JPH09222401A - 微小領域x線回折装置 - Google Patents

微小領域x線回折装置

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JPH09222401A
JPH09222401A JP8052541A JP5254196A JPH09222401A JP H09222401 A JPH09222401 A JP H09222401A JP 8052541 A JP8052541 A JP 8052541A JP 5254196 A JP5254196 A JP 5254196A JP H09222401 A JPH09222401 A JP H09222401A
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JP
Japan
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ray
sample
crystal monochromator
curved crystal
diffracted
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JP8052541A
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English (en)
Inventor
Hiroyuki Araki
宏侑 荒木
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Rigaku Denki Co Ltd
Rigaku Corp
Original Assignee
Rigaku Denki Co Ltd
Rigaku Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 試料のX線照射領域のうちの限られた微小領
域からの回折X線だけを湾曲結晶モノクロメータで反射
させて検出することにより、1μm以下の微小領域につ
いてのX線回折情報を得る。 【解決手段】 ヨハンソン型の湾曲結晶モノクロメータ
48は、その集中円50が試料36上のX線照射領域を
通過するように配置されている。X線源38から放出さ
れたX線は、孔径10μmのコリメータ40で細いビー
ムに絞られて試料36に照射される。試料36からの回
折X線58のうち、1μm以下の微小な目標点42から
の回折X線だけが、湾曲結晶モノクロメータ48での反
射条件を満足して反射し、これがX線検出器52で検出
される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は試料の微小領域の
X線回折測定を実施する微小領域X線回折装置に関す
る。
【0002】
【従来の技術】図4は従来の微小領域X線回折装置の基
本構成図である。X線源10から放出されたX線はコリ
メータ12で細いビームに絞られて、試料14に照射さ
れる。試料14で回折した回折X線16は、試料14の
結晶構造を反映して、いくつかの特定の方向に反射さ
れ、これらの回折X線が湾曲型の位置敏感型比例計数管
18で同時に検出される。直交する三つの回転軸線の回
りに試料14を揺動回転させながら回折X線を広い回折
角度にわたって検出すれば、試料14の微小なX線照射
領域についての洩れのない粉末回折パターンが得られ、
試料の微小領域の組成の同定に利用される。あるいは、
直交する三つの回転軸線の回りに試料14を揺動回転さ
せながら、既知の材質の試料について、特定の回折ピー
クの回折角度を精密に測定することにより、試料の微小
領域の応力状態を求めることができる。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】上述した従来の微小領
域X線回折装置では、コリメータによって入射X線を細
く絞ることによって、試料の微小領域からの回折情報を
得ることができるが、入射X線ビームの直径は5〜10
μm程度が最小限度であリ、コリメータの孔加工の困難
さから、これよりも入射X線ビームを細くすることはで
きなかった。したがって、1μm程度あるいはそれより
ももっと小さい微小領域だけを測定対象とすることはで
きなかった。
【0004】ところで、半導体デバイスのアルミニウム
配線の寸法は1μmのオーダーからサブミクロンのオー
ダーになりつつあり、このようなアルミニウム配線につ
いて、X線回折測定による応力測定が望まれている。こ
れを可能にするには、従来よりもはるかに小さい微小領
域だけを測定できるような微小領域X線回折装置が望ま
れている。
【0005】この発明は上述のような課題を解決するた
めになされたものであり、その目的は、試料上のX線照
射領域のうちの限られた微小領域だけからの回折X線を
検出できるようにした微小領域X線回折装置を提供する
ことにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】この発明の微小領域X線
回折装置は、試料の回折X線を湾曲結晶モノクロメータ
で反射してから検出することにより、試料のX線照射領
域のうちの限られた微小領域からのX線回折情報だけを
取り出すことができるものである。すなわち、この微小
領域X線回折装置は、X線源と、このX線源から放出さ
れるX線を細いビームに絞って試料に照射するコリメー
タと、前記試料を少なくとも二つの回転軸線の回りに回
転可能に保持する試料台と、前記試料からの回折X線を
反射させるヨハンソン型の湾曲結晶モノクロメータと、
前記湾曲結晶モノクロメータからの反射X線を検出する
X線検出器とを備え、前記湾曲結晶モノクロメータの集
中円が前記試料のX線照射領域を通過するように前記湾
曲結晶モノクロメータが配置されていることを特徴とす
る。
【0007】X線照射領域からの回折X線のうち、湾曲
結晶モノクロメータの集中円に載っている部分(以下、
目標点という。)からの回折X線だけが湾曲結晶モノク
ロメータの反射表面に対して所定の入射角で入射して反
射する。目標点以外の領域からの回折X線は、湾曲結晶
モノクロメータに対する入射角が所定の入射角からわず
かにずれることになり、反射条件を満足しない。湾曲結
晶モノクロメータの入射角選択能力は、角度にして1秒
程度にできるので、目標点の広がりを1μm以下にでき
る。したがって、試料に入射するX線ビームの断面寸法
を10μm程度にしか小さくできなくても、1μm以下
の微小領域からの回折X線だけを取り出すことが可能に
なる。
【0008】湾曲結晶モノクロメータとしてはヨハンソ
ン(Johansson)型を用いる。このヨハンソン型は原理
的に非点収差がなく、集中円上の目標点からの回折X線
の入射角選択能力が高い。これに対して、ヨハン(Joha
nn)型の湾曲結晶モノクロメータは原理的に非点収差が
存在するので、この発明の微小領域X線回折装置には適
していない。
【0009】ヨハンソン型の湾曲結晶モノクロメータ
は、対称反射のものでも、非対称反射のものでもよい。
【0010】なお、試料からの回折X線を単色化するた
めに湾曲結晶モノクロメータを用いる従来例が知られて
いるので、本発明との比較のために、これを簡単に説明
する。図5は湾曲結晶モノクロメータを試料の反射側に
配置した従来のX線回折装置の平面図である。このX線
回折装置は集中法の回折装置であり、X線源20から放
出されたX線は発散スリットで所定の発散角に制限され
てから、試料22に入射する。試料22からの回折X線
は受光スリット24のところに集光する。通常のX線回
折装置では、受光スリット24の後ろにX線検出器が配
置されているが、このX線回折装置では、受光スリット
24の後ろに、湾曲結晶モノクロメータ26を用いた単
色化光学系が配置されている。すなわち、湾曲結晶モノ
クロメータ26の集中円28上に上述の受光スリット2
4(以下、第1受光スリットという。)と、モノクロメ
ータ用の受光スリット30(以下、第2受光スリットと
いう。)が配置されている。そして、第2受光スリット
30の後ろにX線検出器32が配置されている。この装
置によれば、第1受光スリット24を通過したX線(本
来の回折X線以外に、散乱X線などのノイズが混じって
いる。)が湾曲結晶モノクロメータ26によって本来の
回折X線だけに単色化されて、回折パターンのバックグ
ラウンドをほとんどなくすことができる。
【0011】図5の従来装置は、湾曲結晶モノクロメー
タの集中円上に第1受光スリット24が配置されてお
り、この点で本発明と原理的に異なっている。図5の従
来装置では、試料22上の広いX線照射範囲からの回折
X線が受光スリット24に集中しており、この受光スリ
ット24を通過した回折X線はすべて湾曲結晶モノクロ
メータ26で反射する。これに対して、本発明では、湾
曲結晶モノクロメータの集中円上に試料が配置されてい
るので、試料上の小さいX線照射領域のうちの、さらに
限られた微小領域からの回折X線だけが、湾曲結晶モノ
クロメータでの反射条件を満足して反射する。
【0012】
【発明の実施の形態】図1は、この発明の一実施形態を
示す正面断面図である。試料台34には試料36が載っ
ており、X線源38から放出されたX線は、コリメータ
40で細いビームに絞られて試料36に照射される。コ
リメータ40の孔の内径は例えば10μmである。試料
36を取り囲むように円弧形状のX線遮蔽体44が配置
されている。このX線遮蔽体44は、目的の回折X線以
外の散乱線がX線検出器52に入るのを防いでいる。X
線遮蔽体44に形成された貫通孔46の部分には、ヨハ
ンソン型の湾曲結晶モノクロメータ48が配置されてい
る。この湾曲結晶モノクロメータ48は、その集中円5
0が試料36のX線照射領域を通過するように、配置さ
れている。そして、このX線照射領域のうちで集中円5
0が通過する点が目標点42となる。この目標点42か
らの回折X線58だけが湾曲結晶モノクロメータ48で
反射する。この反射X線62が検出できる位置にX線検
出器52が配置されている。X線検出器52としては、
比例計数管やシンチレーション検出器を使うことができ
る。
【0013】X線遮蔽体44と湾曲結晶モノクロメータ
48とX線検出器52は、共通の揺動回転台に搭載され
ていて、目標点42を中心として、矢印66の方向に、
一体的に揺動回転できる。この揺動回転台を回転させる
ことにより、測定したい回折ピークが検出できるように
湾曲結晶モノクロメータ48の位置を変更できる。ま
た、測定したい回折ピークの近傍で揺動回転台を微小角
度だけ走査すれば、回折ピークのプロファイルが測定で
きる。
【0014】多結晶試料についてその微小領域からの回
折X線を得る場合に、試料を静止させたままでは回折に
寄与する結晶粒が少なくなる問題がある。そこで、微小
領域に含まれる結晶粒にいろいろな方向を向かせて、回
折に寄与する結晶粒の数を増やす必要がある。すなわ
ち、互いに交差する少なくとも二つの回転軸線の回りに
試料を回転(連続回転または往復揺動)させながら、回
折X線を測定することが必要になる。この実施形態で
は、試料台34は、互いに交差する三つの回転軸線の回
りに回転(連続回転または往復揺動)できるようにして
ある。
【0015】図2は湾曲結晶モノクロメータ48による
反射光学系を示す拡大図である。ヨハンソン型の湾曲結
晶モノクロメータ48の反射表面は集中円50に沿って
おり、反射表面の曲率半径はRである。一方、結晶格子
面49の曲率半径は2Rである。ヨハンソン型の湾曲結
晶モノクロメータは、このように、結晶格子面の曲率半
径が反射表面の曲率半径の2倍になっていることに特徴
があり、これによって、入射側の焦点(試料上の目標点
42)と、反射側の焦点54とが、正確に集中円50上
の一点に収束する。すなわち、原理的に非点収差が存在
しない。
【0016】集中円50の直径2Rと、試料上の目標点
42から湾曲結晶モノクロメータ48の中央部までの距
離Lと、試料からの回折X線58が湾曲結晶モノクロメ
ータ48に入射する入射角θbとの間には、次の関係が
ある。
【数1】L=2Rsinθb
【0017】また、入射角θbと、回折X線58の波長
λ(一般的には、X線源の特性X線の波長である。)
と、湾曲結晶モノクロメータ48の格子面間隔dとの間
では、次の反射条件を満足する必要がある。
【数2】λ=2dsinθb
【0018】これらの二つの関係を満足するように、湾
曲結晶モノクロメータの仕様や試料との距離Lを定めれ
ばよい。例えば、X線源の特性X線の波長λと、湾曲結
晶モノクロメータの格子面間隔dとを決めれば、反射条
件を満足する入射角θbが定まる。そして、湾曲結晶モ
ノクロメータの曲率半径Rを決めれば、試料からの距離
Lが定まる。
【0019】次の表1は湾曲結晶モノクロメータの具体
的な材質例および数値例を示す。使用するX線はCuK
α1 (波長λ=1.5406オングストローム)であ
リ、距離L=100mmである。表中のd値の単位はオ
ングストロームである。
【0020】
【表1】 材質 格子面 d値 R(mm) SiO2(α-Quartz)(1,0,-1,1) 3.342 216.9 Si (111) 3.1355 203.5 Ge (111) 3.2658 212.0
【0021】次に、本発明の微小領域X線回折装置にお
いて、X線照射領域のうちの限られた微小領域からの回
折X線だけを取り出せる原理を説明する。図2におい
て、入射X線56が試料36上の目標点42に当たる
と、そこからの回折X線58が、試料によって定まる特
定の回折角2θaの方向に出て行く。この回折角の方向
には、あらかじめ湾曲結晶モノクロメータ48が配置さ
れている。目標点42からの回折X線58は、湾曲結晶
モノクロメータ48の表面に対して入射角θbで入射
し、同じ反射角θbで反射して、X線検出器52で検出
される。なお、この湾曲結晶モノクロメータ48は対称
反射のものである。
【0022】ところで、試料に実際に入射するX線は、
コリメータの孔径で定まる所定の断面寸法を備えてい
る。これを入射X線ビーム57として誇張して図示して
いる。この入射X線ビーム57が試料36に照射される
と、集中円50上の目標点48以外(例えば周辺点6
0)にも、X線が照射される。この周辺点60からも回
折角2θaの方向に回折X線59が出て来るが、この回
折X線59は、湾曲結晶モノクロメータ48の反射表面
に対する入射角が、上述の所定の入射角θbからわずか
にずれている。したがって、周辺点60からの回折X線
59は湾曲結晶モノクロメータ48では反射せず、X線
検出器52では検出されない。このように、所定断面寸
法の入射X線ビーム57が試料に照射されても、その照
射領域のうち、目標点42近傍の非常に微小な領域から
の回折X線58だけが湾曲結晶モノクロメータ48で反
射する。その結果、目標点42近傍の非常に微小な領域
だけの回折情報を得ることができる。
【0023】コリメータの孔径はどんなに小さくして
も、製造上の限界から、5〜10μm程度である。これ
に対して、湾曲結晶モノクロメータ48を用いると、1
μm以下の微小領域からの情報だけを得ることができ
る。この点を詳しく説明すると、湾曲結晶モノクロメー
タ48の入射角度選択能力は、結晶の完全性に依存し、
良好な結晶を使えば、その角度選択性は1秒程度のオー
ダーになる。試料と湾曲結晶モノクロメータとの距離L
を例えば10cmと仮定すると、角度1秒は10cm離
れたところで0.485μmの広がりに相当する。した
がって、0.5μm程度の広がりの目標点42からの回
折X線だけが湾曲結晶モノクロメータ48で反射するこ
とになる。
【0024】湾曲結晶モノクロメータ48からの反射X
線62は、集中円50上の反射側の焦点54で収束する
ことになるが、X線検出器52の検出面を、この焦点5
4の位置に配置する必要はない。湾曲結晶モノクロメー
タ48からの反射X線62のすべてを検出できれば、焦
点54よりも、もっと湾曲結晶モノクロメータ48側に
近づけてX線検出器52を配置してもよい。
【0025】次に、この微小領域X線回折装置を用い
て、試料の微小領域のX線回折情報を得る方法を説明す
る。図3は試料の面内移動を説明する斜視図である。試
料台(図示せず)は試料36の表面に平行な平面内にお
いて、X軸とY軸の二つの並進軸に沿って移動できる。
この並進移動により、試料36の表面上の任意の位置に
X線照射領域64をもってくることができる。このX線
照射領域64の内部に目標点42が位置する。X線照射
領域64は10μm程度の広がりであるのに対して、目
標点42は1μm以下の広がりである。X線照射領域6
4の空間位置は定まっているので、試料36をその面内
で2次元的に移動させることにより、測定したい領域を
目標点42のところにもってくることができる。そし
て、試料36を三つの回転軸線の回りに回転(連続回転
または往復揺動)させながら回折X線を測定すれば、目
的の回折ピークを検出できる。また、揺動回転台を微小
な角度範囲で走査すれば、この回折ピークのプロファイ
ルを測定でき、回折ピーク角度を精密に測定できる。こ
の回折ピーク角度を利用すると、既知の応力演算法に基
づいて、試料の微小領域における応力を求めることもで
きる。さらに、試料をその面内で2次元的に移動させ
て、複数の測定領域で応力測定を実施すれば、試料の面
内での応力分布を求めることができる。
【0026】また、X線検出器として、蓄積性蛍光体
(輝尽性蛍光体またはイメージングプレートとも呼ばれ
る。)などの2次元検出器を用いれば、試料の面内2次
元移動と連動させて2次元検出器を移動させることによ
り、2次元検出器上に回折X線の試料面内の強度分布を
記録できる。なお、2次元検出器としては「斜め効果」
のないものが望ましい。斜め効果があると、検出器に入
射するX線の像がぼけて、位置分解能が低下するからで
ある。このような観点から、斜め効果の比較的大きい位
置敏感型比例計数管よりも、斜め効果が無視できる蓄積
性蛍光体の方が優れている。
【0027】ところで、湾曲結晶モノクロメータで回折
X線を反射させると、その強度は著しく減少する。した
がって、一つの回折ピークのプロファイルを測定するだ
けでも、100〜500時間かかる。したがって、この
微小領域X線回折装置では、広い回折角度にわたって微
小領域の回折パターンを測定することは現実的ではな
い。むしろ、既知の一つの回折ピークについて、サブミ
クロン領域の回折測定を実施することに現実的な意味が
ある。
【0028】
【発明の効果】この発明の微小領域X線回折装置は、試
料のX線照射領域のうちの限られた微小領域からの回折
X線だけが湾曲結晶モノクロメータで反射してX線検出
器で検出されるので、1μm以下の微小領域についての
X線回折情報だけを得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の一実施形態の正面断面図である。
【図2】湾曲結晶モノクロメータによる反射光学系の拡
大図である。
【図3】試料の面内移動を説明する斜視図である。
【図4】従来の微小領域X線回折装置の基本構成図であ
る。
【図5】湾曲結晶モノクロメータを試料の反射側に配置
した従来のX線回折装置の平面図である。
【符号の説明】
34 試料台 36 試料 38 X線源 40 コリメータ 42 目標点 44 X線遮蔽体 46 貫通孔 48 湾曲結晶モノクロメータ 50 集中円 52 X線検出器 58 回折X線 62 反射X線

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 X線源と、このX線源から放出されるX
    線を細いビームに絞って試料に照射するコリメータと、
    前記試料を少なくとも二つの回転軸線の回りに回転可能
    に保持する試料台と、前記試料からの回折X線を反射さ
    せるヨハンソン型の湾曲結晶モノクロメータと、前記湾
    曲結晶モノクロメータからの反射X線を検出するX線検
    出器とを備え、前記湾曲結晶モノクロメータの集中円が
    前記試料のX線照射領域を通過するように前記湾曲結晶
    モノクロメータが配置されていることを特徴とする微小
    領域X線回折装置。
  2. 【請求項2】 前記試料と前記X線検出器との間には、
    前記試料を取り囲むように、円弧形状のX線遮蔽体が配
    置され、このX線遮蔽体に貫通孔が形成されていて、こ
    の貫通孔の部分に前記湾曲結晶モノクロメータが配置さ
    れていることをことを特徴とする請求項1記載の微小領
    域X線回折装置。
  3. 【請求項3】 前記湾曲結晶モノクロメータと前記X線
    検出器と前記X線遮蔽体は、試料表面上のX線照射領域
    を中心として、一体的に揺動回転できることを特徴とす
    る請求項2記載の微小領域X線回折装置。
  4. 【請求項4】 前記試料台は、試料表面に平行な面内で
    試料を2次元的に移動させることができることを特徴と
    する請求項1記載の微小領域X線回折装置。
JP8052541A 1996-02-16 1996-02-16 微小領域x線回折装置 Pending JPH09222401A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007528486A (ja) * 2003-06-13 2007-10-11 オスミック、インコーポレイテッド ビーム調整システム
JP2017151082A (ja) * 2015-12-18 2017-08-31 ブルーカー アーイクスエス ゲーエムベーハーBruker AXS GmbH 3つのビーム経路のための切り換えシステムを備えるx線光学アセンブリ、及び関連するx線回折装置

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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JP2017151082A (ja) * 2015-12-18 2017-08-31 ブルーカー アーイクスエス ゲーエムベーハーBruker AXS GmbH 3つのビーム経路のための切り換えシステムを備えるx線光学アセンブリ、及び関連するx線回折装置

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