JPH09199454A - シリコンウエハ加工方法および加工装置 - Google Patents

シリコンウエハ加工方法および加工装置

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JPH09199454A
JPH09199454A JP462596A JP462596A JPH09199454A JP H09199454 A JPH09199454 A JP H09199454A JP 462596 A JP462596 A JP 462596A JP 462596 A JP462596 A JP 462596A JP H09199454 A JPH09199454 A JP H09199454A
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JP
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silicon wafer
chuck
vacuum chuck
hardness
hard
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JP462596A
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English (en)
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Hiromichi Tamiya
博道 田宮
Hiroshi Ishigure
博司 石榑
Toshio Murakami
敏夫 村上
Sumitaka Noda
純孝 野田
Satoshi Suzumura
聡 鈴村
Shigeo Miyata
重雄 宮田
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Fujimi Inc
Toyoda Koki KK
Original Assignee
Fujimi Inc
Toyoda Koki KK
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Publication date
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  • Constituent Portions Of Griding Lathes, Driving, Sensing And Control (AREA)
  • Grinding Of Cylindrical And Plane Surfaces (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】シリコンインゴットの切断の際に生じるソーマ
ークの影響を排除して、シリコンウエハを高精度に加工
する。 【解決手段】シリコンウエハ1をシリコンウエハ1より
低硬度で多孔質の弾性体からなるソフトチャック31に
て吸着して一方の面の加工を行い、シリコンウエハ1よ
り高硬度で多孔質の剛体からなるハードチャック32に
吸着して他方の面の加工を行うようにした。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、半導体装置に用
いられるシリコンウエハの加工方法および加工装置、特
に真空チャックを用いた研削加工方法および研削加工装
置に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、シリコンウエハの大径化に伴い、
その加工方法は加工時間の短縮、加工環境の改善等の要
求から、ラッピング加工を研削加工に置き換えたいとの
要求が強く、シリコンインゴットを薄板状に切断した
後、その両面を研削加工している。また、研削加工の際
のシリコンウエハの固定方法としては、ポーラスチャッ
クと呼ばれる多孔質体を用いた真空チャックにより吸着
固定する方法が用いられている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】ところが、シリコンイ
ンゴットの切断工程において、切断されたシリコンウエ
ハ1の切断面にソーマーク2と呼ばれる切断刃の影響に
よる凹凸が生じる(図4A)。真空チャック3による吸
引力によりシリコンウエハ1には非常に大きな力が働く
ため、このソーマーク2を有するシリコンウエハ1を真
空チャック3にて吸着すると、凹凸が延ばされ変形した
状態で吸着される(図4B)。この状態で研削加工を行
っても(図4C)、真空チャック3から外した際に変形
が元に戻るため、加工面が凹凸となり(図4D)、良好
な平面度を得ることができないという問題がある。
【0004】
【課題を解決するための手段】上記の問題を解決するた
めに、本発明はシリコンウエハをシリコンウエハより低
硬度でかつ多孔質の弾性体よりなる第1の真空チャック
に吸着固定させて一方の面の加工を行い、加工完了後シ
リコンウエハを前記第1の真空チャックから取り外し、
シリコンウエハより高硬度でかつ多孔質の剛体からなる
第2の真空チャックに前記一方の面を吸着固定させて他
方の面の加工を行うようにしたものである。
【0005】また、本発明はシリコンウエハの片面にシ
リコンウエハより低硬度でかつ弾性を有するシート状物
質を貼付し、シリコンウエハを前記シート状物質を介し
てシリコンウエハより高硬度でかつ多孔質の弾性体から
なる真空チャックに吸着固定させて一方の面の加工を行
い、加工完了後シリコンウエハを前記真空チャックから
取り外すと共に前記シート状物質を剥がし、前記真空チ
ャックに前記一方の面を吸着固定させて他方の面の加工
を行うようにしたものである。
【0006】さらに、本発明はシリコンウエハの一方の
面を加工した後シリコンウエハを反転させて他方の面の
加工を行うシリコンウエハ加工装置において、シリコン
ウエハを吸着固定する第1の真空チャックおよび第2の
真空チャックと、前記第1の真空チャックに保持された
シリコンウエハを取り外し表裏反転させて前記第2の真
空チャックに取り付ける工作物反転装置を備え、前記第
1の真空チャックはシリコンウエハより低硬度でかつ多
孔質の弾性体からなり、前記第2の真空チャックはシリ
コンウエハより高硬度でかつ多孔質の剛体からなるよう
にしたものである。
【0007】ここで、上記の第1の真空チャックとして
は、フッ素樹脂焼結体が好ましく、上記の第2の真空チ
ャックとしてはセラミックス焼結体が好ましい。
【0008】
【発明の実施の形態】本発明の実施形態を図1から図3
に基づいて説明する。図1は本発明のシリコンウエハ加
工装置の実施の形態を示すものであり、基台51上には
回転テーブル52が軸53を中心に反時計回りに回転す
るように取り付けられている。この回転テーブル52は
研削送り速度で90°回転し、シリコンウエハ着脱のた
めに停止し、再び90°回転するというサイクルを繰り
返す。回転テーブル52には円周方向等間隔に複数のチ
ャック31、32が取り付けられている。図1に示すよ
うに、後述するソフトチャック31とハードチャック3
2は交互に配置されている。54、55は回転テーブル
52上に設けられた研削砥石であり、粗研削用砥石54
と仕上げ研削用砥石55が図略の駆動装置により回転駆
動されるように構成されている。また、切り込み量を制
御するために、上下方向(紙面に対して垂直方向)に位
置決め可能となっている。なお、この研削砥石は、一つ
でもよいし粗研用、精研用、微研用の3つを設けること
もできる。56および57は工作物反転装置であり、ア
ーム56a、57aが回転テーブル上と工作物受渡し位
置Aとの間で旋回可能かつ上下方向(紙面に対して垂直
方向)に移動可能に取り付けられている。アーム56
a、57aの先端には吸着盤56b、57bが設けられ
ており、図略の吸引装置により吸引することによりシリ
コンウエハを吸着して保持することができる。また、一
方のアーム56aの先端部分56cは工作物を反転させ
るために、その軸心回りに180°回転可能に構成され
ている。この回転可能な先端部分56cはアーム56
a、57aの少なくとも一方に設けられていればよい。
なお、この工作物反転装置56、57は工作物搬入出装
置として併用することが可能であり、工作物反転装置5
6で工作物を搬入してソフトチャック31に取り付け、
加工後の工作物を工作物反転装置57にてハードチャッ
ク32から取り外し、機外に搬出することができる。
【0009】上述したシリコンウエハ加工装置の作用に
ついて説明する。まず、工作物反転装置56の吸着盤5
6bにてシリコンウエハ1を吸着し、アーム56aを旋
回させてシリコンウエハ1を回転テーブル52上のソフ
トチャック31上に搬入する。次に、アーム56aを下
降させ、吸着盤56aの吸着を解除すると共にソフトチ
ャック31を吸引させてシリコンウエハ1をソフトチャ
ック31に固定する。回転テーブル52の回転によりソ
フトチャック31に固定されたシリコンウエハ1は粗研
削用砥石54および仕上げ研削砥石55によって研削さ
れる。第1の表面の研削が完了したシリコンウエハ1
は、工作物反転装置57の吸着盤57aによって吸着さ
れると共にソフトチャック31の吸引が解除されアーム
57aが上昇することにより、工作物反転装置57に保
持される。続いて、アーム56aおよび57aが旋回し
て工作物受渡位置Aに割り出されるが、このときアーム
56aの先端部分56cは180°回転しており、工作
物反転位置Aで両アーム56a、57aの吸着盤56
b、57bはシリコンウエハ1を上下から挟む状態とな
る。この状態でシリコンウエハ1を吸着盤56bで吸着
すると共に吸着盤57bの吸着を解除すると、シリコン
ウエハ1はアーム57aからアーム56aに受け渡され
る。アーム56aが旋回されて回転テーブル52上のハ
ードチャック32上に割り出されるが、このとき先端部
分56cが180°回転され、シリコンウエハ1は表裏
反転される。アーム56aが下降し、吸着盤56bの吸
着を解除すると共にハードチャック32を吸引させて、
表裏反転されたシリコンウエハ1をハードチャック32
に固定する。続いて、回転テーブル52の回転によりシ
リコンウエハ1の第2の表面が粗研削砥石54および仕
上げ研削砥石55により研削加工されるが、シリコンウ
エハ1を所望の厚さに仕上げるために、各砥石はその上
下方向位置が制御される。そして、両面の加工が完了し
たシリコンウエハ1は、ハードチャック32による吸引
が解除されると共に吸着盤57bにより吸着され、アー
ム57aの旋回により機外へ搬出される。
【0010】なお、上記の実施の形態では、ソフトチャ
ック31およびハードチャック32は回転テーブル52
に対して固定されているが、ソフトチャック31および
ハードチャック32を工作物主軸を介して回転テーブル
52に取り付け、シリコンウエハ1を回転させた状態で
加工を行うこともできる。この場合、砥石54、55が
シリコンウエハ1上に位置するように回転テーブル52
を位置決めし、回転テーブル52の回転を停止した状態
で砥石54、55を切り込む、所謂インフィード方式を
採用することが望ましい。この方式を用いると、シリコ
ンウエハ1と砥石54、55の接触面積が常に一定とな
るため、シリコンウエハ1と砥石54、55の接触面積
の変化による研削抵抗の変動を防止すことができ、加工
精度が向上する。
【0011】また、回転テーブル52は連続的に回転さ
せ、アーム56a、57aを回転テーブル52に同期し
て移動可能に構成し、回転テーブル52の回転を停止す
ることなくシリコンウエハ1の着脱を行うことも可能で
ある。このように構成すれば、サイクルタイムを短縮す
ることができる。上記の加工装置を用いたシリコンウエ
ハの加工方法について、図2に基づいて説明する。
【0012】図2および図3において、1はシリコンイ
ンゴットを切断して得られたシリコンウエハであり、表
面にソーマーク2を有している。31および32は真空
チャックであり、ソフトチャック31はフッ素樹脂焼結
体等の多孔質の弾性体からなり、無数の気孔を有してい
るため、下方から図略の吸引装置により吸引することに
より、その表面にシリコンウエハ1を吸着固定すること
ができる。ここで、フッ素樹脂焼結体は弾性体であると
共にシリコンウエハ1より硬度が低く、真空吸引するこ
とによりシリコンウエハ1の形状に倣って変形すること
ができる。また、ハードチャック32は電融アルミナ、
球状電融ムライト、炭化珪素等を少量のガラス質結合材
で強固に焼結したセラミックス焼結体であり、多孔質の
剛体である。そして、ソフトチャック31と同様に、無
数の気孔を有しているため、下方から図略の吸引装置に
より吸引することにより、表面にシリコンウエハ1を吸
着固定することができる。セラミックス焼結体はシリコ
ンウエハ1よりも硬度が高い剛体であるため、真空吸引
によって変形することはない。
【0013】ここで、説明をわかりやすくするために、
以下、シリコンウエハの最初に加工される面を第1の表
面、次に加工される面を第2の表面ということとする。
図2Aはシリコンインゴットを切断することによって得
られたシリコンウエハ1で、表面にソーマーク2を有し
ている。このシリコンウエハ2の第2の表面を図2Bに
示すようにソフトチャック31にて吸着固定する。ここ
で、ソフトチャック31は上述したようにシリコンウエ
ハより低硬度で弾性を有するため、シリコンウエハ1の
第2の表面のソーマーク2による凹凸はソフトチャック
31にて吸収され、シリコンウエハ1が変形することが
ない。続いて、図2Cに示すように、この状態でシリコ
ンウエハ1の第1の表面に対して研削加工を行う。次
に、シリコンウエハ1をソフトチャック31から取り外
し、図2Dに示すように表裏を反転させて、シリコンウ
エハの第1の表面をハードチャック32に吸着固定さ
せ、図2Eに示すように第2の表面に対して研削加工を
行う。上記のように加工を行うことにより、図2Fに示
すように、加工完了後チャックから取り外してもシリコ
ンウエハ1の表面にソーマーク2の影響による凹凸が残
ることがない。
【0014】ここで、第2の表面の加工に際して、ハー
ドチャック32を用いるのは、ソフトチャック31によ
る吸着固定では吸引力によってソフトチャック32が変
形しており、シリコンウエハ1の厚さを管理することが
できないためであり、ハードチャック32はシリコンウ
エハより高硬度の剛体であるので、第2の表面の加工の
際にハードチャック32が変形することがなく、シリコ
ンウエハ1を所望の厚さに研削することができる。
【0015】次に、図3に基づいて、本発明におけるシ
リコンウエハ加工方法の他の実施の形態について説明す
る。ここで、図3における4は、通常は研削加工中、デ
バイス面を保護するために貼付されるバックグライディ
ングテープであり、弾性を有すると共にシリコンウエハ
1より硬度が低く、真空チャックの吸引力によりシリコ
ンウエハ1の形状に倣って変形することができる。
【0016】図3Aは上述した実施の形態と同様に、シ
リコンインゴットを切断することによって得られたシリ
コンウエハ1で、表面にソーマーク2を有している。図
3Bに示すように、このシリコンウエハ1の第2の表面
にバックグライディングテープ4を貼付し、シリコンウ
エハ1をバックグライディングテープ4を介してハード
チャック32にて吸着固定する。上述したようにバック
グライディングテープ4はシリコンウエハ1より低硬度
で弾性を有しているため、シコンウエハ1の第2の表面
のソーマーク2の凹凸はバックグラインディングテープ
4にて吸収され、シリコンウエハ1が変形することがな
い。図3Cに示すように、この状態でシコンウエハ1の
第1の表面の加工を行う。続いて、図3Dに示すように
ハードチャック32からシリコンウエハ1を取り外すと
共に、バックグライディングテープ4を剥がし、表裏反
転させて再びハードチャック32に吸着固定させ、図3
Eに示すように第2の表面の加工を行う。上記のように
加工を行うことにより、図3Fに示すように加工完了後
チャックから取り外してもシリコンウエハ1の表面にソ
ーマーク2の影響による凹凸が残ることがない。
【0017】なお、シリコンウエハに貼付されるテープ
はシリコンウエハ1より低硬度で弾性を有したシート状
の物質であればよく、バックグライディングテープに限
られるものではない。
【0018】
【発明の効果】請求項1に記載の発明によれば、第1の
表面の加工に際して、シリコンインゴットの切断の際に
生じるソーマークがソフトチャックにより吸収され、シ
リコンウエハが変形することがないため、ソーマークに
よる加工精度を悪化を防止して、シリコンウエハを高精
度に加工することができる。また、第2の表面の加工に
際して、ハードチャックを用いることにより、シリコン
ウエハを所望の厚さに加工することが可能となる。
【0019】請求項2に記載の発明によれば、第1の表
面の加工に際して、シリコンインゴットの切断の際に生
じるソーマークがシート状物質により吸収され、シリコ
ンウエハが変形することがないため、ソーマークによる
加工精度の悪化を防止して、シリコンウエハを高精度に
加工することができる。また、一つの真空チャックにて
ソーマークの影響を排除した高精度の加工が可能となる
ため、新たな設備を導入することなく、既存の加工装置
を用いて高精度の加工が可能となる。
【0020】請求項3に記載の発明によれば、ソフトチ
ャックとハードチャックの両方を設けると共に、工作物
反転装置を備えているため、シリコンインゴットの切断
の際に生じるソーマークの影響を排除した高精度の加工
を自動的にかつ効率的に行うことができる。さらに、本
発明によれば、上述したソーマークの影響排除のみなら
ず、シリコンインゴットの切断の際に生じるシリコンウ
エハの反りの防止にも効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】シリコンウエハ加工装置の平面図である。
【図2】シリコンウエハ加工方法の工程を示す図であ
る。
【図3】他のシリコンウエハ加工方法の工程を示す図で
ある。
【図4】従来のシリコンウエハ加工方法の工程を示す図
である。
【符号の説明】
1 シリコンウエハ 2 ソーマーク 3 真空チャック 31 ソフトチャック 32 ハードチャック 4 バックグライディングテープ 51 基台 52 回転テーブル 53 軸 54、55 砥石 56、57 工作物反転装置
フロントページの続き (72)発明者 村上 敏夫 愛知県刈谷市朝日町1丁目1番地 豊田工 機株式会社内 (72)発明者 野田 純孝 愛知県西春日井郡西枇杷島町地領2丁目1 番地の1 株式会社フジミインコーポレー テッド内 (72)発明者 鈴村 聡 愛知県西春日井郡西枇杷島町地領2丁目1 番地の1 株式会社フジミインコーポレー テッド内 (72)発明者 宮田 重雄 愛知県西春日井郡西枇杷島町地領2丁目1 番地の1 株式会社フジミインコーポレー テッド内

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 シリコンウエハをシリコンウエハより低
    硬度でかつ多孔質の弾性体よりなる第1の真空チャック
    に吸着固定させて一方の面の加工を行い、加工完了後シ
    リコンウエハを前記第1の真空チャックから取り外し、
    シリコンウエハより高硬度でかつ多孔質の剛体からなる
    第2の真空チャックに前記一方の面を吸着固定させて他
    方の面の加工を行うことを特徴とするシリコンウエハの
    加工方法。
  2. 【請求項2】 シリコンウエハの片面にシリコンウエハ
    より低硬度でかつ弾性を有するシート状物質を貼付し、
    シリコンウエハを前記シート状物質を介してシリコンウ
    エハより高硬度でかつ多孔質の弾性体からなる真空チャ
    ックに吸着固定させて一方の面の加工を行い、加工完了
    後シリコンウエハを前記真空チャックから取り外すと共
    に前記シート状物質を剥がし、前記真空チャックに前記
    一方の面を吸着固定させて他方の面の加工を行うことを
    特徴とするシリコンウエハ加工方法。
  3. 【請求項3】 シリコンウエハの一方の面を加工した後
    シリコンウエハを反転させて他方の面の加工を行うシリ
    コンウエハ加工装置において、シリコンウエハを吸着固
    定する第1の真空チャックおよび第2の真空チャック
    と、前記第1の真空チャックに保持されたシリコンウエ
    ハを取り外し表裏反転させて前記第2の真空チャックに
    取り付ける工作物反転装置を備え、前記第1の真空チャ
    ックはシリコンウエハより低硬度でかつ多孔質の弾性体
    からなり、前記第2の真空チャックはシリコンウエハよ
    り高硬度でかつ多孔質の剛体からなることを特徴とする
    シリコンウエハ加工装置。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2000301454A (ja) * 1999-02-11 2000-10-31 Applied Materials Inc 化学的機械研磨プロセス及びその構成要素
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