した
図８と同様の要部断面模式図である。

【図９】偏向角度が１００度以上の陰極線管における偏
向磁界の管軸上での偏向磁界分布の説明図である。

【図１０】偏向角度が１００度未満の陰極線管における
偏向磁界の管軸上での偏向磁界分布の説明図である。

【図１１】本発明の偏向磁界中に偏向磁界に対応した不
均一磁界を形成する偏向収差補正磁石の構造例を示す斜
視図である。

【図１２】本発明による陰極線管に用いられる電子銃の
一例を示す要部断面図である。

【図１３】本発明の陰極線管に用いる電子銃構成の一例
を説明する模式図である。

【図１４】本発明をインライン配列した３電子ビームを
用いるカラー陰極線管に適用した偏向収差補正磁石の構
造例を説明する要部構成図である。

【図１５】本発明をインライン配列した３電子ビームを
用いるカラー陰極線管に適用した偏向収差補正磁石の別
の構造例を説明する要部構成図である。

【図１６】本発明をインライン配列した３電子ビームを
用いるカラー陰極線管に適用した偏向収差補正磁石のさ
らに別の構造例を説明する要部構成図である。

【図１７】本発明をインライン配列した３電子ビームを
用いるカラー陰極線管に適用した偏向収差補正磁石のさ
らに別の構造例を説明する要部構成図である。

【図１８】本発明をインライン配列した３電子ビームを
用いるカラー陰極線管に適用した偏向収差補正磁石のさ
らに別の構造例を説明する要部構成図である。

【図１９】本発明をインライン配列した３電子ビームを
用いるカラー陰極線管に適用した偏向収差補正磁石のさ
らに別の構造例を説明する要部構成図である。

【図２０】本発明をインライン配列した３電子ビームを
用いるカラー陰極線管に適用した偏向収差補正磁石のさ
らに別の構造例を説明する要部構成図である。

【図２１】本発明をインライン配列した３電子ビームを
用いるカラー陰極線管に適用した偏向収差補正磁石のさ
らに別の構造例を説明する要部構成図である。

【図２２】本発明をインライン配列した３電子ビームを
用いるカラー陰極線管に適用した偏向収差補正磁石のさ
らに別の構造例を説明する要部構成図である。

【図２３】本発明をインライン配列した３電子ビームを
用いるカラー陰極線管に適用した偏向収差補正磁石のさ
らに別の構造例を説明する要部構成図である。

【図２４】本発明をインライン配列した３電子ビームを
用いるカラー陰極線管に適用した偏向収差補正磁石のさ
らに別の構造例を説明する要部構成図である。

【図２５】本発明をインライン配列した３電子ビームを
用いるカラー陰極線管に適用した偏向収差補正磁石のさ
らに別の構造例を説明する要部構成図である。

【図２６】本発明をインライン配列した３電子ビームを
用いるカラー陰極線管に適用した偏向収差補正磁石のさ
らに別の構造例を説明する要部構成図である。

【図２７】本発明をインライン配列した３電子ビームを
用いるカラー陰極線管に適用した偏向収差補正磁石のさ
らに別の構造例を説明する要部構成図である。

【図２８】本発明をインライン配列した３電子ビームを
用いるカラー陰極線管に適用した偏向収差補正磁石のさ
らに別の構造例を説明する要部構成図である。

【図２９】本発明をインライン配列した３電子ビームを
用いるカラー陰極線管に適用した偏向収差補正磁石のさ
らに別の構造例を説明する要部構成図である。

【図３０】本発明をインライン配列した３電子ビームを
用いるカラー陰極線管に適用した偏向収差補正磁石のさ
らに別の構造例を説明する要部構成図である。

【図３１】本発明をインライン配列した３電子ビームを
用いるカラー陰極線管に適用した偏向収差補正磁石のさ
らに別の構造例を説明する要部構成図である。

【図３２】本発明をインライン配列した３電子ビームを
用いるカラー陰極線管に適用した偏向収差補正磁石のさ
らに別の構造例を説明する要部構成図である。

【図３３】本発明をインライン配列した３電子ビームを
用いるカラー陰極線管に適用した偏向収差補正磁石のさ
らに別の構造例を説明する要部構成図である。

【図３４】本発明をインライン配列した３電子ビームを
用いるカラー陰極線管に適用した偏向収差補正磁石のさ
らに別の構造例を説明する要部構成図である。

【図３５】本発明をインライン配列した３電子ビームを
用いるカラー陰極線管に適用した偏向収差補正磁石のさ
らに別の構造例を説明する要部構成図である。

【図３６】本発明をインライン配列した３電子ビームを
用いるカラー陰極線管に適用した偏向収差補正磁石のさ
らに別の構造例を説明する要部構成図である。

【図３７】本発明をインライン配列した３電子ビームを
用いるカラー陰極線管に適用した偏向収差補正磁石のさ
らに他の実施例を説明する要部構成図である。

【図３８】本発明の偏向収差補正磁石の各実施例の電子
銃への設置例と電子ビームの集束状態の説明図である。

【図３９】本発明をインライン配列した３電子ビームを
用いるカラー陰極線管に適用した偏向収差補正磁石のさ
らに別の構造例を説明する要部構成図である。

【図４０】本発明をインライン配列した３電子ビームを
用いるカラー陰極線管に適用した偏向収差補正磁石のさ
らに別の構造例を説明する要部構成図である。

【図４１】本発明をインライン配列した３電子ビームを
用いるカラー陰極線管に適用した偏向収差補正磁石のさ
らに別の構造例を説明する要部構成図である。

【図４２】本発明をインライン配列した３電子ビームを
用いるカラー陰極線管に適用した偏向収差補正磁石のさ
らに別の構造例を説明する要部構成図である。

【図４３】本発明をインライン配列した３電子ビームを
用いるカラー陰極線管に適用した偏向収差補正磁石のさ
らに別の構造例を説明する要部構成図である。

【図４４】本発明をインライン配列した３電子ビームを
用いるカラー陰極線管に適用した偏向収差補正磁石のさ
らに別の構造例を説明する要部構成図である。

【図４５】本発明をインライン配列した３電子ビームを
用いるカラー陰極線管に適用した偏向収差補正磁石のさ
らに別の構造例を説明する要部構成図である。

【図４６】本発明をインライン配列した３電子ビームを
用いるカラー陰極線管に適用した偏向収差補正磁石のさ
らに別の構造例を説明する要部構成図である。

【図４７】本発明をインライン配列した３電子ビームを
用いるカラー陰極線管に適用した偏向収差補正磁石のさ
らに別の構造例を説明する要部構成図である。

【図４８】本発明をインライン配列した３電子ビームを
用いるカラー陰極線管に適用した偏向収差補正磁極のさ
らに別の構造例を説明する要部構成図である。

【図４９】本発明をインライン配列した３電子ビームを
用いるカラー陰極線管に適用した偏向収差補正磁石のさ
らに別の構造例を説明する要部構成図である。

【図５０】単一の電子ビームを用いる陰極線管用電子銃
に本発明を適用した主レンズ部の説明図である。

【図５１】単一の電子ビームを用いる陰極線管用電子銃
に本発明を適用した他の構成例を示す主レンズ部の説明
図である。

【図５２】図５０、図５１の様に主レンズを構成する電
極のうちの陽極の径がフォーカス電極よりも大きい場合
の電子銃要部と電子ビームの軌道の説明図である。

【図５３】図５０、図５１の様に主レンズを構成する電
極のうちの陽極の径がフォーカス電極よりも大きい場合
の他の電子銃要部と電子ビームの軌道の説明図である。

【図５４】単一の電子ビームを用いる陰極線管用電子銃
に本発明を適用した他の構成例を示す要部の説明図であ
る。

【図５５】単一の電子ビームを用いる陰極線管用電子銃
に本発明を適用した他の構成例を示す要部の説明図であ
る。

【図５６】単一の電子ビームを用いる陰極線管用電子銃
に本発明を適用した他の構成例を示す要部の説明図であ
る。

【図５７】単一の電子ビームを用いる陰極線管用電子銃
に本発明を適用した他の構成例を示す要部の説明図であ
る。

【図５８】本発明を適用した単一の電子ビームを用いた
陰極線管用電子銃の部分断面図である。

【図５９】本発明を適用したインライン配列した３電子
ビームを用いた他の陰極線管用電子銃の全体外観図であ
る。

【図６０】主レンズと蛍光面の間で電子ビームに対して
空間電荷の反発がどのように影響するのかを示す説明図
である。

【図６１】主レンズと蛍光膜間の距離と蛍光膜上の電子
ビームスポツトの大きさの関係の説明図である。

【図６２】本発明による陰極線管の１実施例における寸
法例を説明する断面模式図である。

【図６３】本発明による陰極線管の１実施例における寸
法例を比較するための従来技術による陰極線管の断面模
式図である。

【図６４】本発明の実施例の画像表示装置と従来の画像
表示装置の寸法比較の説明図である。

【図６５】偏向量（偏向角度）と偏向収差量の関係の説
明図である。

【図６６】偏向量と偏向収差補正量の関係の説明図であ
る。

【図６７】電子ビームの蛍光膜上の集束状態の説明図で
ある。

【図６８】陰極線管の蛍光面を構成するパネル部に形成
される走査線の説明図である。

【図６９】偏向収差補正磁石の構成例の説明図である。

【図７０】インライン型電子銃を備えたシャドウマスク
方式カラー陰極線管の断面を説明する模式図である。

【図７１】画面の中央部で円形となる電子ビームスポッ
トで画面の周囲を発光させた場合の電子ビームスポット
の説明図である。

【図７２】陰極線管の偏向磁界分布の説明図である。

【図７３】電子ビームスポット形状の変形を説明する電
子銃の電子光学系の模式図である。

【図７４】図７１で説明した画面周辺部での画質の低下
を抑制する手段の説明図である。

【図７５】図７２に示したレンズ系を用いた場合の螢光
面の電子ビームスポット形状を説明する模式図である。

【図７６】主レンズのレンズ強度を非回転対称とする代
わりにプリフォーカスレンズの水平方向（Ｘ−Ｘ）レン
ズ強度を強化した電子銃の電子光学系の模式図である。

【図７７】図７５の構成にハローの抑制効果を付加した
電子銃の電子光学系の模式図である。

【図７８】図７６に示した構成のレンズ系を用いたとき
の画面上での電子ビームのスポット形状を説明する模式
図である。

【図７９】小電流時での電子ビームの軌道を説明する電
子銃の電子光学系の模式図である。

【図８０】プリフォーカスレンズの内の発散レンズ側の
画面垂直方向（Ｙ−Ｙ）のレンズ強度を大きくした場合
の電子銃の電子光学系を示す模式図である。

【図８１】陰極線管に用いられる電子銃の一例を説明す
る全体側面図である。

【図８２】図８１の矢印方向からみた要部部分断面図で
ある。

【図８３】フォーカス電圧の与え方による電子銃の構造
比較のための要部断面模式図である。

【図８４】図８１に示した各電子銃に供給するフォーカ
ス電圧の説明図である。

【符号の説明】

４第４電極（Ｇ４）７電子銃を収納する陰極線管のネック部８ファンネル部１４パネル部１０，６２，６３電子ビーム１１偏向ヨーク１２シャドウマスク１３蛍光膜３８電子銃の主レンズ３９偏向収差補正磁石６１磁力線。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】複数の電極からなる電子銃と偏向装置およ
び蛍光面を少なくとも備える陰極線管の偏向収差補正方
法において、前記偏向装置により形成される偏向磁界中に固定した不
均一磁界を形成する磁石を設置して電子ビームの偏向収
差を補正することを特徴とする陰極線管の偏向収差補正
方法。
【請求項２】複数の電極からなる電子銃と偏向装置およ
び蛍光面を少なくとも備える陰極線管の偏向収差補正方
法において、前記偏向装置により形成される偏向磁界中に固定した不
均一磁界を形成する磁石を設置して電子ビームの偏向量
に対応した偏向収差を補正することを特徴とする陰極線
管の偏向収差補正方法。
【請求項３】複数の電極からなる電子銃と偏向装置およ
び蛍光面を少なくとも備える陰極線管の偏向収差補正方
法において、前記偏向装置により形成される偏向磁界中に非点収差を
もつ固定した不均一磁界を形成する磁石を設置して電子
ビームの偏向量に対応した偏向収差を補正することを特
徴とする陰極線管の偏向収差補正方法。
【請求項４】請求項３において、前記固定した不均一磁
界が電子ビームを発散する非点収差をもつことを特徴と
する陰極線管の偏向収差補正方法。
【請求項５】請求項３において、前記固定した不均一磁
界が電子ビームを発散する非点収差をもち、電子ビーム
の走査線と直角方向の偏向量に対応した偏向収差を補正
することを特徴とする陰極線管の偏向収差補正方法。
【請求項６】請求項３において、前記固定した不均一磁
界が電子ビームを発散する非点収差をもち、電子ビーム
の走査線方向の偏向量に対応した偏向収差を補正するこ
とを特徴とする陰極線管の偏向収差補正方法。
【請求項７】請求項３において、前記固定した不均一磁
界が電子ビームを集束する非点収差をもつことを特徴と
する陰極線管の偏向収差補正方法。
【請求項８】請求項３において、前記固定した不均一磁
界が電子ビームを集束する非点収差をもち、電子ビーム
の走査線と直角方向の偏向量に対応した偏向収差を補正
することを特徴とする陰極線管の偏向収差補正方法。
【請求項９】請求項３において、前記固定した不均一磁
界が電子ビームを集束する非点収差をもち、電子ビーム
の走査線方向の偏向量に対応した偏向収差を補正するこ
とを特徴とする陰極線管の偏向収差補正方法。
【請求項１０】複数の電極からなる電子銃と偏向装置お
よび蛍光面を少なくとも備える陰極線管の偏向収差補正
方法において、前記偏向装置により形成される偏向磁界中にコマ収差を
もつ固定した不均一磁界を形成する磁石を設置して電子
ビームの偏向量に対応した偏向収差を補正することを特
徴とする陰極線管の偏向収差補正方法。
【請求項１１】請求項１０において、前記固定した不均
一磁界が電子ビームを発散するコマ収差をもち、電子ビ
ームの偏向量に対応した偏向収差を補正することを特徴
とする陰極線管の偏向収差補正方法。
【請求項１２】請求項１０において、前記固定した不均
一磁界が電子ビームを発散するコマ収差をもち、電子ビ
ームの走査線と直角方向の偏向量に対応した偏向収差を
補正することを特徴とする陰極線管の偏向収差補正方
法。
【請求項１３】請求項１０において、前記固定した不均
一磁界が電子ビームを発散するコマ収差をもち、電子ビ
ームの走査線方向の偏向量に対応した偏向収差を補正す
ることを特徴とする陰極線管の偏向収差補正方法。
【請求項１４】請求項１０において、前記固定した不均
一磁界が電子ビームを集束するコマ収差をもち、電子ビ
ームの偏向量に対応した偏向収差を補正することを特徴
とする陰極線管の偏向収差補正方法。
【請求項１５】請求項１０において、前記固定した不均
一磁界が電子ビームを集束するコマ収差をもち、電子ビ
ームの走査線と直角方向の偏向量に対応した偏向収差を
補正することを特徴とする陰極線管の偏向収差補正方
法。
【請求項１６】請求項１０において、前記固定した不均
一磁界が電子ビームを集束するコマ収差をもち、電子ビ
ームの走査線方向の偏向量に対応した偏向収差を補正す
ることを特徴とする陰極線管の偏向収差補正方法。
【請求項１７】複数の電極からなる電子銃と偏向装置お
よび蛍光面を少なくとも備える陰極線管において、前記偏向装置により形成される偏向磁界中に電子ビーム
の偏向収差を補正する固定の不均一磁界を形成する磁石
を備えたことを特徴とする陰極線管。
【請求項１８】複数の電極からなる電子銃と偏向装置お
よび蛍光面を少なくとも備える陰極線管において、前記偏向装置により形成される偏向磁界中に電子ビーム
の偏向量に対応した偏向収差を補正する固定の不均一磁
界を形成する磁石を備えたことを特徴とする陰極線管。
【請求項１９】請求項１８において、前記磁石が電子ビ
ームの偏向量に対応した非点収差をもつことを特徴とす
る陰極線管。
【請求項２０】請求項１８において、前記磁石が電子ビ
ームの偏向量に対応して電子ビームを発散する非点収差
をもつことを特徴とする陰極線管。
【請求項２１】請求項１８において、前記磁石が走査線
と直角方向の電子ビームの偏向量に対応して電子ビーム
を発散する非点収差をもつことを特徴とする陰極線管。
【請求項２２】請求項１８において、前記磁石が走査線
方向の電子ビームの偏向量に対応して電子ビームを発散
する非点収差をもつことを特徴とする陰極線管。
【請求項２３】請求項１８において、前記磁石が電子ビ
ームの偏向量に対応して電子ビームを集束する非点収差
をもつことを特徴とする陰極線管。
【請求項２４】請求項１８において、前記磁石が走査線
と直角方向の電子ビームの偏向量に対応して電子ビーム
を集束する非点収差をもつことを特徴とする陰極線管。
【請求項２５】請求項１８において、前記磁石が走査線
方向の電子ビームの偏向量に対応して電子ビームを集束
する非点収差をもつことを特徴とする陰極線管。
【請求項２６】請求項１８において、前記磁石が電子ビ
ームの偏向量に対応したコマ収差をもつことを特徴とす
る陰極線管。
【請求項２７】請求項１８において、前記磁石が電子ビ
ームの偏向量に対応して電子ビームを発散させるコマ収
差をもつことを特徴とする陰極線管。
【請求項２８】請求項１８において、前記磁石が電子ビ
ームの走査線と直角方向の偏向量に対応して電子ビーム
を発散させるコマ収差をもつことを特徴とする陰極線
管。
【請求項２９】請求項１８において、前記磁石が電子ビ
ームの走査線方向の偏向量に対応して電子ビームを発散
させるコマ収差をもつことを特徴とする陰極線管。
【請求項３０】請求項１８において、前記磁石が電子ビ
ームの偏向量に対応して電子ビームを集束させるコマ収
差をもつことを特徴とする陰極線管。
【請求項３１】請求項１８において、前記磁石が電子ビ
ームの走査線と直角方向の偏向量に対応して電子ビーム
を集束させるコマ収差をもつことを特徴とする陰極線
管。
【請求項３２】請求項１８において、前記磁石が電子ビ
ームの走査線方向の偏向量に対応して電子ビームを集束
させるコマ収差をもつことを特徴とする陰極線管。
【請求項３３】請求項１７〜３２において、前記不均一
磁界を形成する磁石が硬磁化特性を持つ磁性材料である
ことを特長とする陰極線管。
【請求項３４】請求項３３において、前記不均一磁界を
形成する磁石が室温での透磁率が５０以上の硬磁化特性
を持つ磁性材料を設置することを特長とする陰極線管。
【請求項３５】請求項３３または３４において、前記不
均一磁界を形成する磁性材料がＦｅ−Ｍｎ系、Ｆｅ−Ｃ
ｒ−Ｃｏ系、またはＦｅ−Ｃｒ−Ｃｏ−Ｖ系の何れかで
あることを特徴とする陰極線管。
【請求項３６】請求項１７〜３５の何れかの陰極線管を
用いたことを特徴とする画像表示装置。