JPH0920802A - オレフィン（共）重合用触媒及びオレフィン（共）重合体の製造方法 - Google Patents
オレフィン（共）重合用触媒及びオレフィン（共）重合体の製造方法Info
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- JPH0920802A JPH0920802A JP10564596A JP10564596A JPH0920802A JP H0920802 A JPH0920802 A JP H0920802A JP 10564596 A JP10564596 A JP 10564596A JP 10564596 A JP10564596 A JP 10564596A JP H0920802 A JPH0920802 A JP H0920802A
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】分子量が高いオレフィン（共）重合体を与える
重合触媒と、それを用いたオレフィン（共）重合体の製
造方法。 【解決手段】（Ａ）シクロペンタジエニル骨格を有する
基及び芳香族複素環骨格を有する基をそれぞれ少なくと
も１個以上有し、周期律表第３、４族又はランタニド系
列の遷移金属化合物よりなるオレフィン（共）重合用触
媒成分。（Ｂ）下記化合物から選択。 （Ｂ１）一般式Ｒ3 b ＡｌＺ3-b で示される有機アルミ
ニウム化合物 （Ｂ２）一般式｛−Ａｌ（Ｒ4)−Ｏ−｝c で示される構
造を有する環状のアルミノキサン（Ｂ２ａ）、及び／又
は、一般式 Ｒ5 ｛−Ａｌ（Ｒ5)−Ｏ−｝d ＡｌＲ5 2で
示される構造を有する線状のアルミノキサン（Ｂ２ｂ） （但し、Ｒ3 、Ｒ4 及びＲ5 は炭化水素基、Ｚは水素及
び／又はハロゲン、ｂは０〜３の数、ｃ及びｄは１以上
の整数） （Ｃ）遷移金属化合物と反応してイオン性の錯体を形成
する化合物からなる触媒を使用。
重合触媒と、それを用いたオレフィン（共）重合体の製
造方法。 【解決手段】（Ａ）シクロペンタジエニル骨格を有する
基及び芳香族複素環骨格を有する基をそれぞれ少なくと
も１個以上有し、周期律表第３、４族又はランタニド系
列の遷移金属化合物よりなるオレフィン（共）重合用触
媒成分。（Ｂ）下記化合物から選択。 （Ｂ１）一般式Ｒ3 b ＡｌＺ3-b で示される有機アルミ
ニウム化合物 （Ｂ２）一般式｛−Ａｌ（Ｒ4)−Ｏ−｝c で示される構
造を有する環状のアルミノキサン（Ｂ２ａ）、及び／又
は、一般式 Ｒ5 ｛−Ａｌ（Ｒ5)−Ｏ−｝d ＡｌＲ5 2で
示される構造を有する線状のアルミノキサン（Ｂ２ｂ） （但し、Ｒ3 、Ｒ4 及びＲ5 は炭化水素基、Ｚは水素及
び／又はハロゲン、ｂは０〜３の数、ｃ及びｄは１以上
の整数） （Ｃ）遷移金属化合物と反応してイオン性の錯体を形成
する化合物からなる触媒を使用。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、オレフィンの重合
触媒及びそれを用いたポリオレフィンの製造方法に関す
るものである。さらに詳しくは、本発明は、共重合性に
優れる触媒及びそれを用いて、適度な分子量で、コモノ
マ−含有量の多いポリオレフィン、特に、線状低密度ポ
リエチレンを製造する方法に関するものである。
触媒及びそれを用いたポリオレフィンの製造方法に関す
るものである。さらに詳しくは、本発明は、共重合性に
優れる触媒及びそれを用いて、適度な分子量で、コモノ
マ−含有量の多いポリオレフィン、特に、線状低密度ポ
リエチレンを製造する方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】メタロセン触媒によるポリオレフィンの
製造方法については、すでに多くの報告がなされてい
る。例えば、特開昭５８−１９３０９号公報において、
メタロセン触媒とアルミノキサンを用いた、ポリオレフ
ィンの製造方法が開示されている。しかし、この方法、
即ち、ビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムジク
ロライド及びメチルアルミノキサンを用いた系で、エチ
レン−α−オレフィン共重合を行うと、分子量が低く、
また、α−オレフィンの含有量も低いポリマ−を与え
る。また、特表平１−５０２０３６号公報においては、
メタロセン触媒とホウ素化合物、例えば、ビス（ペンタ
メチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジメチル及
びトリ（ｎ−ブチル）アンモニウムテトラ（ペンタフル
オロフェニル）ホウ素を用いて、エチレン−α−オレフ
ィン共重合を行うことが開示されているが、やはり、分
子量は低く、α−オレフィンの含有量も低い共重合体し
か得られていない。一方、特開平３−１６３０８８号公
報には、（第３級ブチルアミド）ジメチル（テトラメチ
ル−η5 −シクロペンタジエニル）シランチタンジクロ
ライドを用いてエチレン−α−オレフィン共重合を行う
ことが開示されているが、その結果は、上述のメタロセ
ン系触媒により得られるエチレン−α−オレフィン共重
合体より高分子量のポリマ―が得られるが、まだ不充分
であった。また、特開平６−４９１２０号公報には、ビ
ス（２，３，４，５−テトラメチルホスホリル）ジルコ
ニウムジクロライドを用いてエチレン−α−オレフィン
共重合を行うことが開示されているが、やはり、分子量
は低く、その分布も広く、その融点の高いポリマ―を与
えている。このように、従来のメタロセン触媒によって
得られるエチレン−α−オレフィン共重合体は分子量が
低いものであった。
製造方法については、すでに多くの報告がなされてい
る。例えば、特開昭５８−１９３０９号公報において、
メタロセン触媒とアルミノキサンを用いた、ポリオレフ
ィンの製造方法が開示されている。しかし、この方法、
即ち、ビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムジク
ロライド及びメチルアルミノキサンを用いた系で、エチ
レン−α−オレフィン共重合を行うと、分子量が低く、
また、α−オレフィンの含有量も低いポリマ−を与え
る。また、特表平１−５０２０３６号公報においては、
メタロセン触媒とホウ素化合物、例えば、ビス（ペンタ
メチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジメチル及
びトリ（ｎ−ブチル）アンモニウムテトラ（ペンタフル
オロフェニル）ホウ素を用いて、エチレン−α−オレフ
ィン共重合を行うことが開示されているが、やはり、分
子量は低く、α−オレフィンの含有量も低い共重合体し
か得られていない。一方、特開平３−１６３０８８号公
報には、（第３級ブチルアミド）ジメチル（テトラメチ
ル−η5 −シクロペンタジエニル）シランチタンジクロ
ライドを用いてエチレン−α−オレフィン共重合を行う
ことが開示されているが、その結果は、上述のメタロセ
ン系触媒により得られるエチレン−α−オレフィン共重
合体より高分子量のポリマ―が得られるが、まだ不充分
であった。また、特開平６−４９１２０号公報には、ビ
ス（２，３，４，５−テトラメチルホスホリル）ジルコ
ニウムジクロライドを用いてエチレン−α−オレフィン
共重合を行うことが開示されているが、やはり、分子量
は低く、その分布も広く、その融点の高いポリマ―を与
えている。このように、従来のメタロセン触媒によって
得られるエチレン−α−オレフィン共重合体は分子量が
低いものであった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明はこのような事
情を鑑み、分子量が高いオレフィン（共）重合体を与え
る重合触媒と、それを用いたオレフィン（共）重合体の
製造方法を提供することを目的とするものである。ここ
に、オレフィン（共）重合体とは、オレフィンの単独重
合体、又は、オレフィンと他のオレフィンとの共重合体
の両方を指す。
情を鑑み、分子量が高いオレフィン（共）重合体を与え
る重合触媒と、それを用いたオレフィン（共）重合体の
製造方法を提供することを目的とするものである。ここ
に、オレフィン（共）重合体とは、オレフィンの単独重
合体、又は、オレフィンと他のオレフィンとの共重合体
の両方を指す。
【０００４】
【課題を解決するための手段】即ち本発明は、下記化合
物（Ａ）からなる触媒成分、化合物（Ａ）及び（Ｂ）あ
るいは化合物（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）を主成分とする
触媒系、及びかかる触媒系を用いたオレフィン（共）重
合体の製造方法に関するものである。 （Ａ）シクロペンタジエニル骨格を有する基及び芳香族
複素環骨格を有する基をそれぞれ少なくとも１個以上有
し、元素の周期律表第３、４族又はランタニド系列の遷
移金属原子を有する遷移金属化合物よりなるオレフィン
（共）重合用触媒成分。 （Ｂ）下記化合物（Ｂ１）、（Ｂ２）から選ばれた有機
アルミニウム化合物 （Ｂ１）一般式Ｒ3 b ＡｌＺ3-b で示される有機アルミ
ニウム化合物 （Ｂ２）一般式｛−Ａｌ（Ｒ4)−Ｏ−｝c で示される構
造を有する環状のアルミノキサン（Ｂ２ａ）、及び／又
は、一般式 Ｒ5 ｛−Ａｌ（Ｒ5)−Ｏ−｝d ＡｌＲ5 2で
示される構造を有する線状のアルミノキサン（Ｂ２ｂ） （但し、Ｒ3 、Ｒ4 及びＲ5 は炭素数１〜８の炭化水素
基を表す。上記の一般式において、全てのＲ4 及び全て
のＲ5 は同じであっても異なっていても良い。Ｚは水素
及び／又はハロゲンであり、ｂは０〜３の数であり、ｃ
及びｄは１以上の整数を表す。） （Ｃ）遷移金属化合物と反応してイオン性の錯体を形成
する化合物 以下、本発明につき、さらに詳しく説明する。
物（Ａ）からなる触媒成分、化合物（Ａ）及び（Ｂ）あ
るいは化合物（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）を主成分とする
触媒系、及びかかる触媒系を用いたオレフィン（共）重
合体の製造方法に関するものである。 （Ａ）シクロペンタジエニル骨格を有する基及び芳香族
複素環骨格を有する基をそれぞれ少なくとも１個以上有
し、元素の周期律表第３、４族又はランタニド系列の遷
移金属原子を有する遷移金属化合物よりなるオレフィン
（共）重合用触媒成分。 （Ｂ）下記化合物（Ｂ１）、（Ｂ２）から選ばれた有機
アルミニウム化合物 （Ｂ１）一般式Ｒ3 b ＡｌＺ3-b で示される有機アルミ
ニウム化合物 （Ｂ２）一般式｛−Ａｌ（Ｒ4)−Ｏ−｝c で示される構
造を有する環状のアルミノキサン（Ｂ２ａ）、及び／又
は、一般式 Ｒ5 ｛−Ａｌ（Ｒ5)−Ｏ−｝d ＡｌＲ5 2で
示される構造を有する線状のアルミノキサン（Ｂ２ｂ） （但し、Ｒ3 、Ｒ4 及びＲ5 は炭素数１〜８の炭化水素
基を表す。上記の一般式において、全てのＲ4 及び全て
のＲ5 は同じであっても異なっていても良い。Ｚは水素
及び／又はハロゲンであり、ｂは０〜３の数であり、ｃ
及びｄは１以上の整数を表す。） （Ｃ）遷移金属化合物と反応してイオン性の錯体を形成
する化合物 以下、本発明につき、さらに詳しく説明する。
【０００５】
１）オレフィン（共）重合用遷移金属触媒成分 本発明のオレフィン（共）重合用遷移金属触媒成分であ
る遷移金属化合物（Ａ）は、シクロペンタジエニル骨格
を有する基及び芳香族複素環骨格を有する基をそれぞれ
少なくとも１個以上有し、元素の周期律表第３、４族又
はランタニド系列の遷移金属原子を有する遷移金属化合
物であり、好ましくは、芳香族複素環骨格が５員環であ
る遷移金属化合物である。
る遷移金属化合物（Ａ）は、シクロペンタジエニル骨格
を有する基及び芳香族複素環骨格を有する基をそれぞれ
少なくとも１個以上有し、元素の周期律表第３、４族又
はランタニド系列の遷移金属原子を有する遷移金属化合
物であり、好ましくは、芳香族複素環骨格が５員環であ
る遷移金属化合物である。
【０００６】かかる遷移金属化合物（Ａ）は、例えば下
記一般式（Ｉ）で表される化合物である。
記一般式（Ｉ）で表される化合物である。
【化２】 （式中、Ｍは、周期律表第３、４族又はランタニド系列
の原子を示す。Ｒ1 、Ｒ 2 は、各々水素原子、ハロゲン
原子、炭素数１〜２０の炭化水素基、ハロゲン化炭化水
素基で、その一部が、窒素原子、燐原子、酸素原子、硫
黄原子、ケイ素原子含有基で置換されていても良く、全
てのＲ1 、Ｒ2 は、同一でも異なっていても良く、Ｒ1
同士、Ｒ2 同士が結合し環を形成しても良く、Ｒ1 とＲ
2 が結合していても良い。Ｘは、周期律表第１３族、１
４族又は１５族の原子を示し、各Ｘは、同一でも異なっ
ていても良いが、５個のＸのうち少なくとも１個は炭素
原子以外の原子を含む。Ｙは水素原子、ハロゲン原子、
炭素数１〜２０の炭化水素基である。ｌ、ｍ、ｎは整数
で、１≦ｌ≦３、１≦ｍ≦３、０≦ｎ≦２であり、Ｍが
第３族又はランタニド系列の金属の場合はｌ＋ｍ＋ｎ＝
３を満足する整数であり、Ｍが第４族金属の場合はｌ＋
ｍ＋ｎ＝４を満足する整数である。ａは０又は１であ
る。）
の原子を示す。Ｒ1 、Ｒ 2 は、各々水素原子、ハロゲン
原子、炭素数１〜２０の炭化水素基、ハロゲン化炭化水
素基で、その一部が、窒素原子、燐原子、酸素原子、硫
黄原子、ケイ素原子含有基で置換されていても良く、全
てのＲ1 、Ｒ2 は、同一でも異なっていても良く、Ｒ1
同士、Ｒ2 同士が結合し環を形成しても良く、Ｒ1 とＲ
2 が結合していても良い。Ｘは、周期律表第１３族、１
４族又は１５族の原子を示し、各Ｘは、同一でも異なっ
ていても良いが、５個のＸのうち少なくとも１個は炭素
原子以外の原子を含む。Ｙは水素原子、ハロゲン原子、
炭素数１〜２０の炭化水素基である。ｌ、ｍ、ｎは整数
で、１≦ｌ≦３、１≦ｍ≦３、０≦ｎ≦２であり、Ｍが
第３族又はランタニド系列の金属の場合はｌ＋ｍ＋ｎ＝
３を満足する整数であり、Ｍが第４族金属の場合はｌ＋
ｍ＋ｎ＝４を満足する整数である。ａは０又は１であ
る。）
【０００７】上記一般式（Ｉ）におけるＭは、周期律表
第３、４族又はランタニド系列の原子を示す。Ｍの具体
例として、周期律表第３族の遷移金属原子としては、ス
カンジウム原子、イットリウム原子；第４族の遷移金属
原子としては、チタニウム原子、ジルコニウム原子、ハ
フニウム原子；ランタニド系列の遷移金属原子として
は、サマリウム原子などが挙げられるが、好ましくは、
チタニウム原子、ジルコニウム原子、あるいは、ハフニ
ウム原子である。
第３、４族又はランタニド系列の原子を示す。Ｍの具体
例として、周期律表第３族の遷移金属原子としては、ス
カンジウム原子、イットリウム原子；第４族の遷移金属
原子としては、チタニウム原子、ジルコニウム原子、ハ
フニウム原子；ランタニド系列の遷移金属原子として
は、サマリウム原子などが挙げられるが、好ましくは、
チタニウム原子、ジルコニウム原子、あるいは、ハフニ
ウム原子である。
【０００８】上記一般式（Ｉ）におけるＲ1 、Ｒ2 は、
各々水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜２０の炭化水
素基、ハロゲン化炭化水素基で、その一部が、窒素原
子、燐原子、酸素原子、硫黄原子、ケイ素原子含有基で
置換されていても良く、全てのＲ1 、Ｒ2 は同一でも異
なっていても良く、Ｒ1 同士、Ｒ2 同士が結合し環を形
成しても良く、Ｒ1 とＲ2 が結合していても良い。好ま
しくはＲ1 、Ｒ2 は、各々水素原子、炭素数１〜２０の
炭化水素基、ハロゲン化炭化水素基であり、全ての
Ｒ1 、Ｒ2 は同一でも異なっていても良く、Ｒ1 同士、
Ｒ2 同士が結合し環を形成しても良く、Ｒ1 とＲ2 が結
合していても良い。Ｒ1 、Ｒ2 の具体例としては、例え
ば、ハロゲン原子として、フッ素原子、塩素原子、臭素
原子、ヨウ素原子が挙げられ、炭素数１〜２０の炭化水
素基、ハロゲン化炭化水素基として、メチル基、エチル
基、ノルマルプロピル基、イソプロピル基、ノルマルブ
チル基、イソブチル基、第２級ブチル基、第３級ブチル
基、ノルマルペンチル基、ネオペンチル基、ノルマルヘ
キシル基、ノルマルオクチル基、フェニル基、ベンジル
基、トリフルオロメチル基、トリクロロメチル基、ペン
タフルオロフェニル基、ペンタクロロフェニル基などが
挙げられる。好ましくは、水素原子、メチル基、エチル
基、第三級ブチル基、ノルマルブチル基である。それら
の一部と置き換わることができる窒素原子、燐原子、酸
素原子、硫黄原子、ケイ素原子含有基は、−ＮＲ6 −、
−ＮＲ7 2、−ＰＲ8 −、−ＰＲ9 2、−Ｏ−、−ＯＲ10、
−Ｓ−、−ＳＲ11、−ＳｉＲ12 2 −、−ＳｉＲ13 3 など
を挙げることができ、Ｒ6 、Ｒ7 、Ｒ8 、Ｒ9 、Ｒ10、
Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13は水素原子、炭素数１〜２０のアルキ
ル基、炭素数６〜２０のアリ−ル基、アルキルアリ−ル
基、アリル基、置換アリル基などを挙げることができ
る。
各々水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜２０の炭化水
素基、ハロゲン化炭化水素基で、その一部が、窒素原
子、燐原子、酸素原子、硫黄原子、ケイ素原子含有基で
置換されていても良く、全てのＲ1 、Ｒ2 は同一でも異
なっていても良く、Ｒ1 同士、Ｒ2 同士が結合し環を形
成しても良く、Ｒ1 とＲ2 が結合していても良い。好ま
しくはＲ1 、Ｒ2 は、各々水素原子、炭素数１〜２０の
炭化水素基、ハロゲン化炭化水素基であり、全ての
Ｒ1 、Ｒ2 は同一でも異なっていても良く、Ｒ1 同士、
Ｒ2 同士が結合し環を形成しても良く、Ｒ1 とＲ2 が結
合していても良い。Ｒ1 、Ｒ2 の具体例としては、例え
ば、ハロゲン原子として、フッ素原子、塩素原子、臭素
原子、ヨウ素原子が挙げられ、炭素数１〜２０の炭化水
素基、ハロゲン化炭化水素基として、メチル基、エチル
基、ノルマルプロピル基、イソプロピル基、ノルマルブ
チル基、イソブチル基、第２級ブチル基、第３級ブチル
基、ノルマルペンチル基、ネオペンチル基、ノルマルヘ
キシル基、ノルマルオクチル基、フェニル基、ベンジル
基、トリフルオロメチル基、トリクロロメチル基、ペン
タフルオロフェニル基、ペンタクロロフェニル基などが
挙げられる。好ましくは、水素原子、メチル基、エチル
基、第三級ブチル基、ノルマルブチル基である。それら
の一部と置き換わることができる窒素原子、燐原子、酸
素原子、硫黄原子、ケイ素原子含有基は、−ＮＲ6 −、
−ＮＲ7 2、−ＰＲ8 −、−ＰＲ9 2、−Ｏ−、−ＯＲ10、
−Ｓ−、−ＳＲ11、−ＳｉＲ12 2 −、−ＳｉＲ13 3 など
を挙げることができ、Ｒ6 、Ｒ7 、Ｒ8 、Ｒ9 、Ｒ10、
Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13は水素原子、炭素数１〜２０のアルキ
ル基、炭素数６〜２０のアリ−ル基、アルキルアリ−ル
基、アリル基、置換アリル基などを挙げることができ
る。
【０００９】具体的には、窒素原子含有基として、メチ
ルアミノ基、エチルアミノ基、ノルマルプロピルアミノ
基、イソプロピルアミノ基、ノルマルブチルアミノ基、
イソブチルアミノ基、第２級ブチルアミノ基、第３級ブ
チルアミノ基、ノルマルヘキシルアミノ基、ノルマルオ
クチルアミノ基、フェニルアミノ基、トリフルオロメチ
ルアミノ基、ペンタフルオロフェニルアミノ基、ジメチ
ルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジノルマルプロピルア
ミノ基、ジイソプロピルアミノ基、ジノルマルブチルア
ミノ基、ジイソブチルアミノ基、ジ第２級ブチルアミノ
基、ジ第３級ブチルアミノ基、ジノルマルヘキシルアミ
ノ基、ジノルマルオクチルアミノ基、ジフェニルアミノ
基、ビストリフルオロメチルアミノ基、ビスペンタフル
オロフェニルアミノ基などが挙げられ、燐原子含有基と
して、メチルホスフィノ基、エチルホスフィノ基、ノル
マルプロピルホスフィノ基、イソプロピルホスフィノ
基、ノルマルブチルホスフィノ基、イソブチルホスフィ
ノ基、第２級ブチルホスフィノ基、第３級ブチルホスフ
ィノ基、ノルマルヘキシルホスフィノ基、ノルマルオク
チルホスフィノ基、フェニルホスフィノ基、トリフルオ
ロメチルホスフィノ基、ペンタフルオロフェニルホスフ
ィノ基、ジメチルホスフィノ基、ジエチルホスフィノ
基、ジノルマルプロピルホスフィノ基、ジイソプロピル
ホスフィノ基、ジノルマルブチルホスフィノ基、ジイソ
ブチルホスフィノ基、ジ第２級ブチルホスフィノ基、ジ
第３級ブチルホスフィノ基、ジノルマルヘキシルホスフ
ィノ基、ジノルマルオクチルホスフィノ基、ジフェニル
ホスフィノ基、ビストリフルオロメチルホスフィノ基、
ビスペンタフルオロフェニルホスフィノ基などが挙げら
れ、酸素原子含有基として、メトキシ基、エトキシ基、
ノルマルプロポキシ基、イソプロポキシ基、ノルマルブ
トキシ基、イソブトキシ基、第２級ブトキシ基、第３級
ブトキシ基、ノルマルヘキソキシ基、ノルマルオクトキ
シ基、フェノキシ基、トリフルオロメトキシ基、ペンタ
フルオロフェノキシ基などが挙げられ、硫黄原子含有基
として、メチルスルフィド基、エチルスルフィド基、ノ
ルマルプロピルスルフィド基、イソプロピルスルフィド
基、ノルマルブチルスルフィド基、イソブチルスルフィ
ド基、第２級ブチルスルフィド基、第３級ブチルスルフ
ィド基、ノルマルヘキシルスルフィド基、ノルマルオク
チルスルフィド基、フェニルスルフィド基、トリフルオ
ロメチルスルフィド基、ペンタフルオロフェニルスルフ
ィド基などが挙げられ、ケイ素原子含有基として、ジメ
チルシリレン基、ジエチルシリレン基、ジノルマルプロ
ピルシリレン基、ジイソプロピルシリレン基、ジノルマ
ルブチルシリレン基、ジイソブチルシリレン基、ジ第２
級ブチルシリレン基、ジ第３級ブチルシリレン基、ジノ
ルマルヘキシルシリレン基、ジノルマルオクチルシリレ
ン基、ジフェニルシリレン基、ビストリフルオロメチル
シリレン基、ビスペンタフルオロフェニルシリレン基、
トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリノルマ
ルプロピルシリル基、トリイソプロピルシリル基、トリ
ノルマルブチルシリル基、トリイソブチルシリル基、ト
リ第２級ブチルシリル基、トリ第３級ブチルシリル基、
トリノルマルヘキシルシリル基、トリノルマルオクチル
シリル基、トリフェニルシリル基、トリストリフルオロ
メチルシリル基、トリスペンタフルオロフェニルシリル
基などが挙げられる。好ましくは、トリメチルシリル
基、ジエチルアミノ基である。
ルアミノ基、エチルアミノ基、ノルマルプロピルアミノ
基、イソプロピルアミノ基、ノルマルブチルアミノ基、
イソブチルアミノ基、第２級ブチルアミノ基、第３級ブ
チルアミノ基、ノルマルヘキシルアミノ基、ノルマルオ
クチルアミノ基、フェニルアミノ基、トリフルオロメチ
ルアミノ基、ペンタフルオロフェニルアミノ基、ジメチ
ルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジノルマルプロピルア
ミノ基、ジイソプロピルアミノ基、ジノルマルブチルア
ミノ基、ジイソブチルアミノ基、ジ第２級ブチルアミノ
基、ジ第３級ブチルアミノ基、ジノルマルヘキシルアミ
ノ基、ジノルマルオクチルアミノ基、ジフェニルアミノ
基、ビストリフルオロメチルアミノ基、ビスペンタフル
オロフェニルアミノ基などが挙げられ、燐原子含有基と
して、メチルホスフィノ基、エチルホスフィノ基、ノル
マルプロピルホスフィノ基、イソプロピルホスフィノ
基、ノルマルブチルホスフィノ基、イソブチルホスフィ
ノ基、第２級ブチルホスフィノ基、第３級ブチルホスフ
ィノ基、ノルマルヘキシルホスフィノ基、ノルマルオク
チルホスフィノ基、フェニルホスフィノ基、トリフルオ
ロメチルホスフィノ基、ペンタフルオロフェニルホスフ
ィノ基、ジメチルホスフィノ基、ジエチルホスフィノ
基、ジノルマルプロピルホスフィノ基、ジイソプロピル
ホスフィノ基、ジノルマルブチルホスフィノ基、ジイソ
ブチルホスフィノ基、ジ第２級ブチルホスフィノ基、ジ
第３級ブチルホスフィノ基、ジノルマルヘキシルホスフ
ィノ基、ジノルマルオクチルホスフィノ基、ジフェニル
ホスフィノ基、ビストリフルオロメチルホスフィノ基、
ビスペンタフルオロフェニルホスフィノ基などが挙げら
れ、酸素原子含有基として、メトキシ基、エトキシ基、
ノルマルプロポキシ基、イソプロポキシ基、ノルマルブ
トキシ基、イソブトキシ基、第２級ブトキシ基、第３級
ブトキシ基、ノルマルヘキソキシ基、ノルマルオクトキ
シ基、フェノキシ基、トリフルオロメトキシ基、ペンタ
フルオロフェノキシ基などが挙げられ、硫黄原子含有基
として、メチルスルフィド基、エチルスルフィド基、ノ
ルマルプロピルスルフィド基、イソプロピルスルフィド
基、ノルマルブチルスルフィド基、イソブチルスルフィ
ド基、第２級ブチルスルフィド基、第３級ブチルスルフ
ィド基、ノルマルヘキシルスルフィド基、ノルマルオク
チルスルフィド基、フェニルスルフィド基、トリフルオ
ロメチルスルフィド基、ペンタフルオロフェニルスルフ
ィド基などが挙げられ、ケイ素原子含有基として、ジメ
チルシリレン基、ジエチルシリレン基、ジノルマルプロ
ピルシリレン基、ジイソプロピルシリレン基、ジノルマ
ルブチルシリレン基、ジイソブチルシリレン基、ジ第２
級ブチルシリレン基、ジ第３級ブチルシリレン基、ジノ
ルマルヘキシルシリレン基、ジノルマルオクチルシリレ
ン基、ジフェニルシリレン基、ビストリフルオロメチル
シリレン基、ビスペンタフルオロフェニルシリレン基、
トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリノルマ
ルプロピルシリル基、トリイソプロピルシリル基、トリ
ノルマルブチルシリル基、トリイソブチルシリル基、ト
リ第２級ブチルシリル基、トリ第３級ブチルシリル基、
トリノルマルヘキシルシリル基、トリノルマルオクチル
シリル基、トリフェニルシリル基、トリストリフルオロ
メチルシリル基、トリスペンタフルオロフェニルシリル
基などが挙げられる。好ましくは、トリメチルシリル
基、ジエチルアミノ基である。
【００１０】また、上記一般式（Ｉ）においてＲ1 同
士、Ｒ2 同士が結合して環を形成した配位子の具体例
は、インデニル基、第３級ブチルインデニル基、メチル
インデニル基、ジメチルインデニル基、テトラハイドロ
インデニル基、メチルテトラハイドロインデニル基、フ
ルオレニル基、メチルフルオレニル基、ジメチルフルオ
レニル基、第３級ブチルフルオレニル基、インドリル
基、メチルインドリル基、第３級ブチルインドリル基、
テトラハイドロインドリル基、カルバゾリル基、メチル
カルバゾリル基、第３級ブチルカルバゾリル基、ホスホ
インデニル基、メチルホスホインデニル基、ホスホフル
オレニル基、メチルホスホフルオレニル基などを挙げる
ことができる。中でもインデニル基、フルオレニル基、
インドリル基、カルバゾリル基、ホスホインデニル基、
ホスホフルオレニル基などを形成することが好ましい。
Ｒ1 とＲ2 が結合する場合、−（ＣＲ14 2)x −、−（Ｓ
ｉＲ15 2)y −などで結合できる。Ｒ14、Ｒ15は水素原
子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数６〜２０のア
リ−ル基、アルキルアリ−ル基、アリル基、置換アリル
基などを挙げることができ、ｘ、ｙは、１以上の整数で
ある。このような基の具体例は、メチレン基、ジメチル
メチレン基、ジフェニルメチレン基、エチレン基、テト
ラメチルエチレン基、テトラフェニルエチレン基、シリ
レン基、ジメチルシリレン基、ジフェニルシリレン基、
ジシリレン基、テトラメチルジシリレン基、テトラフェ
ニルジシリレン基などを挙げることができ、好ましく
は、ジメチルシリレン基、エチレン基、メチレン基であ
る。
士、Ｒ2 同士が結合して環を形成した配位子の具体例
は、インデニル基、第３級ブチルインデニル基、メチル
インデニル基、ジメチルインデニル基、テトラハイドロ
インデニル基、メチルテトラハイドロインデニル基、フ
ルオレニル基、メチルフルオレニル基、ジメチルフルオ
レニル基、第３級ブチルフルオレニル基、インドリル
基、メチルインドリル基、第３級ブチルインドリル基、
テトラハイドロインドリル基、カルバゾリル基、メチル
カルバゾリル基、第３級ブチルカルバゾリル基、ホスホ
インデニル基、メチルホスホインデニル基、ホスホフル
オレニル基、メチルホスホフルオレニル基などを挙げる
ことができる。中でもインデニル基、フルオレニル基、
インドリル基、カルバゾリル基、ホスホインデニル基、
ホスホフルオレニル基などを形成することが好ましい。
Ｒ1 とＲ2 が結合する場合、−（ＣＲ14 2)x −、−（Ｓ
ｉＲ15 2)y −などで結合できる。Ｒ14、Ｒ15は水素原
子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数６〜２０のア
リ−ル基、アルキルアリ−ル基、アリル基、置換アリル
基などを挙げることができ、ｘ、ｙは、１以上の整数で
ある。このような基の具体例は、メチレン基、ジメチル
メチレン基、ジフェニルメチレン基、エチレン基、テト
ラメチルエチレン基、テトラフェニルエチレン基、シリ
レン基、ジメチルシリレン基、ジフェニルシリレン基、
ジシリレン基、テトラメチルジシリレン基、テトラフェ
ニルジシリレン基などを挙げることができ、好ましく
は、ジメチルシリレン基、エチレン基、メチレン基であ
る。
【００１１】上記一般式（Ｉ）におけるＸは、周期律表
第１３族、１４族又は１５族の原子を示し、各Ｘは、同
一でも異なっていても良いが、５個のＸのうち少なくと
も１個は炭素原子以外の原子を含む。炭素原子以外のＸ
の具体例としては、例えば、ホウ素原子、窒素原子、炭
素原子、ケイ素原子、燐原子などを挙げることができ
る。５個のＸのうち少なくとも１個は炭素原子以外の原
子を含むが、好ましくは、ホウ素原子、窒素原子あるい
は、燐原子である。中でも窒素原子、燐原子がさらに好
ましい。特に好ましくは、少なくとも１個のＸが窒素原
子であり、他のＸが炭素原子である。
第１３族、１４族又は１５族の原子を示し、各Ｘは、同
一でも異なっていても良いが、５個のＸのうち少なくと
も１個は炭素原子以外の原子を含む。炭素原子以外のＸ
の具体例としては、例えば、ホウ素原子、窒素原子、炭
素原子、ケイ素原子、燐原子などを挙げることができ
る。５個のＸのうち少なくとも１個は炭素原子以外の原
子を含むが、好ましくは、ホウ素原子、窒素原子あるい
は、燐原子である。中でも窒素原子、燐原子がさらに好
ましい。特に好ましくは、少なくとも１個のＸが窒素原
子であり、他のＸが炭素原子である。
【００１２】上記一般式（Ｉ）で表される化合物におけ
る５個のＸで構成される環は１価のイオンを形成する。
また上記一般式におけるＣは炭素原子を表し、５個の炭
素原子よりなる環も１価の陰イオンを形成する。
る５個のＸで構成される環は１価のイオンを形成する。
また上記一般式におけるＣは炭素原子を表し、５個の炭
素原子よりなる環も１価の陰イオンを形成する。
【００１３】上記一般式（Ｉ）におけるＹは、水素原
子、ハロゲン原子、炭素数１〜２０の炭化水素基であ
る。Ｙの具体例としては、例えば、ハロゲン原子とし
て、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙
げられ、また、炭素数１〜２０の炭化水素基として、メ
チル基、エチル基、ノルマルプロピル基、イソプロピル
基、ノルマルブチル基、フェニル基、ベンジル基などが
挙げられる。好ましくはＹが、ハロゲン原子又は炭素数
１〜８のアルキル基である。
子、ハロゲン原子、炭素数１〜２０の炭化水素基であ
る。Ｙの具体例としては、例えば、ハロゲン原子とし
て、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙
げられ、また、炭素数１〜２０の炭化水素基として、メ
チル基、エチル基、ノルマルプロピル基、イソプロピル
基、ノルマルブチル基、フェニル基、ベンジル基などが
挙げられる。好ましくはＹが、ハロゲン原子又は炭素数
１〜８のアルキル基である。
【００１４】上記一般式（Ｉ）においてｌ、ｍ、ｎは整
数で、１≦ｌ≦３、１≦ｍ≦３、０≦ｎ≦２であり、Ｍ
が第３族又はランタニド系列の金属の場合はｌ＋ｍ＋ｎ
＝３を満足する整数であり、Ｍが第４族金属の場合はｌ
＋ｍ＋ｎ＝４を満足する整数である。ａは、０又は１で
ある。また、ｎは、２であることが好ましい。
数で、１≦ｌ≦３、１≦ｍ≦３、０≦ｎ≦２であり、Ｍ
が第３族又はランタニド系列の金属の場合はｌ＋ｍ＋ｎ
＝３を満足する整数であり、Ｍが第４族金属の場合はｌ
＋ｍ＋ｎ＝４を満足する整数である。ａは、０又は１で
ある。また、ｎは、２であることが好ましい。
【００１５】遷移金属化合物（Ａ）の具体例としては、
例えば、シクロペンタジエニルピロリルチタニウムジク
ロライド、シクロペンタジエニルメチルピロリルチタニ
ウムジクロライド、シクロペンタジエニルジメチルピロ
リルチタニウムジクロライド、シクロペンタジエニルテ
トラメチルピロリルチタニウムジクロライド、シクロペ
ンタジエニル第３級ブチルピロリルチタニウムジクロラ
イド、シクロペンタジエニルジ第３級ブチルピロリルチ
タニウムジクロライド、ペンタメチルシクロペンタジエ
ニルピロリルチタニウムジクロライド、ペンタメチルシ
クロペンタジエニルメチルピロリルチタニウムジクロラ
イド、ペンタメチルシクロペンタジエニルジメチルピロ
リルチタニウムジクロライド、ペンタメチルシクロペン
タジエニルテトラメチルピロリルチタニウムジクロライ
ド、ペンタメチルシクロペンタジエニル第３級ブチルピ
ロリルチタニウムジクロライド、ペンタメチルシクロペ
ンタジエニルジ第３級ブチルピロリルチタニウムジクロ
ライド、インデニルピロリルチタニウムジクロライド、
インデニルメチルピロリルチタニウムジクロライド、イ
ンデニルジメチルピロリルチタニウムジクロライド、イ
ンデニルテトラメチルピロリルチタニウムジクロライ
ド、インデニル第３級ブチルピロリルチタニウムジクロ
ライド、インデニルジ第３級ブチルピロリルチタニウム
ジクロライド、シクロペンタジエニルインドリルチタニ
ウムジクロライド、シクロペンタジエニルメチルインド
リルチタニウムジクロライド、シクロペンタジエニルジ
メチルインドリルチタニウムジクロライド、シクロペン
タジエニル第３級ブチルインドリルチタニウムジクロラ
イド、シクロペンタジエニルジ第３級ブチルインドリル
チタニウムジクロライド、ペンタメチルシクロペンタジ
エニルインドリルチタニウムジクロライド、ペンタメチ
ルシクロペンタジエニルメチルインドリルチタニウムジ
クロライド、ペンタメチルシクロペンタジエニルジメチ
ルインドリルチタニウムジクロライド、ペンタメチルシ
クロペンタジエニル第３級ブチルインドリルチタニウム
ジクロライド、ペンタメチルシクロペンタジエニルジ第
３級ブチルインドリルチタニウムジクロライド、インデ
ニルインドリルチタニウムジクロライド、インデニルメ
チルインドリルチタニウムジクロライド、インデニルジ
メチルインドリルチタニウムジクロライド、インデニル
第３級ブチルインドリルチタニウムジクロライド、イン
デニルジ第３級ブチルインドリルチタニウムジクロライ
ド、シクロペンタジエニルテトラメチルホスホリルチタ
ニウムジクロライド、シクロペンタジエニルテトラフェ
ニルホスホリルチタニウムジクロライド、シクロペンタ
ジエニルホスホインデニルチタニウムジクロライド、ペ
ンタメチルシクロペンタジエニルテトラメチルホスホリ
ルチタニウムジクロライド、ペンタメチルシクロペンタ
ジエニルテトラフェニルホスホリルチタニウムジクロラ
イド、ペンタメチルシクロペンタジエニルホスホインデ
ニルチタニウムジクロライド、インデニルテトラメチル
ホスホリルチタニウムジクロライド、インデニルテトラ
フェニルホスホリルチタニウムジクロライド、インデニ
ルホスホインデニルチタニウムジクロライドが挙げられ
る。
例えば、シクロペンタジエニルピロリルチタニウムジク
ロライド、シクロペンタジエニルメチルピロリルチタニ
ウムジクロライド、シクロペンタジエニルジメチルピロ
リルチタニウムジクロライド、シクロペンタジエニルテ
トラメチルピロリルチタニウムジクロライド、シクロペ
ンタジエニル第３級ブチルピロリルチタニウムジクロラ
イド、シクロペンタジエニルジ第３級ブチルピロリルチ
タニウムジクロライド、ペンタメチルシクロペンタジエ
ニルピロリルチタニウムジクロライド、ペンタメチルシ
クロペンタジエニルメチルピロリルチタニウムジクロラ
イド、ペンタメチルシクロペンタジエニルジメチルピロ
リルチタニウムジクロライド、ペンタメチルシクロペン
タジエニルテトラメチルピロリルチタニウムジクロライ
ド、ペンタメチルシクロペンタジエニル第３級ブチルピ
ロリルチタニウムジクロライド、ペンタメチルシクロペ
ンタジエニルジ第３級ブチルピロリルチタニウムジクロ
ライド、インデニルピロリルチタニウムジクロライド、
インデニルメチルピロリルチタニウムジクロライド、イ
ンデニルジメチルピロリルチタニウムジクロライド、イ
ンデニルテトラメチルピロリルチタニウムジクロライ
ド、インデニル第３級ブチルピロリルチタニウムジクロ
ライド、インデニルジ第３級ブチルピロリルチタニウム
ジクロライド、シクロペンタジエニルインドリルチタニ
ウムジクロライド、シクロペンタジエニルメチルインド
リルチタニウムジクロライド、シクロペンタジエニルジ
メチルインドリルチタニウムジクロライド、シクロペン
タジエニル第３級ブチルインドリルチタニウムジクロラ
イド、シクロペンタジエニルジ第３級ブチルインドリル
チタニウムジクロライド、ペンタメチルシクロペンタジ
エニルインドリルチタニウムジクロライド、ペンタメチ
ルシクロペンタジエニルメチルインドリルチタニウムジ
クロライド、ペンタメチルシクロペンタジエニルジメチ
ルインドリルチタニウムジクロライド、ペンタメチルシ
クロペンタジエニル第３級ブチルインドリルチタニウム
ジクロライド、ペンタメチルシクロペンタジエニルジ第
３級ブチルインドリルチタニウムジクロライド、インデ
ニルインドリルチタニウムジクロライド、インデニルメ
チルインドリルチタニウムジクロライド、インデニルジ
メチルインドリルチタニウムジクロライド、インデニル
第３級ブチルインドリルチタニウムジクロライド、イン
デニルジ第３級ブチルインドリルチタニウムジクロライ
ド、シクロペンタジエニルテトラメチルホスホリルチタ
ニウムジクロライド、シクロペンタジエニルテトラフェ
ニルホスホリルチタニウムジクロライド、シクロペンタ
ジエニルホスホインデニルチタニウムジクロライド、ペ
ンタメチルシクロペンタジエニルテトラメチルホスホリ
ルチタニウムジクロライド、ペンタメチルシクロペンタ
ジエニルテトラフェニルホスホリルチタニウムジクロラ
イド、ペンタメチルシクロペンタジエニルホスホインデ
ニルチタニウムジクロライド、インデニルテトラメチル
ホスホリルチタニウムジクロライド、インデニルテトラ
フェニルホスホリルチタニウムジクロライド、インデニ
ルホスホインデニルチタニウムジクロライドが挙げられ
る。
【００１６】また、メチレンシクロペンタジエニルピロ
リルチタニウムジクロライド、メチレンシクロペンタジ
エニルメチルピロリルチタニウムジクロライド、メチレ
ンシクロペンタジエニルジメチルピロリルチタニウムジ
クロライド、メチレンシクロペンタジエニルトリメチル
ピロリルチタニウムジクロライド、メチレンシクロペン
タジエニル第３級ブチルピロリルチタニウムジクロライ
ド、メチレンシクロペンタジエニルジ第３級ブチルピロ
リルチタニウムジクロライド、メチレンテトラメチルシ
クロペンタジエニルピロリルチタニウムジクロライド、
メチレンテトラメチルシクロペンタジエニルメチルピロ
リルチタニウムジクロライド、メチレンテトラメチルシ
クロペンタジエニルジメチルピロリルチタニウムジクロ
ライド、メチレンテトラメチルシクロペンタジエニルト
リメチルピロリルチタニウムジクロライド、メチレンテ
トラメチルシクロペンタジエニル第３級ブチルピロリル
チタニウムジクロライド、メチレンテトラメチルシクロ
ペンタジエニルジ第３級ブチルピロリルチタニウムジク
ロライド、メチレンインデニルピロリルチタニウムジク
ロライド、メチレンインデニルメチルピロリルチタニウ
ムジクロライド、メチレンインデニルジメチルピロリル
チタニウムジクロライド、メチレンインデニルトリメチ
ルピロリルチタニウムジクロライド、メチレンインデニ
ル第３級ブチルピロリルチタニウムジクロライド、メチ
レンインデニルジ第３級ブチルピロリルチタニウムジク
ロライド、メチレンシクロペンタジエニルインドリルチ
タニウムジクロライド、メチレンシクロペンタジエニル
メチルインドリルチタニウムジクロライド、メチレンシ
クロペンタジエニルジメチルインドリルチタニウムジク
ロライド、メチレンシクロペンタジエニル第３級ブチル
インドリルチタニウムジクロライド、メチレンシクロペ
ンタジエニルジ第３級ブチルインドリルチタニウムジク
ロライド、メチレンテトラメチルシクロペンタジエニル
インドリルチタニウムジクロライド、メチレンテトラメ
チルシクロペンタジエニルメチルインドリルチタニウム
ジクロライド、メチレンテトラメチルシクロペンタジエ
ニルジメチルインドリルチタニウムジクロライド、メチ
レンテトラメチルシクロペンタジエニル第３級ブチルイ
ンドリルチタニウムジクロライド、メチレンテトラメチ
ルシクロペンタジエニルジ第３級ブチルインドリルチタ
ニウムジクロライド、メチレンインデニルインドリルチ
タニウムジクロライド、メチレンインデニルメチルイン
ドリルチタニウムジクロライド、メチレンインデニルジ
メチルインドリルチタニウムジクロライド、メチレンイ
ンデニル第３級ブチルインドリルチタニウムジクロライ
ド、メチレンインデニルジ第３級ブチルインドリルチタ
ニウムジクロライド、メチレンシクロペンタジエニルト
リメチルホスホリルチタニウムジクロライド、メチレン
シクロペンタジエニルトリフェニルホスホリルチタニウ
ムジクロライド、メチレンシクロペンタジエニルホスホ
インデニルチタニウムジクロライド、メチレンテトラメ
チルシクロペンタジエニルトリメチルホスホリルチタニ
ウムジクロライド、メチレンテトラメチルシクロペンタ
ジエニルトリフェニルホスホリルチタニウムジクロライ
ド、メチレンテトラメチルシクロペンタジエニルホスホ
インデニルチタニウムジクロライド、メチレンインデニ
ルトリメチルホスホリルチタニウムジクロライド、メチ
レンインデニルトリフェニルホスホリルチタニウムジク
ロライド、メチレンインデニルホスホインデニルチタニ
ウムジクロライドが挙げられる。
リルチタニウムジクロライド、メチレンシクロペンタジ
エニルメチルピロリルチタニウムジクロライド、メチレ
ンシクロペンタジエニルジメチルピロリルチタニウムジ
クロライド、メチレンシクロペンタジエニルトリメチル
ピロリルチタニウムジクロライド、メチレンシクロペン
タジエニル第３級ブチルピロリルチタニウムジクロライ
ド、メチレンシクロペンタジエニルジ第３級ブチルピロ
リルチタニウムジクロライド、メチレンテトラメチルシ
クロペンタジエニルピロリルチタニウムジクロライド、
メチレンテトラメチルシクロペンタジエニルメチルピロ
リルチタニウムジクロライド、メチレンテトラメチルシ
クロペンタジエニルジメチルピロリルチタニウムジクロ
ライド、メチレンテトラメチルシクロペンタジエニルト
リメチルピロリルチタニウムジクロライド、メチレンテ
トラメチルシクロペンタジエニル第３級ブチルピロリル
チタニウムジクロライド、メチレンテトラメチルシクロ
ペンタジエニルジ第３級ブチルピロリルチタニウムジク
ロライド、メチレンインデニルピロリルチタニウムジク
ロライド、メチレンインデニルメチルピロリルチタニウ
ムジクロライド、メチレンインデニルジメチルピロリル
チタニウムジクロライド、メチレンインデニルトリメチ
ルピロリルチタニウムジクロライド、メチレンインデニ
ル第３級ブチルピロリルチタニウムジクロライド、メチ
レンインデニルジ第３級ブチルピロリルチタニウムジク
ロライド、メチレンシクロペンタジエニルインドリルチ
タニウムジクロライド、メチレンシクロペンタジエニル
メチルインドリルチタニウムジクロライド、メチレンシ
クロペンタジエニルジメチルインドリルチタニウムジク
ロライド、メチレンシクロペンタジエニル第３級ブチル
インドリルチタニウムジクロライド、メチレンシクロペ
ンタジエニルジ第３級ブチルインドリルチタニウムジク
ロライド、メチレンテトラメチルシクロペンタジエニル
インドリルチタニウムジクロライド、メチレンテトラメ
チルシクロペンタジエニルメチルインドリルチタニウム
ジクロライド、メチレンテトラメチルシクロペンタジエ
ニルジメチルインドリルチタニウムジクロライド、メチ
レンテトラメチルシクロペンタジエニル第３級ブチルイ
ンドリルチタニウムジクロライド、メチレンテトラメチ
ルシクロペンタジエニルジ第３級ブチルインドリルチタ
ニウムジクロライド、メチレンインデニルインドリルチ
タニウムジクロライド、メチレンインデニルメチルイン
ドリルチタニウムジクロライド、メチレンインデニルジ
メチルインドリルチタニウムジクロライド、メチレンイ
ンデニル第３級ブチルインドリルチタニウムジクロライ
ド、メチレンインデニルジ第３級ブチルインドリルチタ
ニウムジクロライド、メチレンシクロペンタジエニルト
リメチルホスホリルチタニウムジクロライド、メチレン
シクロペンタジエニルトリフェニルホスホリルチタニウ
ムジクロライド、メチレンシクロペンタジエニルホスホ
インデニルチタニウムジクロライド、メチレンテトラメ
チルシクロペンタジエニルトリメチルホスホリルチタニ
ウムジクロライド、メチレンテトラメチルシクロペンタ
ジエニルトリフェニルホスホリルチタニウムジクロライ
ド、メチレンテトラメチルシクロペンタジエニルホスホ
インデニルチタニウムジクロライド、メチレンインデニ
ルトリメチルホスホリルチタニウムジクロライド、メチ
レンインデニルトリフェニルホスホリルチタニウムジク
ロライド、メチレンインデニルホスホインデニルチタニ
ウムジクロライドが挙げられる。
【００１７】また、エチレンシクロペンタジエニルピロ
リルチタニウムジクロライド、エチレンシクロペンタジ
エニルメチルピロリルチタニウムジクロライド、エチレ
ンシクロペンタジエニルジメチルピロリルチタニウムジ
クロライド、エチレンシクロペンタジエニルトリメチル
ピロリルチタニウムジクロライド、エチレンシクロペン
タジエニル第３級ブチルピロリルチタニウムジクロライ
ド、エチレンシクロペンタジエニルジ第３級ブチルピロ
リルチタニウムジクロライド、エチレンテトラメチルシ
クロペンタジエニルピロリルチタニウムジクロライド、
エチレンテトラメチルシクロペンタジエニルメチルピロ
リルチタニウムジクロライド、エチレンテトラメチルシ
クロペンタジエニルジメチルピロリルチタニウムジクロ
ライド、エチレンテトラメチルシクロペンタジエニルト
リメチルピロリルチタニウムジクロライド、エチレンテ
トラメチルシクロペンタジエニル第３級ブチルピロリル
チタニウムジクロライド、エチレンテトラメチルシクロ
ペンタジエニルジ第３級ブチルピロリルチタニウムジク
ロライド、エチレンインデニルピロリルチタニウムジク
ロライド、エチレンインデニルメチルピロリルチタニウ
ムジクロライド、エチレンインデニルジメチルピロリル
チタニウムジクロライド、エチレンインデニルトリメチ
ルピロリルチタニウムジクロライド、エチレンインデニ
ル第３級ブチルピロリルチタニウムジクロライド、エチ
レンインデニルジ第３級ブチルピロリルチタニウムジク
ロライド、エチレンシクロペンタジエニルインドリルチ
タニウムジクロライド、エチレンシクロペンタジエニル
メチルインドリルチタニウムジクロライド、エチレンシ
クロペンタジエニルジメチルインドリルチタニウムジク
ロライド、エチレンシクロペンタジエニル第３級ブチル
インドリルチタニウムジクロライド、エチレンシクロペ
ンタジエニルジ第３級ブチルインドリルチタニウムジク
ロライド、エチレンテトラメチルシクロペンタジエニル
インドリルチタニウムジクロライド、エチレンテトラメ
チルシクロペンタジエニルメチルインドリルチタニウム
ジクロライド、エチレンテトラメチルシクロペンタジエ
ニルジメチルインドリルチタニウムジクロライド、エチ
レンテトラメチルシクロペンタジエニル第３級ブチルイ
ンドリルチタニウムジクロライド、エチレンテトラメチ
ルシクロペンタジエニルジ第３級ブチルインドリルチタ
ニウムジクロライド、エチレンインデニルインドリルチ
タニウムジクロライド、エチレンインデニルメチルイン
ドリルチタニウムジクロライド、エチレンインデニルジ
メチルインドリルチタニウムジクロライド、エチレンイ
ンデニル第３級ブチルインドリルチタニウムジクロライ
ド、エチレンインデニルジ第３級ブチルインドリルチタ
ニウムジクロライド、エチレンシクロペンタジエニルト
リメチルホスホリルチタニウムジクロライド、エチレン
シクロペンタジエニルトリフェニルホスホリルチタニウ
ムジクロライド、エチレンシクロペンタジエニルホスホ
インデニルチタニウムジクロライド、エチレンテトラメ
チルシクロペンタジエニルトリメチルホスホリルチタニ
ウムジクロライド、エチレンテトラメチルシクロペンタ
ジエニルトリフェニルホスホリルチタニウムジクロライ
ド、エチレンテトラメチルシクロペンタジエニルホスホ
インデニルチタニウムジクロライド、エチレンインデニ
ルトリメチルホスホリルチタニウムジクロライド、エチ
レンインデニルトリフェニルホスホリルチタニウムジク
ロライド、エチレンインデニルホスホインデニルチタニ
ウムジクロライドが挙げられる。
リルチタニウムジクロライド、エチレンシクロペンタジ
エニルメチルピロリルチタニウムジクロライド、エチレ
ンシクロペンタジエニルジメチルピロリルチタニウムジ
クロライド、エチレンシクロペンタジエニルトリメチル
ピロリルチタニウムジクロライド、エチレンシクロペン
タジエニル第３級ブチルピロリルチタニウムジクロライ
ド、エチレンシクロペンタジエニルジ第３級ブチルピロ
リルチタニウムジクロライド、エチレンテトラメチルシ
クロペンタジエニルピロリルチタニウムジクロライド、
エチレンテトラメチルシクロペンタジエニルメチルピロ
リルチタニウムジクロライド、エチレンテトラメチルシ
クロペンタジエニルジメチルピロリルチタニウムジクロ
ライド、エチレンテトラメチルシクロペンタジエニルト
リメチルピロリルチタニウムジクロライド、エチレンテ
トラメチルシクロペンタジエニル第３級ブチルピロリル
チタニウムジクロライド、エチレンテトラメチルシクロ
ペンタジエニルジ第３級ブチルピロリルチタニウムジク
ロライド、エチレンインデニルピロリルチタニウムジク
ロライド、エチレンインデニルメチルピロリルチタニウ
ムジクロライド、エチレンインデニルジメチルピロリル
チタニウムジクロライド、エチレンインデニルトリメチ
ルピロリルチタニウムジクロライド、エチレンインデニ
ル第３級ブチルピロリルチタニウムジクロライド、エチ
レンインデニルジ第３級ブチルピロリルチタニウムジク
ロライド、エチレンシクロペンタジエニルインドリルチ
タニウムジクロライド、エチレンシクロペンタジエニル
メチルインドリルチタニウムジクロライド、エチレンシ
クロペンタジエニルジメチルインドリルチタニウムジク
ロライド、エチレンシクロペンタジエニル第３級ブチル
インドリルチタニウムジクロライド、エチレンシクロペ
ンタジエニルジ第３級ブチルインドリルチタニウムジク
ロライド、エチレンテトラメチルシクロペンタジエニル
インドリルチタニウムジクロライド、エチレンテトラメ
チルシクロペンタジエニルメチルインドリルチタニウム
ジクロライド、エチレンテトラメチルシクロペンタジエ
ニルジメチルインドリルチタニウムジクロライド、エチ
レンテトラメチルシクロペンタジエニル第３級ブチルイ
ンドリルチタニウムジクロライド、エチレンテトラメチ
ルシクロペンタジエニルジ第３級ブチルインドリルチタ
ニウムジクロライド、エチレンインデニルインドリルチ
タニウムジクロライド、エチレンインデニルメチルイン
ドリルチタニウムジクロライド、エチレンインデニルジ
メチルインドリルチタニウムジクロライド、エチレンイ
ンデニル第３級ブチルインドリルチタニウムジクロライ
ド、エチレンインデニルジ第３級ブチルインドリルチタ
ニウムジクロライド、エチレンシクロペンタジエニルト
リメチルホスホリルチタニウムジクロライド、エチレン
シクロペンタジエニルトリフェニルホスホリルチタニウ
ムジクロライド、エチレンシクロペンタジエニルホスホ
インデニルチタニウムジクロライド、エチレンテトラメ
チルシクロペンタジエニルトリメチルホスホリルチタニ
ウムジクロライド、エチレンテトラメチルシクロペンタ
ジエニルトリフェニルホスホリルチタニウムジクロライ
ド、エチレンテトラメチルシクロペンタジエニルホスホ
インデニルチタニウムジクロライド、エチレンインデニ
ルトリメチルホスホリルチタニウムジクロライド、エチ
レンインデニルトリフェニルホスホリルチタニウムジク
ロライド、エチレンインデニルホスホインデニルチタニ
ウムジクロライドが挙げられる。
【００１８】また、ジメチルメチレンシクロペンタジエ
ニルピロリルチタニウムジクロライド、ジメチルメチレ
ンシクロペンタジエニルメチルピロリルチタニウムジク
ロライド、ジメチルメチレンシクロペンタジエニルジメ
チルピロリルチタニウムジクロライド、ジメチルメチレ
ンシクロペンタジエニルトリメチルピロリルチタニウム
ジクロライド、ジメチルメチレンシクロペンタジエニル
第３級ブチルピロリルチタニウムジクロライド、ジメチ
ルメチレンシクロペンタジエニルジ第３級ブチルピロリ
ルチタニウムジクロライド、ジメチルメチレンテトラメ
チルシクロペンタジエニルピロリルチタニウムジクロラ
イド、ジメチルメチレンテトラメチルシクロペンタジエ
ニルメチルピロリルチタニウムジクロライド、ジメチル
メチレンテトラメチルシクロペンタジエニルジメチルピ
ロリルチタニウムジクロライド、ジメチルメチレンテト
ラメチルシクロペンタジエニルトリメチルピロリルチタ
ニウムジクロライド、ジメチルメチレンテトラメチルシ
クロペンタジエニル第３級ブチルピロリルチタニウムジ
クロライド、ジメチルメチレンテトラメチルシクロペン
タジエニルジ第３級ブチルピロリルチタニウムジクロラ
イド、ジメチルメチレンインデニルピロリルチタニウム
ジクロライド、ジメチルメチレンインデニルメチルピロ
リルチタニウムジクロライド、ジメチルメチレンインデ
ニルジメチルピロリルチタニウムジクロライド、ジメチ
ルメチレンインデニルトリメチルピロリルチタニウムジ
クロライド、ジメチルメチレンインデニル第３級ブチル
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ンデニルジ第３級ブチルピロリルチタニウムジクロライ
ド、ジメチルメチレンシクロペンタジエニルインドリル
チタニウムジクロライド、ジメチルメチレンシクロペン
タジエニルメチルインドリルチタニウムジクロライド、
ジメチルメチレンシクロペンタジエニルジメチルインド
リルチタニウムジクロライド、ジメチルメチレンシクロ
ペンタジエニル第３級ブチルインドリルチタニウムジク
ロライド、ジメチルメチレンシクロペンタジエニルジ第
３級ブチルインドリルチタニウムジクロライド、ジメチ
ルメチレンテトラメチルシクロペンタジエニルインドリ
ルチタニウムジクロライド、ジメチルメチレンテトラメ
チルシクロペンタジエニルメチルインドリルチタニウム
ジクロライド、ジメチルメチレンテトラメチルシクロペ
ンタジエニルジメチルインドリルチタニウムジクロライ
ド、ジメチルメチレンテトラメチルシクロペンタジエニ
ル第３級ブチルインドリルチタニウムジクロライド、ジ
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３級ブチルインドリルチタニウムジクロライド、ジメチ
ルメチレンインデニルインドリルチタニウムジクロライ
ド、ジメチルメチレンインデニルメチルインドリルチタ
ニウムジクロライド、ジメチルメチレンインデニルジメ
チルインドリルチタニウムジクロライド、ジメチルメチ
レンインデニル第３級ブチルインドリルチタニウムジク
ロライド、ジメチルメチレンインデニルジ第３級ブチル
インドリルチタニウムジクロライド、ジメチルメチレン
シクロペンタジエニルトリメチルホスホリルチタニウム
ジクロライド、ジメチルメチレンシクロペンタジエニル
トリフェニルホスホリルチタニウムジクロライド、ジメ
チルメチレンシクロペンタジエニルホスホインデニルチ
タニウムジクロライド、ジメチルメチレンテトラメチル
シクロペンタジエニルトリメチルホスホリルチタニウム
ジクロライド、ジメチルメチレンテトラメチルシクロペ
ンタジエニルトリフェニルホスホリルチタニウムジクロ
ライド、ジメチルメチレンテトラメチルシクロペンタジ
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チルメチレンインデニルトリメチルホスホリルチタニウ
ムジクロライド、ジメチルメチレンインデニルトリフェ
ニルホスホリルチタニウムジクロライド、ジメチルメチ
レンインデニルホスホインデニルチタニウムジクロライ
ドが挙げられる。
ニルピロリルチタニウムジクロライド、ジメチルメチレ
ンシクロペンタジエニルメチルピロリルチタニウムジク
ロライド、ジメチルメチレンシクロペンタジエニルジメ
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ジクロライド、ジメチルメチレンシクロペンタジエニル
第３級ブチルピロリルチタニウムジクロライド、ジメチ
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ルチタニウムジクロライド、ジメチルメチレンテトラメ
チルシクロペンタジエニルピロリルチタニウムジクロラ
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クロライド、ジメチルメチレンテトラメチルシクロペン
タジエニルジ第３級ブチルピロリルチタニウムジクロラ
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ジクロライド、ジメチルメチレンインデニルメチルピロ
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ニルジメチルピロリルチタニウムジクロライド、ジメチ
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ド、ジメチルメチレンシクロペンタジエニルインドリル
チタニウムジクロライド、ジメチルメチレンシクロペン
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リルチタニウムジクロライド、ジメチルメチレンシクロ
ペンタジエニル第３級ブチルインドリルチタニウムジク
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３級ブチルインドリルチタニウムジクロライド、ジメチ
ルメチレンテトラメチルシクロペンタジエニルインドリ
ルチタニウムジクロライド、ジメチルメチレンテトラメ
チルシクロペンタジエニルメチルインドリルチタニウム
ジクロライド、ジメチルメチレンテトラメチルシクロペ
ンタジエニルジメチルインドリルチタニウムジクロライ
ド、ジメチルメチレンテトラメチルシクロペンタジエニ
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メチルメチレンテトラメチルシクロペンタジエニルジ第
３級ブチルインドリルチタニウムジクロライド、ジメチ
ルメチレンインデニルインドリルチタニウムジクロライ
ド、ジメチルメチレンインデニルメチルインドリルチタ
ニウムジクロライド、ジメチルメチレンインデニルジメ
チルインドリルチタニウムジクロライド、ジメチルメチ
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ロライド、ジメチルメチレンインデニルジ第３級ブチル
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シクロペンタジエニルトリメチルホスホリルチタニウム
ジクロライド、ジメチルメチレンシクロペンタジエニル
トリフェニルホスホリルチタニウムジクロライド、ジメ
チルメチレンシクロペンタジエニルホスホインデニルチ
タニウムジクロライド、ジメチルメチレンテトラメチル
シクロペンタジエニルトリメチルホスホリルチタニウム
ジクロライド、ジメチルメチレンテトラメチルシクロペ
ンタジエニルトリフェニルホスホリルチタニウムジクロ
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ムジクロライド、ジメチルメチレンインデニルトリフェ
ニルホスホリルチタニウムジクロライド、ジメチルメチ
レンインデニルホスホインデニルチタニウムジクロライ
ドが挙げられる。
【００１９】また、ジメチルシリルシクロペンタジエニ
ルピロリルチタニウムジクロライド、ジメチルシリルシ
クロペンタジエニルメチルピロリルチタニウムジクロラ
イド、ジメチルシリルシクロペンタジエニルジメチルピ
ロリルチタニウムジクロライド、ジメチルシリルシクロ
ペンタジエニルトリメチルピロリルチタニウムジクロラ
イド、ジメチルシリルシクロペンタジエニル第３級ブチ
ルピロリルチタニウムジクロライド、ジメチルシリルシ
クロペンタジエニルジ第３級ブチルピロリルチタニウム
ジクロライド、ジメチルシリルテトラメチルシクロペン
タジエニルピロリルチタニウムジクロライド、ジメチル
シリルテトラメチルシクロペンタジエニルメチルピロリ
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ルシクロペンタジエニルジメチルピロリルチタニウムジ
クロライド、ジメチルシリルテトラメチルシクロペンタ
ジエニルトリメチルピロリルチタニウムジクロライド、
ジメチルシリルテトラメチルシクロペンタジエニル第３
級ブチルピロリルチタニウムジクロライド、ジメチルシ
リルテトラメチルシクロペンタジエニルジ第３級ブチル
ピロリルチタニウムジクロライド、ジメチルシリルイン
デニルピロリルチタニウムジクロライド、ジメチルシリ
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ジメチルシリルインデニルジメチルピロリルチタニウム
ジクロライド、ジメチルシリルインデニルトリメチルピ
ロリルチタニウムジクロライド、ジメチルシリルインデ
ニル第３級ブチルピロリルチタニウムジクロライド、ジ
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ウムジクロライド、ジメチルシリルシクロペンタジエニ
ルインドリルチタニウムジクロライド、ジメチルシリル
シクロペンタジエニルメチルインドリルチタニウムジク
ロライド、ジメチルシリルシクロペンタジエニルジメチ
ルインドリルチタニウムジクロライド、ジメチルシリル
シクロペンタジエニル第３級ブチルインドリルチタニウ
ムジクロライド、ジメチルシリルシクロペンタジエニル
ジ第３級ブチルインドリルチタニウムジクロライド、ジ
メチルシリルテトラメチルシクロペンタジエニルインド
リルチタニウムジクロライド、ジメチルシリルテトラメ
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ジクロライド、ジメチルシリルテトラメチルシクロペン
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ド、ジメチルシリルテトラメチルシクロペンタジエニル
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リルインデニルインドリルチタニウムジクロライド、ジ
メチルシリルインデニルメチルインドリルチタニウムジ
クロライド、ジメチルシリルインデニルジメチルインド
リルチタニウムジクロライド、ジメチルシリルインデニ
ル第３級ブチルインドリルチタニウムジクロライド、ジ
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メチルシリルシクロペンタジエニルトリフェニルホスホ
リルチタニウムジクロライド、ジメチルシリルシクロペ
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ド、ジメチルシリルテトラメチルシクロペンタジエニル
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ルシリルテトラメチルシクロペンタジエニルトリフェニ
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メチルホスホリルチタニウムジクロライド、ジメチルシ
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ロライド、ジメチルシリルインデニルホスホインデニル
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ルピロリルチタニウムジクロライド、ジメチルシリルシ
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イド、ジメチルシリルシクロペンタジエニル第３級ブチ
ルピロリルチタニウムジクロライド、ジメチルシリルシ
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ジクロライド、ジメチルシリルテトラメチルシクロペン
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ルシクロペンタジエニルジメチルピロリルチタニウムジ
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ジエニルトリメチルピロリルチタニウムジクロライド、
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級ブチルピロリルチタニウムジクロライド、ジメチルシ
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ピロリルチタニウムジクロライド、ジメチルシリルイン
デニルピロリルチタニウムジクロライド、ジメチルシリ
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ジメチルシリルインデニルジメチルピロリルチタニウム
ジクロライド、ジメチルシリルインデニルトリメチルピ
ロリルチタニウムジクロライド、ジメチルシリルインデ
ニル第３級ブチルピロリルチタニウムジクロライド、ジ
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ウムジクロライド、ジメチルシリルシクロペンタジエニ
ルインドリルチタニウムジクロライド、ジメチルシリル
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ロライド、ジメチルシリルシクロペンタジエニルジメチ
ルインドリルチタニウムジクロライド、ジメチルシリル
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ムジクロライド、ジメチルシリルシクロペンタジエニル
ジ第３級ブチルインドリルチタニウムジクロライド、ジ
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リルチタニウムジクロライド、ジメチルシリルテトラメ
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ジクロライド、ジメチルシリルテトラメチルシクロペン
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ド、ジメチルシリルテトラメチルシクロペンタジエニル
第３級ブチルインドリルチタニウムジクロライド、ジメ
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ブチルインドリルチタニウムジクロライド、ジメチルシ
リルインデニルインドリルチタニウムジクロライド、ジ
メチルシリルインデニルメチルインドリルチタニウムジ
クロライド、ジメチルシリルインデニルジメチルインド
リルチタニウムジクロライド、ジメチルシリルインデニ
ル第３級ブチルインドリルチタニウムジクロライド、ジ
メチルシリルインデニルジ第３級ブチルインドリルチタ
ニウムジクロライド、ジメチルシリルシクロペンタジエ
ニルトリメチルホスホリルチタニウムジクロライド、ジ
メチルシリルシクロペンタジエニルトリフェニルホスホ
リルチタニウムジクロライド、ジメチルシリルシクロペ
ンタジエニルホスホインデニルチタニウムジクロライ
ド、ジメチルシリルテトラメチルシクロペンタジエニル
トリメチルホスホリルチタニウムジクロライド、ジメチ
ルシリルテトラメチルシクロペンタジエニルトリフェニ
ルホスホリルチタニウムジクロライド、ジメチルシリル
テトラメチルシクロペンタジエニルホスホインデニルチ
タニウムジクロライド、ジメチルシリルインデニルトリ
メチルホスホリルチタニウムジクロライド、ジメチルシ
リルインデニルトリフェニルホスホリルチタニウムジク
ロライド、ジメチルシリルインデニルホスホインデニル
チタニウムジクロライドが挙げられる。
【００２０】また、シクロペンタジエニルピロリルジル
コニウムジクロライド、シクロペンタジエニルメチルピ
ロリルジルコニウムジクロライド、シクロペンタジエニ
ルジメチルピロリルジルコニウムジクロライド、シクロ
ペンタジエニルテトラメチルピロリルジルコニウムジク
ロライド、シクロペンタジエニル第３級ブチルピロリル
ジルコニウムジクロライド、シクロペンタジエニルジ第
３級ブチルピロリルジルコニウムジクロライド、ペンタ
メチルシクロペンタジエニルピロリルジルコニウムジク
ロライド、ペンタメチルシクロペンタジエニルメチルピ
ロリルジルコニウムジクロライド、ペンタメチルシクロ
ペンタジエニルジメチルピロリルジルコニウムジクロラ
イド、ペンタメチルシクロペンタジエニルテトラメチル
ピロリルジルコニウムジクロライド、ペンタメチルシク
ロペンタジエニル第３級ブチルピロリルジルコニウムジ
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級ブチルピロリルジルコニウムジクロライド、インデニ
ルピロリルジルコニウムジクロライド、インデニルメチ
ルピロリルジルコニウムジクロライド、インデニルジメ
チルピロリルジルコニウムジクロライド、インデニルテ
トラメチルピロリルジルコニウムジクロライド、インデ
ニル第３級ブチルピロリルジルコニウムジクロライド、
インデニルジ第３級ブチルピロリルチジルコニウムジク
ロライド、シクロペンタジエニルインドリルジルコニウ
ムジクロライド、シクロペンタジエニルメチルインドリ
ルジルコニウムジクロライド、シクロペンタジエニルジ
メチルインドリルチジルコニウムジクロライド、シクロ
ペンタジエニル第３級ブチルインドリルチジルコニウム
ジクロライド、シクロペンタジエニルジ第３級ブチルイ
ンドリルジルコニウムジクロライド、ペンタメチルシク
ロペンタジエニルインドリルジルコニウムジクロライ
ド、ペンタメチルシクロペンタジエニルメチルインドリ
ルジルコニウムジクロライド、ペンタメチルシクロペン
タジエニルジメチルインドリルジルコニウムジクロライ
ド、ペンタメチルシクロペンタジエニル第３級ブチルイ
ンドリルジルコニウムジクロライド、ペンタメチルシク
ロペンタジエニルジ第３級ブチルインドリルジルコニウ
ムジクロライド、インデニルインドリルジルコニウムジ
クロライド、インデニルメチルインドリルジルコニウム
ジクロライド、インデニルジメチルインドリルジルコニ
ウムジクロライド、インデニル第３級ブチルインドリル
ジルコニウムジクロライド、インデニルジ第３級ブチル
インドリルジルコニウムジクロライド、シクロペンタジ
エニルテトラメチルホスホリルジルコニウムジクロライ
ド、シクロペンタジエニルテトラフェニルホスホリルジ
ルコニウムジクロライド、シクロペンタジエニルホスホ
インデニルジルコニウムジクロライド、ペンタメチルシ
クロペンタジエニルテトラメチルホスホリルジルコニウ
ムジクロライド、ペンタメチルシクロペンタジエニルテ
トラフェニルホスホリルジルコニウムジクロライド、ペ
ンタメチルシクロペンタジエニルホスホインデニルジル
コニウムジクロライド、インデニルテトラメチルホスホ
リルジルコニウムジクロライド、インデニルテトラフェ
ニルホスホリルジルコニウムジクロライド、インデニル
ホスホインデニルジルコニウムジクロライドが挙げられ
る。
コニウムジクロライド、シクロペンタジエニルメチルピ
ロリルジルコニウムジクロライド、シクロペンタジエニ
ルジメチルピロリルジルコニウムジクロライド、シクロ
ペンタジエニルテトラメチルピロリルジルコニウムジク
ロライド、シクロペンタジエニル第３級ブチルピロリル
ジルコニウムジクロライド、シクロペンタジエニルジ第
３級ブチルピロリルジルコニウムジクロライド、ペンタ
メチルシクロペンタジエニルピロリルジルコニウムジク
ロライド、ペンタメチルシクロペンタジエニルメチルピ
ロリルジルコニウムジクロライド、ペンタメチルシクロ
ペンタジエニルジメチルピロリルジルコニウムジクロラ
イド、ペンタメチルシクロペンタジエニルテトラメチル
ピロリルジルコニウムジクロライド、ペンタメチルシク
ロペンタジエニル第３級ブチルピロリルジルコニウムジ
クロライド、ペンタメチルシクロペンタジエニルジ第３
級ブチルピロリルジルコニウムジクロライド、インデニ
ルピロリルジルコニウムジクロライド、インデニルメチ
ルピロリルジルコニウムジクロライド、インデニルジメ
チルピロリルジルコニウムジクロライド、インデニルテ
トラメチルピロリルジルコニウムジクロライド、インデ
ニル第３級ブチルピロリルジルコニウムジクロライド、
インデニルジ第３級ブチルピロリルチジルコニウムジク
ロライド、シクロペンタジエニルインドリルジルコニウ
ムジクロライド、シクロペンタジエニルメチルインドリ
ルジルコニウムジクロライド、シクロペンタジエニルジ
メチルインドリルチジルコニウムジクロライド、シクロ
ペンタジエニル第３級ブチルインドリルチジルコニウム
ジクロライド、シクロペンタジエニルジ第３級ブチルイ
ンドリルジルコニウムジクロライド、ペンタメチルシク
ロペンタジエニルインドリルジルコニウムジクロライ
ド、ペンタメチルシクロペンタジエニルメチルインドリ
ルジルコニウムジクロライド、ペンタメチルシクロペン
タジエニルジメチルインドリルジルコニウムジクロライ
ド、ペンタメチルシクロペンタジエニル第３級ブチルイ
ンドリルジルコニウムジクロライド、ペンタメチルシク
ロペンタジエニルジ第３級ブチルインドリルジルコニウ
ムジクロライド、インデニルインドリルジルコニウムジ
クロライド、インデニルメチルインドリルジルコニウム
ジクロライド、インデニルジメチルインドリルジルコニ
ウムジクロライド、インデニル第３級ブチルインドリル
ジルコニウムジクロライド、インデニルジ第３級ブチル
インドリルジルコニウムジクロライド、シクロペンタジ
エニルテトラメチルホスホリルジルコニウムジクロライ
ド、シクロペンタジエニルテトラフェニルホスホリルジ
ルコニウムジクロライド、シクロペンタジエニルホスホ
インデニルジルコニウムジクロライド、ペンタメチルシ
クロペンタジエニルテトラメチルホスホリルジルコニウ
ムジクロライド、ペンタメチルシクロペンタジエニルテ
トラフェニルホスホリルジルコニウムジクロライド、ペ
ンタメチルシクロペンタジエニルホスホインデニルジル
コニウムジクロライド、インデニルテトラメチルホスホ
リルジルコニウムジクロライド、インデニルテトラフェ
ニルホスホリルジルコニウムジクロライド、インデニル
ホスホインデニルジルコニウムジクロライドが挙げられ
る。
【００２１】また、メチレンシクロペンタジエニルピロ
リルジルコニウムジクロライド、メチレンシクロペンタ
ジエニルメチルピロリルジルコニウムジクロライド、メ
チレンシクロペンタジエニルジメチルピロリルジルコニ
ウムジクロライド、メチレンシクロペンタジエニルトリ
メチルピロリルジルコニウムジクロライド、メチレンシ
クロペンタジエニル第３級ブチルピロリルジルコニウム
ジクロライド、メチレンシクロペンタジエニルジ第３級
ブチルピロリルジルコニウムジクロライド、メチレンテ
トラメチルシクロペンタジエニルピロリルジルコニウム
ジクロライド、メチレンテトラメチルシクロペンタジエ
ニルメチルピロリルジルコニウムジクロライド、メチレ
ンテトラメチルシクロペンタジエニルジメチルピロリル
ジルコニウムジクロライド、メチレンテトラメチルシク
ロペンタジエニルトリメチルピロリルジルコニウムジク
ロライド、メチレンテトラメチルシクロペンタジエニル
第３級ブチルピロリルジルコニウムジクロライド、メチ
レンテトラメチルシクロペンタジエニルジ第３級ブチル
ピロリルジルコニウムジクロライド、メチレンインデニ
ルピロリルジルコニウムジクロライド、メチレンインデ
ニルメチルピロリルジルコニウムジクロライド、メチレ
ンインデニルジメチルピロリルジルコニウムジクロライ
ド、メチレンインデニルトリメチルピロリルジルコニウ
ムジクロライド、メチレンインデニル第３級ブチルピロ
リルジルコニウムジクロライド、メチレンインデニルジ
第３級ブチルピロリルチジルコニウムジクロライド、メ
チレンシクロペンタジエニルインドリルジルコニウムジ
クロライド、メチレンシクロペンタジエニルメチルイン
ドリルジルコニウムジクロライド、メチレンシクロペン
タジエニルジメチルインドリルジルコニウムジクロライ
ド、メチレンシクロペンタジエニル第３級ブチルインド
リルジルコニウムジクロライド、メチレンシクロペンタ
ジエニルジ第３級ブチルインドリルジルコニウムジクロ
ライド、メチレンテトラメチルシクロペンタジエニルイ
ンドリルジルコニウムジクロライド、メチレンテトラメ
チルシクロペンタジエニルメチルインドリルジルコニウ
ムジクロライド、メチレンテトラメチルシクロペンタジ
エニルジメチルインドリルジルコニウムジクロライド、
メチレンテトラメチルシクロペンタジエニル第３級ブチ
ルインドリルジルコニウムジクロライド、メチレンテト
ラメチルシクロペンタジエニルジ第３級ブチルインドリ
ルジルコニウムジクロライド、メチレンインデニルイン
ドリルジルコニウムジクロライド、メチレンインデニル
メチルインドリルジルコニウムジクロライド、メチレン
インデニルジメチルインドリルチジルコニウムジクロラ
イド、メチレンインデニル第３級ブチルインドリルチジ
ルコニウムジクロライド、メチレンインデニルジ第３級
ブチルインドリルジルコニウムジクロライド、メチレン
シクロペンタジエニルトリメチルホスホリルジルコニウ
ムジクロライド、メチレンシクロペンタジエニルトリフ
ェニルホスホリルジルコニウムジクロライド、メチレン
シクロペンタジエニルホスホインデニルジルコニウムジ
クロライド、メチレンテトラメチルシクロペンタジエニ
ルトリメチルホスホリルジルコニウムジクロライド、メ
チレンテトラメチルシクロペンタジエニルトリフェニル
ホスホリルジルコニウムジクロライド、メチレンテトラ
メチルシクロペンタジエニルホスホインデニルジルコニ
ウムジクロライド、メチレンインデニルトリメチルホス
ホリルジルコニウムジクロライド、メチレンインデニル
トリフェニルホスホリルジルコニウムジクロライド、メ
チレンインデニルホスホインデニルジルコニウムジクロ
ライドが挙げられる。
リルジルコニウムジクロライド、メチレンシクロペンタ
ジエニルメチルピロリルジルコニウムジクロライド、メ
チレンシクロペンタジエニルジメチルピロリルジルコニ
ウムジクロライド、メチレンシクロペンタジエニルトリ
メチルピロリルジルコニウムジクロライド、メチレンシ
クロペンタジエニル第３級ブチルピロリルジルコニウム
ジクロライド、メチレンシクロペンタジエニルジ第３級
ブチルピロリルジルコニウムジクロライド、メチレンテ
トラメチルシクロペンタジエニルピロリルジルコニウム
ジクロライド、メチレンテトラメチルシクロペンタジエ
ニルメチルピロリルジルコニウムジクロライド、メチレ
ンテトラメチルシクロペンタジエニルジメチルピロリル
ジルコニウムジクロライド、メチレンテトラメチルシク
ロペンタジエニルトリメチルピロリルジルコニウムジク
ロライド、メチレンテトラメチルシクロペンタジエニル
第３級ブチルピロリルジルコニウムジクロライド、メチ
レンテトラメチルシクロペンタジエニルジ第３級ブチル
ピロリルジルコニウムジクロライド、メチレンインデニ
ルピロリルジルコニウムジクロライド、メチレンインデ
ニルメチルピロリルジルコニウムジクロライド、メチレ
ンインデニルジメチルピロリルジルコニウムジクロライ
ド、メチレンインデニルトリメチルピロリルジルコニウ
ムジクロライド、メチレンインデニル第３級ブチルピロ
リルジルコニウムジクロライド、メチレンインデニルジ
第３級ブチルピロリルチジルコニウムジクロライド、メ
チレンシクロペンタジエニルインドリルジルコニウムジ
クロライド、メチレンシクロペンタジエニルメチルイン
ドリルジルコニウムジクロライド、メチレンシクロペン
タジエニルジメチルインドリルジルコニウムジクロライ
ド、メチレンシクロペンタジエニル第３級ブチルインド
リルジルコニウムジクロライド、メチレンシクロペンタ
ジエニルジ第３級ブチルインドリルジルコニウムジクロ
ライド、メチレンテトラメチルシクロペンタジエニルイ
ンドリルジルコニウムジクロライド、メチレンテトラメ
チルシクロペンタジエニルメチルインドリルジルコニウ
ムジクロライド、メチレンテトラメチルシクロペンタジ
エニルジメチルインドリルジルコニウムジクロライド、
メチレンテトラメチルシクロペンタジエニル第３級ブチ
ルインドリルジルコニウムジクロライド、メチレンテト
ラメチルシクロペンタジエニルジ第３級ブチルインドリ
ルジルコニウムジクロライド、メチレンインデニルイン
ドリルジルコニウムジクロライド、メチレンインデニル
メチルインドリルジルコニウムジクロライド、メチレン
インデニルジメチルインドリルチジルコニウムジクロラ
イド、メチレンインデニル第３級ブチルインドリルチジ
ルコニウムジクロライド、メチレンインデニルジ第３級
ブチルインドリルジルコニウムジクロライド、メチレン
シクロペンタジエニルトリメチルホスホリルジルコニウ
ムジクロライド、メチレンシクロペンタジエニルトリフ
ェニルホスホリルジルコニウムジクロライド、メチレン
シクロペンタジエニルホスホインデニルジルコニウムジ
クロライド、メチレンテトラメチルシクロペンタジエニ
ルトリメチルホスホリルジルコニウムジクロライド、メ
チレンテトラメチルシクロペンタジエニルトリフェニル
ホスホリルジルコニウムジクロライド、メチレンテトラ
メチルシクロペンタジエニルホスホインデニルジルコニ
ウムジクロライド、メチレンインデニルトリメチルホス
ホリルジルコニウムジクロライド、メチレンインデニル
トリフェニルホスホリルジルコニウムジクロライド、メ
チレンインデニルホスホインデニルジルコニウムジクロ
ライドが挙げられる。
【００２２】また、エチレンシクロペンタジエニルピロ
リルジルコニウムジクロライド、エチレンシクロペンタ
ジエニルメチルピロリルジルコニウムジクロライド、エ
チレンシクロペンタジエニルジメチルピロリルジルコニ
ウムジクロライド、エチレンシクロペンタジエニルトリ
メチルピロリルジルコニウムジクロライド、エチレンシ
クロペンタジエニル第３級ブチルピロリルジルコニウム
ジクロライド、エチレンシクロペンタジエニルジ第３級
ブチルピロリルチジルコニウムジクロライド、エチレン
テトラメチルシクロペンタジエニルピロリルジルコニウ
ムジクロライド、エチレンテトラメチルシクロペンタジ
エニルメチルピロリルジルコニウムジクロライド、エチ
レンテトラメチルシクロペンタジエニルジメチルピロリ
ルジルコニウムジクロライド、エチレンテトラメチルシ
クロペンタジエニルトリメチルピロリルジルコニウムジ
クロライド、エチレンテトラメチルシクロペンタジエニ
ル第３級ブチルピロリルジルコニウムジクロライド、エ
チレンテトラメチルシクロペンタジエニルジ第３級ブチ
ルピロリルジルコニウムジクロライド、エチレンインデ
ニルピロリルジルコニウムジクロライド、エチレンイン
デニルメチルピロリルジルコニウムジクロライド、エチ
レンインデニルジメチルピロリルジルコニウムジクロラ
イド、エチレンインデニルトリメチルピロリルジルコニ
ウムジクロライド、エチレンインデニル第３級ブチルピ
ロリルジルコニウムジクロライド、エチレンインデニル
ジ第３級ブチルピロリルジルコニウムジクロライド、エ
チレンシクロペンタジエニルインドリルジルコニウムジ
クロライド、エチレンシクロペンタジエニルメチルイン
ドリルジルコニウムジクロライド、エチレンシクロペン
タジエニルジメチルインドリルチジルコニウムジクロラ
イド、エチレンシクロペンタジエニル第３級ブチルイン
ドリルジルコニウムジクロライド、エチレンシクロペン
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ロライド、エチレンテトラメチルシクロペンタジエニル
インドリルジルコニウムジクロライド、エチレンテトラ
メチルシクロペンタジエニルメチルインドリルジルコニ
ウムジクロライド、エチレンテトラメチルシクロペンタ
ジエニルジメチルインドリルジルコニウムジクロライ
ド、エチレンテトラメチルシクロペンタジエニル第３級
ブチルインドリルジルコニウムジクロライド、エチレン
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ドリルジルコニウムジクロライド、エチレンインデニル
インドリルジルコニウムジクロライド、エチレンインデ
ニルメチルインドリルジルコニウムジクロライド、エチ
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ロライド、エチレンインデニル第３級ブチルインドリル
ジルコニウムジクロライド、エチレンインデニルジ第３
級ブチルインドリルジルコニウムジクロライド、エチレ
ンシクロペンタジエニルトリメチルホスホリルジルコニ
ウムジクロライド、エチレンシクロペンタジエニルトリ
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ンシクロペンタジエニルホスホインデニルジルコニウム
ジクロライド、エチレンテトラメチルシクロペンタジエ
ニルトリメチルホスホリルジルコニウムジクロライド、
エチレンテトラメチルシクロペンタジエニルトリフェニ
ルホスホリルジルコニウムジクロライド、エチレンテト
ラメチルシクロペンタジエニルホスホインデニルジルコ
ニウムジクロライド、エチレンインデニルトリメチルホ
スホリルジルコニウムジクロライド、エチレンインデニ
ルトリフェニルホスホリルジルコニウムジクロライド、
エチレンインデニルホスホインデニルジルコニウムジク
ロライドが挙げられる。
リルジルコニウムジクロライド、エチレンシクロペンタ
ジエニルメチルピロリルジルコニウムジクロライド、エ
チレンシクロペンタジエニルジメチルピロリルジルコニ
ウムジクロライド、エチレンシクロペンタジエニルトリ
メチルピロリルジルコニウムジクロライド、エチレンシ
クロペンタジエニル第３級ブチルピロリルジルコニウム
ジクロライド、エチレンシクロペンタジエニルジ第３級
ブチルピロリルチジルコニウムジクロライド、エチレン
テトラメチルシクロペンタジエニルピロリルジルコニウ
ムジクロライド、エチレンテトラメチルシクロペンタジ
エニルメチルピロリルジルコニウムジクロライド、エチ
レンテトラメチルシクロペンタジエニルジメチルピロリ
ルジルコニウムジクロライド、エチレンテトラメチルシ
クロペンタジエニルトリメチルピロリルジルコニウムジ
クロライド、エチレンテトラメチルシクロペンタジエニ
ル第３級ブチルピロリルジルコニウムジクロライド、エ
チレンテトラメチルシクロペンタジエニルジ第３級ブチ
ルピロリルジルコニウムジクロライド、エチレンインデ
ニルピロリルジルコニウムジクロライド、エチレンイン
デニルメチルピロリルジルコニウムジクロライド、エチ
レンインデニルジメチルピロリルジルコニウムジクロラ
イド、エチレンインデニルトリメチルピロリルジルコニ
ウムジクロライド、エチレンインデニル第３級ブチルピ
ロリルジルコニウムジクロライド、エチレンインデニル
ジ第３級ブチルピロリルジルコニウムジクロライド、エ
チレンシクロペンタジエニルインドリルジルコニウムジ
クロライド、エチレンシクロペンタジエニルメチルイン
ドリルジルコニウムジクロライド、エチレンシクロペン
タジエニルジメチルインドリルチジルコニウムジクロラ
イド、エチレンシクロペンタジエニル第３級ブチルイン
ドリルジルコニウムジクロライド、エチレンシクロペン
タジエニルジ第３級ブチルインドリルジルコニウムジク
ロライド、エチレンテトラメチルシクロペンタジエニル
インドリルジルコニウムジクロライド、エチレンテトラ
メチルシクロペンタジエニルメチルインドリルジルコニ
ウムジクロライド、エチレンテトラメチルシクロペンタ
ジエニルジメチルインドリルジルコニウムジクロライ
ド、エチレンテトラメチルシクロペンタジエニル第３級
ブチルインドリルジルコニウムジクロライド、エチレン
テトラメチルシクロペンタジエニルジ第３級ブチルイン
ドリルジルコニウムジクロライド、エチレンインデニル
インドリルジルコニウムジクロライド、エチレンインデ
ニルメチルインドリルジルコニウムジクロライド、エチ
レンインデニルジメチルインドリルチジルコニウムジク
ロライド、エチレンインデニル第３級ブチルインドリル
ジルコニウムジクロライド、エチレンインデニルジ第３
級ブチルインドリルジルコニウムジクロライド、エチレ
ンシクロペンタジエニルトリメチルホスホリルジルコニ
ウムジクロライド、エチレンシクロペンタジエニルトリ
フェニルホスホリルジルコニウムジクロライド、エチレ
ンシクロペンタジエニルホスホインデニルジルコニウム
ジクロライド、エチレンテトラメチルシクロペンタジエ
ニルトリメチルホスホリルジルコニウムジクロライド、
エチレンテトラメチルシクロペンタジエニルトリフェニ
ルホスホリルジルコニウムジクロライド、エチレンテト
ラメチルシクロペンタジエニルホスホインデニルジルコ
ニウムジクロライド、エチレンインデニルトリメチルホ
スホリルジルコニウムジクロライド、エチレンインデニ
ルトリフェニルホスホリルジルコニウムジクロライド、
エチレンインデニルホスホインデニルジルコニウムジク
ロライドが挙げられる。
【００２３】また、ジメチルメチレンシクロペンタジエ
ニルピロリルジルコニウムジクロライド、ジメチルメチ
レンシクロペンタジエニルメチルピロリルジルコニウム
ジクロライド、ジメチルメチレンシクロペンタジエニル
ジメチルピロリルジルコニウムジクロライド、ジメチル
メチレンシクロペンタジエニルトリメチルピロリルジル
コニウムジクロライド、ジメチルメチレンシクロペンタ
ジエニル第３級ブチルピロリルジルコニウムジクロライ
ド、ジメチルメチレンシクロペンタジエニルジ第３級ブ
チルピロリルジルコニウムジクロライド、ジメチルメチ
レンテトラメチルシクロペンタジエニルピロリルジルコ
ニウムジクロライド、ジメチルメチレンテトラメチルシ
クロペンタジエニルメチルピロリルジルコニウムジクロ
ライド、ジメチルメチレンテトラメチルシクロペンタジ
エニルジメチルピロリルジルコニウムジクロライド、ジ
メチルメチレンテトラメチルシクロペンタジエニルトリ
メチルピロリルジルコニウムジクロライド、ジメチルメ
チレンテトラメチルシクロペンタジエニル第３級ブチル
ピロリルジルコニウムジクロライド、ジメチルメチレン
テトラメチルシクロペンタジエニルジ第３級ブチルピロ
リルジルコニウムジクロライド、ジメチルメチレンイン
デニルピロリルジルコニウムジクロライド、ジメチルメ
チレンインデニルメチルピロリルジルコニウムジクロラ
イド、ジメチルメチレンインデニルジメチルピロリルジ
ルコニウムジクロライド、ジメチルメチレンインデニル
トリメチルピロリルジルコニウムジクロライド、ジメチ
ルメチレンインデニル第３級ブチルピロリルジルコニウ
ムジクロライド、ジメチルメチレンインデニルジ第３級
ブチルピロリルジルコニウムジクロライド、ジメチルメ
チレンシクロペンタジエニルインドリルジルコニウムジ
クロライド、ジメチルメチレンシクロペンタジエニルメ
チルインドリルジルコニウムジクロライド、ジメチルメ
チレンクロライド、エチレンテトラメチルシクロペンタ
ジエニルトリフェニルホスホリルジルコニウムジクロラ
イド、エチレンテトラメチルシクロペンタジエニルホス
ホインデニルジルコニウムジクロライド、エチレンイン
デニルトリメチルホスホリルジルコニウムジクロライ
ド、エチレンインデニルトリフェニルホスホリルジルコ
ニウムジクロライド、エチレンインデニルホスホインデ
ニルジルコニウムジクロライドが挙げられる。
ニルピロリルジルコニウムジクロライド、ジメチルメチ
レンシクロペンタジエニルメチルピロリルジルコニウム
ジクロライド、ジメチルメチレンシクロペンタジエニル
ジメチルピロリルジルコニウムジクロライド、ジメチル
メチレンシクロペンタジエニルトリメチルピロリルジル
コニウムジクロライド、ジメチルメチレンシクロペンタ
ジエニル第３級ブチルピロリルジルコニウムジクロライ
ド、ジメチルメチレンシクロペンタジエニルジ第３級ブ
チルピロリルジルコニウムジクロライド、ジメチルメチ
レンテトラメチルシクロペンタジエニルピロリルジルコ
ニウムジクロライド、ジメチルメチレンテトラメチルシ
クロペンタジエニルメチルピロリルジルコニウムジクロ
ライド、ジメチルメチレンテトラメチルシクロペンタジ
エニルジメチルピロリルジルコニウムジクロライド、ジ
メチルメチレンテトラメチルシクロペンタジエニルトリ
メチルピロリルジルコニウムジクロライド、ジメチルメ
チレンテトラメチルシクロペンタジエニル第３級ブチル
ピロリルジルコニウムジクロライド、ジメチルメチレン
テトラメチルシクロペンタジエニルジ第３級ブチルピロ
リルジルコニウムジクロライド、ジメチルメチレンイン
デニルピロリルジルコニウムジクロライド、ジメチルメ
チレンインデニルメチルピロリルジルコニウムジクロラ
イド、ジメチルメチレンインデニルジメチルピロリルジ
ルコニウムジクロライド、ジメチルメチレンインデニル
トリメチルピロリルジルコニウムジクロライド、ジメチ
ルメチレンインデニル第３級ブチルピロリルジルコニウ
ムジクロライド、ジメチルメチレンインデニルジ第３級
ブチルピロリルジルコニウムジクロライド、ジメチルメ
チレンシクロペンタジエニルインドリルジルコニウムジ
クロライド、ジメチルメチレンシクロペンタジエニルメ
チルインドリルジルコニウムジクロライド、ジメチルメ
チレンクロライド、エチレンテトラメチルシクロペンタ
ジエニルトリフェニルホスホリルジルコニウムジクロラ
イド、エチレンテトラメチルシクロペンタジエニルホス
ホインデニルジルコニウムジクロライド、エチレンイン
デニルトリメチルホスホリルジルコニウムジクロライ
ド、エチレンインデニルトリフェニルホスホリルジルコ
ニウムジクロライド、エチレンインデニルホスホインデ
ニルジルコニウムジクロライドが挙げられる。
【００２４】また、ジメチルメチレンシクロペンタジエ
ニルピロリルジルコニウムジクロライド、ジメチルメチ
レンシクロペンタジエニルメチルピロリルジルコニウム
ジクロライド、ジメチルメチレンシクロペンタジエニル
ジメチルピロリルジルコニウムジクロライド、ジメチル
メチレンシクロペンタジエニルトリメチルピロリルジル
コニウムジクロライド、ジメチルメチレンシクロペンタ
ジエニル第３級ブチルピロリルジルコニウムジクロライ
ド、ジメチルメチレンシクロペンタジエニルジ第３級ブ
チルピロリルジルコニウムジクロライド、ジメチルメチ
レンテトラメチルシクロペンタジエニルピロリルジルコ
ニウムジクロライド、ジメチルメチレンテトラメチルシ
クロペンタジエニルメチルピロリルジルコニウムジクロ
ライド、ジメチルメチレンテトラメチルシクロペンタジ
エニルジメチルピロリルジルコニウムジクロライド、ジ
メチルメチレンテトラメチルシクロペンタジエニルトリ
メチルピロリルジルコニウムジクロライド、ジメチルメ
チレンテトラメチルシクロペンタジエニル第３級ブチル
ピロリルジルコニウムジクロライド、ジメチルメチレン
テトラメチルシクロペンタジエニルジ第３級ブチルピロ
リルジルコニウムジクロライド、ジメチルメチレンイン
デニルピロリルジルコニウムジクロライド、ジメチルメ
チレンインデニルメチルピロリルジルコニウムジクロラ
イド、ジメチルメチレンインデニルジメチルピロリルジ
ルコニウムジクロライド、ジメチルメチレンインデニル
トリメチルピロリルジルコニウムジクロライド、ジメチ
ルメチレンインデニル第３級ブチルピロリルジルコニウ
ムジクロライド、ジメチルメチレンインデニルジ第３級
ブチルピロリルジルコニウムジクロライド、ジメチルメ
チレンシクロペンタジエニルインドリルジルコニウムジ
クロライド、ジメチルメチレンシクロペンタジエニルメ
チルインドリルジルコニウムジクロライド、ジメチルメ
チレンシクロペンタジエニルジメチルインドリルジルコ
ニウムジクロライド、ジメチルメチレンシクロペンタジ
エニル第３級ブチルインドリルジルコニウムジクロライ
ド、ジメチルメチレンシクロペンタジエニルジ第３級ブ
チルインドリルジルコニウムジクロライド、ジメチルメ
チレンテトラメチルシクロペンタジエニルインドリルジ
ルコニウムジクロライド、ジメチルメチレンテトラメチ
ルシクロペンタジエニルメチルインドリルジルコニウム
ジクロライド、ジメチルメチレンテトラメチルシクロペ
ンタジエニルジメチルインドリルジルコニウムジクロラ
イド、ジメチルメチレンテトラメチルシクロペンタジエ
ニル第３級ブチルインドリルジルコニウムジクロライ
ド、ジメチルメチレンテトラメチルシクロペンタジエニ
ルジ第３級ブチルインドリルジルコニウムジクロライ
ド、ジメチルメチレンインデニルインドリルジルコニウ
ムジクロライド、ジメチルメチレンインデニルメチルイ
ンドリルジルコニウムジクロライド、ジメチルメチレン
インデニルジメチルインドリルジルコニウムジクロライ
ド、ジメチルメチレンインデニル第３級ブチルインドリ
ルジルコニウムジクロライド、ジメチルメチレンインデ
ニルジ第３級ブチルインドリルジルコニウムジクロライ
ド、ジメチルメチレンシクロペンタジエニルトリメチル
ホスホリルジルコニウムジクロライド、ジメチルメチレ
ンシクロペンタジエニルトリフェニルホスホリルジルコ
ニウムジクロライド、ジメチルメチレンシクロペンタジ
エニルホスホインデニルジルコニウムジクロライド、ジ
メチルメチレンテトラメチルシクロペンタジエニルトリ
メチルホスホリルジルコニウムジクロライド、ジメチル
メチレンテトラメチルシクロペンタジエニルトリフェニ
ルホスホリルジルコニウムジクロライド、ジメチルメチ
レンテトラメチルシクロペンタジエニルホスホインデニ
ルジルコニウムジクロライド、ジメチルメチレンインデ
ニルトリメチルホスホリルジルコニウムジクロライド、
ジメチルメチレンインデニルトリフェニルホスホリルジ
ルコニウムジクロライド、ジメチルメチレンインデニル
ホスホインデニルジルコニウムジクロライドが挙げられ
る。
ニルピロリルジルコニウムジクロライド、ジメチルメチ
レンシクロペンタジエニルメチルピロリルジルコニウム
ジクロライド、ジメチルメチレンシクロペンタジエニル
ジメチルピロリルジルコニウムジクロライド、ジメチル
メチレンシクロペンタジエニルトリメチルピロリルジル
コニウムジクロライド、ジメチルメチレンシクロペンタ
ジエニル第３級ブチルピロリルジルコニウムジクロライ
ド、ジメチルメチレンシクロペンタジエニルジ第３級ブ
チルピロリルジルコニウムジクロライド、ジメチルメチ
レンテトラメチルシクロペンタジエニルピロリルジルコ
ニウムジクロライド、ジメチルメチレンテトラメチルシ
クロペンタジエニルメチルピロリルジルコニウムジクロ
ライド、ジメチルメチレンテトラメチルシクロペンタジ
エニルジメチルピロリルジルコニウムジクロライド、ジ
メチルメチレンテトラメチルシクロペンタジエニルトリ
メチルピロリルジルコニウムジクロライド、ジメチルメ
チレンテトラメチルシクロペンタジエニル第３級ブチル
ピロリルジルコニウムジクロライド、ジメチルメチレン
テトラメチルシクロペンタジエニルジ第３級ブチルピロ
リルジルコニウムジクロライド、ジメチルメチレンイン
デニルピロリルジルコニウムジクロライド、ジメチルメ
チレンインデニルメチルピロリルジルコニウムジクロラ
イド、ジメチルメチレンインデニルジメチルピロリルジ
ルコニウムジクロライド、ジメチルメチレンインデニル
トリメチルピロリルジルコニウムジクロライド、ジメチ
ルメチレンインデニル第３級ブチルピロリルジルコニウ
ムジクロライド、ジメチルメチレンインデニルジ第３級
ブチルピロリルジルコニウムジクロライド、ジメチルメ
チレンシクロペンタジエニルインドリルジルコニウムジ
クロライド、ジメチルメチレンシクロペンタジエニルメ
チルインドリルジルコニウムジクロライド、ジメチルメ
チレンシクロペンタジエニルジメチルインドリルジルコ
ニウムジクロライド、ジメチルメチレンシクロペンタジ
エニル第３級ブチルインドリルジルコニウムジクロライ
ド、ジメチルメチレンシクロペンタジエニルジ第３級ブ
チルインドリルジルコニウムジクロライド、ジメチルメ
チレンテトラメチルシクロペンタジエニルインドリルジ
ルコニウムジクロライド、ジメチルメチレンテトラメチ
ルシクロペンタジエニルメチルインドリルジルコニウム
ジクロライド、ジメチルメチレンテトラメチルシクロペ
ンタジエニルジメチルインドリルジルコニウムジクロラ
イド、ジメチルメチレンテトラメチルシクロペンタジエ
ニル第３級ブチルインドリルジルコニウムジクロライ
ド、ジメチルメチレンテトラメチルシクロペンタジエニ
ルジ第３級ブチルインドリルジルコニウムジクロライ
ド、ジメチルメチレンインデニルインドリルジルコニウ
ムジクロライド、ジメチルメチレンインデニルメチルイ
ンドリルジルコニウムジクロライド、ジメチルメチレン
インデニルジメチルインドリルジルコニウムジクロライ
ド、ジメチルメチレンインデニル第３級ブチルインドリ
ルジルコニウムジクロライド、ジメチルメチレンインデ
ニルジ第３級ブチルインドリルジルコニウムジクロライ
ド、ジメチルメチレンシクロペンタジエニルトリメチル
ホスホリルジルコニウムジクロライド、ジメチルメチレ
ンシクロペンタジエニルトリフェニルホスホリルジルコ
ニウムジクロライド、ジメチルメチレンシクロペンタジ
エニルホスホインデニルジルコニウムジクロライド、ジ
メチルメチレンテトラメチルシクロペンタジエニルトリ
メチルホスホリルジルコニウムジクロライド、ジメチル
メチレンテトラメチルシクロペンタジエニルトリフェニ
ルホスホリルジルコニウムジクロライド、ジメチルメチ
レンテトラメチルシクロペンタジエニルホスホインデニ
ルジルコニウムジクロライド、ジメチルメチレンインデ
ニルトリメチルホスホリルジルコニウムジクロライド、
ジメチルメチレンインデニルトリフェニルホスホリルジ
ルコニウムジクロライド、ジメチルメチレンインデニル
ホスホインデニルジルコニウムジクロライドが挙げられ
る。
【００２５】また、ジメチルシリルシクロペンタジエニ
ルピロリルジルコニウムジクロライド、ジメチルシリル
シクロペンタジエニルメチルピロリルジルコニウムジク
ロライド、ジメチルシリルシクロペンタジエニルジメチ
ルピロリルチジルコニウムジクロライド、ジメチルシリ
ルシクロペンタジエニルトリメチルピロリルジルコニウ
ムジクロライド、ジメチルシリルシクロペンタジエニル
第３級ブチルピロリルジルコニウムジクロライド、ジメ
チルシリルシクロペンタジエニルジ第３級ブチルピロリ
ルジルコニウムジクロライド、ジメチルシリルテトラメ
チルシクロペンタジエニルピロリルジルコニウムジクロ
ライド、ジメチルシリルテトラメチルシクロペンタジエ
ニルメチルピロリルジルコニウムジクロライド、ジメチ
ルシリルテトラメチルシクロペンタジエニルジメチルピ
ロリルジルコニウムジクロライド、ジメチルシリルテト
ラメチルシクロペンタジエニルトリメチルピロリルジル
コニウムジクロライド、ジメチルシリルテトラメチルシ
クロペンタジエニル第３級ブチルピロリルジルコニウム
ジクロライド、ジメチルシリルテトラメチルシクロペン
タジエニルジ第３級ブチルピロリルジルコニウムジクロ
ライド、ジメチルシリルインデニルピロリルジルコニウ
ムジクロライド、ジメチルシリルインデニルメチルピロ
リルジルコニウムジクロライド、ジメチルシリルインデ
ニルジメチルピロリルジルコニウムジクロライド、ジメ
チルシリルインデニルトリメチルピロリルジルコニウム
ジクロライド、ジメチルシリルインデニル第３級ブチル
ピロリルジルコニウムジクロライド、ジメチルシリルイ
ンデニルジ第３級ブチルピロリルジルコニウムジクロラ
イド、ジメチルシリルシクロペンタジエニルインドリル
ジルコニウムジクロライド、ジメチルシリルシクロペン
タジエニルメチルインドリルジルコニウムジクロライ
ド、ジメチルシリルシクロペンタジエニルジメチルイン
ドリルジルコニウムジクロライド、ジメチルシリルシク
ロペンタジエニル第３級ブチルインドリルジルコニウム
ジクロライド、ジメチルシリルシクロペンタジエニルジ
第３級ブチルインドリルジルコニウムジクロライド、ジ
メチルシリルテトラメチルシクロペンタジエニルインド
リルジルコニウムジクロライド、ジメチルシリルテトラ
メチルシクロペンタジエニルメチルインドリルジルコニ
ウムジクロライド、ジメチルシリルテトラメチルシクロ
ペンタジエニルジメチルインドリルジルコニウムジクロ
ライド、ジメチルシリルテトラメチルシクロペンタジエ
ニル第３級ブチルインドリルジルコニウムジクロライ
ド、ジメチルシリルテトラメチルシクロペンタジエニル
ジ第３級ブチルインドリルジルコニウムジクロライド、
ジメチルシリルインデニルインドリルジルコニウムジク
ロライド、ジメチルシリルインデニルメチルインドリル
ジルコニウムジクロライド、ジメチルシリルインデニル
ジメチルインドリルジルコニウムジクロライド、ジメチ
ルシリルインデニル第３級ブチルインドリルジルコニウ
ムジクロライド、ジメチルシリルインデニルジ第３級ブ
チルインドリルジルコニウムジクロライド、ジメチルシ
リルシクロペンタジエニルトリメチルホスホリルジルコ
ニウムジクロライド、ジメチルシリルシクロペンタジエ
ニルトリフェニルホスホリルジルコニウムジクロライ
ド、ジメチルシリルシクロペンタジエニルホスホインデ
ニルジルコニウムジクロライド、ジメチルシリルテトラ
メチルシクロペンタジエニルトリメチルホスホリルジル
コニウムジクロライド、ジメチルシリルテトラメチルシ
クロペンタジエニルトリフェニルホスホリルジルコニウ
ムジクロライド、ジメチルシリルテトラメチルシクロペ
ンタジエニルホスホインデニルジルコニウムジクロライ
ド、ジメチルシリルインデニルトリメチルホスホリルジ
ルコニウムジクロライド、ジメチルシリルインデニルト
リフェニルホスホリルジルコニウムジクロライド、ジメ
チルシリルインデニルホスホインデニルジルコニウムジ
クロライド等が挙げられる。好ましくは、シクロペンタ
ジエニルテトラメチルピロリルジルコニウムジクロライ
ド、ペンタメチルシクロペンタジエニルテトラメチルピ
ロリルジルコニウムジクロライド、エチレンインデニル
インドリルジルコニウムジクロライド、ジメチルシリル
テトラメチルシクロペンタジエニルジ第３級ブチルピロ
リルジルコニウムジクロライド、エチレンインデニル第
３級ブチルインドリルジルコニウムジクロライド、エチ
レンインデニルインドリルチタニウムジクロライド、ジ
メチルシリルテトラメチルシクロペンタジエニルジ第３
級ブチルピロリルチタニウムジクロライド、エチレンイ
ンデニル第３級ブチルインドリルチタニウムジクロライ
ドが挙げられる。
ルピロリルジルコニウムジクロライド、ジメチルシリル
シクロペンタジエニルメチルピロリルジルコニウムジク
ロライド、ジメチルシリルシクロペンタジエニルジメチ
ルピロリルチジルコニウムジクロライド、ジメチルシリ
ルシクロペンタジエニルトリメチルピロリルジルコニウ
ムジクロライド、ジメチルシリルシクロペンタジエニル
第３級ブチルピロリルジルコニウムジクロライド、ジメ
チルシリルシクロペンタジエニルジ第３級ブチルピロリ
ルジルコニウムジクロライド、ジメチルシリルテトラメ
チルシクロペンタジエニルピロリルジルコニウムジクロ
ライド、ジメチルシリルテトラメチルシクロペンタジエ
ニルメチルピロリルジルコニウムジクロライド、ジメチ
ルシリルテトラメチルシクロペンタジエニルジメチルピ
ロリルジルコニウムジクロライド、ジメチルシリルテト
ラメチルシクロペンタジエニルトリメチルピロリルジル
コニウムジクロライド、ジメチルシリルテトラメチルシ
クロペンタジエニル第３級ブチルピロリルジルコニウム
ジクロライド、ジメチルシリルテトラメチルシクロペン
タジエニルジ第３級ブチルピロリルジルコニウムジクロ
ライド、ジメチルシリルインデニルピロリルジルコニウ
ムジクロライド、ジメチルシリルインデニルメチルピロ
リルジルコニウムジクロライド、ジメチルシリルインデ
ニルジメチルピロリルジルコニウムジクロライド、ジメ
チルシリルインデニルトリメチルピロリルジルコニウム
ジクロライド、ジメチルシリルインデニル第３級ブチル
ピロリルジルコニウムジクロライド、ジメチルシリルイ
ンデニルジ第３級ブチルピロリルジルコニウムジクロラ
イド、ジメチルシリルシクロペンタジエニルインドリル
ジルコニウムジクロライド、ジメチルシリルシクロペン
タジエニルメチルインドリルジルコニウムジクロライ
ド、ジメチルシリルシクロペンタジエニルジメチルイン
ドリルジルコニウムジクロライド、ジメチルシリルシク
ロペンタジエニル第３級ブチルインドリルジルコニウム
ジクロライド、ジメチルシリルシクロペンタジエニルジ
第３級ブチルインドリルジルコニウムジクロライド、ジ
メチルシリルテトラメチルシクロペンタジエニルインド
リルジルコニウムジクロライド、ジメチルシリルテトラ
メチルシクロペンタジエニルメチルインドリルジルコニ
ウムジクロライド、ジメチルシリルテトラメチルシクロ
ペンタジエニルジメチルインドリルジルコニウムジクロ
ライド、ジメチルシリルテトラメチルシクロペンタジエ
ニル第３級ブチルインドリルジルコニウムジクロライ
ド、ジメチルシリルテトラメチルシクロペンタジエニル
ジ第３級ブチルインドリルジルコニウムジクロライド、
ジメチルシリルインデニルインドリルジルコニウムジク
ロライド、ジメチルシリルインデニルメチルインドリル
ジルコニウムジクロライド、ジメチルシリルインデニル
ジメチルインドリルジルコニウムジクロライド、ジメチ
ルシリルインデニル第３級ブチルインドリルジルコニウ
ムジクロライド、ジメチルシリルインデニルジ第３級ブ
チルインドリルジルコニウムジクロライド、ジメチルシ
リルシクロペンタジエニルトリメチルホスホリルジルコ
ニウムジクロライド、ジメチルシリルシクロペンタジエ
ニルトリフェニルホスホリルジルコニウムジクロライ
ド、ジメチルシリルシクロペンタジエニルホスホインデ
ニルジルコニウムジクロライド、ジメチルシリルテトラ
メチルシクロペンタジエニルトリメチルホスホリルジル
コニウムジクロライド、ジメチルシリルテトラメチルシ
クロペンタジエニルトリフェニルホスホリルジルコニウ
ムジクロライド、ジメチルシリルテトラメチルシクロペ
ンタジエニルホスホインデニルジルコニウムジクロライ
ド、ジメチルシリルインデニルトリメチルホスホリルジ
ルコニウムジクロライド、ジメチルシリルインデニルト
リフェニルホスホリルジルコニウムジクロライド、ジメ
チルシリルインデニルホスホインデニルジルコニウムジ
クロライド等が挙げられる。好ましくは、シクロペンタ
ジエニルテトラメチルピロリルジルコニウムジクロライ
ド、ペンタメチルシクロペンタジエニルテトラメチルピ
ロリルジルコニウムジクロライド、エチレンインデニル
インドリルジルコニウムジクロライド、ジメチルシリル
テトラメチルシクロペンタジエニルジ第３級ブチルピロ
リルジルコニウムジクロライド、エチレンインデニル第
３級ブチルインドリルジルコニウムジクロライド、エチ
レンインデニルインドリルチタニウムジクロライド、ジ
メチルシリルテトラメチルシクロペンタジエニルジ第３
級ブチルピロリルチタニウムジクロライド、エチレンイ
ンデニル第３級ブチルインドリルチタニウムジクロライ
ドが挙げられる。
【００２６】２）オレフィン（共）重合用触媒系 本発明において、上記遷移金属化合物（Ａ）とともにオ
レフィン（共）重合用触媒系を構成する、化合物（Ｂ）
として用いられる有機アルミニウム化合物は、公知の有
機アルミニウム化合物が使用できる。具体的には、一般
式Ｒ3 b ＡｌＺ 3-b で示される有機アルミニウム化合物
（Ｂ１）、又は一般式｛−Ａｌ（Ｒ4)−Ｏ−｝c で示さ
れる構造を有する環状のアルミノキサン（Ｂ２ａ）及び
／又は一般式Ｒ5 ｛−Ａｌ（Ｒ5)−Ｏ−｝d ＡｌＲ5 2で
示される構造を有する線状のアルミノキサン（Ｂ２ｂ）
（但し、Ｒ3 、Ｒ4 及びＲ5 は、炭素数１〜８の炭化水
素基を表す。上記の一般式において、全てのＲ4 及び全
てのＲ5 は、同じであっても異なっていても良い。Ｚ
は、水素及び／又はハロゲン、ｂは、０〜３の数であ
り、ｃ及びｄは、１以上の整数を表す。）を例示するこ
とができる。
レフィン（共）重合用触媒系を構成する、化合物（Ｂ）
として用いられる有機アルミニウム化合物は、公知の有
機アルミニウム化合物が使用できる。具体的には、一般
式Ｒ3 b ＡｌＺ 3-b で示される有機アルミニウム化合物
（Ｂ１）、又は一般式｛−Ａｌ（Ｒ4)−Ｏ−｝c で示さ
れる構造を有する環状のアルミノキサン（Ｂ２ａ）及び
／又は一般式Ｒ5 ｛−Ａｌ（Ｒ5)−Ｏ−｝d ＡｌＲ5 2で
示される構造を有する線状のアルミノキサン（Ｂ２ｂ）
（但し、Ｒ3 、Ｒ4 及びＲ5 は、炭素数１〜８の炭化水
素基を表す。上記の一般式において、全てのＲ4 及び全
てのＲ5 は、同じであっても異なっていても良い。Ｚ
は、水素及び／又はハロゲン、ｂは、０〜３の数であ
り、ｃ及びｄは、１以上の整数を表す。）を例示するこ
とができる。
【００２７】一般式Ｒ3 b ＡｌＺ3-b で示される有機ア
ルミニウム化合物（Ｂ１）の具体例としては、トリメチ
ルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリノルマ
ルプロピルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウ
ム、トリノルマルヘキシルアルミニウム等のトリアルキ
ルアルミニウム；ジメチルアルミニウムクロライド、ジ
エチルアルミニウムクロライド、ジノルマルプロピルア
ルミニウムクロライド、ジイソブチルアルミニウムクロ
ライド、ジノルマルヘキシルアルミニウムクロライド等
のジアルキルアルミニウムクロライド；メチルアルミニ
ウムジクロライド、エチルアルミニウムジクロライド、
ノルマルプロピルアルミニウムジクロライド、イソブチ
ルアルミニウムジクロライド、ノルマルヘキシルアルミ
ニウムジクロライド等のアルキルアルミニウムジクロラ
イド、ジメチルアルミニウムハイドライド、ジエチルア
ルミニウムハイドライド、ジノルマルプロピルアルミニ
ウムハイドライド、ジイソブチルアルミニウムハイドラ
イド、ジノルマルヘキシルアルミニウムハイドライド等
のジアルキルアルミニウムハイドライド等を例示するこ
とができる。以上の中でもトリアルキルアルミニウムが
好ましく、より好ましくは分岐アルキル基を１個以上有
するトリアルキルアルミニウムであり、最も好ましくは
トリイソブチルアルミニウムである。
ルミニウム化合物（Ｂ１）の具体例としては、トリメチ
ルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリノルマ
ルプロピルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウ
ム、トリノルマルヘキシルアルミニウム等のトリアルキ
ルアルミニウム；ジメチルアルミニウムクロライド、ジ
エチルアルミニウムクロライド、ジノルマルプロピルア
ルミニウムクロライド、ジイソブチルアルミニウムクロ
ライド、ジノルマルヘキシルアルミニウムクロライド等
のジアルキルアルミニウムクロライド；メチルアルミニ
ウムジクロライド、エチルアルミニウムジクロライド、
ノルマルプロピルアルミニウムジクロライド、イソブチ
ルアルミニウムジクロライド、ノルマルヘキシルアルミ
ニウムジクロライド等のアルキルアルミニウムジクロラ
イド、ジメチルアルミニウムハイドライド、ジエチルア
ルミニウムハイドライド、ジノルマルプロピルアルミニ
ウムハイドライド、ジイソブチルアルミニウムハイドラ
イド、ジノルマルヘキシルアルミニウムハイドライド等
のジアルキルアルミニウムハイドライド等を例示するこ
とができる。以上の中でもトリアルキルアルミニウムが
好ましく、より好ましくは分岐アルキル基を１個以上有
するトリアルキルアルミニウムであり、最も好ましくは
トリイソブチルアルミニウムである。
【００２８】次に、一般式｛−Ａｌ（Ｒ4)−Ｏ−｝c で
示される構造を有する環状のアルミノキサン（Ｂ２ａ）
又は一般式 Ｒ5 ｛−Ａｌ（Ｒ5)−Ｏ−｝d ＡｌＲ5 2で
示される構造を有する線状のアルミノキサン（Ｂ２ｂ）
におけるＲ4 、Ｒ5 の具体例としては、メチル、エチ
ル、ノルマルプロピル、イソプロピル、ノルマルブチ
ル、イソブチル、ノルマルペンチル、ネオペンチル等の
アルキル基を例示することができる。ｃ及びｄは１以上
の整数、好ましくは１〜４０の整数である。より好まし
くは、Ｒ4 及びＲ5 は、メチル又はイソブチルであり、
ｃ及びｄは、３〜２０である。上記アルミノキサンとし
ては、メチルアルミノキサンが特に好ましい。上記のア
ルミノキサンは、各種の方法で製造される。その手段に
ついては、特に制限はなく、公知の方法に準じて製造す
ればよい。例えば、トリアルキルアルミニウム（例え
ば、トリメチルアルミニウムなど）を、適当な有機溶剤
（ベンゼン、脂肪族炭化水素など）に溶かした溶液を、
水と接触させて製造する。別法として、トリアルキルア
ルミニウム（例えば、トリメチルアルミニウムなど）
を、結晶水を含んでいる金属塩（例えば、硫酸銅水和物
など）に接触させて製造する方法もある。
示される構造を有する環状のアルミノキサン（Ｂ２ａ）
又は一般式 Ｒ5 ｛−Ａｌ（Ｒ5)−Ｏ−｝d ＡｌＲ5 2で
示される構造を有する線状のアルミノキサン（Ｂ２ｂ）
におけるＲ4 、Ｒ5 の具体例としては、メチル、エチ
ル、ノルマルプロピル、イソプロピル、ノルマルブチ
ル、イソブチル、ノルマルペンチル、ネオペンチル等の
アルキル基を例示することができる。ｃ及びｄは１以上
の整数、好ましくは１〜４０の整数である。より好まし
くは、Ｒ4 及びＲ5 は、メチル又はイソブチルであり、
ｃ及びｄは、３〜２０である。上記アルミノキサンとし
ては、メチルアルミノキサンが特に好ましい。上記のア
ルミノキサンは、各種の方法で製造される。その手段に
ついては、特に制限はなく、公知の方法に準じて製造す
ればよい。例えば、トリアルキルアルミニウム（例え
ば、トリメチルアルミニウムなど）を、適当な有機溶剤
（ベンゼン、脂肪族炭化水素など）に溶かした溶液を、
水と接触させて製造する。別法として、トリアルキルア
ルミニウム（例えば、トリメチルアルミニウムなど）
を、結晶水を含んでいる金属塩（例えば、硫酸銅水和物
など）に接触させて製造する方法もある。
【００２９】本発明においては、化合物（Ａ）、（Ｂ）
に加え、更に遷移金属化合物と反応してイオン性の錯体
を形成する化合物（Ｃ）を含有する触媒系を用いること
ができる。化合物（Ｃ）としては、上記の化合物（Ａ）
と化合物（Ｂ）の反応において、形成される遷移金属化
合物と反応して、イオン性の錯体を形成しうるものであ
れば、いずれのものでも使用できる。好ましくは、遷移
金属化合物をカチオンにし、対応する非配位性アニオン
になることができるルイス酸、もしくは、一般式Ｃ+ Ａ
- （但し、Ｃ+ は、遷移金属を酸化して、カチオンにす
ることができる、カチオン性酸化剤であり、Ａ- は、対
応する非配位性アニオンである。）で表される化合物、
もしくは、一般式（Ｌ−Ｈ）+ Ａ- （但し、Ｌは、中性
ルイス塩基であり、（Ｌ−Ｈ）+ は、ブレンステッド酸
であり、遷移金属をカチオンにすることができ、そし
て、Ａ- は、対応する非配位性アニオンである。）で表
される化合物である。好ましくは、遷移金属化合物をカ
チオンにし、対応する非配位性アニオンになることがで
きるルイス酸、一般式 Ｃ+ Ａ- で表される化合物、も
しくは、一般式（Ｌ−Ｈ）+ Ａ- で表される化合物がホ
ウ素化合物である場合である。より好ましくは、上記の
ルイス酸は一般式 ＢＱ1 Ｑ2 Ｑ3 、及び式Ｃ+ Ａ-で
表される化合物は一般式 Ｃ+ (ＢＱ1 Ｑ2 Ｑ3 Ｑ4 ）
- 及び式（Ｌ−Ｈ）+Ａ- で表される化合物は一般式
（Ｌ−Ｈ）+ （ＢＱ1 Ｑ2 Ｑ3 Ｑ4 ）- で表される、遷
移金属化合物と反応してイオン性の錯体を形成するホウ
素化合物である。但し、Ｂは、３価の原子価状態のホウ
素であり、Ｑ1 、Ｑ2 、Ｑ3 、Ｑ4 は、ハロゲン、炭素
数１〜２０の炭化水素基、炭素数１〜２０のハロゲン化
炭化水素基、炭素数１〜２０のシリル基、炭素数１〜２
０のアルコキシ基、あるいは炭素数１〜２０の炭化水素
基を有するアミド基であり、Ｑ1 、Ｑ2 、Ｑ3 、Ｑ
4 は、同じであっても異なっていても良い。
に加え、更に遷移金属化合物と反応してイオン性の錯体
を形成する化合物（Ｃ）を含有する触媒系を用いること
ができる。化合物（Ｃ）としては、上記の化合物（Ａ）
と化合物（Ｂ）の反応において、形成される遷移金属化
合物と反応して、イオン性の錯体を形成しうるものであ
れば、いずれのものでも使用できる。好ましくは、遷移
金属化合物をカチオンにし、対応する非配位性アニオン
になることができるルイス酸、もしくは、一般式Ｃ+ Ａ
- （但し、Ｃ+ は、遷移金属を酸化して、カチオンにす
ることができる、カチオン性酸化剤であり、Ａ- は、対
応する非配位性アニオンである。）で表される化合物、
もしくは、一般式（Ｌ−Ｈ）+ Ａ- （但し、Ｌは、中性
ルイス塩基であり、（Ｌ−Ｈ）+ は、ブレンステッド酸
であり、遷移金属をカチオンにすることができ、そし
て、Ａ- は、対応する非配位性アニオンである。）で表
される化合物である。好ましくは、遷移金属化合物をカ
チオンにし、対応する非配位性アニオンになることがで
きるルイス酸、一般式 Ｃ+ Ａ- で表される化合物、も
しくは、一般式（Ｌ−Ｈ）+ Ａ- で表される化合物がホ
ウ素化合物である場合である。より好ましくは、上記の
ルイス酸は一般式 ＢＱ1 Ｑ2 Ｑ3 、及び式Ｃ+ Ａ-で
表される化合物は一般式 Ｃ+ (ＢＱ1 Ｑ2 Ｑ3 Ｑ4 ）
- 及び式（Ｌ−Ｈ）+Ａ- で表される化合物は一般式
（Ｌ−Ｈ）+ （ＢＱ1 Ｑ2 Ｑ3 Ｑ4 ）- で表される、遷
移金属化合物と反応してイオン性の錯体を形成するホウ
素化合物である。但し、Ｂは、３価の原子価状態のホウ
素であり、Ｑ1 、Ｑ2 、Ｑ3 、Ｑ4 は、ハロゲン、炭素
数１〜２０の炭化水素基、炭素数１〜２０のハロゲン化
炭化水素基、炭素数１〜２０のシリル基、炭素数１〜２
０のアルコキシ基、あるいは炭素数１〜２０の炭化水素
基を有するアミド基であり、Ｑ1 、Ｑ2 、Ｑ3 、Ｑ
4 は、同じであっても異なっていても良い。
【００３０】遷移金属化合物をカチオンにし、対応する
非配位性アニオンになることができるルイス酸の具体例
としては、トリス（ペンタフルオロフェニル）ボラン、
トリス（２，３，５，６−テトラフルオロフェニル）ボ
ラン、トリス（２，３，４，５−テトラフルオロフェニ
ル）ボラン、トリス（３，４，５−トリフルオロフェニ
ル）ボラン、トリス（２，３，４−トリフルオロフェニ
ル）ボラン、フェニルビス（ペンタフルオロフェニル）
ボラン等が挙げられるが、好ましくは、トリス（ペンタ
フルオロフェニル）ボランである。
非配位性アニオンになることができるルイス酸の具体例
としては、トリス（ペンタフルオロフェニル）ボラン、
トリス（２，３，５，６−テトラフルオロフェニル）ボ
ラン、トリス（２，３，４，５−テトラフルオロフェニ
ル）ボラン、トリス（３，４，５−トリフルオロフェニ
ル）ボラン、トリス（２，３，４−トリフルオロフェニ
ル）ボラン、フェニルビス（ペンタフルオロフェニル）
ボラン等が挙げられるが、好ましくは、トリス（ペンタ
フルオロフェニル）ボランである。
【００３１】また、一般式 Ｃ+ （ＢＱ1 Ｑ2 Ｑ
3 Ｑ4 ）- で表される化合物の具体例としては、カチオ
ン性酸化剤であるＣ+ は、フェロセニウムカチオン、ア
ルキル置換フェロセニウムカチオン、銀陽イオン、トリ
フェニルメチルカチオンなどが挙げられ、非配位性アニ
オンである（ＢＱ1 Ｑ2 Ｑ3 Ｑ4 ）- は、テトラキス
（ペンタフルオロフェニル）ボレ−ト、テトラキス
（２，３，５，６−テトラフルオロフェニル）ボレ−
ト、テトラキス（２，３，４，５−テトラフルオロフェ
ニル）ボレ−ト、テトラキス（３，４，５−トリフルオ
ロフェニル）ボレ−ト、テトラキス（２，３，４−トリ
フルオロフェニル）ボレ−ト、フェニルトリス（ペンタ
フルオロフェニル）ボレ−ト、テトラキス（３，５−ビ
ストリフルオロメチルフェニル）ボレ−トなどが、挙げ
られる。これらの具体的な組み合わせとしては、フェロ
セニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレ−
ト、１，１’−ジメチルフェロセニウムテトラキス（ペ
ンタフルオロフェニル）ボレ−ト、銀テトラキス（ペン
タフルオロフェニル）ボレ−ト、トリフェニルメチルテ
トラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレ−ト、トリフ
ェニルメチルテトラキス（３，５−ビストリフルオロメ
チルフェニル）ボレ−トなどを挙げることができるが、
好ましくは、トリフェニルメチルテトラキス（ペンタフ
ルオロフェニル）ボレ−トである。
3 Ｑ4 ）- で表される化合物の具体例としては、カチオ
ン性酸化剤であるＣ+ は、フェロセニウムカチオン、ア
ルキル置換フェロセニウムカチオン、銀陽イオン、トリ
フェニルメチルカチオンなどが挙げられ、非配位性アニ
オンである（ＢＱ1 Ｑ2 Ｑ3 Ｑ4 ）- は、テトラキス
（ペンタフルオロフェニル）ボレ−ト、テトラキス
（２，３，５，６−テトラフルオロフェニル）ボレ−
ト、テトラキス（２，３，４，５−テトラフルオロフェ
ニル）ボレ−ト、テトラキス（３，４，５−トリフルオ
ロフェニル）ボレ−ト、テトラキス（２，３，４−トリ
フルオロフェニル）ボレ−ト、フェニルトリス（ペンタ
フルオロフェニル）ボレ−ト、テトラキス（３，５−ビ
ストリフルオロメチルフェニル）ボレ−トなどが、挙げ
られる。これらの具体的な組み合わせとしては、フェロ
セニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレ−
ト、１，１’−ジメチルフェロセニウムテトラキス（ペ
ンタフルオロフェニル）ボレ−ト、銀テトラキス（ペン
タフルオロフェニル）ボレ−ト、トリフェニルメチルテ
トラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレ−ト、トリフ
ェニルメチルテトラキス（３，５−ビストリフルオロメ
チルフェニル）ボレ−トなどを挙げることができるが、
好ましくは、トリフェニルメチルテトラキス（ペンタフ
ルオロフェニル）ボレ−トである。
【００３２】また、一般式（Ｌ−Ｈ）+ （ＢＱ1 Ｑ2 Ｑ
3 Ｑ4 ）- で表される化合物の具体例としては、ブレン
ステッド酸である（Ｌ−Ｈ）+ は、トリアルキルアンモ
ニウム、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアニリニウム、ジアルキル
アンモニウム、トリアリ−ルホスホニウムなどが挙げら
れ、非配位性アニオンである（ＢＱ1 Ｑ2 Ｑ3 Ｑ4 ） -
としては、前述と同様のものが挙げられる。これらの具
体的な組み合わせとしては、トリエチルアンモニウムテ
トラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレ−ト、トリ
（ノルマルプロピル）アンモニウムテトラキス（ペンタ
フルオロフェニル）ボレ−ト、トリ（ノルマルブチル）
アンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボ
レ−ト、トリ（ノルマルブチル）アンモニウムテトラキ
ス（３，５−ビストリフルオロメチルフェニル）ボレ−
ト、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリニウムテトラキス（ペンタ
フルオロフェニル）ボレ−ト、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリ
ニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレ−
ト、Ｎ，Ｎ−２，４，６−ペンタメチルアニリニウムテ
トラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレ−ト、Ｎ，Ｎ
−ジメチルアニリニウムテトラキス（３，５−ビストリ
フルオロメチルフェニル）ボレ−ト、ジイソプロピルア
ンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレ
−ト、ジシクロヘキシルアンモニウムテトラキス（ペン
タフルオロフェニル）ボレ−ト、トリフェニルホスホニ
ウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレ−ト、
トリ（メチルフェニル）ホスホニウムテトラキス（ペン
タフルオロフェニル）ボレ−ト、トリ（ジメチルフェニ
ル）ホスホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニ
ル）ボレ−トなどを挙げることができるが、好ましく
は、トリ（ノルマルブチル）アンモニウムテトラキス
（ペンタフルオロフェニル）ボレ−ト、もしくは、Ｎ，
Ｎ−ジメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロ
フェニル）ボレ−トである。
3 Ｑ4 ）- で表される化合物の具体例としては、ブレン
ステッド酸である（Ｌ−Ｈ）+ は、トリアルキルアンモ
ニウム、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアニリニウム、ジアルキル
アンモニウム、トリアリ−ルホスホニウムなどが挙げら
れ、非配位性アニオンである（ＢＱ1 Ｑ2 Ｑ3 Ｑ4 ） -
としては、前述と同様のものが挙げられる。これらの具
体的な組み合わせとしては、トリエチルアンモニウムテ
トラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレ−ト、トリ
（ノルマルプロピル）アンモニウムテトラキス（ペンタ
フルオロフェニル）ボレ−ト、トリ（ノルマルブチル）
アンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボ
レ−ト、トリ（ノルマルブチル）アンモニウムテトラキ
ス（３，５−ビストリフルオロメチルフェニル）ボレ−
ト、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリニウムテトラキス（ペンタ
フルオロフェニル）ボレ−ト、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリ
ニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレ−
ト、Ｎ，Ｎ−２，４，６−ペンタメチルアニリニウムテ
トラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレ−ト、Ｎ，Ｎ
−ジメチルアニリニウムテトラキス（３，５−ビストリ
フルオロメチルフェニル）ボレ−ト、ジイソプロピルア
ンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレ
−ト、ジシクロヘキシルアンモニウムテトラキス（ペン
タフルオロフェニル）ボレ−ト、トリフェニルホスホニ
ウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレ−ト、
トリ（メチルフェニル）ホスホニウムテトラキス（ペン
タフルオロフェニル）ボレ−ト、トリ（ジメチルフェニ
ル）ホスホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニ
ル）ボレ−トなどを挙げることができるが、好ましく
は、トリ（ノルマルブチル）アンモニウムテトラキス
（ペンタフルオロフェニル）ボレ−ト、もしくは、Ｎ，
Ｎ−ジメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロ
フェニル）ボレ−トである。
【００３３】３）オレフィン（共）重合体の製法 本発明において、重合触媒として、（１）前記の化合物
（Ａ）及び化合物（Ｂ）、あるいは、化合物（Ａ）、化
合物（Ｂ）及び化合物（Ｃ）を任意の順で重合槽に投入
して用いてもよく、あるいは、（２）前記の化合物
（Ａ）及び化合物（Ｂ）、あるいは、化合物（Ａ）、化
合物（Ｂ）及び化合物（Ｃ）とを、予め接触させて得ら
れた反応物を用いても良い。上記の方法における各触媒
成分の使用量については、重合槽の容積に対して、化合
物（Ａ）が、０．０００１〜１０ミリモル／リットル
で、好ましくは、０．００１〜１ミリモル／リットル、
化合物（Ｂ）が、Ａｌ原子換算で、０．０１〜１０００
ミリモル／リットルで、好ましくは、０．１〜１００ミ
リモル／リットル、化合物（Ｃ）は、０．０００１〜２
０ミリモル／リットルで、好ましくは、０．００１〜２
ミリモル／リットルの範囲にあり、かつ、化合物（Ｂ）
／化合物（Ａ）のモル比が、０．１〜１００００で、好
ましくは、５〜２０００、化合物（Ｃ）／化合物（Ａ）
のモル比が、０．０１〜１０００で、好ましくは、０．
５〜１０の範囲にあるように各成分を用いることが望ま
しい。
（Ａ）及び化合物（Ｂ）、あるいは、化合物（Ａ）、化
合物（Ｂ）及び化合物（Ｃ）を任意の順で重合槽に投入
して用いてもよく、あるいは、（２）前記の化合物
（Ａ）及び化合物（Ｂ）、あるいは、化合物（Ａ）、化
合物（Ｂ）及び化合物（Ｃ）とを、予め接触させて得ら
れた反応物を用いても良い。上記の方法における各触媒
成分の使用量については、重合槽の容積に対して、化合
物（Ａ）が、０．０００１〜１０ミリモル／リットル
で、好ましくは、０．００１〜１ミリモル／リットル、
化合物（Ｂ）が、Ａｌ原子換算で、０．０１〜１０００
ミリモル／リットルで、好ましくは、０．１〜１００ミ
リモル／リットル、化合物（Ｃ）は、０．０００１〜２
０ミリモル／リットルで、好ましくは、０．００１〜２
ミリモル／リットルの範囲にあり、かつ、化合物（Ｂ）
／化合物（Ａ）のモル比が、０．１〜１００００で、好
ましくは、５〜２０００、化合物（Ｃ）／化合物（Ａ）
のモル比が、０．０１〜１０００で、好ましくは、０．
５〜１０の範囲にあるように各成分を用いることが望ま
しい。
【００３４】本発明において、オレフィン（共）重合体
を構成するモノマ−は、１種類以上のオレフィンであ
り、好適に用いられるのはα−オレフィンである。α−
オレフィンとしては、炭素数２〜１０個のものであり、
具体例としては、エチレン、プロピレン、ブテン−１、
４−メチルペンテン−１、ヘキセン−１、オクテン−
１、ビニルシクロヘキサン等が例示されるが、本発明
は、上記化合物に限定されるべきものではない。
を構成するモノマ−は、１種類以上のオレフィンであ
り、好適に用いられるのはα−オレフィンである。α−
オレフィンとしては、炭素数２〜１０個のものであり、
具体例としては、エチレン、プロピレン、ブテン−１、
４−メチルペンテン−１、ヘキセン−１、オクテン−
１、ビニルシクロヘキサン等が例示されるが、本発明
は、上記化合物に限定されるべきものではない。
【００３５】重合方法も、特に限定されるべきものでは
ないが、例えば、溶媒としてブタン、ペンタン、ヘキサ
ン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素、ベンゼ
ン、トルエン等の芳香族炭化水素、又はメチレンクロラ
イド等のハロゲン化炭化水素を用いる溶媒重合又はスラ
リ−重合、ガス状のモノマ−中での、気相重合等が可能
であり、また、連続重合、回分式重合のどちらでも可能
である。重合温度は、−５０℃〜２５０℃の範囲を取り
得るが、特に、−２０℃〜１００℃の範囲が好ましく、
重合圧力は、常圧〜６０ｋｇ／ｃｍ2 が好ましい。重合
時間は、一般的に、目的とするポリマ−の種類、反応装
置により適宜決定されるが、５分間〜２０時間の範囲を
取ることができる。また、本発明は、共重合体の分子量
を調節するために水素等の連鎖移動剤を添加することも
できる。
ないが、例えば、溶媒としてブタン、ペンタン、ヘキサ
ン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素、ベンゼ
ン、トルエン等の芳香族炭化水素、又はメチレンクロラ
イド等のハロゲン化炭化水素を用いる溶媒重合又はスラ
リ−重合、ガス状のモノマ−中での、気相重合等が可能
であり、また、連続重合、回分式重合のどちらでも可能
である。重合温度は、−５０℃〜２５０℃の範囲を取り
得るが、特に、−２０℃〜１００℃の範囲が好ましく、
重合圧力は、常圧〜６０ｋｇ／ｃｍ2 が好ましい。重合
時間は、一般的に、目的とするポリマ−の種類、反応装
置により適宜決定されるが、５分間〜２０時間の範囲を
取ることができる。また、本発明は、共重合体の分子量
を調節するために水素等の連鎖移動剤を添加することも
できる。
【００３６】
【実施例】以下、実施例及び比較例によって本発明をさ
らに詳細に説明するが、本発明は、これらに限定される
ものではない。実施例における重合体の性質は、下記の
方法によって測定した。
らに詳細に説明するが、本発明は、これらに限定される
ものではない。実施例における重合体の性質は、下記の
方法によって測定した。
【００３７】α−オレフィン含有量は、赤外分光光度計
（日本分光工業社製 ＩＲ−８１０）を用いて、エチレ
ンとα−オレフィンの特性吸収より求め、１０００Ｃ当
たりの短鎖分岐数（ＳＣＢ）として表わした。
（日本分光工業社製 ＩＲ−８１０）を用いて、エチレ
ンとα−オレフィンの特性吸収より求め、１０００Ｃ当
たりの短鎖分岐数（ＳＣＢ）として表わした。
【００３８】分子量及び分子量分布は、ゲル・パ−ミュ
エ−ション・クロマトグラフ（ウォ−タ−ズ社製 １５
０，Ｃ）を用い、以下の条件により求めた。 カラム：ＴＳＫ ｇｅｌ ＧＭＨ−ＨＴ 測定温度：１４５℃ 設定 測定濃度：１０ｍｇ／１０ｍｌ−ＯＤＣＢ
エ−ション・クロマトグラフ（ウォ−タ−ズ社製 １５
０，Ｃ）を用い、以下の条件により求めた。 カラム：ＴＳＫ ｇｅｌ ＧＭＨ−ＨＴ 測定温度：１４５℃ 設定 測定濃度：１０ｍｇ／１０ｍｌ−ＯＤＣＢ
【００３９】極限粘度［η］は、ウベロ−デ型粘度計を
用い、１３０℃でテトラリン溶液中で測定した。極限粘
度［η］の値が大きいほど、オレフィン（共）重合体の
分子量は大きい。
用い、１３０℃でテトラリン溶液中で測定した。極限粘
度［η］の値が大きいほど、オレフィン（共）重合体の
分子量は大きい。
【００４０】錯体及び配位子の構造は 1Ｈ−ＮＭＲ測定
（日立社製 Ｒ−１５００）、元素分析（エレメンタル
社製 ＣＨＮ−Ｏ ｒａｐｉｄ型）により確認した。融
点測定には融点測定装置（Ｙａｎａｃｏ社製 ＭＰ−Ｓ
３）を用いた。
（日立社製 Ｒ−１５００）、元素分析（エレメンタル
社製 ＣＨＮ−Ｏ ｒａｐｉｄ型）により確認した。融
点測定には融点測定装置（Ｙａｎａｃｏ社製 ＭＰ−Ｓ
３）を用いた。
【００４１】実施例１ （１）シクロペンタジエニルテトラメチルピロリルジル
コニウムジクロライドの合成 （１−１）２，３，４，５―テトラメチルピロ−ルの合
成 撹拌機、滴下ロ−ト、温度計を備えた１リットル（ｌ）
の４つ口フラスコを、アルゴンで置換した後、３―メチ
ル―２，４―ペンタンジオン３１ｇ（２７０ｍｍｏ
ｌ）、亜鉛粉末３２ｇ（４９０ｍｍｏｌ）、氷酢酸１５
０ｍｌを仕込み、このスラリ―を６０℃に保った。２，
３―ブタンジオン―２―オキシム２５ｇ（２５０ｍｍｏ
ｌ）に氷酢酸８７ｍｌを加えた溶液を滴下漏斗へ移し、
フラスコの温度を６０℃〜８０℃に調節しながら、この
溶液をフラスコへ滴下した。このスラリ―を１時間加熱
環流した後、純水２８０ｍｌを加えた。この混合液に水
蒸気を吹き込み、水蒸気蒸留を行った。得られた白色の
固体を濾過し、純水１００ｍｌを用いて２回、次いで、
ヘキサン１５ｍｌを用いて２回洗浄し、４５℃において
減圧乾燥した。２，３，４，５―テトラメチルピロ−ル
の白色固体１０ｇ（８１ｍｍｏｌ）を得た。（収率３３
％） この白色固体の 1Ｈ−ＮＭＲ（Ｃ6 Ｄ6 ）デ−タを以下
に示す。 δ ２. ０４４（ｓ，６Ｈ），１. ９５６（ｓ，６Ｈ） この白色固体の融点は１１５〜１１８℃であった。
コニウムジクロライドの合成 （１−１）２，３，４，５―テトラメチルピロ−ルの合
成 撹拌機、滴下ロ−ト、温度計を備えた１リットル（ｌ）
の４つ口フラスコを、アルゴンで置換した後、３―メチ
ル―２，４―ペンタンジオン３１ｇ（２７０ｍｍｏ
ｌ）、亜鉛粉末３２ｇ（４９０ｍｍｏｌ）、氷酢酸１５
０ｍｌを仕込み、このスラリ―を６０℃に保った。２，
３―ブタンジオン―２―オキシム２５ｇ（２５０ｍｍｏ
ｌ）に氷酢酸８７ｍｌを加えた溶液を滴下漏斗へ移し、
フラスコの温度を６０℃〜８０℃に調節しながら、この
溶液をフラスコへ滴下した。このスラリ―を１時間加熱
環流した後、純水２８０ｍｌを加えた。この混合液に水
蒸気を吹き込み、水蒸気蒸留を行った。得られた白色の
固体を濾過し、純水１００ｍｌを用いて２回、次いで、
ヘキサン１５ｍｌを用いて２回洗浄し、４５℃において
減圧乾燥した。２，３，４，５―テトラメチルピロ−ル
の白色固体１０ｇ（８１ｍｍｏｌ）を得た。（収率３３
％） この白色固体の 1Ｈ−ＮＭＲ（Ｃ6 Ｄ6 ）デ−タを以下
に示す。 δ ２. ０４４（ｓ，６Ｈ），１. ９５６（ｓ，６Ｈ） この白色固体の融点は１１５〜１１８℃であった。
【００４２】（１−２）２，３，４，５―テトラメチル
ピロリルリチウム塩の合成 撹拌機、滴下ロ−ト、温度計を備えた１００ｍｌの４つ
口フラスコを、アルゴンで置換した後、２，３，４，５
―テトラメチルピロ―ル０．６６ｇ（５．４ｍｍｏ
ｌ）、ジエチルエ―テル３０ｍｌを仕込み、この溶液を
５℃に保った。次に、ヘキサンで希釈したｎ−ブチルリ
チウム（１．６ｍｏｌ／ｌ）３．４ｍｌ（５．４ｍｍｏ
ｌ）を滴下ロートからフラスコ内の溶液へ滴下し、５℃
で１時間、室温で一晩撹拌し続けた。得られたスラリ―
を減圧乾燥し、２，３，４，５―テトラメチルピロリル
リチウム塩の白色固体を得た。
ピロリルリチウム塩の合成 撹拌機、滴下ロ−ト、温度計を備えた１００ｍｌの４つ
口フラスコを、アルゴンで置換した後、２，３，４，５
―テトラメチルピロ―ル０．６６ｇ（５．４ｍｍｏ
ｌ）、ジエチルエ―テル３０ｍｌを仕込み、この溶液を
５℃に保った。次に、ヘキサンで希釈したｎ−ブチルリ
チウム（１．６ｍｏｌ／ｌ）３．４ｍｌ（５．４ｍｍｏ
ｌ）を滴下ロートからフラスコ内の溶液へ滴下し、５℃
で１時間、室温で一晩撹拌し続けた。得られたスラリ―
を減圧乾燥し、２，３，４，５―テトラメチルピロリル
リチウム塩の白色固体を得た。
【００４３】（１−３）シクロペンタジエニルテトラメ
チルピロリルジルコニウムジクロライドの合成 撹拌機、滴下ロ−ト、温度計を備えた１００ｍｌの４つ
口フラスコを、アルゴンで置換した後、シクロペンタジ
エニルジルコニウムトリクロライド１．３ｇ（５．０ｍ
ｍｏｌ）、トルエン２０ｍｌを仕込み、−７０℃に保っ
た。このスラリーを、上記のテトラメチルピロリルリチ
ウム塩（５．４ｍｍｏｌ）にトルエン３０ｍｌを加えて
―７０℃に保ったスラリ−に、カニラ−を用いてゆっく
り加えた。このスラリ―を撹拌し続け、一晩かけて−７
０℃から室温へゆっくり昇温した。昇温後、減圧下、液
体を除去し、固体を得た。この固体にペンタン３０ｍｌ
を加え、ペンタンに可溶な成分を抽出し、不溶な成分を
濾過することにより分離した。ペンタンに可溶な成分
を、−２０℃にて冷却することにより、シクロペンタジ
エニルテトラメチルピロリルジルコニウムジクロライド
のうすい黄色の立方状結晶１２０ｍｇを得た。収率は
６．９％であった。この立方状結晶の 1Ｈ−ＮＭＲ（Ｃ
6 Ｄ6 ）デ−タを以下に示す。 δ ６．２１４（ｓ，５Ｈ）、１．９９５（ｓ，６
Ｈ），１．８１９（ｓ，６Ｈ） この立方状結晶のＣ，Ｈ，Ｎ同時元素分析の結果を以下
に示す。 Ｃ：４４．３％、Ｈ：５．０％、Ｎ：４．０％ この立方状結晶の融点は１１９〜１３５℃であった。
チルピロリルジルコニウムジクロライドの合成 撹拌機、滴下ロ−ト、温度計を備えた１００ｍｌの４つ
口フラスコを、アルゴンで置換した後、シクロペンタジ
エニルジルコニウムトリクロライド１．３ｇ（５．０ｍ
ｍｏｌ）、トルエン２０ｍｌを仕込み、−７０℃に保っ
た。このスラリーを、上記のテトラメチルピロリルリチ
ウム塩（５．４ｍｍｏｌ）にトルエン３０ｍｌを加えて
―７０℃に保ったスラリ−に、カニラ−を用いてゆっく
り加えた。このスラリ―を撹拌し続け、一晩かけて−７
０℃から室温へゆっくり昇温した。昇温後、減圧下、液
体を除去し、固体を得た。この固体にペンタン３０ｍｌ
を加え、ペンタンに可溶な成分を抽出し、不溶な成分を
濾過することにより分離した。ペンタンに可溶な成分
を、−２０℃にて冷却することにより、シクロペンタジ
エニルテトラメチルピロリルジルコニウムジクロライド
のうすい黄色の立方状結晶１２０ｍｇを得た。収率は
６．９％であった。この立方状結晶の 1Ｈ−ＮＭＲ（Ｃ
6 Ｄ6 ）デ−タを以下に示す。 δ ６．２１４（ｓ，５Ｈ）、１．９９５（ｓ，６
Ｈ），１．８１９（ｓ，６Ｈ） この立方状結晶のＣ，Ｈ，Ｎ同時元素分析の結果を以下
に示す。 Ｃ：４４．３％、Ｈ：５．０％、Ｎ：４．０％ この立方状結晶の融点は１１９〜１３５℃であった。
【００４４】（２）エチレンとα−オレフィンの共重合 内容積４００ｍｌの撹拌機付きオ−トクレ−ブを真空乾
燥してアルゴンで置換後、溶媒としてトルエン１７０ｍ
ｌ、α−オレフィンとして、ヘキセン−１を３０ｍｌ仕
込み、反応器を６０℃まで昇温した。昇温後、エチレン
圧を６ｋｇ／ｃｍ2 に調節しながらフィ−ドし、系内が
安定した後、メチルアルミノキサン（東ソ−アクゾ社製
ＭＭＡＯ ｔｙｐｅ３Ａ）５．０ｍｍｏｌを投入し、
続いて上記に示す方法で合成したシクロペンタジエニル
テトラメチルピロリルジルコニウムジクロライド５．０
μｍｏｌをトルエン５ｍｌに溶解した溶液を投入した。
６０℃に温度を調節しながら６０分間重合を行った。重
合の結果、コモノマ−含有量（ＳＣＢ）１４．６、極限
粘度（［η］）２．５６（ｄｌ／ｇ）、分子量（Ｍｗ）
１７９０００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）２．２のエチ
レン−ヘキセン―１共重合体をジルコニウム１ｍｏｌ、
１時間あたり、１．８×１０6 ｇの収量で製造した。
燥してアルゴンで置換後、溶媒としてトルエン１７０ｍ
ｌ、α−オレフィンとして、ヘキセン−１を３０ｍｌ仕
込み、反応器を６０℃まで昇温した。昇温後、エチレン
圧を６ｋｇ／ｃｍ2 に調節しながらフィ−ドし、系内が
安定した後、メチルアルミノキサン（東ソ−アクゾ社製
ＭＭＡＯ ｔｙｐｅ３Ａ）５．０ｍｍｏｌを投入し、
続いて上記に示す方法で合成したシクロペンタジエニル
テトラメチルピロリルジルコニウムジクロライド５．０
μｍｏｌをトルエン５ｍｌに溶解した溶液を投入した。
６０℃に温度を調節しながら６０分間重合を行った。重
合の結果、コモノマ−含有量（ＳＣＢ）１４．６、極限
粘度（［η］）２．５６（ｄｌ／ｇ）、分子量（Ｍｗ）
１７９０００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）２．２のエチ
レン−ヘキセン―１共重合体をジルコニウム１ｍｏｌ、
１時間あたり、１．８×１０6 ｇの収量で製造した。
【００４５】実施例２ （１）エチレンとα−オレフィンの共重合 内容積４００ｍｌの撹拌機付きオ−トクレ−ブを真空乾
燥してアルゴンで置換後、溶媒としてトルエン１７０ｍ
ｌ、α−オレフィンとして、ヘキセン−１を３０ｍｌ仕
込み、反応器を６０℃まで昇温した。昇温後、エチレン
圧を６ｋｇ／ｃｍ2 に調節しながらフィ−ドし、系内が
安定した後、トリイソブチルアルミニウム１．０ｍｍｏ
ｌを投入し、続いて実施例１（１）に示す方法で合成し
たシクロペンタジエニルテトラメチルピロリルジルコニ
ウムジクロライド５．０μｍｏｌをトルエン５ｍｌに溶
解した溶液を投入し、続いてトリフェニルメチルテトラ
キス（ペンタフルオロフェニル）ボレ−ト１５μｍｏｌ
を投入した。６０℃に温度を調節しながら６０分間重合
を行った。重合の結果、ＳＣＢ＝１３．０、［η］＝
３．６１（ｄｌ／ｇ）、Ｍｗ＝２５１０００、Ｍｗ／Ｍ
ｎ＝２．８のエチレン−ヘキセン―１共重合体をジルコ
ニウム１ｍｏｌ、１時間あたり、１．１×１０6 ｇの収
量で製造した。
燥してアルゴンで置換後、溶媒としてトルエン１７０ｍ
ｌ、α−オレフィンとして、ヘキセン−１を３０ｍｌ仕
込み、反応器を６０℃まで昇温した。昇温後、エチレン
圧を６ｋｇ／ｃｍ2 に調節しながらフィ−ドし、系内が
安定した後、トリイソブチルアルミニウム１．０ｍｍｏ
ｌを投入し、続いて実施例１（１）に示す方法で合成し
たシクロペンタジエニルテトラメチルピロリルジルコニ
ウムジクロライド５．０μｍｏｌをトルエン５ｍｌに溶
解した溶液を投入し、続いてトリフェニルメチルテトラ
キス（ペンタフルオロフェニル）ボレ−ト１５μｍｏｌ
を投入した。６０℃に温度を調節しながら６０分間重合
を行った。重合の結果、ＳＣＢ＝１３．０、［η］＝
３．６１（ｄｌ／ｇ）、Ｍｗ＝２５１０００、Ｍｗ／Ｍ
ｎ＝２．８のエチレン−ヘキセン―１共重合体をジルコ
ニウム１ｍｏｌ、１時間あたり、１．１×１０6 ｇの収
量で製造した。
【００４６】実施例３ （１）エチレンとα−オレフィンの共重合 内容積４００ｍｌの撹拌機付きオ−トクレ−ブを真空乾
燥してアルゴンで置換後、溶媒としてトルエン１７０ｍ
ｌ、α−オレフィンとして、ヘキセン−１を３０ｍｌ仕
込み、反応器を６０℃まで昇温した。昇温後、エチレン
圧を６ｋｇ／ｃｍ2 に調節しながらフィ−ドし、系内が
安定した後、トリイソブチルアルミニウム１．０ｍｍｏ
ｌを投入し、続いて実施例１（１）に示す方法で合成し
たシクロペンタジエニルテトラメチルピロリルジルコニ
ウムジクロライド５．０μｍｏｌをトルエン５ｍｌに溶
解した溶液を投入し、１０分後にトリフェニルメチルテ
トラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレ−ト１５μｍ
ｏｌを投入した。６０℃に温度を調節しながら６０分間
重合を行った。重合の結果、ＳＣＢ＝２４．９、［η］
＝３．１７（ｄｌ／ｇ）のエチレン−ヘキセン―１共重
合体をジルコニウム１ｍｏｌ、１時間あたり、１．４×
１０6ｇの収量で製造した。
燥してアルゴンで置換後、溶媒としてトルエン１７０ｍ
ｌ、α−オレフィンとして、ヘキセン−１を３０ｍｌ仕
込み、反応器を６０℃まで昇温した。昇温後、エチレン
圧を６ｋｇ／ｃｍ2 に調節しながらフィ−ドし、系内が
安定した後、トリイソブチルアルミニウム１．０ｍｍｏ
ｌを投入し、続いて実施例１（１）に示す方法で合成し
たシクロペンタジエニルテトラメチルピロリルジルコニ
ウムジクロライド５．０μｍｏｌをトルエン５ｍｌに溶
解した溶液を投入し、１０分後にトリフェニルメチルテ
トラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレ−ト１５μｍ
ｏｌを投入した。６０℃に温度を調節しながら６０分間
重合を行った。重合の結果、ＳＣＢ＝２４．９、［η］
＝３．１７（ｄｌ／ｇ）のエチレン−ヘキセン―１共重
合体をジルコニウム１ｍｏｌ、１時間あたり、１．４×
１０6ｇの収量で製造した。
【００４７】実施例４ （１）エチレンとα−オレフィンの共重合 内容積４００ｍｌの撹拌機付きオ−トクレ−ブを真空乾
燥してアルゴンで置換後、溶媒としてトルエン１７０ｍ
ｌ、α−オレフィンとして、ヘキセン−１を３０ｍｌ仕
込み、反応器を６０℃まで昇温した。昇温後、エチレン
圧を６ｋｇ／ｃｍ2 に調節しながらフィ−ドし、系内が
安定した後、トリイソブチルアルミニウム１．０ｍｍｏ
ｌを投入し、続いて実施例１（１）に示す方法で合成し
たシクロペンタジエニルテトラメチルピロリルジルコニ
ウムジクロライド５．０μｍｏｌをトルエン５ｍｌに溶
解した溶液を投入し、３０分後にトリフェニルメチルテ
トラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレ−ト１５μｍ
ｏｌを投入した。６０℃に温度を調節しながら６０分間
重合を行った。重合の結果、ＳＣＢ＝２５．４であり、
１３０℃テトラリンに溶解しないほど高分子量のエチレ
ン−ヘキセン―１共重合体をジルコニウム１ｍｏｌ、１
時間あたり、１．３×１０6 ｇの収量で製造した。
燥してアルゴンで置換後、溶媒としてトルエン１７０ｍ
ｌ、α−オレフィンとして、ヘキセン−１を３０ｍｌ仕
込み、反応器を６０℃まで昇温した。昇温後、エチレン
圧を６ｋｇ／ｃｍ2 に調節しながらフィ−ドし、系内が
安定した後、トリイソブチルアルミニウム１．０ｍｍｏ
ｌを投入し、続いて実施例１（１）に示す方法で合成し
たシクロペンタジエニルテトラメチルピロリルジルコニ
ウムジクロライド５．０μｍｏｌをトルエン５ｍｌに溶
解した溶液を投入し、３０分後にトリフェニルメチルテ
トラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレ−ト１５μｍ
ｏｌを投入した。６０℃に温度を調節しながら６０分間
重合を行った。重合の結果、ＳＣＢ＝２５．４であり、
１３０℃テトラリンに溶解しないほど高分子量のエチレ
ン−ヘキセン―１共重合体をジルコニウム１ｍｏｌ、１
時間あたり、１．３×１０6 ｇの収量で製造した。
【００４８】実施例５ （１）エチレンとα−オレフィンの共重合 内容積４００ｍｌの撹拌機付きオ−トクレ−ブを真空乾
燥してアルゴンで置換後、溶媒としてトルエン１７０ｍ
ｌ、α−オレフィンとして、ヘキセン−１を３０ｍｌ仕
込み、反応器を８０℃まで昇温した。昇温後、エチレン
圧を６ｋｇ／ｃｍ2 に調節しながらフィ−ドし、系内が
安定した後、トリイソブチルアルミニウム１．０ｍｍｏ
ｌを投入し、続いて実施例１（１）に示す方法で合成し
たシクロペンタジエニルテトラメチルピロリルジルコニ
ウムジクロライド５．０μｍｏｌをトルエン５ｍｌに溶
解した溶液を投入し、続いてトリフェニルメチルテトラ
キス（ペンタフルオロフェニル）ボレ−ト１５μｍｏｌ
を投入した。８０℃に温度を調節しながら２０分間重合
を行った。重合の結果、ＳＣＢ＝１３．１、［η］＝
２．３５（ｄｌ／ｇ）のエチレン−ヘキセン―１共重合
体をジルコニウム１ｍｏｌ、１時間あたり、２．９×１
０6ｇの収量で製造した。
燥してアルゴンで置換後、溶媒としてトルエン１７０ｍ
ｌ、α−オレフィンとして、ヘキセン−１を３０ｍｌ仕
込み、反応器を８０℃まで昇温した。昇温後、エチレン
圧を６ｋｇ／ｃｍ2 に調節しながらフィ−ドし、系内が
安定した後、トリイソブチルアルミニウム１．０ｍｍｏ
ｌを投入し、続いて実施例１（１）に示す方法で合成し
たシクロペンタジエニルテトラメチルピロリルジルコニ
ウムジクロライド５．０μｍｏｌをトルエン５ｍｌに溶
解した溶液を投入し、続いてトリフェニルメチルテトラ
キス（ペンタフルオロフェニル）ボレ−ト１５μｍｏｌ
を投入した。８０℃に温度を調節しながら２０分間重合
を行った。重合の結果、ＳＣＢ＝１３．１、［η］＝
２．３５（ｄｌ／ｇ）のエチレン−ヘキセン―１共重合
体をジルコニウム１ｍｏｌ、１時間あたり、２．９×１
０6ｇの収量で製造した。
【００４９】実施例６ （１）ペンタメチルシクロペンタジエニルテトラメチル
ピロリルジルコニウムジクロライドの合成 撹拌機、滴下ロ−ト、温度計を備えた１００ｍｌの４つ
口フラスコを、アルゴンで置換した後、ペンタメチルシ
クロペンタジエニルジルコニウムトリクロライド１．１
ｇ（３．３ｍｍｏｌ）、トルエン１０ｍｌを仕込み、こ
のスラリ―を、−７０℃に保った。次に、実施例１（１
−２）と同様の方法で合成したテトラメチルピロリルリ
チウム塩（３．３ｍｍｏｌ）にトルエン２０ｍｌを加え
て―７０℃に保ったスラリ−に、このスラリ―をカニラ
−を用いてゆっくり加えた。このスラリ―を撹拌し続
け、一晩かけて−７０℃から室温へゆっくり昇温した。
昇温後、減圧下、液体を除去し、固体を得た。この固体
にペンタン３０ｍｌを加え、ペンタンに可溶な成分を抽
出し、不溶な成分を濾過することにより分離した。ペン
タンに可溶な成分を、−２０℃にて冷却することによ
り、ペンタメチルシクロペンタジエニルテトラメチルピ
ロリルジルコニウムジクロライドのうすい黄色の立方状
結晶２４０ｍｇを得た。収率は１７％であった。この立
方状結晶の 1Ｈ−ＮＭＲ（Ｃ6 Ｄ6 ）デ−タを以下に示
す。 δ ２．０３４（ｓ，１５Ｈ）、１．９５６（ｓ，６
Ｈ），１．９１７（ｓ，６Ｈ） この立方状結晶のＣ，Ｈ，Ｎ同時元素分析の結果を以下
に示す。 Ｃ：５１．４％、Ｈ：６．６％、Ｎ：３．３％ この立方状結晶の融点は１８０〜１８７℃であった。
ピロリルジルコニウムジクロライドの合成 撹拌機、滴下ロ−ト、温度計を備えた１００ｍｌの４つ
口フラスコを、アルゴンで置換した後、ペンタメチルシ
クロペンタジエニルジルコニウムトリクロライド１．１
ｇ（３．３ｍｍｏｌ）、トルエン１０ｍｌを仕込み、こ
のスラリ―を、−７０℃に保った。次に、実施例１（１
−２）と同様の方法で合成したテトラメチルピロリルリ
チウム塩（３．３ｍｍｏｌ）にトルエン２０ｍｌを加え
て―７０℃に保ったスラリ−に、このスラリ―をカニラ
−を用いてゆっくり加えた。このスラリ―を撹拌し続
け、一晩かけて−７０℃から室温へゆっくり昇温した。
昇温後、減圧下、液体を除去し、固体を得た。この固体
にペンタン３０ｍｌを加え、ペンタンに可溶な成分を抽
出し、不溶な成分を濾過することにより分離した。ペン
タンに可溶な成分を、−２０℃にて冷却することによ
り、ペンタメチルシクロペンタジエニルテトラメチルピ
ロリルジルコニウムジクロライドのうすい黄色の立方状
結晶２４０ｍｇを得た。収率は１７％であった。この立
方状結晶の 1Ｈ−ＮＭＲ（Ｃ6 Ｄ6 ）デ−タを以下に示
す。 δ ２．０３４（ｓ，１５Ｈ）、１．９５６（ｓ，６
Ｈ），１．９１７（ｓ，６Ｈ） この立方状結晶のＣ，Ｈ，Ｎ同時元素分析の結果を以下
に示す。 Ｃ：５１．４％、Ｈ：６．６％、Ｎ：３．３％ この立方状結晶の融点は１８０〜１８７℃であった。
【００５０】（２）エチレンとα−オレフィンの共重合 内容積４００ｍｌの撹拌機付きオ−トクレ−ブを真空乾
燥してアルゴンで置換後、溶媒としてトルエン１７０ｍ
ｌ、α−オレフィンとしてヘキセン−１を３０ｍｌ仕込
み、反応器を６０℃まで昇温した。昇温後、エチレン圧
を６ｋｇ／ｃｍ 2 に調節しながらフィ−ドし、系内が安
定した後、トリイソブチルアルミニウム０．６ｍｍｏｌ
を投入し、続いて上記に示す方法で合成したペンタメチ
ルシクロペンタジエニルテトラメチルピロリルジルコニ
ウムジクロライド３．０μｍｏｌをトルエン３ｍｌに溶
解した溶液を投入し、続いてトリフェニルメチルテトラ
キス（ペンタフルオロフェニル）ボレ−ト９．０μｍｏ
ｌを投入した。６０℃に温度を調節しながら３０分間重
合を行った。重合の結果、ＳＣＢ＝１３．４、［η］＝
５．６７（ｄｌ／ｇ）、Ｍｗ＝４２５０００、Ｍｗ／Ｍ
ｎ＝３．５のエチレン―ヘキセン―１共重合体をジルコ
ニウム１ｍｏｌ、１時間あたり、４．４×１０6 ｇの収
量で製造した。
燥してアルゴンで置換後、溶媒としてトルエン１７０ｍ
ｌ、α−オレフィンとしてヘキセン−１を３０ｍｌ仕込
み、反応器を６０℃まで昇温した。昇温後、エチレン圧
を６ｋｇ／ｃｍ 2 に調節しながらフィ−ドし、系内が安
定した後、トリイソブチルアルミニウム０．６ｍｍｏｌ
を投入し、続いて上記に示す方法で合成したペンタメチ
ルシクロペンタジエニルテトラメチルピロリルジルコニ
ウムジクロライド３．０μｍｏｌをトルエン３ｍｌに溶
解した溶液を投入し、続いてトリフェニルメチルテトラ
キス（ペンタフルオロフェニル）ボレ−ト９．０μｍｏ
ｌを投入した。６０℃に温度を調節しながら３０分間重
合を行った。重合の結果、ＳＣＢ＝１３．４、［η］＝
５．６７（ｄｌ／ｇ）、Ｍｗ＝４２５０００、Ｍｗ／Ｍ
ｎ＝３．５のエチレン―ヘキセン―１共重合体をジルコ
ニウム１ｍｏｌ、１時間あたり、４．４×１０6 ｇの収
量で製造した。
【００５１】実施例７ （１）エチレンとα−オレフィンの共重合 内容積４００ｍｌの撹拌機付きオ−トクレ−ブを真空乾
燥してアルゴンで置換後溶媒としてトルエン１７０ｍ
ｌ、α−オレフィンとして、ヘキセン−１を３０ｍｌ仕
込み、反応器を８０℃まで昇温した。昇温後、エチレン
圧を６ｋｇ／ｃｍ 2 に調節しながらフィ−ドし、系内が
安定した後、トリイソブチルアルミニウム０．６ｍｍｏ
ｌを投入し、続いて実施例６（１）に示す方法で合成し
たペンタメチルシクロペンタジエニルテトラメチルピロ
リルジルコニウムジクロライド３．０μｍｏｌをトルエ
ン３ｍｌに溶解した溶液を投入し、続いてトリフェニル
メチルテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレ−ト
９．０μｍｏｌを投入した。８０℃に温度を調節しなが
ら３０分間重合を行った。重合の結果、ＳＣＢ＝１４．
１、［η］＝３．１６（ｄｌ／ｇ）のエチレン―ヘキセ
ン―１共重合体をジルコニウム１ｍｏｌ、１時間あた
り、３．６×１０6ｇの収量で製造した。
燥してアルゴンで置換後溶媒としてトルエン１７０ｍ
ｌ、α−オレフィンとして、ヘキセン−１を３０ｍｌ仕
込み、反応器を８０℃まで昇温した。昇温後、エチレン
圧を６ｋｇ／ｃｍ 2 に調節しながらフィ−ドし、系内が
安定した後、トリイソブチルアルミニウム０．６ｍｍｏ
ｌを投入し、続いて実施例６（１）に示す方法で合成し
たペンタメチルシクロペンタジエニルテトラメチルピロ
リルジルコニウムジクロライド３．０μｍｏｌをトルエ
ン３ｍｌに溶解した溶液を投入し、続いてトリフェニル
メチルテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレ−ト
９．０μｍｏｌを投入した。８０℃に温度を調節しなが
ら３０分間重合を行った。重合の結果、ＳＣＢ＝１４．
１、［η］＝３．１６（ｄｌ／ｇ）のエチレン―ヘキセ
ン―１共重合体をジルコニウム１ｍｏｌ、１時間あた
り、３．６×１０6ｇの収量で製造した。
【００５２】実施例８ （１）エチレン（１−インデニル）（３−インドリル）
ジルコニウムジクロライドの合成 （１−１）インデニルリチウム塩の合成 撹拌機、滴下ロ−ト、温度計を備えた５００ｍｌの４つ
口フラスコを、アルゴンで置換した後、インデン２５ｇ
（２２０ｍｍｏｌ）、ジエチルエーテル２００ｍｌを仕
込み、この溶液を５℃に保った。次に、ヘキサンで希釈
したｎ−ブチルリチウム（１．６ｍｏｌ／ｌ）１４０ｍ
ｌ（２２０ｍｍｏｌ）を滴下ロートからフラスコ内の溶
液に１６０分間かけて滴下した。このスラリ―を５℃で
１時間、室温で一晩撹拌し続けた。このスラリーを濾過
し、得られた固体をヘキサン１５０ｍｌで２回洗浄し、
減圧乾燥した。インデニルリチウム塩のうすい黄色粉末
２４ｇを得た。収率は８９％であった。
ジルコニウムジクロライドの合成 （１−１）インデニルリチウム塩の合成 撹拌機、滴下ロ−ト、温度計を備えた５００ｍｌの４つ
口フラスコを、アルゴンで置換した後、インデン２５ｇ
（２２０ｍｍｏｌ）、ジエチルエーテル２００ｍｌを仕
込み、この溶液を５℃に保った。次に、ヘキサンで希釈
したｎ−ブチルリチウム（１．６ｍｏｌ／ｌ）１４０ｍ
ｌ（２２０ｍｍｏｌ）を滴下ロートからフラスコ内の溶
液に１６０分間かけて滴下した。このスラリ―を５℃で
１時間、室温で一晩撹拌し続けた。このスラリーを濾過
し、得られた固体をヘキサン１５０ｍｌで２回洗浄し、
減圧乾燥した。インデニルリチウム塩のうすい黄色粉末
２４ｇを得た。収率は８９％であった。
【００５３】（１−２）１−（３−インドリル）−２−
（１−インデニル）エタンの合成 撹拌機、滴下ロ−ト、温度計を備えた３００ｍｌの４つ
口フラスコを、アルゴンで置換した後、３−（２−ブロ
モエチル）インドール１．６ｇ（７．３ｍｍｏｌ）、テ
トラヒドロフラン６０ｍｌを仕込み、この溶液を５℃に
保った。上記のように合成したインデニルリチウム塩
２．８ｇ（２３ｍｍｏｌ）にテトラヒドロフラン５０ｍ
ｌを加えた溶液を滴下ロートからフラスコ内の溶液にゆ
っくり滴下し、５℃で３０分間、室温で一晩撹拌し続け
た。この緑色の溶液を減圧下、液体を除去し、オイルを
得た。このオイルにトルエン８０ｍｌ及び純水２０ｍｌ
を加え、分液ロートによりトルエン層を取り出した。さ
らに、トルエン８０ｍｌ、５０ｍｌを用いて抽出を行
い、トルエン層を合わせて、純水５０ｍｌで洗浄した。
得られたトルエン層を減圧下、溶媒を濃縮し、−２０℃
にて冷却することにより、１−（３−インドリル）−２
−（１−インデニル）エタンのクリーム色の結晶１．８
ｇを得た。収率は９３％であった。この結晶の 1Ｈ−Ｎ
ＭＲ（Ｃ6 Ｄ6 ）デ−タを以下に示す。 δ ７．６９８（ｍ，２Ｈ）、７．２００（ｍ）、６．
４８７（ｓ，１Ｈ）、６．０７７（ｓ，１Ｈ）、３．０
９８（ｓ，４Ｈ）、２．１５１（ｓ，１Ｈ）
（１−インデニル）エタンの合成 撹拌機、滴下ロ−ト、温度計を備えた３００ｍｌの４つ
口フラスコを、アルゴンで置換した後、３−（２−ブロ
モエチル）インドール１．６ｇ（７．３ｍｍｏｌ）、テ
トラヒドロフラン６０ｍｌを仕込み、この溶液を５℃に
保った。上記のように合成したインデニルリチウム塩
２．８ｇ（２３ｍｍｏｌ）にテトラヒドロフラン５０ｍ
ｌを加えた溶液を滴下ロートからフラスコ内の溶液にゆ
っくり滴下し、５℃で３０分間、室温で一晩撹拌し続け
た。この緑色の溶液を減圧下、液体を除去し、オイルを
得た。このオイルにトルエン８０ｍｌ及び純水２０ｍｌ
を加え、分液ロートによりトルエン層を取り出した。さ
らに、トルエン８０ｍｌ、５０ｍｌを用いて抽出を行
い、トルエン層を合わせて、純水５０ｍｌで洗浄した。
得られたトルエン層を減圧下、溶媒を濃縮し、−２０℃
にて冷却することにより、１−（３−インドリル）−２
−（１−インデニル）エタンのクリーム色の結晶１．８
ｇを得た。収率は９３％であった。この結晶の 1Ｈ−Ｎ
ＭＲ（Ｃ6 Ｄ6 ）デ−タを以下に示す。 δ ７．６９８（ｍ，２Ｈ）、７．２００（ｍ）、６．
４８７（ｓ，１Ｈ）、６．０７７（ｓ，１Ｈ）、３．０
９８（ｓ，４Ｈ）、２．１５１（ｓ，１Ｈ）
【００５４】（１−３）１−（３−インドリル）−２−
（１−インデニル）エタンリチウム塩の合成 撹拌機、滴下ロ−ト、温度計を備えた５００ｍｌの４つ
口フラスコを、アルゴンで置換した後、１−（３−イン
ドリル）−２−（１−インデニル）エタン２．２ｇ
（８．４ｍｍｏｌ）、トルエン２５０ｍｌを仕込み、こ
の溶液を５℃に保った。次に、ヘキサンで希釈したｎ−
ブチルリチウム（１．６ｍｏｌ／ｌ）１１ｍｌ（１７ｍ
ｍｏｌ）を滴下ロートからフラスコ内の溶液に１０分間
かけて滴下した。このスラリ―を５℃で１時間、室温で
一晩撹拌し続けた。このスラリーを濾過し、得られた固
体をトルエン３０ｍｌで洗浄し、減圧乾燥した。１−
（３−インドリル）−２−（１−インデニル）エタンリ
チウム塩のうすい黄色粉末２．０ｇを得た。収率は８８
％であった。
（１−インデニル）エタンリチウム塩の合成 撹拌機、滴下ロ−ト、温度計を備えた５００ｍｌの４つ
口フラスコを、アルゴンで置換した後、１−（３−イン
ドリル）−２−（１−インデニル）エタン２．２ｇ
（８．４ｍｍｏｌ）、トルエン２５０ｍｌを仕込み、こ
の溶液を５℃に保った。次に、ヘキサンで希釈したｎ−
ブチルリチウム（１．６ｍｏｌ／ｌ）１１ｍｌ（１７ｍ
ｍｏｌ）を滴下ロートからフラスコ内の溶液に１０分間
かけて滴下した。このスラリ―を５℃で１時間、室温で
一晩撹拌し続けた。このスラリーを濾過し、得られた固
体をトルエン３０ｍｌで洗浄し、減圧乾燥した。１−
（３−インドリル）−２−（１−インデニル）エタンリ
チウム塩のうすい黄色粉末２．０ｇを得た。収率は８８
％であった。
【００５５】（１−４）エチレン（１−インデニル）
（３−インドリル）ジルコニウムジクロライドの合成 撹拌機、滴下ロ−ト、温度計を備えた２００ｍｌの４つ
口フラスコを、アルゴンで置換した後、１−（３−イン
ドリル）−２−（１−インデニル）エタンリチウム塩
１．１ｇ（４．１ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン５０
ｍｌを仕込み、このスラリ―を−７０℃に保った。次
に、四塩化ジルコニウムのテトラヒドロフラン錯体１．
８ｇ（４．８ｍｍｏｌ）にテトラヒドロフラン３０ｍｌ
を加えて―７０℃に保ったスラリ−を、カニラ−を用い
てゆっくりフラスコ内のスラリーに加えた。このスラリ
―を撹拌し続け、一晩かけて−７０℃から室温へゆっく
り昇温した。昇温後、減圧下、液体を除去し、固体を得
た。この固体にトルエン５０ｍｌを加え、トルエンに可
溶な成分を抽出し、濾過した。残さにジクロロメタン３
０ｍｌを加え、ジクロロメタンに可溶な成分を抽出し、
不溶な成分を濾過することにより分離した。ジクロロメ
タンに可溶な成分を減圧下、液体を除去し、オレンジ色
の固体、エチレン（１−インデニル）（３−インドリ
ル）ジルコニウムジクロライド３０ｍｇを得た。収率は
１．７％であった。このオレンジ色固体の 1Ｈ−ＮＭＲ
（Ｃ6 Ｄ6 ）デ−タを以下に示す。 δ ７．９３２（ｍ）、７．２８８（ｍ）、６．３８０
（ｓ）、３．８０２（ｂｒ）、３．１１８（ｂｒ）、
２．１７１（ｓ）、１．３８９（ｂｒ）
（３−インドリル）ジルコニウムジクロライドの合成 撹拌機、滴下ロ−ト、温度計を備えた２００ｍｌの４つ
口フラスコを、アルゴンで置換した後、１−（３−イン
ドリル）−２−（１−インデニル）エタンリチウム塩
１．１ｇ（４．１ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン５０
ｍｌを仕込み、このスラリ―を−７０℃に保った。次
に、四塩化ジルコニウムのテトラヒドロフラン錯体１．
８ｇ（４．８ｍｍｏｌ）にテトラヒドロフラン３０ｍｌ
を加えて―７０℃に保ったスラリ−を、カニラ−を用い
てゆっくりフラスコ内のスラリーに加えた。このスラリ
―を撹拌し続け、一晩かけて−７０℃から室温へゆっく
り昇温した。昇温後、減圧下、液体を除去し、固体を得
た。この固体にトルエン５０ｍｌを加え、トルエンに可
溶な成分を抽出し、濾過した。残さにジクロロメタン３
０ｍｌを加え、ジクロロメタンに可溶な成分を抽出し、
不溶な成分を濾過することにより分離した。ジクロロメ
タンに可溶な成分を減圧下、液体を除去し、オレンジ色
の固体、エチレン（１−インデニル）（３−インドリ
ル）ジルコニウムジクロライド３０ｍｇを得た。収率は
１．７％であった。このオレンジ色固体の 1Ｈ−ＮＭＲ
（Ｃ6 Ｄ6 ）デ−タを以下に示す。 δ ７．９３２（ｍ）、７．２８８（ｍ）、６．３８０
（ｓ）、３．８０２（ｂｒ）、３．１１８（ｂｒ）、
２．１７１（ｓ）、１．３８９（ｂｒ）
【００５６】（２）エチレンとα−オレフィンの共重合 実施例６（２）において、ペンタメチルシクロペンタジ
エニルテトラメチルピロリルジルコニウムジクロライド
をエチレン（１−インデニル）（３−インドリル）ジル
コニウムジクロライドに変え、重合時間を１０分間に変
えた以外は同様にして重合を行った。重合の結果、ＳＣ
Ｂ＝２２．７、［η］＝１．１５（ｄｌ／ｇ）、Ｍｗ＝
６６０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝３．８のエチレン―ヘキセン
―１共重合体をジルコニウム１ｍｏｌ、１時間あたり、
２．４×１０7 ｇの収量で製造した。
エニルテトラメチルピロリルジルコニウムジクロライド
をエチレン（１−インデニル）（３−インドリル）ジル
コニウムジクロライドに変え、重合時間を１０分間に変
えた以外は同様にして重合を行った。重合の結果、ＳＣ
Ｂ＝２２．７、［η］＝１．１５（ｄｌ／ｇ）、Ｍｗ＝
６６０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝３．８のエチレン―ヘキセン
―１共重合体をジルコニウム１ｍｏｌ、１時間あたり、
２．４×１０7 ｇの収量で製造した。
【００５７】実施例９ （１）エチレンとα−オレフィンの共重合 内容積４００ｍｌの撹拌機付きオ−トクレ−ブを真空乾
燥してアルゴンで置換後溶媒としてトルエン１７０ｍ
ｌ、α−オレフィンとして、ヘキセン−１を３０ｍｌ仕
込み、反応器を６０℃まで昇温した。昇温後、エチレン
圧を６ｋｇ／ｃｍ 2 に調節しながらフィ−ドし、系内が
安定した後、トリイソブチルアルミニウム０．３ｍｍｏ
ｌを投入し、続いて実施例８（１）に示す方法で合成し
たエチレン（１−インデニル）（３−インドリル）ジル
コニウムジクロライド１．０μｍｏｌをトルエン２ｍｌ
に溶解した溶液を投入し、続いてトリフェニルメチルテ
トラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレ−ト３．０μ
ｍｏｌを投入した。６０℃に温度を調節しながら６０分
間重合を行った。重合の結果、ＳＣＢ＝１２．８、
［η］＝１．８４（ｄｌ／ｇ）のエチレン―ヘキセン―
１共重合体をジルコニウム１ｍｏｌ、１時間あたり、
７．７×１０6ｇの収量で製造した。
燥してアルゴンで置換後溶媒としてトルエン１７０ｍ
ｌ、α−オレフィンとして、ヘキセン−１を３０ｍｌ仕
込み、反応器を６０℃まで昇温した。昇温後、エチレン
圧を６ｋｇ／ｃｍ 2 に調節しながらフィ−ドし、系内が
安定した後、トリイソブチルアルミニウム０．３ｍｍｏ
ｌを投入し、続いて実施例８（１）に示す方法で合成し
たエチレン（１−インデニル）（３−インドリル）ジル
コニウムジクロライド１．０μｍｏｌをトルエン２ｍｌ
に溶解した溶液を投入し、続いてトリフェニルメチルテ
トラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレ−ト３．０μ
ｍｏｌを投入した。６０℃に温度を調節しながら６０分
間重合を行った。重合の結果、ＳＣＢ＝１２．８、
［η］＝１．８４（ｄｌ／ｇ）のエチレン―ヘキセン―
１共重合体をジルコニウム１ｍｏｌ、１時間あたり、
７．７×１０6ｇの収量で製造した。
【００５８】実施例１０ （１）エチレン（１−インデニル）（３−インドリル）
チタニウムジクロライドの合成 撹拌機、滴下ロ−ト、温度計を備えた１００ｍｌの４つ
口フラスコを、アルゴンで置換した後、実施例８（１−
３）と同様に合成した１−（３−インドリル）−２−
（１−インデニル）エタンリチウム塩０．３５ｇ（１．
３ｍｍｏｌ）、トルエン２０ｍｌを仕込み、このスラリ
―を−７０℃に保った。次に、四塩化チタニウムのテト
ラヒドロフラン錯体０．４７ｇ（１．４ｍｍｏｌ）にト
ルエン２０ｍｌを加えて―７０℃に保ったスラリ−を、
カニラ−を用いてゆっくりフラスコ内のスラリーに加え
た。このスラリ―を撹拌し続け、一晩かけて−７０℃か
ら室温へゆっくり昇温した。昇温後、減圧下、液体を除
去し、固体を得た。この固体にジクロロメタン３０ｍｌ
を加え、ジクロロメタンに可溶な成分を抽出し、不溶な
成分を濾過することにより分離した。ジクロロメタンに
可溶な成分を−２０℃に冷却することにより、黒色の固
体、エチレン（１−インデニル）（３−インドリル）チ
タニウムジクロライド２８ｍｇを得た。収率は５．７％
であった。この黒色固体の 1Ｈ−ＮＭＲ（Ｃ6 Ｄ6 ）デ
−タを以下に示す。 δ ７．６００（ｍ）、６．４３８（ｍ）、５．８８２
（ｂｒ）、３．８８９（ｂｒ）、２．９４２（ｂｒ）、
２．１６１（ｓ）、１．４５８（ｂｒ）
チタニウムジクロライドの合成 撹拌機、滴下ロ−ト、温度計を備えた１００ｍｌの４つ
口フラスコを、アルゴンで置換した後、実施例８（１−
３）と同様に合成した１−（３−インドリル）−２−
（１−インデニル）エタンリチウム塩０．３５ｇ（１．
３ｍｍｏｌ）、トルエン２０ｍｌを仕込み、このスラリ
―を−７０℃に保った。次に、四塩化チタニウムのテト
ラヒドロフラン錯体０．４７ｇ（１．４ｍｍｏｌ）にト
ルエン２０ｍｌを加えて―７０℃に保ったスラリ−を、
カニラ−を用いてゆっくりフラスコ内のスラリーに加え
た。このスラリ―を撹拌し続け、一晩かけて−７０℃か
ら室温へゆっくり昇温した。昇温後、減圧下、液体を除
去し、固体を得た。この固体にジクロロメタン３０ｍｌ
を加え、ジクロロメタンに可溶な成分を抽出し、不溶な
成分を濾過することにより分離した。ジクロロメタンに
可溶な成分を−２０℃に冷却することにより、黒色の固
体、エチレン（１−インデニル）（３−インドリル）チ
タニウムジクロライド２８ｍｇを得た。収率は５．７％
であった。この黒色固体の 1Ｈ−ＮＭＲ（Ｃ6 Ｄ6 ）デ
−タを以下に示す。 δ ７．６００（ｍ）、６．４３８（ｍ）、５．８８２
（ｂｒ）、３．８８９（ｂｒ）、２．９４２（ｂｒ）、
２．１６１（ｓ）、１．４５８（ｂｒ）
【００５９】（２）エチレンとα−オレフィンの共重合 実施例６（２）において、ペンタメチルシクロペンタジ
エニルテトラメチルピロリルジルコニウムジクロライド
をエチレン（１−インデニル）（３−インドリル）チタ
ニウムジクロライドに変え、重合時間を６０分間に変え
た以外は同様にして重合を行った。重合の結果、ＳＣＢ
＝２２．９、［η］＝２．４５（ｄｌ／ｇ）、Ｍｗ＝８
４０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝２．６のエチレン―ヘキセン―
１共重合体をチタニウム１ｍｏｌ、１時間あたり、１．
７×１０6 ｇの収量で製造した。
エニルテトラメチルピロリルジルコニウムジクロライド
をエチレン（１−インデニル）（３−インドリル）チタ
ニウムジクロライドに変え、重合時間を６０分間に変え
た以外は同様にして重合を行った。重合の結果、ＳＣＢ
＝２２．９、［η］＝２．４５（ｄｌ／ｇ）、Ｍｗ＝８
４０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝２．６のエチレン―ヘキセン―
１共重合体をチタニウム１ｍｏｌ、１時間あたり、１．
７×１０6 ｇの収量で製造した。
【００６０】実施例１１ （１）エチレンとα−オレフィンの共重合 実施例７において、ペンタメチルシクロペンタジエニル
テトラメチルピロリルジルコニウムジクロライドをエチ
レン（１−インデニル）（３−インドリル）チタニウム
ジクロライドに変え、重合時間を６０分間に変えた以外
は同様にして重合を行った。重合の結果、ＳＣＢ＝２
２．２、［η］＝１．６２（ｄｌ／ｇ）のエチレン―ヘ
キセン―１共重合体をチタニウム１ｍｏｌ、１時間あた
り、４．７×１０5 ｇの収量で製造した。
テトラメチルピロリルジルコニウムジクロライドをエチ
レン（１−インデニル）（３−インドリル）チタニウム
ジクロライドに変え、重合時間を６０分間に変えた以外
は同様にして重合を行った。重合の結果、ＳＣＢ＝２
２．２、［η］＝１．６２（ｄｌ／ｇ）のエチレン―ヘ
キセン―１共重合体をチタニウム１ｍｏｌ、１時間あた
り、４．７×１０5 ｇの収量で製造した。
【００６１】実施例１２ （１）シクロペンタジエニル（２，５−ジ第３級ブチル
ピロリル）ジルコニウムジクロライドの合成 （１−１）２，２，７，７−テトラメチル−４，５−エ
ポキシオクタン−３，６−ジオンの合成 撹拌機、温度計を備えた、２Ｌの４つ口フラスコに１−
ブロモピナコロン３０. ３ｇ（１６９ｍｍｏｌ）と、ジ
エチルエ−テル８００ｍｌを仕込み、この溶液を、２０
℃に保った。次に、水酸化カリウム２５. ８ｇ（４６０
ｍｍｏｌ）をフラスコ内の溶液に加え、室温で４時間撹
拌を続けた。この反応物に５℃の水７００ｍｌを加え、
有機相と水相に分液した。水相にジエチルエ−テル３０
０ｍｌを加えて撹拌後、分液した。得られた有機相を合
わせて、８０℃減圧下にて溶媒を除去した。２，２，
７，７−テトラメチル−４，５−エポキシオクタン−
３，６−ジオン１１．９ｇ（５６ｍｍｏｌ）を黄色固体
として得た。収率は６６％であった。
ピロリル）ジルコニウムジクロライドの合成 （１−１）２，２，７，７−テトラメチル−４，５−エ
ポキシオクタン−３，６−ジオンの合成 撹拌機、温度計を備えた、２Ｌの４つ口フラスコに１−
ブロモピナコロン３０. ３ｇ（１６９ｍｍｏｌ）と、ジ
エチルエ−テル８００ｍｌを仕込み、この溶液を、２０
℃に保った。次に、水酸化カリウム２５. ８ｇ（４６０
ｍｍｏｌ）をフラスコ内の溶液に加え、室温で４時間撹
拌を続けた。この反応物に５℃の水７００ｍｌを加え、
有機相と水相に分液した。水相にジエチルエ−テル３０
０ｍｌを加えて撹拌後、分液した。得られた有機相を合
わせて、８０℃減圧下にて溶媒を除去した。２，２，
７，７−テトラメチル−４，５−エポキシオクタン−
３，６−ジオン１１．９ｇ（５６ｍｍｏｌ）を黄色固体
として得た。収率は６６％であった。
【００６２】（１−２）２，２，７，７−テトラメチル
−４−オクテン−３，６−ジオンの合成 撹拌機、還流管を備えた、５００ｍｌの４つ口フラスコ
に、２，２，７，７−テトラメチル−４，５−エポキシ
オクタン−３，６−ジオン １１. ９ｇ（５６ｍｍｏ
ｌ）と、よう化カリウム２４. ５ｇ（１４８ｍｍｏｌ）
を加え、これに氷酢酸３００ｍｌを加えて溶解した。こ
の溶液を５時間加熱還流した後、１５００ｍｌの水に加
えた。得られた水溶液を５℃に冷却し、析出した固体を
ろ過した。得られた固体を１０ｍｌの水で２回洗浄した
後、エタノ−ル２０ｍｌを加えて溶解し、−２０℃に冷
却した。析出した結晶をろ過後、減圧乾燥し、黄色板状
結晶の２，２，７，７ −テトラメチル−４−オクテン
−３，６−ジオン ２. ７ｇ（１４ｍｍｏｌ）を得た。
収率は２４％であった。この黄色結晶の 1Ｈ−ＮＭＲ
（Ｃ6 Ｄ6 ）デ−タを以下に示す。 δ ７．６３０（２Ｈ，ｓ） ０．９７０（１８Ｈ，
ｓ）
−４−オクテン−３，６−ジオンの合成 撹拌機、還流管を備えた、５００ｍｌの４つ口フラスコ
に、２，２，７，７−テトラメチル−４，５−エポキシ
オクタン−３，６−ジオン １１. ９ｇ（５６ｍｍｏ
ｌ）と、よう化カリウム２４. ５ｇ（１４８ｍｍｏｌ）
を加え、これに氷酢酸３００ｍｌを加えて溶解した。こ
の溶液を５時間加熱還流した後、１５００ｍｌの水に加
えた。得られた水溶液を５℃に冷却し、析出した固体を
ろ過した。得られた固体を１０ｍｌの水で２回洗浄した
後、エタノ−ル２０ｍｌを加えて溶解し、−２０℃に冷
却した。析出した結晶をろ過後、減圧乾燥し、黄色板状
結晶の２，２，７，７ −テトラメチル−４−オクテン
−３，６−ジオン ２. ７ｇ（１４ｍｍｏｌ）を得た。
収率は２４％であった。この黄色結晶の 1Ｈ−ＮＭＲ
（Ｃ6 Ｄ6 ）デ−タを以下に示す。 δ ７．６３０（２Ｈ，ｓ） ０．９７０（１８Ｈ，
ｓ）
【００６３】（１−３）２，２，７，７ −テトラメチ
ルオクタン−３，６−ジオンの合成 撹拌機、温度計を備えた、２００ｍｌの４つ口フラスコ
に、２，２，７，７−テトラメチル−４−オクテン−
３，６−ジオン ４. ０ｇ（２０ｍｍｏｌ）、氷酢酸９
０ｍｌを仕込み、この溶液を２０℃に保った。この溶液
へ、亜鉛粉末３. ２ｇ（４８ｍｍｏｌ）、水１８ｍｌを
加えて室温にて一晩撹拌した。このスラリ−にペンタン
１８０ｍｌを加え、有機相と水相に分液した。水相にペ
ンタン４０ｍｌを加えて撹拌、分液し、得られ有機相を
合わせて、１３５ｍｌの水で３回、飽和炭酸ナトリウム
水溶液１３５ｍｌで１回、飽和食塩水１３５ｍｌで１回
洗浄し、５ｇの硫酸ナトリウムで１時間乾燥した。硫酸
ナトリウムをろ過し、ろ液の溶媒を減圧除去した。無色
透明オイルの２，２，７，７ −テトラメチルオクタン
−３，６−ジオン ３. ２ｇ（１６ｍｍｏｌ）を得た。
収率は７９％であった。このオイルの 1Ｈ−ＮＭＲ
（Ｃ6 Ｄ6 ）デ−タを以下に示す。 δ ２. ５１２（４Ｈ，ｓ） １. ０７７（１８Ｈ，
ｓ）
ルオクタン−３，６−ジオンの合成 撹拌機、温度計を備えた、２００ｍｌの４つ口フラスコ
に、２，２，７，７−テトラメチル−４−オクテン−
３，６−ジオン ４. ０ｇ（２０ｍｍｏｌ）、氷酢酸９
０ｍｌを仕込み、この溶液を２０℃に保った。この溶液
へ、亜鉛粉末３. ２ｇ（４８ｍｍｏｌ）、水１８ｍｌを
加えて室温にて一晩撹拌した。このスラリ−にペンタン
１８０ｍｌを加え、有機相と水相に分液した。水相にペ
ンタン４０ｍｌを加えて撹拌、分液し、得られ有機相を
合わせて、１３５ｍｌの水で３回、飽和炭酸ナトリウム
水溶液１３５ｍｌで１回、飽和食塩水１３５ｍｌで１回
洗浄し、５ｇの硫酸ナトリウムで１時間乾燥した。硫酸
ナトリウムをろ過し、ろ液の溶媒を減圧除去した。無色
透明オイルの２，２，７，７ −テトラメチルオクタン
−３，６−ジオン ３. ２ｇ（１６ｍｍｏｌ）を得た。
収率は７９％であった。このオイルの 1Ｈ−ＮＭＲ
（Ｃ6 Ｄ6 ）デ−タを以下に示す。 δ ２. ５１２（４Ｈ，ｓ） １. ０７７（１８Ｈ，
ｓ）
【００６４】（１−４）２，５−ジ第３級ブチルピロ−
ルの合成 撹拌機、還流管、温度計を備えた、１００ｍｌの４つ口
フラスコに、２，２，７，７−テトラメチルオクタン−
３，６−ジオン ０. ６ｇ（３. ０ｍｍｏｌ）、酢酸ア
ンモニウム１. ４ｇ（１８ｍｍｏｌ）を加え、さらに氷
酢酸３５ｍｌを加えた。この溶液を、６時間加熱還流し
た。室温まで冷却した後、ペンタン４０ｍｌ、水６０ｍ
ｌを加え、分液した。有機相を水４０ｍｌで洗い、−２
０℃にて硫酸ナトリウムで一晩乾燥した。硫酸ナトリウ
ムをろ過し、得られた溶液の溶媒を減圧除去した。２，
５−ジ第３級ブチルピロ−ルの黄色のオイル０. ４ｇ
（２. ２ｍｍｏｌ）を得た。収率は７４％であった。こ
の黄色オイルの 1Ｈ−ＮＭＲ（Ｃ6 Ｄ6 ）デ−タを以
下に示す。 δ ６．０５７（１Ｈ，ｓ） ６．００９（１Ｈ，ｓ）
１．２２３（１８Ｈ，ｓ）
ルの合成 撹拌機、還流管、温度計を備えた、１００ｍｌの４つ口
フラスコに、２，２，７，７−テトラメチルオクタン−
３，６−ジオン ０. ６ｇ（３. ０ｍｍｏｌ）、酢酸ア
ンモニウム１. ４ｇ（１８ｍｍｏｌ）を加え、さらに氷
酢酸３５ｍｌを加えた。この溶液を、６時間加熱還流し
た。室温まで冷却した後、ペンタン４０ｍｌ、水６０ｍ
ｌを加え、分液した。有機相を水４０ｍｌで洗い、−２
０℃にて硫酸ナトリウムで一晩乾燥した。硫酸ナトリウ
ムをろ過し、得られた溶液の溶媒を減圧除去した。２，
５−ジ第３級ブチルピロ−ルの黄色のオイル０. ４ｇ
（２. ２ｍｍｏｌ）を得た。収率は７４％であった。こ
の黄色オイルの 1Ｈ−ＮＭＲ（Ｃ6 Ｄ6 ）デ−タを以
下に示す。 δ ６．０５７（１Ｈ，ｓ） ６．００９（１Ｈ，ｓ）
１．２２３（１８Ｈ，ｓ）
【００６５】（１−５）２，５−ジ第３級ブチルピロリ
ルリチウム塩の合成 撹拌機、滴下ロ−ト、温度計を備えた、２００ｍｌの４
つ口フラスコを、アルゴンで置換した後、２，５−ジ第
３級ブチルピロ−ル３. ７ｇ（２１ｍｍｏｌ）と、ヘキ
サン１００ｍｌを加え、７℃に保った。次に、ヘキサン
で希釈した、ｎ−ブチルリチウム（１. ６ｍｏｌ／ｌ）
１４ｍｌ（２３ｍｍｏｌ）を滴下した。滴下終了後、こ
の溶液を５℃で３０分間、室温で一晩撹拌を続けた。こ
の反応物を濾過し、得られた白色固体を３０ｍｌのヘキ
サンで２回洗浄し、減圧乾燥した。２，５−ジ第３級ブ
チルピロリルリチウム塩の白色固体３. ０ｇを得た。収
率は８０％であった。
ルリチウム塩の合成 撹拌機、滴下ロ−ト、温度計を備えた、２００ｍｌの４
つ口フラスコを、アルゴンで置換した後、２，５−ジ第
３級ブチルピロ−ル３. ７ｇ（２１ｍｍｏｌ）と、ヘキ
サン１００ｍｌを加え、７℃に保った。次に、ヘキサン
で希釈した、ｎ−ブチルリチウム（１. ６ｍｏｌ／ｌ）
１４ｍｌ（２３ｍｍｏｌ）を滴下した。滴下終了後、こ
の溶液を５℃で３０分間、室温で一晩撹拌を続けた。こ
の反応物を濾過し、得られた白色固体を３０ｍｌのヘキ
サンで２回洗浄し、減圧乾燥した。２，５−ジ第３級ブ
チルピロリルリチウム塩の白色固体３. ０ｇを得た。収
率は８０％であった。
【００６６】（１−６）シクロペンタジエニル（２，５
−ジ第３級ブチルピロリル）ジルコニウムジクロライド
の合成 撹拌機、滴下ロ−ト、温度計を備えた、２００ｍｌの４
つ口フラスコを、アルゴンで置換した後、２，５−ジ第
３級ブチルピロリルリチウム塩０. ７ｇ（３.９ｍｍｏ
ｌ）、トルエン５０ｍｌを加えスラリーとし、−７０℃
に保った。このスラリ−に、別のフラスコに用意した、
シクロペンタジエニルジルコニウムトリクロライド１.
１ｇ（４. ０ｍｍｏｌ）のトルエン（３０ｍｌ）スラリ
ーを、−７０℃で加えた。このスラリ−を撹拌し、−７
０℃から室温へゆっくり昇温した。昇温後、溶媒を減圧
除去し、固体を得た。この固体にペンタン５０ｍｌを加
え、ペンタンに可溶な成分を抽出し、不溶な成分を濾
過、分離した。ペンタンに可溶な成分を、−２０℃で冷
却し、白色結晶として、シクロペンタジエニル（２，５
−ジ第３級ブチルピロリル）ジルコニウムジクロライド
１６０ｍｇを得た。収率は１０％であった。この白色結
晶の 1Ｈ−ＮＭＲ（Ｃ6 Ｄ6 ）デ−タを以下に示す。 δ ６．６３４（２Ｈ，ｓ） ６．３１１（５Ｈ，ｓ）
１．３１１（１８Ｈ，ｓ）
−ジ第３級ブチルピロリル）ジルコニウムジクロライド
の合成 撹拌機、滴下ロ−ト、温度計を備えた、２００ｍｌの４
つ口フラスコを、アルゴンで置換した後、２，５−ジ第
３級ブチルピロリルリチウム塩０. ７ｇ（３.９ｍｍｏ
ｌ）、トルエン５０ｍｌを加えスラリーとし、−７０℃
に保った。このスラリ−に、別のフラスコに用意した、
シクロペンタジエニルジルコニウムトリクロライド１.
１ｇ（４. ０ｍｍｏｌ）のトルエン（３０ｍｌ）スラリ
ーを、−７０℃で加えた。このスラリ−を撹拌し、−７
０℃から室温へゆっくり昇温した。昇温後、溶媒を減圧
除去し、固体を得た。この固体にペンタン５０ｍｌを加
え、ペンタンに可溶な成分を抽出し、不溶な成分を濾
過、分離した。ペンタンに可溶な成分を、−２０℃で冷
却し、白色結晶として、シクロペンタジエニル（２，５
−ジ第３級ブチルピロリル）ジルコニウムジクロライド
１６０ｍｇを得た。収率は１０％であった。この白色結
晶の 1Ｈ−ＮＭＲ（Ｃ6 Ｄ6 ）デ−タを以下に示す。 δ ６．６３４（２Ｈ，ｓ） ６．３１１（５Ｈ，ｓ）
１．３１１（１８Ｈ，ｓ）
【００６７】（２）エチレンの重合 内容積４００ｍｌの撹拌機付きオ−トクレ−ブを真空乾
燥してアルゴンで置換後、溶媒としてトルエン１２０ｍ
ｌ、α−オレフィンとして、ヘキセン−１を８０ｍｌ仕
込み、反応器を６０℃まで昇温した。昇温後、エチレン
圧を６ｋｇ／ｃｍ2 に調節しながらフィ−ドし、系内が
安定した後、トリイソブチルアルミニウム０. ５ｍｍｏ
ｌを投入し、続いて上記に示す方法で合成したシクロペ
ンタジエニル（２，５−ジ第３級ブチルピロリル）ジル
コニウムジクロライド２. ０μｍｏｌのトルエン５ｍｌ
溶液を投入し、続いてトリフェニルメチルテトラキス
（ペンタフルオロフェニル）ボレ−ト６. ０μｍｏｌを
投入した。６０℃に温度を調節しながら２０分間重合を
行った。重合の結果、ＳＣＢ＝１５．４、［η］＝４．
０３（ｄｌ／ｇ）のエチレン−ヘキセン−１共重合体を
ジルコニウム１ｍｏｌ、１時間あたり、２. ５×１０6
ｇの収量で製造した。
燥してアルゴンで置換後、溶媒としてトルエン１２０ｍ
ｌ、α−オレフィンとして、ヘキセン−１を８０ｍｌ仕
込み、反応器を６０℃まで昇温した。昇温後、エチレン
圧を６ｋｇ／ｃｍ2 に調節しながらフィ−ドし、系内が
安定した後、トリイソブチルアルミニウム０. ５ｍｍｏ
ｌを投入し、続いて上記に示す方法で合成したシクロペ
ンタジエニル（２，５−ジ第３級ブチルピロリル）ジル
コニウムジクロライド２. ０μｍｏｌのトルエン５ｍｌ
溶液を投入し、続いてトリフェニルメチルテトラキス
（ペンタフルオロフェニル）ボレ−ト６. ０μｍｏｌを
投入した。６０℃に温度を調節しながら２０分間重合を
行った。重合の結果、ＳＣＢ＝１５．４、［η］＝４．
０３（ｄｌ／ｇ）のエチレン−ヘキセン−１共重合体を
ジルコニウム１ｍｏｌ、１時間あたり、２. ５×１０6
ｇの収量で製造した。
【００６８】比較例１ （１）エチレンとα−オレフィンの共重合 内容積４００ｍｌの撹拌機付きオ−トクレ−ブを真空乾
燥してアルゴンで置換後溶媒としてトルエン１７０ｍ
ｌ、α−オレフィンとして、ヘキセン−１を３０ｍｌ仕
込み、反応器を６０℃まで昇温した。昇温後、エチレン
圧を６ｋｇ／ｃｍ 2 に調節しながらフィ−ドし、系内が
安定した後、トリイソブチルアルミニウム０．５ｍｍｏ
ｌを投入し、続いてジシクロペンタジエニルジルコニウ
ムジクロライド２．５μｍｏｌをトルエン３ｍｌに溶解
した溶液を投入し、続いてトリフェニルメチルテトラキ
ス（ペンタフルオロフェニル）ボレ−ト７．５μｍｏｌ
を投入した。６０℃に温度を調節しながら６０分間重合
を行った。重合の結果、ＳＣＢ＝１９．９、［η］＝
１．９６（ｄｌ／ｇ）、Ｍｗ＝１３６０００、Ｍｗ／Ｍ
ｎ＝２．１のエチレン―ヘキセン―１共重合体をジルコ
ニウム１ｍｏｌ、１時間あたり、１．６×１０7 ｇの収
量で製造した。
燥してアルゴンで置換後溶媒としてトルエン１７０ｍ
ｌ、α−オレフィンとして、ヘキセン−１を３０ｍｌ仕
込み、反応器を６０℃まで昇温した。昇温後、エチレン
圧を６ｋｇ／ｃｍ 2 に調節しながらフィ−ドし、系内が
安定した後、トリイソブチルアルミニウム０．５ｍｍｏ
ｌを投入し、続いてジシクロペンタジエニルジルコニウ
ムジクロライド２．５μｍｏｌをトルエン３ｍｌに溶解
した溶液を投入し、続いてトリフェニルメチルテトラキ
ス（ペンタフルオロフェニル）ボレ−ト７．５μｍｏｌ
を投入した。６０℃に温度を調節しながら６０分間重合
を行った。重合の結果、ＳＣＢ＝１９．９、［η］＝
１．９６（ｄｌ／ｇ）、Ｍｗ＝１３６０００、Ｍｗ／Ｍ
ｎ＝２．１のエチレン―ヘキセン―１共重合体をジルコ
ニウム１ｍｏｌ、１時間あたり、１．６×１０7 ｇの収
量で製造した。
【００６９】比較例２ （１）エチレンとα−オレフィンの共重合 内容積４００ｍｌの撹拌機付きオ−トクレ−ブを真空乾
燥してアルゴンで置換後溶媒としてトルエン１９５ｍ
ｌ、α−オレフィンとして、ヘキセン−１を５ｍｌ仕込
み、反応器を６０℃まで昇温した。昇温後、エチレン圧
を６ｋｇ／ｃｍ2に調節しながらフィ−ドし、系内が安
定した後、トリイソブチルアルミニウム０．２５ｍｍｏ
ｌを投入し、続いてエチレンビスインデニルジルコニウ
ムジクロライド０．７μｍｏｌをトルエン３ｍｌに溶解
した溶液を投入し、続いてトリフェニルメチルテトラキ
ス（ペンタフルオロフェニル）ボレ−ト２．０μｍｏｌ
を投入した。６０℃に温度を調節しながら３０分間重合
を行った。重合の結果、ＳＣＢ＝３１．４、［η］＝
１．１７（ｄｌ／ｇ）のエチレン―ヘキセン―１共重合
体をジルコニウム１ｍｏｌ、１時間あたり、４．９×１
０7ｇの収量で製造した。
燥してアルゴンで置換後溶媒としてトルエン１９５ｍ
ｌ、α−オレフィンとして、ヘキセン−１を５ｍｌ仕込
み、反応器を６０℃まで昇温した。昇温後、エチレン圧
を６ｋｇ／ｃｍ2に調節しながらフィ−ドし、系内が安
定した後、トリイソブチルアルミニウム０．２５ｍｍｏ
ｌを投入し、続いてエチレンビスインデニルジルコニウ
ムジクロライド０．７μｍｏｌをトルエン３ｍｌに溶解
した溶液を投入し、続いてトリフェニルメチルテトラキ
ス（ペンタフルオロフェニル）ボレ−ト２．０μｍｏｌ
を投入した。６０℃に温度を調節しながら３０分間重合
を行った。重合の結果、ＳＣＢ＝３１．４、［η］＝
１．１７（ｄｌ／ｇ）のエチレン―ヘキセン―１共重合
体をジルコニウム１ｍｏｌ、１時間あたり、４．９×１
０7ｇの収量で製造した。
【００７０】
【発明の効果】以上詳述したように、本発明の触媒系を
用いることにより、分子量が高いオレフィン（共）重合
体を製造することができる。
用いることにより、分子量が高いオレフィン（共）重合
体を製造することができる。
【図１】図１は、本発明の理解を助けるためのフロ−チ
ャ−ト図である。本フロ−チャ−ト図は、本発明の実施
形態の代表例であり、本発明は、何らこれに限定される
ものではない。
ャ−ト図である。本フロ−チャ−ト図は、本発明の実施
形態の代表例であり、本発明は、何らこれに限定される
ものではない。
Claims (12)
- 【請求項１】シクロペンタジエニル骨格を有する基及び
芳香族複素環骨格を有する基をそれぞれ少なくとも１個
以上有し、元素の周期律表第３、４族又はランタニド系
列の遷移金属原子を有する遷移金属化合物よりなること
を特徴とするオレフィン（共）重合用触媒成分。 - 【請求項２】芳香族複素環骨格が５員環であることを特
徴とする請求項１記載のオレフィン（共）重合用触媒成
分。 - 【請求項３】遷移金属化合物が下記一般式（Ｉ）で表さ
れることを特徴とする請求項１記載のオレフィン（共）
重合用触媒成分。 【化１】 （式中、Ｍは、周期律表第３、４族又はランタニド系列
の原子を示す。Ｒ1 、Ｒ 2 は、各々水素原子、ハロゲン
原子、炭素数１〜２０の炭化水素基、ハロゲン化炭化水
素基で、その一部が、窒素原子、燐原子、酸素原子、硫
黄原子、ケイ素原子含有基で置換されていても良く、全
てのＲ1 、Ｒ2 は、同一でも異なっていても良く、Ｒ1
同士、Ｒ2 同士が結合し環を形成しても良く、Ｒ1 とＲ
2 が結合していても良い。Ｘは、周期律表第１３族、１
４族又は１５族の原子を示し、各Ｘは、同一でも異なっ
ていても良いが、５個のＸのうち少なくとも１個は炭素
原子以外の原子を含む。Ｙは水素原子、ハロゲン原子、
炭素数１〜２０の炭化水素基である。ｌ、ｍ、ｎは整数
で、１≦ｌ≦３、１≦ｍ≦３、０≦ｎ≦２であり、Ｍが
第３族又はランタニド系列の金属の場合はｌ＋ｍ＋ｎ＝
３を満足する整数であり、Ｍが第４族金属の場合はｌ＋
ｍ＋ｎ＝４を満足する整数である。ａは０又は１であ
る。） - 【請求項４】一般式（Ｉ）において、Ｙが、ハロゲン原
子又は炭素数１〜８のアルキル基であり、ｎが２である
ことを特徴とする請求項３記載のオレフィン（共）重合
用触媒成分。 - 【請求項５】一般式（Ｉ）において、Ｘの少なくとも１
個が窒素原子又は燐原子であることを特徴とする請求項
３記載のオレフィン（共）重合用触媒成分。 - 【請求項６】一般式（Ｉ）において、Ｘの少なくとも１
個が窒素原子で他が炭素原子であることを特徴とする請
求項３記載のオレフィン（共）重合用触媒成分。 - 【請求項７】請求項１〜６のいずれかに記載の遷移金属
化合物（Ａ）と下記化合物（Ｂ１）、（Ｂ２）から選ば
れた有機アルミニウム化合物（Ｂ）とからなることを特
徴とするオレフィン（共）重合用触媒系。 （Ｂ１）一般式Ｒ3 b ＡｌＺ3-b で示される有機アルミ
ニウム化合物 （Ｂ２）一般式｛−Ａｌ（Ｒ4)−Ｏ−｝c で示される構
造を有する環状のアルミノキサン（Ｂ２ａ）、及び／又
は、一般式 Ｒ5 ｛−Ａｌ（Ｒ5)−Ｏ−｝d ＡｌＲ5 2で
示される構造を有する線状のアルミノキサン（Ｂ２ｂ） （但し、Ｒ3 、Ｒ4 及びＲ5 は炭素数１〜８の炭化水素
基を表す。上記の一般式において、全てのＲ4 及び全て
のＲ5 は同じであっても異なっていても良い。Ｚは水素
及び／又はハロゲンであり、ｂは０〜３の数であり、ｃ
及びｄは１以上の整数を表す。） - 【請求項８】有機アルミニウム化合物（Ｂ）が、トリア
ルキルアルミニウムであることを特徴とする請求項７記
載のオレフィン（共）重合用触媒系。 - 【請求項９】有機アルミニウム化合物（Ｂ）が、メチル
アルミノキサンであることを特徴とする請求項７記載の
オレフィン（共）重合用触媒系。 - 【請求項１０】化合物（Ａ）、（Ｂ）に加え、更に遷移
金属化合物と反応してイオン性の錯体を形成する化合物
（Ｃ）を用いることを特徴とするオレフィン（共）重合
用触媒系。 - 【請求項１１】遷移金属化合物と反応してイオン性の錯
体を形成する化合物（Ｃ）が、ホウ素化合物であること
を特徴とする請求項１０記載のオレフィン（共）重合用
触媒系。 - 【請求項１２】請求項７〜１１記載のいずれかの触媒系
を使用してオレフィンを重合することを特徴とするオレ
フィン（共）重合体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10564596A JPH0920802A (ja) | 1995-05-02 | 1996-04-25 | オレフィン（共）重合用触媒及びオレフィン（共）重合体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10842095 | 1995-05-02 | ||
| JP7-108420 | 1995-05-02 | ||
| JP10564596A JPH0920802A (ja) | 1995-05-02 | 1996-04-25 | オレフィン（共）重合用触媒及びオレフィン（共）重合体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0920802A true JPH0920802A (ja) | 1997-01-21 |
Family
ID=26445895
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10564596A Pending JPH0920802A (ja) | 1995-05-02 | 1996-04-25 | オレフィン（共）重合用触媒及びオレフィン（共）重合体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0920802A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006506496A (ja) * | 2002-11-20 | 2006-02-23 | トータル・ペトロケミカルズ・リサーチ・フエリユイ | ポリオレフィン製造 |
| JP2014518321A (ja) * | 2011-07-05 | 2014-07-28 | ダウ グローバル テクノロジーズ エルエルシー | エチレン系ポリマーおよびそれを作製する方法 |
-
1996
- 1996-04-25 JP JP10564596A patent/JPH0920802A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006506496A (ja) * | 2002-11-20 | 2006-02-23 | トータル・ペトロケミカルズ・リサーチ・フエリユイ | ポリオレフィン製造 |
| JP2014518321A (ja) * | 2011-07-05 | 2014-07-28 | ダウ グローバル テクノロジーズ エルエルシー | エチレン系ポリマーおよびそれを作製する方法 |
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