JPH09194594A - 新規シロキサン誘導体 - Google Patents
新規シロキサン誘導体Info
- Publication number
- JPH09194594A JPH09194594A JP8261696A JP26169696A JPH09194594A JP H09194594 A JPH09194594 A JP H09194594A JP 8261696 A JP8261696 A JP 8261696A JP 26169696 A JP26169696 A JP 26169696A JP H09194594 A JPH09194594 A JP H09194594A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- ppm
- nmr
- cdcl
- formula
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Abstract
(57)【要約】
【解決手段】 次の一般式（Ｉ）
【化１】
で表わされる基であり、残りのうち少なくとも１つは炭
素数６〜３０の直鎖又は分岐鎖の炭化水素基で、他はす
べてメチル基である。ｌ、ｍ及びｎは０以上２０００以
下の数を示し、ｌ＋ｍ＋ｎ＝０のとき、Ｒ1 〜Ｒ3 、Ｒ
10〜Ｒ12のうち少なくとも１つは基（IIｂ）である。〕
で表わされるシロキサン誘導体。 【効果】 乳化剤として好適なノニオン系界面活性剤で
あり、これを含有する本発明化粧料は乳化安定性に優れ
るものである。
素数６〜３０の直鎖又は分岐鎖の炭化水素基で、他はす
べてメチル基である。ｌ、ｍ及びｎは０以上２０００以
下の数を示し、ｌ＋ｍ＋ｎ＝０のとき、Ｒ1 〜Ｒ3 、Ｒ
10〜Ｒ12のうち少なくとも１つは基（IIｂ）である。〕
で表わされるシロキサン誘導体。 【効果】 乳化剤として好適なノニオン系界面活性剤で
あり、これを含有する本発明化粧料は乳化安定性に優れ
るものである。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、乳化剤として有用
な、界面活性作用を有する新規シロキサン誘導体、その
製造方法及びこれを含有する化粧料に関する。
な、界面活性作用を有する新規シロキサン誘導体、その
製造方法及びこれを含有する化粧料に関する。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】界面活
性作用を有するシリコーン化合物は、その変性親水基の
種類から、アニオン系親水基を有する化合物、カチオン
系親水基を有する化合物、ベタイン系親水基を有する化
合物及びノニオン系親水基を有する化合物の４種に大別
される。
性作用を有するシリコーン化合物は、その変性親水基の
種類から、アニオン系親水基を有する化合物、カチオン
系親水基を有する化合物、ベタイン系親水基を有する化
合物及びノニオン系親水基を有する化合物の４種に大別
される。
【０００３】上記のうちノニオン系親水基を有する化合
物としては、ポリオキシアルキレン基を親水基として有
するポリオキシアルキレン変性シリコーン系界面活性剤
が公知であるが、このものは乳化安定性に劣るため、化
粧料等の乳化剤として用いた場合、満足な乳化安定性を
得るためにはシリカ、粘度鉱物等の増粘剤を更に添加す
る必要があった。
物としては、ポリオキシアルキレン基を親水基として有
するポリオキシアルキレン変性シリコーン系界面活性剤
が公知であるが、このものは乳化安定性に劣るため、化
粧料等の乳化剤として用いた場合、満足な乳化安定性を
得るためにはシリカ、粘度鉱物等の増粘剤を更に添加す
る必要があった。
【０００４】一方、ポリオキシアルキレン以外のノニオ
ン系の親水基としては多価アルコール性水酸基が考えら
れるが、多価アルコール性水酸基を親水基として有する
シリコーン系界面活性剤は現在のところほとんど知られ
ておらず、わずかに特公昭６２−３４０３９号公報に記
載されている（ポリ）グリセリン変性シリコーン及び特
開昭５７−２０９２９５号公報に記載されているソルビ
タン変性シリコーンが界面活性作用を有することが知ら
れているのみである。
ン系の親水基としては多価アルコール性水酸基が考えら
れるが、多価アルコール性水酸基を親水基として有する
シリコーン系界面活性剤は現在のところほとんど知られ
ておらず、わずかに特公昭６２−３４０３９号公報に記
載されている（ポリ）グリセリン変性シリコーン及び特
開昭５７−２０９２９５号公報に記載されているソルビ
タン変性シリコーンが界面活性作用を有することが知ら
れているのみである。
【０００５】また、多価アルコール性水酸基であるグリ
セリン基により変性されたシリコーン化合物は公知であ
り、特開昭６２−１９５３８９号公報、特開昭６４−１
６７９３号公報及び特開昭６３−１０１３８８号公報に
記載されているが、これら化合物はヒドロキシル基の反
応性を利用した合成樹脂の表面改質剤であり、その界面
活性作用については不明である。
セリン基により変性されたシリコーン化合物は公知であ
り、特開昭６２−１９５３８９号公報、特開昭６４−１
６７９３号公報及び特開昭６３−１０１３８８号公報に
記載されているが、これら化合物はヒドロキシル基の反
応性を利用した合成樹脂の表面改質剤であり、その界面
活性作用については不明である。
【０００６】このように、満足な性能を有するノニオン
系のシリコーン系界面活性剤は現在のところ皆無に等し
いものである。
系のシリコーン系界面活性剤は現在のところ皆無に等し
いものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】かかる実情において、本
発明者らは鋭意研究を重ねた結果、後述のグリセリル基
を有する新規シロキサン誘導体が、化粧料等の乳化剤と
して好適なノニオン系界面活性剤であることを見出し、
本発明を完成した。
発明者らは鋭意研究を重ねた結果、後述のグリセリル基
を有する新規シロキサン誘導体が、化粧料等の乳化剤と
して好適なノニオン系界面活性剤であることを見出し、
本発明を完成した。
【０００８】すなわち、本発明は、次の一般式（Ｉ）
【０００９】
【化２】
【００１０】（式中、Ｑは炭素数３〜２０の二価炭化水
素基を示し、Ｒ13及びＲ14はそれぞれ水素原子又は炭素
数１〜５の炭化水素基を示し、そのうち少なくとも一方
は水素原子である。）で表わされる基であり、残りが炭
素数１〜３０の直鎖、分岐鎖もしくは環状の炭化水素基
又は次式（III ）
素基を示し、Ｒ13及びＲ14はそれぞれ水素原子又は炭素
数１〜５の炭化水素基を示し、そのうち少なくとも一方
は水素原子である。）で表わされる基であり、残りが炭
素数１〜３０の直鎖、分岐鎖もしくは環状の炭化水素基
又は次式（III ）
【００１１】
【化３】
【００１２】（式中、Ｘはエーテル結合及び／又はエス
テル結合を含む二価炭化水素基を、Ｒ 15は炭素数１〜３
０の直鎖、分岐鎖又は環状の炭化水素基を示す。）で表
わされる基であり、ｌ、ｍ及びｎは０以上２０００以下
の数を示し、ｌ＋ｍ＋ｎ＝０のとき、Ｒ1 〜Ｒ3 、Ｒ10
〜Ｒ12のうち少なくとも１つは基（II）である。ただ
し、Ｒ1 〜Ｒ12のうち少なくとも１つが、Ｑがトリメチ
レンでＲ13及びＲ14が共に水素原子である基（II）であ
るとき、前記炭素数１〜３０の直鎖、分岐鎖又は環状の
炭化水素基の少なくとも１つは、炭素数６〜３０の直
鎖、分岐鎖又は環状の炭化水素基である。〕で表わされ
るシロキサン誘導体、その製造方法及びこれを含有する
化粧料を提供するものである。
テル結合を含む二価炭化水素基を、Ｒ 15は炭素数１〜３
０の直鎖、分岐鎖又は環状の炭化水素基を示す。）で表
わされる基であり、ｌ、ｍ及びｎは０以上２０００以下
の数を示し、ｌ＋ｍ＋ｎ＝０のとき、Ｒ1 〜Ｒ3 、Ｒ10
〜Ｒ12のうち少なくとも１つは基（II）である。ただ
し、Ｒ1 〜Ｒ12のうち少なくとも１つが、Ｑがトリメチ
レンでＲ13及びＲ14が共に水素原子である基（II）であ
るとき、前記炭素数１〜３０の直鎖、分岐鎖又は環状の
炭化水素基の少なくとも１つは、炭素数６〜３０の直
鎖、分岐鎖又は環状の炭化水素基である。〕で表わされ
るシロキサン誘導体、その製造方法及びこれを含有する
化粧料を提供するものである。
【００１３】
【発明の実施の形態】上記一般式（Ｉ）において、Ｑで
示される炭素数３〜２０の二価炭化水素基としては、ト
リメチレン、テトラメチレン、ペンタメチレン、ヘキサ
メチレン、ヘプタメチレン、オクタメチレン、ノナメチ
レン、デカメチレン、ウンデカメチレン、ドデカメチレ
ン、テトラデカメチレン、ヘキサデカメチレン、オクタ
デカメチレン等の直鎖アルキレン基；プロピレン、２−
メチルトリメチレン、２−メチルテトラメチレン、２−
メチルペンタメチレン、３−メチルペンタメチレン等の
分岐鎖アルキレン基等が挙げられる。Ｒ13又はＲ14で示
される炭素数１〜５の炭化水素基としては、メチル、エ
チル、プロピル、ブチル、ペンチル、イソプロピル、ｓ
ｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ネオペンチル、シク
ロペンチル等の直鎖、分岐鎖又は環状のアルキル基等が
挙げられる。またＸで示されるエーテル結合及び／又は
エステル結合を含む二価炭化水素基としては-(CH2)r-(O
C2H4)p-(OC 3H6)q-O-（ここでｐ及びｑは０以上５０以下
の数、ｒは３以上２０以下の整数）、-(CH2)r-O-CO-、-
(CH2)r-COO-等が挙げられる。更に炭素数１〜３０の直
鎖、分岐鎖又は環状の炭化水素基としては、メチル、エ
チル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、オクチ
ル、デシル、ドデシル、テトラデシル、ヘキサデシル、
オクタデシル、エイコシル、ドエイコシル、テトラエイ
コシル、ヘキサエイコシル、オクタエイコシル、トリア
コンチル等の直鎖アルキル基；イソプロピル、ｓｅｃ−
ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ネオペンチル、１−エチル
プロピル、１−ヘプチルデシル等の分岐鎖アルキル基；
シクロペンチル、シクロヘキシル、アビエチル、コレス
テリル等の環状アルキル基などが挙げられる。そして、
ｌ、ｍ及びｎは、原料となるオルガノハイドロジェンポ
リシロキサンの入手のしやすさ、製造時の操作性などの
点から、０以上２０００以下の範囲とすることが好まし
い。
示される炭素数３〜２０の二価炭化水素基としては、ト
リメチレン、テトラメチレン、ペンタメチレン、ヘキサ
メチレン、ヘプタメチレン、オクタメチレン、ノナメチ
レン、デカメチレン、ウンデカメチレン、ドデカメチレ
ン、テトラデカメチレン、ヘキサデカメチレン、オクタ
デカメチレン等の直鎖アルキレン基；プロピレン、２−
メチルトリメチレン、２−メチルテトラメチレン、２−
メチルペンタメチレン、３−メチルペンタメチレン等の
分岐鎖アルキレン基等が挙げられる。Ｒ13又はＲ14で示
される炭素数１〜５の炭化水素基としては、メチル、エ
チル、プロピル、ブチル、ペンチル、イソプロピル、ｓ
ｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ネオペンチル、シク
ロペンチル等の直鎖、分岐鎖又は環状のアルキル基等が
挙げられる。またＸで示されるエーテル結合及び／又は
エステル結合を含む二価炭化水素基としては-(CH2)r-(O
C2H4)p-(OC 3H6)q-O-（ここでｐ及びｑは０以上５０以下
の数、ｒは３以上２０以下の整数）、-(CH2)r-O-CO-、-
(CH2)r-COO-等が挙げられる。更に炭素数１〜３０の直
鎖、分岐鎖又は環状の炭化水素基としては、メチル、エ
チル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、オクチ
ル、デシル、ドデシル、テトラデシル、ヘキサデシル、
オクタデシル、エイコシル、ドエイコシル、テトラエイ
コシル、ヘキサエイコシル、オクタエイコシル、トリア
コンチル等の直鎖アルキル基；イソプロピル、ｓｅｃ−
ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ネオペンチル、１−エチル
プロピル、１−ヘプチルデシル等の分岐鎖アルキル基；
シクロペンチル、シクロヘキシル、アビエチル、コレス
テリル等の環状アルキル基などが挙げられる。そして、
ｌ、ｍ及びｎは、原料となるオルガノハイドロジェンポ
リシロキサンの入手のしやすさ、製造時の操作性などの
点から、０以上２０００以下の範囲とすることが好まし
い。
【００１４】本発明のシロキサン誘導体（Ｉ）は、例え
ば次の反応式に従って製造することができる。
ば次の反応式に従って製造することができる。
【００１５】（１）基（III ）を有さないシロキサン誘
導体（Ｉａ）の製造法
導体（Ｉａ）の製造法
【００１６】
【化４】
【００１７】〔式中、Ｒ16〜Ｒ27は少なくとも１つが水
素原子であり、残りが炭素数１〜３０の直鎖、分岐鎖又
は環状の炭化水素基であり、ｌ、ｍ及びｎは０以上２０
００以下の数を示し、ｌ＋ｍ＋ｎ＝０のとき、Ｒ16〜Ｒ
18、Ｒ25〜Ｒ27のうち少なくとも１つは水素原子であ
る。Ｑ′は少なくとも１個の二重結合を有する炭素数３
〜２０の炭化水素基を示し、Ｒ13及びＲ14は前記と同じ
意味を有する。Ｒ1′〜Ｒ12′のうち、少なくとも１つ
は基（II）であり、残りが炭素数１〜３０の直鎖、分岐
鎖又は環状の炭化水素基であり、ｌ＋ｍ＋ｎ＝０のと
き、Ｒ1′〜Ｒ3′、Ｒ10′〜Ｒ12′のうち少なくとも１
つは基（II）である。ただし、Ｒ1′〜Ｒ12′のうち１
つが、ＱがトリメチレンでＲ13及びＲ14が共に水素原子
である基（II）であり、かつ残り全てがメチル基である
場合を除く。〕
素原子であり、残りが炭素数１〜３０の直鎖、分岐鎖又
は環状の炭化水素基であり、ｌ、ｍ及びｎは０以上２０
００以下の数を示し、ｌ＋ｍ＋ｎ＝０のとき、Ｒ16〜Ｒ
18、Ｒ25〜Ｒ27のうち少なくとも１つは水素原子であ
る。Ｑ′は少なくとも１個の二重結合を有する炭素数３
〜２０の炭化水素基を示し、Ｒ13及びＲ14は前記と同じ
意味を有する。Ｒ1′〜Ｒ12′のうち、少なくとも１つ
は基（II）であり、残りが炭素数１〜３０の直鎖、分岐
鎖又は環状の炭化水素基であり、ｌ＋ｍ＋ｎ＝０のと
き、Ｒ1′〜Ｒ3′、Ｒ10′〜Ｒ12′のうち少なくとも１
つは基（II）である。ただし、Ｒ1′〜Ｒ12′のうち１
つが、ＱがトリメチレンでＲ13及びＲ14が共に水素原子
である基（II）であり、かつ残り全てがメチル基である
場合を除く。〕
【００１８】すなわち、少なくとも１個のケイ素−水素
結合を有するオルガノハイドロジェンポリシロキサン
（IV）に、アルケニルグリセリルエーテル（II′）を反
応させることにより、基（III ）を有さないシロキサン
誘導体（Ｉａ）が得られる。
結合を有するオルガノハイドロジェンポリシロキサン
（IV）に、アルケニルグリセリルエーテル（II′）を反
応させることにより、基（III ）を有さないシロキサン
誘導体（Ｉａ）が得られる。
【００１９】（２）基（III ）を有するシロキサン誘導
体（Ｉｂ）の製法
体（Ｉｂ）の製法
【００２０】
【化５】
【００２１】〔式中、Ｒ16′〜Ｒ27′は少なくとも２つ
が水素原子であり、残りが炭素数１〜３０の直鎖、分岐
鎖又は環状の炭化水素基であり、ｌ、ｍ及びｎは前記と
同じ意味を示し、ｌ＋ｍ＋ｎ＝０のとき、Ｒ16′〜
Ｒ18′、Ｒ25′〜Ｒ27′のうち少なくとも２つは水素原
子である。Ｑ′、Ｒ13及びＲ14は前記と同じ意味を示
す。Ｘ′は少なくとも１個に二重結合を有し、かつエー
テル結合及び／又はエステル結合を含む炭化水素基を、
Ｒ15は前記と同じ意味を示す。Ｒ1″〜Ｒ12″のうち、
少なくとも１つは基（II）であり、残りのうち少なくと
も１つは基（III ）であり、残りが炭素数１〜３０の直
鎖、分岐鎖又は環状の炭化水素基であり、ｌ＋ｍ＋ｎ＝
０のとき、Ｒ1″〜Ｒ3″、Ｒ10″〜Ｒ12″のうち少なく
とも１つは基（II）であり、残りの１つは基（III ）で
ある。〕
が水素原子であり、残りが炭素数１〜３０の直鎖、分岐
鎖又は環状の炭化水素基であり、ｌ、ｍ及びｎは前記と
同じ意味を示し、ｌ＋ｍ＋ｎ＝０のとき、Ｒ16′〜
Ｒ18′、Ｒ25′〜Ｒ27′のうち少なくとも２つは水素原
子である。Ｑ′、Ｒ13及びＲ14は前記と同じ意味を示
す。Ｘ′は少なくとも１個に二重結合を有し、かつエー
テル結合及び／又はエステル結合を含む炭化水素基を、
Ｒ15は前記と同じ意味を示す。Ｒ1″〜Ｒ12″のうち、
少なくとも１つは基（II）であり、残りのうち少なくと
も１つは基（III ）であり、残りが炭素数１〜３０の直
鎖、分岐鎖又は環状の炭化水素基であり、ｌ＋ｍ＋ｎ＝
０のとき、Ｒ1″〜Ｒ3″、Ｒ10″〜Ｒ12″のうち少なく
とも１つは基（II）であり、残りの１つは基（III ）で
ある。〕
【００２２】すなわち、少なくとも２個のケイ素−水素
結合を有するオルガノハイドロジェンポリシロキサン
（IV′）に、アルケニルグリセリルエーテル（II′）及
び化合物（III′）を反応させることにより、基（III
）を有するシロキサン誘導体（Ｉｂ）が得られる。こ
こで、化合物（II′）と化合物（III′）は、どちらを
先に化合物（IV′）に反応させても、また同時に化合物
（IV′）に反応させてもよい。
結合を有するオルガノハイドロジェンポリシロキサン
（IV′）に、アルケニルグリセリルエーテル（II′）及
び化合物（III′）を反応させることにより、基（III
）を有するシロキサン誘導体（Ｉｂ）が得られる。こ
こで、化合物（II′）と化合物（III′）は、どちらを
先に化合物（IV′）に反応させても、また同時に化合物
（IV′）に反応させてもよい。
【００２３】原料であるオルガノハイドロジェンポリシ
ロキサン（IV）又は（IV′）は、分子中に少なくとも１
個〔（IV）〕又は少なくとも２個〔（IV′）〕のケイ素
−水素結合を有することが必須とされるほかは、粘度、
分子構造等に特に制限はなく、公知の種々のものを使用
することができるが、原料の入手のしやすさ、製造時の
操作性などの点からｌ、ｍ及びｎが０以上２０００以下
のものが好ましい。
ロキサン（IV）又は（IV′）は、分子中に少なくとも１
個〔（IV）〕又は少なくとも２個〔（IV′）〕のケイ素
−水素結合を有することが必須とされるほかは、粘度、
分子構造等に特に制限はなく、公知の種々のものを使用
することができるが、原料の入手のしやすさ、製造時の
操作性などの点からｌ、ｍ及びｎが０以上２０００以下
のものが好ましい。
【００２４】化合物（II′）としては、一般式（II′）
においてＱ′がω−アルケニル基であるものが好まし
い。また、化合物（III′）としては、一般式（III′）
においてＸ′が
においてＱ′がω−アルケニル基であるものが好まし
い。また、化合物（III′）としては、一般式（III′）
においてＸ′が
【００２５】
【化６】
【００２６】等であるものが好ましい。
【００２７】前記（１）及び（２）の反応は、触媒の存
在下に行われ、触媒としては一般にヒドロシリル化に用
いられるもの、例えば遊離ラジカル開始剤；光開始剤；
ルテニウム、ロジウム、パラジウム、オスミウム、イリ
ジウム、白金等の金属の錯体化合物；これらをシリカゲ
ル又はアルミナに担持させたものなどが挙げられる。こ
れらのうち、特に塩化白金酸、ｓｐｅｉｅｒ試薬（塩化
白金酸のイソプロピルアルコール溶液）等が好ましい。
触媒の使用量はオルガノハイドロジェンポリシロキサン
（IV）又は（IV′）とアルケニルグリセルエーテル（I
I′）及び／又は化合物（III′）との反応を促進するの
に充分な量であればよく、特に限定されないが、使用さ
れるオレフィン１mol に対して１０-6〜１０-1mol の範
囲が好ましい。
在下に行われ、触媒としては一般にヒドロシリル化に用
いられるもの、例えば遊離ラジカル開始剤；光開始剤；
ルテニウム、ロジウム、パラジウム、オスミウム、イリ
ジウム、白金等の金属の錯体化合物；これらをシリカゲ
ル又はアルミナに担持させたものなどが挙げられる。こ
れらのうち、特に塩化白金酸、ｓｐｅｉｅｒ試薬（塩化
白金酸のイソプロピルアルコール溶液）等が好ましい。
触媒の使用量はオルガノハイドロジェンポリシロキサン
（IV）又は（IV′）とアルケニルグリセルエーテル（I
I′）及び／又は化合物（III′）との反応を促進するの
に充分な量であればよく、特に限定されないが、使用さ
れるオレフィン１mol に対して１０-6〜１０-1mol の範
囲が好ましい。
【００２８】本反応においては反応溶媒の使用は必須で
はないが、必要に応じて適当な溶媒中で反応を行っても
よい。反応溶媒としては、反応を阻害しないものであれ
ば特に限定されず、例えばペンタン、ヘキサン、シクロ
ヘキサン等の炭化水素系溶媒；ベンゼン、トルエン、キ
シレン等のベンゼン系溶媒；ジエチルエーテル、ジイソ
プロピルエーテル等のエーテル系溶媒；メタノール、エ
タノール、イソプロピルアルコール、ブタノール等のア
ルコール系溶媒などが挙げられる。アルコール系溶媒を
使用する場合には、Ｓｉ−Ｈと−ＯＨとの間における脱
水素反応を防止ないし抑制するために、酢酸カリウム等
のpH調整剤（特開昭５７−１４９２９０号公報）を用い
るのが好ましい。
はないが、必要に応じて適当な溶媒中で反応を行っても
よい。反応溶媒としては、反応を阻害しないものであれ
ば特に限定されず、例えばペンタン、ヘキサン、シクロ
ヘキサン等の炭化水素系溶媒；ベンゼン、トルエン、キ
シレン等のベンゼン系溶媒；ジエチルエーテル、ジイソ
プロピルエーテル等のエーテル系溶媒；メタノール、エ
タノール、イソプロピルアルコール、ブタノール等のア
ルコール系溶媒などが挙げられる。アルコール系溶媒を
使用する場合には、Ｓｉ−Ｈと−ＯＨとの間における脱
水素反応を防止ないし抑制するために、酢酸カリウム等
のpH調整剤（特開昭５７−１４９２９０号公報）を用い
るのが好ましい。
【００２９】本反応に使用されるオルガノハイドロジェ
ンポリシロキサン（IV）又は（IV′）に対するアルケニ
ルグリセリルエーテル（II′）及び／又は化合物（II
I′）の割合は、得られるシロキサン誘導体（Ｉ）が分
子中に少なくとも１個以上のケイ素結合グリセリル基
（II）を有するに充分な量のアルケニルグリセリルエー
テル（II′）があれば、その他の割合は任意でよいが、
得られる化合物（Ｉ）を用いて炭素系の油剤を乳化する
場合は、基（II）と基（III ）の合計ユニット数が、残
存するジメチルシロキサンユニット数と同じ割合か又は
それ以上の範囲とし、シリコン系の油剤を乳化する場合
は、基（II）と基（III ）の合計ユニット数が、残存す
るジメチルシロキサンユニット数の１／５以下の範囲と
するのが好ましい。
ンポリシロキサン（IV）又は（IV′）に対するアルケニ
ルグリセリルエーテル（II′）及び／又は化合物（II
I′）の割合は、得られるシロキサン誘導体（Ｉ）が分
子中に少なくとも１個以上のケイ素結合グリセリル基
（II）を有するに充分な量のアルケニルグリセリルエー
テル（II′）があれば、その他の割合は任意でよいが、
得られる化合物（Ｉ）を用いて炭素系の油剤を乳化する
場合は、基（II）と基（III ）の合計ユニット数が、残
存するジメチルシロキサンユニット数と同じ割合か又は
それ以上の範囲とし、シリコン系の油剤を乳化する場合
は、基（II）と基（III ）の合計ユニット数が、残存す
るジメチルシロキサンユニット数の１／５以下の範囲と
するのが好ましい。
【００３０】ヒドロシリル化は、０℃〜２００℃進行す
るが、反応速度や生成物の着色などを考え、０〜１００
℃で行うのが好ましい。また、反応時間は０．５〜２４
時間程度とするのが好ましい。
るが、反応速度や生成物の着色などを考え、０〜１００
℃で行うのが好ましい。また、反応時間は０．５〜２４
時間程度とするのが好ましい。
【００３１】このようにして得られた本発明シロキサン
誘導体（Ｉ）は、化粧料用成分、特に乳化剤として好適
に用いることができる。適用し得る化粧料の剤型、種類
等は特に限定されず、例えば乳液、ローション、ファン
デーション等のスキンケア化粧料；シャンプー、リン
ス、トリートメント等のヘアケア化粧料などが挙げられ
る。化粧料中への本発明シロキサン誘導体（Ｉ）の配合
量も特に限定されないが、通常、０．００１〜９０重量
％、特に１〜５０重量％の範囲が好ましい。
誘導体（Ｉ）は、化粧料用成分、特に乳化剤として好適
に用いることができる。適用し得る化粧料の剤型、種類
等は特に限定されず、例えば乳液、ローション、ファン
デーション等のスキンケア化粧料；シャンプー、リン
ス、トリートメント等のヘアケア化粧料などが挙げられ
る。化粧料中への本発明シロキサン誘導体（Ｉ）の配合
量も特に限定されないが、通常、０．００１〜９０重量
％、特に１〜５０重量％の範囲が好ましい。
【００３２】
【実施例】以下、実施例を挙げて更に詳細に説明する
が、本発明はこれらに限定されるものではない。
が、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００３３】実施例１ （１）冷却管及び磁気攪拌子を備えた１００ml２口フラ
スコに、１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン９
７ｇ（０．７２mol ）及び１−ヘキセン３０ｇ（０．３
６mol ）を仕込み、これに塩化白金酸の５％イソプロピ
ルアルコール溶液０．７２ｇ（７．２mmol）を加え、氷
水浴下１６時間攪拌した。蒸留により無色透明液体５
２．８ｇ（ｂｐ５５−６１℃／４Ｔｏｒｒ）（収率６７
％）を得た。得られた生成物はＩＲ及びＮＭＲスペクト
ルにより、１−ヘキシル−１，１，３，３−テトラメチ
ルジシロキサンであることを確認した。
スコに、１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン９
７ｇ（０．７２mol ）及び１−ヘキセン３０ｇ（０．３
６mol ）を仕込み、これに塩化白金酸の５％イソプロピ
ルアルコール溶液０．７２ｇ（７．２mmol）を加え、氷
水浴下１６時間攪拌した。蒸留により無色透明液体５
２．８ｇ（ｂｐ５５−６１℃／４Ｔｏｒｒ）（収率６７
％）を得た。得られた生成物はＩＲ及びＮＭＲスペクト
ルにより、１−ヘキシル−１，１，３，３−テトラメチ
ルジシロキサンであることを確認した。
【００３４】（２）冷却管及び磁気攪拌子を備えた１０
０ml２口フラスコに、（１）で合成した１−ヘキシル−
１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン１５ｇ（６
９mmol）、アリルグリセリルエーテル１２ｇ（９１mmo
l）、酢酸カリウムの１０％エタノール溶液１．８ｇ
（１．８mmol）及びイソプロピルアルコール２４ｇを仕
込み、これに塩化白金酸の５％イソプロピルアルコール
溶液０．１８ｇ（０．０１７mmol）を加え、４０℃で１
７時間攪拌した。溶媒留去後、反応生成物をシリカゲル
カラムにかけて精製し、無色透明液体２２ｇ（収率９３
％）を得た。得られた生成物はＩＲ及びＮＭＲスペクト
ルにより、３−（３−ヘキシル−１，１，３，３−テト
ラメチルジシロキサニル）プロピルグリセリルエーテル
（Ａ）であることが確認された。
０ml２口フラスコに、（１）で合成した１−ヘキシル−
１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン１５ｇ（６
９mmol）、アリルグリセリルエーテル１２ｇ（９１mmo
l）、酢酸カリウムの１０％エタノール溶液１．８ｇ
（１．８mmol）及びイソプロピルアルコール２４ｇを仕
込み、これに塩化白金酸の５％イソプロピルアルコール
溶液０．１８ｇ（０．０１７mmol）を加え、４０℃で１
７時間攪拌した。溶媒留去後、反応生成物をシリカゲル
カラムにかけて精製し、無色透明液体２２ｇ（収率９３
％）を得た。得られた生成物はＩＲ及びＮＭＲスペクト
ルにより、３−（３−ヘキシル−１，１，３，３−テト
ラメチルジシロキサニル）プロピルグリセリルエーテル
（Ａ）であることが確認された。
【００３５】
【化７】
【００３６】ＩＲ（液膜，cm-1） 3400(-OH), 2928(C-
H), 1256(Si-Me),1064, 842, 796(Si-O-Si)
H), 1256(Si-Me),1064, 842, 796(Si-O-Si)
【００３７】1 Ｈ−ＮＭＲ〔δppm,CDCl3中、CHCl3基準(7.28ppm)〕 0.04,0.06 (s,12H) Si-CH 3 0.08-1.02 (t,3H) -CH 3 1.14−1.46 （br,8H) -CH 2- 0.40−0.66 （m, 4H) Si-CH 2- 1.48−1.72 （m, 2H) CH 2-CH2-O 3.32−3.59 （m, 4H) CH 2-O 3.79−3.98 （m, 1H) CH-OH 3.59−3.79 （m, 2H) CH 2-OH 2.83−2.93 （d, 1H) CH-OH 2.46−2.59 （dd,1H) CH2-OH
【００３８】13 Ｃ−ＮＭＲ〔δppm,CDCl3中、CHCl3基準(77.2ppm)〕 0.46, 0.53 Si-CH3 14.3, 14.4 -CH3,CH2-CH2CH2O 22.8, 23.4, 23.6, 3.18, 33.2 -CH2- 18.5 Si-CH2- 64.4 CH2-OH 70.7 CH-OH 72.5 CH 2CH2-O 74.6 CH-CH2-O
【００３９】29 Ｓｉ−ＮＭＲ〔δppm,CDCl3中、ＴＭＳ基準(0ppm)〕 7.22, 7.89
【００４０】実施例２ （１）実施例１の（１）と同様の方法により、１−デシ
ル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンを合成
した（収率７０％）。
ル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンを合成
した（収率７０％）。
【００４１】（２）実施例１の（２）と同様の方法によ
り３−（３−デシル−１，１，３，３−テトラメチルジ
シロキサニル）プロピルグリセリルエーテル（Ｂ）を合
成した（収率９３％）。
り３−（３−デシル−１，１，３，３−テトラメチルジ
シロキサニル）プロピルグリセリルエーテル（Ｂ）を合
成した（収率９３％）。
【００４２】
【化８】
【００４３】ＩＲ（液膜，cm-1） 3424(-OH), 2928(C-
H), 1254(Si-Me),1066, 840, 796(Si-O-Si)
H), 1254(Si-Me),1066, 840, 796(Si-O-Si)
【００４４】1 Ｈ−ＮＭＲ〔δppm,CDCl3中、CHCl3基準(7.28ppm)〕 0.04, 0.06 (s,12H) Si-CH 3 0.80-0.95 (t,3H) -CH 3 1.15-1.42 (br,16H) -CH 2- 1.48-1.68 (m,2H) CH 2-CH2O 3.38-3.53 (m,4H) CH 2-O 0.38-0.57 (m,4H) Si-CH 2- 3.77-3.94 (m,1H) CH-OH 3.53-3.77 (m,2H) CH 2-OH 3.25-3.32 (d,1H) CH-OH 2.98-3.08 (t,1H) CH2-OH
【００４５】
【００４６】29 Ｓｉ−ＮＭＲ〔δppm,CDCl3中、ＴＭＳ基準(0ppm)〕 2.22, 7.89
【００４７】実施例３ （１）実施例１の（１）と同様の方法により、１−ヘキ
サデシル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン
を合成した（収率７０％）。
サデシル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン
を合成した（収率７０％）。
【００４８】（２）実施例１の（２）と同様の方法によ
り３−（３−ヘキサデシル−１，１，３，３−テトラメ
チルジシロキサニル）プロピルグリセリルエーテル
（Ｃ）を合成した（収率９３％）。
り３−（３−ヘキサデシル−１，１，３，３−テトラメ
チルジシロキサニル）プロピルグリセリルエーテル
（Ｃ）を合成した（収率９３％）。
【００４９】
【化９】
【００５０】ＩＲ（液膜，cm-1） 3404(-OH), 2956(C-
H), 1254(Si-Me),1064, 840, 796(Si-O-Si)
H), 1254(Si-Me),1064, 840, 796(Si-O-Si)
【００５１】1 Ｈ−ＮＭＲ〔δppm,CDCl3中、CHCl3基準(7.28ppm)〕 0.04, 0.06 (s,12H) Si-CH 3 0.81-0.96 (t,3H) -CH 3 1.16-1.41 (br,28H) -CH 2- 0.41-0.59 (m,4H) Si-CH 2- 1.53-1.70 (m,2H) CH 2-CH2O 3.36-3.59 (m,4H) CH 2-O 3.59-3.80 (m,2H) CH 2-OH 2.83-2.93 (d,1H) CH-OH 2.46-2.59 (dd,1H) CH2-OH
【００５２】
【００５３】29 Ｓｉ−ＮＭＲ〔δppm,CDCl3中、ＴＭＳ基準(0ppm)〕 7.22, 7.93
【００５４】実施例４ 冷却管及び磁気攪拌子を備えた１００ml２口フラスコに
ノナデカメチルノナシロキサン２０ｇ（３０mmol）、１
０−ウンデセニルグリセリルエーテル９．５ｇ（３９mm
ol）、酢酸カリウムの１０％エタノール溶液０．７７ｇ
（０．７８mmol）及びイソプロピルアルコール１８．５
ｇを仕込み、塩化白金酸の２％イソプロピルアルコール
溶液０．２０ｇ（７．７×１０-3mmol）を加え、加熱し
昇温した。内容物の温度を４０℃に保ち３．５時間攪拌
した。溶媒留去後、得られた反応生成物をヘキサンに溶
解し、濾過を行い溶媒を留去したのち、得られた反応生
成物をシリカゲルカラムにかけて精製し、無色透明オイ
ル２１．７ｇ（収率８０％）を得た。得られた生成物
は、ＩＲ及びＮＭＲスペクトルにより、ノナデカメチル
ノナシロキサニルウンデシルグリセリルエーテル（Ｄ）
であることを確認した。
ノナデカメチルノナシロキサン２０ｇ（３０mmol）、１
０−ウンデセニルグリセリルエーテル９．５ｇ（３９mm
ol）、酢酸カリウムの１０％エタノール溶液０．７７ｇ
（０．７８mmol）及びイソプロピルアルコール１８．５
ｇを仕込み、塩化白金酸の２％イソプロピルアルコール
溶液０．２０ｇ（７．７×１０-3mmol）を加え、加熱し
昇温した。内容物の温度を４０℃に保ち３．５時間攪拌
した。溶媒留去後、得られた反応生成物をヘキサンに溶
解し、濾過を行い溶媒を留去したのち、得られた反応生
成物をシリカゲルカラムにかけて精製し、無色透明オイ
ル２１．７ｇ（収率８０％）を得た。得られた生成物
は、ＩＲ及びＮＭＲスペクトルにより、ノナデカメチル
ノナシロキサニルウンデシルグリセリルエーテル（Ｄ）
であることを確認した。
【００５５】
【化１０】
【００５６】1 Ｈ−ＮＭＲ〔δppm,CDCl3中、CHCl3基準(7.28ppm)〕 0.00-0.18 (m,57H) Si-CH 3 0.48-0.64 (m,2H) Si-CH 2 1.20-1.42 (br,16H) -CH 2- 1.50-1.68 (m,2H) CH 2-CH2-O 3.40-3.58 (m,4H) CH 2-O 3.78-3.96 (m,1H) CH-OH 3.58-3.78 (m,2H) CH 2-OH 2.67-2.72 (d,1H) CH-OH 2.21-2.35 (dd,1H) CH2-OH
【００５７】13 Ｃ−ＮＭＲ〔δppm,CDCl3中、CHCl3基準(77.2ppm)〕 0.39, 1.26, 1.34, 1.37, 1.98 Si-CH3 18.5 Si-CH2- 23.4, 26.3, 29.6, 29.7, 29.8, 29.9, 33.7 -CH2- 64.5 CH2-OH 70.7 CH-OH 72.1 CH2-CH2-O 72.7 CH-CH2-O
【００５８】29 Ｓｉ−ＮＭＲ〔δppm,CDCl3中、ＴＭＳ基準(0ppm)〕 7.28, 7.60 a,i -21.4, -21.7, -21.9, -22.0, -22.1 b,c,d,e,f,g,h
【００５９】
【化１１】
【００６０】実施例５ 実施例４と同様の方法により、ペンタメチルジシロキサ
ニルウンデシルグリセリルエーテル（Ｅ）を合成した
（収率５６％）。
ニルウンデシルグリセリルエーテル（Ｅ）を合成した
（収率５６％）。
【００６１】
【化１２】
【００６２】ＩＲ（液膜，cm-1） 3394(-OH), 2926, 28
60(C-H), 1254(Si-Me),1062, 843(Si-O-Si)
60(C-H), 1254(Si-Me),1062, 843(Si-O-Si)
【００６３】1 Ｈ−ＮＭＲ〔δppm,CDCl3中、CHCl3基準(7.28ppm)〕 0.05, 0.07 (s,15H) Si-CH 3 0.43-0.62 (m,2H) Si-CH 2 1.14-1.40 (br,16H) -CH 2- 1.50-1.68 (m,2H) CH 2-CH2-O 3.38-3.58 (m,4H) CH 2-O 3.80-3.95 (m,1H) CH-OH 3.58-3.80 (m,2H) CH 2-OH 2.72-2.81 (d,1H) CH-OH 2.31-2.47 (br,1H) CH2-OH
【００６４】13 Ｃ−ＮＭＲ〔δppm,CDCl3中、CHCl3基準(77.2ppm)〕 0.51, 2.14 Si-CH3 18.6 Si-CH2 23.4, 26.3, 29.6, 33.6 -CH2- 64.4 CH2-OH 70.7 CH-OH 72.0 CH-CH2-O 72.6 CH2-CH2-O
【００６５】29 Ｓｉ−ＮＭＲ〔δppm,CDCl3中、ＴＭＳ基準(0ppm)〕 6.97, 7.61
【００６６】実施例６ 実施例４と同様の方法により、ウンデカメチルペンタシ
ロキサニルウンデシルグリセリルエーテル（Ｆ）を合成
した（収率４８％）。この際、原料ウンデカメチルペン
タシロキサン中に１，５−ジヒドロデカメチルペンタシ
ロキサンが含まれていたため、同時に１，５−ビス〔１
１−（２，３−ジヒドロキシプロポキシ）ウンデシル〕
デカメチルペンタシロキサン（Ｇ）が得られた。得られ
た１，５−ビス〔１１−（２，３−ジヒドロキシプロポ
キシ）ウンデシル〕デカメチルペンタシロキサン（Ｇ）
は、シリカゲルカラムにより単離精製した。その構造は
ＩＲ及びＮＭＲスペクトルにより確認された。
ロキサニルウンデシルグリセリルエーテル（Ｆ）を合成
した（収率４８％）。この際、原料ウンデカメチルペン
タシロキサン中に１，５−ジヒドロデカメチルペンタシ
ロキサンが含まれていたため、同時に１，５−ビス〔１
１−（２，３−ジヒドロキシプロポキシ）ウンデシル〕
デカメチルペンタシロキサン（Ｇ）が得られた。得られ
た１，５−ビス〔１１−（２，３−ジヒドロキシプロポ
キシ）ウンデシル〕デカメチルペンタシロキサン（Ｇ）
は、シリカゲルカラムにより単離精製した。その構造は
ＩＲ及びＮＭＲスペクトルにより確認された。
【００６７】
【化１３】
【００６８】ＩＲ（液膜，cm-1） 3406(-OH), 2962, 29
26, 2860(C-H), 1260(Si-Me),1035, 801(Si-O-Si)
26, 2860(C-H), 1260(Si-Me),1035, 801(Si-O-Si)
【００６９】1 Ｈ−ＮＭＲ〔δppm,CDCl3中、CHCl3基準(7.28ppm)〕 -0.02-0.18 (m,33H) Si-CH 3 0.46-0.63 (m,2H) Si-CH 2- 1.17-1.42 (br,16H) -CH 2- 1.48-1.70 (m,2H) CH 2-CH2-O 3.38-3.59 (m,4H) CH 2-O 3.77-3.97 (m,1H) CH-OH 3.59-3.77 (m,2H) CH 2-OH 2.83-2.98 (br,1H) CH-OH 2.46-2.64 (br,1H) CH2-OH
【００７０】13 Ｃ−ＮＭＲ〔δppm,CDCl3中、CHCl3基準(77.2ppm)〕 0.37, 1.94, 1.24, 1.32, 1.35 Si-CH3 18.5 Si-CH2- 23.4, 26.3, 29.58, 29.66, 29.77, 29.84, 33.6 -CH2- 64.4 CH2-OH 70.7 CH-OH 72.0 CH2-CH2-O 72.7 CH-CH2-O
【００７１】29 Ｓｉ−ＮＭＲ〔δppm,CDCl3中、ＴＭＳ基準(0ppm)〕 7.28, 7.61 a,e -21.4, -21.7, -22.2 b,c,d
【００７２】
【化１４】
【００７３】ＩＲ（液膜，cm-1） 3404(-OH), 2924, 28
56(C-H), 1260(Si-Me),1080, 1034, 802(Si-O-Si)
56(C-H), 1260(Si-Me),1080, 1034, 802(Si-O-Si)
【００７４】1 Ｈ−ＮＭＲ〔δppm,CDCl3中、CHCl3基準(7.28ppm)〕 0.03, 0.05 (s,30H), Si-CH 3 0.54 (t,4H) Si-CH 2- 1.28 (br,32H) -CH 2- 1.48-1.69 (m,4H) CH 2-CH2-O 2.92 (t,2H) CH2-OH 3.20 (d,2H) CH-OH 3.36-3.57 (m,8H) CH 2-O 3.57-3.78 (m,4H) CH 2-OH 3.78-3.96 (m,2H) CH-OH
【００７５】13Ｃ−ＮＭＲ〔δppm,CDCl3中、CHCl3基準
(77.2ppm)〕
(77.2ppm)〕
【００７６】
【化１５】
【００７７】 0.35, 1.34 a,b 1.24 c 18.4 Si-CH2- 23.4, 26.2, 29.56, 29.64, 29.73, 29.76, 29.8 -CH2- 64.4 -CH2-OH 70.8 -CH-OH 72.0 -CH2-CH2-O 72.5 -CH-CH2-O
【００７８】29 Ｓｉ−ＮＭＲ〔δppm,CDCl3中、ＴＭＳ基準(0ppm)〕 -22.3 C -21.7 B 7.62 A
【００７９】実施例７ 冷却管及び磁気攪拌子を備えた１００ml２口フラスコ
に、α，ω−ジヒドロジメチルポリシロキサン（平均鎖
長２０）３０ｇ（１８．５mmol）、１０−ウンデセニル
グリセリルエーテル１１．８ｇ（４８．３mmol）、酢酸
カリウムの１０％エタノール溶液０．９５ｇ（０．９７
mmol）及びイソプロピルアルコール２４ｇを仕込み、こ
れに塩化白金酸の２％イソプロピルアルコール溶液０．
２６ｇ（０．０１０mmol）を加え、加熱し昇温した。内
容物の温度を５０℃に保ち、２時間攪拌した。溶媒を留
去したのち、減圧蒸留により未反応１０−ウンデセニル
グリセリルエーテルを留去することにより、褐色高粘稠
物を得た。この褐色高粘稠物を活性炭で処理し、無色透
明の高粘稠物３５．０ｇ（収率８９．７％）を得た。
に、α，ω−ジヒドロジメチルポリシロキサン（平均鎖
長２０）３０ｇ（１８．５mmol）、１０−ウンデセニル
グリセリルエーテル１１．８ｇ（４８．３mmol）、酢酸
カリウムの１０％エタノール溶液０．９５ｇ（０．９７
mmol）及びイソプロピルアルコール２４ｇを仕込み、こ
れに塩化白金酸の２％イソプロピルアルコール溶液０．
２６ｇ（０．０１０mmol）を加え、加熱し昇温した。内
容物の温度を５０℃に保ち、２時間攪拌した。溶媒を留
去したのち、減圧蒸留により未反応１０−ウンデセニル
グリセリルエーテルを留去することにより、褐色高粘稠
物を得た。この褐色高粘稠物を活性炭で処理し、無色透
明の高粘稠物３５．０ｇ（収率８９．７％）を得た。
【００８０】得られた生成物はＩＲ及びＮＭＲスペクト
ルにより、α，ω−ビス〔１１−（２，３−ジヒドロキ
シプロポキシ）ウンデシル〕ジメチルポリシロキサン
（平均鎖長２０）（Ｈ）であることを確認した。
ルにより、α，ω−ビス〔１１−（２，３−ジヒドロキ
シプロポキシ）ウンデシル〕ジメチルポリシロキサン
（平均鎖長２０）（Ｈ）であることを確認した。
【００８１】
【化１６】
【００８２】ＩＲ（液膜，cm-1） 3420(-OH), 2964, 29
28, 2860(C-H),1262(Si-Me), 1100, 1026, 802(Si-O-S
i)
28, 2860(C-H),1262(Si-Me), 1100, 1026, 802(Si-O-S
i)
【００８３】1 Ｈ−ＮＭＲ〔δppm,CDCl3中、CHCl3基準(7.28ppm)〕 0.00 (br, 約132H) Si-CH 3 0.57 (t,4H) Si-CH 2- 1.39 (br,32H) -CH 2- 1.47-1.70 (m,4H) CH 2-CH2-O 2.22 (br,2H) -CH2-OH 2.62 (br,2H) -CH-OH 3.30-3.59 (m,8H) CH 2-O 3.59-3.80 (m,4H) CH 2-OH 3.80-3.96 (m,2H) CH-OH
【００８４】13 Ｃ−ＮＭＲ〔δppm,CDCl3中、CHCl3基準(77.2ppm)〕 0.39, 1.23, 1.36 Si-CH3 18.5 Si-CH2- 23.4, 26.3, 29.6, 29.8, 33.7 -CH2- 64.7 -CH2OH 70.6 -CH-OH 72.0 -CH2-CH2-O 72.7 -CH-CH2-O
【００８５】29Ｓｉ−ＮＭＲ〔δppm,CDCl3中、ＴＭＳ
基準(0ppm)〕
基準(0ppm)〕
【００８６】
【化１７】
【００８７】実施例８ 実施例７と同様の方法によりα，ω−ビス〔１１−
（２，３−ジヒドロキシプロポキシ）ウンデシル〕ジメ
チルポリシロキサン（平均鎖長５０）（Ｉ）を合成した
（収率９５．３％）。
（２，３−ジヒドロキシプロポキシ）ウンデシル〕ジメ
チルポリシロキサン（平均鎖長５０）（Ｉ）を合成した
（収率９５．３％）。
【００８８】
【化１８】
【００８９】ＩＲ（液膜，cm-1） 3420(-OH), 2968, 29
32(C-H), 1264(Si-Me),1094, 1020, 866, 802(Si-O-Si)
32(C-H), 1264(Si-Me),1094, 1020, 866, 802(Si-O-Si)
【００９０】1 Ｈ−ＮＭＲ〔δppm,CDCl3中、CHCl3基準(7.28ppm)〕 0.08 (br, 約312H) Si-CH 3 0.57 (t,4H) Si-CH 2 1.30 (br,32H) -CH 2- 1.48-1.80 (m,4H) CH 2-CH-O 2.20 (br,2H) CH2-OH 2.63 (br,2H) CH-OH 3.38-3.60 (m,8H) CH 2-O 3.60-3.81 (m,4H) CH 2-OH 3.81-3.97 (m,2H) CH-OH
【００９１】13 Ｃ−ＮＭＲ〔δppm,CDCl3中、CHCl3基準(77.2ppm)〕 0.38, 1.22, 1.36, 1.96 Si-CH3 18.5 Si-CH2 23.4, 26.3, 29.6, 29.8, 33.7 -CH2- 64.7 CH2OH 70.8 CH-OH 72.1 CH 2CH2-O 72.7 CHCH2-O
【００９２】29Ｓｉ−ＮＭＲ〔δppm,CDCl3中、ＴＭＳ
基準(0ppm)〕
基準(0ppm)〕
【００９３】
【化１９】
【００９４】実施例９ （１）冷却管及び磁気攪拌子を備えた５０ml２口フラス
コにα，ω−ジヒドロヘキサデカメチルオクタシロキサ
ン３２．８ｇ（５６．６mmol）及び１−デセン４．０ｇ
（２８．５mmol）を仕込み、これに塩化白金酸３．０mg
（５．８×１０-3mmol）を加え、水浴下６時間攪拌し
た。蒸留により無色透明液体１１．０ｇ（ｂｐ １６０
℃／０．００５Ｔｏｒｒ）（収率５４％）を得た。得ら
れた生成物はＩＲ及びＮＭＲスペクトルにより１−デシ
ル−１５−ヒドロヘキサデカメチルオクタシロキサンで
あることを確認した。
コにα，ω−ジヒドロヘキサデカメチルオクタシロキサ
ン３２．８ｇ（５６．６mmol）及び１−デセン４．０ｇ
（２８．５mmol）を仕込み、これに塩化白金酸３．０mg
（５．８×１０-3mmol）を加え、水浴下６時間攪拌し
た。蒸留により無色透明液体１１．０ｇ（ｂｐ １６０
℃／０．００５Ｔｏｒｒ）（収率５４％）を得た。得ら
れた生成物はＩＲ及びＮＭＲスペクトルにより１−デシ
ル−１５−ヒドロヘキサデカメチルオクタシロキサンで
あることを確認した。
【００９５】（２）冷却管及び磁気攪拌子を備えた５０
ml２口フラスコに、（１）で合成した１−デシル−１５
−ヒドロヘキサデカメチルオクタシロキサン１０ｇ（１
３．９mmol）、１０−ウンデセニルグリセリルエーテル
４．４ｇ（１８．０mmol）、酢酸カリウムの１０％エタ
ノール溶液０．３５ｇ（０．３６mmol）及びイソプロピ
ルアルコール１０ｇを仕込み、これに塩化白金酸の２％
イソプロピルアルコール溶液０．０９３ｇ（３．６×１
０-3mmol）を加え加熱し昇温した。内容物の温度を４０
℃に保ち、４０℃で３時間かくはんした。溶媒留去後、
反応生成物をシリカゲルカラムにかけて精製し、無色透
明オイル１１．８ｇ（収率８８％）を得た。得られた精
製物はＩＲ及びＮＭＲスペクトルにより１５−デシルヘ
キサデカメチルオクタシロキサニルウンデシルグリセリ
ルエーテル（Ｊ）であることが確認された。
ml２口フラスコに、（１）で合成した１−デシル−１５
−ヒドロヘキサデカメチルオクタシロキサン１０ｇ（１
３．９mmol）、１０−ウンデセニルグリセリルエーテル
４．４ｇ（１８．０mmol）、酢酸カリウムの１０％エタ
ノール溶液０．３５ｇ（０．３６mmol）及びイソプロピ
ルアルコール１０ｇを仕込み、これに塩化白金酸の２％
イソプロピルアルコール溶液０．０９３ｇ（３．６×１
０-3mmol）を加え加熱し昇温した。内容物の温度を４０
℃に保ち、４０℃で３時間かくはんした。溶媒留去後、
反応生成物をシリカゲルカラムにかけて精製し、無色透
明オイル１１．８ｇ（収率８８％）を得た。得られた精
製物はＩＲ及びＮＭＲスペクトルにより１５−デシルヘ
キサデカメチルオクタシロキサニルウンデシルグリセリ
ルエーテル（Ｊ）であることが確認された。
【００９６】
【化２０】
【００９７】ＩＲ（液膜，cm-1） 3400(-OH), 2964, 29
28, 2860(C-H), 1262(Si-Me),1096, 1026, 840, 804(Si
-O-Si)
28, 2860(C-H), 1262(Si-Me),1096, 1026, 840, 804(Si
-O-Si)
【００９８】1 Ｈ−ＮＭＲ〔δppm,CDCl3中、CHCl3基準(7.28ppm)〕 -0.02-0.10 (m,48H) Si-CH 3 0.50 (t,4H) Si-CH 2- 0.87 (t,3H) -CH 3 1.24 (br,32H) -CH 2- 1.47-1.66 (m,2H) CH 2-CH2-O 2.32 (t,1H) CH2-OH 2.71 (d,1H) CH-OH 3.36-3.57 (m,4H) -CH 2-O 3.57-3.73 (m,2H) -CH 2-OH 3.73-3.90 (m,1H) CH-OH
【００９９】13 Ｃ−ＮＭＲ〔δppm,CDCl3中、CHCl3基準(77.2ppm)〕 0.38, 1.25, 1.35 Si-CH3 14.3 -CH3 18.5 Si-CH2 22.9, 23.4, 26.3, 29.5, 29.6, 29.7, 29.8, 29.9, 32.1, 33.6 -CH2- 64.5 CH2OH 70.7 CHOH 72.1 CH2CH2O 72.7 CHCH2O
【０１００】実施例１０ 冷却管及び磁気攪拌子を備えた１００ml２口フラスコに
式（Ｋ′）
式（Ｋ′）
【０１０１】
【化２１】
【０１０２】で示されるオルガノハイドロジェンシロキ
サン１５ｇ（４．４mmol）、１０−ウンデセニルグリセ
リルエーテル８．１ｇ（３３mmol）、酢酸カリウムの１
０％エタノール溶液０．６５ｇ（０．６６mmol）及びイ
ソプロピルアルコール５０ｇを仕込み、これに塩化白金
酸の２％イソプロピルアルコール溶液０．１７ｇ（６．
６×１０-3mmol）を加え、加熱し昇温した。内容物の温
度を４０℃に保ち２．５時間攪拌した。溶媒を留去し活
性炭処理を行ったのち、減圧蒸留により、未反応の１０
−ウンデセニルグリセリルエーテルを留去し褐色粘稠物
を得た。得られた生成物はＩＲ及びＮＭＲスペクトルに
より下記の式で示される化合物（Ｋ）であることが確認
された。
サン１５ｇ（４．４mmol）、１０−ウンデセニルグリセ
リルエーテル８．１ｇ（３３mmol）、酢酸カリウムの１
０％エタノール溶液０．６５ｇ（０．６６mmol）及びイ
ソプロピルアルコール５０ｇを仕込み、これに塩化白金
酸の２％イソプロピルアルコール溶液０．１７ｇ（６．
６×１０-3mmol）を加え、加熱し昇温した。内容物の温
度を４０℃に保ち２．５時間攪拌した。溶媒を留去し活
性炭処理を行ったのち、減圧蒸留により、未反応の１０
−ウンデセニルグリセリルエーテルを留去し褐色粘稠物
を得た。得られた生成物はＩＲ及びＮＭＲスペクトルに
より下記の式で示される化合物（Ｋ）であることが確認
された。
【０１０３】
【化２２】
【０１０４】ＩＲ（液膜，cm-1） 3400(-OH), 2968, 29
32, 2860(C-H), 1262(Si-Me),1096, 1022, 844(Si-O-S
i)
32, 2860(C-H), 1262(Si-Me),1096, 1022, 844(Si-O-S
i)
【０１０５】1 Ｈ−ＮＭＲ〔δppm,CDCl3中、CHCl3基準(7.28ppm)〕 0.01 (s,約273H) Si-CH 3 0.38-0.58 (m,10H) Si-CH 2- 1.10-1.41 (br,80H) -CH 2- 1.44-1.86 (m,10H) CH 2-CH2-O 3.30-3.55 (m,20H) CH 2-O 3.55-3.77 (m,10H) CH 2-OH 3.77-3.90 (m,5H) CH-OH
【０１０６】実施例１１ 実施例１０と同様の方法により下記の式で示される化合
物（Ｌ）を合成した（収率９７％）。
物（Ｌ）を合成した（収率９７％）。
【０１０７】
【化２３】
【０１０８】ＩＲ（液膜，cm-1） 3420(-OH), 2968, 29
32, 2860(C-H), 1264(Si-Me),1096, 1026, 802(Si-O-S
i)
32, 2860(C-H), 1264(Si-Me),1096, 1026, 802(Si-O-S
i)
【０１０９】1 Ｈ−ＮＭＲ〔δppm,CDCl3中、CHCl3基準(7.28ppm)〕 0.00 (s,約390H) Si-CH 3 0.35-0.50 (m,8H) Si-CH 2 1.08-1.39 (br,64H) -CH 2- 1.39-1.62 (br,8H) CH 2-CH2-O 1.96-2.29 (br,4H) CH2-OH 2.43-2.68 (br,4H) CH-OH 3.38-3.50 (m,16H) CH 2-O 3.50-3.70 (m,8H) CH 2-OH 3.70-3.86 (m,4H) CH-OH
【０１１０】実施例１２ 実施例１０と同様の方法により下記の式で示される化合
物（Ｍ）を合成した（収率９９％）。
物（Ｍ）を合成した（収率９９％）。
【０１１１】
【化２４】
【０１１２】ＩＲ（液膜，cm-1） 3424(-OH), 2964, 29
28, 2860(C-H), 1262(Si-Me),1090, 1034, 864, 798(Si
-O-Si)
28, 2860(C-H), 1262(Si-Me),1090, 1034, 864, 798(Si
-O-Si)
【０１１３】1 Ｈ−ＮＭＲ〔δppm,CDCl3中、CHCl3基準(7.28ppm)〕 0.00 (s,約510H) Si-CH 3 0.34-0.55 (m,8H) Si-CH 2 1.02-1.38 (br,64H) -CH 2- 1.38-1.66 (br,8H) CH 2-CH2O 1.98-2.40 (br,4H) CH2OH 2.40-2.78 (br,4H) CH-OH 3.26-3.53 (m,16H) CH 2-O 3.53-3.70 (m,8H) CH 2-OH 3.70-3.88 (m,4H) CH-OH
【０１１４】実施例１３ 冷却管及び磁気攪拌子を備えた１００mlフラスコに式
（Ｎ′）
（Ｎ′）
【０１１５】
【化２５】
【０１１６】で示されるオルガノハイドロジェンシロキ
サン１０ｇ（７．５mmol）、デセン８．４ｇ（６０．２
mmol）を仕込み、これに塩化白金酸の２％イソプロピル
アルコール溶液８．３×１０-3mlを加え、４０℃に加熱
した。２時間後イソプロピルアルコール２０ｇ、アリル
グリセリルエーテル４．６ｇ（３５mmol）、酢酸カリウ
ムの１０％エタノール溶液０．４４ｇ及び塩化白金酸の
２％イソプロピルアルコール溶液０．１２mlを加え４０
℃に加熱した。２時間後イソプロピルアルコールを留去
し、活性炭処理を行った後、未反応のアリルグリセリル
エーテルを減圧留去すると無色粘稠物２２ｇが得られ
た。得られた生成物は、ＩＲ及び1Ｈ−ＮＭＲスペクト
ルにより、下式（Ｎ）で示される化合物であることが確
認された。
サン１０ｇ（７．５mmol）、デセン８．４ｇ（６０．２
mmol）を仕込み、これに塩化白金酸の２％イソプロピル
アルコール溶液８．３×１０-3mlを加え、４０℃に加熱
した。２時間後イソプロピルアルコール２０ｇ、アリル
グリセリルエーテル４．６ｇ（３５mmol）、酢酸カリウ
ムの１０％エタノール溶液０．４４ｇ及び塩化白金酸の
２％イソプロピルアルコール溶液０．１２mlを加え４０
℃に加熱した。２時間後イソプロピルアルコールを留去
し、活性炭処理を行った後、未反応のアリルグリセリル
エーテルを減圧留去すると無色粘稠物２２ｇが得られ
た。得られた生成物は、ＩＲ及び1Ｈ−ＮＭＲスペクト
ルにより、下式（Ｎ）で示される化合物であることが確
認された。
【０１１７】
【化２６】
【０１１８】ＩＲ（液膜，cm-1） 3400(-OH), 2965, 29
25, 2860(C-H),805, 850, 1260(Si-Me), 1090, 1030(Si
-O-Si)
25, 2860(C-H),805, 850, 1260(Si-Me), 1090, 1030(Si
-O-Si)
【０１１９】1Ｈ−ＮＭＲ〔δppm,CDCl3中、CHCl3基準
(7.28ppm)〕
(7.28ppm)〕
【０１２０】
【化２７】
【０１２１】実施例１４ デセン１１．７ｇ（８３mmol）、アリルグリセリルエー
テル１．１ｇ（８．３mmol）を用いた以外は実施例１３
と同様な方法で反応を行い、下記（Ｏ）で示される化合
物２３ｇを得た。
テル１．１ｇ（８．３mmol）を用いた以外は実施例１３
と同様な方法で反応を行い、下記（Ｏ）で示される化合
物２３ｇを得た。
【０１２２】
【化２８】
【０１２３】ＩＲ（液膜，cm-1） 3425(-OH), 2970, 29
30, 2865(O-H) 805, 845, 1260(Si-Me), 1095, 1025(Si-O-Si)
30, 2865(O-H) 805, 845, 1260(Si-Me), 1095, 1025(Si-O-Si)
【０１２４】1Ｈ−ＮＭＲ〔δppm,CDCl3中、CHCl3基準
(7.28ppm)〕
(7.28ppm)〕
【０１２５】
【化２９】
【０１２６】試験例１ 実施例１〜１４で製造された本発明化合物（Ａ）〜
（Ｏ）について、シリコーン／水系における乳化安定性
を調べた。 評価方法 シリコーン／水＝１／１に化合物（Ａ）〜（Ｏ）を２重
量％添加し、室温においてよく振盪して乳化させた後１
日静置し、乳化安定性を調べた。シリコーンは信越化学
工業社製ＫＦ−９６（５cs）及びＫＦ−９６（５０cs）
を使用した。表１にその結果を示す。
（Ｏ）について、シリコーン／水系における乳化安定性
を調べた。 評価方法 シリコーン／水＝１／１に化合物（Ａ）〜（Ｏ）を２重
量％添加し、室温においてよく振盪して乳化させた後１
日静置し、乳化安定性を調べた。シリコーンは信越化学
工業社製ＫＦ−９６（５cs）及びＫＦ−９６（５０cs）
を使用した。表１にその結果を示す。
【０１２７】
【表１】
【０１２８】 ◎ 分離なし ○ わずかに分離 △ ほとんど分離 × 完全に分離
【０１２９】表１に示したように、本発明品はシリコー
ン／水系において良好な乳化性能を示した。
ン／水系において良好な乳化性能を示した。
【０１３０】実施例１５ 下記表２に示す配合組成の液状ファンデーションを製造
し、その乳化安定性を調べた。この結果を表３に示す。
なお製法は次の通りである。 （製法）粉体と油脂を混合し、攪拌により粉体を均一に
分散したものを４０℃に加熱し、これに攪拌下で４０℃
に調整した水相を添加し、乳化を行った。その後ガラス
容器に充填し、室温中放冷した。
し、その乳化安定性を調べた。この結果を表３に示す。
なお製法は次の通りである。 （製法）粉体と油脂を混合し、攪拌により粉体を均一に
分散したものを４０℃に加熱し、これに攪拌下で４０℃
に調整した水相を添加し、乳化を行った。その後ガラス
容器に充填し、室温中放冷した。
【０１３１】
【表２】
【０１３２】＊化粧料粉体は以下の組成のものを原料粉
体として使用し、該粉体に対し、２％のメチルハイドロ
ジェンポリシロキサン（信越化学工業社製ＫＦ９９）添
加後加熱処理したものを用いた。
体として使用し、該粉体に対し、２％のメチルハイドロ
ジェンポリシロキサン（信越化学工業社製ＫＦ９９）添
加後加熱処理したものを用いた。
【０１３３】 酸化チタン ８（重量部） タルク ４ ベンガラ １．２ 黄酸化鉄 ２．６ 黒酸化鉄 ０．２ （結果）
【０１３４】
【表３】
【０１３５】表３から明らかな如く、本発明の乳化化粧
料は良好な安定性を示した。また、使用感もべとつか
ず、のびのよい良好なものであった。
料は良好な安定性を示した。また、使用感もべとつか
ず、のびのよい良好なものであった。
【０１３６】
【発明の効果】以上のように、本発明の新規シロキサン
誘導体（Ｉ）は、乳化剤として好適なノニオン系界面活
性剤であり、これを含有する本発明化粧料は乳化安定性
に優れるものである。
誘導体（Ｉ）は、乳化剤として好適なノニオン系界面活
性剤であり、これを含有する本発明化粧料は乳化安定性
に優れるものである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ａ６１Ｋ 7/00 Ａ６１Ｋ 7/00 Ｅ
Claims (2)
- 【請求項１】 次の一般式（Ｉ） 【化１】 で表わされる基であり、残りのうち少なくとも１つは炭
素数６〜３０の直鎖又は分岐鎖の炭化水素基で、他はす
べてメチル基である。ｌ、ｍ及びｎは０以上２０００以
下の数を示し、ｌ＋ｍ＋ｎ＝０のとき、Ｒ1 〜Ｒ3 、Ｒ
10〜Ｒ12のうち少なくとも１つは基（IIｂ）である。〕
で表わされるシロキサン誘導体。 - 【請求項２】 Ｒ1 〜Ｒ12のうち、式（IIｂ）で表わさ
れる基以外の基のうち少なくとも１つがヘキシル基、デ
シル基又はヘキサデシル基であり、他がすべてメチル基
である請求項１記載のシロキサン誘導体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8261696A JP2844453B2 (ja) | 1996-10-02 | 1996-10-02 | 新規シロキサン誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8261696A JP2844453B2 (ja) | 1996-10-02 | 1996-10-02 | 新規シロキサン誘導体 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2228958A Division JP2613124B2 (ja) | 1990-08-30 | 1990-08-30 | 新規シロキサン誘導体、その製造方法及びこれを含有する化粧料 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09194594A true JPH09194594A (ja) | 1997-07-29 |
| JP2844453B2 JP2844453B2 (ja) | 1999-01-06 |
Family
ID=17365449
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8261696A Expired - Fee Related JP2844453B2 (ja) | 1996-10-02 | 1996-10-02 | 新規シロキサン誘導体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2844453B2 (ja) |
Cited By (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004537600A (ja) * | 2001-08-02 | 2004-12-16 | ダウ・コ−ニング・コ−ポレ−ション | ヒドロシリル化方法 |
| JP2005194523A (ja) * | 2003-12-10 | 2005-07-21 | Kao Corp | 変性ポリシロキサン及び該変性ポリシロキサンを用いた化粧料 |
| JP2005330220A (ja) * | 2004-05-19 | 2005-12-02 | Shin Etsu Chem Co Ltd | グリセリン変性シリコーンを含む農薬展着剤 |
| JP2005330221A (ja) * | 2004-05-19 | 2005-12-02 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 農薬展着剤組成物 |
| JP2007008915A (ja) * | 2005-01-17 | 2007-01-18 | Shiseido Co Ltd | 化粧料 |
| JP2008510817A (ja) * | 2004-08-25 | 2008-04-10 | ジョンソン・アンド・ジョンソン・ビジョン・ケア・インコーポレイテッド | （トリメチルシリルオキシ）シリルアルキルグリセロールメタクリレートを生成するための方法 |
| US7387841B2 (en) | 2003-06-25 | 2008-06-17 | Intel Corporation | Silicone-based cyanate-ester cross-linkable die attach adhesive |
| US8080239B2 (en) | 2005-01-17 | 2011-12-20 | Shiseido Co., Ltd. | Cosmetic |
| US8784787B2 (en) | 2009-10-23 | 2014-07-22 | Dow Corning Toray Co., Ltd. | Co-modified organopolysiloxane |
| US9133309B2 (en) | 2009-10-23 | 2015-09-15 | Dow Corning Toray Co., Ltd. | Organopolysiloxane copolymer |
| US9580600B2 (en) | 2009-10-23 | 2017-02-28 | Dow Conring Toray Co., Ltd. | Thickening or gelling agent for oily raw materials |
| US10066060B2 (en) | 2012-12-28 | 2018-09-04 | Dow Corning Toray Co., Ltd. | Production method for high-purity organosilicon compound |
| US10174170B2 (en) | 2014-04-21 | 2019-01-08 | Dow Corning Toray Co., Ltd. | Method for producing liquid high-purity polyhydric alcohol derivative-modified silicone or composition thereof |
| US10406092B2 (en) | 2012-12-28 | 2019-09-10 | Dow Silicones Corporation | Method for producing transparent or semi-transparent liquid glycerin-derivative-modified silicone composition |
Families Citing this family (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9090755B2 (en) | 2002-09-12 | 2015-07-28 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Organopolysiloxane polymer, pasty composition, and cosmetic preparation containing the composition |
| FR2873034B1 (fr) | 2004-07-16 | 2008-04-18 | Oreal | Composition cosmetique a tenue amelioree.. |
| FR2873035A1 (fr) | 2004-07-16 | 2006-01-20 | Oreal | Composition cosmetique comprenant un polymere de silicone defini et un agent filmogene. |
| FR2873033A1 (fr) | 2004-07-16 | 2006-01-20 | Oreal | Composition cosmetique compenant un polymere de silicone defini et un agent gelifiant. |
| JP4782025B2 (ja) | 2007-01-19 | 2011-09-28 | 信越化学工業株式会社 | シリコーン共重合体およびそれを含有する化粧料 |
| JP2008115358A (ja) | 2007-06-18 | 2008-05-22 | Shin Etsu Chem Co Ltd | オルガノポリシロキサン及びその製法ならびに該オルガノポリシロキサンを含む化粧料組成物 |
| JP2009256616A (ja) | 2008-03-21 | 2009-11-05 | Shin Etsu Chem Co Ltd | グリセリン変性シリコーン及びそれを含む化粧料 |
| JP2013119596A (ja) | 2011-12-07 | 2013-06-17 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | シリコーン変性ワックス、それを含有する組成物、化粧料、及びシリコーン変性ワックスの製造方法 |
| JP6355224B2 (ja) | 2011-12-27 | 2018-07-11 | 東レ・ダウコーニング株式会社 | 低臭性グリセリン誘導体変性シリコーンまたはそれを含む組成物の製造方法 |
| JP6313540B2 (ja) | 2011-12-27 | 2018-04-18 | 東レ・ダウコーニング株式会社 | ジグリセリン誘導体変性シリコーン、それを含有してなる油中水型エマルション用乳化剤、外用剤および化粧料 |
| JP6105920B2 (ja) | 2011-12-27 | 2017-03-29 | 東レ・ダウコーニング株式会社 | 共変性オルガノポリシロキサン、それを含有してなる油中水型エマルション用乳化剤、外用剤および化粧料 |
| JP6369888B2 (ja) | 2011-12-27 | 2018-08-08 | 東レ・ダウコーニング株式会社 | 新規液状オルガノポリシロキサン及びその利用 |
| JPWO2014104256A1 (ja) | 2012-12-28 | 2017-01-19 | 東レ・ダウコーニング株式会社 | 高純度グリセリン誘導体変性シリコーンの製造法 |
| JP6285381B2 (ja) | 2015-03-13 | 2018-02-28 | 信越化学工業株式会社 | ゲルペースト組成物及び該ゲルペースト組成物を用いた化粧料 |
| JP6510435B2 (ja) | 2016-01-29 | 2019-05-08 | 信越化学工業株式会社 | シロキサン骨格を有する吸水性樹脂およびこれを含む化粧料 |
-
1996
- 1996-10-02 JP JP8261696A patent/JP2844453B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004537600A (ja) * | 2001-08-02 | 2004-12-16 | ダウ・コ−ニング・コ−ポレ−ション | ヒドロシリル化方法 |
| US7387841B2 (en) | 2003-06-25 | 2008-06-17 | Intel Corporation | Silicone-based cyanate-ester cross-linkable die attach adhesive |
| JP2005194523A (ja) * | 2003-12-10 | 2005-07-21 | Kao Corp | 変性ポリシロキサン及び該変性ポリシロキサンを用いた化粧料 |
| JP4584697B2 (ja) * | 2003-12-10 | 2010-11-24 | 花王株式会社 | 変性ポリシロキサン及び該変性ポリシロキサンを用いた化粧料 |
| JP2005330221A (ja) * | 2004-05-19 | 2005-12-02 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 農薬展着剤組成物 |
| JP2005330220A (ja) * | 2004-05-19 | 2005-12-02 | Shin Etsu Chem Co Ltd | グリセリン変性シリコーンを含む農薬展着剤 |
| JP2008510817A (ja) * | 2004-08-25 | 2008-04-10 | ジョンソン・アンド・ジョンソン・ビジョン・ケア・インコーポレイテッド | （トリメチルシリルオキシ）シリルアルキルグリセロールメタクリレートを生成するための方法 |
| JP2007008915A (ja) * | 2005-01-17 | 2007-01-18 | Shiseido Co Ltd | 化粧料 |
| US8080239B2 (en) | 2005-01-17 | 2011-12-20 | Shiseido Co., Ltd. | Cosmetic |
| US8784787B2 (en) | 2009-10-23 | 2014-07-22 | Dow Corning Toray Co., Ltd. | Co-modified organopolysiloxane |
| US9133309B2 (en) | 2009-10-23 | 2015-09-15 | Dow Corning Toray Co., Ltd. | Organopolysiloxane copolymer |
| US9580600B2 (en) | 2009-10-23 | 2017-02-28 | Dow Conring Toray Co., Ltd. | Thickening or gelling agent for oily raw materials |
| US10066060B2 (en) | 2012-12-28 | 2018-09-04 | Dow Corning Toray Co., Ltd. | Production method for high-purity organosilicon compound |
| US10406092B2 (en) | 2012-12-28 | 2019-09-10 | Dow Silicones Corporation | Method for producing transparent or semi-transparent liquid glycerin-derivative-modified silicone composition |
| US10174170B2 (en) | 2014-04-21 | 2019-01-08 | Dow Corning Toray Co., Ltd. | Method for producing liquid high-purity polyhydric alcohol derivative-modified silicone or composition thereof |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2844453B2 (ja) | 1999-01-06 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2844453B2 (ja) | 新規シロキサン誘導体 | |
| JP2613124B2 (ja) | 新規シロキサン誘導体、その製造方法及びこれを含有する化粧料 | |
| US5466849A (en) | Siloxane derivatives, producing method thereof and agents including siloxane derivative | |
| JP2587797B2 (ja) | 化粧料 | |
| JP2601738B2 (ja) | 化粧料 | |
| US6162888A (en) | Method of making silicone polyether copolymers having reduced odor | |
| US5254542A (en) | Organic silicon compounds and cosmetic compositions | |
| US5447997A (en) | Silicone polyether carboxylic acids | |
| EP0446938B1 (en) | An ester-modified silicone derivative and a cosmetic composition containing the same | |
| US4576967A (en) | Novel polyol ether compounds, process preparing the compounds, and cosmetics comprising same | |
| JP3493535B2 (ja) | シリコーン化合物及びそれを含有する化粧料 | |
| JP2946145B2 (ja) | 化粧料 | |
| JP2004231608A (ja) | 化粧料 | |
| JP2631550B2 (ja) | 新規シロキサン誘導体並びにこれを含有する化粧料用油剤及び化粧料 | |
| JPH10279692A (ja) | シロキサンブロックコポリマー及びその使用 | |
| JP3118060B2 (ja) | 乳化化粧料 | |
| JP2613142B2 (ja) | 油中水型乳化化粧料 | |
| JP2691654B2 (ja) | 油中水型乳化化粧料 | |
| JPH0680538A (ja) | 毛髪化粧料 | |
| JPH07238170A (ja) | グリセリルエーテル変性オルガノ（ポリ）シロキサン、その製造法及びそれを含有する化粧料 | |
| JPH07304627A (ja) | 化粧料 | |
| JP2841268B2 (ja) | アミドベタイン変性オルガノ（ポリ）シロキサン及びその製造方法 | |
| JPH09249518A (ja) | 変性シロキサン化合物、その製造法及びこれを含有する化粧料 | |
| JP2850753B2 (ja) | シリコーン化合物並びにその製造方法及び化粧料 | |
| JPH0762102A (ja) | 硫酸エステル変性オルガノ（ポリ）シロキサン及びその製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20071030 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081030 Year of fee payment: 10 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |